JPH10261685A - Substrate treatment system and substrate treating apparatus - Google Patents

Substrate treatment system and substrate treating apparatus

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Publication number
JPH10261685A
JPH10261685A JP6336097A JP6336097A JPH10261685A JP H10261685 A JPH10261685 A JP H10261685A JP 6336097 A JP6336097 A JP 6336097A JP 6336097 A JP6336097 A JP 6336097A JP H10261685 A JPH10261685 A JP H10261685A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
cassette
processing apparatus
substrate processing
storage container
Prior art date
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Pending
Application number
JP6336097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Imanishi
保夫 今西
Masami Otani
正美 大谷
Masao Tsuji
雅夫 辻
Masaki Iwami
優樹 岩見
Joichi Nishimura
讓一 西村
Akihiko Morita
彰彦 森田
Kazuhiro Nishimura
和浩 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP6336097A priority Critical patent/JPH10261685A/en
Publication of JPH10261685A publication Critical patent/JPH10261685A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate treating apparatus and a substrate treatment system capable of arrangement in proximity within a clean room where an upper carriage mechanism is used. SOLUTION: A cassette support 10 is provided at a side 5a of a cassette stage 5 of a substrate carrying-in/out part D. The cassette support 10 is provided freely openable, and it supports a carriage container 15 lowered from the upper carriage mechanism 11 at opening time, and enables the delivery to the cassette stage 5 of the cassette 16 within the carriage container 15 and the storage into the carriage container 15 of the treated cassette 16. At the closing time of the cassette support 10, the opening of a cover member 9 is closed to prevent outside air from entering an inner space 18 of the substrate carrying-in/out part D. The cassette stage 10 is opened or closed, according to the arrival of the carriage container 15 of the upper carriage mechanism 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は基板に対して所定を
処理を行う基板処理装置および当該基板処理装置に対し
て上方から基板収納容器の受け渡しを行う上方搬送機構
部を備えた基板処理システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus for performing predetermined processing on a substrate and a substrate processing system having an upper transfer mechanism for transferring a substrate storage container from above to the substrate processing apparatus. .

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示用ガラス基板、
フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等
の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用い
られている。例えば、半導体デバイスの製造プロセスで
は、生産効率を高めるために、一連の処理の各々をユニ
ット化し、複数のユニットを統合した基板処理装置が用
いられている。
2. Description of the Related Art Semiconductor wafers, glass substrates for liquid crystal displays,
2. Description of the Related Art A substrate processing apparatus is used to perform various processes on a substrate such as a glass substrate for a photomask and a glass substrate for an optical disk. For example, in a semiconductor device manufacturing process, a substrate processing apparatus in which each of a series of processes is unitized and a plurality of units are integrated is used in order to increase production efficiency.

【0003】一般的に、基板処理装置は、処理領域、搬
送領域および基板搬入搬出領域を有している。処理領域
には、基板に処理液の塗布処理を行う回転式塗布ユニッ
ト、基板の現像処理を行う回転式現像ユニットおよび基
板に加熱または冷却処理を行う加熱または冷却ユニット
等が配置されている。また、搬送領域には、基板を搬送
する搬送ユニットが配置されている。
Generally, a substrate processing apparatus has a processing area, a transport area, and a substrate loading / unloading area. In the processing area, there are arranged a rotary coating unit for applying a processing liquid to the substrate, a rotary developing unit for developing the substrate, and a heating or cooling unit for heating or cooling the substrate. In the transfer area, a transfer unit that transfers the substrate is arranged.

【0004】さらに、基板搬入搬出領域は、処理領域お
よび搬送領域の一端部側に配設され、外部から搬送され
るカセットを支持するカセット載置部およびカセットと
搬送ユニットとの間で基板の受け渡しを行う移載ロボッ
トとを備えている。
Further, a substrate loading / unloading area is provided at one end of the processing area and the transport area, and a cassette mounting section for supporting a cassette transported from the outside and a substrate transfer between the cassette and the transport unit. And a transfer robot that performs

【0005】基板処理装置には、複数枚の基板を収納し
たカセットが外部から搬送され、カセット載置部に載置
される。そして、移載ロボットがカセット内の基板を順
次取り出し、搬送ユニットに引渡し、所定の処理ユニッ
トに供給する。また、処理済みの基板は搬送ユニットか
ら移載ロボットに引き渡され、カセット内に収納され
る。カセット内のすべての基板の処理が終了すると、終
了済みのカセットが外部に引き渡される。
[0005] In the substrate processing apparatus, a cassette accommodating a plurality of substrates is conveyed from the outside and is placed on a cassette mounting portion. Then, the transfer robot sequentially takes out the substrates in the cassette, delivers them to the transport unit, and supplies them to a predetermined processing unit. The processed substrate is transferred from the transfer unit to the transfer robot and stored in a cassette. When the processing of all the substrates in the cassette is completed, the completed cassette is delivered to the outside.

【0006】基板処理装置へのカセットの搬送は、作業
者あるいは自動搬送装置により行われる。特に、自動搬
送装置は、複数のカセットを保持して所定の経路に沿っ
て自動で搬走し、カセットを所定の基板処理装置のカセ
ット載置部に載置し、また処理済みのカセットを基板処
理装置のカセット載置部から受け取り、次の工程へ搬送
する。
The transfer of the cassette to the substrate processing apparatus is performed by an operator or an automatic transfer device. In particular, the automatic transport device holds a plurality of cassettes and automatically carries them along a predetermined route, places the cassettes on a cassette mounting portion of a predetermined substrate processing apparatus, and transfers the processed cassettes to a substrate. It is received from the cassette mounting part of the processing device and transported to the next step.

【0007】最近では、基板が大径化してきており、こ
れに伴って基板処理装置が大型化する傾向にある。この
ため、クリーンルーム内に基板処理装置を効率良く配置
する必要性が高まっている。これに対し、カセットの自
動搬送装置を使用する場合、自動搬送装置の搬走路を基
板処理装置間に設ける必要があり、基板処理装置間の設
置間隔を低減させる妨げとなる。
In recent years, the diameter of a substrate has been increasing, and accordingly, the size of a substrate processing apparatus has tended to increase. For this reason, there is an increasing need to efficiently arrange a substrate processing apparatus in a clean room. On the other hand, when an automatic transfer device for a cassette is used, it is necessary to provide a transport path of the automatic transfer device between the substrate processing apparatuses, which hinders a reduction in an installation interval between the substrate processing apparatuses.

【0008】そこで、カセットを基板処理装置の上方空
間を利用して搬送することが提案されている。図3は、
上方搬送機構部により基板処理装置にカセットを搬送す
る動作の説明図である。上方搬送機構部11は、基板処
理装置20の上方において所定の方向に延びるレール1
2と、レール12に沿って移動可能な搬送部13および
カセット16を収納する搬送容器15および搬送容器1
5を保持するワイヤ14を備える。
Therefore, it has been proposed to transport the cassette using the space above the substrate processing apparatus. FIG.
FIG. 4 is an explanatory diagram of an operation of transporting a cassette to a substrate processing apparatus by an upper transport mechanism. The upper transport mechanism 11 includes a rail 1 extending in a predetermined direction above the substrate processing apparatus 20.
2, a transport container 15 and a transport container 1 for accommodating a transport unit 13 and a cassette 16 movable along the rail 12.
5 is provided.

【0009】上方搬送機構部11は、カセット16を収
納した搬送容器15の上端を保持し、基板処理装置20
の上方に搬送容器15を保持した状態で水平方向に移動
し、所定の基板処理装置20の上方に達すると、ワイヤ
14を伸張し、搬送容器15を下降させる。
The upper transfer mechanism 11 holds the upper end of the transfer container 15 containing the cassette 16 and
When the transport container 15 is moved horizontally while holding the transport container 15 above it, and reaches a position above a predetermined substrate processing apparatus 20, the wire 14 is extended and the transport container 15 is lowered.

【0010】一方、基板処理装置20には、搬送容器1
5内のカセット16を受け取るためのカセットステージ
21が設けられている。搬送容器15はこのカセットス
テージ21上に載置され、カセット取り出し装置(図示
せず)により搬送容器15内からカセット16が取り出
される。その後、搬送容器15は上昇し、搬送部13に
よってレール12に沿って次の場所に移動する。
On the other hand, the substrate processing apparatus 20 includes the transfer container 1
A cassette stage 21 for receiving the cassette 16 in the cassette 5 is provided. The transport container 15 is placed on the cassette stage 21, and the cassette 16 is removed from the transport container 15 by a cassette removing device (not shown). Thereafter, the transport container 15 moves up and is moved by the transport unit 13 to the next location along the rail 12.

【0011】この上方搬送機構部11を用いた場合、カ
セット16は基板処理装置20の上方を移動するため、
隣接する基板処理装置20間には自動搬送装置の搬走路
を設ける必要がなくなる。このために、隣接する基板処
理装置20間を近接して配置することが可能となる。
When the upper transport mechanism 11 is used, since the cassette 16 moves above the substrate processing apparatus 20,
There is no need to provide a transport path of the automatic transfer device between the adjacent substrate processing apparatuses 20. For this reason, it becomes possible to arrange the adjacent substrate processing apparatuses 20 close to each other.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板処
理装置20間の自動搬送装置の搬走路を省略できる一方
で、基板処理装置20に新たなカセットステージ21を
設ける必要が生じる。このため、カセットステージ21
によって、隣接配置される基板処理装置20の間隔を低
減することが抑制され、カセットの上方搬送機構部11
を用いた長所が低減されるおそれがある。
However, while the traveling path of the automatic transfer device between the substrate processing apparatuses 20 can be omitted, a new cassette stage 21 needs to be provided in the substrate processing apparatus 20. For this reason, the cassette stage 21
This suppresses a reduction in the interval between the substrate processing apparatuses 20 that are arranged adjacent to each other.
There is a possibility that the advantage of using the method may be reduced.

【0013】本発明の目的は、上方搬送機構が用いられ
るクリーンルーム内においても近接配置が可能な基板処
理装置および当該基板処理装置を備えた基板処理システ
ムを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus which can be closely arranged even in a clean room in which an upper transfer mechanism is used, and a substrate processing system provided with the substrate processing apparatus.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る基板処理システムは、基板を収納した基板収
納容器を室内の上方に配置されたレールに沿って搬送す
る搬送機構部と、搬送機構部との間で受け渡される基板
収納容器を支持する載置面を有する基板搬入搬出部を備
えた基板処理装置とを有し、基板処理装置は、基板収納
容器を一時的に支持するとともに基板搬入搬出部から外
方に突出した位置と基板搬入搬出部に収納された位置と
を移動可能な支持部材を有するものである。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention A substrate processing system according to a first aspect of the present invention includes a transfer mechanism for transferring a substrate storage container storing a substrate along a rail disposed above the room. A substrate processing apparatus having a substrate loading / unloading section having a mounting surface for supporting the substrate storage container transferred to and from the transport mechanism, and the substrate processing apparatus temporarily supports the substrate storage container. And a support member that can move between a position protruding outward from the substrate carry-in / out unit and a position stored in the substrate carry-in / out unit.

【0015】本発明に係る基板処理システムにおいて
は、基板搬入搬出部に対して移動可能な支持部材を設
け、支持部材上に基板収納容器を一時的に載置可能に構
成されている。このため、基板処理装置の上方から搬送
される基板収納容器を支持部材上に一時的に支持して基
板処理装置への搬入を可能とし、また処理済みの基板収
納容器を支持部材上に支持し、上方の搬送機構部に引き
渡すことにより、基板処理装置から搬送機構部への搬出
動作を可能としている。
In the substrate processing system according to the present invention, a supporting member movable with respect to the substrate loading / unloading section is provided, and the substrate storage container can be temporarily placed on the supporting member. For this reason, the substrate storage container conveyed from above the substrate processing apparatus is temporarily supported on the support member to enable loading into the substrate processing apparatus, and the processed substrate storage container is supported on the support member. The transfer operation from the substrate processing apparatus to the transfer mechanism is enabled by transferring the data to the upper transfer mechanism.

【0016】さらに、基板収納容器の受け渡しが終了す
ると、支持部材が基板搬入搬出部に収納される。このた
め、基板処理装置の平面占有面積が増大することが防止
され、クリーンルーム内に設置される場合の省スペース
化を図ることができる。
Further, when the delivery of the substrate storage container is completed, the support member is stored in the substrate loading / unloading section. For this reason, it is possible to prevent an increase in the plane occupied area of the substrate processing apparatus, and to save space when installed in a clean room.

【0017】第2の発明に係る基板処理装置は、基板を
収納した基板収納容器を室内の上方に配設されたレール
に沿って搬送する搬送機構部とともに室内に設置される
基板処理装置であって、基板に対して所定の処理を行う
処理部と、基板収納容器を支持する載置面を有する基板
搬入搬出部と、基板搬入搬出部の載置面上の空間を取り
囲むとともに開口部を有するカバー部材と、カバー部材
の開口部を開放するように基板搬入搬出部から外方に突
出した位置と、カバー部材の開口部を閉鎖するように基
板搬入搬出部に収納された位置との間で開閉する支持部
材とを備えたものである。
A substrate processing apparatus according to a second aspect of the present invention is a substrate processing apparatus installed in a room together with a transfer mechanism for transferring a substrate storage container storing a substrate along a rail disposed above the room. A processing unit for performing a predetermined process on the substrate, a substrate loading / unloading unit having a mounting surface for supporting the substrate storage container, and an opening surrounding the space on the mounting surface of the substrate loading / unloading unit. Between the cover member, a position protruding outward from the substrate loading / unloading portion to open the opening of the cover member, and a position stored in the substrate loading / unloading portion to close the opening of the cover member. And a support member that opens and closes.

【0018】この場合、支持部材を基板搬入搬出部から
突出した位置に取り出すことにより、この支持部材を利
用して搬送機構部と基板処理装置との間で基板収納容器
を受け渡すことができる。基板収納容器の受け渡し作業
が終了すると、支持部材は基板搬入搬出部に収納され
る。これにより、基板処理装置の平面占有面積が増大す
ることが防止され、クリーンルーム内に配置される際の
省スペース化を図ることができる。
In this case, by taking out the support member to a position protruding from the substrate loading / unloading section, the substrate storage container can be transferred between the transport mechanism and the substrate processing apparatus using the support member. When the transfer operation of the substrate storage container is completed, the support member is stored in the substrate loading / unloading section. This prevents an increase in the plane occupied area of the substrate processing apparatus, and saves space when the substrate processing apparatus is disposed in a clean room.

【0019】また、支持部材が収納された状態では、カ
バー部材とともに基板搬入搬出部の載置面上の空間をほ
ぼ密閉状態にすることができる。これにより、当該空間
内に外部から汚染された気流が侵入することが防止さ
れ、内部雰囲気を清浄な状態に保持することができる。
Further, when the support member is stored, the space on the mounting surface of the substrate loading / unloading section together with the cover member can be made substantially sealed. This prevents a contaminated airflow from entering the space from the outside, and can maintain the internal atmosphere in a clean state.

【0020】第3の発明に係る基板処理装置は、第2の
発明に係る基板処理装置の構成において、搬送機構部に
よって搬送される基板収納容器の到着を検出する検出手
段をさらに備え、支持部材が、検出手段からの出力に応
じて開閉移動するものである。
A substrate processing apparatus according to a third aspect of the present invention, in the configuration of the substrate processing apparatus according to the second aspect of the present invention, further includes a detecting means for detecting arrival of the substrate storage container transported by the transport mechanism. Move open and close according to the output from the detecting means.

【0021】この場合、支持部材の開閉動作が基板収納
容器の到着に応じて自動的に行われることにより、基板
収納容器の受け渡しを効率的に行うことができる。
In this case, the opening / closing operation of the support member is automatically performed in response to the arrival of the substrate storage container, so that the transfer of the substrate storage container can be performed efficiently.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施例による
基板処理システムの斜視図である。図1において、基板
処理システムは、基板処理装置および上方搬送機構部を
有する。
FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing system according to one embodiment of the present invention. In FIG. 1, the substrate processing system has a substrate processing apparatus and an upper transport mechanism.

【0023】基板処理装置は処理領域A,B、搬送領域
Cおよび基板搬入搬出部Dを有する。処理領域A,Bは
搬送領域Cの両側に配置され、基板搬入搬出部Dは、処
理領域A,Bおよび搬送領域Cの一端部側に配置されて
いる。
The substrate processing apparatus has processing areas A and B, a transport area C, and a substrate loading / unloading section D. The processing areas A and B are disposed on both sides of the transport area C, and the substrate loading / unloading section D is disposed on one end side of the processing areas A and B and the transport area C.

【0024】処理領域Aは、下から上へ順に配置された
第1の階層A1、第2の階層A2、第3の階層A3、お
よび第4の階層A4を含む。同様に、処理領域Bは、下
から上へ順に配置された第1の階層,第2の階層、第3
の階層および第4の階層を含む。
The processing area A includes a first hierarchical level A1, a second hierarchical level A2, a third hierarchical level A3, and a fourth hierarchical level A4 arranged in order from bottom to top. Similarly, the processing area B includes a first layer, a second layer, and a third layer arranged in order from bottom to top.
And a fourth hierarchy.

【0025】処理領域Aの第1の階層A1には各種処理
液(薬液)、廃液、ポンプおよび排気系を収納する化学
系ユニット1が配置されている。第2の階層A2には、
複数の回転処理系ユニット、例えば回転式塗布ユニット
2aが配置されている。
On the first level A1 of the processing area A, a chemical system unit 1 for storing various processing liquids (chemical liquids), waste liquids, pumps and exhaust systems is arranged. In the second layer A2,
A plurality of rotary processing units, for example, a rotary coating unit 2a are arranged.

【0026】第3の階層A3には,ULPA(Ultr
a Low Penetration Air)フィル
タ、化学吸着フィルタ等のフィルタおよびファンからな
る複数の空気調整ユニット3が配置されている。第4の
階層A4には、基板に冷却処理をおこなう冷却ユニット
CPおよび基板に加熱処理をおこなう加熱ユニットHP
等の熱処理系ユニットが複数段配置されている。
The third layer A3 includes ULPA (Ultr
a Low Penetration Air) A plurality of air conditioning units 3 including a filter such as a filter and a chemical adsorption filter and a fan are arranged. The fourth layer A4 includes a cooling unit CP for performing a cooling process on the substrate and a heating unit HP for performing a heating process on the substrate.
Are arranged in a plurality of stages.

【0027】また、処理領域Bの第1の階層には化学系
ユニット1が配置され、第2の階層には、回転処理系ユ
ニット、例えば回転式現像ユニットが配置されている。
第3の階層には、複数の空気調整ユニットが配置され、
第4の階層には複数の熱処理系ユニットが配置されてい
る。
The chemical unit 1 is disposed on the first level of the processing area B, and the rotary processing unit, for example, the rotary developing unit is disposed on the second level.
In a third level, a plurality of air conditioning units are arranged,
A plurality of heat treatment units are arranged on the fourth level.

【0028】搬送領域Cには、基板Wを搬送する搬送ユ
ニットが処理領域A,Bに沿って水平移動可能かつ上下
動可能に設けらている。
In the transfer area C, a transfer unit for transferring the substrate W is provided so as to be horizontally movable and vertically movable along the processing areas A and B.

【0029】基板搬入搬出部Dは下から上へ順に3つの
階層が構成されている。基板搬入搬出部Dの下部の階層
には複数のカセット16を所定位置に保持するカセット
載置部5およびカセット16と搬送ユニットとの間で基
板Wの受け渡しを行う移載ロボットが配置された搬送部
6が配設されている。
The substrate loading / unloading section D has three layers from the bottom to the top. In the lower layer of the substrate loading / unloading section D, a transport in which a cassette mounting section 5 for holding the plurality of cassettes 16 at predetermined positions and a transfer robot for transferring the substrate W between the cassette 16 and the transport unit are arranged. A part 6 is provided.

【0030】また、カセット載置部5と電気的制御ユニ
ット8との間には、載置面5b上の空間を取り囲むカバ
ー部材9が取り付けられている。
A cover member 9 surrounding the space on the mounting surface 5b is mounted between the cassette mounting portion 5 and the electric control unit 8.

【0031】中間の階層には、フィルタおよびファンか
らなる空気調整ユニット7が配置され、上部の階層には
電気的制御ユニット8が配置されている。
An air conditioning unit 7 composed of a filter and a fan is arranged on the middle level, and an electric control unit 8 is arranged on the upper level.

【0032】カセット載置部5は、複数、図示の例では
4個のカセット(基板収納容器)16を載置する載置面
5bを有している。
The cassette mounting portion 5 has a mounting surface 5b on which a plurality of, in the illustrated example, four cassettes (substrate storage containers) 16 are mounted.

【0033】カセット載置部5の側面5aには、上方搬
送機構部11により搬送される搬送容器15を一時的に
支持するカセット支持台10が設けられている。
On the side face 5a of the cassette mounting portion 5, a cassette support 10 for temporarily supporting a transport container 15 transported by the upper transport mechanism 11 is provided.

【0034】基板処理装置の上方には、上方搬送機構部
11が設けられている。上方搬送機構部11は、クリー
ンルーム内の上方に配置されたレール12と、レール1
2に沿って移動可能な搬送部13と、カセット16を内
部に保持する搬送容器15と、搬送容器15を保持し、
昇降移動させるためのワイヤ14とを備える。
An upper transport mechanism 11 is provided above the substrate processing apparatus. The upper transport mechanism 11 includes a rail 12 disposed above the clean room and a rail 1.
2, a transport unit 13 that can move along the transport container 2, a transport container 15 that holds the cassette 16 inside, and a transport container 15 that holds the transport container 15.
And a wire 14 for moving up and down.

【0035】図2は、基板処理装置の搬入搬出部の側部
断面図である。カセット支持台10は平板状に形成さ
れ、カセット載置部5の側面5aの上端に設けられた回
動軸10aを中心に開閉自在に形成されている。カセッ
ト支持台10が閉じられた状態では、カセット支持台1
0が基板搬入搬出部Dのカバー部材9に設けられた開口
部9aを閉塞する。これにより、カバー部材9とカセッ
ト支持台10により基板搬入搬出部Dの内部空間18が
ほぼ密閉される。そして、内部空間18の上方に配置さ
れたファン17aおよびフォルタ17bからなる空気調
整ユニット17から清浄な空気流が内部空間18内に流
動され、内部空間18が清浄な雰囲気に保持される。
FIG. 2 is a side sectional view of the loading / unloading section of the substrate processing apparatus. The cassette support base 10 is formed in a flat plate shape, and is formed to be openable and closable about a rotation shaft 10 a provided at an upper end of the side surface 5 a of the cassette mounting portion 5. When the cassette support 10 is closed, the cassette support 1
0 closes an opening 9a provided in the cover member 9 of the substrate loading / unloading section D. As a result, the internal space 18 of the substrate loading / unloading section D is substantially sealed by the cover member 9 and the cassette support base 10. Then, a clean air flow flows from the air adjusting unit 17 including the fan 17a and the forter 17b disposed above the internal space 18, into the internal space 18, and the internal space 18 is maintained in a clean atmosphere.

【0036】また、カセット支持台10が開放された状
態において、カセット支持台10の支持面10bは水平
姿勢に保持される。カセット載置部5にはカセット支持
台10を開閉移動させる回動機構部(図示せず)を備え
ている。回動機構部としては、カセット支持台10を回
転軸10aの回りで回動させるためのリンク機構および
その駆動源となるモータあるいはシリンダを含む。
When the cassette support 10 is open, the support surface 10b of the cassette support 10 is held in a horizontal position. The cassette mounting section 5 is provided with a rotation mechanism (not shown) for opening and closing the cassette support base 10. The rotation mechanism includes a link mechanism for rotating the cassette support base 10 around the rotation shaft 10a, and a motor or a cylinder serving as a drive source for the link mechanism.

【0037】さらに、カセット支持台10の支持面10
bに搬送された搬送容器15内からカセット16を取り
出し、カセット載置部5上のカセット載置面上に移動さ
せるカセット移動機構部が配設されている。
Further, the support surface 10 of the cassette support 10
A cassette moving mechanism for taking out the cassette 16 from the inside of the transport container 15 transported to the cassette mounting portion 5b and moving the cassette 16 onto the cassette mounting surface on the cassette mounting portion 5 is provided.

【0038】上方搬送機構部11は、複数枚の処理前基
板を収納したカセット16を搬送容器15に収納し、搬
送容器15を吊り下げて保持し、レール12に沿って所
定の基板処理装置の上方へ移動する。そして、基板処理
装置に対して搬送容器15の到達を通信する。基板処理
装置では、搬送容器15の到着を知らせる信号を受け取
ると、カセット支持台10の回動機構部を駆動し、カセ
ット支持台10を閉鎖状態から開放状態に回動させる。
The upper transport mechanism 11 accommodates a cassette 16 accommodating a plurality of unprocessed substrates in a transport container 15, holds the transport container 15 in a suspended state, and moves along a rail 12 of a predetermined substrate processing apparatus. Move upward. Then, the arrival of the transport container 15 is communicated to the substrate processing apparatus. In the substrate processing apparatus, upon receiving a signal indicating the arrival of the transport container 15, the rotation mechanism of the cassette support 10 is driven to rotate the cassette support 10 from the closed state to the open state.

【0039】カセット支持台10が開放され、支持面1
0bが水平姿勢で保持されると、上方搬送機構部11の
搬送部13が搬送容器15を下降し、カセット支持台1
0の支持面10b上に搬送容器15を載置する。そし
て、搬送容器15の前面が開放され、カセット移動機構
部により搬送容器15内のカセット16がカセット載置
部5の載置面5aに取り出される。
When the cassette support 10 is opened, the support surface 1
0b is held in the horizontal position, the transport unit 13 of the upper transport mechanism 11 descends the transport container 15, and the cassette support 1
The transport container 15 is placed on the 0 support surface 10b. Then, the front surface of the transport container 15 is opened, and the cassette 16 in the transport container 15 is taken out to the mounting surface 5a of the cassette mounting portion 5 by the cassette moving mechanism.

【0040】その後、搬送部13により搬送容器15が
上昇され、カセット16の基板搬入搬出部Dへの搬入動
作が終了する。カセット16の搬入が終了すると、カセ
ット支持台10が閉鎖される。
After that, the transport container 15 is lifted by the transport unit 13 and the operation of loading the cassette 16 into the substrate loading / unloading unit D is completed. When the loading of the cassette 16 is completed, the cassette support 10 is closed.

【0041】また、基板搬入搬出部Dから処理済みのカ
セット16を取り出す場合には、カセット移動機構部が
カセット16をカセット載置部5の載置面5bから搬送
容器15の内部へ移動させる動作を除き、上記のほぼ同
様の動作が行われる。
When removing the processed cassette 16 from the substrate loading / unloading section D, the cassette moving mechanism moves the cassette 16 from the mounting surface 5b of the cassette mounting section 5 to the inside of the transport container 15. Except for the above, almost the same operation as described above is performed.

【0042】このように、上記の実施例による基板処理
装置は、基板処理装置に対してカセット16が搬入され
る場合および処理済みのカセット16を搬出する場合の
み、一時的にカセット支持台10を開放する。このた
め、クリーンルーム内に基板処理装置を配置する場合、
上方搬送機構部11からのカセット16の搬送容器15
の受台を新たに配置するスペースを考慮する必要がなく
なり、基板処理装置を近接して配置することができる。
これによってクリーンルーム内の省スペース化を図るこ
とができる。
As described above, in the substrate processing apparatus according to the above-described embodiment, only when the cassette 16 is loaded into the substrate processing apparatus and when the processed cassette 16 is unloaded, the cassette support table 10 is temporarily moved. Open. For this reason, when arranging a substrate processing apparatus in a clean room,
Transport container 15 of cassette 16 from upper transport mechanism 11
There is no need to consider the space for newly arranging the pedestal, and the substrate processing apparatus can be arranged close to the pedestal.
This can save space in the clean room.

【0043】さらに、カセット支持台10を閉鎖した状
態では、基板搬入搬出部Dの内部空間18がほぼ密閉さ
れる。これにより、内部空間18を清浄な雰囲気に保持
することができる。
Further, when the cassette support table 10 is closed, the internal space 18 of the substrate loading / unloading section D is substantially sealed. Thereby, the internal space 18 can be maintained in a clean atmosphere.

【0044】なお、上記実施例において、カセット支持
台10を開閉させる機構としては特に限定されるもので
はなく、周知の開閉機構および駆動装置を適用すること
ができる。
In the above embodiment, the mechanism for opening and closing the cassette support 10 is not particularly limited, and a well-known opening / closing mechanism and driving device can be applied.

【0045】また、上方搬送機構部11による搬送容器
15の到着を検知する手段として、センサを基板処理装
置に設けてもよい。
Further, a sensor may be provided in the substrate processing apparatus as means for detecting the arrival of the transport container 15 by the upper transport mechanism section 11.

【0046】さらに、カセット支持台10の形状も平板
状に限定されるものではなく、カバー9の開口部9aを
閉鎖することが可能でかつ搬送容器15を支持する支持
面10bを有するものであれば他の形状のものでもよ
い。
Further, the shape of the cassette supporting base 10 is not limited to a flat plate, but may be any one that can close the opening 9a of the cover 9 and has a supporting surface 10b that supports the transport container 15. Any other shape may be used.

【0047】さらに、上記実施例における基板搬入搬出
部Dが備えられる基板処理装置の構造としては、図1に
示す処理領域A,Bおよび搬送領域Cを有するものに限
定されるものではなく、他の構成を有するものであって
もよい。
Further, the structure of the substrate processing apparatus provided with the substrate loading / unloading section D in the above embodiment is not limited to the one having the processing areas A and B and the transport area C shown in FIG. May be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例による基板処理システムの斜視
図である。
FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.

【図2】基板処理装置の基板搬入搬出部の側部断面図で
ある。
FIG. 2 is a side sectional view of a substrate loading / unloading section of the substrate processing apparatus.

【図3】従来の上方搬送機構部によるカセットの受け渡
し動作の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a cassette transfer operation performed by a conventional upper transport mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 カセット載置部 7 空気調整ユニット 9 カバー部材 9a 開口部 10 カセット支持台 10a 回動軸 10b 支持面 11 上方搬送機構部 Reference Signs List 5 Cassette mounting portion 7 Air adjustment unit 9 Cover member 9a Opening portion 10 Cassette support base 10a Rotating shaft 10b Support surface 11 Upper transport mechanism

フロントページの続き (72)発明者 辻 雅夫 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 岩見 優樹 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 西村 讓一 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 森田 彰彦 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 西村 和浩 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内Continuing on the front page (72) Inventor Masao Tsuji 322 Habushishi Furukawacho, Fushimi-ku, Kyoto, Japan Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Inside Screen Manufacturing Co., Ltd. (72) Inventor J 一 ichi Nishimura 322 Hahazushi Furukawacho, Fushimi-ku, Kyoto-shi Dainichi Inside Screen Manufacturing Co., Ltd. 322 Dainichi Screen Manufacturing Co., Ltd.Rakusai Office

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を収納した基板収納容器を室内の上
方に配設されたレールに沿って搬送する搬送機構部と、 前記搬送機構部との間で受け渡される前記基板収納容器
を支持する載置面を有する基板搬入搬出部を備えた基板
処理装置とを有し、 前記基板処理装置は、前記基板収納容器を一時的に支持
するとともに前記基板搬入搬出部から外方に突出した位
置と前記基板搬入搬出部に収納された位置とを移動可能
な支持部材を有することを特徴とする基板処理システ
ム。
A transfer mechanism configured to transfer a substrate storage container storing a substrate along a rail disposed in an upper part of a room; and supporting the substrate storage container transferred between the transfer mechanism and the transfer mechanism. A substrate processing apparatus having a substrate loading / unloading section having a mounting surface, wherein the substrate processing apparatus temporarily supports the substrate storage container and projects outward from the substrate loading / unloading section. A substrate processing system, comprising: a support member movable to a position stored in the substrate loading / unloading section.
【請求項2】 基板を収納した基板収納容器を室内の上
方に配設されたレールに沿って搬送する搬送機構部とと
もに前記室内に設置される基板処理装置であって、 基板に対して所定の処理を行う処理部と、 前記基板収納容器を支持する載置面を有する基板搬入搬
出部と、 前記基板搬入搬出部の前記載置面上の空間を取り囲むと
ともに開口部を有するカバー部材と、 前記基板収納容器を一時的に支持するとともに、前記カ
バー部材の前記開口部を開放するように前記基板搬入搬
出部から外方に突出した位置と、前記カバー部材の前記
開口部を閉鎖するように前記基板搬入搬出部に収納され
た位置との間で開閉する支持部材とを備えたことを特徴
とする基板処理装置。
2. A substrate processing apparatus installed in a room together with a transfer mechanism for transferring a substrate storage container storing a substrate along a rail disposed above the room. A processing unit for performing processing, a substrate loading / unloading unit having a mounting surface for supporting the substrate storage container, a cover member having an opening and surrounding a space on the mounting surface of the substrate loading / unloading unit, While temporarily supporting the substrate storage container, a position protruding outward from the substrate loading / unloading portion so as to open the opening of the cover member, and closing the opening of the cover member. A substrate processing apparatus, comprising: a support member that opens and closes with a position stored in a substrate loading / unloading unit.
【請求項3】 前記搬送機構部によって搬送される前記
基板収納容器の到着を検出する検出手段をさらに備え、 前記支持部材は、前記検出手段からの出力に応じて開閉
移動することを特徴とする請求項2記載の基板処理装
置。
3. A detecting device for detecting arrival of the substrate storage container transported by the transport mechanism, wherein the support member opens and closes in response to an output from the detecting device. The substrate processing apparatus according to claim 2.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013150841A1 (en) * 2012-04-05 2013-10-10 村田機械株式会社 Conveyance system

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