JPH10231188A - Production of ceramic member - Google Patents

Production of ceramic member

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JPH10231188A
JPH10231188A JP9038979A JP3897997A JPH10231188A JP H10231188 A JPH10231188 A JP H10231188A JP 9038979 A JP9038979 A JP 9038979A JP 3897997 A JP3897997 A JP 3897997A JP H10231188 A JPH10231188 A JP H10231188A
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JP
Japan
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ceramic body
interconnector
dense
boundary
laminate
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9038979A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinji Kawasaki
真司 川崎
Kiyoshi Okumura
清志 奥村
Shigenori Ito
重則 伊藤
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NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
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Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
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Publication of JPH10231188A publication Critical patent/JPH10231188A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/02Details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/10Fuel cells with solid electrolytes
    • H01M8/12Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte
    • H01M8/1231Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte with both reactants being gaseous or vaporised
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a coated film excellent in bonded state and high in airtightness in forming a coated film for covering at least a part of a laminate of a porous ceramic body and a dense ceramic body by a flame coating method. SOLUTION: The boundary 5 between a porous ceramic body 3 and a dense ceramic body 1 appears on the surface of a laminate 4 at a part 6. A ceramic member 9 provided with a coated film 13 covering at least a part of the porous ceramic body 3, the boundary part 6 and at least a part of the dense ceramic body 1 is produced. The surface of the porous ceramic body 3 adjoining the boundary 6 and the surface of the dense ceramic body 1 are processed by an abrasive grain polishing process to form processed faces 11 and 12. A coated film 7 is formed by a flame coating method so as to cover the processed faces 11 and 12 and the boundary 6.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、固体電解質型燃料電
池、水蒸気電解セルのように、多孔質セラミックス体と
緻密質セラミックス体とを備えており、かつ気密性を保
持する必要があるセラミックス部材を製造する方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ceramic member, such as a solid oxide fuel cell or a steam electrolytic cell, which comprises a porous ceramic body and a dense ceramic body and needs to maintain airtightness. And a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】固体電解質型燃料電池は、いわゆる平板
型と円筒型とに大別される。平板型の固体電解質型燃料
電池においては、いわゆるセパレータと発電層とを交互
に積層することにより、発電用のスタックを構成する。
平板型の固体電解質型燃料電池にも、幾つかの形態があ
る。本発明者は、自立型の空気極とセパレータないしイ
ンターコネクターとを接合し、次いでこの接合体の表面
に、固体電解質膜及び燃料極膜を順次形成することを試
みていた。
2. Description of the Related Art Solid oxide fuel cells are roughly classified into a so-called flat type and a cylindrical type. In a plate-type solid oxide fuel cell, a so-called separator and a power generation layer are alternately stacked to form a power generation stack.
There are several forms of the flat solid electrolyte fuel cell. The present inventors have tried to join a self-supporting air electrode and a separator or an interconnector, and then sequentially form a solid electrolyte membrane and a fuel electrode membrane on the surface of the joined body.

【0003】固体電解質膜の形成法としては、化学蒸着
法(CVD法)や電気化学的蒸着法(EVD法)が一般
的であるが、こうした気相法によると、装置が大型化
し、処理面積、処理速度が小さすぎ、ランニングコスト
が嵩む。プラズマ溶射法によって固体電解質膜を形成す
れば、成膜速度を大きくでき、装置等の取り扱いも簡単
であり、かつ薄膜を比較的緻密に成膜できる(サンシャ
イン 1981, Vo1. 2, No.1: エネルギー総合工学 13
2, 1990年) 。しかし、プラズマ溶射法によっては、気
密質の固体電解質膜を得ることが難しい。一方、特に固
体電解質型燃料電池の固体電解質膜においては、燃料漏
れによる出力の低下を防止するため、気密性が要求され
る。
As a method for forming a solid electrolyte membrane, a chemical vapor deposition method (CVD method) and an electrochemical vapor deposition method (EVD method) are generally used. The processing speed is too low, and the running cost increases. If a solid electrolyte film is formed by a plasma spraying method, the film forming rate can be increased, the handling of the apparatus and the like can be simplified, and the film can be formed relatively densely (Sunshine 1981, Vo1.2, No.1: Integrated Energy Engineering 13-
2, 1990). However, it is difficult to obtain an airtight solid electrolyte membrane by the plasma spraying method. On the other hand, in particular, in a solid electrolyte membrane of a solid oxide fuel cell, airtightness is required to prevent a decrease in output due to fuel leakage.

【0004】こうした問題を解決するための方法とし
て、特開平4−115469号公報、特開平3−624
59号公報において、固体電解質質膜をプラズマ溶射に
よって形成し、このプラズマ溶射膜を熱処理する方法が
開示されている。
As a method for solving such a problem, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 4-115469 and 3-624 are known.
No. 59 discloses a method of forming a solid electrolyte film by plasma spraying and heat-treating the plasma sprayed film.

【0005】しかし、自立型の空気極とインターコネク
ターとを接合し、この接合体の表面に、溶射法によって
固体電解質膜を形成した場合には、インターコネクター
と溶射膜との密着性が低く、両者の剥離が生じた。
[0005] However, when a self-supporting air electrode and an interconnector are joined together and a solid electrolyte film is formed on the surface of the joined body by a thermal spraying method, adhesion between the interconnector and the sprayed film is low. Peeling of both occurred.

【0006】このため、本発明者は、インターコネクタ
ーの表面をサンドブラスト処理し、この上に溶射膜を形
成したが、やはり溶射膜の剥離が生じた。また、インタ
ーコネクターと溶射膜との密着性が低いために、溶射膜
を熱処理して気密質の固体電解質膜とした後でも、固体
電解質膜とインターコネクターとの間で高度の気密性を
保持することが困難であった。
[0006] For this reason, the present inventor sandblasted the surface of the interconnector and formed a sprayed film thereon, but the sprayed film also peeled off. In addition, because the adhesion between the interconnector and the sprayed film is low, even after the sprayed film is heat-treated into an airtight solid electrolyte film, a high degree of airtightness is maintained between the solid electrolyte film and the interconnector. It was difficult.

【0007】こうした問題を解決するために、本発明者
は、特開平8−3714号公報において、インターコネ
クター上に溶射膜を形成するのに際して、インターコネ
クター上に多孔質膜を形成し、この際多孔質膜の表面側
に、開口部分が小さく、かつ内部が広がった形状の開気
孔を設けることを開示した。この方法は、インターコネ
クターと溶射固体電解質膜との界面の密着性を向上さ
せ、酸化ガスの漏れを防止する上で、極めて有用な技術
である。
In order to solve such a problem, the present inventor disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-3714 that when forming a sprayed film on an interconnector, a porous film was formed on the interconnector. It has been disclosed that an open pore having a small opening and a widened interior is provided on the surface side of the porous membrane. This method is an extremely useful technique for improving the adhesion at the interface between the interconnector and the sprayed solid electrolyte membrane and preventing leakage of oxidizing gas.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者が更
に検討を進めると、新しく改善を要する問題点が出てき
た。即ち、インターコネクターおよび空気極の上に多孔
質膜を形成するためには、所定のペーストを、少なくと
もインターコネクターを覆うように塗布し、これを高温
で焼き付ける必要がある。しかし、この焼き付けの過程
で、インターコネクターと空気極との積層体が、全体的
に反り、寸法が狂い、製造時の歩留りが低下するという
問題があることが判明してきた。
However, as the present inventors proceeded with further studies, a new problem requiring improvement has emerged. That is, in order to form a porous film on the interconnector and the air electrode, it is necessary to apply a predetermined paste so as to cover at least the interconnector and bake it at a high temperature. However, during the baking process, it has been found that the laminated body of the interconnector and the air electrode has a problem that the entire body is warped, the dimensions are out of order, and the production yield is reduced.

【0009】本発明の課題は、インターコネクターのよ
うな緻密質セラミックス体と、空気極のような多孔質セ
ラミックス体との積層体の少なくとも一部を被覆する被
膜を、溶射法によって形成するのに際して、接合状態の
良好な、気密性の高い被膜を形成できるようにすること
である。
An object of the present invention is to form a coating covering at least a part of a laminate of a dense ceramic body such as an interconnector and a porous ceramic body such as an air electrode by a thermal spraying method. The purpose of the present invention is to make it possible to form a highly airtight film having a good bonding state.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、セラミックス
部材が、多孔質セラミックス体と緻密質セラミックス体
との積層体を備えており、多孔質セラミックス体と緻密
質セラミックス体との境界が積層体の表面に現れてお
り、かつ多孔質セラミックス体の少なくとも一部、境界
および緻密質セラミックス体の少なくとも一部を被覆す
る被膜を備えているセラミックス部材を製造するのに際
して、境界に隣接する多孔質セラミックス体の表面およ
び緻密質セラミックス体の表面を、砥粒研磨加工法によ
って加工して各加工面を形成し、次いで被膜を、多孔質
セラミックス体の加工面、緻密質セラミックス体の加工
面および境界を覆うように溶射法によって形成すること
を特徴とする。
According to the present invention, a ceramic member includes a laminate of a porous ceramic body and a dense ceramic body, and a boundary between the porous ceramic body and the dense ceramic body is a laminate. When producing a ceramic member having a coating covering at least a part of the porous ceramic body, the boundary and at least a part of the dense ceramic body, the porous ceramic body being adjacent to the boundary The surface of the body and the surface of the dense ceramic body are processed by an abrasive polishing method to form each processed surface, and then the coating is formed on the processed surface of the porous ceramic body, the processed surface and the boundary of the dense ceramic body. It is characterized by being formed by a thermal spraying method so as to cover.

【0011】また、本発明は、前記のセラミックス部材
を製造するのに際して、境界に隣接する多孔質セラミッ
クス体の表面および緻密質セラミックス体の表面を加工
することによって加工面を形成し、多孔質セラミックス
体の加工面および緻密質セラミックス体の加工面の中心
線平均表面粗さRaを1.0μm以上、10μm以下と
し、次いで被膜を、多孔質セラミックス体の加工面、緻
密質セラミックス体の加工面および境界を覆うように溶
射法によって形成することを特徴とする。
Further, the present invention provides a method of manufacturing a ceramic member, comprising: forming a processed surface by processing a surface of a porous ceramic body and a surface of a dense ceramic body adjacent to a boundary; The center line average surface roughness Ra of the processed surface of the body and the processed surface of the dense ceramic body is set to 1.0 μm or more and 10 μm or less, and then the coating is formed on the processed surface of the porous ceramic body, the processed surface of the dense ceramic body and It is characterized by being formed by a thermal spraying method so as to cover the boundary.

【0012】本発明者は、多孔質セラミックス体と緻密
質セラミックス体との境界に隣接する各セラミックス体
の各表面を、砥粒研磨加工法によって加工して加工面を
形成し、次いで、被膜を、各加工面および境界を覆うよ
うに溶射法によって形成すると、いずれの加工面上にも
極めて良好な密着性をもって溶射膜が付着し、高い気密
性が得られることを発見した。
The inventor of the present invention processes each surface of each ceramic body adjacent to the boundary between the porous ceramic body and the dense ceramic body by an abrasive polishing method to form a processed surface. It has been discovered that when formed by a thermal spraying method so as to cover each processing surface and the boundary, the thermal sprayed film adheres to all the processing surfaces with extremely good adhesion, and high airtightness can be obtained.

【0013】特に、溶射膜を更に熱処理して気密性を向
上させる工程では、溶射膜と各セラミックス体の各加工
面との間に熱応力が加わり、剥離が生じやすい。しか
し、本発明によれば、多孔質セラミックス体の加工面と
溶射膜との間、緻密質セラミックス体と溶射膜との間と
もに、熱処理後も剥離等は発生せず、極めて高度の気密
性が保持されることを発見し、本発明に到達した。
In particular, in the step of further heat-treating the sprayed film to improve the airtightness, thermal stress is applied between the sprayed film and each processed surface of each ceramic body, and peeling is likely to occur. However, according to the present invention, peeling does not occur even after heat treatment between the processed surface of the porous ceramic body and the sprayed film, and between the dense ceramic body and the sprayed film, and extremely high airtightness is obtained. It was found that it was retained, and reached the present invention.

【0014】こうした顕著な作用効果が得られた理由
は、明確ではない。しかし、本発明者は、多孔質セラミ
ックス体の表面と緻密質セラミックス体の表面とを、こ
れらの境界を含む位置でサンドブラスト加工、砥石研磨
加工、耐水ペーパー加工等の種々の加工方法に供した
が、意外にも、いずれの加工方法によっても十分な気密
性や密着性は得られないことがわかった。
The reason why such remarkable effects are obtained is not clear. However, the present inventor provided the surface of the porous ceramic body and the surface of the dense ceramic body to various processing methods such as sandblasting, grinding stone polishing, and water-resistant paper processing at positions including these boundaries. Surprisingly, it was found that sufficient airtightness and adhesion could not be obtained by any of the processing methods.

【0015】また、本発明者は、砥粒研磨加工法等の各
種の加工を施した後に、多孔質セラミックス体の加工面
および緻密質セラミックス体の加工面について、それぞ
れ各種特性を評価したが、この結果、両者の各加工面の
Raが1〜10μmの範囲内にあるときに、もっとも溶
射膜およびその熱処理膜との密着性が高く、剥離等が生
じにくいことが判明した。
Further, the present inventor evaluated various characteristics of the processed surface of the porous ceramic body and the processed surface of the dense ceramic body after performing various processes such as an abrasive polishing process, respectively. As a result, it was found that when Ra on each of the processed surfaces was in the range of 1 to 10 μm, the adhesion between the sprayed film and the heat-treated film was highest, and peeling or the like was hardly caused.

【0016】本発明で利用する、砥粒研磨加工法につい
て述べる。砥粒研磨加工の際には、研磨するべき焼成体
(本発明では多孔質セラミックス体及び緻密質セラミッ
クス体)と、一般には鋳鉄製の平板との間に、珪砂やコ
ランダム(Al23 )等の砥粒を水と混合して得た懸
濁液を入れる。平板を、垂直な軸を中心として回転さ
せ、砥粒と水とを連続的にそそぐ。研磨すべき焼成体
は、研磨用の平板の上を、不規則にあちらこちらに動き
回る。この結果、砥粒は、相対運動している焼成体と平
板との間で転がり回り、この時に研磨すべき焼成体の表
面の突出した部分が削り取られる。
The abrasive polishing method used in the present invention will be described. At the time of abrasive grain polishing, silica sand or corundum (Al 2 O 3 ) And a suspension obtained by mixing abrasive grains with water. The flat plate is rotated about a vertical axis to continuously pour the abrasive grains and water. The fired body to be polished moves irregularly around on a flat plate for polishing. As a result, the abrasive grains roll around between the fired body and the flat plate that are relatively moving, and at this time, the protruding portion of the surface of the fired body to be polished is scraped off.

【0017】[0017]

【発明の実施形態】砥粒研磨加工法を行う際の砥粒とし
ては、炭化珪素、炭化ホウ素、アルミナ等の硬度の高い
砥粒が好ましい。また、回転テーブル上に砥粒をまき、
水を加えながら研磨することが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As abrasive grains for use in the abrasive grain polishing method, abrasive grains having high hardness such as silicon carbide, boron carbide and alumina are preferable. Also, apply abrasive grains on the rotating table,
It is preferable to polish while adding water.

【0018】本発明は、気密性を要する種々のセラミッ
クス部材に対して適用できるが、電気化学セルに適用す
ることが特に好ましい。
The present invention can be applied to various ceramic members requiring airtightness, but is particularly preferably applied to an electrochemical cell.

【0019】電気化学セルは、酸素ポンプ、高温水蒸気
電解セルとして使用できる。高温水蒸気電解セルは、水
素の製造装置に使用でき、また水蒸気の除去装置に使用
できる。この場合には、各電極で次の反応を生じさせ
る。
The electrochemical cell can be used as an oxygen pump or a high-temperature steam electrolysis cell. The high-temperature steam electrolysis cell can be used for an apparatus for producing hydrogen and for an apparatus for removing steam. In this case, the following reaction occurs at each electrode.

【0020】[0020]

【化1】陰極:H2 O+2e- →H2 +O2 - 陽極:O2 - →2e- +1/2O2 Embedded image Cathode: H 2 O + 2e → H 2 + O 2 − Anode: O 2 − → 2e + 1 / 2O 2

【0021】更に、電気化学セルを、NOxの分解セル
として使用できる。この分解セルは、自動車、発電装置
からの排ガスの浄化装置として使用できる。現在、ガソ
リンエンジンから発生するNOxには、三元機能触媒に
よって対応している。しかし、リーンバーンエンジンや
ディーゼルエンジンなど、低燃費型のエンジンが増加す
ると、これらのエンジンの排ガス中の酸素量が多いの
で、三元機能触媒が機能しなくなる。
Further, the electrochemical cell can be used as a NOx decomposition cell. This decomposition cell can be used as a purification device for exhaust gas from automobiles and power generation devices. At present, NOx generated from a gasoline engine is handled by a three-way catalyst. However, when the number of fuel-efficient engines such as lean burn engines and diesel engines increases, the amount of oxygen in the exhaust gas of these engines is large, so that the three-way catalyst does not function.

【0022】ここで、電気化学セルをNOx分解セルと
して使用すると、固体電解質膜を通して排ガス中の酸素
を除去するのと共に、NOxを電解してN2 とO 2 -
に分解し、この分解によって生成した酸素をも除去でき
る。また、このプロセスと共に、排ガス中の水蒸気が電
解されて水素と酸素とを生じ、この水素がNOxをN2
へと還元する。
Here, the electrochemical cell is referred to as a NOx decomposition cell.
When used, oxygen in exhaust gas passes through the solid electrolyte membrane
While removing NOx by electrolyzing NOx.TwoAnd O 2-When
Decomposes and removes oxygen generated by this decomposition.
You. In addition to this process, the water vapor in the exhaust gas is
Cracked to form hydrogen and oxygen, which convert NOx into NTwo
Reduce to

【0023】電気化学セルのインターコネクターは、導
電性と気密性とが要求される。即ち、インターコネクタ
ーは、酸化ガスと燃料ガスとを分け隔てることが必要で
あり、高い緻密性を有している必要がある。セラミック
スの場合、気体を通さない焼結体の相対密度の指標は9
4%以上であり、この程度までインターコネクターを緻
密に焼結させることが必要である。
The interconnector of the electrochemical cell is required to have conductivity and airtightness. That is, the interconnector needs to separate the oxidizing gas from the fuel gas, and needs to have high density. In the case of ceramics, the index of the relative density of a sintered body that is impermeable to gas is 9
4% or more, and it is necessary to sinter the interconnector densely to this extent.

【0024】一方、電極の方は、ガスを透過させる必要
のために、気孔率をある程度大きくする必要があり、具
体的には15〜40%とすることが好ましく、25〜3
5%とすることが一層好ましい。この結果、電極とイン
ターコネクターとは、同じ加工を行っても、加工面の表
面状態がまったく異なるのが通常であり、このためにイ
ンターコネクターと電極との双方にわたって溶射膜を密
着させることが困難になったものと考えられる。
On the other hand, in the case of the electrode, it is necessary to increase the porosity to some extent in order to allow gas to permeate. Specifically, the porosity is preferably 15 to 40%, and more preferably 25 to 3%.
More preferably, it is set to 5%. As a result, even if the same processing is performed on the electrode and the interconnector, the surface condition of the processed surface is generally completely different, which makes it difficult to adhere the sprayed film over both the interconnector and the electrode. It is thought that it became.

【0025】本発明においては、積層体に砥粒研磨加工
法を施し、各加工面上に溶射法によって被膜を形成した
後、被膜を熱処理することにより、この被膜を気密性に
することが好ましい。これによって、被膜と緻密質セラ
ミックス体とで、セラミックス部材の全体の気密性を保
持できる。
In the present invention, it is preferable to apply an abrasive grain polishing method to the laminate, form a coating on each of the processed surfaces by a thermal spraying method, and then heat-treat the coating to make the coating airtight. . Thus, the airtightness of the entire ceramic member can be maintained by the coating and the dense ceramic body.

【0026】電気化学セルの陽極の主原料は、ランタン
を含有するペロブスカイト型複合酸化物であることが好
ましく、ランタンマンガナイト又はランタンコバルタイ
トであることが更に好ましく、ランタンマンガナイトが
一層好ましい。ランタンマンガナイトは、ストロンチウ
ム、カルシウム、クロム、コバルト、鉄、ニッケル、ア
ルミニウム等をドープしたものであってよい。
The main raw material of the anode of the electrochemical cell is preferably a perovskite-type composite oxide containing lanthanum, more preferably lanthanum manganite or lanthanum cobaltite, and more preferably lanthanum manganite. Lanthanum manganite may be doped with strontium, calcium, chromium, cobalt, iron, nickel, aluminum and the like.

【0027】電気化学セルの陰極の主原料は、ニッケ
ル、酸化ニッケル、ニッケル─ジルコニア混合粉末、酸
化ニッケル─ジルコニア混合粉末、パラジウム、白金、
パラジウム−ジルコニア混合粉末、白金─ジルコニア混
合粉末、ニッケル−セリア、酸化ニッケル−セリア、パ
ラジウム−セリア、白金−セリアの各混合粉末等が好ま
しい。
The main raw materials of the cathode of the electrochemical cell are nickel, nickel oxide, nickel-zirconia mixed powder, nickel oxide-zirconia mixed powder, palladium, platinum,
Palladium-zirconia mixed powder, platinum-zirconia mixed powder, nickel-ceria, nickel oxide-ceria, palladium-ceria, platinum-ceria mixed powder and the like are preferable.

【0028】固体電解質としては、イットリア安定化ジ
ルコニア又はイットリア部分安定化ジルコニア、酸化セ
リウム系セラミックス等が特に好ましい。
As the solid electrolyte, yttria-stabilized zirconia, yttria partially stabilized zirconia, cerium oxide-based ceramics, and the like are particularly preferable.

【0029】インターコネクターの主原料は、ランタン
を含有するペロブスカイト型複合酸化物であることが好
ましく、ランタンクロマイトであることが更に好まし
い。ランタンクロマイトには、前記のような金属をドー
プすることもできる。
The main raw material of the interconnector is preferably a perovskite-type composite oxide containing lanthanum, and more preferably lanthanum chromite. Lanthanum chromite can also be doped with the above metals.

【0030】図1(a)は、本発明の一実施形態に係る
インターコネクター1を示す平面図であり、図1(b)
は、インターコネクター1と空気極3との積層体4を示
す正面図である。インターコネクター1は、例えば平面
的に見て長方形であり、四角柱状の隔壁1a及び1bが
設けられており、隔壁1aと1bとの間、隔壁1bと1
bとの間に、それぞれ溝状の酸化ガス流路2が設けられ
ている。
FIG. 1A is a plan view showing an interconnector 1 according to an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 2 is a front view showing a laminate 4 of the interconnector 1 and the air electrode 3. The interconnector 1 is, for example, rectangular in a plan view, provided with quadrangular prism-shaped partitions 1a and 1b, between the partitions 1a and 1b, and between the partitions 1b and 1b.
b, groove-shaped oxidizing gas flow paths 2 are provided.

【0031】空気極3の下側面3cと隔壁1a、1bの
上側面1e、1fとが接合されており、空気極3の側面
3bとインターコネクター1の側面1cとが段差なく連
続しており、四角柱形状の酸化ガス流路2の端部2a、
2bが、セパレータ1の端面1d側に開放されている。
5は、インターコネクター1と空気極3との境界であ
り、6は境界5が表面に露出している部分である。
The lower surface 3c of the air electrode 3 and the upper surfaces 1e, 1f of the partition walls 1a, 1b are joined, and the side surface 3b of the air electrode 3 and the side surface 1c of the interconnector 1 are continuous without any step. An end portion 2a of the square-column-shaped oxidizing gas flow path 2,
2b is open to the end face 1d side of the separator 1.
Reference numeral 5 denotes a boundary between the interconnector 1 and the air electrode 3, and reference numeral 6 denotes a portion where the boundary 5 is exposed on the surface.

【0032】次いで、インターコネクター1の側面1c
及び空気極3の側面3bを砥粒研磨加工法によって加工
する。これによって、図2(a)に示すように、インタ
ーコネクター1に加工面12を形成し、空気極3にも加
工面11を形成する。加工面11と12とは、境界6を
はさんで隣接している。
Next, the side surface 1c of the interconnector 1
And the side surface 3b of the air electrode 3 is processed by an abrasive polishing method. As a result, as shown in FIG. 2A, the processing surface 12 is formed on the interconnector 1, and the processing surface 11 is also formed on the air electrode 3. The processing surfaces 11 and 12 are adjacent to each other across the boundary 6.

【0033】次いで、溶射法によって被膜7を形成す
る。この際、被膜7の水平部分7aが空気極3上側面3
aを被覆し、被膜7の垂直部分7bが加工面11、12
を被覆するようにした。次いで、この積層体を熱処理す
ることにより、被膜7を、図2(b)に示すように、気
密質の固体電解質膜13とした。次いで、固体電解質膜
13の上に燃料極膜10を形成し、電気化学セル9を得
る。
Next, the coating 7 is formed by a thermal spraying method. At this time, the horizontal portion 7a of the coating 7 is
a, and the vertical portion 7b of the coating 7
Was coated. Next, the laminated body was subjected to a heat treatment to form the coating 7 into an airtight solid electrolyte membrane 13 as shown in FIG. Next, the fuel electrode membrane 10 is formed on the solid electrolyte membrane 13 to obtain the electrochemical cell 9.

【0034】[0034]

【実施例】以下、更に具体的な実験結果について述べ
る。 (実施例)図1、図2を参照しつつ説明した前記方法に
従って、積層体4を製造した。インターコネクター1
は、気孔率0.1%のランタンクロマイトからなり、空
気極3は、気孔率30%のランタンマンガナイトからな
る。空気極3の表面3bおよびインターコネクター1の
表面1cを砥粒研磨加工法によって加工し、加工面1
1、12を形成した。砥粒としては、炭化珪素からなる
♯180の砥粒を使用した。
EXAMPLES Hereinafter, more specific experimental results will be described. (Example) A laminate 4 was manufactured according to the method described with reference to FIGS. Interconnector 1
Is made of lanthanum chromite having a porosity of 0.1%, and the air electrode 3 is made of lanthanum manganite having a porosity of 30%. The surface 3b of the air electrode 3 and the surface 1c of the interconnector 1 are processed by an abrasive polishing method.
Nos. 1 and 12 were formed. As the abrasive grains, # 180 abrasive grains made of silicon carbide were used.

【0035】空気極3の加工面11の中心線平均表面粗
さRaは3.3μmであり、Rmaxは17.6μmで
あり、Rzは12.2μmであった。インターコネクタ
ー1の加工面12のRaは2.5μmであり、Rmax
は14.8μmであり、Rzは8.9μmであった。
The center line average surface roughness Ra of the processed surface 11 of the air electrode 3 was 3.3 μm, Rmax was 17.6 μm, and Rz was 12.2 μm. Ra of the processing surface 12 of the interconnector 1 is 2.5 μm, and Rmax
Was 14.8 μm and Rz was 8.9 μm.

【0036】8mol%イットリア安定化ジルコニア
を、上側面3aの上および加工面11、12の上にプラ
ズマ溶射し、厚さ100μmの被膜7を形成した。被膜
7を、空気中、1400℃で3時間熱処理して、気密質
の固体電解質膜13を形成し、試料9を得た。この試料
9を樹脂中に埋設した。次いで、空気極3と固体電解質
膜13との接合界面8A、インターコネクター1と固体
電解質膜13との接合界面8Bが露出するように、試料
9を切断し、この切断面を研磨加工し、この研磨面を走
査型電子顕微鏡写真によって撮影した。
An 8 mol% yttria-stabilized zirconia was plasma sprayed on the upper surface 3a and the processing surfaces 11 and 12 to form a coating 7 having a thickness of 100 μm. The coating film 7 was heat-treated in air at 1400 ° C. for 3 hours to form an airtight solid electrolyte membrane 13, thereby obtaining a sample 9. This sample 9 was embedded in the resin. Next, the sample 9 was cut so that the bonding interface 8A between the air electrode 3 and the solid electrolyte membrane 13 and the bonding interface 8B between the interconnector 1 and the solid electrolyte membrane 13 were exposed, and the cut surface was polished. The polished surface was photographed by a scanning electron micrograph.

【0037】この場合、接合界面8A、8B付近に、空
気極3またはインターコネクター1と固体電解質膜13
との境界線が見える部分と、こうした境界線が見えない
部分とに、明瞭に区分することができる。この接合界面
の全長を走査型顕微鏡写真から測定し、かつ境界線が見
えない部分の長さを測定し、この割合を算出した。境界
線が見えない部分の長さの比率を、「剥離のない割合」
とする。
In this case, the air electrode 3 or the interconnector 1 and the solid electrolyte membrane 13 are located near the joining interfaces 8A and 8B.
Can be clearly distinguished into a part where the boundary line is visible and a part where such a boundary line is not visible. The total length of the joint interface was measured from a scanning micrograph, and the length of the portion where the boundary line was not visible was measured, and this ratio was calculated. The ratio of the length of the part where the boundary line is not visible is the "ratio without peeling"
And

【0038】この結果、空気極3と膜13との接合界面
8Aにおける剥離のない割合は、98%であり、インタ
ーコネクター1と膜13との接合界面8Bにおける剥離
のない割合は、95%であった。
As a result, the ratio of no separation at the junction interface 8A between the air electrode 3 and the film 13 is 98%, and the ratio of no separation at the junction interface 8B between the interconnector 1 and the film 13 is 95%. there were.

【0039】(比較例1)実施例と同様にして試料9を
製造した。ただし、空気極3の表面3bおよびインター
コネクター1の表面1cを、サンドブラスト加工し、加
工面11、12を形成した。
Comparative Example 1 Sample 9 was manufactured in the same manner as in the example. However, the surface 3b of the air electrode 3 and the surface 1c of the interconnector 1 were sandblasted to form the processed surfaces 11 and 12.

【0040】空気極3の加工面11のRaは2.0μm
であり、Rmaxは16.9μmであり、Rzは9.2
μmであった。インターコネクター1の加工面12のR
aは0.02μmであり、Rmaxは0.11μmであ
り、Rzは0.02μmであった。このように、空気極
3とインターコネクター1との間で、表面状態が顕著に
異なっていることがわかった。
Ra of the processing surface 11 of the air electrode 3 is 2.0 μm
, Rmax is 16.9 μm, and Rz is 9.2.
μm. R of processing surface 12 of interconnector 1
a was 0.02 μm, Rmax was 0.11 μm, and Rz was 0.02 μm. Thus, it was found that the surface state between the air electrode 3 and the interconnector 1 was significantly different.

【0041】得られた試料9について、前記の試験を行
ったところ、空気極3と膜13との接合界面8Aにおけ
る剥離のない割合は、84%であり、インターコネクタ
ー1と膜13との接合界面8Bにおける剥離のない割合
は、11%であった。
When the above-mentioned test was performed on the obtained sample 9, the ratio of no peeling at the bonding interface 8A between the air electrode 3 and the film 13 was 84%, and the bonding between the interconnector 1 and the film 13 was performed. The ratio of no separation at the interface 8B was 11%.

【0042】(比較例2)実施例と同様にして試料9を
製造した。ただし、空気極3の表面3bおよびインター
コネクター1の表面1cを、砥石研磨加工した。
Comparative Example 2 Sample 9 was manufactured in the same manner as in the example. However, the surface 3b of the air electrode 3 and the surface 1c of the interconnector 1 were polished with a grindstone.

【0043】空気極3の加工面11のRaは0.3μm
であり、Rmaxは2.8μmであり、Rzは1.9μ
mであった。インターコネクター1の加工面の12のR
aは0.2μmであり、Rmaxは2.3μmであり、
Rzは1.7μmであった。このように、空気極3もイ
ンターコネクター1も、非常に表面状態が平滑になって
いることが判明した。
Ra of the processing surface 11 of the air electrode 3 is 0.3 μm
And Rmax is 2.8 μm and Rz is 1.9 μm.
m. 12 R of processing surface of interconnector 1
a is 0.2 μm, Rmax is 2.3 μm,
Rz was 1.7 μm. Thus, it has been found that both the air electrode 3 and the interconnector 1 have very smooth surface conditions.

【0044】しかし、得られた試料9について、前記の
試験を行ったところ、空気極3と膜13との接合界面8
Aにおける剥離のない割合は、40%であり、インター
コネクター1と膜13との接合界面8Bにおける剥離の
ない割合は、22%であった。
However, when the above-described test was performed on the obtained sample 9, the bonding interface 8 between the air electrode 3 and the film 13 was determined.
The ratio of no peeling at A was 40%, and the ratio of no peeling at the bonding interface 8B between the interconnector 1 and the film 13 was 22%.

【0045】(比較例3)実施例と同様にして試料9を
製造した。ただし、空気極3の表面3bおよびインター
コネクター1の表面1cを、耐水ペーパーで研磨加工し
た。
Comparative Example 3 A sample 9 was manufactured in the same manner as in the example. However, the surface 3b of the air electrode 3 and the surface 1c of the interconnector 1 were polished with water-resistant paper.

【0046】空気極3の加工面11のRaは1.2μm
であり、Rmaxは10.2μmであり、Rzは6.0
μmであった。インターコネクター1の加工面の12の
Raは0.7μmであり、Rmaxは5.8μmであ
り、Rzは3.8μmであった。このように、空気極3
もインターコネクター1も、表面状態が平滑になってい
ることが判明した。
Ra of the processing surface 11 of the air electrode 3 is 1.2 μm
, Rmax is 10.2 μm, and Rz is 6.0.
μm. The Ra of the processed surface 12 of the interconnector 1 was 0.7 μm, the Rmax was 5.8 μm, and the Rz was 3.8 μm. Thus, the cathode 3
It was found that both the interconnector 1 and the interconnector 1 had smooth surface conditions.

【0047】しかし、得られた試料9について、前記の
試験を行ったところ、空気極3と膜13との接合界面8
Aにおける剥離のない割合は、72%であり、インター
コネクター1と膜13との接合界面8Bにおける剥離の
ない割合は、30%であった。
However, when the above-mentioned test was performed on the obtained sample 9, the bonding interface 8 between the air electrode 3 and the film 13 was determined.
The ratio of no peeling at A was 72%, and the ratio of no peeling at the bonding interface 8B between the interconnector 1 and the film 13 was 30%.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、多
孔質セラミックス体と緻密質セラミックス体との積層体
の少なくとも一部を被覆する被膜を、溶射法によって形
成するのに際して、接合状態の良好な、気密性の高い被
膜を形成できる。
As described above, according to the present invention, when a coating for covering at least a part of a laminate of a porous ceramic body and a dense ceramic body is formed by a thermal spraying method, the bonding state is reduced. And a highly airtight film having good airtightness can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は、本発明の一実施形態で使用する自己
支持型のインターコネクター1を示す平面図であり、
(b)は、このインターコネクター1と空気極3との積
層体4を示す正面図である。
FIG. 1A is a plan view showing a self-supporting interconnector 1 used in an embodiment of the present invention,
(B) is a front view showing the laminated body 4 of the interconnector 1 and the air electrode 3.

【図2】(a)は、積層体4に砥粒研磨加工法によって
加工面11、12を形成した状態を示す正面図であり、
(b)は、電気化学セル9を示す正面図である。
FIG. 2A is a front view showing a state in which processed surfaces 11 and 12 are formed on a laminated body 4 by an abrasive polishing method,
(B) is a front view showing the electrochemical cell 9.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 インターコネクター 2 酸化ガス流路 3
空気極 3b 空気極3の側面 4 空気極3とインターコネ
クター1との積層体 5 インターコネクター1と空気極3との境界 6
境界5の積層体4の表面への露出部分 7 溶射法に
よって形成した被膜 8A 空気極3と固体電解質膜
13との接合界面 8B インターコネクター1と固
体電解質膜13との接合界面 9 電気化学セル(試
料) 10 燃料極膜 11 空気極3の加工面
12 インターコネクター1の加工面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Interconnector 2 Oxidizing gas flow path 3
Air electrode 3b Side surface of air electrode 3 4 Laminated body of air electrode 3 and interconnector 1 5 Boundary between interconnector 1 and air electrode 3 6
Exposed portion of boundary 5 on surface of laminate 4 7 Coating formed by thermal spraying method 8A Bonding interface between air electrode 3 and solid electrolyte film 13 8B Bonding interface between interconnector 1 and solid electrolyte film 13 9 Electrochemical cell ( Sample) 10 Fuel electrode membrane 11 Processed surface of air electrode 3
12 Processed surface of interconnector 1

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】セラミックス部材が、多孔質セラミックス
体と緻密質セラミックス体との積層体を備えており、前
記多孔質セラミックス体と前記緻密質セラミックス体と
の境界が前記積層体の表面に現れており、かつ前記多孔
質セラミックス体の少なくとも一部、前記境界および前
記緻密質セラミックス体の少なくとも一部を被覆する被
膜を備えている、セラミックス部材を製造するのに際し
て、 前記境界に隣接する前記多孔質セラミックス体の表面お
よび前記緻密質セラミックス体の表面を、砥粒研磨加工
法によって加工して各加工面を形成し、次いで前記被膜
を、前記多孔質セラミックス体の加工面、前記緻密質セ
ラミックス体の加工面および前記境界を覆うように溶射
法によって形成することを特徴とする、セラミックス部
材の製造方法。
1. A ceramic member comprising a laminate of a porous ceramic body and a dense ceramic body, wherein a boundary between the porous ceramic body and the dense ceramic body appears on the surface of the laminate. And producing a ceramic member having a coating covering at least a part of the porous ceramic body, the boundary and at least a part of the dense ceramic body. The surface of the ceramic body and the surface of the dense ceramic body are processed by an abrasive polishing method to form each processed surface, and then the coating is formed on the processed surface of the porous ceramic body, A method for manufacturing a ceramic member, wherein the ceramic member is formed by a thermal spraying method so as to cover a processing surface and the boundary. .
【請求項2】前記多孔質セラミックス体の前記加工面お
よび前記緻密質セラミックス体の前記加工面の中心線平
均表面粗さRaを1.0μm以上、10μm以下とする
ことを特徴とする、請求項1記載のセラミックス部材の
製造方法。
2. A process according to claim 1, wherein a center line average surface roughness Ra of said processed surface of said porous ceramic body and said processed surface of said dense ceramic body is 1.0 μm or more and 10 μm or less. 2. The method for producing a ceramic member according to 1.
【請求項3】前記被膜を形成した後、この被膜を熱処理
することにより、この被膜を気密性にすることを特徴と
する、請求項1または2記載のセラミックス部材の製造
方法。
3. The method for manufacturing a ceramic member according to claim 1, wherein after forming the coating, the coating is heat-treated to make the coating airtight.
【請求項4】前記多孔質セラミックス体が電気化学セル
の一方の電極であり、前記緻密質セラミックス体が前記
電気化学セルのインターコネクターであり、前記被膜が
固体電解質からなる溶射膜であることを特徴とする、請
求項1〜3のいずれか一つの項に記載のセラミックス部
材の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the porous ceramic body is one electrode of an electrochemical cell, the dense ceramic body is an interconnector of the electrochemical cell, and the coating is a sprayed film made of a solid electrolyte. The method for producing a ceramic member according to any one of claims 1 to 3, wherein the method is characterized in that:
【請求項5】前記一方の電極が陽極であり、前記積層体
が、前記陽極と前記インターコネクターとからなる自己
支持能力を持つ積層体であり、この積層体の中に前記陽
極および前記インターコネクターに面する酸化ガス流路
が形成されていることを特徴とする、請求項4記載のセ
ラミックス部材の製造方法。
5. The laminate according to claim 1, wherein said one electrode is an anode, and said laminate is a laminate comprising said anode and said interconnector having a self-supporting ability, wherein said laminate comprises said anode and said interconnector. 5. The method for producing a ceramic member according to claim 4, wherein an oxidizing gas flow path facing the surface is formed.
【請求項6】セラミックス部材が、多孔質セラミックス
体と緻密質セラミックス体との積層体を備えており、前
記多孔質セラミックス体と前記緻密質セラミックス体と
の境界が前記積層体の表面に現れており、かつ前記多孔
質セラミックス体の少なくとも一部、前記境界および前
記緻密質セラミックス体の少なくとも一部を被覆する被
膜を備えている、セラミックス部材を製造するのに際し
て、 前記境界に隣接する前記多孔質セラミックス体の表面お
よび前記緻密質セラミックス体の表面を加工することに
よって各加工面を形成し、前記多孔質セラミックス体の
前記加工面および前記緻密質セラミックス体の前記加工
面の中心線平均表面粗さRaを1.0μm以上、10μ
m以下とし、次いで前記被膜を、前記多孔質セラミック
ス体の加工面、前記緻密質セラミックス体の加工面およ
び前記境界を覆うように溶射法によって形成することを
特徴とする、セラミックス部材の製造方法。
6. A ceramic member comprising a laminate of a porous ceramic body and a dense ceramic body, wherein a boundary between the porous ceramic body and the dense ceramic body appears on the surface of the laminate. And producing a ceramic member having a coating covering at least a part of the porous ceramic body, the boundary and at least a part of the dense ceramic body. Each processed surface is formed by processing the surface of the ceramic body and the surface of the dense ceramic body, and the center line average surface roughness of the processed surface of the porous ceramic body and the processed surface of the dense ceramic body Ra is 1.0 μm or more and 10 μm
m, and then forming the coating by a thermal spraying method so as to cover the processed surface of the porous ceramic body, the processed surface of the dense ceramic body, and the boundary.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7226691B2 (en) 2002-09-25 2007-06-05 Nissan Motor Co., Ltd. Unit cell solid oxide fuel cell and related method
JP2018195414A (en) * 2017-05-16 2018-12-06 日本特殊陶業株式会社 Electrochemical reaction single cell, electrochemical reaction cell stack, and method for manufacturing electrochemical reaction single cell

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