JPH10286763A - 基板の研磨装置 - Google Patents

基板の研磨装置

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JPH10286763A
JPH10286763A JP11014897A JP11014897A JPH10286763A JP H10286763 A JPH10286763 A JP H10286763A JP 11014897 A JP11014897 A JP 11014897A JP 11014897 A JP11014897 A JP 11014897A JP H10286763 A JPH10286763 A JP H10286763A
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JP
Japan
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polishing
balancer
grinding table
grinding
shaft
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Pending
Application number
JP11014897A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenya Ito
賢也 伊藤
Hideo Aizawa
英夫 相澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Publication date
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 占有面積を減少させたコンパクトな構成で、
しかも駆動軸の振動を抑えて安定に稼動することができ
る基板の研磨装置を提供する。 【解決手段】 研磨テーブル48と、該研磨テーブルに
偏芯位置で連結して該研磨テーブルを並進円運動させる
駆動軸68とを備え、前記駆動軸の軸方向所定位置に
は、周方向に取付位置を調整可能な少なくとも2つのバ
ランサ片84,86が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の研磨装置に
係り、特に、半導体ウエハ、ガラス基板、液晶パネル等
の高度の清浄度が要求される基板を研磨する場合に好適
な基板の研磨装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体デバイスの高集積化が進む
につれて回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭く
なりつつある。これに伴い、光リソグラフィなどで回路
形成を行なう場合に焦点深度が浅くなるので、ステッパ
の結像面のより高い平坦度を必要とする。このような事
情は、液晶パネル等の基板においても同様である。
【0003】半導体ウエハの表面を平坦化する手段とし
て、回転するターンテーブル上に貼付した研磨布(研磨
具)に砥粒を含む研磨液を供給しながら、キャリアで保
持したウエハを研磨布に押しつけて研磨する化学機械的
研磨(CMP)が行われ、そのための装置として、平面
内で周期運動する研磨テーブルと、該研磨テーブルに対
して被研磨材の研磨面を押圧する把持部材とを有する研
磨装置が用いられている。
【0004】これは、例えば、図5に示すように、回転
自在で上面に研磨布(研磨具)100を貼付したターン
テーブル102を備えた駆動装置103と、ウエハを真
空保持しつつ該ウエハの被研磨面を所定の圧力で研磨布
100に押し付けるトップリングヘッド104を有する
トップリング装置106と、研磨布100の目立てを行
うドレッシングヘッド108を有するドレッシング装置
110と、これらのターンテーブル102やドレッシン
グヘッド108に水や砥粒を含む研磨液を供給する研磨
液供給装置112を備えている。
【0005】トップリングヘッド104は、揺動アーム
114の先端に上下動かつ回転自在に支持された主軸1
16の下端に連結され、ターンテーブル102の側方位
置でウエハの受け渡しを行うとともに、ウエハを保持し
た状態で主軸116を自転させながらウエハの全面を研
磨するようになっている。一方、ドレッシングヘッド1
08もほぼ同様に、揺動アーム118の先端に上下動か
つ回転自在に支持された主軸120の下端に連結され、
研磨布100の目立てを行うようになっている。
【0006】この研磨装置は、自転するターンテーブル
102により研磨を行なうものであり、回転中心では変
位が無く、研磨が行われないので、中心をはずれたとこ
ろで研磨を行なうようになっている。従って、ターンテ
ーブル102の大きさは、ウエハの直径の少なくとも2
倍以上の直径を有するように設定されている。
【0007】上記のような従来の研磨装置においては、
ターンテーブル102とトップリングヘッド104との
相対的な変位が大きく、またその相対速度も大きいため
効率的な研磨がなされ、平坦度も十分に得られる。しか
しながら、駆動装置のターンテーブル102の径がウエ
ハの2倍以上と大きく、大きな面積を占有して、研磨装
置自体が大型化してしまうとともに、設備コストも大き
くなる。この欠点は、ウエハの大径化の傾向に伴って一
層顕著になる。
【0008】そこで、上記のような研磨装置に替わっ
て、あるいはこれと併用して、研磨面全体が小さい半径
の並進円運動を行なう研磨装置の採用が考えられる。こ
の場合は、研磨面が全て同じ運動を行なうので、研磨具
自体の大きさは研磨対象物である基板とほぼ同じ大きさ
でよいことになる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な並進円運動を行わせるために駆動側の回転軸の回転を
研磨テーブルに偏芯させた状態で伝達するものが使用さ
れるが、この場合、駆動軸のバランスが悪いと装置全体
が振動してしまい、また、駆動軸と研磨テーブルとが重
心がずれているので、テーブルが運動するとき振動現象
が起こる。このため、安定な稼動や操業環境に悪影響を
与える。
【0010】本発明は上述の事情に鑑みなされたもの
で、占有面積を小さくしたコンパクトな構成で、しかも
駆動軸の振動を抑えて安定に稼動することができる基板
の研磨装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、研磨テーブルと、該研磨テーブルに偏芯位置で連結
して該研磨テーブルを並進円運動させる駆動軸とを備
え、前記駆動軸の軸方向所定位置には、周方向に取付位
置を調整可能な少なくとも2つのバランサ片が設けられ
ていることを特徴とする基板の研磨装置である。
【0012】このような基板の研磨装置においては、研
磨テーブルは、並進円運動を行なうので、研磨テーブル
の大きさを基本的に研磨対称の基板とほぼ同じに設定す
ることができる。また、駆動軸に作用するアンバランス
な荷重負荷は、少なくとも2つのバランス片を個々に調
整することによって、現場で容易にバランスさせること
ができ、振動や偏った摩耗の発生を防止することができ
る。
【0013】請求項2に記載の発明は、前記駆動軸に
は、前記バランサ片を嵌装させる周方向溝が設けられて
いることを特徴とする請求項1記載の基板の研磨装置で
ある。これにより、バランサ片の脱落を確実に防止しつ
つ、このバランサ片を溝に沿って摺動させることによっ
て、この取付け位置を容易に調節することができる。
【0014】請求項3に記載の発明は、前記バランサ片
は周方向に広がる扇状に形成されていることを特徴とす
る請求項1記載の基板の研磨装置である。請求項4に記
載の発明は、前記バランサ片が駆動軸の軸方向複数の位
置に設けられていることを特徴とする請求項1記載の基
板の研磨装置である。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板の研磨装
置の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、本
発明の1つの実施の形態の駆動装置を備えた研磨装置を
示す図面である。この研磨装置には、矩形枠状のフレー
ム10の内部に設けられ、その上部にトップリング装置
12とドレッシング装置14が、下部に研磨工具装置1
6とウエハの受け渡しを行うプッシャ18がそれぞれ備
えられている。
【0016】トップリング装置12には、円筒状ケース
20の内部を挿通する支持軸22が備えられ、この支持
軸22の下端にウエハを吸着保持しつつ該ウエハを研磨
工具装置16に向けて所定の圧力で押し付けるトップリ
ングヘッド24が取り付けられている。そして、円筒状
ケース20の内部にはモータが内蔵され、このモータの
駆動に伴って支持軸22が回転するとともに、円筒状ケ
ース20の側方に配置されたシリンダ26と支持軸22
とが連結部材28を介して互いに連結され、これによっ
て、シリンダ26の駆動に伴って支持軸22が上下動す
るようになっている。
【0017】一方、ドレッシング装置14もほぼ同様
に、円筒状ケース30の内部を挿通する支持軸32が備
えられ、この支持軸32の下端に下記の研磨プレート5
0の目立てを行うドレッシングヘッド34が取り付けら
れている。そして、円筒状ケース30の内部にはモータ
が内蔵され、このモータの駆動に伴って支持軸32が回
転するとともに、円筒状ケース30の側方に配置された
シリンダ36と支持軸32とが連結部材38を介して互
いに連結され、これによって、シリンダ36の駆動に伴
って支持軸32が上下動するようになっている。
【0018】各支持軸22,32は、共にスプライン軸
によって構成され、このスプライン軸とモータの出力軸
がスプライン溝により摺動自在に連結されている。従っ
て、モータの駆動力の伝達とともに、シリンダ26,3
6の作動による上下動が各支持軸22,32に伝達され
るようになっている。また、トップリング装置12の支
持軸22の上端には、回転を検出するためのエンコーダ
40が設けられている。
【0019】トップリング装置12及びドレッシング装
置14は、一対のガイドレール42に沿って走行自在な
矩形平板状の台車44にトップリングヘッド24及びド
レッシングヘッド26を下方に突出させた状態で取付け
られている。そして、台車44の走行により、トップリ
ングヘッド24は研磨工具装置16とプッシャ18の間
を、ドレッシングヘッド34はリンス槽46と研磨工具
装置16の間をそれぞれ往復移動するようになってい
る。
【0020】研磨工具装置16には、並進円運動を行う
研磨テーブル48が備えられ、この研磨ケーブルの上面
に、研磨板50が固着されている。プッシャ18は、ウ
エハをトップリングヘッド24と図示しないロボットと
の間で授受するもので、上下動自在で、かつ前後方向に
位置調整が可能に構成されている。
【0021】研磨工具装置16の詳細を図2乃至図4を
参照して説明する。これは、内部にモータ52を収容す
る筒状のケーシング54の上端開口部を覆う取付板56
に略円筒状の基台58が固定され、この基台58に複数
の支持部60を介して研磨テーブル48が支持されてい
る。研磨テーブル48の下面と基台58の上面の対応す
る位置には、周方向に等間隔に複数の凹部48a,58
aが形成され、ここにはそれぞれベアリング62,64
を介して、偏心量 "e" だけずれた2つの軸体66a,
66bを持つクランクシャフト66が、各軸体66a,
66bの端部を挿入して配置され、これにより、研磨テ
ーブル48が半径 "e" の円に沿って並進円運動可能と
なっている。
【0022】また、研磨テーブル48の中央部には、モ
ータ52の駆動に伴って回転する駆動軸68の上端に偏
心して設けられた駆動ピン部68aを軸受70を介して
収容する中央孔48bが形成されている。この駆動ピン
部68aの偏心量、即ちこの駆動ピン部68aの軸心O
2 と駆動軸68の軸心O1 との距離も、2つの軸部46
a,46bの偏心量と同じ "e" である。モータ52
は、ケーシング54内に形成されたモータ室72に収容
され、その駆動軸68は上下の軸受74,76により支
持されている。
【0023】研磨テーブル48は、研磨すべきウエハ等
の被研磨材の径に偏心量 "e" を加えた値よりやや大き
い径に設定され、この上面には、研磨板(研磨工具)5
0が固着されている。これらの部材間には研磨板50の
上面に供給する研磨液を流通させる空間78が形成され
ている。この空間78は側面に設けられた研磨液供給孔
(図示せず)に連通しているとともに、研磨プレート5
0の内部に設けられた複数の研磨液吐出孔50aと連通
している。
【0024】更に、研磨ケーブル48の周囲には、供給
された研磨液を回収する回収槽80が設けられていると
ともに、この回収槽80内を研磨液を導く案内板82が
研磨テーブル48の周縁部に取り付けられている。
【0025】駆動軸68には、研磨テーブルを偏芯駆動
する際のバランスを取って、振動や機械的摩耗を防止す
るためのバランサが上下に設けられている。上端側のバ
ランサは、2個の扇状のバランサ片84,86からな
り、これらのバランサ片84,86の総計のモーメント
が研磨テーブル48及び研磨プレート50と合計の重量
が形成するモーメントと対応するように設定されてい
る。これらのバランサ片84,86は、駆動軸68の軸
心O1 に対して駆動ピン部68aの軸心O2 との偏心方
向と反対方向に向かうように駆動軸68に取付けられて
いる。
【0026】この取付機構は以下のようになっている。
すなわち、駆動軸68の周囲には、横断面の鉤型の屈曲
部88aを有するリング状の取付治具88がビス90を
介して駆動軸68をとりかこむように固着されている。
一方、各バランサ片84,86の内周部には、屈曲部8
8aの断面形状に沿った断面形状で円周方向に延びる凹
溝84a,86aが設けられているとともに、外周面か
らこの凹溝84a,86bに達するねじ穴84b,86
bが設けられている。そして、この凹溝84a,86b
内に取付治具88の屈曲部88aを嵌入させ、ねじ穴8
4b,86b内にビス92を螺合することにより、バラ
ンサ片84,86を駆動軸68に取付けている。これに
より、バランサ片84,86の取付治具88からの脱落
を確実に防止する。
【0027】このような構成によって、バランサ片8
4,86は、駆動軸68に対してその周方向への取付位
置を比較的簡単に変えることができる。つまり、ビス9
2を緩めることによって、図4に示すように、両者の合
力F4 が研磨(運動)中の研磨テーブル48による負荷
1 とバランスするように、この位置関係を容易に調節
することができる。従って、例えば、振動を耳や振動計
で判断しながら、現場で簡単にバランサ片84,86の
取付位置を調整し、研磨テーブル48の振動を防止し、
安定したウエハの研磨を可能としている。
【0028】この調整方法の一例を説明すると、初期設
定は、図4に示すように、2つのバランサ片84,86
を軸心O1 とO2 を結ぶ線に対して対称に取り付けてお
く。そして、振動を検知しながら、2つのバランサ片8
4,86をまず対称に動かし、それでも不充分な場合は
非対称な位置への調整も行なう。実機のバランス調整
は、多くの要因によって個々に条件が異なるので、トラ
イアル・アンド・エラー方式が有効であることも多いか
らである。駆動軸68の下端側のバランサ94も同様な
機構となっている。または駆動軸、研磨テーブル等にセ
ンサをとりつけて振動を検知するようにして、その検知
結果にもとづいてバランサ片84,86の位置を変更し
てもよい。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の基板の
研磨装置によれば、研磨テーブルの大きさを基本的に研
磨対称の基板とほぼ同じに設定することができ、装置全
体をコンパクトに構成することができる。また、駆動軸
に作用するアンバランスな荷重負荷を現場で容易にバラ
ンスさせることができ、振動や偏った摩耗の発生を防止
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る駆動装置を備えた研
磨装置を示す正面図である。
【図2】同じく、駆動装置の縦断正面図である。
【図3】同じく、クランクシャフト(支持部)を取付け
た基台と駆動軸とを示す平面図である。
【図4】同じく、駆動軸に取付けたバランサと該駆動軸
に作用する負荷の説明図である。
【図5】従来の駆動装置を備えた研磨装置を示す斜視図
である。
【符号の説明】
12 トップリング装置 14 ドレッシング装置 16 駆動装置 18 プッシャ 24 トップリングヘッド 26 ドレッシングヘッド 48 研磨テーブル 50 研磨プレート(研磨具) 52 モータ 58 基台 60 支持部 66 クランクシャフト 68 駆動軸 68a 同駆動ピン部 84,86 バランサ片 88 取付治具 90,92 ビス 94 第2のバランサ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨テーブルと、該研磨テーブルに偏芯
    位置で連結して該研磨テーブルを並進円運動させる駆動
    軸とを備え、 前記駆動軸の軸方向所定位置には、周方向に取付位置を
    調整可能な少なくとも2つのバランサ片が設けられてい
    ることを特徴とする基板の研磨装置。
  2. 【請求項2】 前記駆動軸には、前記バランサ片を嵌装
    させる周方向溝が設けられていることを特徴とする請求
    項1記載の基板の研磨装置。
  3. 【請求項3】 前記バランサ片は周方向に広がる扇状に
    形成されていることを特徴とする請求項1記載の基板の
    研磨装置。
  4. 【請求項4】 前記バランサ片が駆動軸の軸方向複数の
    位置に設けられていることを特徴とする請求項1記載の
    基板の研磨装置。
JP11014897A 1997-04-11 1997-04-11 基板の研磨装置 Pending JPH10286763A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011148046A (ja) * 2010-01-22 2011-08-04 Ebara Corp 研磨装置及び方法、並びに、ドレッシングユニットの性能試験方法
CN116985012A (zh) * 2023-09-28 2023-11-03 泰州市江南机械制造有限公司 一种精密平面磨床用组合式磨具机构

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