JPH10225351A - 花 瓶 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 切り花、活け花の延命効果を恒久的に付与可
能な花瓶を提供すること。 【解決手段】 透明な花瓶容器の内表面に、光触媒粒子
を含有する実質的に透明な層を備え、前記層表面は前記
光触媒の光励起に応じて親水性を呈する面からなること
を特徴とする花瓶。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、切り花の寿命を延
ばす効果を有する花瓶に関する。

【０００２】

【従来の技術】花瓶に活けた花は居住空間の快適性をも
たらすが、２、３日で枯れてしまうことが多い。そのた
め、従来より以下のような花の延命方法が提案されてき
た。 （１）硝酸銀、チオ硫酸銀のような薬剤を、水に混入す
る。 （２）銀イオンを徐放しうる無機抗菌剤を、花瓶に混入
する。 （３）銀イオンを徐放しうる無機抗菌剤を、花瓶にコ−
ティングする。 （４）銀イオンを徐放しうる無機抗菌剤を練り込んだフ
ィルムを、花瓶に貼付する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、硝酸
銀、チオ硫酸銀のような薬剤を水に混入する方法では延
命効果はあるものの、水を取替える度に薬剤を投入しな
ければならず、不経済である。

【０００４】また、銀イオンを徐放しうる無機抗菌剤を
花瓶に混入する方法では、銀イオンが水道水中の塩素イ
オンや有機化合物と反応しやすいため、無機抗菌剤上に
固定した銀層上にそれらの反応物（塩化銀等の難溶性物
質）の層が形成されやすく、それらの層が一旦形成され
ると銀イオンの溶出量に急激な変化を来し、たとえ初期
に適当な（延命に十分な最低量の）銀イオンの徐放量に
なるように層の構造を最適化しても早期に効果を失うこ
とが多い。さらに、無機抗菌剤は銀イオンの水中への溶
解により延命効果を生じるが、銀イオンの担持量には限
界があるため、恒久的な効果は得られない。上記無機抗
菌剤を花瓶に混入する方法に関する問題点は、銀イオン
を徐放しうる無機抗菌剤を花瓶にコ−ティングする場合
にも、銀イオンを徐放しうる無機抗菌剤を練り込んだフ
ィルムを花瓶に貼付する場合にも共通する。

【０００５】そこで、本発明では、切り花、活け花の延
命効果を恒久的に付与可能な花瓶を提供することを目的
とした。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、光触媒を含有
する層を形成した部材において、光触媒を光励起する
と、部材の表面が高度に親水化されるという発見に基づ
く。この現象は以下に示す機構により進行すると考えら
れる。すなわち、光触媒の価電子帯上端と伝導帯下端と
のエネルギ−ギャップ以上のエネルギ−を有する光が光
触媒に照射されると、光触媒の価電子帯中の電子が励起
されて伝導電子と正孔が生成し、そのいずれかまたは双
方の作用により、おそらく表面に極性が付与され、水や
水酸基等の極性成分が集められる。そして伝導電子と正
孔のいずれかまたは双方と、上記極性成分との協調的な
作用により、表面に化学吸着水が吸着し、さらに物理吸
着水層がその上に形成されるのである。

【０００７】上記機構により、光触媒を含有する層表面
は、光触媒の光励起に応じて恒久的に親水性を呈するよ
うになる。親水性表面が、水に浸漬されていると、その
部分は油等の疎水性物質よりも水によりなじみやすくな
るので、油汚れが付着しにくくなる。さらに、親水性表
面が、水に浸漬されていると、その界面には気泡が生成
しにくい。さらに、親水性表面が、水との接触角に換算
して２０゜以下、好ましくは１０゜以下、より好ましく
は５゜以下程度になると、汚泥等の親水性物質よりも水
に対するなじみが大きくなるために、汚泥汚れも付着し
にくくなる。

【０００８】本発明では、透明な花瓶容器の内表面に、
光触媒粒子を含有する実質的に透明な層を備え、前記層
表面は前記光触媒の光励起に応じて親水性を呈する面か
らなることを特徴とする花瓶を提供する。透明な花瓶容
器の内表面に、光触媒粒子を含有する実質的に透明な層
を備えることにより、光触媒の抗菌効果に基づいて花の
延命効果が生じる。

【０００９】この効果は、以下に示す理由により、上記
光触媒による親水化作用により助長され、或いは維持さ
れる。１つには、光触媒による親水化作用により、花瓶
内面が汚れにくくなるので、花瓶内面に固定された光触
媒粒子に到達する励起光の照度が時間の経過とともに弱
まることなく、十分な抗菌効果が維持され、従って、花
の延命効果が維持される。他には、光触媒による親水化
作用により、花瓶内面に気泡が付着しにくくなるので、
水中浮遊菌が光触媒粒子に接触する確率が増して花の延
命効果が助長される。

【００１０】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらにシリカが含有されているようにする。シリ
カが含有されることにより、表面が水濡れ角０゜に近い
高度の親水性を呈しやすくなると共に、暗所に保持した
ときの親水維持性が向上する。その理由はシリカは構造
中に水を蓄えることができることと関係していると思わ
れる。

【００１１】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらに固体酸が含有されているようにする。固体
酸が含有されることにより、表面が水濡れ角０゜に近い
高度の親水性を呈しやすくなると共に、暗所に保持した
ときの親水維持性が向上する。その理由は表面層に固体
酸が含有されると、表面の極性が、光の有無にかかわら
ず大きな状態にあるために、疎水性分子よりも極性分子
である水分子を選択的に吸着させやすい。そのため安定
な物理吸着水層が形成されやすく、暗所に保持しても、
表面の親水性をかなり長期にわたり高度に維持できる。

【００１２】本発明の好ましい態様においては、表面層
には、さらにシリコ−ンが含有されているようにする。
シリコ−ンが含有されることにより、光触媒の光励起に
よって、シリコ−ン中のシリコン原子に結合する有機基
の少なくとも一部が水酸基に置換され、さらにその上に
物理吸着水層が形成されることにより、表面が水濡れ角
０゜に近い高度の親水性を呈するようになると共に、暗
所に保持したときの親水維持性が向上する。

【００１３】

【発明の実施の形態】次に、本発明の具体的な構成につ
いて説明する。本発明における花瓶は透明であり、花瓶
内面には光触媒を含む層が形成されているようにする。
内表面は光触媒の光励起に応じて親水性を呈する構成に
なっており、そのためには、花瓶内面の露出表面は、シ
リカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、セリア、イッ
トリア、酸化亜鉛、酸化錫、チタン酸ストロンチウム、
三酸化タングステン、三酸化二ビスマス、酸化第二鉄、
酸化モリブデン等の無機酸化物や、ＴｉＯ₂／ＷＯ₃、Ｔ
ｉＯ₂／Ｍｏ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂・Ａｌ₂Ｏ₃、ＷＯ₃／Ｓｎ
Ｏ₂、ＴｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂／ＳｉＯ₂、硫酸担持
Ａｌ₂Ｏ₃、硫酸担持ＴｉＯ₂、硫酸担持ＺｒＯ₂、硫酸担
持ＳｎＯ₂、硫酸担持Ｆｅ₂Ｏ₃、硫酸担持ＳｉＯ₂、硫酸
担持ＨｆＯ₂、ＷＯ₃／ＺｒＯ₂、ＷＯ₃／Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｔｉ
Ｏ₂／ＺｒＯ₂等の固体酸又はシリコ−ンからなるように
する。露出表面が無機酸化物からなる場合には、無機酸
化物表面のＯＨ基に水素結合的に結合する物理吸着水
が、光触媒の光励起に応じて増加し、表面が親水性を呈
するようになる。露出表面が固体酸からなる場合には、
電子受容体表面（ルイス酸の場合）又は陽子供与体表面
（ブレンステッド酸の場合）に静電的に吸着する物理吸
着水量が光触媒の光励起に応じて増加し、表面が親水性
を呈するようになる。露出表面がシリコ−ンからなる場
合には、まず光触媒の光励起によりシリコ−ン分子中の
シリコン原子に結合するオルガノ基が水酸基に置換さ
れ、置換された水酸基に水素結合的に結合する物理吸着
水が、光触媒の光励起に応じて増加し、表面が親水性を
呈するようになる。

【００１４】光触媒とは、その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギ−ギャップよりも大きなエネルギ−
（すなわち短い波長）の光（励起光）を照射したとき
に、価電子帯中の電子の励起（光励起）が生じて、伝導
電子と正孔を生成しうる物質をいい、例えば、アナタ−
ゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、酸化錫、酸化亜
鉛、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、酸化第二
鉄、チタン酸ストロンチウム等が好適に利用できる。こ
こで光触媒の光励起に用いる光源としては、蛍光灯、白
熱電灯、メタルハライドランプ、ブラックライトラン
プ、キセノンランプ、水銀灯、太陽光などが好適に利用
できる。光触媒の光励起により、抗菌性を発揮し、かつ
基材表面が高度に親水化されるためには、励起光の照度
は、０．０１ｍＷ／ｃｍ²以上あればよいが、０．１ｍ
Ｗ／ｃｍ²以上だと好ましく、１ｍＷ／ｃｍ²以上だとよ
り好ましい。

【００１５】光触媒を含有する表面層の膜厚は、０．４
μｍ以下にするのが好ましい。そうすれば、光の乱反射
による白濁を防止することができ、表面層は実質的に透
明となる。さらに光触媒を含有する表面層の膜厚を０．
２μｍ以下にすると一層好ましい。そうすれば、光の干
渉による表面層の発色を防止することができる。また表
面層が薄ければ薄いほどその透明度は向上する。更に、
膜厚を薄くすれば、表面層の耐摩耗性が向上する。上記
表面層の表面に、更に、親水化可能な耐摩耗性又は耐食
性の保護層や他の機能膜を設けても良い。

【００１６】上記表面層は、基材と比較して屈折率があ
まり高くないのが好ましい。好ましくは表面層の屈折率
は２以下であるのがよい。そうすれば、基材と表面層と
の界面、及び表面層と空気との界面における光の反射を
抑制できる。表面層の屈折率を２以下にするには、光触
媒に２以下の屈折率を有する物質を用いるか、或いは光
触媒が屈折率２以上の場合には、屈折率２以下の他の物
質を表面層に添加する。２以下の屈折率を有する光触媒
としては、酸化錫（屈折率１．９）等が利用できる。２
以上の屈折率を有する光触媒としては、アナタ−ゼ型酸
化チタン（屈折率２．５）やルチル型酸化チタン（屈折
率２．７）があるが、この場合には屈折率２以下の他の
物質、例えば、炭酸カルシウム（屈折率１．６）、ドロ
マイト（屈折率１．７）、炭酸マグネシウム（屈折率
１．５）、水酸化カルシウム（屈折率１．６）、炭酸ス
トロンチウム（屈折率１．５）、フッ化マグネシウム
（屈折率１．４）、フッ化カルシウム（屈折率１．
４）、シリカ（屈折率１．５）、アルミナ（屈折率１．
６）、ケイ砂（屈折率１．６）、カオリン（屈折率１．
６）、モンモリロナイト（屈折率１．５）、セリサイト
（屈折率１．６）、ゼオライト（屈折率１．６）、酸化
錫（屈折率１．９）等を表面層に添加すればよい。

【００１７】上記表面層には、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎのよう
な金属を添加することができる。前記金属を添加した表
面層は、表面に付着した細菌や黴を暗所でも死滅させる
ことができる。

【００１８】上記表面層には、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｉｒ、Ｏｓのような白金族金属を添加することがで
きる。前記金属を添加した表面層は、光触媒の酸化還元
活性を増強でき、脱臭浄化作用等が向上する。また光触
媒以外に固体酸を添加した場合には、白金族金属の添加
により固体酸の酸度が向上するので、親水維持性も向上
し、付着水の水膜化がより促進されると共に、ある程度
長期間光触媒に励起光が照射されない場合の親水維持性
も向上する。上記表面層には、Ｍｏが添加されていても
よい。この場合も光触媒以外に固体酸を添加した場合
に、固体酸の酸度が向上するので、親水維持性も向上
し、付着水の水膜化がより促進されると共に、ある程度
長期間光触媒に励起光が照射されない場合の親水維持性
も向上する。

【００１９】基材がナトリウムのようなアルカリ網目修
飾イオンを含むガラス（ソ−ダライムガラス、並板ガラ
ス等）の場合には、基材と表面層との間にシリカ等の中
間層を形成してもよい。そうすれば、焼成中にアルカリ
網目修飾イオンが基材から表面層へ拡散するのが防止さ
れ、光触媒機能がよりよく発揮される。

【００２０】親水性とは、表面に水を滴下したときにな
じみやすい性質をいい、一般に水濡れ角が９０゜未満の
状態をいう。本発明における高度の親水性とは、表面に
水を滴下したときに非常になじみやすい性質をいい、よ
り具体的には水濡れ角が２０゜以下程度になる状態をい
う。

【００２１】次に、表面層の形成方法について説明す
る。まず表面層が光触媒のみからなる場合の製法につい
て、光触媒がアナタ−ゼ型酸化チタンの場合を例にとり
説明する。この場合の方法は、大別して３つの方法があ
る。１つの方法はゾル塗布焼成法であり、他の方法は有
機チタネ−ト法であり、他の方法は電子ビ−ム蒸着法で
ある。 （１）ゾル塗布焼成法 アナタ−ゼ型酸化チタンゾルを、基材表面に、スプレ−
コ−ティング法、ディップコ−ティング法、フロ−コ−
ティング法、スピンコ−ティング法、ロ−ルコ−ティン
グ法等の方法で塗布し、焼成する。 （２）有機チタネ−ト法 チタンアルコキシド（テトラエトキシチタン、テトラメ
トキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキ
シチタン等）、チタンアセテ−ト、チタンキレ−ト等の
有機チタネ−トに加水分解抑制剤（塩酸、エチルアミン
等）を添加し、アルコ−ル（エタノ−ル、プロパノ−
ル、ブタノ−ル等）などの非水溶媒で希釈した後、部分
的に加水分解を進行させながら又は完全に加水分解を進
行させた後、混合物をスプレ−コ−ティング法、ディッ
プコ−ティング法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−
ティング法、ロ−ルコ−ティング法等の方法で塗布し、
乾燥させる。乾燥により、有機チタネ−トの加水分解が
完遂して水酸化チタンが生成し、水酸化チタンの脱水縮
重合により無定型酸化チタンの層が基材表面に形成され
る。その後、アナタ−ゼの結晶化温度以上の温度で焼成
して、無定型酸化チタンをアナタ−ゼ型酸化チタンに相
転移させる。 （３）電子ビ−ム蒸着法 酸化チタンのタ−ゲットに電子ビ−ムを照射することに
より、基材表面に無定型酸化チタンの層を形成する。そ
の後、アナタ−ゼの結晶化温度以上の温度で焼成して、
無定型酸化チタンをアナタ−ゼ型酸化チタンに相転移さ
せる。

【００２２】次に、表面層が光触媒とシリカからなる場
合について、光触媒がアナタ−ゼ型酸化チタンの場合を
例にとり説明する。この場合の方法は、例えば、以下の
３つの方法がある。１つの方法はゾル塗布焼成法であ
り、他の方法は有機チタネ−ト法であり、他の方法は４
官能性シラン法である。 （１）ゾル塗布焼成法 アナタ−ゼ型酸化チタンゾルとシリカゾルとの混合液
を、基材表面にスプレ−コ−ティング法、ディップコ−
ティング法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティン
グ法、ロ−ルコ−ティング法等の方法で塗布し、焼成す
る。 （２）有機チタネ−ト法 チタンアルコキシド（テトラエトキシチタン、テトラメ
トキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキ
シチタン等）、チタンアセテ−ト、チタンキレ−ト等の
有機チタネ−トに加水分解抑制剤（塩酸、エチルアミン
等）とシリカゾルを添加し、アルコ−ル（エタノ−ル、
プロパノ−ル、ブタノ−ル等）などの非水溶媒で希釈し
た後、部分的に加水分解を進行させながら又は完全に加
水分解を進行させた後、混合物をスプレ−コ−ティング
法、ディップコ−ティング法、フロ−コ−ティング法、
スピンコ−ティング法、ロ−ルコ−ティング法等の方法
で塗布し、乾燥させる。乾燥により、有機チタネ−トの
加水分解が完遂して水酸化チタンが生成し、水酸化チタ
ンの脱水縮重合により無定型酸化チタンの層が基材表面
に形成される。その後、アナタ−ゼの結晶化温度以上の
温度で焼成して、無定型酸化チタンをアナタ−ゼ型酸化
チタンに相転移させる。 （３）前駆体硬化法 テトラアルコキシシラン（テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメ
トキシシラン等）やアルキルシリケ−ト（メチルシリケ
−ト、エチルシリケ−ト等）のシリカの前駆体とアナタ
−ゼ型酸化チタンゾルとの混合物を基材の表面にスプレ
−コ−ティング法、ディップコ−ティング法、フロ−コ
−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ−ルコ−ティ
ング法等の方法で塗布し、必要に応じて加水分解させて
シラノ−ルを形成した後、加熱等の方法でシラノ−ルを
脱水縮重合に付す。

【００２３】次に、表面層が光触媒と固体酸からなる場
合について、光触媒がアナタ−ゼ型酸化チタン、固体酸
がＴｉＯ₂／ＷＯ₃の場合を例にとり説明する。この場合
の１つの方法は、タングステン酸のアンモニア溶解液と
アナタ−ゼ型酸化チタンゾルとを混合し、必要に応じて
希釈液（水、エタノ−ル等）で希釈した混合物を基材の
表面にスプレ−コ−ティング法、ディップコ−ティング
法、フロ−コ−ティング法、スピンコ−ティング法、ロ
−ルコ−ティング法等の方法で塗布し、焼成する。他の
方法は、電子ビ−ム蒸着や、チタンアルコキシド、チタ
ンアセテ−ト、チタンキレ−ト等の有機チタネ−トの加
水分解及び脱水縮重合等の方法により、無定型酸化チタ
ン被膜を形成後、タングステン酸を塗布し、その後、無
定型酸化チタンが結晶化し、かつＴｉＯ₂／ＷＯ₃複合酸
化物が生成する温度で熱処理する。

【００２４】次に、表面層が光触媒とシリコ−ンからな
る場合について、光触媒がアナタ−ゼ型酸化チタンの場
合を例にとり説明する。この場合の方法は、未硬化の若
しくは部分的に硬化したシリコ−ン又はシリコ−ンの前
駆体からなる塗料とアナタ−ゼ型酸化チタンゾルとを混
合し、シリコ−ンの前駆体を必要に応じて加水分解させ
た後、混合物を基材の表面にスプレ−コ−ティング法、
ディップコ−ティング法、フロ−コ−ティング法、スピ
ンコ−ティング法、ロ−ルコ−ティング法等の方法で塗
布し、加熱等の方法でシリコ−ンの前駆体の加水分解物
を脱水縮重合に付して、アナタ−ゼ型酸化チタン粒子と
シリコ−ンからなる表面層を形成する。形成された表面
層は、紫外線を含む光の照射によりアナタ−ゼ型酸化チ
タンが光励起されることにより、シリコ−ン分子中のケ
イ素原子に結合した有機基の少なくとも一部を水酸基に
置換され、さらにその上に物理吸着水層が形成されて、
高度の親水性を呈する。ここでシリコ−ンの前駆体に
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキ
シシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチルトリプ
ロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリエトキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、
フェニルトリプロポキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジブトキシ
シラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエチルジメト
キシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、フェニル
メチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシ
ラン、フェニルメチルジブトキシシラン、フェニルメチ
ルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、及びそれらの加水分解物、それらの混
合物が好適に利用できる。

【００２５】

【実施例】

実施例１． （１）試料の作製 １０ｃｍ角のソ−ダライムガラス板を濃度３．５重量％
のテトラエトキシシラン溶液（希釈剤：エタノ−ル及び
プロパノ−ル、レベリング剤：アセトンアルコ−ル、加
水分解抑制剤：エタノ−ルアミン）に浸漬後引上げて、
溶液をディップコ−ティング法により花瓶に塗布し、乾
燥させた。ここまでの工程により、テトラエトキシシラ
ンは加水分解を受けてまずシラノ−ルになり、続いてシ
ラノ−ルの脱水縮重合により無定型シリカの薄膜がガラ
スの表面に形成された。次に、９８％テトラエトキシシ
ラン溶液３重量部と、石原産業製光触媒コ−ティング液
ＳＴＫ０１（アナタ−ゼ型酸化チタンとアルキルシリケ
−トと水とメタノ−ルとプロパノ−ルからなる組成物）
１重量部を混合し、混合後に１．５時間撹拌してテトラ
エトキシシランを加水分解させた後、エタノ−ルで希釈
して得た溶液に浸漬後引上げて、溶液をディップコ−テ
ィング法により花瓶に塗布し、１５０℃で乾燥させて、
シリカを硬化せしめて、＃１試料を得た。

【００２６】１０ｃｍ角のソ−ダライムガラス板を濃度
３．５重量％のテトラエトキシシラン溶液（希釈剤：エ
タノ−ル、加水分解触媒：塩酸）に浸漬後引上げて、溶
液をディップコ−ティング法により花瓶に塗布し、乾燥
させた。ここまでの工程により、テトラエトキシシラン
は加水分解を受けてまずシラノ−ルになり、続いてシラ
ノ−ルの脱水縮重合により無定型シリカの薄膜がガラス
の表面に形成された。次に、３．５重量％のテトラエト
キシチタン溶液（希釈剤：エタノ−ル、加水分解抑制
剤：塩酸）に浸漬後、引上げて、溶液をディップコ−テ
ィング法により、表面に塗布し、乾燥させた。ここまで
の工程により、テトラエトキシチタンは加水分解を受け
てまず水酸化チタンになり、続いて水酸化チタンの脱水
縮重合により無定型酸化チタンの薄膜が表面に形成され
た。次に、０．２５重量％のタングステン酸溶液（溶
媒：２５％アンモニア水）に浸漬後、引上げて、溶液を
ディップコ−ティング法により、表面に塗布した後、５
００℃で焼成して、＃２試料を得た。焼成により無定型
酸化チタンが結晶化してアナタ−ゼ型酸化チタンが生成
した。同時にＴｉＯ₂／ＷＯ₃からなる固体酸が形成され
ていると考えられる。

【００２７】１０ｃｍ角のソ−ダライムガラス板を濃度
３．５重量％のテトラエトキシシラン溶液（希釈剤：エ
タノ−ル、加水分解触媒：塩酸）に浸漬後引上げて、溶
液をディップコ−ティング法により花瓶に塗布し、乾燥
させた。ここまでの工程により、テトラエトキシシラン
は加水分解を受けてまずシラノ−ルになり、続いてシラ
ノ−ルの脱水縮重合により無定型シリカの薄膜がガラス
の表面に形成された。次に、３．５重量％のテトラエト
キシチタン溶液（希釈剤：エタノ−ル、加水分解抑制
剤：塩酸）に浸漬後、引上げて、溶液をディップコ−テ
ィング法により、表面に塗布し、乾燥させた。ここまで
の工程により、テトラエトキシチタンは加水分解を受け
てまず水酸化チタンになり、続いて水酸化チタンの脱水
縮重合により無定型酸化チタンの薄膜が表面に形成され
た。次に、濃度３．５重量％のテトラエトキシシラン溶
液（希釈剤：エタノ−ル、加水分解触媒：塩酸）に浸漬
後引上げて、溶液をディップコ−ティング法により花瓶
に塗布後、５００℃で焼成して、＃３試料を得た。焼成
により無定型酸化チタンが結晶化してアナタ−ゼ型酸化
チタンが生成した。同時に最表層にはシリカからなる親
水性の保護層が形成された。

【００２８】１０ｃｍ角のソ−ダライムガラス板をシリ
コ−ン前駆体からなる塗料（日本合成ゴム製、グラスカ
Ａ液（シリカゾル）とグラスカＢ液（トリメトキシメチ
ルシラン）の混合液）に浸漬後引上げて、溶液をディッ
プコ−ティング法により花瓶に塗布し、乾燥させた。こ
こまでの工程により、トリメトキシメチルシランは加水
分解及び脱水縮重合されて、シリコ−ンの薄膜がガラス
の表面に形成された。次に、光触媒コ−ティング液（ア
ナタ−ゼ型酸化チタンゾル（日産化学、ＴＡ−１５）５
６重量部とグラスカＡ液３３重量部とグラスカＢ液１１
重量部の混合液（希釈剤：エタノ−ル及びプロパノ−
ル））に浸漬後、引上げて、溶液をディップコ−ティン
グ法により、表面に塗布し、乾燥させた。ここまでの工
程により、トリメトキシメチルシランが加水分解及び脱
水縮重合されることにより、光触媒コ−ティングは硬化
して、アナタ−ゼ型酸化チタン粒子がシリコ−ン中に分
散されたトップコ−ト層が形成された。次いで、上記ト
ップコ−ト層の表面に、ＢＬＢ蛍光灯を用いて０．５ｍ
Ｗ／ｃｍ²の照度で２日間紫外線を照射し、＃４試料を
得た。紫外線照射によりシリコ−ン分子中のシリコン原
子に結合するメチル基の少なくとも一部が水酸基に置換
された。

【００２９】（２）光励起による親水化 ＃１〜＃４試料表面にオレイン酸を塗布し、中性洗剤
（ママレモン）でこすり、水道水及び蒸留水で濯いだ
後、乾燥器により５０℃で３０分乾燥させることによ
り、表面を故意に汚染させた。その結果、水との接触角
は３０〜４０゜になった。ここで水との接触角は接触角
測定器（協和界面科学製、ＣＡ−Ｘ１５０）を用い、マ
イクロシリンジから試料表面に水滴を滴下後１５秒の値
で評価した。次に、ＢＬＢ蛍光灯を用いて０．５ｍＷ／
ｃｍ²の照度で４時間紫外線を照射し＃５〜＃８試料を
得た。＃５〜＃８試料について試料表面の水との接触角
を測定した。その結果、＃５〜＃８試料のいずれの試料
も０゜まで超親水化された。

【００３０】（３）気泡付着性 ＃５〜＃８試料及び１０ｃｍ角のソ−ダライムガラス板
をビ−カ−に満した水に垂直に浸漬させ、ガラス板への
気泡の付着性を観察した。その結果、１０ｃｍ角のソ−
ダライムガラスでは表面に細かい気泡が観察されたのに
対し、＃５〜＃８試料では、気泡は観察されなかった。

【００３１】（４）水洗浄性 ＃５〜＃８試料表面にオレイン酸を塗布した後、水を満
した透明なパッドに＃５〜＃８試料を水平に浸漬させ
た。その結果、試料表面に付着したオレイン酸は表面か
ら釈放されて浮遊した。

【００３２】実施例２． （１）試料の作製 ガラス製の花瓶を濃度３．５重量％のテトラエトキシシ
ラン溶液（希釈剤：エタノ−ル及びプロパノ−ル、レベ
リング剤：アセトンアルコ−ル、加水分解抑制剤：エタ
ノ−ルアミン）に浸漬後引上げて、溶液をディップコ−
ティング法により花瓶に塗布し、乾燥させた。ここまで
の工程により、テトラエトキシシランは加水分解を受け
てまずシラノ−ルになり、続いてシラノ−ルの脱水縮重
合により無定型シリカの薄膜がガラスの表面に形成され
た。次に、９８％テトラエトキシシラン溶液３重量部
と、石原産業製光触媒コ−ティング液ＳＴＫ０１（アナ
タ−ゼ型酸化チタンとアルキルシリケ−トと水とメタノ
−ルとプロパノ−ルからなる組成物）１重量部を混合
し、混合後に１．５時間撹拌してテトラエトキシシラン
を加水分解させた後、エタノ−ルで希釈して得た溶液に
浸漬後引上げて、溶液をディップコ−ティング法により
花瓶に塗布し、１５０℃で乾燥させて、シリカを硬化せ
しめて、＃９試料を得た。

【００３３】ガラス製の花瓶を濃度３．５重量％のテト
ラエトキシシラン溶液（希釈剤：エタノ−ル、加水分解
触媒：塩酸）に浸漬後引上げて、溶液をディップコ−テ
ィング法により花瓶に塗布し、乾燥させた。ここまでの
工程により、テトラエトキシシランは加水分解を受けて
まずシラノ−ルになり、続いてシラノ−ルの脱水縮重合
により無定型シリカの薄膜がガラスの表面に形成され
た。次に、３．５重量％のテトラエトキシチタン溶液
（希釈剤：エタノ−ル、加水分解抑制剤：塩酸）に浸漬
後、引上げて、溶液をディップコ−ティング法により、
表面に塗布し、乾燥させた。ここまでの工程により、テ
トラエトキシチタンは加水分解を受けてまず水酸化チタ
ンになり、続いて水酸化チタンの脱水縮重合により無定
型酸化チタンの薄膜が表面に形成された。次に、０．２
５重量％のタングステン酸溶液（溶媒：２５％アンモニ
ア水）に浸漬後、引上げて、溶液をディップコ−ティン
グ法により、表面に塗布した後、５００℃で焼成して、
＃１０試料を得た。焼成により無定型酸化チタンが結晶
化してアナタ−ゼ型酸化チタンが生成した。同時にＴｉ
Ｏ₂／ＷＯ₃からなる固体酸が形成されていると考えられ
る。

【００３４】ガラス製の花瓶を濃度３．５重量％のテト
ラエトキシシラン溶液（希釈剤：エタノ−ル、加水分解
触媒：塩酸）に浸漬後引上げて、溶液をディップコ−テ
ィング法により花瓶に塗布し、乾燥させた。ここまでの
工程により、テトラエトキシシランは加水分解を受けて
まずシラノ−ルになり、続いてシラノ−ルの脱水縮重合
により無定型シリカの薄膜がガラスの表面に形成され
た。次に、３．５重量％のテトラエトキシチタン溶液
（希釈剤：エタノ−ル、加水分解抑制剤：塩酸）に浸漬
後、引上げて、溶液をディップコ−ティング法により、
表面に塗布し、乾燥させた。ここまでの工程により、テ
トラエトキシチタンは加水分解を受けてまず水酸化チタ
ンになり、続いて水酸化チタンの脱水縮重合により無定
型酸化チタンの薄膜が表面に形成された。次に、濃度
３．５重量％のテトラエトキシシラン溶液（希釈剤：エ
タノ−ル、加水分解触媒：塩酸）に浸漬後引上げて、溶
液をディップコ−ティング法により花瓶に塗布後、５０
０℃で焼成して、＃１１試料を得た。焼成により無定型
酸化チタンが結晶化してアナタ−ゼ型酸化チタンが生成
した。同時に最表層にはシリカからなる親水性の保護層
が形成された。

【００３５】ガラス製の花瓶をシリコ−ン前駆体からな
る塗料（日本合成ゴム製、グラスカＡ液（シリカゾル）
とグラスカＢ液（トリメトキシメチルシラン）の混合
液）に浸漬後引上げて、溶液をディップコ−ティング法
により花瓶に塗布し、乾燥させた。ここまでの工程によ
り、トリメトキシメチルシランは加水分解及び脱水縮重
合されて、シリコ−ンの薄膜がガラスの表面に形成され
た。次に、光触媒コ−ティング液（アナタ−ゼ型酸化チ
タンゾル（日産化学、ＴＡ−１５）５６重量部とグラス
カＡ液３３重量部とグラスカＢ液１１重量部の混合液
（希釈剤：エタノ−ル及びプロパノ−ル））に浸漬後、
引上げて、溶液をディップコ−ティング法により、表面
に塗布し、乾燥させた。ここまでの工程により、トリメ
トキシメチルシランが加水分解及び脱水縮重合されるこ
とにより、光触媒コ−ティングは硬化して、アナタ−ゼ
型酸化チタン粒子がシリコ−ン中に分散されたトップコ
−ト層が形成された。次いで、上記トップコ−ト層の表
面に、ＢＬＢ蛍光灯を用いて０．５ｍＷ／ｃｍ²の照度
で２日間紫外線を照射し、＃１２試料を得た。紫外線照
射によりシリコ−ン分子中のシリコン原子に結合するメ
チル基の少なくとも一部が水酸基に置換された。

【００３６】（５）花の延命効果 ＃９〜＃１２試料に、ＢＬＢ蛍光灯を用いて０．５ｍＷ
／ｃｍ²の照度で４時間紫外線を照射して得た＃１３〜
＃１６試料及びガラス製の花瓶を、部屋の南側に立て
て、そこに切り花を差し、１週間放置した。その結果、
ガラス製の花瓶では切り花は枯れてしまったが、＃１３
〜＃１６試料では切り花は枯れていなかった。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、切り花、活け花の延命
効果を恒久的に付与可能な花瓶を提供することが可能と
なる。

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明な花瓶容器の内表面に、光触媒粒子
   を含有する実質的に透明な層を備え、前記層表面は前記
   光触媒の光励起に応じて親水性を呈する面からなること
   を特徴とする花瓶。
2. 【請求項２】 前記層には、さらにシリカが含有されて
   いることを特徴とする請求項１に記載の花瓶。
3. 【請求項３】 前記層には、さらに固体酸が含有されて
   いることを特徴とする請求項１に記載の花瓶。
4. 【請求項４】 前記層には、さらにシリコ−ンが含有さ
   れていることを特徴とする請求項１に花瓶。
5. 【請求項５】 前記層の表面は、前記光触媒の光励起に
   応じて、水との接触角に換算して２０゜以下の親水性を
   呈することを特徴とする請求項１〜４に記載の花瓶。
6. 【請求項６】 前記層の表面は、前記光触媒の光励起に
   応じて、水との接触角に換算して１０゜以下の親水性を
   呈することを特徴とする請求項１〜４に記載の花瓶。
7. 【請求項７】 前記層には、さらにＡｇ、Ｃｕ、Ｚｎの
   うちの少なくとも１種が含有されていることを特徴とす
   る請求項１〜６に記載の花瓶。
8. 【請求項８】 前記層の表面に、さらに親水化可能な保
   護層が設けられていることを特徴とする請求項１〜７に
   記載の花瓶。
9. 【請求項９】 前記保護層には、シリカが含有されてい
   ることを特徴とする請求項８に記載の花瓶。
10. 【請求項１０】 前記保護層には、固体酸が含有されて
    いることを特徴とする請求項８に記載の花瓶。
11. 【請求項１１】 前記保護層には、シリコ−ンが含有さ
    れていることを特徴とする請求項８に花瓶。
12. 【請求項１２】 前記保護層の表面は、前記光触媒の光
    励起に応じて、水との接触角に換算して２０゜以下の親
    水性を呈することを特徴とする請求項８〜１１に記載の
    花瓶。
13. 【請求項１３】 前記保護層の表面は、前記光触媒の光
    励起に応じて、水との接触角に換算して１０゜以下の親
    水性を呈することを特徴とする請求項８〜１１に記載の
    花瓶。
14. 【請求項１４】 前記保護層には、さらにＡｇ、Ｃｕ、
    Ｚｎのうちの少なくとも１種が含有されていることを特
    徴とする請求項８〜１３に記載の花瓶。