JPH10279723A - 発泡ゴムシート及びその製造方法 - Google Patents

発泡ゴムシート及びその製造方法

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JPH10279723A
JPH10279723A JP9968897A JP9968897A JPH10279723A JP H10279723 A JPH10279723 A JP H10279723A JP 9968897 A JP9968897 A JP 9968897A JP 9968897 A JP9968897 A JP 9968897A JP H10279723 A JPH10279723 A JP H10279723A
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rubber sheet
foamed
foaming
radiation
shield
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JP9968897A
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Minoru Ueda
稔 上田
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Ohtsu Tire and Rubber Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 長尺の発泡ゴムシートでも容易に製造可能と
すると共に、ゴムシートの発泡を制御可能とする。 【解決手段】 発泡剤を含有するゴムシート3の上面
に、電子線を照射することで、ゴムシート3の照射部分
を半架橋反応させた後、ゴムシート3を発泡処理する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、発泡ゴムシート及
びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、発泡ゴムシートは、厚物やブロッ
ク状の発泡ゴムをスライスすることで、製造されてい
た。しかし、発泡ゴムのスライスはかなり困難であるた
め、従来においては、発泡ゴムシートの製造を容易に行
えず、特に、長尺の発泡ゴムシートの製造は、極めて困
難であった。
【0003】この問題を解決するために、例えば、未発
泡のゴムシートを発泡させて、発泡ゴムシートとするこ
とも考えられる。しかし、この方法では、発泡の制御が
できず、ゴムシートが全体にわたって均一に発泡するた
め、例えば、ゴムシートの発泡倍率を、厚さ方向に関し
て、変化させたり、或いは、ゴムシートの上面や下面の
各位置での発泡倍率を変化させて、上面や下面を凹凸面
とすることができないとの問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決できる発泡ゴムシート及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の発泡ゴムシートの特徴とする処は、放射線
照射による半架橋反応後に、発泡処理された点にある。
尚、上下面の一方への放射線照射による、半架橋反応後
に、発泡処理されることで、放射線の照射部分の発泡倍
率が、上下面の他方に向かうに従って、大となるように
されることもある。又、上下面の少なくとも一方への放
射線照射による、半架橋反応後に、発泡処理されること
で、上下面の少なくとも一方が凹凸面とされることもあ
る。更に、本発明の発泡ゴムシートの製造方法の特徴と
する処は、ゴムシートの上下面の少なくとも一方に、放
射線を照射することで、ゴムシートの照射部分を半架橋
反応させた後、ゴムシートを発泡処理する点にある。
尚、放射線を、その照射量を制御する遮蔽体を介して、
ゴムシートに照射することで、ゴムシートの照射部分の
半架橋反応を制御することもある。又、遮蔽体を金属製
として、遮蔽体に、放射線が通過する穴を形成すること
もある。更に、遮蔽体を高分子材料から形成して、遮蔽
体に、放射線が通過する穴を形成すると共に、遮蔽体
を、ゴムシートの上下面の少なくとも一方にラミネート
することもある。又、遮蔽体を高分子材料から形成し
て、遮蔽体を、ゴムシートの上下面の少なくとも一方に
ラミネートし、遮蔽体の厚さを調整することで、放射線
の照射量を制御することもある。更に、ゴムシートに発
泡剤を含有させ、ゴムシートを加熱することで、ゴムシ
ートを発泡させることもある。又、ゴムシートに架橋剤
を含有させ、ゴムシートの発泡時、又は、発泡後に、ゴ
ムシートを、架橋剤により、架橋反応させることもあ
る。更に、ゴムシートに発泡剤と架橋剤を含有させ、放
射線のゴムシートへの照射後にゴムシートを、発泡剤の
分解温度以上で且つ架橋剤による架橋反応温度以下の温
度に、加熱することで、ゴムシートを一次発泡させ、こ
の一次発泡したゴムシートを、上記架橋反応温度以上の
温度に、加熱することで、ゴムシートを二次発泡させる
と共に、ゴムシートを、架橋剤により、架橋反応させる
こともある。又、放射線を、電子線等の粒子線、又は、
γ線等の電磁波とすることもある。尚、「半架橋反応」
の定義(説明)は、「発明の実施の形態」に記載してい
る。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の第1
例を図1〜図4の図面に基づき説明すると、図1におい
て、1は電子線照射設備を示し、ロール2から繰り出さ
れた未発泡のゴムシート3が、電子線照射設備1を通過
して、ロール4に巻き取られる。
【0007】電子線照射設備1は、シールドルーム(遮
蔽室)6と、該ルーム6内に備えられた電子線照射装置
7を有する。電子線照射装置7としては、多段整流形直
流電源を用いた走査式、変圧器整流形直流電源を用いた
走査式や非走査式等が使用される。電子線照射装置7の
下部には、スキャナー8が備えられ、該スキャナー8に
より、ゴムシート3に電子線(ビーム)が照射されて、
ゴムシート3が半架橋反応する。
【0008】尚、電子線照射装置7の加速電圧は、通
常、1〜20MVの間で選択されるが、一般に、上記加
速電圧は、500KV以上、1000KV以下とされ
る。尚、厚物のゴムシートの場合には、上記加速電圧
は、1000KV以上が望ましい。又、電子線の照射量
は、50〜500KGYとされる。電子線の照射量が5
0KGY以下であると、未発泡のゴムシート3が、その
発泡時に、発泡し過ぎるとの問題があり、又、電子線の
照射量が500KGY以上であると、未発泡のゴムシー
ト3が、その発泡時に、発泡しないとの問題がある。
【0009】尚、上記「半架橋反応」とは、下記の反応
を示す。即ち、未架橋(未加硫)ゴムを、一定圧力で且
つ一定温度の下で、架橋(加硫)させると、ゴムの架橋
は、時間の経過と共に進行する。この架橋状態を、縦軸
をトルク値、横軸を時間として、グラフに示すと、図3
のようになり、トルク値は、時間の経過と共に、一旦、
最小トルク値(Tmin )となった後、最大トルク値(T
max )となる。本発明の「半架橋反応」とは、反応後の
トルク値Th が、〔5≦100(Th−Tmin )/(T
max −Tmin )≦50〕なる式を満たす架橋反応であ
る。尚、未架橋ゴムでも、上記のように、最小トルク値
(Tmin )よりも、若干大きなトルク値を有している。
従って、上記式の左側の数値「5」を「0」とすると、
「半架橋反応」後のゴムシート3は、未架橋のゴムシー
トも含むことになる。これを避けるために、上記式の左
側の数値を「5」としている。
【0010】図2において、10は一次発泡装置、11
は二次発泡装置で、ロール12から繰り出された、電子
線照射後のゴムシート3が、両発泡装置10,11を通
過して、ロール13に巻き取られる。両発泡装置10,
11は、オートクレーブを用いずに、即ち、水蒸気を使
用せずに、ゴムシート3を加熱するもので、例えば、オ
ーブン等から構成されている。一次発泡装置10では、
ゴムシート3を、発泡剤の分解温度以上で且つ架橋剤
(加硫剤)による架橋(加硫)反応温度以下の温度(低
温)に、加熱することで、ゴムシート3を一次発泡させ
ながら、ゴムシート3の形状を整える(所定形状に整え
る、賦形する)。尚、一次発泡装置10に、ゴムシート
3の形状を整えるためのロール装置、プレス装置、金型
装置等を備えることもある。二次発泡装置11は、一次
発泡したゴムシート3を、上記架橋反応温度以上の温度
に、加熱することで、ゴムシート3を二次発泡させると
共に、ゴムシート3を、架橋剤により、架橋(加硫)反
応させる。
【0011】上記のように構成した第1例によれば、発
泡ゴムシート3を製造する際には、まず、未発泡のゴム
シート3を製造する。この際には、原料ゴム(エラスト
マー)として、天然ゴムや合成ゴムを、単独、又は、混
合して使用する。合成ゴムとしては、ジエン系合成ゴム
(例えば、ポリスチレンブタジエンゴム(SBR)、ポ
リイソプレンゴム(IR)、ポリブタジエンゴム(B
R))、熱可塑性エラストマー(TPE)等の各種合成
ゴム(但し、ブチル系ゴムは除く。)を使用する。
【0012】これら原料ゴムに、発泡剤、発泡助剤、架
橋剤、架橋促進助剤、架橋促進剤、老化防止剤等の通常
の添加剤を添加して、混練した後、ゴムシート3に成形
して、図1に示すように、ロール2に巻き取る。尚、上
記発泡剤としては、重炭酸ナトリウムや重炭酸アンモニ
ウム等の無機発泡剤、アゾジカルボンアミドやジニトロ
ソペンタメチレンテトラミン等の有機発泡剤等が使用さ
れる。又、発泡助剤としては、ルイス酸特性を有する金
属酸化物、サリチル酸等が使用される。更に、架橋剤と
しては、酸化亜鉛、粉末硫黄、セレン等の無機系架橋
剤、モルホリンジスルフィド、アルキルフェノールジス
ルフィド等の有機系架橋剤が使用される。又、架橋促進
助剤としては、酸化亜鉛、酸化マグネシウム等の無機系
架橋促進助剤、ステアリン酸、オレイン酸等の有機系架
橋促進助剤が使用される。尚、必要がない時には、発泡
助剤、架橋剤、架橋促進助剤、架橋促進剤等を添加しな
い場合もある。
【0013】上記のように製造したゴムシート3を、図
1に示すように、電子線照射設備1を通過させて、ゴム
シート3の上面(照射面)に電子線を照射し、ゴムシー
ト3を半架橋反応させた後、このゴムシート3を、図2
に示すように、一次・二次発泡装置10,11を通過さ
せる。尚、ゴムシート3を、電子線照射設備1、両発泡
装置10,11を通過させる際には、ゴムシート3を間
歇的に移動させる場合と、低速で連続して移動させる場
合があるが、後者の方が、発泡ゴムシートを効率良く製
造でき、生産性を高くできる。
【0014】上記のようにして、ゴムシート3を一次発
泡装置10内に進入させ、ゴムシート3を、発泡剤の分
解温度以上で且つ架橋剤による架橋反応温度以下の温度
に、加熱して、発泡剤を分解させ、ゴムシート3を一次
発泡させながら、ゴムシート3の形状を整えるが、この
段階では、ゴムシート3を架橋反応させない。そして、
一次発泡したゴムシート3を、二次発泡装置11によ
り、上記架橋反応温度以上の高温に、加熱することで、
ゴムシート3を更に二次発泡させると共に、ゴムシート
3を、架橋剤により、架橋反応させ、製品、即ち、発泡
ゴムシートとする。
【0015】上記のように、発泡ゴムをスライスせず
に、未発泡のゴムシート3を発泡させて、発泡ゴムシー
トとしたので、長尺の発泡ゴムシートでも容易に製造で
きる。
【0016】又、電子線の照射エネルギー及び照射量を
調整することにより、ゴムシート3の架橋反応を制御で
き、例えば、 ゴムシート3全体の架橋反応率を高く
したり(架橋構造を多くしたり)、 又は、ゴムシー
ト3全体の架橋反応率を低くしたり(架橋構造を少なく
したり)、 更には、ゴムシート3の下面(照射面の
反対面)に向かうに従って、架橋反応率を低くしたりで
きる。
【0017】そして、ゴムシート3を発泡させた際に、
ゴムシート3全体の架橋反応率が高い(架橋構造が
多い)場合には、ゴムシート3全体の発泡倍率が低くな
り、 又、ゴムシート3全体の架橋反応率が低い(架
橋構造を少ない)場合には、ゴムシート3全体の発泡倍
率が高くなり、 更には、ゴムシート3の下面に向か
うに従って、架橋反応率が低くなる場合には、図4に示
すように、ゴムシート3の下面(照射面の反対面)に向
かうに従って、発泡倍率が大と(高く)なる(尚、これ
を、「傾斜発泡」と言うこともある。)。このように、
ゴムシート3の発泡倍率を容易に制御できる。尚、ゴム
シート3の発泡倍率は、電子線の照射エネルギー及び照
射量以外に、例えば、ゴムシート3の厚さ、発泡剤や発
泡助剤の量等によっても、変化する。
【0018】ところで、オートクレーブを用いて、発泡
ゴムシートを製造したり、又は、上記一次・二次発泡装
置10,11をオートクレーブとした場合には、オート
クレーブ内の水蒸気により、発泡ゴムシートが水分を帯
びて、完全に抜けない。そのため、この発泡ゴムシート
をOA機器や電子部品材料等に使用した場合には、電気
抵抗が安定しない等、電気特性に好ましくない影響を与
えることとなり、上記使用は好ましくない。
【0019】しかし、本発明では、一次・二次発泡装置
10,11をオートクレーブとせずに、オーブン等とし
て、ゴムシート3の加熱時に、水蒸気を使用していない
ので、発泡ゴムシートが水分を帯びることがなく、発泡
ゴムシートをOA機器や電子部品材料等に使用しても、
何ら問題はない。
【0020】図5〜図7は本発明の実施の形態の第2例
を示し、図5及び図6に示すように、スキャナー8の下
端部に、該下端部を遮蔽する遮蔽体(スクリーン)15
が備えられている。遮蔽体15は電子線の照射量を制御
するもので、比重が大である金属、例えば、鋼板等から
成り、遮蔽体15には、電子線が通過する多数の穴16
が形成されて、パンチングメタル状とされている。
【0021】上記第2例によれば、ゴムシート3への電
子線照射時には、ゴムシート3の移動を、電子線の照射
時間だけ、一旦停止するのであり、これにより、遮蔽体
15の穴16を通過した電子線のみが、ゴムシート3に
照射されて、この照射部分のみが半架橋反応し、ゴムシ
ート3における、電子線の非照射部分では、半架橋反応
しない。従って、ゴムシート3の発泡時に、ゴムシート
3における、電子線の非照射部分では、通常の発泡倍率
となるが、電子線の照射部分では、発泡倍率は低くな
り、図7に示すように、ゴムシート3の上面の照射部分
が、凹部18となって、ゴムシート3の上面が凹凸状と
なる。尚、図7では、凹部18の形状を明確に描いてあ
るが、これは便宜上、そのように描いただけで、実際に
は、凹部18は、図7よりは、遙かに不明確な形状にな
ることが多い。
【0022】図8は本発明の実施の形態の第3例を示
し、遮蔽体15が、第2例のように、金属製とされず
に、高分子材料、例えば、ポリエステル樹脂等の合成樹
脂シート(フィルム)から形成され、この遮蔽体15
が、ゴムシート3の上面に、熱融着、又は、接着剤等に
よりラミネートされている。遮蔽体15には、第2例同
様に、電子線が通過する多数の穴16が形成されてい
る。
【0023】上記第3例によれば、ゴムシート3を電子
線照射設備1を通過させる際には、第2例のように、ゴ
ムシート3を間歇的に移動させて、ゴムシート3への電
子線照射時に、ゴムシート3を、一旦停止させてもよ
い。しかし、遮蔽体15がゴムシート3にラミネートさ
れているので、ゴムシート3を、第1例のように、連続
的に移動させても、ゴムシート3における、電子線照射
が不要な部分に、電子線が照射される惧れはない。従っ
て、第3例では、ゴムシート3を連続的に移動させて、
電子線を照射でき、これにより、ゴムシート3に電子線
を効率良く照射できて、生産性を高くできる。尚、遮蔽
体15は、電子線照射後に、適当な方法により、除去さ
れる。
【0024】図9は本発明の実施の形態の第4例を示
し、第3例の変形例である。この第3例では、高分子材
料が、その厚さにより、電子線の透過量が変化すること
に着目し、遮蔽体15の厚さの調整により、ゴムシート
3における、電子線の非照射部分と照射部分の区画や、
照射量の制御を行っており、図例では、遮蔽体15の上
面に、円形、又は、方形の凹部20を形成している。
尚、遮蔽体15の上面を、例えば、図9の仮想線で示す
ように、傾斜状として、電子線の照射量を制御してもよ
い。
【0025】尚、本発明の発泡ゴムシートは、建材や土
木用等の防振、防音用シート、床材、マットの裏貼りシ
ート、OA機器、電子部品材料等に使用される。尚、図
面は単なる説明図であって、各部を分かり易くするため
に、その寸法比率は現物とは異なるものとしている場合
がある。又、上記実施の形態では、ゴムシートの上面の
みに、電子線を照射したが、ゴムシートの下面や、上下
両面に電子線を照射してもよい。更に、実施の形態で
は、発泡を、一次発泡と二次発泡の2段発泡としたが、
一段発泡としてもよい。
【0026】又、実施の形態では、ゴムシートに発泡剤
を含有させ、ゴムシートを加熱することで、ゴムシート
を発泡させたが、ゴムシートを、ガス法や溶解法等によ
り、発泡させてもよい。更に、実施の形態では、ゴムシ
ートの上面のみを凹凸面としたが、ゴムシートの下面
や、上下両面を凹凸面としてもよい。又、実施の形態で
は、電子線の照射と発泡を、連続したラインで行ってい
ないが、連続したラインで行ってもよい。更に、実施の
形態では、放射線照射装置として、電子線照射装置を使
用し、放射線として、電子線を使用したが、放射線とし
て、その他の粒子線や、γ線等の電磁波を使用してもよ
い。要するに、本発明の放射線は、ゴムシートを半架橋
反応させる粒子線や電磁波であれば、どのようなもので
もよい。
【0027】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
長尺の発泡ゴムシートでも容易に製造できる。又、放射
線の照射エネルギー及び照射量を調整することにより、
ゴムシートの架橋反応を制御できて、ゴムシートの発泡
を制御でき、例えば、発泡倍率を、ゴムシートにおけ
る、電子線の照射面から反対側の面に向かうに従って、
大としたり、ゴムシートの上記照射面を凹凸面とするこ
ともできる。
【0028】又、請求項7、8によれば、遮蔽体がゴム
シートにラミネートされているので、ゴムシートを連続
的に移動させても、ゴムシートにおける、電子線照射が
不要な部分に、電子線が照射される惧れはない。従っ
て、ゴムシートを連続的に移動させて、電子線を照射で
き、これにより、ゴムシートに電子線を効率良く照射で
きて、生産性を高くできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の第1例の電子線照射設備
等を示す説明図である。
【図2】本発明の実施の形態の第1例の発泡装置等を示
す説明図である。
【図3】ゴムの架橋時のトルク値と時間の関係を示すグ
ラフである。
【図4】本発明の実施の形態の第1例の発泡倍率の変化
を示すグラフである。
【図5】本発明の実施の形態の第2例のスキャナー及び
遮蔽体を示す説明図である。
【図6】図5の遮蔽体の一部平面図である。
【図7】本発明の実施の形態の第2例の発泡ゴムシート
の斜視図である。
【図8】本発明の実施の形態の第3例のゴムシート及び
遮蔽体の斜視図である。
【図9】本発明の実施の形態の第4例のゴムシート及び
遮蔽体の断面図である。
【符号の説明】
3 ゴムシート 7 電子線照射装置 10,11 一次・二次発泡装置 15 遮蔽体 16 穴
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C08L 21:00

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放射線照射による半架橋反応後に、発泡
    処理されたことを特徴とする発泡ゴムシート。
  2. 【請求項2】 上下面の一方への放射線照射による、半
    架橋反応後に、発泡処理されることで、 放射線の照射部分の発泡倍率が、上下面の他方に向かう
    に従って、大となるようにされたことを特徴とする発泡
    ゴムシート。
  3. 【請求項3】 上下面の少なくとも一方への放射線照射
    による、半架橋反応後に、発泡処理されることで、 上下面の少なくとも一方が凹凸面とされたことを特徴と
    する発泡ゴムシート。
  4. 【請求項4】 ゴムシートの上下面の少なくとも一方
    に、放射線を照射することで、 ゴムシートの照射部分を半架橋反応させた後、 ゴムシートを発泡処理することを特徴とする発泡ゴムシ
    ートの製造方法。
  5. 【請求項5】 放射線を、その照射量を制御する遮蔽体
    を介して、ゴムシートに照射することで、 ゴムシートの照射部分の半架橋反応を制御する請求項4
    記載の発泡ゴムシートの製造方法。
  6. 【請求項6】 遮蔽体を金属製として、 遮蔽体に、放射線が通過する穴を形成した請求項5記載
    の発泡ゴムシートの製造方法。
  7. 【請求項7】 遮蔽体を高分子材料から形成して、 遮蔽体に、放射線が通過する穴を形成すると共に、 遮蔽体を、ゴムシートの上下面の少なくとも一方にラミ
    ネートした請求項5記載の発泡ゴムシートの製造方法。
  8. 【請求項8】 遮蔽体を高分子材料から形成して、 遮蔽体を、ゴムシートの上下面の少なくとも一方にラミ
    ネートし、 遮蔽体の厚さを調整することで、 放射線の照射量を制御する請求項5記載の発泡ゴムシー
    トの製造方法。
  9. 【請求項9】 ゴムシートに発泡剤を含有させ、 ゴムシートを加熱することで、 ゴムシートを発泡させる請求項4〜8の何れかに記載の
    発泡ゴムシートの製造方法。
  10. 【請求項10】 ゴムシートに架橋剤を含有させ、 ゴムシートの発泡時、又は、発泡後に、ゴムシートを、
    架橋剤により、架橋反応させる請求項4〜9の何れかに
    記載の発泡ゴムシートの製造方法。
  11. 【請求項11】 ゴムシートに発泡剤と架橋剤を含有さ
    せ、 放射線のゴムシートへの照射後に、ゴムシートを、発泡
    剤の分解温度以上で且つ架橋剤による架橋反応温度以下
    の温度に、加熱することで、 ゴムシートを一次発泡させ、 この一次発泡したゴムシートを、上記架橋反応温度以上
    の温度に、加熱することで、 ゴムシートを二次発泡させると共に、ゴムシートを、架
    橋剤により、架橋反応させる請求項4〜8の何れかに記
    載の発泡ゴムシートの製造方法。
  12. 【請求項12】 放射線を、電子線等の粒子線、又は、
    γ線等の電磁波とした請求項4〜11の何れかに記載の
    発泡ゴムシートの製造方法。
  13. 【請求項13】 請求項4〜12の何れかに記載の発泡
    ゴムシートの製造方法により製造された発泡ゴムシー
    ト。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010031137A (ja) * 2008-07-29 2010-02-12 Sekisui Chem Co Ltd 独立気泡発泡シート

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010031137A (ja) * 2008-07-29 2010-02-12 Sekisui Chem Co Ltd 独立気泡発泡シート

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