JPH10274844A5 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH10274844A5 JPH10274844A5 JP1997080666A JP8066697A JPH10274844A5 JP H10274844 A5 JPH10274844 A5 JP H10274844A5 JP 1997080666 A JP1997080666 A JP 1997080666A JP 8066697 A JP8066697 A JP 8066697A JP H10274844 A5 JPH10274844 A5 JP H10274844A5
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- group
- photosensitive composition
- positive
- resin
- Prior art date
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- Granted
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Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08066697A JP3778391B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | ポジ型感光性組成物 |
| US09/050,007 US6037098A (en) | 1997-03-31 | 1998-03-30 | Positive photosensitive composition |
| EP98105753A EP0869393B1 (en) | 1997-03-31 | 1998-03-30 | Positive photosensitive composition |
| DE69800164T DE69800164T2 (de) | 1997-03-31 | 1998-03-30 | Positiv-arbeitende photoempfindliche Zusammensetzung |
| KR1019980011177A KR100496174B1 (ko) | 1997-03-31 | 1998-03-31 | 포지티브감광성조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08066697A JP3778391B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10274844A JPH10274844A (ja) | 1998-10-13 |
| JPH10274844A5 true JPH10274844A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2004-10-07 |
| JP3778391B2 JP3778391B2 (ja) | 2006-05-24 |
Family
ID=13724697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08066697A Expired - Fee Related JP3778391B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3778391B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP4996898B2 (ja) * | 2006-03-27 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
| JP5140354B2 (ja) * | 2006-09-19 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP5763433B2 (ja) * | 2010-06-29 | 2015-08-12 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP08066697A patent/JP3778391B2/ja not_active Expired - Fee Related