JPH10256352A - 基板の位置決め装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ハンドの熱による経時的な膨張に影響されず、
基板に大きな負荷をかけずに基板を正確に位置決めでき
る基板の位置決め装置を提案する。 【解決手段】基板Ｓを摺動自在に載置したハンド６の一
側方には、基板Ｓの外周縁に当接するローラ１２と、ロ
ーラ１２を基板Ｓとの近接，離反方向に往復駆動するシ
リンダ１７と、基板Ｓとの近接方向への駆動ストローク
を規制するストローク規制棒１９とを有する基準側プッ
シャ１１が設けられ、基準側プッシャと対向する位置に
は、ローラ２２と、ローラ２２を基板Ｓとの近接，離反
方向に往復駆動するシリンダ２７とを有する押圧側プッ
シャ２１が設けられる。押圧側プッシャ２１の押圧力は
基準側プッシャ１１の押圧力より小さくかつ基板Ｓの平
面方向の破壊強度より十分小さな力に設定され、基準側
プッシャ１１は押圧側プッシャ２１より先に基板との近
接方向に駆動され、かつ押圧側プッシャ２１より後で基
板との離反方向に駆動される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は圧電基板や半導体基
板などの基板をハンド上で位置決めする位置決め装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、圧電基板や半導体基板に対し、成
膜や基板加熱といった処理を行なうため、基板をハンド
上に支持してロードロック室のカセットからプロセス室
へ搬送し、処理後、プロセス室から再びハンドに載せて
ロードロック室へ戻すようにした製造装置が知られてい
る。この場合、プロセス室内の所定位置に基板を正確に
載置するには、基板を搬送途中のハンド上で位置決めす
るのが効果的である。

【０００３】このような位置決め方法として、例えば特
公平６−66375 号公報のように、ハンドに円弧状の当た
り面を設け、ハンドをカセット内の基板の下面位置に挿
入し、複数のローラを有する押出手段によって基板を反
対側から押し出し、ハンドの当たり面に押し当てること
により、基板を位置決めするようにしたものが提案され
ている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、装置の運転
時、高温の基板を搬送する場合があり、この場合、ハン
ドは基板の熱によって熱膨張を起こす。このため、ハン
ドの当たり面を基準位置としていると、熱膨張によりハ
ンドを備えたハンドラの駆動中心から基準までの距離が
ずれてくる。この基準に合わせて位置決めすると、ハン
ドからプロセス室の基板載置位置に基板を移載する際、
基板の位置に狂いが生じる恐れがある。

【０００５】そこで、本発明の目的は、ハンドの熱によ
る経時的な膨張に影響されず、基板に大きな負荷をかけ
ずに基板を正確に位置決めできる基板の位置決め装置を
提案することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明は、基板より幅狭なハンドの
上に基板を摺動自在に載置し、このハンド上で基板を位
置決めする装置であって、ハンドの一側方には、基板の
外周縁に当接する当接部と、当接部を基板との近接方向
および離反方向に往復駆動する駆動手段と、基板との近
接方向への駆動ストロークを規制するストローク規制手
段とを有する基準側プッシャが設けられ、ハンドを間に
して基準側プッシャと対向する位置には、基板の外周縁
に当接する当接部と、当接部を基板との近接方向および
離反方向に往復駆動する駆動手段とを有する押圧側プッ
シャが設けられ、押圧側プッシャの押圧力は基準側プッ
シャの押圧力より小さくかつ基板の平面方向の破壊強度
より十分小さな力に設定され、基準側および押圧側のプ
ッシャが基板との近接方向のストローク限度位置まで駆
動されたとき、双方のプッシャの当接部の間隔は基板の
外径寸法公差より小さく設定され、基準側プッシャは押
圧側プッシャより先に基板との近接方向に駆動され、か
つ押圧側プッシャより後で基板との離反方向に駆動され
ることを特徴とする。

【０００７】基板をハンド上に載せた状態で、まず基準
側プッシャが駆動され、ハンド上の基板を片側へ押圧す
る。この基準側プッシャの停止位置が基準位置となる。
次に、押圧側プッシャを駆動することにより、基板の反
対側を押圧して基板をハンド上の所定位置に位置決めす
る。このとき、押圧側プッシャの押圧力は基準側プッシ
ャの押圧力より小さいので、基板が押し返されることが
なく、基準位置で安定する。押圧側プッシャの押圧力は
基板の平面方向の破壊強度より十分小さな力に設定さ
れ、しかも基準側プッシャと異なるタイミングで基板を
押すので、基板に加わる衝撃荷重が小さく、割れやクラ
ックなどが生じる恐れがない。基準側および押圧側のプ
ッシャが基板との近接方向のストローク限度位置まで駆
動されたとき、双方のプッシャの当接部の間隔が基板の
外径寸法公差より小さく設定されているので、基板の外
径誤差があっても、常に安定して位置決めできる。

【０００８】基板の両側を基準側および押圧側プッシャ
で挟んで位置決めした後、先に押圧側プッシャが退避
し、その後で基準側プッシャが退避する。そのため、プ
ッシャが離れた時に基板が位置ずれすることがない。

【０００９】また、請求項２に記載の発明は、基板より
幅狭なハンドの上に基板を摺動自在に載置し、このハン
ド上で基板を位置決めする装置であって、ハンドの一側
方には、基板の外周縁を位置規制する当接部と、当接部
を基板との近接方向および離反方向に往復駆動する駆動
手段と、基板との近接方向への駆動ストロークを規制す
るストローク規制手段とを有する第１のプッシャが設け
られ、ハンドを間にして第１のプッシャと対向する位置
には、基板の外周縁を位置規制する当接部と、当接部を
基板との近接方向および離反方向に往復駆動する駆動手
段と、基板との近接方向への駆動ストロークを規制する
ストローク規制手段とを有する第２のプッシャが設けら
れ、第１および第２のプッシャが基板との近接方向のス
トローク限度位置まで駆動されたとき、双方のプッシャ
の当接部の間隔は基板の外径寸法公差の最大値に設定さ
れていることを特徴とする。

【００１０】この発明では、基板を両側からプッシャで
挟み付けて位置決めするのではなく、プッシャの当接部
の最近接位置の間に基板を位置させることにより、基板
を位置決めするものである。基板の外径寸法公差を位置
決め精度に対して厳しくできる場合、双方のプッシャの
当接部の間隔を基板の外径寸法公差の最大値に設定する
ことにより、基板に負荷を与えずに、基板の外径寸法公
差内で位置決め精度を得ることができる。例えば、基板
の位置決め精度が±０．１ｍｍで、基板の外径寸法公差
がＤ±０．０５ｍｍの場合、双方のプッシャの当接部を
Ｄ＋０．０５ｍｍの基板に対して接するように、ストロ
ーク規制手段を調整すればよい。

【００１１】請求項３では、請求項１または２に記載の
位置決め装置を基板の製造装置に適用したものである。
すなわち、中央部にハンドラを備えた搬送室が設けら
れ、この搬送室の周囲に単一のロードロック室と複数の
プロセス室とが設けられ、ロードロック室には複数の基
板を収容したカセットが設けられ、上記搬送室，ロード
ロック室およびプロセス室は大気中と隔離されており、
上記ハンドラはロードロック室内に収容された基板をハ
ンドに載せて取り出し、搬送室を経ていずれかのプロセ
ス室へ搬送した後、基板をプロセス室から搬送室を経て
ロードロック室へ戻すようにした基板の製造装置であっ
て、上記プッシャの駆動手段はロードロック室の両側の
大気中に配置されており、プッシャの当接部は隔壁を貫
通してロードロック室内に挿入されており、上記当接部
と隔壁との間に大気中とロードロック室内とを遮蔽する
シール手段が設けられていることを特徴とする。

【００１２】この場合には、駆動部が大気中に置かれて
いるので、基板処理室（搬送室，ロードロック室，プロ
セス室）内でパーティクルが発生せず、基板の歩留りを
悪化させない。また、位置決め装置をロードロック室の
側壁に取り付けるようにしたので、カセットから取り出
した基板を効率よく位置決めでき、生産性が高くなると
ともに、位置決め装置のための余分なスペースが不要と
なり、スペース効率が向上するという利点がある。

【００１３】なお、本発明において、当接部とは基板の
外周を両側から押圧して位置決め、あるいは位置規制す
るものであればよく、２個のローラやピンで構成された
ものに限らない。例えば、一方に２個以上のローラを設
け、他方に平面部を設けてもよい。さらには、基板がそ
の外周に１個のＶ字溝を有する場合、一方に基板の外周
に当接する２以上のローラ、他方にＶ字溝に嵌合する１
個のローラを設けてもよい。いずれにしても、基板を安
定に保持できる組み合わせであればよい。本発明におい
て基板とは、圧電基板や半導体基板、ガラス基板など基
板そのものに限らず、基板を保持した基板フレームであ
ってもよい。また、基板の形状は円形に限らないが、円
形の場合には簡単な当接部で位置決めができる利点があ
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】図１，図２は本発明にかかる位置
決め装置を備えた基板の製造装置の一例を示す。この製
造装置は、中央部に六角形状の搬送室１が設けられ、こ
の搬送室１の周囲にローダ側のロードロック室２とアン
ローダ側のロードロック室３と４個のプロセス室９とが
設けられている。なお、搬送室１は多角形であればよ
く、六角形に限らない。搬送室１とロードロック室２，
３およびプロセス室９との間には、両室の間を気密的に
遮蔽するゲートバルブ４が設けられている。上記搬送室
１，ロードロック室２，３およびプロセス室９は大気中
と隔離され、内部は真空となっている。

【００１５】搬送室１には、ハンド６を有するハンドラ
５が設けられている。ハンドラ５は搬送室１の中心位置
で旋回可能に設置されており、ハンド６を任意の室２，
３，９に挿入できるようハンド６を進退させることがで
きる。ハンド６は円板状の基板Ｓの直径より幅狭な平板
で形成されている。

【００１６】ローダ側のロードロック室２には、処理前
の複数の基板Ｓを収容するカセット７が設けられ、この
カセット７はエレベータ８によって上下に昇降する。カ
セット７は周知のように、両側壁の内面に棚板を備えて
おり、この棚板上に基板Ｓの両側縁部を載せることによ
り、複数枚の基板Ｓを水平に上下方向に間隔を開けて収
容するようになっている。そして、ハンド６を棚板の間
に挿入し、エレベータ８を一段だけ降下させることによ
り、基板Ｓをハンド６上に乗り移らせることができる。

【００１７】アンローダ側のロードロック室３もローダ
側のロードロック室２と同様の構成よりなり、内部にカ
セット７とエレベータ８とが収容されている。カセット
７には処理済みの基板Ｓを収容できるようになってい
る。

【００１８】ハンドラ５は、ローダ側のロードロック室
２内に収容された基板Ｓをハンド６に載せて取り出し、
搬送室１へ退避した後、所定角度旋回し、いずれかのプ
ロセス室９へハンド６を挿入し、プロセス室９内に設置
された基板載置テーブル９ａに基板Ｓを載せた後、搬送
室１へ退避する。プロセス室９では、成膜や基板加熱な
どの処理が実施される。ゲートバルブ４を閉じて所定の
処理を行なった後、ゲートバルブ４が開かれると、ハン
ド６をプロセス室９に挿入して処理済みの基板Ｓを取り
出し、アンローダ側のロードロック室３のカセット７に
戻すようになっている。

【００１９】ローダ側のロードロック室２の両側には、
図３，図４に示す位置決め装置１０が設けられている。
この位置決め装置１０は、基準側プッシャ１１と押圧側
プッシャ２１とで構成され、ハンド６上に載置された基
板Ｓを両側から挟んで位置決めするものである。

【００２０】基準側プッシャ１１はハンド６の一側方に
配置されており、基板Ｓの外周縁に当接可能な２個のロ
ーラ（当接部）１２、ローラ１２を支持した支持板１
３、ロードロック室２の側壁２ａに固定されたハウジン
グ１４、支持板１３に連結され、ハウジング１４を貫通
するシャフト１５、シャフト１５の外端部に連結された
プレート１６、プレート１６を基板Ｓとの近接方向およ
び離反方向に往復駆動するシリンダ（駆動手段）１７、
ハウジング１４とプレート１６との間をシールする伸縮
自在なベローズ１８、プレート１６に固定され、基板Ｓ
との近接方向への駆動ストロークを規制するストローク
規制棒１９、ストローク規制棒１９を位置規制する規制
板２０などで構成されている。

【００２１】一方、ハンド６を間にして基準側プッシャ
１１と対向する位置には、押圧側プッシャ２１が設けら
れている。押圧側プッシャ２１は、基板Ｓの外周縁に当
接可能な２個のローラ（当接部）２２と、ローラ２２を
支持した支持板２３、ロードロック室２の側壁２ａに固
定されたハウジング２４、支持板２３に連結され、ハウ
ジング２４を貫通するシャフト２５、シャフト２５の外
端部に連結されたプレート２６、プレート２６を基板Ｓ
との近接方向および離反方向に往復駆動するシリンダ
（駆動手段）２７、ハウジング２４とプレート２６との
間をシールする伸縮自在なベローズ２８などで構成され
ている。

【００２２】上記シリンダ１７，２７は、ハウジング１
４，２４の背面にフレーム１４ａ，２４ａを介して固定
されている。また、ハウジング１４，２４と側壁２ａと
の間にはＯリング１４ｂ，２４ｂが設けられ、両者の間
をシールしている。このように、基準側および押圧側プ
ッシャ１１，２１の全ての部品がハウジング１４，２４
にユニットとして組付られているので、ハウジング１
４，２４を側壁２ａから着脱するだけで、プッシャ１
１，２１を容易にメンテナンスできる。しかも、プッシ
ャ１１，２１をロードロック室２の側壁２ａに取り付け
るようにしたので、位置決め装置のための余分なスペー
スが不要となり、スペース効率が向上する。

【００２３】上記のように駆動手段であるシリンダ１
７，２７は大気中に配置され、ローラ１２，２２はロー
ドロック室２内に配置され、ハウジング１４，２４とプ
レート１６，２６との間がベローズ１８，２８によって
シールされているので、ロードロック室２内でパーティ
クルが発生しない。なお、真空シールとしては、ベロー
ズ１８，２８に代えてＯリングなどのシールを用いても
よい。

【００２４】押圧側プッシャ２１のシリンダ２７の推力
は基準側プッシャ１１のシリンダ１７の推力より小さ
く、かつ基板Ｓの平面方向の破壊強度より十分小さな力
に設定されている。なお、押圧力の設定方法としては、
シリンダ２７の推力で設定する方法に代えて、例えばロ
ーラ２２を支持するシャフト２５の途中にスプリングを
設け、このスプリングのばね荷重によって押圧力を設定
してもよい。

【００２５】基準側プッシャ１１をそのストローク規制
棒１９の先端ツバ部が規制板２０に当たる位置まで前進
駆動させ、かつ押圧側プッシャ２１を限度位置まで前進
駆動させた時、図３に二点鎖線で示すように、双方のプ
ッシャ１１，２１のローラ１２，２２の間隔が基板Ｓの
外径寸法公差より小さくなるよう設定されている。つま
り、基板Ｓの外径誤差が如何に大きくても、必ずローラ
１２，２２によって基板Ｓを挟持できるよう設定されて
いる。

【００２６】さらに、基準側プッシャ１１のシリンダ１
７は、押圧側プッシャ２１のシリンダ２７より先に基板
Ｓとの近接方向に駆動され、かつ押圧側プッシャ２１よ
り後で基板Ｓとの離反方向に駆動されるよう、図示しな
い制御装置によって制御されている。

【００２７】次に、上記構成よりなる位置決め装置１０
の動作を説明する。基板Ｓをハンド６上に載せた状態
で、まず基準側プッシャ１１のシリンダ１７が駆動さ
れ、ローラ１２が基板６を片側へ押圧する。この基準側
のローラ１２の停止位置が基準位置となる。次に、押圧
側プッシャ２１のシリンダ２７が駆動され、ローラ２２
が基板Ｓの反対側を押圧して基板Ｓをハンド６上の所定
位置に位置決めする。このとき、押圧側のシリンダ２７
の推力は基準側のシリンダ１７の推力より小さいので、
基板Ｓが基準側プッシャ１１方向に押し返されることが
なく、基準位置で安定する。しかも、押圧側のシリンダ
２７の推力は基板Ｓの平面方向の破壊強度より十分小さ
な力に設定され、しかも基準側シリンダ１７と異なるタ
イミングで基板Ｓを押すので、基板Ｓに加わる衝撃荷重
が小さく、割れやクラックなどが生じることがない。

【００２８】また、基準側および押圧側のプッシャ１
１，２１が最接近位置まで駆動されたとき、双方のロー
ラ１２，２２の間隔が基板Ｓの外径寸法公差より小さく
設定されているので、基板Ｓに外径誤差があっても、常
に一定の位置に基板Ｓを位置決めできる。

【００２９】基板Ｓの両側を基準側および押圧側プッシ
ャ１１，２１で挟んで位置決めした後、先に押圧側プッ
シャ２１が退避し、その後で基準側プッシャ１１が退避
する。この時、基準側プッシャ１１はストローク規制棒
１９によって位置が規定されているので、押圧側のロー
ラ２２が基板Ｓから離れた時に基板Ｓが位置ずれを起こ
さない。そして、ローラ１２が基板Ｓから離れることに
よって、基板Ｓはハンド６上の所定位置に保持される。

【００３０】上記のようにハンド６上に位置決めされた
基板Ｓは、ハンドラ５によって搬送室１を経てプロセス
室９へ運ばれ、基板載置テーブル９ａに載置される。ハ
ンド６はロードロック室２，３とプロセス室９との間を
往復駆動されるので、処理の終了した高温の基板Ｓを載
置することがある。そのため、ハンド６やハンドラ５も
熱膨張を起こし、ハンドラ５の旋回中心から基板Ｓの載
置位置までの距離がずれてくる。ところが、本発明では
ハンド６に位置決め用の当たり面を形成していないの
で、ハンド６が熱膨張を起こしてもプッシャ１１，２１
は熱の影響を受けず、ハンドラ５の旋回中心から基板Ｓ
の載置位置までの距離は一定している。そのため、プロ
セス室９の基板載置テーブル９ａ上に移載する際、常に
一定位置に載置できる。

【００３１】図５は本発明にかかる位置決め装置の第２
実施例を示す。この実施例の位置決め装置３０もロード
ロック室２の両側に設けられている。この位置決め装置
３０は、第１のプッシャ３１と第２のプッシャ４１とで
構成され、ハンド６上の基板Ｓを一定範囲内に位置決め
するものである。

【００３２】第１のプッシャ３１はハンド６の一側方に
配置されており、基板Ｓの外周縁を位置規制する２個の
ローラ（当接部）３２、ローラ３２を支持した支持板３
３、ロードロック室２の側壁２ａに固定されたハウジン
グ３４、支持板３３に連結され、ハウジング３４を貫通
するシャフト３５、シャフト３５の外端部に連結された
プレート３６、プレート３６を基板Ｓとの近接方向およ
び離反方向に往復駆動するシリンダ（駆動手段）３７、
ハウジング３４とプレート３６との間をシールする伸縮
自在なベローズ３８、プレート３６に固定され、基板Ｓ
との近接方向への駆動ストロークを規制するストローク
規制棒３９、ストローク規制棒３９を位置規制する規制
板４０などで構成されている。

【００３３】一方、ハンド６を間にして第１のプッシャ
３１と対向する位置には、第２のプッシャ４１が設けら
れている。第２のプッシャ４１は第１のプッシャ３１と
対称構造であり、４２はローラ、４３は支持板、４４は
ハウジング、４５はシャフト、４６はプレート、４７は
シリンダ、４８はベローズ、４９はストローク規制棒、
５０は規制板である。この実施例の場合も、第１実施例
と同様にプッシャ３１，４１を構成する全部品がハウジ
ング３４，４４内にユニットとして組み付けられている
ので、側壁２ａに簡単に組み付けることができる。

【００３４】上記ストローク規制棒３９，４９の長さは
次のように設定されている。すなわち、第１および第２
のプッシャ２１，３１を基板Ｓとの近接方向のストロー
ク限度位置まで駆動されたとき、図５に二点鎖線で示す
ように、双方のプッシャ２１，３１のローラ３２，４２
の間隔が基板Ｓの外径寸法公差の最大値と等しくなるよ
うに、ストローク規制棒３９，４９の長さが設定されて
いる。したがって、基板Ｓの外径が寸法公差の最大値よ
り小さい場合（通常の基板）では、基板Ｓがいずれか一
方のローラと当接した位置、あるいはいずれのローラ３
２，４２とも接しない位置にある。このように、基板Ｓ
の両側をプッシャ２１，３１で挟持しないので、基板Ｓ
にかかる負担がほぼ零となり、基板の割れやクラックの
発生を防止できる。

【００３５】上記実施例の場合、第１，第２のプッシャ
３１，４１のシリンダ３７，４７の推力は同等であって
もよいし、異なっていてもよい。また、基板Ｓの平面方
向の破壊強度より十分小さな力に設定する必要もない。
さらに、両シリンダ３７，４７の駆動タイミングを同期
させてもよいし、異なるタイミングで駆動してもよい。

【００３６】図６は本発明にかかる当接部の第３実施例
を示す。この実施例では、一方のプッシャの当接部とし
て上記実施例と同様な２個のローラ５１を設け、他方の
プッシャの当接として１個のローラ５２を設けたもので
ある。また、基板Ｓは一部にオリフラ面Ｓ₁ を有する円
板状基板であり、この基板Ｓは円板状の基板フレームＦ
上に保持されている。なお、基板Ｓのオリフラ面Ｓ₁ と
所定の位置関係になるように、基板フレームＦにはＶ溝
Ｆ₁ が形成されている。

【００３７】基板フレームＦをハンド６上で位置決めす
るために、ローラ５１と５２を対向方向に駆動すると、
ローラ５１が基板フレームＦの外周面に当たり、ローラ
５２がＶ字溝Ｆ₁ に嵌合する。これによって、基板フレ
ームＦをハンド６の幅方向に位置決めできるだけでな
く、基板フレームＦの回転方向の位置決めも同時に行な
うことができる。したがって、ハンド６に対して基板Ｓ
のオリフラ面Ｓ₁ を一定の向きで位置決めできる。

【００３８】なお、上記各実施例は本発明のほんの一例
を示すに過ぎず、種々変更が可能であることは言うまで
もない。上記実施例では、駆動手段としてシリンダを用
いたが、ボールネジとモータとの組み合わせなど、他の
駆動手段を用いてもよい。また、第１実施例の場合、押
圧側プッシャの押圧力をシリンダの推力で設定する方法
に代えて、例えばシリンダと当接部との間にスプリング
を設け、このスプリングによって押圧力を設定してもよ
い。この場合には、押圧側シリンダの推力自体は基準側
シリンダと同様であっても構わない。ハンドは１枚の基
板を保持するものに限らず、複数枚の基板を同時に保持
できるように上下に複数段のハンドを有するものでもよ
い。図２においては、ロードロック室をローダ側とアン
ローダ側の２室設けているが、１室の中にローダとアン
ローダとを設けてもよい。また、位置決め装置をローダ
側のロードロック室にのみ設けたが、アンローダ側に設
けてもよい。

【００３９】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、ハンドに当たり面を設けず、両側からプッシャ
で基板を挟持し、あるいは位置規制するようにしたの
で、ハンドの熱による経時的な膨張に影響されず、正確
に位置決めできる。また、請求項１の発明の場合、まず
基準側プッシャを駆動して基準位置に停止させ、続いて
押圧側プッシャを駆動することにより、基板を挟持して
ハンド上に位置決めするので、基板に加わる衝撃荷重を
小さくでき、基板を正確かつ安定して位置決めできる。
さらに、請求項２の発明の場合には、第１，第２のプッ
シャで基板のずれを規制することにより位置決めするの
で、基板に殆ど負荷をかけずに位置決めできるという特
徴がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の位置決め装置が適用される製造装置の
側面図である。

【図２】図１の製造装置の平面図である。

【図３】本発明の位置決め装置の第１実施例の平面図で
ある。

【図４】図３の位置決め装置のＡ−Ａ線断面図である。

【図５】本発明の位置決め装置の第２実施例の平面図で
ある。

【図６】本発明の第３実施例の要部の平面図である。

【符号の説明】

Ｓ 基板 ５ ハンドラ ６ ハンド １０ 位置決め装置 １１ 基準側プッシャ １２ 押圧側プッシャ １２，２２ ローラ（当接部） １７，２７ シリンダ（駆動手段） １８，２８ ベローズ １９ ストローク規制棒

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板より幅狭なハンドの上に基板を摺動自
   在に載置し、このハンド上で基板を位置決めする装置で
   あって、 ハンドの一側方には、基板の外周縁に当接する当接部
   と、当接部を基板との近接方向および離反方向に往復駆
   動する駆動手段と、基板との近接方向への駆動ストロー
   クを規制するストローク規制手段とを有する基準側プッ
   シャが設けられ、 ハンドを間にして基準側プッシャと対向する位置には、
   基板の外周縁に当接する当接部と、当接部を基板との近
   接方向および離反方向に往復駆動する駆動手段とを有す
   る押圧側プッシャが設けられ、 押圧側プッシャの押圧力は基準側プッシャの押圧力より
   小さくかつ基板の平面方向の破壊強度より十分小さな力
   に設定され、 基準側および押圧側のプッシャが基板との近接方向のス
   トローク限度位置まで駆動されたとき、双方のプッシャ
   の当接部の間隔は基板の外径寸法公差より小さく設定さ
   れ、 基準側プッシャは押圧側プッシャより先に基板との近接
   方向に駆動され、かつ押圧側プッシャより後で基板との
   離反方向に駆動されることを特徴とする基板の位置決め
   装置。
2. 【請求項２】基板より幅狭なハンドの上に基板を摺動自
   在に載置し、このハンド上で基板を位置決めする装置で
   あって、 ハンドの一側方には、基板の外周縁を位置規制する当接
   部と、当接部を基板との近接方向および離反方向に往復
   駆動する駆動手段と、基板との近接方向への駆動ストロ
   ークを規制するストローク規制手段とを有する第１のプ
   ッシャが設けられ、 ハンドを間にして第１のプッシャと対向する位置には、
   基板の外周縁を位置規制する当接部と、当接部を基板と
   の近接方向および離反方向に往復駆動する駆動手段と、
   基板との近接方向への駆動ストロークを規制するストロ
   ーク規制手段とを有する第２のプッシャが設けられ、 第１および第２のプッシャが基板との近接方向のストロ
   ーク限度位置まで駆動されたとき、双方のプッシャの当
   接部の間隔は基板の外径寸法公差の最大値に設定されて
   いることを特徴とする基板の位置決め装置。
3. 【請求項３】中央部にハンドラを備えた搬送室が設けら
   れ、この搬送室の周囲にロードロック室とプロセス室と
   が設けられ、ロードロック室には複数の基板を収容した
   カセットが設けられ、上記搬送室，ロードロック室およ
   びプロセス室は大気中と隔離されており、 上記ハンドラはロードロック室内に収容された基板をハ
   ンドに載せて取り出し、搬送室を経ていずれかのプロセ
   ス室へ搬送した後、基板をプロセス室から搬送室を経て
   ロードロック室へ戻すようにした基板の製造装置であっ
   て、 上記プッシャの駆動手段はロードロック室の両側の大気
   中に配置されており、プッシャの当接部は隔壁を貫通し
   てロードロック室内に挿入されており、上記当接部と隔
   壁との間に大気中とロードロック室内とを遮蔽するシー
   ル手段が設けられていることを特徴とする請求項１また
   は２に記載の基板の位置決め装置。