JPH10261686A - Substrate treating apparatus and substrate carrying-in/ out device - Google Patents
Substrate treating apparatus and substrate carrying-in/ out deviceInfo
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- JPH10261686A JPH10261686A JP6336197A JP6336197A JPH10261686A JP H10261686 A JPH10261686 A JP H10261686A JP 6336197 A JP6336197 A JP 6336197A JP 6336197 A JP6336197 A JP 6336197A JP H10261686 A JPH10261686 A JP H10261686A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は複数枚の基板を収納
した基板収納容器を受け取り、各基板に対して所定の処
理を行う基板処理装置および当該基板処理装置に用いら
れる基板搬入搬出装置に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a substrate processing apparatus for receiving a substrate storage container storing a plurality of substrates and performing predetermined processing on each substrate, and a substrate loading / unloading apparatus used in the substrate processing apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が
用いられている。例えば、半導体デバイスの製造プロセ
スでは、生産効率を高めるために、一連の処理の各々を
ユニット化し、複数の処理ユニットを統合した基板処理
装置が用いられている。2. Description of the Related Art A substrate processing apparatus is used to perform various processes on substrates such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a photomask, and a glass substrate for an optical disk. For example, in a semiconductor device manufacturing process, a substrate processing apparatus in which each of a series of processes is unitized and a plurality of processing units are integrated is used in order to increase production efficiency.
【0003】図6は従来の基板処理装置の一例を示す斜
視図である。図6の基板処理装置は、処理領域A,B、
搬送領域Cおよび基板搬入搬出領域Dを有する。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a conventional substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus of FIG.
It has a transport area C and a substrate loading / unloading area D.
【0004】処理領域Aには、基板に処理液の塗布処理
を行う回転式塗布ユニット(スピンコータ)2aおよび
基板に現像処理を行う回転式現像ユニット(スピンデベ
ロッパ)2bが並設されている。処理領域Bには、基板
に加熱処理をおこなう加熱ユニット(ホットプレート)
HPおよび基板に冷却処理をおこなる冷却ユニット(ク
ーリングプレート)CPが複数段に配置されている。搬
送領域Cには、基板を搬送する搬送ユニット5が設けら
れている。In the processing area A, a rotary coating unit (spin coater) 2a for applying a processing liquid to a substrate and a rotary developing unit (spin developer) 2b for performing a developing process on the substrate are arranged in parallel. In the processing area B, a heating unit (hot plate) for performing heat treatment on the substrate
A plurality of cooling units (cooling plates) CP for performing a cooling process on the HP and the substrate are arranged. In the transfer area C, a transfer unit 5 that transfers the substrate is provided.
【0005】また、基板搬入搬出領域Dは、これらの処
理領域A,Bおよび搬送領域Cの一端部側に配設されて
いる。基板搬入搬出領域Dは、カセット載置部6および
移載ロボット7を備える。カセット載置部6は基板処理
装置の一方端に配置され、複数枚の基板100を収納す
る複数個のカセット101を所定位置に載置する。カセ
ット載置部6と処理領域A,B、搬送領域Cとの間に配
置された移載ロボット7は、図中矢印U方向に移動し、
カセット101から基板100を取り出して搬送ユニッ
ト5に渡し、一連の処理が施された基板100を搬送ユ
ニット5から受け取ってカセット101に戻す。A substrate carry-in / out area D is provided at one end of the processing areas A and B and the transfer area C. The substrate loading / unloading area D includes a cassette mounting unit 6 and a transfer robot 7. The cassette mounting section 6 is arranged at one end of the substrate processing apparatus, and mounts a plurality of cassettes 101 accommodating a plurality of substrates 100 at predetermined positions. The transfer robot 7 disposed between the cassette mounting section 6 and the processing areas A and B and the transfer area C moves in the direction of the arrow U in the figure,
The substrate 100 is taken out of the cassette 101 and transferred to the transport unit 5, and the substrate 100 on which a series of processes has been performed is received from the transport unit 5 and returned to the cassette 101.
【0006】搬送ユニット5は、搬送領域C内で基板1
00を矢印Sの方向に搬送するとともに、上記の各処理
ユニットに対して基板100の搬入および搬出を行い、
かつ移載ロボット7との間で基板100の受渡しを行
う。The transfer unit 5 moves the substrate 1 in the transfer area C.
00 in the direction of arrow S, and carry-in and carry-out of the substrate 100 to and from each of the processing units described above.
The transfer of the substrate 100 to and from the transfer robot 7 is performed.
【0007】上記のように、基板処理装置に対する基板
の供給および排出は、カセット単位で行われる。カセッ
ト101の搬送は、作業者あるいは自動搬送ロボットに
より行われる。作業者が搬送する場合、作業者は処理前
の複数の基板100が収納された1個または2個のカセ
ット101を手に持って搬送する。カセット101の交
換時には、作業者が処理済のカセット101をカセット
載置部6から手で取り除き、処理前の基板100が収納
されたカセット101をカセット載置部6の所定位置に
載置する。カセット101の交換作業が終了すると、カ
セット101内の基板100の搬送は移載ロボット7お
よび搬送ユニット5により行われる。As described above, the supply and discharge of substrates to and from the substrate processing apparatus are performed on a cassette basis. The transfer of the cassette 101 is performed by an operator or an automatic transfer robot. When transported by an operator, the operator transports one or two cassettes 101 in which a plurality of substrates 100 before processing are stored by hand. When replacing the cassette 101, an operator manually removes the processed cassette 101 from the cassette mounting portion 6, and mounts the cassette 101 in which the substrate 100 before processing is stored at a predetermined position of the cassette mounting portion 6. When the replacement operation of the cassette 101 is completed, the transfer of the substrates 100 in the cassette 101 is performed by the transfer robot 7 and the transfer unit 5.
【0008】上記の従来の基板処理装置において、作業
者がカセット101を交換する場合、片手で1個のカセ
ット101を取り扱うことは安全性の点から好ましくな
い。しかも、近年では基板100が大径化し、カセット
101が重くなり、片手での取り扱いが困難になりつつ
ある。一方、カセット載置部6には、新たなカセット1
01を一時的に載置する領域がない。In the above-described conventional substrate processing apparatus, when the operator replaces the cassette 101, it is not preferable from the viewpoint of safety to handle one cassette 101 with one hand. Moreover, in recent years, the diameter of the substrate 100 has increased, and the cassette 101 has become heavy, making it difficult to handle with one hand. On the other hand, a new cassette 1
01 has no area to temporarily place it.
【0009】そこで、実際のカセット101の交換作業
時には、基板処理装置とは別個に作製した置き台30を
カセット載置部6に隣接配置し、カセット101を一時
的に置き台30上に載置した後、両手でカセット101
を保持してカセット載置部6と置き台30との間で交換
が行われている。Therefore, at the time of actual replacement of the cassette 101, the mounting table 30 separately manufactured from the substrate processing apparatus is disposed adjacent to the cassette mounting section 6, and the cassette 101 is temporarily mounted on the mounting table 30. After that, with both hands cassette 101
Is exchanged between the cassette mounting portion 6 and the mounting table 30.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年で
は、上述したように生産性の向上のために基板が大径化
しつつあり、これに伴って各処理ユニットの寸法も大き
くなる。それにより、複数の処理ユニットを統合した基
板処理装置も大型化し、そのフットプリント(設置面
積)が大きくなる。それゆえ、クリーンルーム内のスペ
ースを有効に使用することができる基板処理装置が望ま
れている。However, in recent years, as described above, the diameter of a substrate has been increasing in order to improve productivity, and accordingly, the size of each processing unit has also increased. As a result, the size of a substrate processing apparatus in which a plurality of processing units are integrated increases, and its footprint (installation area) increases. Therefore, a substrate processing apparatus that can effectively use the space in a clean room is desired.
【0011】これに対し、従来の基板処理装置では、基
板処理装置本体とは別個に置き台30を必要とするた
め、基板処理装置の設置に必要なフットプリントが増大
するという問題がある。On the other hand, in the conventional substrate processing apparatus, the mounting table 30 is required separately from the substrate processing apparatus main body, so that there is a problem that a footprint required for installing the substrate processing apparatus increases.
【0012】本発明の目的は、基板収納容器の交換作業
のための載置台を必要とせず、それによってフットプリ
ントの増大を抑制することができる基板処理装置および
それに用いられる基板搬入搬出装置を提供することであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus which does not require a mounting table for exchanging a substrate storage container, thereby suppressing an increase in footprint, and a substrate loading / unloading apparatus used therein. It is to be.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る基板処理装置は、基板に対して所定の処理を
行う処理部と、処理部との間で受け渡される基板を収納
した基板収納容器を支持する載置面を有する基板搬入搬
出部とを備えてなる基板処理装置において、基板収納容
器を一時的に支持する支持部材が基板搬入搬出部から外
方に突出した位置と基板搬入搬出部に収納された位置と
を移動可能に設けられたものである。Means for Solving the Problems and Effects of the Invention A substrate processing apparatus according to a first aspect of the present invention contains a processing unit for performing a predetermined processing on a substrate and a substrate transferred between the processing units. In a substrate processing apparatus including a substrate loading / unloading unit having a mounting surface for supporting a substrate storage container, a position where a support member temporarily supporting a substrate storage container projects outward from the substrate loading / unloading unit and a substrate It is provided so as to be movable with respect to a position stored in the carry-in / carry-out section.
【0014】第2の発明に係る基板処理装置は、第1の
基板処理装置の構成において、支持部材が、基板収納容
器が支持される支持面を有し、支持面が基板搬入搬出部
から外方に水平に突出した位置と基板搬入搬出部の側面
に沿う位置との間で開閉可能に設けられたものである。According to a second aspect of the present invention, in the configuration of the first substrate processing apparatus, the support member has a support surface on which the substrate storage container is supported, and the support surface is located outside the substrate loading / unloading section. It is provided so as to be openable and closable between a position protruding horizontally toward a side and a position along a side surface of the substrate carrying-in / out portion.
【0015】第3の発明に係る基板処理装置は、第1の
発明に係る基板処理装置の構成において、支持部材が、
基板収納容器が支持される支持面を有し、支持面が基板
搬入搬出部から外方に水平に突出した位置と基板搬入搬
出部の内部に収納された位置との間で進退可能に設けら
れたものである。According to a third aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first aspect of the present invention, the support member may include:
It has a support surface on which the substrate storage container is supported, and the support surface is provided movably between a position horizontally protruding outward from the substrate loading / unloading portion and a position stored inside the substrate loading / unloading portion. It is a thing.
【0016】第4の発明に係る基板処理装置は、第1〜
第3のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、支持部材を基板搬入搬出部から外方に突出した位置
と基板搬入搬出部に収納された位置とに移動させる移動
手段をさらに備えたものである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising:
In the configuration of the substrate processing apparatus according to any one of the third aspects of the invention, the apparatus further includes a moving unit configured to move the support member to a position protruding outward from the substrate loading / unloading unit and to a position stored in the substrate loading / unloading unit. Things.
【0017】第5の発明に係る基板処理装置は、第1〜
第4のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、基板搬入搬出部から外方に突出した支持部材の支持
面が、基板搬入搬出部の載置面よりも低い位置に配設さ
れたものである。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising:
In the configuration of the substrate processing apparatus according to the fourth aspect of the present invention, the support surface of the support member that protrudes outward from the substrate loading / unloading unit is disposed at a position lower than the mounting surface of the substrate loading / unloading unit. Things.
【0018】第6の発明に係る基板処理装置は、第1〜
第5のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、支持部材の支持面と基板搬入搬出部の載置面との間
で基板収納容器を保持して移動させる搬送手段をさらに
備えたものである。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising:
In the configuration of the substrate processing apparatus according to any one of the fifth aspects, the apparatus further includes a transfer unit that holds and moves the substrate storage container between the support surface of the support member and the mounting surface of the substrate loading / unloading unit. It is.
【0019】第7の発明に係る基板搬入搬出装置は、基
板に対して所定の処理を行う処理部との間で受け渡され
る基板を収納した基板収納容器を支持する支持部を有す
る基板搬入搬出装置において、基板収納容器を支持可能
な支持部材が、支持部から外方に突出した位置と支持部
に収納された位置とを移動可能に設けられたものであ
る。A substrate loading / unloading device according to a seventh aspect of the present invention is a substrate loading / unloading device having a support portion for supporting a substrate storage container storing a substrate to be transferred to and from a processing section for performing predetermined processing on the substrate. In the apparatus, a support member capable of supporting the substrate storage container is provided movably between a position protruding outward from the support portion and a position stored in the support portion.
【0020】第1〜第6の発明に係る基板処理装置およ
び第7の発明に係る基板搬入搬出装置においては、基板
搬入搬出部または支持部から支持部材を突出させること
により基板収納容器を一時的に支持部材上に置くことが
できる。そのために、作業者が複数の基板収納容器を交
換する際、支持部材上に基板収納容器を載置することが
できる。このため、作業者は1つの基板収納容器を両手
を用いて交換作業を行うことが可能となり、重量の大き
い基板収納容器に対しても安全に交換作業を行うことが
できる。また、基板収納容器の作業が終了すると、支持
部材を基板搬入搬出部または支持部に収納することがで
きる。これにより、基板収納容器の交換作業時以外は、
基板搬入搬出部または支持部の側面から突出する部分が
なくなるため、作業者の通過の障害とならず、また基板
処理装置の占有面積を低減することができる。In the substrate processing apparatus according to the first to sixth inventions and the substrate carry-in / out apparatus according to the seventh invention, the substrate storage container is temporarily moved by projecting the support member from the substrate carry-in / out portion or the support portion. Can be placed on the support member. Therefore, when the operator exchanges a plurality of substrate storage containers, the substrate storage container can be placed on the support member. For this reason, the operator can perform the replacement operation using one hand with one substrate storage container, and can safely perform the replacement operation even with a heavy substrate storage container. When the operation of the substrate storage container is completed, the support member can be stored in the substrate loading / unloading section or the support section. As a result, except when replacing the substrate storage container,
Since there is no portion protruding from the side surface of the substrate loading / unloading portion or the support portion, it does not hinder the passage of an operator and can reduce the occupied area of the substrate processing apparatus.
【0021】特に、第2の発明に係る基板処理装置にお
いては、支持部材の支持面が水平位置と垂直位置との間
で回動可能に形成されている。このため保持部材を水平
に開放した状態で基板収納容器の一時的な支持が可能と
なり、作業終了時には支持部材を回動させることにより
基板搬入搬出部の側面から突出することなく収納するこ
とができる。In particular, in the substrate processing apparatus according to the second invention, the support surface of the support member is formed so as to be rotatable between a horizontal position and a vertical position. Therefore, the substrate storage container can be temporarily supported with the holding member opened horizontally, and can be stored without protruding from the side surface of the substrate loading / unloading section by rotating the supporting member at the end of the work. .
【0022】特に、第3の発明に係る基板処理装置にお
いては、支持部材が基板搬入搬出部から引き出し、かつ
内部に収納可能に形成されている。これにより、交換作
業時における基板収納容器の一時的な支持が可能とな
り、かつ基板処理装置の平面占有面積の低減を図ること
ができる。In particular, in the substrate processing apparatus according to the third invention, the support member is formed so as to be drawn out from the substrate carry-in / out portion and to be housed therein. This makes it possible to temporarily support the substrate storage container during the replacement operation, and to reduce the plane occupied area of the substrate processing apparatus.
【0023】特に、第4の発明に係る基板処理装置にお
いては、移動手段を備えることにより支持部材を自動的
に取り出しまたは収納することができる。これにより、
支持部材の取り出しおよび収納動作の負担が省略され
る。In particular, in the substrate processing apparatus according to the fourth aspect of the present invention, the supporting member can be automatically taken out or stored by providing the moving means. This allows
The burden of taking out and storing the support member is eliminated.
【0024】特に、第5の発明に係る基板処理装置にお
いては、支持部材の支持面が基板搬入搬出部の載置面よ
りも低く形成されている。通常、基板搬入搬出部の載置
面は作業者が基板収納容器を持ち上げる際に大きな労力
を必要とする高さである場合が多い。このため、手に持
った基板収納容器を一度に基板搬入搬出部の載置面に持
ち上げることが困難である。そこで、支持部材を基板搬
入搬出部の載置面よりも低い位置に設けることにより、
一時的に基板収納容器を載置し、作業者が姿勢を整えて
基板収納容器を載置面に持ち上げることができる。これ
により、作業者の基板収納容器の交換作業が容易とな
る。In particular, in the substrate processing apparatus according to the fifth aspect, the support surface of the support member is formed lower than the mounting surface of the substrate loading / unloading section. Usually, the mounting surface of the substrate loading / unloading section is often at a height that requires a large amount of labor when an operator lifts the substrate storage container. For this reason, it is difficult to lift the substrate storage container held by hand to the mounting surface of the substrate loading / unloading section at a time. Therefore, by providing the support member at a position lower than the mounting surface of the substrate loading / unloading section,
The substrate storage container can be temporarily placed, and the operator can adjust the posture and lift the substrate storage container to the mounting surface. This facilitates the replacement work of the substrate storage container by the operator.
【0025】特に、第6の発明に係る基板処理装置にお
いては、支持部材の支持面と、基板搬入搬出部の載置面
との間で基板収納容器を移動させる搬送手段を備えたこ
とにより、さらに作業者の基板収納容器の交換作業が容
易となる。In particular, in the substrate processing apparatus according to the sixth aspect of the present invention, there is provided a transfer means for moving the substrate storage container between the support surface of the support member and the mounting surface of the substrate loading / unloading section. Further, the operator can easily replace the substrate storage container.
【0026】[0026]
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例における
基板処理装置の斜視図である。本発明による基板処理装
置は、複数枚の基板が収納されたカセット(基板収納容
器)の交換作業時に、一時的に利用可能なカセット支持
機構が設けられており、図1は、このようなカセット支
持機構が適用される基板処理装置の一例を示している。FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The substrate processing apparatus according to the present invention is provided with a cassette support mechanism that can be used temporarily when replacing a cassette (substrate storage container) storing a plurality of substrates, and FIG. 1 shows an example of a substrate processing apparatus to which a support mechanism is applied.
【0027】図1において、基板処理装置は処理領域
A,B、搬送領域Cおよび搬入搬出領域Dを有する。処
理領域A,Bは搬送領域Cの両側に配置され、搬入搬出
領域Dは処理領域A,Bおよび搬送領域Cの一端部側に
配置されている。In FIG. 1, the substrate processing apparatus has processing areas A and B, a transport area C, and a loading / unloading area D. The processing areas A and B are arranged on both sides of the transport area C, and the loading / unloading area D is located on one end side of the processing areas A and B and the transport area C.
【0028】処理領域Aは、下から上へ順に配置された
第1の階層A1、第2の階層A2、第3の階層A3、お
よび第4の階層A4を含む。同様に、処理領域Bは、下
から上へ順に配置された第1の階層,第2の階層、第3
の階層および第4の階層を含む。The processing area A includes a first hierarchical level A1, a second hierarchical level A2, a third hierarchical level A3, and a fourth hierarchical level A4 arranged in order from bottom to top. Similarly, the processing area B includes a first layer, a second layer, and a third layer arranged in order from bottom to top.
And a fourth hierarchy.
【0029】処理領域Aの第1の階層A1には各種処理
液(薬液)、廃液、ポンプおよび排気系を収納する化学
系ユニット1が配置されている。第2の階層A2には、
複数の回転処理系ユニット、例えば回転式塗布ユニット
2aが配置されている。On the first level A1 of the processing area A, a chemical system unit 1 for storing various processing liquids (chemical liquids), waste liquids, pumps and exhaust systems is arranged. In the second layer A2,
A plurality of rotary processing units, for example, a rotary coating unit 2a are arranged.
【0030】第3の階層A3には,ULPA(Ultr
a Low Penetration Air)フィル
タ、化学吸着フィルタ等のフィルタおよびファンからな
る複数の空気調整ユニット3が配置されている。第4の
階層A4には、基板に冷却処理を行う冷却ユニットCP
および基板に加熱処理を行う加熱ユニットHP等の熱処
理系ユニットが複数段配置されている。In the third layer A3, ULPA (Ultr
a Low Penetration Air) A plurality of air conditioning units 3 including a filter such as a filter and a chemical adsorption filter and a fan are arranged. The fourth level A4 includes a cooling unit CP for performing a cooling process on the substrate.
Also, a plurality of heat treatment units such as a heating unit HP for performing a heat treatment on the substrate are arranged.
【0031】また、処理領域Bの第1の階層には化学系
ユニットが配置され、第2の階層には、回転処理系ユニ
ット、例えば回転式現像ユニットが配置されている。第
3の階層には、複数の空気調整ユニットが配置され、第
4の階層には複数の熱処理系ユニットが配置されてい
る。In the first area of the processing area B, chemical units are arranged, and in the second layer, a rotation processing unit, for example, a rotary developing unit is arranged. A plurality of air conditioning units are arranged on the third level, and a plurality of heat treatment units are arranged on the fourth level.
【0032】搬送領域Cには、基板100を搬送する搬
送ユニットが処理領域A,Bに沿って水平移動可能かつ
上下動可能に設けらている。In the transfer area C, a transfer unit for transferring the substrate 100 is provided so as to be horizontally movable and vertically movable along the processing areas A and B.
【0033】搬入搬出領域Dは下から上へ順に配置され
た第1の階層D1、第2の階層D2および第3の階層D
3を含む。搬入搬出領域Dの第1の階層D1には複数の
カセット101を保持するカセット載置部6およびカセ
ット101と搬送ユニットとの間で基板100の受渡し
を行う移載ロボット(図示省略)が配置されている。The carry-in / carry-out area D includes a first level D1, a second level D2, and a third level D arranged in order from bottom to top.
3 inclusive. In the first level D1 of the carry-in / carry-out area D, there are disposed a cassette mounting portion 6 for holding a plurality of cassettes 101 and a transfer robot (not shown) for transferring the substrate 100 between the cassette 101 and the transport unit. ing.
【0034】第2の階層D2には、フィルタおよびファ
ンからなる空気調整ユニット8が配置され、第3の階層
D3には電気的制御ユニット9が配置されている。An air conditioning unit 8 including a filter and a fan is arranged on the second level D2, and an electric control unit 9 is arranged on the third level D3.
【0035】カセット載置部6は、複数、図示の例では
4個のカセット101を載置する載置面6eを有してい
る。カセット101の交換作業時には、作業者は矢印X
方向からカセット載置部6に接近し、カセット載置部6
上の処理済のカセット101を取り出すとともに、未処
理基板が収納されたカセット101を載置面6e上の所
定位置に載置する。The cassette mounting portion 6 has a mounting surface 6e on which a plurality of, in the illustrated example, four cassettes 101 are mounted. At the time of replacing the cassette 101, the operator moves the arrow X
Approaching the cassette mounting portion 6 from the
The processed cassette 101 is taken out, and the cassette 101 containing the unprocessed substrates is placed at a predetermined position on the placement surface 6e.
【0036】カセット6の側面6aには、作業者がカセ
ット101を一時的に置くためのカセット支持台10を
含むカセット支持機構が設けられている。なお、図1
は、カセット支持機構を模式的に示したものであり、具
体的な構成について以下に説明する。On the side surface 6a of the cassette 6, a cassette support mechanism including a cassette support table 10 on which an operator temporarily places the cassette 101 is provided. FIG.
Schematically shows a cassette support mechanism, and a specific configuration will be described below.
【0037】図2は、カセット支持機構の第1の例を示
す斜視図である。図2において、カセット101を支持
するカセット支持台10は、平板状に形成され、下端を
中心にカセット載置部6の側面6aに対して開閉自在に
取り付けられている。また、カセット載置部6の側面6
aには、凹部6bが形成されており、カセット支持台1
0が凹部6b内に収納された状態で、カセット支持台1
0の裏面とカセット載置部6の側面6aの表面とがほぼ
面一となる。FIG. 2 is a perspective view showing a first example of the cassette support mechanism. In FIG. 2, a cassette support base 10 for supporting a cassette 101 is formed in a flat plate shape, and is attached to a side surface 6a of the cassette mounting portion 6 so as to be openable and closable about a lower end. Also, the side surface 6 of the cassette mounting portion 6
a, a recess 6b is formed in the cassette support 1
0 is stored in the recess 6b, and the cassette support 1
0 is substantially flush with the surface of the side surface 6a of the cassette mounting portion 6.
【0038】カセット支持台10の両端には、リンク1
1,11が取り付けられている。リンク11の一端はカ
セット支持台10に回動可能に取り付けられている。ま
た、他端は、カセット載置部6の側面6aの貫通部6c
を通してカセット載置部6の内部に延び、駆動シリンダ
12のロッドの先端に直接あるいは仲介部材を介して連
結されている。駆動シリンダ12の伸縮動作は制御部1
4により制御されている。The links 1 are provided at both ends of the cassette support 10.
1, 11 are attached. One end of the link 11 is rotatably attached to the cassette support 10. The other end is provided with a penetrating portion 6 c of the side surface 6 a
And is connected to the tip of the rod of the drive cylinder 12 directly or via an intermediary member. The expansion / contraction operation of the drive cylinder 12 is controlled by the control unit 1.
4.
【0039】また、カセット載置部6の側面6aにはセ
ンサ15が取付けられている。センサ15は、作業者の
接近を検出し、検出信号を制御部14に出力する。カセ
ット交換時に、作業者が未処理基板が格納されたカセッ
トを保持して基板処理装置のカセット載置部6に接近す
ると、センサ15が作業者の接近を検出し、検出信号を
制御部14に出力する。制御部14は、近接センサ15
からの出力信号に基づいて駆動シリンダ12を駆動し、
ロッドを伸長させる。これにより、リンク11がカセッ
ト支持台10を回動し、カセット支持台10aの支持面
10が水平となる位置で停止する。そこで、作業者はカ
セット支持台10の支持面10a上に未処理のカセット
を一時的に載置し、さらに、カセット載置部6から交換
すべきカセット101を取り出してカセット支持台10
の支持面10a上に載置する。そして、未処理基板が収
納されたカセット101を手で持ち上げ、カセット載置
部6の所定の位置にカセット101を載置する。A sensor 15 is attached to the side surface 6a of the cassette mounting portion 6. The sensor 15 detects the approach of the worker and outputs a detection signal to the control unit 14. When the operator replaces the cassette and approaches the cassette mounting portion 6 of the substrate processing apparatus while holding the cassette in which the unprocessed substrates are stored, the sensor 15 detects the approach of the operator and sends a detection signal to the control portion 14. Output. The control unit 14 includes a proximity sensor 15
Drives the drive cylinder 12 based on the output signal from the
Extend the rod. As a result, the link 11 rotates the cassette support 10 and stops at a position where the support surface 10 of the cassette support 10a is horizontal. Therefore, the operator temporarily places an unprocessed cassette on the support surface 10a of the cassette support table 10, and further takes out the cassette 101 to be replaced from the cassette mounting section 6 and removes the cassette 101.
On the supporting surface 10a. Then, the cassette 101 containing the unprocessed substrates is lifted by hand, and the cassette 101 is placed at a predetermined position of the cassette placing section 6.
【0040】このような動作を繰り返すことにより、処
理済基板が収納されたカセット101と未処理基板が収
納されたカセット101とを順次交換することができ
る。By repeating such an operation, the cassette 101 storing the processed substrates and the cassette 101 storing the unprocessed substrates can be sequentially exchanged.
【0041】交換作業が終了し、作業者がカセット載置
部6から離れると、センサ15が作業者の離間を検出
し、制御部14の制御動作に基づいて駆動シリンダ12
のロッドが縮退し、カセット支持台10が回動して、凹
部6b内に収納される。When the replacement operation is completed and the worker separates from the cassette mounting portion 6, the sensor 15 detects the separation of the worker, and based on the control operation of the control portion 14, the drive cylinder 12
Is retracted, the cassette support 10 rotates, and is accommodated in the recess 6b.
【0042】このように、カセット101の交換作業時
に開閉自在なカセット支持台10を用いることにより、
作業者はカセット101を1個ずつ両手で取り扱うこと
ができ、安全かつ楽な姿勢で作業することができる。ま
た、カセット支持台10は収納可能に構成されているた
め、カセット支持台101によって基板処理装置の平面
占有面積が増加することがない。したがって、カセット
101の交換専用の置き台30(図6参照)を付帯設備
として常時必要とする従来の基板処理装置に比べ、基板
処理装置のフットプリントを低減することができる。As described above, by using the cassette support base 10 which can be opened and closed at the time of replacing the cassette 101,
The operator can handle the cassettes 101 one by one with both hands, and can work in a safe and comfortable posture. Further, since the cassette support 10 is configured to be housed, the cassette support 101 does not increase the plane occupied area of the substrate processing apparatus. Therefore, the footprint of the substrate processing apparatus can be reduced as compared with the conventional substrate processing apparatus that always requires the table 30 (see FIG. 6) dedicated to replacing the cassette 101 as an auxiliary facility.
【0043】なお、センサ15に代えて、作業者が足で
操作が可能なスイッチ(フットスイッチ)を設け、フッ
トスイッチの開閉によりカセット支持台10を開閉させ
るようにしてもよい。さらに、カセット支持台10を開
閉する手段として、駆動シリンダ12に限らず、油空圧
シリンダやモータ等の他の駆動手段を用いてもよい。さ
らに、カセット支持台10を開閉させる機構としては、
図2に示すリンク機構に限らず、他のリンク機構あるい
はワイヤとプーリを用いた機構等を用いてもよい。ま
た、カセット支持台10を手動で開閉する構造としても
よい。Note that, instead of the sensor 15, a switch (foot switch) that can be operated by a worker with a foot may be provided, and the cassette support 10 may be opened and closed by opening and closing the foot switch. Further, the means for opening and closing the cassette support base 10 is not limited to the drive cylinder 12, and other drive means such as a hydraulic / pneumatic cylinder or a motor may be used. Further, the mechanism for opening and closing the cassette support table 10 includes:
Not limited to the link mechanism shown in FIG. 2, another link mechanism or a mechanism using a wire and a pulley may be used. Further, the cassette support 10 may be manually opened and closed.
【0044】図3は、カセット支持機構の第2の例を示
す斜視図である。図3に示すカセット支持機構は、図2
に示すカセット支持機構に対し、カセット支持台10の
開閉方向が逆に構成されている。すなわち、カセット支
持台10は収納状態におけるカセット支持台10の上端
縁を中心に回動し、基板載置部6の側面6aに対して開
閉自在に取り付けられている。FIG. 3 is a perspective view showing a second example of the cassette support mechanism. The cassette support mechanism shown in FIG.
The opening / closing direction of the cassette support table 10 is reversed with respect to the cassette support mechanism shown in FIG. That is, the cassette support 10 rotates around the upper end edge of the cassette support 10 in the housed state, and is attached to the side surface 6 a of the substrate mounting portion 6 so as to be openable and closable.
【0045】開放時には駆動シリダ12のロッドが伸長
し、リンク11がカセット支持台10の下端を外方に向
かって押し出すことにより、カセット支持台10がその
上端縁を中心に回動し、支持面10aが水平となった位
置で停止する。At the time of opening, the rod of the drive cylinder 12 extends, and the link 11 pushes the lower end of the cassette support 10 outward, so that the cassette support 10 rotates about its upper edge and the support surface. Stop at the position where 10a is horizontal.
【0046】また、収納時には、駆動シリンダ12のロ
ッドが縮退し、カセット支持台10が回動して凹部6b
内に収納される。During storage, the rod of the drive cylinder 12 is retracted, and the cassette support 10 rotates to
Is stored inside.
【0047】なお、図示を省略しているが、本例による
カセット支持機構においても、第1の例によるカセット
支持機構と同様に、センサ15、制御部14を備えても
よく、またフットスイッチによる駆動シリンダ12の駆
動機構を備えてもよい。さらに、リンク11および駆動
シリンダ12に代えて、カセット支持台10を回動させ
る他の機構および駆動源を用いてもよい。さらに、カセ
ット支持台10を手動で開閉するように構成してもよ
い。Although not shown, the cassette support mechanism according to the present embodiment may include the sensor 15 and the control unit 14 similarly to the cassette support mechanism according to the first embodiment, and may be provided with a foot switch. A drive mechanism for the drive cylinder 12 may be provided. Further, instead of the link 11 and the drive cylinder 12, another mechanism for rotating the cassette support 10 and a drive source may be used. Further, the cassette support table 10 may be configured to be opened and closed manually.
【0048】図4は、カセット支持機構の第3の例を示
す斜視図である。第3の例によるカセット支持機構は、
カセット支持台10が水平方向に移動可能に形成されて
いる。カセット支持台10の水平方向への駆動機構は、
モータ(図示省略)に連結される駆動プーリ22、従動
プーリ21および駆動プーリ22と従動プーリとの間に
掛け渡されたベルト20とから構成される。カセット支
持台10は、連結部材23によりベルト20の一部に連
結されている。そして、駆動プーリ22が回転し、ベル
ト20が回動することにより、カセット支持台10がカ
セット載置部6の内部に収納された位置とカセット載置
部6の側面6aから外方に突出した位置との間を往復移
動する。FIG. 4 is a perspective view showing a third example of the cassette support mechanism. The cassette supporting mechanism according to the third example includes:
The cassette support 10 is formed so as to be movable in the horizontal direction. The driving mechanism of the cassette support base 10 in the horizontal direction includes
The driving pulley 22 is connected to a motor (not shown), a driven pulley 21, and a belt 20 stretched between the driving pulley 22 and the driven pulley. The cassette support 10 is connected to a part of the belt 20 by a connecting member 23. Then, as the drive pulley 22 rotates and the belt 20 rotates, the cassette support 10 protrudes outward from the position stored inside the cassette mounting portion 6 and the side surface 6 a of the cassette mounting portion 6. Reciprocate between positions.
【0049】また、図4に示す例では、2枚のカセット
支持台10,10が設けられている。これにより、カセ
ット支持台10の支持面10a上に、より多くのカセッ
ト101を一時的に載置することができる。In the example shown in FIG. 4, two cassette supporting tables 10 are provided. Thus, more cassettes 101 can be temporarily placed on the support surface 10a of the cassette support base 10.
【0050】なお、この第3の例によるカセット支持機
構も、第1および第2の例によるカセット支持機構と同
様に、センサ15および制御部14を用いて自動的にカ
セット支持台10の移動を行うように構成してもよく、
あるいは手動によりカセット支持台10の移動を行うよ
うに構成してもよい。また、センサ15に代えてフット
スイッチ等を用いてもよい。The cassette supporting mechanism according to the third example also automatically moves the cassette supporting table 10 using the sensor 15 and the control unit 14, similarly to the cassette supporting mechanisms according to the first and second examples. May be configured to do
Alternatively, the cassette support 10 may be manually moved. Further, a foot switch or the like may be used instead of the sensor 15.
【0051】さらに、図5はカセット支持機構の第4の
例を示す斜視図である。第4の例によるカセット支持機
構は、第1〜第3の例によるカセット支持機構の構成に
加え、カセット101を搬送する機構をさらに備えたも
のである。FIG. 5 is a perspective view showing a fourth example of the cassette support mechanism. The cassette support mechanism according to the fourth example further includes a mechanism for transporting the cassette 101 in addition to the configuration of the cassette support mechanism according to the first to third examples.
【0052】カセット搬送機構は、例えばカセット10
1の上端を保持する保持部30と、保持部30を支持す
る支持フレーム31と、支持フレーム31をカセット支
持台10の上方とカセット載置部6の上方との間で移動
させる移動機構部32とから構成されている。なお、こ
の例におけるカセット支持台10およびカセット支持台
10を移動させる機構は、第1〜第3の例による同様の
機構を適用することができる。The cassette transport mechanism is, for example, a cassette 10
1, a holding frame 30 that supports the holding unit 30, and a moving mechanism unit 32 that moves the supporting frame 31 between above the cassette support table 10 and above the cassette mounting unit 6. It is composed of Note that the same mechanism as in the first to third examples can be applied to the cassette support 10 and the mechanism for moving the cassette support 10 in this example.
【0053】最近では、基板の大径化に伴い、カセット
101の1個当りの重量が大きくなってきている。この
ため、作業者が両手でカセット101を取り扱うとして
も、容易でない場合がある。そこで、カセット支持台1
0上に置かれたカセット101をカセット載置部6の所
定位置に移動する場合、移動機構部32を駆動し、支持
フレーム31をカセット支持台10の上方に移動させ、
保持部30を開閉させてカセット101の上端を保持す
る。その後、移動機構部32をカセット載置部6側に移
動させる。この際、支持フレーム31は保持部30を水
平に保持した状態で移動する。そして、支持フレーム3
1がカセット載置部6の上方位置に移動すると、保持部
30を下降させ、カセット載置部6上の所定位置にカセ
ット101を載置する。さらに、保持部30をカセット
101から開放して元の位置に上昇させる。また、基板
載置部6上に置かれたカセット101をカセット支持台
10上に移動する場合には、上記と逆の動作が行われ
る。Recently, as the diameter of the substrate has been increased, the weight per cassette 101 has increased. Therefore, even if the operator handles the cassette 101 with both hands, it may not be easy. Therefore, the cassette support 1
When moving the cassette 101 placed on the cassette mounting portion 6 to a predetermined position of the cassette mounting portion 6, the moving mechanism portion 32 is driven to move the support frame 31 above the cassette support base 10,
The holding unit 30 is opened and closed to hold the upper end of the cassette 101. Thereafter, the moving mechanism 32 is moved to the cassette mounting section 6 side. At this time, the support frame 31 moves while holding the holding unit 30 horizontally. And the support frame 3
When 1 moves to a position above the cassette mounting portion 6, the holding portion 30 is lowered, and the cassette 101 is mounted at a predetermined position on the cassette mounting portion 6. Further, the holding unit 30 is released from the cassette 101 and is raised to the original position. When the cassette 101 placed on the substrate mounting unit 6 is moved onto the cassette support table 10, the reverse operation is performed.
【0054】このように、カセット載置部6とカセット
支持台10との間のカセット101の移送を搬送機構を
用いて行うことにより、重量の大きいカセット101の
移送を容易にかつ安全に行うことができる。As described above, the transfer of the cassette 101 between the cassette mounting portion 6 and the cassette support table 10 is performed by using the transport mechanism, so that the heavy cassette 101 can be easily and safely transferred. Can be.
【0055】なお、図5に示すカセット搬送機構は一例
であり、カセット101を保持して移動しうる機構であ
れば、周知の他の機構を用いることもできる。例えば、
カセット101を保持して昇降する機構と、カセット1
01を保持した状態で水平方向に移動する機構とを組み
合わせた機構を用いてもよい。The cassette transport mechanism shown in FIG. 5 is an example, and any other known mechanism that can move while holding the cassette 101 can be used. For example,
A mechanism for holding and raising and lowering the cassette 101;
A mechanism combining a mechanism that moves in the horizontal direction while holding 01 may be used.
【0056】なお、このカセット搬送機構は、作業終了
後にはカセット載置部6の上方に待機しうる構造が望ま
しい。It is preferable that the cassette transport mechanism has a structure capable of waiting above the cassette mounting portion 6 after the operation is completed.
【0057】上記第1〜第4の例によるカセット支持機
構において、支持部材10はカセット載置部6の載置面
6eよりも低い位置に配設されている。このため、作業
者がカセット101を一時的に置いたり、持ち上げたり
する動作が容易となる。In the cassette support mechanisms according to the first to fourth examples, the support member 10 is disposed at a position lower than the mounting surface 6e of the cassette mounting portion 6. For this reason, the operation | work which an operator puts the cassette 101 temporarily and lifts becomes easy.
【0058】また、上記実施例に示すカセット保持機構
は、基板処理装置の処理領域に配置される各ユニットの
種類あるいは配置形態によらず、種々の基板処理装置に
適用することが可能である。Further, the cassette holding mechanism shown in the above embodiment can be applied to various substrate processing apparatuses irrespective of the type or arrangement of each unit disposed in the processing area of the substrate processing apparatus.
【図1】本発明の実施例による基板処理装置の斜視図で
ある。FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】カセット支持機構の第1の例を示す斜視図であ
る。FIG. 2 is a perspective view showing a first example of a cassette support mechanism.
【図3】カセット支持機構の第2の例を示す斜視図であ
る。FIG. 3 is a perspective view showing a second example of the cassette support mechanism.
【図4】カセット支持機構の第3の例を示す斜視図であ
る。FIG. 4 is a perspective view showing a third example of the cassette support mechanism.
【図5】カセット支持機構の第4の例を示す斜視図であ
る。FIG. 5 is a perspective view showing a fourth example of the cassette support mechanism.
【図6】従来の基板処理装置の一例を示す斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a conventional substrate processing apparatus.
6 基板載置部 6a 側面 6b 凹部 10 カセット支持台 10a 支持面 11 リンク 12 駆動シリンダ Reference Signs List 6 substrate mounting portion 6a side surface 6b concave portion 10 cassette support base 10a support surface 11 link 12 drive cylinder
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 辻 雅夫 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 岩見 優樹 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 西村 讓一 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 森田 彰彦 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 西村 和浩 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Masao Tsuji 322 Hahazushi Furukawa-cho, Fushimi-ku, Kyoto Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Dainichi Screen Manufacturing Co., Ltd. (72) Inside the Rakusai Office (72) Inventor Yoichi Nishimura Kyoto City 322 Hashinashi Furukawacho Dainichi Screen Manufacturing Co., Ltd.Rakusai Office
Claims (7)
と、前記処理部との間で受け渡される基板を収納した基
板収納容器を支持する載置面を有する基板搬入搬出部と
を備えてなる基板処理装置において、 前記基板収納容器を一時的に支持する支持部材が前記基
板搬入搬出部から外方に突出した位置と、前記基板搬入
搬出部に収納された位置とを移動可能に設けられたこと
を特徴とする基板処理装置。A processing unit configured to perform a predetermined process on a substrate; and a substrate loading / unloading unit having a mounting surface for supporting a substrate storage container storing a substrate transferred to and from the processing unit. In the substrate processing apparatus, a support member for temporarily supporting the substrate storage container is provided so as to be movable between a position protruding outward from the substrate loading / unloading portion and a position stored in the substrate loading / unloading portion. A substrate processing apparatus characterized by being performed.
持する支持面を有し、 前記支持面が前記搬入搬出部から外方に水平に突出した
位置と前記基板搬入搬出部の側面に沿う位置との間で開
閉可能に設けられたことを特徴とする請求項1記載の基
板処理装置。2. The support member has a support surface for supporting the substrate storage container, and extends along a position where the support surface protrudes horizontally outward from the loading / unloading portion and a side surface of the substrate loading / unloading portion. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate processing apparatus is provided so as to be openable and closable with a position.
持する支持面を有し、 前記支持面が前記基板搬入搬出部から外方に水平に突出
した位置と前記基板搬入搬出部の内部に収納された位置
との間で進退可能に設けられたことを特徴とする請求項
1記載の基板処理装置。3. The support member has a support surface for supporting the substrate storage container, and is provided at a position where the support surface horizontally projects outward from the substrate carry-in / out portion and inside the substrate carry-in / out portion. 2. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate processing apparatus is provided so as to be able to advance and retreat between the stored position.
外方に突出した位置と前記基板搬入搬出部に収納された
位置とに移動させる移動手段をさらに備えたことを特徴
とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。4. The apparatus according to claim 1, further comprising a moving unit configured to move the support member to a position protruding outward from the substrate loading / unloading unit and to a position stored in the substrate loading / unloading unit. The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 3.
前記支持部材の前記支持面は、前記基板搬入搬出部の前
記載置面よりも低い位置に配設されたことを特徴とする
請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。5. The device according to claim 1, wherein the support surface of the support member protruding outward from the substrate loading / unloading portion is disposed at a position lower than the mounting surface of the substrate loading / unloading portion. Item 5. The substrate processing apparatus according to any one of Items 1 to 4.
入搬出部の前記載置面との間で前記基板収納容器を保持
して移動させる搬送手段をさらに備えたことを特徴とす
る請求項1〜5のいずれかに記載の基板処理装置。6. A transport unit for holding and moving the substrate storage container between the support surface of the support member and the mounting surface of the substrate loading / unloading unit. The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 5.
の間で受け渡される基板を収納した基板収納容器を支持
する支持部を有する基板搬入搬出装置において、 前記基板収納容器を支持可能な支持部材が、前記支持部
から外方に突出した位置と前記支持部に収納された位置
とを移動可能に設けられたことを特徴とする基板搬入搬
出装置。7. A substrate loading / unloading device having a support portion for supporting a substrate storage container storing a substrate to be transferred to and from a processing section for performing predetermined processing on the substrate, wherein the substrate storage container can be supported. And a support member movably provided between a position protruding outward from the support portion and a position housed in the support portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6336197A JPH10261686A (en) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | Substrate treating apparatus and substrate carrying-in/ out device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6336197A JPH10261686A (en) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | Substrate treating apparatus and substrate carrying-in/ out device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10261686A true JPH10261686A (en) | 1998-09-29 |
Family
ID=13227059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6336197A Pending JPH10261686A (en) | 1997-03-17 | 1997-03-17 | Substrate treating apparatus and substrate carrying-in/ out device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10261686A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002231792A (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-16 | Tokyo Electron Ltd | Substrate processing device |
JP2020077737A (en) * | 2018-11-07 | 2020-05-21 | 株式会社ディスコ | Cassette placement mechanism |
-
1997
- 1997-03-17 JP JP6336197A patent/JPH10261686A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002231792A (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-16 | Tokyo Electron Ltd | Substrate processing device |
JP2020077737A (en) * | 2018-11-07 | 2020-05-21 | 株式会社ディスコ | Cassette placement mechanism |
TWI827722B (en) * | 2018-11-07 | 2024-01-01 | 日商迪思科股份有限公司 | Processing device and cassette loading mechanism |
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