JPH10225634A - SnO2・xH2Oを用いるバナジウムアンチモネートベースの触媒の調製 - Google Patents
SnO2・xH2Oを用いるバナジウムアンチモネートベースの触媒の調製Info
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Abstract
がら、優れた酸化(特にアンモ酸化)触媒を製造する方
法を提供すること。 【解決手段】 以下の実験式で示される元素および比を
有する触媒を調製する方法であって: VSbmAaDdOx 最終的な触媒に含まれるべき該元素の化合物を含む供給
源バッチ原料の混合物の水性スラリーを製造する工程
と、続いて該混合物を乾燥および加熱か焼して活性触媒
にする工程と、該スラリーを乾燥する工程と、該混合物
を、少なくとも500℃の上方か焼温度までか焼する工程
と、を包含し、ここで、該スズの該供給源バッチ原料
が、テトラアルキルアンモニウム水酸化物に分散したx
≧0であるSnO2・xH2Oを含む溶液であり、ここで、該
テトラアルキルアンモニウム水酸化物が、以下の式 (CnH2n+1)4NOH(ここで、5≧n≧1である) で定義される、方法。
Description
もしくはオレフィンの触媒によるアンモ酸化に有用なス
ズ含有バナジウム-アンチモン酸化物触媒の調製のため
の方法に関し、より詳細には、プロパンまたはイソブタ
ンまたはプロピレンまたはイソブチレンの、対応する
α,β−不飽和モノニトリル、アクリロニトリルまたは
メタクリロニトリルへのアンモ酸化のための触媒の調製
のための方法に関する。さらに、この触媒は、メチルピ
リジン、m-キシレンのそれぞれシアノピリジン、イソフ
タロニトリルへのアンモ酸化、あるいはo-キシレンの無
水フタル酸への酸化に使用され得る。
アンモニウム水酸化物の溶液に分散されたSnO2・xH2O
(ここで、x≧0)を、バナジウムおよびアンチモンお
よびスズを酸化物形態で含む触媒の調製におけるスズに
ついての試薬として使用することに関する。
特許第3,681,421号、第4,788,317号、5,008,427号、な
らびに英国特許明細書第1,336,135号および第1,336,136
号(1973年11月発行)に開示されている。
C4アルカンの酸化およびアンモ酸化、特にアンモ酸化
のためのバナジウム−アンチモン酸化物触媒においてプ
ロモーターとして等しく効果的なのではない。事実、米
国特許第5,214,016号およびEPO691306-A1は、スズプロ
モーターの供給源は、完成した触媒の性能特性に重要で
あることを教示する。触媒前駆体混合物のか焼に際して
固体状態反応が起こる場合にスズが十分に反応性である
ために、非常に微細に分割された形態でそのような触媒
の前駆体中にスズは存在するべきと考えられる。スズ酸
化物ゾルは、本発明の触媒を作製するのに適切な供給源
である;米国特許第5,008,427号を参照のこと。しか
し、スズ金属を硝酸と反応させることにより作製された
スズ酸化物もしくは粉砕されたスズ酸化物は、触媒の調
製に決定的に効果が少ない触媒供給源である。一方、現
在の市販のスズ酸化物ゾルは、有効であるが、それは非
常に高価な供給源なので、重大な不利益を有する。
物ゾルの使用を避けながら、優れた酸化(特にアンモ酸
化)触媒を作製する方法を提供することが本発明の目的
である。
ゾルを触媒前駆体のスズの供給源として使用することに
比べてわずかな費用で、そのような触媒を作製すること
が本発明の別の目的である。
よび利点は、特定の実施例を含む明細書を検討すること
から、明らかとなる。
アンチモン、およびスズを酸化物状態で含む触媒を製造
する方法であって、最終的な触媒に含まれるべき元素の
化合物を含む供給源バッチ原料の混合物の水性スラリー
を製造する工程と、該混合物を乾燥する工程と、該混合
物をか焼して活性触媒を形成する工程と、を包含し、こ
こで、該スズの該供給源バッチ原料が、テトラアルキル
アンモニウム水酸化物に分散したx≧0であるSnO2・x
H2Oを含む溶液であり、ここで、該テトラアルキルアン
モニウム水酸化物が、以下の式で定義され: (CnH2n+1)4NOH ここで、5≧n≧1である、方法である。そのことによ
り、上記目的が達成される。
H2Oは、テトラメチルアンモニウム水酸化物に分散して
いる。
少なくとも500℃の温度において行われる。
アンモ酸化のためのか焼温度は、少なくとも750℃であ
る。
は少なくとも780℃である。
不活性キャリア上に担持される。
は、シリカ、アルミナ、シリカアルミナ、ジルコニア、
またはそれらの混合物からなる群から選択される。
素および比を有する触媒を調製する方法であって: VSbmAaDdOx ここで、Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、
ここで、Snは常に存在し、Dは、1つまたはそれ以上の
Li、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、N
b、Zr、Mo、W、Cu、Te、Ta、Se、Bi、Ce、In、As、
B、Al、およびMnであり、ここで、mは、0.5〜10であ
り、aは、0より大きく10までであり、dは、0〜10で
あり、xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定
され、最終的な触媒に含まれるべき該元素の化合物を含
む供給源バッチ原料の混合物の水性スラリーを製造する
工程と、続いて該混合物を乾燥および加熱か焼して活性
触媒にする工程と、該スラリーを乾燥する工程と、該混
合物を、少なくとも500℃の上方か焼温度までか焼する
工程と、を包含し、ここで、該スズの該供給源バッチ原
料が、テトラアルキルアンモニウム水酸化物に分散した
x≧0であるSnO2・xH2Oを含む溶液であり、ここで、
該テトラアルキルアンモニウム水酸化物が、以下の式 (CnH2n+1)4NOH(ここで、5≧n≧1である) で定義される、方法である。
は、少なくとも750℃である。
は、少なくとも780℃である。
不活性キャリア上に担持される。
ャリアは、シリカ、アルミナ、ジルコニア、シリカアル
ミナ、またはそれらの混合物からなる群から選択され
る。
H2Oは、テトラメチルアンモニウム水酸化物中に分散さ
れる。
から選択されるパラフィンと、分子酸素およびアンモニ
アとを、これらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、アクリロニト
リルおよびメタクリロニトリルから選択されるα,β-不
飽和モノニトリルを製造するプロセスであって、ここ
で、Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここ
で、Snは常に存在し、Dは、1つまたはそれ以上のLi、
Mg、Ca、Sr、Ba、Co、Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Z
r、Mo、W、Cu、Te、Ta、Se、Bi、Ce、In、As、B、A
l、およびMnであり、ここで、mは、0.5〜10であり、a
は、0より大きく10までであり、dは、0〜10であり、
xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、
該反応ゾーンへの供給が、2.5〜16の範囲内にある該パ
ラフィンのNH3に対するモル比および1〜10の範囲内に
ある該パラフィンのO2に対するモル比を含み、ここで、
該触媒が、上記方法により調製される、プロセスであ
る。
から選択されるパラフィンと、分子酸素およびアンモニ
アとを、これらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、アクリロニト
リルおよびメタクリロニトリルから選択されるα,β-不
飽和モノニトリルを製造するプロセスであって、ここ
で、Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここ
で、Snは常に存在し、Dは、1つまたはそれ以上のLi、
Mg、Ca、Sr、Ba、Co、Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Z
r、Mo、W、Cu、Te、Ta、Se、Bi、Ce、In、As、B、A
l、およびMnであり、ここで、mは、0.5〜10であり、a
は、0より大きく10までであり、dは、0〜10であり、
xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、
該反応ゾーンへの供給が、2.5〜16の範囲内にある該パ
ラフィンのNH3に対するモル比および1〜10の範囲内に
ある該パラフィンのO2に対するモル比を含み、ここで、
該触媒が、上記方法により調製される、プロセスであ
る。
シレンからなる群から選択される出発物質と、分子酸素
およびアンモニアとを、これらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、シアノピリジ
ンおよびイソフタロニトリルからなる群から選択される
化合物を製造するプロセスであって、ここで、Aは、1
つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここで、Snは常に
存在し、Dは、1つまたはそれ以上のLi、Mg、Ca、Sr、
Ba、Co、Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、C
u、Te、Ta、Se、Bi、Ce、In、As、B、Al、およびMnで
あり、ここで、mは、0.5〜10であり、aは、0より大
きく10までであり、dは、0〜10であり、xは、存在す
るカチオンの酸化状態によって決定され、該反応ゾーン
への供給が、1〜5の範囲内にある該NH3の該出発物質
に対するモル比および1〜10の範囲内にある該O2の該出
発物質に対するモル比を含み、ここで、該触媒が、上記
方法により調製される、プロセスである。
を、これらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、o-キシレンか
ら無水フタル酸を製造するプロセスであって、ここで、
Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここで、
Snは常に存在し、Dは、1つまたはそれ以上のLi、Mg、
Ca、Sr、Ba、Co、Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、M
o、W、Cu、Te、Ta、Se、Bi、Ce、In、As、B、Al、お
よびMnであり、ここで、mは、0.5〜10であり、aは、
0より大きく10までであり、dは、0〜10であり、x
は、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、該
反応ゾーンへの供給が、1〜10の範囲内にあるo-キシレ
ンに対する該O2のモル比を含み、ここで、該触媒が、上
記方法により調製される、プロセスである。
ンから選択されるオレフィンと、アンモニアおよび酸素
含有ガスとを、これらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、アクリロニト
リルおよびメタクリロニトリルから選択されるα,β-不
飽和モノニトリルを製造するプロセスであって、ここ
で、Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここ
で、Snは常に存在し、Dは、1つまたはそれ以上のLi、
Mg、Ca、Sr、Ba、Co、Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Z
r、Mo、W、Cu、Te、Ta、Se、Bi、Ce、In、As、B、A
l、およびMnであり、ここで、mは、0.5〜10であり、a
は、0より大きく10までであり、dは、0〜10であり、
xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、
該反応ゾーンへの供給が、1〜5の範囲内にあるアンモ
ニアの該オレフィンに対するモル比および1〜10の範囲
内にある該酸素の該オレフィンに対するモル比を含み、
ここで、該触媒が、上記方法により調製される、プロセ
スである。
により達成される。本発明によれば、バナジウム、アン
チモン、およびスズを酸化物状態で含む触媒の作製方法
が提供される。本発明は、最終的な触媒に含まれるべき
元素の化合物を含む供給源のバッチ原料の混合物の水性
スラリーを作製する工程、続いて混合物を乾燥およびか
焼して活性な触媒を形成する工程を包含し、ここで、ス
ズの供給源バッチ原料は、テトラアルキルアンモニウム
水酸化物に分散されたSnO2・xH2O(ここでx≧0であ
る)を含む溶液であり、ここで、テトラアルキルアンモ
ニウム水酸化物は、以下の式で定義される: (CnH2n+1)4NOH ここで、5≧n≧1である。好ましくは、テトラメチル
アンモニウム水酸化物が本発明の実施に使用される。
の、VおよびSbの前駆体化合物、ならびに当該分野で
周知なように、か焼後の最終触媒に他の任意元素を導入
するのに使用される化合物(例えば、このような元素の
塩、酸化物、水酸化物または有機金属(metallo-organi
c)化合物)から作製され得、スズは、この触媒を調製
するための原料のバッチに、本明細書中に前に開示した
ように、テトラアルキルアンモニウム水酸化物に分散さ
れたSnO2・xH2Oの溶液形態で導入される。前駆体物質の
バッチ混合物は、公知の様式で最終的な触媒が得られる
まで加熱され、そしてか焼される。そのような供給源バ
ッチ原料の例は、もちろん本明細書中の特定の実施例
(working example)に示される。
国特許第4,784,979号、第4,879,264号、第3,860,534号
および第5,094,989号に記載され、これらは本明細書中
で参考として援用される。さらに、触媒は、必要に応じ
て、米国特許第5,432,141号および第5,498,588号に開示
された方法の1つ以上により処理され得、これらも本明
細書中で参考として援用される。
度(upper calcination temperature)は通常少なくと
も500℃であるが、パラフィンのアンモ酸化のために
は、この温度は、好ましくは750℃以上であり、最も汎
用的には少なくとも780℃である。
もよく、担持されなくてもよい。好ましくは、触媒はキ
ャリア(例えば、シリカ、アルミナ、シリカアルミナ、
ジルコニア、またはそれらの混合物)に担持される。
示される元素および比を有する触媒を作製することであ
る: VSbmAaDdOx ここで、Aは、1つまたはそれより多くの、Ti、Snであ
り、ここで、Snは常に存在し、Dは、1つまたはそれよ
り多くの、Li、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、Fe、Cr、Ga、Ni、
Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、Ta、Se、Bi、Ce、I
n、As、B、AlおよびMnであり、そしてここで、mは、0.
5〜10であり、aは、0より大きく10までであり、d
は、0〜10であり、xは、存在するカチオンの酸化状態
により決定される。
前記元素の化合物を含む供給源バッチ原料の混合物の水
性スラリーを作製する工程、続いて混合物を乾燥および
加熱か焼して活性な触媒にする工程、前記スラリーを乾
燥する工程および少なくとも780℃の上方か焼温度まで
混合物をか焼する工程を包含し、ここでスズのための供
給源バッチ原料は、テトラアルキルアンモニウム水酸化
物中に分散されたSnO2・xH2O(ここでx≧0である)を
含む溶液であり、ここで、テトラアルキルアンモニウム
水酸化物は、以下の式で定義される: (CnH2n+1)4NOH ここで、5≧n≧1である。上方か焼温度は、1200℃ま
で上昇させることができるが、最も汎用的には1050℃を
超えない。
びイソブタンから選択されるパラフィンと分子酸素およ
びアンモニアならびに必要に応じて気体状希釈剤との、
反応ゾーン中での前記の反応剤の触媒との触媒的接触に
よる蒸気相中の触媒反応により、アクリロニトリルおよ
びメタクリロニトリルから選択される、α、β−不飽和
モノニトリルを作製するためのプロセスが提供される。
該反応ゾーン中への供給は、該パラフィン対NH3の、2.5
〜16の範囲(好ましくは4〜12、特に好ましくは5〜1
1)のモル比と、該パラフィン対O2の、1〜10の範囲
(好ましくは2〜9、特に好ましくは3〜9)のモル比
と、を含む。ここで、前記触媒は、直前の段落に記載さ
れた実験式を有し、前記触媒は直前の段落の方法で作製
される。
レンのシアノピリジンおよびイソフタロニトリルへのア
ンモ酸化またはo-キシレンのフタル酸無水物への酸化に
使用され得る。NH3対メチルピリジンおよびO2対メチル
ピリジンのモル比は、それぞれ1〜5および1〜10であ
る。NH3対m-キシレンおよびO2対m-キシレンのモル比
は、それぞれ1〜5および1〜10である。フタル酸無水
物反応において、O2対o-キシレンの比は1〜10の範囲
であり得る。
また、プロピレンまたはイソブテンの、アンモニアおよ
び酸素による、アクリロニトリルまたはメタクリロニト
リルを生成するアンモ酸化に使用され得る。当該分野で
周知の、通常の温度および条件下では、この反応におい
て、NH3対オレフィンのモル比は約1〜5の範囲であり
得、そしてO2対オレフィンのモル比は、1〜10の範囲で
あり得る。
触媒を用いるアンモ酸化反応の以下の実施例は、単に例
示的であり、そしていかなる様式においても限定的に理
解されるべきではない。
O5粉末27.30gと、30% H2O2(100 ml)からなる水(90
0 ml)溶液とを混合することにより、VSb1.4Sn0.2Ti0.1
Oxの組成を有する触媒(触媒番号17388-79)を調製し
た。このV2O5粉末の反応が完結した後、Sb2O3(61.25
g)を添加し、続いて、TiO2粉末(Degussa P-25)2.40
gを添加した。このビーカーを、時計ざらで覆い、この
混合物を撹拌し、そして約3時間加熱した。別のビーカ
ーにおいて、10.13gのSnO2・xH2O(「酸スズ酸化物」Ma
gnesiumElektron Inc.,受領1991年6月7日)を100mlの
水および8mlのテトラメチルアンモニウム水酸化物の25
重量%溶液に添加した。半透明の混合物が形成するま
で、一定の撹拌をしながら混合物をホットプレート上で
加熱した。次いで、このスズ含有分散物を、前記のバナ
ジウム、アンチモン、チタン分散物に添加した。この混
合物を、覆っていないビーカーにて、加熱しつつ撹拌
し、水の蒸発により容量を減少させた。この混合物がも
はや撹拌できなくなったとき、オーブンにて120℃で乾
燥した。その後、それを325℃で1時間、次いで、650℃
で8時間か焼し、次いで冷却し、そして粉砕し、そして
ふるい分けして、そしてその20〜35メッシュの粒子を集
めた。この一部を、820℃で3時間か焼し、次いで、650
℃でさらに3時間か焼した。
ガラスフリット漏斗に入れ、この触媒上にイソブタノー
ルを注ぎ、触媒を漏斗の底部上に均一に広げるために、
触媒をイソブタノール中で撹拌し、次いで、このイソブ
タノールを吸引せずにこの漏斗に通すことにより、触媒
1グラムあたり約6.25 mlのイソブタノールを用いて、
イソブタノールと接触させた。この洗浄は、合計3回行
った。最後のイソブタノールをこの漏斗に通した後、こ
の触媒を、オーブンにて120℃で加熱して、この触媒上
に残留しているイソブタノールを除去した。
器を用いて、触媒をプロパンのアンモ酸化について評価
した。反応器への気体供給は、圧力15psigにおいて、3
(プロパン)/1(アンモニア)/2(酸素)/5(窒
素)のモル比を有した。490℃の反応器温度および1.4秒
間の接触時間において、アクリロニトリルに対する選択
性は、19.2%のプロパン変換において61.2%であった。
495℃の反応器温度および1.4秒間の接触時間において、
アクリロニトリルに対する選択性は、21.2%のプロパン
変換において58.6%であった。
O5粉末27.30gと、30% H2O2(100 ml)からなる水(90
0 ml)溶液とを混合することにより、VSb1.4Sn0.2Ti0.1
Oxの組成を有する触媒を調製した。このV2O5粉末の反応
が完結した後、Sb2O3(61.25g)を添加し、続いて、Ti
O2粉末(Degussa P-25)2.40gを添加した。このビーカ
ーを、時計ざらで覆い、この混合物を撹拌し、そして約
3時間加熱した。別のビーカーにおいて、10.13gのSnO2
・xH2O(「酸スズ酸化物」Magnesium Elektron Inc.,受
領1991年6月7日)を100mlの水および30mlのテトラメ
チルアンモニウム水酸化物の25重量%溶液に添加した。
半透明の混合物が形成するまで、一定の撹拌をしながら
混合物をホットプレート上で加熱した。次いで、このス
ズ含有分散物を、前記のバナジウム、アンチモン、チタ
ン分散物に添加した。この混合物を、覆っていないビー
カーにて、加熱しつつ撹拌し、水の蒸発により容量を減
少させた。この混合物がもはや撹拌できなくなったと
き、オーブンにて120℃で乾燥した。その後、それを325
℃で1時間、次いで、650℃で8時間か焼し、次いで冷
却し、そして粉砕し、そしてふるい分けして、そしてそ
の20〜35メッシュの粒子を集めた。この一部を、820℃
で3時間か焼し、次いで、650℃でさらに3時間か焼し
た。
ガラスフリット漏斗に入れ、この触媒上にイソブタノー
ルを注ぎ、触媒を漏斗の底部上に均一に広げるために、
触媒をイソブタノール中で撹拌し、次いで、このイソブ
タノールを吸引せずにこの漏斗に通すことにより、触媒
1グラムあたり約6.25 mlのイソブタノールを用いて、
イソブタノールと接触させた。この洗浄は、合計3回行
った。最後のイソブタノールをこの漏斗に通した後、こ
の触媒を、オーブンにて120℃で加熱して、この触媒上
に残留しているイソブタノールを除去した。
器を用いて、触媒をプロパンのアンモ酸化について評価
した。反応器への気体供給は、圧力15psigにおいて、3
(プロパン)/1(アンモニア)/2(酸素)/5(窒
素)のモル比を有した。495℃の反応器温度および2.4秒
間の接触時間において、アクリロニトリルに対する選択
性は、13.1%のプロパン変換において55.6%であった。
物ゾルの使用を避けながら、優れた酸化(特にアンモ酸
化)触媒を作製する方法が提供される。また、本発明に
よれば、スズ成分に関して、現在市販のスズ酸化物ゾル
を触媒前駆体のスズの供給源として使用することに比べ
てわずかな費用で、そのような触媒を作製することがで
きる。
Claims (18)
- 【請求項1】 バナジウム、アンチモン、およびスズを
酸化物状態で含む触媒を製造する方法であって:最終的
な触媒に含まれるべき元素の化合物を含む供給源バッチ
原料の混合物の水性スラリーを製造する工程と;該混合
物を乾燥する工程と;該混合物をか焼して活性触媒を形
成する工程と、を包含し、 ここで、該スズの該供給源バッチ原料が、テトラアルキ
ルアンモニウム水酸化物に分散したx≧0であるSnO2・
xH2Oを含む溶液であり、ここで、該テトラアルキルア
ンモニウム水酸化物が、以下の式で定義され: (CnH2n+1)4NOH ここで、5≧n≧1である、方法。 - 【請求項2】 前記SnO2・xH2Oが、テトラメチルアン
モニウム水酸化物に分散している、請求項1に記載の方
法。 - 【請求項3】 前記か焼が、少なくとも500℃の温度に
おいて行われる、請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 パラフィンのアンモ酸化のためのか焼温
度が、少なくとも750℃である、請求項3に記載の方
法。 - 【請求項5】 前記か焼温度が少なくとも780℃であ
る、請求項3に記載の方法。 - 【請求項6】 前記触媒が、不活性キャリア上に担持さ
れる、請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】 前記キャリアが、シリカ、アルミナ、シ
リカアルミナ、ジルコニア、またはそれらの混合物から
なる群から選択される、請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 以下の実験式で示される元素および比を
有する触媒を調製する方法であって: VSbmAaDdOx ここで、 Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここで、
Snは常に存在し、 Dは、1つまたはそれ以上のLi、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、
Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、T
a、Se、Bi、Ce、In、As、B、Al、およびMnであり、 ここで、 mは、0.5〜10であり、 aは、0より大きく10までであり、 dは、0〜10であり、 xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され
る、 最終的な触媒に含まれるべき該元素の化合物を含む供給
源バッチ原料の混合物の水性スラリーを製造する工程
と;続いて該混合物を乾燥および加熱か焼して活性触媒
にする工程と;該スラリーを乾燥する工程と;該混合物
を、少なくとも500℃の上方か焼温度までか焼する工程
と、を包含し、 ここで、該スズの該供給源バッチ原料
が、テトラアルキルアンモニウム水酸化物に分散したx
≧0であるSnO2・xH2Oを含む溶液であり、ここで、該
テトラアルキルアンモニウム水酸化物が、以下の式 (CnH2n+1)4NOH(ここで、5≧n≧1である) で定義される、方法。 - 【請求項9】 前記か焼温度が、少なくとも750℃であ
る、請求項8に記載の方法。 - 【請求項10】 前記か焼温度が、少なくとも780℃で
ある、請求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 前記触媒が、不活性キャリア上に担持
される、請求項8に記載の方法。 - 【請求項12】 前記不活性キャリアが、シリカ、アル
ミナ、ジルコニア、シリカアルミナ、またはそれらの混
合物からなる群から選択される、請求項11に記載の方
法。 - 【請求項13】 前記SnO2・xH2Oが、テトラメチルア
ンモニウム水酸化物中に分散される、請求項8に記載の
方法。 - 【請求項14】 プロパンおよびイソブタンから選択さ
れるパラフィンと、分子酸素およびアンモニアとを、こ
れらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、アクリロニト
リルおよびメタクリロニトリルから選択されるα,β-不
飽和モノニトリルを製造するプロセスであって:ここ
で、 Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここで、
Snは常に存在し、 Dは、1つまたはそれ以上のLi、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、
Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、T
a、Se、Bi、Ce、In、As、B、Al、およびMnであり、 ここで、 mは、0.5〜10であり、 aは、0より大きく10までであり、 dは、0〜10であり、 xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、 該反応ゾーンへの供給が、2.5〜16の範囲内にある該パ
ラフィンのNH3に対するモル比および1〜10の範囲内に
ある該パラフィンのO2に対するモル比を含み、ここで、
該触媒が、請求項1に記載の方法により調製される、プ
ロセス。 - 【請求項15】 プロパンおよびイソブタンから選択さ
れるパラフィンと、分子酸素およびアンモニアとを、こ
れらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、アクリロニト
リルおよびメタクリロニトリルから選択されるα,β-不
飽和モノニトリルを製造するプロセスであって:ここ
で、 Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここで、
Snは常に存在し、 Dは、1つまたはそれ以上のLi、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、
Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、T
a、Se、Bi、Ce、In、As、B、Al、およびMnであり、 ここで、 mは、0.5〜10であり、 aは、0より大きく10までであり、 dは、0〜10であり、 xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、 該反応ゾーンへの供給が、2.5〜16の範囲内にある該パ
ラフィンのNH3に対するモル比および1〜10の範囲内に
ある該パラフィンのO2に対するモル比を含み、ここで、
該触媒が、請求項8に記載の方法により調製される、プ
ロセス。 - 【請求項16】 メチルピリジンおよびm-キシレンから
なる群から選択される出発物質と、分子酸素およびアン
モニアとを、これらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、シアノピリジ
ンおよびイソフタロニトリルからなる群から選択される
化合物を製造するプロセスであって:ここで、 Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここで、
Snは常に存在し、 Dは、1つまたはそれ以上のLi、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、
Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、T
a、Se、Bi、Ce、In、As、B、Al、およびMnであり、 ここで、 mは、0.5〜10であり、 aは、0より大きく10までであり、 dは、0〜10であり、 xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、 該反応ゾーンへの供給が、1〜5の範囲内にある該NH3
の該出発物質に対するモル比および1〜10の範囲内にあ
る該O2の該出発物質に対するモル比を含み、ここで、該
触媒が、請求項1に記載の方法により調製される、プロ
セス。 - 【請求項17】 o-キシレンと分子酸素とを、これらの
反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、o-キシレンか
ら無水フタル酸を製造するプロセスであって:ここで、 Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここで、
Snは常に存在し、 Dは、1つまたはそれ以上のLi、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、
Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、T
a、Se、Bi、Ce、In、As、B、Al、およびMnであり、 ここで、 mは、0.5〜10であり、 aは、0より大きく10までであり、 dは、0〜10であり、 xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、 該反応ゾーンへの供給が、1〜10の範囲内にあるo-キシ
レンに対する該O2のモル比を含み、ここで、該触媒が、
請求項1に記載の方法により調製される、プロセス。 - 【請求項18】 プロピレンおよびイソブテンから選択
されるオレフィンと、アンモニアおよび酸素含有ガスと
を、これらの反応剤と以下の式 VSbmAaDdOx を有する触媒との反応ゾーン中における触媒的接触によ
り蒸気相中で触媒反応させることにより、アクリロニト
リルおよびメタクリロニトリルから選択されるα,β-不
飽和モノニトリルを製造するプロセスであって:ここ
で、 Aは、1つまたはそれ以上のTi、Snであって、ここで、
Snは常に存在し、 Dは、1つまたはそれ以上のLi、Mg、Ca、Sr、Ba、Co、
Fe、Cr、Ga、Ni、Zn、Ge、Nb、Zr、Mo、W、Cu、Te、T
a、Se、Bi、Ce、In、As、B、Al、およびMnであり、 ここで、 mは、0.5〜10であり、 aは、0より大きく10までであり、 dは、0〜10であり、 xは、存在するカチオンの酸化状態によって決定され、 該反応ゾーンへの供給が、1〜5の範囲内にあるアンモ
ニアの該オレフィンに対するモル比および1〜10の範囲
内にある該酸素の該オレフィンに対するモル比を含み、
ここで、該触媒が、請求項1の方法により調製される、
プロセス。
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