JPH10235303A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JPH10235303A JPH10235303A JP4673097A JP4673097A JPH10235303A JP H10235303 A JPH10235303 A JP H10235303A JP 4673097 A JP4673097 A JP 4673097A JP 4673097 A JP4673097 A JP 4673097A JP H10235303 A JPH10235303 A JP H10235303A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- sound pressure
- cleaning liquid
- ultrasonic
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は被洗浄物を洗浄する洗浄液の温度
を精度よく設定できるようにした超音波洗浄装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 超音波振動が付与された洗浄液で被洗浄
物を洗浄する超音波洗浄装置において、上記洗浄液に超
音波振動を付与する振動子３と、上記洗浄液の温度を調
節する熱交換器７と、上記振動子を駆動する超音波発振
器４と、上記振動子によって超音波振動が付与された洗
浄液の音圧を検出する音圧センサ１２と、上記洗浄液の
温度を検出する温度センサ１３と、上記音圧センサと上
記温度センサとの検出信号によって上記熱交換器による
洗浄液の温度および上記振動子を駆動する上記超音波発
振器の出力を制御する制御装置１４とを具備したことを
特徴とする。
を精度よく設定できるようにした超音波洗浄装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 超音波振動が付与された洗浄液で被洗浄
物を洗浄する超音波洗浄装置において、上記洗浄液に超
音波振動を付与する振動子３と、上記洗浄液の温度を調
節する熱交換器７と、上記振動子を駆動する超音波発振
器４と、上記振動子によって超音波振動が付与された洗
浄液の音圧を検出する音圧センサ１２と、上記洗浄液の
温度を検出する温度センサ１３と、上記音圧センサと上
記温度センサとの検出信号によって上記熱交換器による
洗浄液の温度および上記振動子を駆動する上記超音波発
振器の出力を制御する制御装置１４とを具備したことを
特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は被洗浄物を洗浄す
る洗浄液に超音波振動を付与するために用いられる超音
波洗浄装置に関する。
る洗浄液に超音波振動を付与するために用いられる超音
波洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、液晶製造装置や半導体製造装
置においては、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの
被洗浄物を高い清浄度で洗浄することが要求される工程
がある。上記被洗浄物を洗浄する方式としては、洗浄液
中に複数枚の被洗浄物を浸漬するデイップ方式や被洗浄
物に向けて洗浄液を噴射して一枚づつ洗浄する枚葉方式
がある。
置においては、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの
被洗浄物を高い清浄度で洗浄することが要求される工程
がある。上記被洗浄物を洗浄する方式としては、洗浄液
中に複数枚の被洗浄物を浸漬するデイップ方式や被洗浄
物に向けて洗浄液を噴射して一枚づつ洗浄する枚葉方式
がある。
【０００３】これらの洗浄方式において、被洗浄物を洗
浄する洗浄液に超音波振動を付与し、その振動作用によ
って上記被洗浄物に付着した微粒子を効率よく除去する
ようにした超音波洗浄方式が実用化されている。
浄する洗浄液に超音波振動を付与し、その振動作用によ
って上記被洗浄物に付着した微粒子を効率よく除去する
ようにした超音波洗浄方式が実用化されている。
【０００４】洗浄液に付与する振動は、従来は20〜200
ｋＨｚ程度の超音波であったが、最近では200 〜5000ｋ
Ｈｚ程度の極超音波帯域の音波を付与する超音波洗浄装
置が開発されている。
ｋＨｚ程度の超音波であったが、最近では200 〜5000ｋ
Ｈｚ程度の極超音波帯域の音波を付与する超音波洗浄装
置が開発されている。
【０００５】ところで、超音波振動が付与された洗浄液
によって被洗浄物を洗浄する場合、洗浄液に付与される
超音波の音圧が高いと、被洗浄物に形成されたデバイス
が破壊されたり、ダメ−ジを受けるということがある。
そのため、洗浄液に付与される音圧を測定管理しなけれ
ばならないということがある。
によって被洗浄物を洗浄する場合、洗浄液に付与される
超音波の音圧が高いと、被洗浄物に形成されたデバイス
が破壊されたり、ダメ−ジを受けるということがある。
そのため、洗浄液に付与される音圧を測定管理しなけれ
ばならないということがある。
【０００６】ところで、洗浄液の音圧は、洗浄液に超音
波振動を付与する超音波発振器の出力だけでなく、洗浄
液の温度によっても変化することが知られている。しか
しながら、従来は洗浄液の音圧を、超音波発振器の出力
と洗浄液の温度とによって自動的に管理するということ
が行われていなかったので、上記被洗浄物を所望する音
圧で洗浄するということが難しかった。そのため、被洗
浄物を洗浄する洗浄液の音圧が高すぎ、その被洗浄物を
損傷させたり、音圧が低すぎて洗浄効果が十分に得られ
ないなどのことがあった。
波振動を付与する超音波発振器の出力だけでなく、洗浄
液の温度によっても変化することが知られている。しか
しながら、従来は洗浄液の音圧を、超音波発振器の出力
と洗浄液の温度とによって自動的に管理するということ
が行われていなかったので、上記被洗浄物を所望する音
圧で洗浄するということが難しかった。そのため、被洗
浄物を洗浄する洗浄液の音圧が高すぎ、その被洗浄物を
損傷させたり、音圧が低すぎて洗浄効果が十分に得られ
ないなどのことがあった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は洗
浄液の音圧を自動的に調整するということが行われてい
なかったので、被洗浄物をその特性に応じた音圧の洗浄
液で洗浄できないということがあった。
浄液の音圧を自動的に調整するということが行われてい
なかったので、被洗浄物をその特性に応じた音圧の洗浄
液で洗浄できないということがあった。
【０００８】この発明は、洗浄液の音圧を自動的に調整
することができるようにすることで、被洗浄物を所定の
音圧の洗浄液で確実に洗浄できるようにした超音波洗浄
装置を提供することにある。
することができるようにすることで、被洗浄物を所定の
音圧の洗浄液で確実に洗浄できるようにした超音波洗浄
装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、超音
波振動が付与された洗浄液で被洗浄物を洗浄する超音波
洗浄装置において、上記洗浄液に超音波振動を付与する
振動子と、上記洗浄液の温度を調節する温度調節手段
と、上記振動子を駆動する超音波発振器と、上記振動子
によって超音波振動が付与された洗浄液の音圧を検出す
る音圧センサと、上記洗浄液の温度を検出する温度セン
サと、上記音圧センサと上記温度センサとの検出信号に
よって上記温度調節手段による洗浄液の温度および上記
振動子を駆動する上記超音波発振器の出力を制御する制
御手段とを具備したことを特徴とする。
波振動が付与された洗浄液で被洗浄物を洗浄する超音波
洗浄装置において、上記洗浄液に超音波振動を付与する
振動子と、上記洗浄液の温度を調節する温度調節手段
と、上記振動子を駆動する超音波発振器と、上記振動子
によって超音波振動が付与された洗浄液の音圧を検出す
る音圧センサと、上記洗浄液の温度を検出する温度セン
サと、上記音圧センサと上記温度センサとの検出信号に
よって上記温度調節手段による洗浄液の温度および上記
振動子を駆動する上記超音波発振器の出力を制御する制
御手段とを具備したことを特徴とする。
【００１０】請求項２の発明によれば、超音波振動が付
与された洗浄液で被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置に
おいて、上記洗浄液に超音波振動を付与する振動子と、
上記洗浄液の温度を調節する温度調節手段と、上記振動
子を駆動する超音波発振器と、上記洗浄液の温度を検出
する温度センサと、上記温度センサの検出信号によって
上記温度調節手段による洗浄液の温度を制御する制御手
段とを具備したことを特徴とする。
与された洗浄液で被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置に
おいて、上記洗浄液に超音波振動を付与する振動子と、
上記洗浄液の温度を調節する温度調節手段と、上記振動
子を駆動する超音波発振器と、上記洗浄液の温度を検出
する温度センサと、上記温度センサの検出信号によって
上記温度調節手段による洗浄液の温度を制御する制御手
段とを具備したことを特徴とする。
【００１１】請求項３の発明によれば、超音波振動が付
与された洗浄液で被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置に
おいて、上記洗浄液に超音波振動を付与する振動子と、
上記振動子を駆動する超音波発振器と、上記振動子によ
って超音波振動が付与された洗浄液の音圧を検出する音
圧センサと、上記音圧センサの検出信号によって上記振
動子を駆動する上記超音波発振器の出力を制御する制御
手段とを具備したことを特徴とする。
与された洗浄液で被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置に
おいて、上記洗浄液に超音波振動を付与する振動子と、
上記振動子を駆動する超音波発振器と、上記振動子によ
って超音波振動が付与された洗浄液の音圧を検出する音
圧センサと、上記音圧センサの検出信号によって上記振
動子を駆動する上記超音波発振器の出力を制御する制御
手段とを具備したことを特徴とする。
【００１２】請求項１の発明によれば、音圧センサから
の検出信号によって超音波発振器の出力を制御し、温度
センサからの検出信号によって洗浄液の温度を制御する
ようにしたから、洗浄液の音圧を超音波発振器の出力と
洗浄液の温度との両方のファクタにより、正確に調節す
ることができる。
の検出信号によって超音波発振器の出力を制御し、温度
センサからの検出信号によって洗浄液の温度を制御する
ようにしたから、洗浄液の音圧を超音波発振器の出力と
洗浄液の温度との両方のファクタにより、正確に調節す
ることができる。
【００１３】請求項２の発明によれば、温度センサから
の検出信号によって洗浄液の温度を制御するようにした
から、洗浄液の音圧を洗浄液の温度の変化に応じて調節
することができる。
の検出信号によって洗浄液の温度を制御するようにした
から、洗浄液の音圧を洗浄液の温度の変化に応じて調節
することができる。
【００１４】請求項３の発明によれば、音圧センサから
の検出信号によって超音波発振器の出力を制御するよう
にしたから、洗浄液の音圧を超音波発振器の出力によっ
て調節することができる。
の検出信号によって超音波発振器の出力を制御するよう
にしたから、洗浄液の音圧を超音波発振器の出力によっ
て調節することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。図１に示すこの発明の超音波
洗浄装置は洗浄槽１を備えている。この洗浄槽１の底部
には開口部１ａが形成され、この開口部１ａは振動板２
によって液密に閉塞されている。つまり、振動板２は上
面を洗浄槽１内に露出させている。この振動板２の下面
には超音波振動子３が接着固定されている。この超音波
振動子３は超音波発振器４によって駆動される。それに
よって、超音波振動子３は超音波振動し、それに振動板
２が連動するようになっている。
図面を参照して説明する。図１に示すこの発明の超音波
洗浄装置は洗浄槽１を備えている。この洗浄槽１の底部
には開口部１ａが形成され、この開口部１ａは振動板２
によって液密に閉塞されている。つまり、振動板２は上
面を洗浄槽１内に露出させている。この振動板２の下面
には超音波振動子３が接着固定されている。この超音波
振動子３は超音波発振器４によって駆動される。それに
よって、超音波振動子３は超音波振動し、それに振動板
２が連動するようになっている。
【００１６】上記洗浄槽１内には洗浄液５が供給管６か
ら供給される。洗浄槽１内に供給された洗浄液５は超音
波振動する上記振動板２によって超音波振動が付与され
るようになっている。したがって、上記洗浄槽１内に図
示しない被洗浄物を収容しておくことで、この被洗浄物
が洗浄されることになる。
ら供給される。洗浄槽１内に供給された洗浄液５は超音
波振動する上記振動板２によって超音波振動が付与され
るようになっている。したがって、上記洗浄槽１内に図
示しない被洗浄物を収容しておくことで、この被洗浄物
が洗浄されることになる。
【００１７】上記洗浄槽１の内部には環状の熱交換器７
が設けられている。この熱交換器７には温度調節器とし
ての三方式の制御弁８を介して温水供給管９と冷水供給
管１０とが接続されている。温水供給管９と冷水供給管
１０とからそれぞれ上記熱交換器７に流入する温水およ
び冷水の割合は上記制御弁８によって制御できるように
なっている。したがって、上記制御弁８によって、温水
と冷水の流量を制御すれば、上記熱交換器７により洗浄
槽１内の洗浄液５の温度を制御できる。
が設けられている。この熱交換器７には温度調節器とし
ての三方式の制御弁８を介して温水供給管９と冷水供給
管１０とが接続されている。温水供給管９と冷水供給管
１０とからそれぞれ上記熱交換器７に流入する温水およ
び冷水の割合は上記制御弁８によって制御できるように
なっている。したがって、上記制御弁８によって、温水
と冷水の流量を制御すれば、上記熱交換器７により洗浄
槽１内の洗浄液５の温度を制御できる。
【００１８】なお、上記熱交換器７には排出管１１が接
続され、熱交換器７に供給された温水あるいは冷水が排
出されるようになっている。上記洗浄槽１内には音圧セ
ンサ１２と温度センサ１３とがそれぞれの感知部を洗浄
液５に浸漬させて設けられている。音圧センサ１２は、
振動板２によって洗浄液５に付与された超音波振動の音
圧を検出し、温度センサ１３は上記熱交換器７によって
温度調節された洗浄液５の温度を検出する。
続され、熱交換器７に供給された温水あるいは冷水が排
出されるようになっている。上記洗浄槽１内には音圧セ
ンサ１２と温度センサ１３とがそれぞれの感知部を洗浄
液５に浸漬させて設けられている。音圧センサ１２は、
振動板２によって洗浄液５に付与された超音波振動の音
圧を検出し、温度センサ１３は上記熱交換器７によって
温度調節された洗浄液５の温度を検出する。
【００１９】上記音圧センサ１２と温度センサ１３の検
出信号は、それぞれモニタ１２ａ、１３ａを介して制御
装置１４に入力される。この制御装置１４は上記各セン
サ１２、１３からの検出信号に基いて上記超音波発振器
４の出力と、上記制御弁８による温水と冷水との流量比
を制御するようになっている。
出信号は、それぞれモニタ１２ａ、１３ａを介して制御
装置１４に入力される。この制御装置１４は上記各セン
サ１２、１３からの検出信号に基いて上記超音波発振器
４の出力と、上記制御弁８による温水と冷水との流量比
を制御するようになっている。
【００２０】超音波発振器４の出力を制御することで、
振動板２が洗浄液５に付与する超音波振動の音圧を変え
ることができ、制御弁８により洗浄液５の温度を制御す
ることで、この場合にも洗浄液５の音圧を制御すること
ができる。
振動板２が洗浄液５に付与する超音波振動の音圧を変え
ることができ、制御弁８により洗浄液５の温度を制御す
ることで、この場合にも洗浄液５の音圧を制御すること
ができる。
【００２１】図２は超音波洗浄装置において、洗浄液５
の温度を測定した曲線Ａと、曲線Ａの温度変化に対する
音圧の変化を測定した曲線Ｂを示している。この測定か
ら分かるように、洗浄液５の温度が約３０℃〜６０℃の
領域Ｒでは洗浄液５の音圧が約２Ｖ〜３．５Ｖの範囲で
不安定に変動することが確認された。これは、超音波振
動子３にＰＺＴなどの材料を用いると、その材料の持つ
温度特性によって生じると考えられる。
の温度を測定した曲線Ａと、曲線Ａの温度変化に対する
音圧の変化を測定した曲線Ｂを示している。この測定か
ら分かるように、洗浄液５の温度が約３０℃〜６０℃の
領域Ｒでは洗浄液５の音圧が約２Ｖ〜３．５Ｖの範囲で
不安定に変動することが確認された。これは、超音波振
動子３にＰＺＴなどの材料を用いると、その材料の持つ
温度特性によって生じると考えられる。
【００２２】そのため、被洗浄物をたとえば５０℃の温
度の洗浄液で、音圧３Ｖで洗浄することが要求される場
合、上記被洗浄物の温度がわずかに変化するだけで音圧
が３Ｖ以上になったり、以下になることがあるため、被
洗浄物に損傷を与えたり、被洗浄物の洗浄効果が十分に
得られないなどのことが生じる。
度の洗浄液で、音圧３Ｖで洗浄することが要求される場
合、上記被洗浄物の温度がわずかに変化するだけで音圧
が３Ｖ以上になったり、以下になることがあるため、被
洗浄物に損傷を与えたり、被洗浄物の洗浄効果が十分に
得られないなどのことが生じる。
【００２３】したがって、温度が約３０℃〜６０℃の領
域Ｒで被洗浄物を洗浄する場合、所望の音圧を得るため
には洗浄液５の温度を精度よく管理することが要求され
ることになる。
域Ｒで被洗浄物を洗浄する場合、所望の音圧を得るため
には洗浄液５の温度を精度よく管理することが要求され
ることになる。
【００２４】図３は超音波発振器４の出力をＰ1 、Ｐ
2 、Ｐ3 とした場合、各出力において洗浄液５の温度を
変化させたときの音圧の変化を測定したグラフである。
なお、Ｐ1 ＜Ｐ2 ＜Ｐ3 である。
2 、Ｐ3 とした場合、各出力において洗浄液５の温度を
変化させたときの音圧の変化を測定したグラフである。
なお、Ｐ1 ＜Ｐ2 ＜Ｐ3 である。
【００２５】これらのグラフから分かるように、超音波
発振器４の出力が高ければ洗浄液の温度が低くても高い
音圧が得られるとともに、同じ音圧Ｖ1 を得るためには
出力が異なっても、洗浄液５の温度を制御することで可
能なことが分かる。
発振器４の出力が高ければ洗浄液の温度が低くても高い
音圧が得られるとともに、同じ音圧Ｖ1 を得るためには
出力が異なっても、洗浄液５の温度を制御することで可
能なことが分かる。
【００２６】以上の実験から、洗浄液に付与された超音
波振動の音圧は、超音波発振器４の出力と、洗浄液５の
温度との両方のファクタに依存することが確認された。
つまり、どちらか一方のファクタだけで洗浄液５の音圧
を制御しても、他方のファクタが変動することで、その
音圧の制御が精密に行えなくなる。
波振動の音圧は、超音波発振器４の出力と、洗浄液５の
温度との両方のファクタに依存することが確認された。
つまり、どちらか一方のファクタだけで洗浄液５の音圧
を制御しても、他方のファクタが変動することで、その
音圧の制御が精密に行えなくなる。
【００２７】そこで、この発明の超音波洗浄装置は、こ
のような実験結果に基いてなされたもので、洗浄槽１内
の洗浄液５の音圧を音圧センサ１２によって検出し、温
度を温度センサ１３によって検出する。そして、これら
センサ１２、１３からの検出信号を制御装置１４に入力
する。この制御装置１４には図２と図３に示す音圧、洗
浄液５の温度および超音波発振器４の出力の関係があら
かじめ入力されている。
のような実験結果に基いてなされたもので、洗浄槽１内
の洗浄液５の音圧を音圧センサ１２によって検出し、温
度を温度センサ１３によって検出する。そして、これら
センサ１２、１３からの検出信号を制御装置１４に入力
する。この制御装置１４には図２と図３に示す音圧、洗
浄液５の温度および超音波発振器４の出力の関係があら
かじめ入力されている。
【００２８】したがって、被洗浄物を洗浄するにあた
り、図３に示す特性を利用し、たとえば洗浄液５の温度
をＴ1 、音圧をＶ1 で洗浄する場合、制御装置１４に洗
浄液５の温度Ｔ1 と音圧Ｖ1 とを設定すると、超音波発
振器４の出力が曲線Ｐ1 の値に制御されて被洗浄物が洗
浄される。その結果、被洗浄物は設定された温度Ｔ1 と
音圧Ｖ1 の洗浄液５によって洗浄される。
り、図３に示す特性を利用し、たとえば洗浄液５の温度
をＴ1 、音圧をＶ1 で洗浄する場合、制御装置１４に洗
浄液５の温度Ｔ1 と音圧Ｖ1 とを設定すると、超音波発
振器４の出力が曲線Ｐ1 の値に制御されて被洗浄物が洗
浄される。その結果、被洗浄物は設定された温度Ｔ1 と
音圧Ｖ1 の洗浄液５によって洗浄される。
【００２９】しかも、洗浄中は音圧センサ１２と温度セ
ンサ１３とが検出する音圧と温度とによって超音波発振
器４と制御弁８とがフィ−ドバック制御されるから、上
記洗浄液５の音圧と温度とが所定の値に精度よく維持さ
れることになるから、洗浄液５の温度が上昇し過ぎた
り、超音波発振器４の出力が上昇し過ぎて音圧Ｖ1 が高
くなり過ぎるということがない。
ンサ１３とが検出する音圧と温度とによって超音波発振
器４と制御弁８とがフィ−ドバック制御されるから、上
記洗浄液５の音圧と温度とが所定の値に精度よく維持さ
れることになるから、洗浄液５の温度が上昇し過ぎた
り、超音波発振器４の出力が上昇し過ぎて音圧Ｖ1 が高
くなり過ぎるということがない。
【００３０】洗浄液５の制御弁８による温度制御は、制
御装置１４からの制御信号が出力されてから洗浄液５が
その温度Ｔ1 になるまでに時間的遅延がある。そのた
め、音圧を時間的遅延なしにＶ1 にしたい場合には、超
音波発振器４の出力制御を併用する。つまり、最初に超
音波発振器４の出力を制御して音圧を所定の値に制御
し、ついで洗浄液５の温度が所定の温度に近付くにつれ
て超音波発振器４の出力をＰ1 に戻すようにすれば、洗
浄液５の音圧Ｖ1 を時間的遅延なしに制御することがで
きる。
御装置１４からの制御信号が出力されてから洗浄液５が
その温度Ｔ1 になるまでに時間的遅延がある。そのた
め、音圧を時間的遅延なしにＶ1 にしたい場合には、超
音波発振器４の出力制御を併用する。つまり、最初に超
音波発振器４の出力を制御して音圧を所定の値に制御
し、ついで洗浄液５の温度が所定の温度に近付くにつれ
て超音波発振器４の出力をＰ1 に戻すようにすれば、洗
浄液５の音圧Ｖ1 を時間的遅延なしに制御することがで
きる。
【００３１】このように、洗浄液５の音圧を超音波発振
器４の出力と洗浄液の温度との両方のファクタで制御で
きるため、図２にＲで示すように、洗浄液５の音圧が温
度変化に対して不安定になる領域があっても、この領域
Ｒにおいて、洗浄液に付与される音圧を洗浄液５の温度
によって確実に制御することができる。
器４の出力と洗浄液の温度との両方のファクタで制御で
きるため、図２にＲで示すように、洗浄液５の音圧が温
度変化に対して不安定になる領域があっても、この領域
Ｒにおいて、洗浄液に付与される音圧を洗浄液５の温度
によって確実に制御することができる。
【００３２】そのため、被洗浄物を必要以上に高い音圧
の洗浄液５で洗浄して損傷させたり、洗浄液の音圧が低
過ぎて十分な洗浄効果が得られなくなるなどのことが防
止できる。
の洗浄液５で洗浄して損傷させたり、洗浄液の音圧が低
過ぎて十分な洗浄効果が得られなくなるなどのことが防
止できる。
【００３３】しかも、洗浄液の温度制御は制御信号を受
けてからその温度になるまで時間的遅延が生じることが
避けられないが、超音波発振器４の出力制御と併用する
ことで、時間的な遅れが生じることなく被洗浄物を所定
の音圧の洗浄液で洗浄することが可能となる。
けてからその温度になるまで時間的遅延が生じることが
避けられないが、超音波発振器４の出力制御と併用する
ことで、時間的な遅れが生じることなく被洗浄物を所定
の音圧の洗浄液で洗浄することが可能となる。
【００３４】この発明は上記一実施の形態に限定され
ず、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能であ
る。たとえば、洗浄槽１内の洗浄液５の温度を制御する
ために熱交換器７を用い、この熱交換器７に制御弁８に
よって温水と冷水との流量を制御して循環させるように
したが、洗浄液の加熱は電気ヒ−タで行い、冷却だけを
冷水で行うようにしてもよい。
ず、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能であ
る。たとえば、洗浄槽１内の洗浄液５の温度を制御する
ために熱交換器７を用い、この熱交換器７に制御弁８に
よって温水と冷水との流量を制御して循環させるように
したが、洗浄液の加熱は電気ヒ−タで行い、冷却だけを
冷水で行うようにしてもよい。
【００３５】また、超音波洗浄装置として洗浄槽１を用
いた場合について説明したが、図４に示すようにノズル
式の超音波洗浄装置にもこの発明を適用することができ
る。なお、この実施の形態において、上記一実施の形態
と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。
いた場合について説明したが、図４に示すようにノズル
式の超音波洗浄装置にもこの発明を適用することができ
る。なお、この実施の形態において、上記一実施の形態
と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。
【００３６】すなわち、図中２１は本体で、この本体２
１には空間部２２が形成されている。この空間部２２に
は洗浄液の供給管２３の一端が接続され、この他端は所
定の圧力に加圧された洗浄液５が貯留される密閉式のタ
ンク２４に連通している。このタンク２４には供給管２
４ａから洗浄液５が供給されるとともに、内部には洗浄
液５の温度を制御する熱交換器７が設けられている。こ
の熱交換器７には温水供給管９と冷水供給管１０とが三
方式の制御弁８を介して接続されているとともに、熱交
換器７に供給された温水あるいは冷水を排出する排出管
１１が接続されている。
１には空間部２２が形成されている。この空間部２２に
は洗浄液の供給管２３の一端が接続され、この他端は所
定の圧力に加圧された洗浄液５が貯留される密閉式のタ
ンク２４に連通している。このタンク２４には供給管２
４ａから洗浄液５が供給されるとともに、内部には洗浄
液５の温度を制御する熱交換器７が設けられている。こ
の熱交換器７には温水供給管９と冷水供給管１０とが三
方式の制御弁８を介して接続されているとともに、熱交
換器７に供給された温水あるいは冷水を排出する排出管
１１が接続されている。
【００３７】上記空間部２２は、開放した上面が超音波
振動子３が取着された振動板２によって液密に閉塞さ
れ、下端は上記本体２１に形成されたノズル孔２７を介
して下面に開放している。
振動子３が取着された振動板２によって液密に閉塞さ
れ、下端は上記本体２１に形成されたノズル孔２７を介
して下面に開放している。
【００３８】洗浄液５の温度は上記タンク２４内で温度
センサ１３によって検出され、音圧は上記空間部２２内
で音圧センサ１２によって検出される。これらセンサ１
２、１３からの検出信号はそれぞれモニタ１２ａ、１３
ａを介して制御装置１４に入力され、この制御装置１４
によって上記超音波振動子３を駆動する超音波発振器４
の出力と、上記熱交換器７に接続された制御弁８とが制
御されるようになっている。
センサ１３によって検出され、音圧は上記空間部２２内
で音圧センサ１２によって検出される。これらセンサ１
２、１３からの検出信号はそれぞれモニタ１２ａ、１３
ａを介して制御装置１４に入力され、この制御装置１４
によって上記超音波振動子３を駆動する超音波発振器４
の出力と、上記熱交換器７に接続された制御弁８とが制
御されるようになっている。
【００３９】このような構成においても、洗浄液５の音
圧は、超音波発振器４の出力と、洗浄液５の温度とで制
御されるから、たとえば音圧の変動が大きな温度範囲で
あっても、上記洗浄液５の音圧の制御を精度よく行うこ
とができる。
圧は、超音波発振器４の出力と、洗浄液５の温度とで制
御されるから、たとえば音圧の変動が大きな温度範囲で
あっても、上記洗浄液５の音圧の制御を精度よく行うこ
とができる。
【００４０】なお、図４に示す実施形態においても、洗
浄液の温度制御は加熱を電気ヒ−タで行い、冷却だけを
冷水で行うようにしてもよいこと勿論である。また、上
記各実施の形態では洗浄液の音圧の制御を洗浄液の音圧
と温度との両方のファクタで行うようにしたが、どちら
か一方のファクタだけであっても、音圧の制御を自動化
することができる。
浄液の温度制御は加熱を電気ヒ−タで行い、冷却だけを
冷水で行うようにしてもよいこと勿論である。また、上
記各実施の形態では洗浄液の音圧の制御を洗浄液の音圧
と温度との両方のファクタで行うようにしたが、どちら
か一方のファクタだけであっても、音圧の制御を自動化
することができる。
【００４１】
【発明の効果】以上述べたように請求項１の発明によれ
ば、音圧センサからの検出信号によって超音波発振器の
出力を制御し、温度センサからの検出信号によって洗浄
液の温度を制御するようにしたから、洗浄液の音圧を超
音波発振器の出力と洗浄液の温度との両方のファクタに
より、正確に調節することができる。
ば、音圧センサからの検出信号によって超音波発振器の
出力を制御し、温度センサからの検出信号によって洗浄
液の温度を制御するようにしたから、洗浄液の音圧を超
音波発振器の出力と洗浄液の温度との両方のファクタに
より、正確に調節することができる。
【００４２】したがって、洗浄液の温度変化に対して音
圧が不安定に変動する領域においても、洗浄液の温度を
制御することで、音圧を精度よく、しかも自動的に制御
することが可能となる。また、洗浄液の音圧を洗浄液の
温度だけでなく、超音波発振器の出力によっても制御で
きるため、洗浄液の音圧を時間的遅延なく制御すること
もできる。
圧が不安定に変動する領域においても、洗浄液の温度を
制御することで、音圧を精度よく、しかも自動的に制御
することが可能となる。また、洗浄液の音圧を洗浄液の
温度だけでなく、超音波発振器の出力によっても制御で
きるため、洗浄液の音圧を時間的遅延なく制御すること
もできる。
【００４３】請求項２の発明によれば、温度センサによ
って洗浄液の温度を検出し、その検出信号で超音波発振
器の出力を制御するようにしたから、上記洗浄液の音圧
を自動的に制御することができる。
って洗浄液の温度を検出し、その検出信号で超音波発振
器の出力を制御するようにしたから、上記洗浄液の音圧
を自動的に制御することができる。
【００４４】請求項３の発明によれば、音圧センサによ
って洗浄液の音圧を検出し、その検出信号で超音波発振
器の出力を制御するようにしたから、上記洗浄液の音圧
を自動的に制御することができる。
って洗浄液の音圧を検出し、その検出信号で超音波発振
器の出力を制御するようにしたから、上記洗浄液の音圧
を自動的に制御することができる。
【図１】この発明の一実施の形態の全体構成を示す概略
図。
図。
【図２】音圧と洗浄液の温度との関係を測定したグラ
フ。
フ。
【図３】同じく超音波発振器の出力を所定値にした場合
の洗浄液の温度と音圧との関係を測定したグラフ。
の洗浄液の温度と音圧との関係を測定したグラフ。
【図４】この発明の他の実施の形態を示す超音波洗浄装
置の概略図。
置の概略図。
３…超音波振動子 ４…超音波発振器 ７…熱交換器（温度調節手段） ８…制御弁 １２…音圧センサ １３…温度センサ １４…制御装置
Claims (3)
- 【請求項１】 超音波振動が付与された洗浄液で被洗浄
物を洗浄する超音波洗浄装置において、 上記洗浄液に超音波振動を付与する振動子と、 上記洗浄液の温度を調節する温度調節手段と、 上記振動子を駆動する超音波発振器と、 上記振動子によって超音波振動が付与された洗浄液の音
圧を検出する音圧センサと、 上記洗浄液の温度を検出する温度センサと、 上記音圧センサと上記温度センサとの検出信号によって
上記温度調節手段による洗浄液の温度および上記振動子
を駆動する上記超音波発振器の出力を制御する制御手段
とを具備したことを特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項２】 超音波振動が付与された洗浄液で被洗浄
物を洗浄する超音波洗浄装置において、 上記洗浄液に超音波振動を付与する振動子と、 上記洗浄液の温度を調節する温度調節手段と、 上記振動子を駆動する超音波発振器と、 上記洗浄液の温度を検出する温度センサと、 上記温度センサの検出信号によって上記温度調節手段に
よる洗浄液の温度を制御する制御手段とを具備したこと
を特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項３】 超音波振動が付与された洗浄液で被洗浄
物を洗浄する超音波洗浄装置において、 上記洗浄液に超音波振動を付与する振動子と、 上記振動子を駆動する超音波発振器と、 上記振動子によって超音波振動が付与された洗浄液の音
圧を検出する音圧センサと、 上記音圧センサの検出信号によって上記振動子を駆動す
る上記超音波発振器の出力を制御する制御手段とを具備
したことを特徴とする超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4673097A JPH10235303A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4673097A JPH10235303A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10235303A true JPH10235303A (ja) | 1998-09-08 |
Family
ID=12755460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4673097A Pending JPH10235303A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10235303A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310781A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-23 | Toshiba Corp | 音圧測定装置、超音波処理装置および超音波処理方法 |
| JP2007292625A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Hitachi Kokusai Denki Engineering:Kk | 超音波音圧測定装置 |
| KR101085280B1 (ko) | 2008-09-18 | 2011-11-22 | 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| CN102513306A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-06-27 | 保定天威英利新能源有限公司 | 太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法 |
| JP2017185452A (ja) * | 2016-04-06 | 2017-10-12 | 三浦工業株式会社 | 超音波洗浄器 |
| JPWO2017104194A1 (ja) * | 2015-12-14 | 2017-12-14 | 三菱電機株式会社 | 洗浄装置および洗浄方法、並びに膜分離バイオリアクタ |
| US20180071795A1 (en) * | 2015-05-15 | 2018-03-15 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Method for cleaning semiconductor wafers |
| WO2018053678A1 (en) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Methods and apparatus for cleaning substrates |
| CN109789450A (zh) * | 2016-09-19 | 2019-05-21 | 盛美半导体设备（上海）有限公司 | 清洗衬底的方法和装置 |
| KR102065067B1 (ko) * | 2018-07-06 | 2020-02-11 | 주식회사 듀라소닉 | 다중 주파수 동시 구동형 멀티진동자 기반 초음파세척장치 |
-
1997
- 1997-02-28 JP JP4673097A patent/JPH10235303A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310781A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-23 | Toshiba Corp | 音圧測定装置、超音波処理装置および超音波処理方法 |
| JP2007292625A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Hitachi Kokusai Denki Engineering:Kk | 超音波音圧測定装置 |
| KR101085280B1 (ko) | 2008-09-18 | 2011-11-22 | 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| CN102513306A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-06-27 | 保定天威英利新能源有限公司 | 太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法 |
| US20180071795A1 (en) * | 2015-05-15 | 2018-03-15 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Method for cleaning semiconductor wafers |
| US11141762B2 (en) | 2015-05-15 | 2021-10-12 | Acm Research (Shanghai), Inc. | System for cleaning semiconductor wafers |
| US11633765B2 (en) | 2015-05-15 | 2023-04-25 | Acm Research (Shanghai) Inc. | System for cleaning semiconductor wafers |
| US11752529B2 (en) | 2015-05-15 | 2023-09-12 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Method for cleaning semiconductor wafers |
| US11911808B2 (en) | 2015-05-15 | 2024-02-27 | Acm Research (Shanghai) Inc. | System for cleaning semiconductor wafers |
| JPWO2017104194A1 (ja) * | 2015-12-14 | 2017-12-14 | 三菱電機株式会社 | 洗浄装置および洗浄方法、並びに膜分離バイオリアクタ |
| JP2017185452A (ja) * | 2016-04-06 | 2017-10-12 | 三浦工業株式会社 | 超音波洗浄器 |
| CN109789450A (zh) * | 2016-09-19 | 2019-05-21 | 盛美半导体设备（上海）有限公司 | 清洗衬底的方法和装置 |
| WO2018053678A1 (en) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Methods and apparatus for cleaning substrates |
| US11848217B2 (en) | 2016-09-20 | 2023-12-19 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Methods and apparatus for cleaning substrates |
| KR102065067B1 (ko) * | 2018-07-06 | 2020-02-11 | 주식회사 듀라소닉 | 다중 주파수 동시 구동형 멀티진동자 기반 초음파세척장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3343775B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH10235303A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH0994544A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2000150439A5 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JP3277070B2 (ja) | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 | |
| JP2000061408A (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
| TW523821B (en) | Cleaning apparatus, CVD apparatus and method for fabricating semiconductor devices | |
| JPH1133508A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2004259983A (ja) | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 | |
| JP2887114B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2718649B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP4123746B2 (ja) | 流体処理装置 | |
| JP2001340820A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2002248429A (ja) | 超音波発振装置及び超音波発振方法 | |
| JP3665163B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP3839527B2 (ja) | 超音波処理方法および超音波処理装置 | |
| JPH1133507A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH11285673A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3808951B2 (ja) | 超音波振動装置およびそれを用いた超音波洗浄装置 | |
| JP3294014B2 (ja) | 投げ込み式超音波洗浄体とその製法および超音波洗浄装置 | |
| JPH1170372A (ja) | 超音波発生装置 | |
| JPH07232143A (ja) | 超音波洗浄ノズル | |
| JP2718648B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH10128255A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2831334B2 (ja) | 超音波振動装置およびそれを用いた超音波洗浄装置 |