JPH10279702A - セルロースエステルフィルムおよびセルロースエステルフィルムの製造方法 - Google Patents
セルロースエステルフィルムおよびセルロースエステルフィルムの製造方法Info
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- JPH10279702A JPH10279702A JP8801397A JP8801397A JPH10279702A JP H10279702 A JPH10279702 A JP H10279702A JP 8801397 A JP8801397 A JP 8801397A JP 8801397 A JP8801397 A JP 8801397A JP H10279702 A JPH10279702 A JP H10279702A
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- cellulose ester
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 セルロースエステルの環状ジエーテル溶液か
ら、感光材料をかぶらせることなく、耐光性も良好なセ
ルロースエステルフィルムを造るための製造方法および
それを用いたセルロースエステルフィルムを提供する。 【解決手段】 セルロースエステル溶液から溶液流延法
によりセルロースエステルフィルムの製造方法におい
て、該セルロースエステル溶液が、セルロースエステ
ル、一般式（Ｉ）、（II）又は（III）および環状ジエ
ーテル化合物を含有する溶液であることを特徴とするセ
ルロースエステルフィルムとその製造方法。 例 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール
ら、感光材料をかぶらせることなく、耐光性も良好なセ
ルロースエステルフィルムを造るための製造方法および
それを用いたセルロースエステルフィルムを提供する。 【解決手段】 セルロースエステル溶液から溶液流延法
によりセルロースエステルフィルムの製造方法におい
て、該セルロースエステル溶液が、セルロースエステ
ル、一般式（Ｉ）、（II）又は（III）および環状ジエ
ーテル化合物を含有する溶液であることを特徴とするセ
ルロースエステルフィルムとその製造方法。 例 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、写真材料や光学材
料に有用なセルロースエステルフィルムの製造方法およ
びそれを用いたセルロースエステルフィルムに関する。
料に有用なセルロースエステルフィルムの製造方法およ
びそれを用いたセルロースエステルフィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、セルロースアセテートフィルム
は、その透明性と光学的等方性から、写真材料や光学材
料に有用であり、特に写真感光材料用の支持体や液晶表
示装置における偏光板の保護フィルム、カラーフィルタ
ーなどが代表的である。
は、その透明性と光学的等方性から、写真材料や光学材
料に有用であり、特に写真感光材料用の支持体や液晶表
示装置における偏光板の保護フィルム、カラーフィルタ
ーなどが代表的である。
【０００３】セルロースアセテートフィルムは、普通、
溶液流延法により製造されており、溶媒としては、実質
的に塩化メチレンに限られていた。ところが、近年、塩
化メチレンのようなハロゲン化炭化水素は、環境保護の
観点から、その使用が制限される方向にあり、塩化メチ
レンに代わる溶媒についての提案がされている。
溶液流延法により製造されており、溶媒としては、実質
的に塩化メチレンに限られていた。ところが、近年、塩
化メチレンのようなハロゲン化炭化水素は、環境保護の
観点から、その使用が制限される方向にあり、塩化メチ
レンに代わる溶媒についての提案がされている。
【０００４】特開平７−２７８３２４号公報には、セル
ロースアシレートを１，３ジオキソランに溶解させるセ
ルロースアシレートフィルムの製造方法が提案されてい
る。また、特開平８−１４３７０８号公報には、セルロ
ースエステルを環状ジエーテルに溶解させたセルロース
エステル溶液および成型品の製造方法が提案されてい
る。
ロースアシレートを１，３ジオキソランに溶解させるセ
ルロースアシレートフィルムの製造方法が提案されてい
る。また、特開平８−１４３７０８号公報には、セルロ
ースエステルを環状ジエーテルに溶解させたセルロース
エステル溶液および成型品の製造方法が提案されてい
る。
【０００５】ところが、上記のセルロースアシレートフ
ィルムやセルロースエステルフィルムを写真用支持体と
して用いると感光材料をかぶらせることが判明した。す
なわち、写真感光材料をパトローネ中に巻き込んだ状態
で例えば６０℃、６０％ＲＨで１週間保存したところ未
露光のはずの感光材料に発色が認められた。これは写真
用としては致命的な問題であり改良が必要であった。ま
た、上記のセルロースアシレートフィルムやセルロース
エステルフィルムは、耐光性にも劣ることが判明した。
すなわち、フィルムをキセノンランプに１，０００時間
曝したところフィルムに黄色着色が認められた。偏光板
用では、屋外で使用される機会が増加したこともあり、
その耐光性が益々重要な特性となっており、改良が望ま
れている。
ィルムやセルロースエステルフィルムを写真用支持体と
して用いると感光材料をかぶらせることが判明した。す
なわち、写真感光材料をパトローネ中に巻き込んだ状態
で例えば６０℃、６０％ＲＨで１週間保存したところ未
露光のはずの感光材料に発色が認められた。これは写真
用としては致命的な問題であり改良が必要であった。ま
た、上記のセルロースアシレートフィルムやセルロース
エステルフィルムは、耐光性にも劣ることが判明した。
すなわち、フィルムをキセノンランプに１，０００時間
曝したところフィルムに黄色着色が認められた。偏光板
用では、屋外で使用される機会が増加したこともあり、
その耐光性が益々重要な特性となっており、改良が望ま
れている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】セルロースエステルの
環状ジエーテル溶液から、感光材料をかぶらせることな
く、耐光性も良好なセルロースエステルフィルムを造る
ための製造方法およびそれを用いたセルロースエステル
フィルムを提供することである。
環状ジエーテル溶液から、感光材料をかぶらせることな
く、耐光性も良好なセルロースエステルフィルムを造る
ための製造方法およびそれを用いたセルロースエステル
フィルムを提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記構
成の何れかを採ることにより達成される。
成の何れかを採ることにより達成される。
【０００８】（１） セルロースエステル溶液から溶液
流延法によりセルロースエステルフィルムを製造する方
法において、該セルロースエステル溶液が、セルロース
エステル、酸化防止剤および環状ジエーテル化合物を含
有する溶液であることを特徴とするセルロースエステル
フィルムの製造方法。
流延法によりセルロースエステルフィルムを製造する方
法において、該セルロースエステル溶液が、セルロース
エステル、酸化防止剤および環状ジエーテル化合物を含
有する溶液であることを特徴とするセルロースエステル
フィルムの製造方法。
【０００９】（２） セルロースエステル溶液から溶液
流延法によりセルロースエステルフィルムを製造する方
法において、該セルロースエステル溶液が、セルロース
エステル、酸化防止剤として下記一般式（Ｉ）から選ば
れる少なくとも１つの化合物Ａおよび環状ジエーテル化
合物を含有する溶液であることを特徴とする（１）記載
のセルロースエステルフィルムの製造方法。
流延法によりセルロースエステルフィルムを製造する方
法において、該セルロースエステル溶液が、セルロース
エステル、酸化防止剤として下記一般式（Ｉ）から選ば
れる少なくとも１つの化合物Ａおよび環状ジエーテル化
合物を含有する溶液であることを特徴とする（１）記載
のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１０】
【化３】
【００１１】（式中、Ｒ1はアルキル基を表し、Ｒ2、Ｒ
3およびＸは、それぞれ水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アル
ケノキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アル
ケニルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オキシ基、ヒ
ドロキシ基、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイ
ル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシル
基、アシルオキシ基を表す。ｍは０〜２の整数を表す。
Ｒ2、Ｒ3およびＸは互いに同一でもよいし異なっていて
もよい。） （３） フィルムを製造する方法において、該セルロー
スエステル溶液が、セルロースエステル、下記一般式
（II）または（III）から選ばれる少なくとも１つの化
合物Ｂおよび環状ジエーテル化合物を含有する溶液であ
ることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造
方法。
3およびＸは、それぞれ水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アル
ケノキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アル
ケニルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オキシ基、ヒ
ドロキシ基、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイ
ル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシル
基、アシルオキシ基を表す。ｍは０〜２の整数を表す。
Ｒ2、Ｒ3およびＸは互いに同一でもよいし異なっていて
もよい。） （３） フィルムを製造する方法において、該セルロー
スエステル溶液が、セルロースエステル、下記一般式
（II）または（III）から選ばれる少なくとも１つの化
合物Ｂおよび環状ジエーテル化合物を含有する溶液であ
ることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造
方法。
【００１２】
【化４】
【００１３】（式中、Ｘは酸素原子又はＮＲ23を表す。
Ｒ1〜Ｒ8、Ｒ12〜Ｒ23は、それぞれ水素原子、水酸基、
脂肪族基、芳香族基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、ＣＯＲ9、ＣＯＯＲ9、ＮＲ9Ｒ10、ＮＲ
10ＣＯＲ11、ＮＲ10ＳＯ2Ｒ11、ＣＯＮＲ9Ｒ10、ＳＯ2
ＮＲ9Ｒ10、ＣＯＲ11、ＳＯ2Ｒ11、ＯＣＯＲ11、Ｎ（Ｒ
9）ＣＯＮＲ10Ｒ11、ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ11又はＳＯ2ＮＨ
ＣＯＲ11を表し、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ水素原子、脂肪
族基、芳香族基、複素環基を表し、Ｒ11は脂肪族基、芳
香族基又は複素環基を表す。） （４） 前記セルロースエステル溶液が、前記化合物Ｂ
を含有することを特徴とする（１）又は（２）に記載の
セルロースエステルフィルムの製造方法。
Ｒ1〜Ｒ8、Ｒ12〜Ｒ23は、それぞれ水素原子、水酸基、
脂肪族基、芳香族基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、ＣＯＲ9、ＣＯＯＲ9、ＮＲ9Ｒ10、ＮＲ
10ＣＯＲ11、ＮＲ10ＳＯ2Ｒ11、ＣＯＮＲ9Ｒ10、ＳＯ2
ＮＲ9Ｒ10、ＣＯＲ11、ＳＯ2Ｒ11、ＯＣＯＲ11、Ｎ（Ｒ
9）ＣＯＮＲ10Ｒ11、ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ11又はＳＯ2ＮＨ
ＣＯＲ11を表し、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ水素原子、脂肪
族基、芳香族基、複素環基を表し、Ｒ11は脂肪族基、芳
香族基又は複素環基を表す。） （４） 前記セルロースエステル溶液が、前記化合物Ｂ
を含有することを特徴とする（１）又は（２）に記載の
セルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１４】（５） 前記化合物Ａが、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾールであることを特徴とする
（２）、（３）又は（４）に記載のセルロースエステル
フィルムの製造方法。
−ブチル−ｐ−クレゾールであることを特徴とする
（２）、（３）又は（４）に記載のセルロースエステル
フィルムの製造方法。
【００１５】（６） 前記環状ジエーテル化合物が、
１，３−ジオキソランであることを特徴とする（１）〜
（５）のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィ
ルムの製造方法。
１，３−ジオキソランであることを特徴とする（１）〜
（５）のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィ
ルムの製造方法。
【００１６】（７） 前記セルロースエステルが酢化度
５７．０％以上６２．０％以下のセルローストリアセテ
ートであることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか
１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
５７．０％以上６２．０％以下のセルローストリアセテ
ートであることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか
１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１７】（８） 前記セルロースエステル溶液が、
貧溶媒を全溶媒に対して５重量％以上５０重量％以下含
有していることを特徴とする（１）〜（７）のいずれか
１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
貧溶媒を全溶媒に対して５重量％以上５０重量％以下含
有していることを特徴とする（１）〜（７）のいずれか
１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１８】（９） 前記セルロースエステル溶液が、
可塑剤をセルロースエステルに対して５重量％以上３０
重量％以下含有していることを特徴とする（１）〜
（８）のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィ
ルムの製造方法。
可塑剤をセルロースエステルに対して５重量％以上３０
重量％以下含有していることを特徴とする（１）〜
（８）のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィ
ルムの製造方法。
【００１９】（１０） （１）〜（９）のいずれかに記
載の製造方法により製造されたことを特徴とするセルロ
ースエステルフィルム。
載の製造方法により製造されたことを特徴とするセルロ
ースエステルフィルム。
【００２０】（１１） 前記セルロースエステルフィル
ム中の残留溶媒量が全フィルム重量の２重量％以下であ
ることを特徴とする（１０）に記載のセルロースエステ
ルフィルム。
ム中の残留溶媒量が全フィルム重量の２重量％以下であ
ることを特徴とする（１０）に記載のセルロースエステ
ルフィルム。
【００２１】（１２） 前記セルロースエステルフィル
ム中の残留溶媒量が全フィルム重量の０．４重量％以下
であることを特徴とする（１１）に記載のセルロースエ
ステルフィルム。
ム中の残留溶媒量が全フィルム重量の０．４重量％以下
であることを特徴とする（１１）に記載のセルロースエ
ステルフィルム。
【００２２】（１３） 前記セルロースエステルフィル
ム中の残留溶媒量が全フィルム重量の０．１重量％以下
であることを特徴とする（１２）に記載のセルロースエ
ステルフィルム。
ム中の残留溶媒量が全フィルム重量の０．１重量％以下
であることを特徴とする（１２）に記載のセルロースエ
ステルフィルム。
【００２３】以下さらに詳細に説明する。
【００２４】本発明は、環状ジエーテル化合物を含むセ
ルロースエステル溶液の調製の際に、特定の化合物を共
存させておくことにより感光材料のカブリおよび耐光性
の改良ができることを見い出したものである。
ルロースエステル溶液の調製の際に、特定の化合物を共
存させておくことにより感光材料のカブリおよび耐光性
の改良ができることを見い出したものである。
【００２５】本発明に用いるセルロースエステルは、例
えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネー
ト、セルロースブチレートなどの脂肪族カルボン酸エス
テル、フタル酸ハーフエステルなどの芳香族カルボン酸
エステル、硝酸セルロース、硫酸セルロース、リン酸セ
ルロースなどの無機酸エステル、セルロースアセテート
プロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートフタレート、硝酸酢酸セルロースな
どの混酸エステル、およびポリカプロラクトングラフト
化セルロースアセテートなどのセルロースエステル誘導
体などが挙げられる。中でも脂肪族カルボン酸エステル
や他と共重合タイプの脂肪族カルボン酸エステルが好適
に用いることができ、特に酢化度５０．０％以上６２．
０％以下のセルロースアセテート、さらに酢化度５７．
０％以上６２．０％以下のセルローストリアセテートを
用いることにより、機械的強度、寸法安定性および耐湿
熱安定性の良好なフィルムを得ることができるので好ま
しい。
えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネー
ト、セルロースブチレートなどの脂肪族カルボン酸エス
テル、フタル酸ハーフエステルなどの芳香族カルボン酸
エステル、硝酸セルロース、硫酸セルロース、リン酸セ
ルロースなどの無機酸エステル、セルロースアセテート
プロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートフタレート、硝酸酢酸セルロースな
どの混酸エステル、およびポリカプロラクトングラフト
化セルロースアセテートなどのセルロースエステル誘導
体などが挙げられる。中でも脂肪族カルボン酸エステル
や他と共重合タイプの脂肪族カルボン酸エステルが好適
に用いることができ、特に酢化度５０．０％以上６２．
０％以下のセルロースアセテート、さらに酢化度５７．
０％以上６２．０％以下のセルローストリアセテートを
用いることにより、機械的強度、寸法安定性および耐湿
熱安定性の良好なフィルムを得ることができるので好ま
しい。
【００２６】これらのセルロースエステルは、重量平均
重合度が２００以上８００以下、特に重量平均重合度が
２５０以上４００以下であることが、機械的強度、寸法
安定性の良好なフィルムを得ることができるので好まし
い。
重合度が２００以上８００以下、特に重量平均重合度が
２５０以上４００以下であることが、機械的強度、寸法
安定性の良好なフィルムを得ることができるので好まし
い。
【００２７】セルロースエステルの合成方法は従来公知
の方法で合成できる。例えばセルロースエステルがセル
ロースアシレートの場合、セルロースをアセチル基や他
のアシル基に対応する有機酸またはそれらの酸無水物を
含む有機酸化合物でエステル化し合成する。
の方法で合成できる。例えばセルロースエステルがセル
ロースアシレートの場合、セルロースをアセチル基や他
のアシル基に対応する有機酸またはそれらの酸無水物を
含む有機酸化合物でエステル化し合成する。
【００２８】セルロースとしては、綿花リンターや木材
パルプどちらでも良く、これらから合成されたセルロー
スエステルを単独で使用してもよいし、混合して使用し
てもよい。綿花リンターから合成されたセルロースエス
テルをセルロースエステルに対し４０重量％以上、特に
６０重量％以上、更に単独で使用することが、着色の少
なく、表面欠点のない面品質に優れたフィルムを得るこ
とができるので好ましい。
パルプどちらでも良く、これらから合成されたセルロー
スエステルを単独で使用してもよいし、混合して使用し
てもよい。綿花リンターから合成されたセルロースエス
テルをセルロースエステルに対し４０重量％以上、特に
６０重量％以上、更に単独で使用することが、着色の少
なく、表面欠点のない面品質に優れたフィルムを得るこ
とができるので好ましい。
【００２９】本発明に用いる化合物Ａは、下記一般式
（Ｉ）で表される化合物から少なくとも１種が選ばれ
る。
（Ｉ）で表される化合物から少なくとも１種が選ばれ
る。
【００３０】
【化５】
【００３１】一般式（Ｉ）中、Ｒ1はアルキル基を表
し、Ｒ2、Ｒ3およびＸは、それぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキ
シ基、アルケノキシ基、アリールオキシ基、アルキルチ
オ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オ
キシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルバモイル基、ス
ルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、アシル基、アシルオキシ基を表す。ｍは０〜２の整
数を表す。Ｒ2、Ｒ3およびＸは互いに同一でもよいし異
なっていてもよい。
し、Ｒ2、Ｒ3およびＸは、それぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキ
シ基、アルケノキシ基、アリールオキシ基、アルキルチ
オ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オ
キシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルバモイル基、ス
ルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、アシル基、アシルオキシ基を表す。ｍは０〜２の整
数を表す。Ｒ2、Ｒ3およびＸは互いに同一でもよいし異
なっていてもよい。
【００３２】上記アルキル基は、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、シクロヘキ
シル、ｔ−ヘキシル、ｔ−オクチル、ドデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、ベンジルなどの直鎖、分岐、ま
たは環状のアルキル基を表す。
ル、プロピル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、シクロヘキ
シル、ｔ−ヘキシル、ｔ−オクチル、ドデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、ベンジルなどの直鎖、分岐、ま
たは環状のアルキル基を表す。
【００３３】上記アルケニル基は、例えば、ビニル、ア
リル、２−ペンテニル、シクロヘキセニル、ヘキセニ
ル、ドデセニル、オクタデセニルなどの直鎖、分岐、ま
たは環状のアルケニル基を表す。
リル、２−ペンテニル、シクロヘキセニル、ヘキセニ
ル、ドデセニル、オクタデセニルなどの直鎖、分岐、ま
たは環状のアルケニル基を表す。
【００３４】上記アリール基は、例えば、フェニル、ナ
フチル、アントラニルなどのベンゼン単環や縮合多環の
アリール基を表す。
フチル、アントラニルなどのベンゼン単環や縮合多環の
アリール基を表す。
【００３５】上記ヘテロ環基は、例えば、フリル、ピロ
リル、イミダゾリル、ピリジル、プリニル、クロマニ
ル、ピロリジル、モルホリニルなどの窒素原子、硫黄原
子、酸素原子の少なくとも一つを含む５〜７員環からな
る基を表す。
リル、イミダゾリル、ピリジル、プリニル、クロマニ
ル、ピロリジル、モルホリニルなどの窒素原子、硫黄原
子、酸素原子の少なくとも一つを含む５〜７員環からな
る基を表す。
【００３６】中でもヒンダードフェノール系の化合物が
好ましく、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチ
オ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル
アニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−
ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシ
ンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−
トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなど挙げ
られる。
好ましく、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチ
オ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル
アニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−
ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシ
ンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−
トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなど挙げ
られる。
【００３７】特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−
ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート〕が最も好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ’
−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジ
ン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用
してもよい。
ール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−
ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート〕が最も好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ’
−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジ
ン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用
してもよい。
【００３８】化合物Ａの添加量は、環状ジエーテル化合
物に対して５ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０ｐｐｍ
〜１０００ｐｐｍがさらに好ましい。これらの化合物
は、あらかじめ環状ジエーテル化合物と混合しておいて
もよいし、セルロースエステル溶液の調製の際に、セル
ロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調
製中や調製後に添加してもよい。
物に対して５ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０ｐｐｍ
〜１０００ｐｐｍがさらに好ましい。これらの化合物
は、あらかじめ環状ジエーテル化合物と混合しておいて
もよいし、セルロースエステル溶液の調製の際に、セル
ロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調
製中や調製後に添加してもよい。
【００３９】本発明に用いる環状ジエーテル化合物は、
４から７員環を有する環状ジエーテル化合物であり、例
えば、１，３−ジオキソラン、２−メチル−１，３−ジ
オキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、２−
エチル−１，３−ジオキソラン、４−エチル−１，３−
ジオキソラン、２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラ
ンなどの５員環化合物、１，４−ジオキサン、１，３−
ジオキサンなどの６員環化合物などである。これらの環
状ジエーテル化合物は単独で用いてもよいし、２種以上
を混合して用いてもよい。中でも５員環化合物、特に
１，３−ジオキソランがセルロースエステルの溶解性に
優れており、その沸点が比較的低いことによる製膜時の
乾燥負荷が少ないことから最も好ましい。
４から７員環を有する環状ジエーテル化合物であり、例
えば、１，３−ジオキソラン、２−メチル−１，３−ジ
オキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、２−
エチル−１，３−ジオキソラン、４−エチル−１，３−
ジオキソラン、２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラ
ンなどの５員環化合物、１，４−ジオキサン、１，３−
ジオキサンなどの６員環化合物などである。これらの環
状ジエーテル化合物は単独で用いてもよいし、２種以上
を混合して用いてもよい。中でも５員環化合物、特に
１，３−ジオキソランがセルロースエステルの溶解性に
優れており、その沸点が比較的低いことによる製膜時の
乾燥負荷が少ないことから最も好ましい。
【００４０】本発明ではセルロースエステルの溶媒は、
上記環状ジエーテル化合物だけで構成されていても良好
な溶解性が得られるのであるが、必要で有れば、さらに
その他の良溶媒（セルロースエステルを単独で溶解可能
な溶媒）と併用してもよい。この場合、環状ジエーテル
化合物の含有量としては、１重量％以上、さらに２０重
量％以上、特に６０重量％以上であることが好ましい。
その他の良溶媒としては塩化メチレンが挙げられる。
上記環状ジエーテル化合物だけで構成されていても良好
な溶解性が得られるのであるが、必要で有れば、さらに
その他の良溶媒（セルロースエステルを単独で溶解可能
な溶媒）と併用してもよい。この場合、環状ジエーテル
化合物の含有量としては、１重量％以上、さらに２０重
量％以上、特に６０重量％以上であることが好ましい。
その他の良溶媒としては塩化メチレンが挙げられる。
【００４１】本発明では、良溶媒と貧溶媒（セルロース
エステルを単独では溶解せず、膨潤させるが溶解しない
溶媒）を併用することも好ましい方法である。つまり、
あらかじめ貧溶媒によりセルロースエステルを湿潤状態
または膨潤状態になるまで処理することで、良溶媒への
溶解性を向上させることができる。
エステルを単独では溶解せず、膨潤させるが溶解しない
溶媒）を併用することも好ましい方法である。つまり、
あらかじめ貧溶媒によりセルロースエステルを湿潤状態
または膨潤状態になるまで処理することで、良溶媒への
溶解性を向上させることができる。
【００４２】さらに良溶媒と貧溶媒を併用したセルロー
スエステルの溶液を流延キャスティングした膜は、残溶
剤を多く含んだ状態でも膜の強度が強く、支持体のベル
トやドラム上からはぎ取るのが容易となるのである。貧
溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノー
ル、ｔ−ブタノール、シクロヘキサノールなどの炭素数
が１から６の低級アルコール、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸プロピル、モ
ノクロルベンゼン、ベンゼン、シクロヘキサン、テトラ
ヒドロフラン、メチルセルソルブ、エチレングリコー
ル、モノメチルエーテル、アセトン、トルエンなどを挙
げることができる。中でもメタノール、エタノール、ｎ
−ブタノール、シクロヘキサンが好ましい。良溶媒と貧
溶媒を併用する場合、貧溶媒の割合は全溶媒に対して５
重量％以上、５０重量％以下が好ましい。
スエステルの溶液を流延キャスティングした膜は、残溶
剤を多く含んだ状態でも膜の強度が強く、支持体のベル
トやドラム上からはぎ取るのが容易となるのである。貧
溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノー
ル、ｔ−ブタノール、シクロヘキサノールなどの炭素数
が１から６の低級アルコール、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸プロピル、モ
ノクロルベンゼン、ベンゼン、シクロヘキサン、テトラ
ヒドロフラン、メチルセルソルブ、エチレングリコー
ル、モノメチルエーテル、アセトン、トルエンなどを挙
げることができる。中でもメタノール、エタノール、ｎ
−ブタノール、シクロヘキサンが好ましい。良溶媒と貧
溶媒を併用する場合、貧溶媒の割合は全溶媒に対して５
重量％以上、５０重量％以下が好ましい。
【００４３】本発明で用いるセルロースエステル溶液に
は、下記一般式（II）または（III）で表される着色剤
の中から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ま
しい。
は、下記一般式（II）または（III）で表される着色剤
の中から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ま
しい。
【００４４】
【化６】
【００４５】一般式（II）または（III）中、Ｘは酸素
原子又はＮＲ23を表す。Ｒ1〜Ｒ8、Ｒ12〜Ｒ23は、それ
ぞれ水素原子、水酸基、脂肪族基、芳香族基、複素環
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ＣＯＲ9、Ｃ
ＯＯＲ9、ＮＲ9Ｒ10、ＮＲ10ＣＯＲ11、ＮＲ10ＳＯ2Ｒ
11、ＣＯＮＲ9Ｒ10、ＳＯ2ＮＲ9Ｒ10、ＣＯＲ11、ＳＯ2
Ｒ11、ＯＣＯＲ11、Ｎ（Ｒ9）ＣＯＮＲ10Ｒ11、ＣＯＮ
ＨＳＯ2Ｒ11又はＳＯ2ＮＨＣＯＲ11を表し、Ｒ9、Ｒ10
はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基を
表し、Ｒ11は脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表す。
原子又はＮＲ23を表す。Ｒ1〜Ｒ8、Ｒ12〜Ｒ23は、それ
ぞれ水素原子、水酸基、脂肪族基、芳香族基、複素環
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ＣＯＲ9、Ｃ
ＯＯＲ9、ＮＲ9Ｒ10、ＮＲ10ＣＯＲ11、ＮＲ10ＳＯ2Ｒ
11、ＣＯＮＲ9Ｒ10、ＳＯ2ＮＲ9Ｒ10、ＣＯＲ11、ＳＯ2
Ｒ11、ＯＣＯＲ11、Ｎ（Ｒ9）ＣＯＮＲ10Ｒ11、ＣＯＮ
ＨＳＯ2Ｒ11又はＳＯ2ＮＨＣＯＲ11を表し、Ｒ9、Ｒ10
はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基を
表し、Ｒ11は脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表す。
【００４６】Ｒ1〜Ｒ26で表される脂肪族基は、炭素数
１〜２０のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−
ブチル、イソプロピル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシ
ル、ｎ−オクタデシル）、炭素数１〜２０のシクロアル
キル基（例えば、シクロベンジル、シクロヘキシル）ま
たはアリル基を表し、これらはさらに置換基（例えば、
ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボン
酸基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数０〜２０の
アミノ基、炭素数１〜２０のアミド基、炭素数１〜２０
のカルバモイル基、炭素数２〜２０のエステル基、炭素
数１〜２０のアルコキシ基またはアリーロキシ基、炭素
数１〜２０のスルホンアミド基、炭素数０〜２０のスル
ファモイル基、５または６員の複素環を有していてもよ
い。Ｒ1〜Ｒ26で表される芳香族基は炭素数６〜１０の
フェニル、ナフチルなどのアリール基を表し、前記に挙
げた置換基および炭素数１〜２０のメチル、エチル、ｎ
−ブチル、ｔ−ブチル、オクチルなどのアルキル基から
なる置換基を有していてもよい。Ｒ1〜Ｒ11で表される
複素環基は、５または６員の複素環を表し、前記の置換
基を有していてもよい。以下に一般式（II）および（II
I）で表される化合物の好ましい例を示すが、これに限
定されない。
１〜２０のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−
ブチル、イソプロピル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシ
ル、ｎ−オクタデシル）、炭素数１〜２０のシクロアル
キル基（例えば、シクロベンジル、シクロヘキシル）ま
たはアリル基を表し、これらはさらに置換基（例えば、
ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボン
酸基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数０〜２０の
アミノ基、炭素数１〜２０のアミド基、炭素数１〜２０
のカルバモイル基、炭素数２〜２０のエステル基、炭素
数１〜２０のアルコキシ基またはアリーロキシ基、炭素
数１〜２０のスルホンアミド基、炭素数０〜２０のスル
ファモイル基、５または６員の複素環を有していてもよ
い。Ｒ1〜Ｒ26で表される芳香族基は炭素数６〜１０の
フェニル、ナフチルなどのアリール基を表し、前記に挙
げた置換基および炭素数１〜２０のメチル、エチル、ｎ
−ブチル、ｔ−ブチル、オクチルなどのアルキル基から
なる置換基を有していてもよい。Ｒ1〜Ｒ11で表される
複素環基は、５または６員の複素環を表し、前記の置換
基を有していてもよい。以下に一般式（II）および（II
I）で表される化合物の好ましい例を示すが、これに限
定されない。
【００４７】
【化７】
【００４８】
【化８】
【００４９】
【化９】
【００５０】
【化１０】
【００５１】
【化１１】
【００５２】
【化１２】
【００５３】着色剤の含有量は、セルロースエステルに
対して１０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下が好ましく、
５０ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。こ
の様に着色剤を含有させることにより、セルロースエス
テルフィルムの耐光性を高度に改良することができる。
これらの化合物は、セルロースエステル溶液の調製の際
に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよい
し、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
対して１０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下が好ましく、
５０ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。こ
の様に着色剤を含有させることにより、セルロースエス
テルフィルムの耐光性を高度に改良することができる。
これらの化合物は、セルロースエステル溶液の調製の際
に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよい
し、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
【００５４】本発明で用いるセルロースエステル溶液に
は、セルロースエステルフィルムの機械的強度を向上す
るために可塑剤を添加することが好ましい。可塑剤とし
ては、リン酸エステル、カルボン酸エステル、グリコー
ル酸エステルなどが好ましく用いられる。
は、セルロースエステルフィルムの機械的強度を向上す
るために可塑剤を添加することが好ましい。可塑剤とし
ては、リン酸エステル、カルボン酸エステル、グリコー
ル酸エステルなどが好ましく用いられる。
【００５５】リン酸エステルの例としては、トリフェニ
ルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジル
ジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェ
ート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチ
ルホスフェート、トリブチルホスフェートなどがあり、
カルボン酸エステルの例としては、ジメチルフタレー
ト、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオク
チルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、クエン
酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、
オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバ
シン酸ジブチル、トリメリット酸エステルなどがあり、
グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、ト
リブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチ
ルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチル
グリコレートなどがある。
ルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジル
ジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェ
ート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチ
ルホスフェート、トリブチルホスフェートなどがあり、
カルボン酸エステルの例としては、ジメチルフタレー
ト、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオク
チルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、クエン
酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、
オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバ
シン酸ジブチル、トリメリット酸エステルなどがあり、
グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、ト
リブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチ
ルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチル
グリコレートなどがある。
【００５６】中でもトリフェニルホスフェート、トリク
レジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェー
ト、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート、ジ
エチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフ
タレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチ
ン、エチルフタリルエチルグリコレートが好ましい。特
にトリフェニルホスフェート、ジエチルフタレート、エ
チルフタリルエチルグリコレートが好ましい。
レジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェー
ト、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート、ジ
エチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフ
タレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチ
ン、エチルフタリルエチルグリコレートが好ましい。特
にトリフェニルホスフェート、ジエチルフタレート、エ
チルフタリルエチルグリコレートが好ましい。
【００５７】これらの可塑剤は１種でもよいし２種以上
併用してもよい。可塑剤の添加量はセルロースエステル
に対して５重量％以上３０重量％以下、特に８重量％以
上１６重量％以下が好ましい。可塑剤の添加量がこの範
囲であるとブリードアウトが発生することもなく、機械
的強度が改良される。これらの化合物は、セルロースエ
ステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と
共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加して
もよい。
併用してもよい。可塑剤の添加量はセルロースエステル
に対して５重量％以上３０重量％以下、特に８重量％以
上１６重量％以下が好ましい。可塑剤の添加量がこの範
囲であるとブリードアウトが発生することもなく、機械
的強度が改良される。これらの化合物は、セルロースエ
ステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と
共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加して
もよい。
【００５８】本発明で用いられるセルロースエステル溶
液は、通常の方法により調整してよく、セルロースエス
テルおよび溶媒を容器に入れ、常温で、あるいは溶媒が
沸騰しない温度条件下で撹拌混合することにより得られ
る。撹拌混合は、容器内部の液膜残りのないような装
置、方式であることが好ましい。また容器内には窒素ガ
スなどの不活性ガスで充満させて分解を抑制してもよ
い。必要により、加圧容器などを用いて加圧条件下で撹
拌混合してもよい。溶液中のセルロースエステルの濃度
は５重量％以上５０重量％以下、特に１０重量％以上４
０重量％以下が好ましい。
液は、通常の方法により調整してよく、セルロースエス
テルおよび溶媒を容器に入れ、常温で、あるいは溶媒が
沸騰しない温度条件下で撹拌混合することにより得られ
る。撹拌混合は、容器内部の液膜残りのないような装
置、方式であることが好ましい。また容器内には窒素ガ
スなどの不活性ガスで充満させて分解を抑制してもよ
い。必要により、加圧容器などを用いて加圧条件下で撹
拌混合してもよい。溶液中のセルロースエステルの濃度
は５重量％以上５０重量％以下、特に１０重量％以上４
０重量％以下が好ましい。
【００５９】セルロースエステル溶液の粘度は、製膜の
際、流延可能な範囲であればよく、通常５００ｃｐｓか
ら２０００００ｃｐｓの範囲に調整される。セルロース
エステル溶液には、必要に応じてさらに種々の添加剤を
溶液の調製前から調製後のいずれの段階で添加してもよ
い。
際、流延可能な範囲であればよく、通常５００ｃｐｓか
ら２０００００ｃｐｓの範囲に調整される。セルロース
エステル溶液には、必要に応じてさらに種々の添加剤を
溶液の調製前から調製後のいずれの段階で添加してもよ
い。
【００６０】添加剤としては、紫外線吸収剤、カオリ
ン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子、カ
ルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩な
どの熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤などで
ある。溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾
材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過
除去しておくのが好ましい。
ン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子、カ
ルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩な
どの熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤などで
ある。溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾
材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過
除去しておくのが好ましい。
【００６１】セルロースエステルフィルムの製造は、公
知の溶液流延法により好ましく製造できる。例えば、Ｕ
ＳＰ２，４９２，９７８号、同２，７３９，０６９号、
同２，３３６，３１０号、特公昭４５−９０７４号、同
４９−４５５４号の各号公報などを参考にできる。
知の溶液流延法により好ましく製造できる。例えば、Ｕ
ＳＰ２，４９２，９７８号、同２，７３９，０６９号、
同２，３３６，３１０号、特公昭４５−９０７４号、同
４９−４５５４号の各号公報などを参考にできる。
【００６２】一般的な溶液流延方法としては、調製した
セルロースエステル溶液をダイから押し出す方法、ドク
ターブレードによる方法、リバースロールコーターによ
る方法などによりドラム状かベルト状の支持体上に連続
的に流延し、乾燥してからフィルムをはぎ取る方法であ
る。支持体としては特に限定はないが、ガラス、ステン
レスやクロムメッキした金属、ポリエチレンテレフタレ
ートやポリエチレンナフタレートなどのプラスチックな
どの表面を有するものなどがあり、特に鏡面仕上げされ
た金属表面を有するものが好ましい。
セルロースエステル溶液をダイから押し出す方法、ドク
ターブレードによる方法、リバースロールコーターによ
る方法などによりドラム状かベルト状の支持体上に連続
的に流延し、乾燥してからフィルムをはぎ取る方法であ
る。支持体としては特に限定はないが、ガラス、ステン
レスやクロムメッキした金属、ポリエチレンテレフタレ
ートやポリエチレンナフタレートなどのプラスチックな
どの表面を有するものなどがあり、特に鏡面仕上げされ
た金属表面を有するものが好ましい。
【００６３】好ましい溶液流延方法としては、流延温度
としては、１０〜７０℃、乾燥温度は、３０〜２００℃
の範囲で行うのが好ましい。特に乾燥の初期は３０〜１
３０℃の範囲とし、その後逐次的にまたは連続的に昇温
することが、フィルムの平面性を良好とすることができ
好ましい。乾燥されたフィルムは、その残留溶媒がセル
ロースエステルに対して５〜２００重量％、特に１０〜
１００重量％の範囲で支持体からはぎ取ることが好まし
い。はぎ取り時の残留溶媒量が少ないと支持体との密着
力が強すぎてフィルムが変形する場合があるし、残留溶
媒が多すぎると剥離残りが発生する場合がある。乾燥時
間は、フィルムの残留溶媒量が上記の範囲になるように
設定することが好ましく、通常１０秒から１時間の範囲
である。
としては、１０〜７０℃、乾燥温度は、３０〜２００℃
の範囲で行うのが好ましい。特に乾燥の初期は３０〜１
３０℃の範囲とし、その後逐次的にまたは連続的に昇温
することが、フィルムの平面性を良好とすることができ
好ましい。乾燥されたフィルムは、その残留溶媒がセル
ロースエステルに対して５〜２００重量％、特に１０〜
１００重量％の範囲で支持体からはぎ取ることが好まし
い。はぎ取り時の残留溶媒量が少ないと支持体との密着
力が強すぎてフィルムが変形する場合があるし、残留溶
媒が多すぎると剥離残りが発生する場合がある。乾燥時
間は、フィルムの残留溶媒量が上記の範囲になるように
設定することが好ましく、通常１０秒から１時間の範囲
である。
【００６４】支持体からはぎ取られたフィルムは、必要
により後乾燥される。後乾燥工程では、テンター方式や
ロール懸垂方式、または密間に配置したロール中を搬送
させる方式などによりフィルムの幅方向への収縮を抑制
しながら、あるいは必要により幅方向に延伸しながら乾
燥させることが高度な平面性を有するフィルムが得られ
るので好ましい。乾燥温度は８０〜２５０℃、特に１０
０〜１８０℃が好ましい。フィルムの残留溶媒量は２重
量％以下が好ましく、さらに０．４重量％以下が好まし
く、特に０．１重量％以下が好ましい。フィルムの残留
溶媒量をこの範囲にすることで、写真用支持体に用いた
ときの感光材料のカブリを高度に改良できる。後乾燥時
間は、フィルムの残留溶媒量が上記の範囲になるように
設定することが好ましく、通常１分から２時間の範囲で
ある。
により後乾燥される。後乾燥工程では、テンター方式や
ロール懸垂方式、または密間に配置したロール中を搬送
させる方式などによりフィルムの幅方向への収縮を抑制
しながら、あるいは必要により幅方向に延伸しながら乾
燥させることが高度な平面性を有するフィルムが得られ
るので好ましい。乾燥温度は８０〜２５０℃、特に１０
０〜１８０℃が好ましい。フィルムの残留溶媒量は２重
量％以下が好ましく、さらに０．４重量％以下が好まし
く、特に０．１重量％以下が好ましい。フィルムの残留
溶媒量をこの範囲にすることで、写真用支持体に用いた
ときの感光材料のカブリを高度に改良できる。後乾燥時
間は、フィルムの残留溶媒量が上記の範囲になるように
設定することが好ましく、通常１分から２時間の範囲で
ある。
【００６５】これら流延から後乾燥までの工程は、空気
雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下
でもよい。
雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下
でもよい。
【００６６】本発明では、フィルムを支持体からはぎ取
るまでの時間を短縮する公知の方法も好ましく用いるこ
とができる。例えば、特公昭６０−２７５６２号公報に
記載されているような２つ以上の溶液流延口から溶液を
流延する方法では、初期乾燥時間を２分の１以下に短縮
することができる。この公報では溶媒として塩化メチレ
ンを使用しているので、この方法を本発明に適用するに
際しては、乾燥温度については用いる溶媒の沸点等を考
慮して設定する必要がある。この場合でも前述した乾燥
温度が好ましく用いられる。
るまでの時間を短縮する公知の方法も好ましく用いるこ
とができる。例えば、特公昭６０−２７５６２号公報に
記載されているような２つ以上の溶液流延口から溶液を
流延する方法では、初期乾燥時間を２分の１以下に短縮
することができる。この公報では溶媒として塩化メチレ
ンを使用しているので、この方法を本発明に適用するに
際しては、乾燥温度については用いる溶媒の沸点等を考
慮して設定する必要がある。この場合でも前述した乾燥
温度が好ましく用いられる。
【００６７】また、特公平５−１７８４４号公報に記載
されている方法では、溶液を１０℃以下の支持体上に流
延してフィルムをはぎ取ることにより、フィルムの残留
溶媒量が多い状態で支持体からはぎ取り可能となる。こ
の公報では溶媒に塩化メチレンが使用されており、溶媒
を１，３−ジオキソランに変更して、この方法を本発明
に適用したところ、支持体温度は約４０℃以下からその
効果が認められ、さらに２５℃以下で顕著な効果が認め
られた。剥離可能な残留溶媒量は３００重量％以下であ
った。乾燥温度については用いる溶媒の沸点等を考慮し
て設定する必要がある。この場合でも前述した乾燥温度
が好ましく用いることができる。さらに、特開平９−１
５７９２号公報で記載されている方法では、溶液濃度を
３６〜７２重量％の高濃度にし、かつ溶液温度を４０〜
６３℃、支持体温度を−７０〜２１℃とすることにより
フィルムを支持体からはぎ取るまでの時間を８秒以下と
している。ここでも溶媒は塩化メチレンを使用している
のであるが、溶媒を１，３−ジオキソランに変更して、
この方法を本発明に適用したところ、溶液温度７０〜１
００℃の範囲で、支持体温度約５０℃以下からその効果
が認められ、さらに３５℃以下で顕著な効果が認められ
た。
されている方法では、溶液を１０℃以下の支持体上に流
延してフィルムをはぎ取ることにより、フィルムの残留
溶媒量が多い状態で支持体からはぎ取り可能となる。こ
の公報では溶媒に塩化メチレンが使用されており、溶媒
を１，３−ジオキソランに変更して、この方法を本発明
に適用したところ、支持体温度は約４０℃以下からその
効果が認められ、さらに２５℃以下で顕著な効果が認め
られた。剥離可能な残留溶媒量は３００重量％以下であ
った。乾燥温度については用いる溶媒の沸点等を考慮し
て設定する必要がある。この場合でも前述した乾燥温度
が好ましく用いることができる。さらに、特開平９−１
５７９２号公報で記載されている方法では、溶液濃度を
３６〜７２重量％の高濃度にし、かつ溶液温度を４０〜
６３℃、支持体温度を−７０〜２１℃とすることにより
フィルムを支持体からはぎ取るまでの時間を８秒以下と
している。ここでも溶媒は塩化メチレンを使用している
のであるが、溶媒を１，３−ジオキソランに変更して、
この方法を本発明に適用したところ、溶液温度７０〜１
００℃の範囲で、支持体温度約５０℃以下からその効果
が認められ、さらに３５℃以下で顕著な効果が認められ
た。
【００６８】また、ここで挙げた方法以外にも従来知ら
れているセルロースエステル溶液からセルロースエステ
ルフィルムを流延製膜する種々の方法（例えば特開昭６
１−９４７２４号、同６１−１４８０１３号、同６２−
４６６２５号、同６２−４６６２６号、同６２−１１５
０３５号、特開平４−８５０１１号、同４−１５２１２
５号、同４−２８４２１１号、同４−２８６６１１号、
同４−２９８３１０号、同５−１８５４４３号、同５−
１８５４４５号、同６−２７８１４９号、同８−２０７
２１０号等の各公報）についても好ましく用いることが
でき、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設
定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様な
効果が得られる。
れているセルロースエステル溶液からセルロースエステ
ルフィルムを流延製膜する種々の方法（例えば特開昭６
１−９４７２４号、同６１−１４８０１３号、同６２−
４６６２５号、同６２−４６６２６号、同６２−１１５
０３５号、特開平４−８５０１１号、同４−１５２１２
５号、同４−２８４２１１号、同４−２８６６１１号、
同４−２９８３１０号、同５−１８５４４３号、同５−
１８５４４５号、同６−２７８１４９号、同８−２０７
２１０号等の各公報）についても好ましく用いることが
でき、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設
定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様な
効果が得られる。
【００６９】本発明のセルロースエステルフィルムの厚
さは、乾燥後の膜厚で５〜５００μｍの範囲が好まし
く、さらに４０〜２５０μｍの範囲が好ましく、６０〜
１２５μｍの範囲が最も好ましい。
さは、乾燥後の膜厚で５〜５００μｍの範囲が好まし
く、さらに４０〜２５０μｍの範囲が好ましく、６０〜
１２５μｍの範囲が最も好ましい。
【００７０】フィルムの温度２１℃での平衡含水率は、
寸法安定性および現像処理後の巻き癖解消性の点から、
湿度１０％ＲＨで０．１％以上１．０％以下、湿度４５
％ＲＨで０．５％以上２．０％以下、湿度７０％ＲＨで
１．０％以上３．０％以下であることが好ましく、湿度
１０％ＲＨで０．１％以上０．５％以下、湿度４５％Ｒ
Ｈで０．５％以上１．５％以下、湿度７０％ＲＨで１．
０％以上２．５％以下であることがさらに好ましい。
寸法安定性および現像処理後の巻き癖解消性の点から、
湿度１０％ＲＨで０．１％以上１．０％以下、湿度４５
％ＲＨで０．５％以上２．０％以下、湿度７０％ＲＨで
１．０％以上３．０％以下であることが好ましく、湿度
１０％ＲＨで０．１％以上０．５％以下、湿度４５％Ｒ
Ｈで０．５％以上１．５％以下、湿度７０％ＲＨで１．
０％以上２．５％以下であることがさらに好ましい。
【００７１】以上の様にして得られたセルロースエステ
ルフィルムは、感光材料のカブリが改良されており、さ
らに耐光性に優れるので、写真フィルムの支持体や偏向
板の保護フィルムなどに好適である。
ルフィルムは、感光材料のカブリが改良されており、さ
らに耐光性に優れるので、写真フィルムの支持体や偏向
板の保護フィルムなどに好適である。
【００７２】写真感光材料は、本発明のセルロースエス
テルフィルムの少なくとも一方の表面にハロゲン化銀乳
剤層を少なくとも一層有する。このハロゲン化銀乳剤層
はセルロースエステルフィルム上に直接塗設されるか、
あるいは他の層、例えばハロゲン化銀乳剤を含まない親
水性コロイド層を介して塗設することができる。さらに
ハロゲン化銀乳剤層の上には、保護層としての親水性コ
ロイド層を塗設してもよい。
テルフィルムの少なくとも一方の表面にハロゲン化銀乳
剤層を少なくとも一層有する。このハロゲン化銀乳剤層
はセルロースエステルフィルム上に直接塗設されるか、
あるいは他の層、例えばハロゲン化銀乳剤を含まない親
水性コロイド層を介して塗設することができる。さらに
ハロゲン化銀乳剤層の上には、保護層としての親水性コ
ロイド層を塗設してもよい。
【００７３】また、ハロゲン化銀乳剤層は、異なる感
度、例えば、高感度及び低感度の各ハロゲン化銀乳剤層
に分けて塗設してもよい。この場合、各ハロゲン化銀乳
剤層の間に、例えば親水性コロイドからなる中間層を設
けてもよい。また、セルロースエステルフィルムと最上
層との間にその他の中間層、保護層、アンチハレーショ
ン層、紫外線吸収層、帯電防止層などを設けてもよい。
ハロゲン化銀乳剤に使用するハロゲン化銀としては、任
意の組成のものを使用することができる。例えば、塩化
銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀などが挙
げられる。
度、例えば、高感度及び低感度の各ハロゲン化銀乳剤層
に分けて塗設してもよい。この場合、各ハロゲン化銀乳
剤層の間に、例えば親水性コロイドからなる中間層を設
けてもよい。また、セルロースエステルフィルムと最上
層との間にその他の中間層、保護層、アンチハレーショ
ン層、紫外線吸収層、帯電防止層などを設けてもよい。
ハロゲン化銀乳剤に使用するハロゲン化銀としては、任
意の組成のものを使用することができる。例えば、塩化
銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀などが挙
げられる。
【００７４】また、ハロゲン化銀乳剤層には、増感色
素、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、硬膜剤などを含
有していてもよい。ハロゲン化銀乳剤層を塗設した面の
反対側には、必要によりバッキング層を設けてもよい。
バッキング層は、通常、帯電防止層、紫外線吸収層、易
滑性層、接着性層、バリアー性層、磁気記録層、透明磁
気記録層などから構成される。
素、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、硬膜剤などを含
有していてもよい。ハロゲン化銀乳剤層を塗設した面の
反対側には、必要によりバッキング層を設けてもよい。
バッキング層は、通常、帯電防止層、紫外線吸収層、易
滑性層、接着性層、バリアー性層、磁気記録層、透明磁
気記録層などから構成される。
【００７５】帯電防止層などの例としては、ＵＳＰ２，
８８２，１５７号、特公昭４７−２８９３７号、同４８
−２３４５１号、同５２−３２５７２号、同５５−７３
４号、同５７−１２９７９号、同５７−５６０５９号、
同５７−１０４９３１号、同６０−２０７３９号、同６
０−５１６９３号等の各公報の記載技術がある。また、
上記ハロゲン化銀乳剤層やバッキング層との接着性を改
良するため、セルロースエステルフィルムの表面には、
下引層を設けるのが好ましい。下引層としては、例え
ば、Ｂ．Ｐ５４８，８２５、日本写真学会編，「写真工
業の基礎」、コロナ社（１９７９）、ＵＳＰ２，１２
６，３０５号、同２，２７１，２２８号、同２，９３
９，８０６号などに記載されている方法が挙げられる。
８８２，１５７号、特公昭４７−２８９３７号、同４８
−２３４５１号、同５２−３２５７２号、同５５−７３
４号、同５７−１２９７９号、同５７−５６０５９号、
同５７−１０４９３１号、同６０−２０７３９号、同６
０−５１６９３号等の各公報の記載技術がある。また、
上記ハロゲン化銀乳剤層やバッキング層との接着性を改
良するため、セルロースエステルフィルムの表面には、
下引層を設けるのが好ましい。下引層としては、例え
ば、Ｂ．Ｐ５４８，８２５、日本写真学会編，「写真工
業の基礎」、コロナ社（１９７９）、ＵＳＰ２，１２
６，３０５号、同２，２７１，２２８号、同２，９３
９，８０６号などに記載されている方法が挙げられる。
【００７６】偏光板は、偏光膜、保護フィルム、位相差
フィルム、反射フィルム、視野角向上フィルム、防眩フ
ィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルムなどから構
成されており、本発明のセルロースエステルフィルム
は、例えば、保護フィルム、視野角向上フィルムとして
好適に用いられる。偏光板は、通常の方法で構成でき、
例えば、セルロースエステルフィルムをアルカリ処理
し、沃素溶液中に浸せき延伸した偏光膜の両面に、完全
ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わ
せることで構成できる。アルカリ処理の代わりに特開平
６−９４９１５号、同６−１１８２３２号等の各公報に
記載されている様な接着性を向上する方法を用いてもよ
い。
フィルム、反射フィルム、視野角向上フィルム、防眩フ
ィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルムなどから構
成されており、本発明のセルロースエステルフィルム
は、例えば、保護フィルム、視野角向上フィルムとして
好適に用いられる。偏光板は、通常の方法で構成でき、
例えば、セルロースエステルフィルムをアルカリ処理
し、沃素溶液中に浸せき延伸した偏光膜の両面に、完全
ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わ
せることで構成できる。アルカリ処理の代わりに特開平
６−９４９１５号、同６−１１８２３２号等の各公報に
記載されている様な接着性を向上する方法を用いてもよ
い。
【００７７】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【００７８】（実施例１）下記の組成物を加圧密閉容器
に投入し、２気圧下、８０℃に加温し、撹拌しながらセ
ルローストリアセテートを完全に溶解させセルロースエ
ステル溶液（以下ドープ）を得た。
に投入し、２気圧下、８０℃に加温し、撹拌しながらセ
ルローストリアセテートを完全に溶解させセルロースエ
ステル溶液（以下ドープ）を得た。
【００７９】 綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート（酢化度６１．０％） ６０重量部 木材パルプから合成されたセルローストリアセテート（酢化度６１．０％） ４０重量部 トリフェニルフォスフェート １２重量部 １，３−ジオキソラン ３６０重量部 エタノール ４０重量部 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール ０．０４重量部 １，４−ビス（２，６−ジエチル−４−メチル−アニリノ）アンスラキノン ０．０２重量部 得られたドープを６０℃まで降温し、一晩静置し脱泡し
た後、ネルによりフィルタリングし異物を取り除いた。
ドープ温度６０℃で押し出しダイより６０℃にコントロ
ールされたベルト式製膜装置の移動ステンレスベルト上
に流延し、流延部から２分経過した地点でフィルムをベ
ルトからはぎ取った。この後、テンター式搬送装置によ
りフィルム両縁部を把持させフィルム幅を保持しながら
７０℃で１０分乾燥した後、さらに１２０℃で１時間乾
燥し、膜厚１００μｍのセルローストリアセテートフィ
ルムを得た。得られたセルローストリアセテートフィル
ムの残留溶媒量および各評価結果を表１に示した。
た後、ネルによりフィルタリングし異物を取り除いた。
ドープ温度６０℃で押し出しダイより６０℃にコントロ
ールされたベルト式製膜装置の移動ステンレスベルト上
に流延し、流延部から２分経過した地点でフィルムをベ
ルトからはぎ取った。この後、テンター式搬送装置によ
りフィルム両縁部を把持させフィルム幅を保持しながら
７０℃で１０分乾燥した後、さらに１２０℃で１時間乾
燥し、膜厚１００μｍのセルローストリアセテートフィ
ルムを得た。得られたセルローストリアセテートフィル
ムの残留溶媒量および各評価結果を表１に示した。
【００８０】（比較例１）実施例１で、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾールおよび１，４−ビス（２，６
−ジエチル−４−メチル−アニリノ）アンスラキノンを
添加しなかった以外は同様にして、膜厚１００μｍのセ
ルローストリアセテートフィルムを得た。得られたセル
ローストリアセテートフィルムの残留溶媒量および各評
価結果を表１に示した。
−ブチル−ｐ−クレゾールおよび１，４−ビス（２，６
−ジエチル−４−メチル−アニリノ）アンスラキノンを
添加しなかった以外は同様にして、膜厚１００μｍのセ
ルローストリアセテートフィルムを得た。得られたセル
ローストリアセテートフィルムの残留溶媒量および各評
価結果を表１に示した。
【００８１】（実施例２）実施例１で、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾールの添加量を０．４重量部にし
た以外は同様にして、膜厚１００μｍのセルローストリ
アセテートフィルムを得た。得られたセルローストリア
セテートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を表１
に示した。
−ブチル−ｐ−クレゾールの添加量を０．４重量部にし
た以外は同様にして、膜厚１００μｍのセルローストリ
アセテートフィルムを得た。得られたセルローストリア
セテートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を表１
に示した。
【００８２】（実施例３）実施例１で、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾールの添加量を０．００４重量部
にした以外は同様にして、膜厚１００μｍのセルロース
トリアセテートフィルムを得た。得られたセルロースト
リアセテートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を
表１に示した。
−ブチル−ｐ−クレゾールの添加量を０．００４重量部
にした以外は同様にして、膜厚１００μｍのセルロース
トリアセテートフィルムを得た。得られたセルロースト
リアセテートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を
表１に示した。
【００８３】（実施例４）実施例１で、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾールを添加しない代わりに、ペン
タエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を
０．０５重量部およびトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）フォスファイトを０．０５重量部添加した以
外は同様にして、膜厚１００μｍのセルローストリアセ
テートフィルムを得た。得られたセルローストリアセテ
ートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を表１に示
した。
−ブチル−ｐ−クレゾールを添加しない代わりに、ペン
タエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を
０．０５重量部およびトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）フォスファイトを０．０５重量部添加した以
外は同様にして、膜厚１００μｍのセルローストリアセ
テートフィルムを得た。得られたセルローストリアセテ
ートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を表１に示
した。
【００８４】（実施例５）実施例１で、１，４−ビス
（２，６−ジエチル−４−メチル−アニリノ）アンスラ
キノンの代わりに、化合物III−１〜４をそれぞれ０．
００５重量部ずつ添加した以外は同様にして、膜厚１０
０μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。得
られたセルローストリアセテートフィルムの残留溶媒量
および各評価結果を表１に示した。
（２，６−ジエチル−４−メチル−アニリノ）アンスラ
キノンの代わりに、化合物III−１〜４をそれぞれ０．
００５重量部ずつ添加した以外は同様にして、膜厚１０
０μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。得
られたセルローストリアセテートフィルムの残留溶媒量
および各評価結果を表１に示した。
【００８５】（実施例６）実施例１で、１，４−ビス
（２，６−ジエチル−４−メチル−アニリノ）アンスラ
キノンを添加しなかった以外は同様にして、膜厚１００
μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。得ら
れたセルローストリアセテートフィルムの残留溶媒量お
よび各評価結果を表１に示した。
（２，６−ジエチル−４−メチル−アニリノ）アンスラ
キノンを添加しなかった以外は同様にして、膜厚１００
μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。得ら
れたセルローストリアセテートフィルムの残留溶媒量お
よび各評価結果を表１に示した。
【００８６】（実施例７）実施例１と同様にしてセルロ
ースエステル溶液（以下ドープ）を得た。
ースエステル溶液（以下ドープ）を得た。
【００８７】得られたドープを６０℃まで降温し、一晩
静置し脱泡した後、ネルによりフィルタリングし異物を
取り除いた。ドープ温度６０℃で押し出しダイより６０
℃にコントロールされたベルト式製膜装置の移動ステン
レスベルト上に流延し、流延部から２分経過した地点で
フィルムをベルトからはぎ取った。この後、テンター式
搬送装置によりフィルム両縁部を把持させフィルム幅を
保持しながら７０℃で１０分乾燥した後、さらに１２０
℃で５分間乾燥し、膜厚１００μｍのセルローストリア
セテートフィルムを得た。得られたセルローストリアセ
テートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を表１に
示した。
静置し脱泡した後、ネルによりフィルタリングし異物を
取り除いた。ドープ温度６０℃で押し出しダイより６０
℃にコントロールされたベルト式製膜装置の移動ステン
レスベルト上に流延し、流延部から２分経過した地点で
フィルムをベルトからはぎ取った。この後、テンター式
搬送装置によりフィルム両縁部を把持させフィルム幅を
保持しながら７０℃で１０分乾燥した後、さらに１２０
℃で５分間乾燥し、膜厚１００μｍのセルローストリア
セテートフィルムを得た。得られたセルローストリアセ
テートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を表１に
示した。
【００８８】（実施例８）実施例１と同様にしてセルロ
ースエステル溶液（以下ドープ）を得た。
ースエステル溶液（以下ドープ）を得た。
【００８９】得られたドープを７０℃まで降温し、一晩
静置し脱泡した後、ネルによりフィルタリングし異物を
取り除いた。ドープ温度７５℃で押し出しダイより６０
℃にコントロールされたベルト式製膜装置の移動ステン
レスベルト上に流延し、流延部から２分経過した地点で
フィルムをベルトからはぎ取った。この後、テンター式
搬送装置によりフィルム両縁部を把持させフィルム幅を
保持しながら７０℃で１０分乾燥した後、さらに１２０
℃で３０分間乾燥し、膜厚１００μｍのセルローストリ
アセテートフィルムを得た。得られたセルローストリア
セテートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を表１
に示した。
静置し脱泡した後、ネルによりフィルタリングし異物を
取り除いた。ドープ温度７５℃で押し出しダイより６０
℃にコントロールされたベルト式製膜装置の移動ステン
レスベルト上に流延し、流延部から２分経過した地点で
フィルムをベルトからはぎ取った。この後、テンター式
搬送装置によりフィルム両縁部を把持させフィルム幅を
保持しながら７０℃で１０分乾燥した後、さらに１２０
℃で３０分間乾燥し、膜厚１００μｍのセルローストリ
アセテートフィルムを得た。得られたセルローストリア
セテートフィルムの残留溶媒量および各評価結果を表１
に示した。
【００９０】評価方法は以下の方法で行った。
【００９１】（残留溶媒量）フィルムサンプル１ｇを細
片にし、１０ｍｌのバイアルビンに入れ測定用サンプル
とし、ヘッドスペースの加熱条件１２０℃、２０分でヘ
ッドスペースガスクロマトグラフ／質量分析法を用いて
行った。あらかじめ用意した検量線と得られた溶媒のピ
ーク強度から検出溶媒重量を求め、フィルム重量で除し
て残留溶媒量とした。
片にし、１０ｍｌのバイアルビンに入れ測定用サンプル
とし、ヘッドスペースの加熱条件１２０℃、２０分でヘ
ッドスペースガスクロマトグラフ／質量分析法を用いて
行った。あらかじめ用意した検量線と得られた溶媒のピ
ーク強度から検出溶媒重量を求め、フィルム重量で除し
て残留溶媒量とした。
【００９２】（感光材料のカブリ）市販のコニカカラー
フィルムＬＶ４００の２４枚取りを、暗室にて一旦パト
ローネから引き出し、その写真乳剤層面側に、サンプル
サイズ３５ｍｍ×２００ｍｍに切り出したセルロースエ
ステルフィルムサンプルを抱き合わせて、再びサンプル
と共にパトローネ中に巻き戻す。このパトローネを６０
℃、６０％ＲＨ下の条件で７２時間及び１６８時間処理
する。この後、抱き合わせたサンプルを取り除き、カラ
ーフィルムについて通常の現像処理を行い、発色の有無
を調べる。サンプルを抱き合わせなかった場合を比較と
して以下の基準でランク付けを行った。尚、ランク付け
は、写真フィルムとしての実用性に基づいて行ってお
り、○または△レベルであることが必要である。
フィルムＬＶ４００の２４枚取りを、暗室にて一旦パト
ローネから引き出し、その写真乳剤層面側に、サンプル
サイズ３５ｍｍ×２００ｍｍに切り出したセルロースエ
ステルフィルムサンプルを抱き合わせて、再びサンプル
と共にパトローネ中に巻き戻す。このパトローネを６０
℃、６０％ＲＨ下の条件で７２時間及び１６８時間処理
する。この後、抱き合わせたサンプルを取り除き、カラ
ーフィルムについて通常の現像処理を行い、発色の有無
を調べる。サンプルを抱き合わせなかった場合を比較と
して以下の基準でランク付けを行った。尚、ランク付け
は、写真フィルムとしての実用性に基づいて行ってお
り、○または△レベルであることが必要である。
【００９３】 ランク 内容 ○ 比較同等 △ 僅かに発色が認められるが、許容範囲内 × 発色が認められ、許容範囲外 （耐光性）株式会社スガ試験機社製キセノンロングライ
フウェザーメーターを用いてセルロースエステルフィル
ムを１０００時間処理した。耐光性は、処理前後のセル
ロースエステルフィルムの色調を東京電色社製ダブルビ
ーム全自動色差計（ＴＣ−１５００ＭＣ）で測定し、Ｊ
ＩＳＺ−８７３０−１９８０に規定されている「ハンタ
ーの色差式による色差の計算」における黄色味を表す指
標であるクロマティネックス指数ｂの処理前後の差の絶
対値Δｂを求め、下記の基準によりランク付けを行っ
た。尚、ランク付けは、写真フィルムとしての実用性に
基づいて行っており、○または△レベルであることが必
要である。Δｂが小さいほど耐光性に優れることを意味
する。
フウェザーメーターを用いてセルロースエステルフィル
ムを１０００時間処理した。耐光性は、処理前後のセル
ロースエステルフィルムの色調を東京電色社製ダブルビ
ーム全自動色差計（ＴＣ−１５００ＭＣ）で測定し、Ｊ
ＩＳＺ−８７３０−１９８０に規定されている「ハンタ
ーの色差式による色差の計算」における黄色味を表す指
標であるクロマティネックス指数ｂの処理前後の差の絶
対値Δｂを求め、下記の基準によりランク付けを行っ
た。尚、ランク付けは、写真フィルムとしての実用性に
基づいて行っており、○または△レベルであることが必
要である。Δｂが小さいほど耐光性に優れることを意味
する。
【００９４】 ランク Δｂの値 ○ ０．０以上０．１未満 △ ０．１以上０．５未満 × ０．５以上
【００９５】
【表１】
【００９６】表１から明らかなように、本発明の範囲の
セルロースエステルフィルムは、写真感光材料のカブリ
が改良されており、さらに耐光性にも優れている。
セルロースエステルフィルムは、写真感光材料のカブリ
が改良されており、さらに耐光性にも優れている。
【００９７】
【発明の効果】本発明により、セルロースエステルの環
状ジエーテル溶液から、感光材料をかぶらせることな
く、耐光性も良好なセルロースエステルフィルムを造る
ための製造方法およびそれを用いたセルロースエステル
フィルムを提供することが出来る。
状ジエーテル溶液から、感光材料をかぶらせることな
く、耐光性も良好なセルロースエステルフィルムを造る
ための製造方法およびそれを用いたセルロースエステル
フィルムを提供することが出来る。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｇ０２Ｂ 5/22 Ｇ０２Ｂ 5/22 5/30 5/30 Ｇ０３Ｃ 1/795 Ｇ０３Ｃ 1/795 Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 7:00
Claims (13)
- 【請求項１】 セルロースエステル溶液から溶液流延法
によりセルロースエステルフィルムを製造する方法にお
いて、該セルロースエステル溶液が、セルロースエステ
ル、酸化防止剤および環状ジエーテル化合物を含有する
溶液であることを特徴とするセルロースエステルフィル
ムの製造方法。 - 【請求項２】 セルロースエステル溶液から溶液流延法
によりセルロースエステルフィルムを製造する方法にお
いて、該セルロースエステル溶液が、セルロースエステ
ル、酸化防止剤として下記一般式（Ｉ）から選ばれる少
なくとも１つの化合物Ａおよび環状ジエーテル化合物を
含有する溶液であることを特徴とする請求項１記載のセ
ルロースエステルフィルムの製造方法。 【化１】 （式中、Ｒ1はアルキル基を表し、Ｒ2、Ｒ3およびＸ
は、それぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケノキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環オキシ基、ヒドロキシ
基、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシル基、アシル
オキシ基を表す。ｍは０〜２の整数を表す。Ｒ2、Ｒ3お
よびＸは互いに同一でもよいし異なっていてもよい。） - 【請求項３】 セルロースエステル溶液から溶液流延法
によりセルロースエステルフィルムを製造する方法にお
いて、該セルロースエステル溶液が、セルロースエステ
ル、下記一般式（II）または（III）から選ばれる少な
くとも１つの化合物Ｂおよび環状ジエーテル化合物を含
有する溶液であることを特徴とするセルロースエステル
フィルムの製造方法。 【化２】 （式中、Ｘは酸素原子又はＮＲ23を表す。Ｒ1〜Ｒ8、Ｒ
12〜Ｒ23は、それぞれ水素原子、水酸基、脂肪族基、芳
香族基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、ＣＯＲ9、ＣＯＯＲ9、ＮＲ9Ｒ10、ＮＲ10ＣＯ
Ｒ11、ＮＲ10ＳＯ2Ｒ11、ＣＯＮＲ9Ｒ10、ＳＯ2ＮＲ9Ｒ
10、ＣＯＲ11、ＳＯ2Ｒ11、ＯＣＯＲ11、Ｎ（Ｒ9）ＣＯ
ＮＲ10Ｒ11、ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ11又はＳＯ2ＮＨＣＯＲ11
を表し、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳
香族基、複素環基を表し、Ｒ11は脂肪族基、芳香族基又
は複素環基を表す。） - 【請求項４】 前記セルロースエステル溶液が、前記化
合物Ｂを含有することを特徴とする請求項１又は２に記
載のセルロースエステルフィルムの製造方法。 - 【請求項５】 前記化合物Ａが、２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾールであることを特徴とする請求項２、
３又は４に記載のセルロースエステルフィルムの製造方
法。 - 【請求項６】 前記環状ジエーテル化合物が、１，３−
ジオキソランであることを特徴とする請求項１〜５のい
ずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造
方法。 - 【請求項７】 前記セルロースエステルが酢化度５７．
０％以上６２．０％以下のセルローストリアセテートで
あることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記
載のセルロースエステルフィルムの製造方法。 - 【請求項８】 前記セルロースエステル溶液が、貧溶媒
を全溶媒に対して５重量％以上５０重量％以下含有して
いることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記
載のセルロースエステルフィルムの製造方法。 - 【請求項９】 前記セルロースエステル溶液が、可塑剤
をセルロースエステルに対して５重量％以上３０重量％
以下含有していることを特徴とする請求項１〜８のいず
れか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方
法。 - 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれかに記載の製造
方法により製造されたことを特徴とするセルロースエス
テルフィルム。 - 【請求項１１】 前記セルロースエステルフィルム中の
残留溶媒量が全フィルム重量の２重量％以下であること
を特徴とする請求項１０に記載のセルロースエステルフ
ィルム。 - 【請求項１２】 前記セルロースエステルフィルム中の
残留溶媒量が全フィルム重量の０．４重量％以下である
ことを特徴とする請求項１１に記載のセルロースエステ
ルフィルム。 - 【請求項１３】 前記セルロースエステルフィルム中の
残留溶媒量が全フィルム重量の０．１重量％以下である
ことを特徴とする請求項１２に記載のセルロースエステ
ルフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8801397A JPH10279702A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | セルロースエステルフィルムおよびセルロースエステルフィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8801397A JPH10279702A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | セルロースエステルフィルムおよびセルロースエステルフィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10279702A true JPH10279702A (ja) | 1998-10-20 |
Family
ID=13930971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8801397A Pending JPH10279702A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | セルロースエステルフィルムおよびセルロースエステルフィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10279702A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002090541A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 |
| JP2002241511A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-28 | Konica Corp | セルロースエステルフィルム及びその製造方法 |
| JP2002371142A (ja) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | セルロースエステルフィルムの製造方法 |
| JP2006096793A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | セルロース体組成物、セルロース体フィルム、セルロース体フィルム用添加剤、偏光板保護膜、液晶表示装置およびハロゲン化銀写真感光材料 |
| JP2007279762A (ja) * | 2007-07-03 | 2007-10-25 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板の製造方法 |
| JP2011048395A (ja) * | 2010-11-22 | 2011-03-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板の製造方法 |
| JP2012001660A (ja) * | 2010-06-18 | 2012-01-05 | Dic Corp | セルロースエステル樹脂組成物、それを用いたフィルム及び液晶表示装置用偏光板 |
-
1997
- 1997-04-07 JP JP8801397A patent/JPH10279702A/ja active Pending
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| JP2011048395A (ja) * | 2010-11-22 | 2011-03-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板の製造方法 |
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