JPH10299935A - ラッチ式電磁弁 - Google Patents
ラッチ式電磁弁Info
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- JPH10299935A JPH10299935A JP9106242A JP10624297A JPH10299935A JP H10299935 A JPH10299935 A JP H10299935A JP 9106242 A JP9106242 A JP 9106242A JP 10624297 A JP10624297 A JP 10624297A JP H10299935 A JPH10299935 A JP H10299935A
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- Japan
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- plunger
- permanent magnet
- magnetic flux
- core
- valve
- Prior art date
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/02—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic
- F16K31/06—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic using a magnet, e.g. diaphragm valves, cutting off by means of a liquid
- F16K31/08—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic using a magnet, e.g. diaphragm valves, cutting off by means of a liquid using a permanent magnet
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/02—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic
- F16K31/06—Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic using a magnet, e.g. diaphragm valves, cutting off by means of a liquid
- F16K31/0675—Electromagnet aspects, e.g. electric supply therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/06—Electromagnets; Actuators including electromagnets
- H01F7/08—Electromagnets; Actuators including electromagnets with armatures
- H01F7/16—Rectilinearly-movable armatures
- H01F7/1607—Armatures entering the winding
- H01F7/1615—Armatures or stationary parts of magnetic circuit having permanent magnet
Landscapes
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Magnetically Actuated Valves (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】永久磁石３でプランジャ２を吸着して開弁状態
に保持し、電磁コイル６に通電して逆方向の磁束を生じ
させばね７の付勢力でプランジャ２を降下させるラッチ
式の電磁弁１では、電磁コイル６の磁束の通りを良くす
るため永久磁石３の面積を広げたいが、永久磁石３の磁
力が強くなり閉弁させづらく、また閉弁状態からプラン
ジャ２を引き上げ閉弁状態を保持できない。 【解決手段】コア４をフレーム５に接触させバイパス部
４２を設け、永久磁石３の磁束の一部をプランジャ２に
流さずバイパスすることにより永久磁石３がプランジャ
２に及ぼす磁力を小さくする。
に保持し、電磁コイル６に通電して逆方向の磁束を生じ
させばね７の付勢力でプランジャ２を降下させるラッチ
式の電磁弁１では、電磁コイル６の磁束の通りを良くす
るため永久磁石３の面積を広げたいが、永久磁石３の磁
力が強くなり閉弁させづらく、また閉弁状態からプラン
ジャ２を引き上げ閉弁状態を保持できない。 【解決手段】コア４をフレーム５に接触させバイパス部
４２を設け、永久磁石３の磁束の一部をプランジャ２に
流さずバイパスすることにより永久磁石３がプランジャ
２に及ぼす磁力を小さくする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、永久磁石と電磁コ
イルとを備え、弁体に連なるプランジャを永久磁石の磁
力により開弁状態に吸着保持するラッチ式電磁弁に関す
る。
イルとを備え、弁体に連なるプランジャを永久磁石の磁
力により開弁状態に吸着保持するラッチ式電磁弁に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種のラッチ式電磁弁は、プラ
ンジャの先端に弁口を閉塞する弁体を備え、プランジャ
の後端をばねを挟んで永久磁石に対向させると共に、プ
ランジャの周囲を電磁コイルで囲んでいる。プランジャ
の後端が永久磁石に吸着されている状態では弁体は弁口
から離れ開弁状態になっている。この状態では永久磁石
とプランジャの後端との間に設けたばねは圧縮されてい
るが、永久磁石による吸着力がばねの付勢力より強いた
めプランジャの後端は永久磁石から離れることはない。
永久磁石の磁束に対して反対方向の磁束が生じるように
電磁コイルに通電すると、永久磁石の磁力を電磁コイル
の磁力で打ち消し、ばねの付勢力によってプランジャは
永久磁石から離れ弁体は弁口を閉鎖し閉弁状態になる。
この状態で電磁コイルへの通電を停止しても永久磁石と
プランジャの後端との間が離れているため、ばねの付勢
力に抗してプランジャが永久磁石に吸着されることはな
い。また、開弁する場合には電磁コイルに閉弁時とは逆
方向に通電し、永久磁石の磁束と同じ方向に磁束を電磁
コイルにより発生させ、ばねの付勢力に抗してプランジ
ャを永久磁石に吸着させる。プランジャが再び永久磁石
に吸着されると上記のようにその後電磁コイルへの通電
を停止してもプランジャが永久磁石から離れることはな
い。尚、プランジャを永久磁石に直接吸着させても良い
が、一般には磁束を導くコアを永久磁石の一方の磁極に
接触させ、プランジャはコアに吸着されるように構成す
る。また、永久磁石の他方の磁極からプランジャの外周
面に磁束を効率よく導くためのフレームが設けられてい
る。従って、永久磁石の他方の磁極を仮にＮ極とする
と、磁束はフレームを通りプランジャの外周面からプラ
ンジャの後端に流れコアを通って永久磁石の一方の極で
あるＳ極に返る。
ンジャの先端に弁口を閉塞する弁体を備え、プランジャ
の後端をばねを挟んで永久磁石に対向させると共に、プ
ランジャの周囲を電磁コイルで囲んでいる。プランジャ
の後端が永久磁石に吸着されている状態では弁体は弁口
から離れ開弁状態になっている。この状態では永久磁石
とプランジャの後端との間に設けたばねは圧縮されてい
るが、永久磁石による吸着力がばねの付勢力より強いた
めプランジャの後端は永久磁石から離れることはない。
永久磁石の磁束に対して反対方向の磁束が生じるように
電磁コイルに通電すると、永久磁石の磁力を電磁コイル
の磁力で打ち消し、ばねの付勢力によってプランジャは
永久磁石から離れ弁体は弁口を閉鎖し閉弁状態になる。
この状態で電磁コイルへの通電を停止しても永久磁石と
プランジャの後端との間が離れているため、ばねの付勢
力に抗してプランジャが永久磁石に吸着されることはな
い。また、開弁する場合には電磁コイルに閉弁時とは逆
方向に通電し、永久磁石の磁束と同じ方向に磁束を電磁
コイルにより発生させ、ばねの付勢力に抗してプランジ
ャを永久磁石に吸着させる。プランジャが再び永久磁石
に吸着されると上記のようにその後電磁コイルへの通電
を停止してもプランジャが永久磁石から離れることはな
い。尚、プランジャを永久磁石に直接吸着させても良い
が、一般には磁束を導くコアを永久磁石の一方の磁極に
接触させ、プランジャはコアに吸着されるように構成す
る。また、永久磁石の他方の磁極からプランジャの外周
面に磁束を効率よく導くためのフレームが設けられてい
る。従って、永久磁石の他方の磁極を仮にＮ極とする
と、磁束はフレームを通りプランジャの外周面からプラ
ンジャの後端に流れコアを通って永久磁石の一方の極で
あるＳ極に返る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】開閉弁操作のうち、例
えば閉弁する際には上記のごとく電磁コイルにより永久
磁石による磁束とは反対方向の磁束を発生させるが、そ
の際、電磁コイルによる磁束は永久磁石の磁束に逆らっ
て永久磁石を貫通しなければならない。ところが、電磁
コイルによる反対方向の磁束は永久磁石を貫通しにくい
ため、永久磁石の磁束通路面積を広くして電磁コイルに
よる磁束を多く貫通させることが望まれる。一方、永久
磁石の磁束通路面積を広げると永久磁石から発生する磁
束量が増加し、プランジャに対する吸着力が増加する。
そのため、永久磁石の磁力に打ち勝って閉弁させるため
に電磁コイルの巻線を増やしたり通電電流値を上げたり
しなければならず、また、一旦閉弁させても電磁コイル
への通電を停止するとプランジャが永久磁石に吸着され
閉弁状態が保持できないという弊害が生じる。
えば閉弁する際には上記のごとく電磁コイルにより永久
磁石による磁束とは反対方向の磁束を発生させるが、そ
の際、電磁コイルによる磁束は永久磁石の磁束に逆らっ
て永久磁石を貫通しなければならない。ところが、電磁
コイルによる反対方向の磁束は永久磁石を貫通しにくい
ため、永久磁石の磁束通路面積を広くして電磁コイルに
よる磁束を多く貫通させることが望まれる。一方、永久
磁石の磁束通路面積を広げると永久磁石から発生する磁
束量が増加し、プランジャに対する吸着力が増加する。
そのため、永久磁石の磁力に打ち勝って閉弁させるため
に電磁コイルの巻線を増やしたり通電電流値を上げたり
しなければならず、また、一旦閉弁させても電磁コイル
への通電を停止するとプランジャが永久磁石に吸着され
閉弁状態が保持できないという弊害が生じる。
【０００４】そこで本発明は、上記の問題点に鑑み、永
久磁石の磁束通路面積を広くしても上記の問題点が生じ
ないラッチ式電磁弁を提供することを課題とする。
久磁石の磁束通路面積を広くしても上記の問題点が生じ
ないラッチ式電磁弁を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、永久磁石と電磁コイルとを備え、弁体に連
なるプランジャを永久磁石の磁力により開弁状態に吸着
保持するラッチ式電磁弁において、永久磁石とプランジ
ャとの間の磁束通路を形成するフレームとコアとを、プ
ランジャを挟んで設けると共に、フレームとコアとの間
で磁束の一部を流してプランジャをバイパスするバイパ
ス部を形成したことを特徴とする。
に本発明は、永久磁石と電磁コイルとを備え、弁体に連
なるプランジャを永久磁石の磁力により開弁状態に吸着
保持するラッチ式電磁弁において、永久磁石とプランジ
ャとの間の磁束通路を形成するフレームとコアとを、プ
ランジャを挟んで設けると共に、フレームとコアとの間
で磁束の一部を流してプランジャをバイパスするバイパ
ス部を形成したことを特徴とする。
【０００６】電磁コイルに通電してコアに対するプラン
ジャの吸着力を弱める際に電磁コイルの磁束が永久磁石
を貫通しやすいように永久磁石の磁束通路面積を広くし
ても、永久磁石の磁束の一部がバイパス部を通ってプラ
ンジャに流れないのでコアに対するプランジャの吸着力
は永久磁石の磁束通路面積を広くしても必要以上に強く
ならないようにすることができる。
ジャの吸着力を弱める際に電磁コイルの磁束が永久磁石
を貫通しやすいように永久磁石の磁束通路面積を広くし
ても、永久磁石の磁束の一部がバイパス部を通ってプラ
ンジャに流れないのでコアに対するプランジャの吸着力
は永久磁石の磁束通路面積を広くしても必要以上に強く
ならないようにすることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１を参照して、１はラッチ式の
電磁弁であり、図において上下方向に往復動自在に保持
されたプランジャ２を備えている。該プランジャ２の下
端にはゴム等の可撓性材料からなる弁体２１が嵌着され
ている。また、該電磁弁１には円板状の永久磁石３がプ
ランジャ２に対して同軸上に配置されている。永久磁石
３は、本実施の形態の場合上側がＮ極となり下側がＳ極
になるように取り付けられている。該永久磁石３のＳ極
にはコア４が取り付けられており、コア４の下端４１に
上記プランジャ２の上端２２が吸着される。一方、Ｎ極
には帯状の鋼材を折り曲げたフレーム５が取り付けられ
ている。永久磁石３のＮ極から生じた磁束はフレーム５
内を流れ、下端に取り付けたベース板５１及び磁気プレ
ート５２を介してプランジャ２の外周面に流れ、プラン
ジャ２の上端２２からコア４を通って永久磁石３のＳ極
へ戻る磁路が形成される。尚、磁気プレート５２の上面
に磁性材料からなる薄肉状の磁気パイプ５３を取り付
け、磁気パイプ５３がプランジャ２の外周面に対向し、
フレーム５の両脚を通って流れてきた磁束が、ベース板
５１や磁気プレート５２からプランジャ２の外周面に流
れる磁路の他に磁気パイプ５３からプランジャ２の外周
面に流れる磁路を通り、磁束が有効にプランジャ２に流
れるようにした。
電磁弁であり、図において上下方向に往復動自在に保持
されたプランジャ２を備えている。該プランジャ２の下
端にはゴム等の可撓性材料からなる弁体２１が嵌着され
ている。また、該電磁弁１には円板状の永久磁石３がプ
ランジャ２に対して同軸上に配置されている。永久磁石
３は、本実施の形態の場合上側がＮ極となり下側がＳ極
になるように取り付けられている。該永久磁石３のＳ極
にはコア４が取り付けられており、コア４の下端４１に
上記プランジャ２の上端２２が吸着される。一方、Ｎ極
には帯状の鋼材を折り曲げたフレーム５が取り付けられ
ている。永久磁石３のＮ極から生じた磁束はフレーム５
内を流れ、下端に取り付けたベース板５１及び磁気プレ
ート５２を介してプランジャ２の外周面に流れ、プラン
ジャ２の上端２２からコア４を通って永久磁石３のＳ極
へ戻る磁路が形成される。尚、磁気プレート５２の上面
に磁性材料からなる薄肉状の磁気パイプ５３を取り付
け、磁気パイプ５３がプランジャ２の外周面に対向し、
フレーム５の両脚を通って流れてきた磁束が、ベース板
５１や磁気プレート５２からプランジャ２の外周面に流
れる磁路の他に磁気パイプ５３からプランジャ２の外周
面に流れる磁路を通り、磁束が有効にプランジャ２に流
れるようにした。
【０００８】該プランジャ２を囲むように電磁コイル６
を設けている。該電磁コイル６に通電して永久磁石３に
よる磁束の流れ方向とは逆方向の流れの磁束を生じさせ
ると、コア４の下端４１に対するプランジャ２の上端２
２に対する永久磁石による吸着力が低下する。コア４と
プランジャ２との間にはコイル状のばね７が取り付けら
れており、電磁コイル６に通電することにより該吸着力
が低下するとばね７の付勢力が吸着力に打ち勝ってプラ
ンジャ２を下方へ移動させて弁体２１で弁口Ｈを閉塞す
る。弁口Ｈを閉鎖した閉弁状態を図２に示す。このよう
にプランジャ２の上端２２がコア４の下端４１から離れ
ると電磁コイル６への通電を停止しても永久磁石３の磁
力だけではプランジャ２を引き上げることができず、従
って閉弁状態のまま保持される。次に、図２に示す状態
から弁口Ｈを開弁させる場合には、電磁コイル６に上記
の閉弁時の通電方向とは逆方向に通電し、電磁コイル６
により永久磁石３の磁束と同じ方向の磁束を生じさせ
る。すると、プランジャ２の上端２２とコア４の下端４
１との間に作用する磁束が増加する。そして、ばね７の
付勢力に抗してプランジャ２を引き上げ、プランジャ２
の上端２２をコア４の下端４１に吸着させ、図１の状態
に戻す。このように再度上端２２が下端４１に吸着する
と電磁コイル６への通電を停止してもそのまま開弁状態
は保持される。尚、１１は非磁性材料からなるガイドパ
イプである。
を設けている。該電磁コイル６に通電して永久磁石３に
よる磁束の流れ方向とは逆方向の流れの磁束を生じさせ
ると、コア４の下端４１に対するプランジャ２の上端２
２に対する永久磁石による吸着力が低下する。コア４と
プランジャ２との間にはコイル状のばね７が取り付けら
れており、電磁コイル６に通電することにより該吸着力
が低下するとばね７の付勢力が吸着力に打ち勝ってプラ
ンジャ２を下方へ移動させて弁体２１で弁口Ｈを閉塞す
る。弁口Ｈを閉鎖した閉弁状態を図２に示す。このよう
にプランジャ２の上端２２がコア４の下端４１から離れ
ると電磁コイル６への通電を停止しても永久磁石３の磁
力だけではプランジャ２を引き上げることができず、従
って閉弁状態のまま保持される。次に、図２に示す状態
から弁口Ｈを開弁させる場合には、電磁コイル６に上記
の閉弁時の通電方向とは逆方向に通電し、電磁コイル６
により永久磁石３の磁束と同じ方向の磁束を生じさせ
る。すると、プランジャ２の上端２２とコア４の下端４
１との間に作用する磁束が増加する。そして、ばね７の
付勢力に抗してプランジャ２を引き上げ、プランジャ２
の上端２２をコア４の下端４１に吸着させ、図１の状態
に戻す。このように再度上端２２が下端４１に吸着する
と電磁コイル６への通電を停止してもそのまま開弁状態
は保持される。尚、１１は非磁性材料からなるガイドパ
イプである。
【０００９】ところで、電磁コイル６に通電し閉弁時に
プランジャ２のコア４に対する吸着力を弱めるためや開
弁時にプランジャ２をコア４側に移動させるためには、
電磁コイル６により生じた磁束が永久磁石３を貫通する
必要があるが、特にフェライト系の材料からなる永久磁
石３内は磁束が貫通しにくい。そこで本実施の形態で
は、永久磁石３の両極の面積を広くすることにより磁束
通路面積を広くして電磁コイル６の磁束が永久磁石３を
貫通しやすいようにした。一方、永久磁石３の磁束は両
極の面積に比例するため、このように磁束通路面積を広
げると永久磁石３の磁力が強力になる。その結果、より
強い電流を電磁コイル６に流さなければプランジャ２が
コア４から離れずに閉弁しないようになる。また、閉弁
し図２に示す状態になっても永久磁石３の磁力が強い
と、電磁コイル６への通電を停止した途端に永久磁石３
の磁力によりプランジャ２が引き上げられ、プランジャ
２を閉弁状態で保持できないおそれがある。
プランジャ２のコア４に対する吸着力を弱めるためや開
弁時にプランジャ２をコア４側に移動させるためには、
電磁コイル６により生じた磁束が永久磁石３を貫通する
必要があるが、特にフェライト系の材料からなる永久磁
石３内は磁束が貫通しにくい。そこで本実施の形態で
は、永久磁石３の両極の面積を広くすることにより磁束
通路面積を広くして電磁コイル６の磁束が永久磁石３を
貫通しやすいようにした。一方、永久磁石３の磁束は両
極の面積に比例するため、このように磁束通路面積を広
げると永久磁石３の磁力が強力になる。その結果、より
強い電流を電磁コイル６に流さなければプランジャ２が
コア４から離れずに閉弁しないようになる。また、閉弁
し図２に示す状態になっても永久磁石３の磁力が強い
と、電磁コイル６への通電を停止した途端に永久磁石３
の磁力によりプランジャ２が引き上げられ、プランジャ
２を閉弁状態で保持できないおそれがある。
【００１０】そこで、本発明ではコア４の一部に、フレ
ーム５に接触するバイパス部４２を形成した。図３を参
照して、永久磁石３のＮ極から生じた磁束Ｐはフレーム
５の両脚内を下方に流れるが、バイパス部４２に近づく
と磁束Ｐの一部の磁束ＰＥがバイパス部４２を通って直
ちにＳ極に戻る。そして残りの磁束ＰＰがプランジャ２
へと流れるべくベース板５１に向かって流れていく。従
って、プランジャ２をコア４に吸着させる磁束はＰより
少ないＰＰであるため、永久磁石３の磁束通路面積を広
くしてもプランジャに作用する磁力は強くならず上記の
弊害は生じない。次に、閉弁するために電磁コイル６に
通電すると電磁コイル６により生じる磁束Ｃはフレーム
５の両脚を上昇するが、バイパス部４２に近づくと一部
の磁束ＣＥはバイパス部４２を通って直接コア４に流
れ、残りの磁束ＣＰは永久磁石３の上方に回り込み永久
磁石３のＮ極側からＳ極側に向かって貫通し、上記分岐
した磁束ＣＥと合流してプランジャ２へと流れる。これ
によって、上記のようにプランジャ２に対する吸着力が
弱まりプランジャ２はばね７の付勢力により閉弁位置へ
と下降する。開弁する際には上記の如く電磁コイル６に
逆方向の通電をすると永久磁石３の磁束と同じ方向の磁
束が電磁コイル６により発生して、永久磁石３のＳ極側
からＮ極側に向かって貫通するので、永久磁石３の磁束
と電磁コイル６の磁束との協働によりプランジャ２を引
き上げることができる。
ーム５に接触するバイパス部４２を形成した。図３を参
照して、永久磁石３のＮ極から生じた磁束Ｐはフレーム
５の両脚内を下方に流れるが、バイパス部４２に近づく
と磁束Ｐの一部の磁束ＰＥがバイパス部４２を通って直
ちにＳ極に戻る。そして残りの磁束ＰＰがプランジャ２
へと流れるべくベース板５１に向かって流れていく。従
って、プランジャ２をコア４に吸着させる磁束はＰより
少ないＰＰであるため、永久磁石３の磁束通路面積を広
くしてもプランジャに作用する磁力は強くならず上記の
弊害は生じない。次に、閉弁するために電磁コイル６に
通電すると電磁コイル６により生じる磁束Ｃはフレーム
５の両脚を上昇するが、バイパス部４２に近づくと一部
の磁束ＣＥはバイパス部４２を通って直接コア４に流
れ、残りの磁束ＣＰは永久磁石３の上方に回り込み永久
磁石３のＮ極側からＳ極側に向かって貫通し、上記分岐
した磁束ＣＥと合流してプランジャ２へと流れる。これ
によって、上記のようにプランジャ２に対する吸着力が
弱まりプランジャ２はばね７の付勢力により閉弁位置へ
と下降する。開弁する際には上記の如く電磁コイル６に
逆方向の通電をすると永久磁石３の磁束と同じ方向の磁
束が電磁コイル６により発生して、永久磁石３のＳ極側
からＮ極側に向かって貫通するので、永久磁石３の磁束
と電磁コイル６の磁束との協働によりプランジャ２を引
き上げることができる。
【００１１】このように、永久磁石３の磁束通路面積を
広げることにより永久磁石３の磁力が強くなっても、バ
イパス部４２を形成しているため弊害が生じない。尚、
バイパス部４２を通ってバイパスされる磁束の量を調節
するにはバイパス部４２におけるコア４とフレーム５と
の接触面積を増減させればよい。ところが、コア４をフ
レーム５で挟むと、コア４の挟まれる部分の寸法が少し
でも短くなるとコア４とフレーム５との間に隙間が生じ
磁気抵抗が増加するため、バイパス部４２を通る磁束量
が大幅に減少する。そこで、図４に示すように、コア４
の外径Ｄをフレーム５の間隔Ｌよりも大きく形成すると
共に、対向する２カ所を切除して平面部４３を形成し、
平面部４３の端部４３ａをフレーム５に接触させ、端部
４３ａの近傍部分がバイパス部４２になるようにした。
このように構成すると多少の寸法誤差が生じてもコア４
とフレーム５との間の磁気抵抗はほとんど変化せず、バ
イパス路４２を通る磁束量を一定にすることができる。
広げることにより永久磁石３の磁力が強くなっても、バ
イパス部４２を形成しているため弊害が生じない。尚、
バイパス部４２を通ってバイパスされる磁束の量を調節
するにはバイパス部４２におけるコア４とフレーム５と
の接触面積を増減させればよい。ところが、コア４をフ
レーム５で挟むと、コア４の挟まれる部分の寸法が少し
でも短くなるとコア４とフレーム５との間に隙間が生じ
磁気抵抗が増加するため、バイパス部４２を通る磁束量
が大幅に減少する。そこで、図４に示すように、コア４
の外径Ｄをフレーム５の間隔Ｌよりも大きく形成すると
共に、対向する２カ所を切除して平面部４３を形成し、
平面部４３の端部４３ａをフレーム５に接触させ、端部
４３ａの近傍部分がバイパス部４２になるようにした。
このように構成すると多少の寸法誤差が生じてもコア４
とフレーム５との間の磁気抵抗はほとんど変化せず、バ
イパス路４２を通る磁束量を一定にすることができる。
【００１２】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
は、コアとフレームとの間にバイパス部を設けたので、
電磁コイルによる磁束を通り易くするため永久磁石の磁
束通路面積を広げ、そのため永久磁石の磁力が強くなっ
ても、永久磁石の磁束の一部をバイパス部を通してバイ
パスすることにより永久磁石の磁力が強くなることによ
る弊害を防止することができる。
は、コアとフレームとの間にバイパス部を設けたので、
電磁コイルによる磁束を通り易くするため永久磁石の磁
束通路面積を広げ、そのため永久磁石の磁力が強くなっ
ても、永久磁石の磁束の一部をバイパス部を通してバイ
パスすることにより永久磁石の磁力が強くなることによ
る弊害を防止することができる。
【図１】電磁弁１の開弁状態での断面図
【図２】電磁弁１の閉弁状態での断面図
【図３】バイパス部の詳細を示す拡大図
【図４】IV−IV断面図
１ 電磁弁 ２ プランジャ ３ 永久磁石 ４ コア ５ フレーム ６ 電磁コイル ４２ バイパス部 ５３ 磁気パイプ
Claims (1)
- 【請求項１】 永久磁石と電磁コイルとを備え、弁体
に連なるプランジャを永久磁石の磁力により開弁状態に
吸着保持するラッチ式電磁弁において、永久磁石とプラ
ンジャとの間の磁束通路を形成するフレームとコアと
を、プランジャを挟んで設けると共に、フレームとコア
との間で磁束の一部を流してプランジャをバイパスする
バイパス部を形成したことを特徴とするラッチ式電磁
弁。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10624297A JP3326736B2 (ja) | 1997-04-23 | 1997-04-23 | ラッチ式電磁弁 |
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