JPH10222884A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体の製造方法Info
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- JPH10222884A JPH10222884A JP9024971A JP2497197A JPH10222884A JP H10222884 A JPH10222884 A JP H10222884A JP 9024971 A JP9024971 A JP 9024971A JP 2497197 A JP2497197 A JP 2497197A JP H10222884 A JPH10222884 A JP H10222884A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高感度かつ高反射率の光情報記録媒体を製造
する。 【解決手段】 透明基板上に、少なくとも有機色素より
なる光吸収層、光反射層及び保護層をこの順で積層して
なる光情報記録媒体の製造方法において、下記一般式
［Ｉ］で示されるフタロシアニン色素を、下記一般式
［II］で示されるヒドロキシカルボン酸エステル溶媒に
溶解した有機色素溶液を透明基板上にスピンコートする
ことにより光吸収層を形成する光情報記録媒体の製造方
法。 【化１】 （式中、置換基Ｘはアルキル基、アルコキシ基等を表
す。中心金属ＭはＳｉまたはＡｌを表す。置換基Ｚは−
ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ1Ｒ2を表す。Ｒ1、Ｒ2は置換基を有して
いてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキ
シ基、アリール基もしくはアリールオキシ基を表す。ｍ
は１または２の整数を表す。） 【化２】 ＣnＨ2n（ＯＨ）ＣＯＯＣmＨ2m+1 ───［ＩＩ］ （式中、ｎ及びｍはそれぞれ独立に１〜５の整数を表
す。）
する。 【解決手段】 透明基板上に、少なくとも有機色素より
なる光吸収層、光反射層及び保護層をこの順で積層して
なる光情報記録媒体の製造方法において、下記一般式
［Ｉ］で示されるフタロシアニン色素を、下記一般式
［II］で示されるヒドロキシカルボン酸エステル溶媒に
溶解した有機色素溶液を透明基板上にスピンコートする
ことにより光吸収層を形成する光情報記録媒体の製造方
法。 【化１】 （式中、置換基Ｘはアルキル基、アルコキシ基等を表
す。中心金属ＭはＳｉまたはＡｌを表す。置換基Ｚは−
ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ1Ｒ2を表す。Ｒ1、Ｒ2は置換基を有して
いてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキ
シ基、アリール基もしくはアリールオキシ基を表す。ｍ
は１または２の整数を表す。） 【化２】 ＣnＨ2n（ＯＨ）ＣＯＯＣmＨ2m+1 ───［ＩＩ］ （式中、ｎ及びｍはそれぞれ独立に１〜５の整数を表
す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は有機色素を用いた光
情報記録媒体の製造方法に関する。より詳しくは、フタ
ロシアニン色素を用いた追記型光情報記録媒体の製造方
法に関する。
情報記録媒体の製造方法に関する。より詳しくは、フタ
ロシアニン色素を用いた追記型光情報記録媒体の製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光ディスクは従来の記録媒体と比
べて記録容量が大きく、ランダムアクセスも可能なこと
から、オーディオソフト、コンピューターソフト、ゲー
ムソフト、電子出版等の再生専用の媒体として広く用い
られている。また、様々な記録原理に基づいた有機記録
層や無機記録層を備えた追記型や書換型の記録可能光デ
ィスクが開発され一部は実用化に至っている。
べて記録容量が大きく、ランダムアクセスも可能なこと
から、オーディオソフト、コンピューターソフト、ゲー
ムソフト、電子出版等の再生専用の媒体として広く用い
られている。また、様々な記録原理に基づいた有機記録
層や無機記録層を備えた追記型や書換型の記録可能光デ
ィスクが開発され一部は実用化に至っている。
【０００３】その中のひとつに記録可能コンパクトディ
スク（ＣＤ−Ｒ）がある。ＣＤ−Ｒは、追記記録が可能
であると共に、再生専用コンパクトディスクと同等の反
射率を示すため、記録後に再生専用コンパクトディスク
プレイヤー、ドライブで再生可能であるという特徴を持
つ。通常、ＣＤ−Ｒは案内溝を有する透明基板上に光吸
収層、金属からなる光反射層、及び紫外線硬化樹脂から
なる保護層等を順次設けることにより作成される。既に
実用化・市販されているＣＤ−Ｒの多くは、光吸収層に
有機色素を用いており、シアニン系色素、フタロシアニ
ン系色素、含金属アゾ系色素が主に用いられている。ま
た、光吸収層の成膜は、通常、有機色素を適当な溶媒に
溶解した後にスピンコートすることによって行われてい
る。
スク（ＣＤ−Ｒ）がある。ＣＤ−Ｒは、追記記録が可能
であると共に、再生専用コンパクトディスクと同等の反
射率を示すため、記録後に再生専用コンパクトディスク
プレイヤー、ドライブで再生可能であるという特徴を持
つ。通常、ＣＤ−Ｒは案内溝を有する透明基板上に光吸
収層、金属からなる光反射層、及び紫外線硬化樹脂から
なる保護層等を順次設けることにより作成される。既に
実用化・市販されているＣＤ−Ｒの多くは、光吸収層に
有機色素を用いており、シアニン系色素、フタロシアニ
ン系色素、含金属アゾ系色素が主に用いられている。ま
た、光吸収層の成膜は、通常、有機色素を適当な溶媒に
溶解した後にスピンコートすることによって行われてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】こうした光情報記録媒
体においては、光吸収層が微細な案内溝を有する基板上
に形成されており、光吸収層による案内溝の埋まり方や
膜厚、有機色素の凝集状態によって、入射したレーザー
光の回折・干渉状態が敏感に変化し、ディスク特性に大
きな影響を与えてしまう。
体においては、光吸収層が微細な案内溝を有する基板上
に形成されており、光吸収層による案内溝の埋まり方や
膜厚、有機色素の凝集状態によって、入射したレーザー
光の回折・干渉状態が敏感に変化し、ディスク特性に大
きな影響を与えてしまう。
【０００５】これに対して、光吸収層の膜厚は、スピン
コート時の回転数制御等で容易に制御できるのに対し
て、案内溝の埋まり方や有機色素の凝集状態は、有機色
素と塗布溶媒の組み合わせで決まる部分が大きく制御は
容易ではなかった。このため、光吸収層の材料として有
望と思われる材料であっても、良好な光情報記録媒体が
得られないことがあった。
コート時の回転数制御等で容易に制御できるのに対し
て、案内溝の埋まり方や有機色素の凝集状態は、有機色
素と塗布溶媒の組み合わせで決まる部分が大きく制御は
容易ではなかった。このため、光吸収層の材料として有
望と思われる材料であっても、良好な光情報記録媒体が
得られないことがあった。
【０００６】特に下記一般式［Ｉ］で示されるようなフ
タロシアニン色素でもこの傾向が顕著であり、従来、ア
ルコール系溶媒、ケトン系溶媒、セロソルブ系溶媒、炭
化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、フロン系溶
媒等が用いられていたが、いずれも良好な溶媒とは言え
ず、有機色素の特性を最大に高め得る塗布溶媒の使用が
望まれていた。
タロシアニン色素でもこの傾向が顕著であり、従来、ア
ルコール系溶媒、ケトン系溶媒、セロソルブ系溶媒、炭
化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、フロン系溶
媒等が用いられていたが、いずれも良好な溶媒とは言え
ず、有機色素の特性を最大に高め得る塗布溶媒の使用が
望まれていた。
【０００７】
【化３】
【０００８】（式中、置換基Ｘは、置換基を有していて
もよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基もし
くはアリールチオ基、または、シアノ基、スルホン酸
基、スルホン酸アミド基、スルホン酸エステル基または
フタルイミドメチル基を表す。中心金属ＭはＳｉまたは
Ａｌを表す。置換基Ｚは−ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ1Ｒ2を表す。
ただし、Ｒ1、Ｒ2は置換基を有していてもよい、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基も
しくはアリールオキシ基を表す。ｍは１または２の整数
を表す。）
もよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基もし
くはアリールチオ基、または、シアノ基、スルホン酸
基、スルホン酸アミド基、スルホン酸エステル基または
フタルイミドメチル基を表す。中心金属ＭはＳｉまたは
Ａｌを表す。置換基Ｚは−ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ1Ｒ2を表す。
ただし、Ｒ1、Ｒ2は置換基を有していてもよい、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基も
しくはアリールオキシ基を表す。ｍは１または２の整数
を表す。）
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を克服するため
に、上記一般式［Ｉ］で示されるフタロシアニン色素の
特性を最大限に引き出しうる塗布溶剤を鋭意検討した結
果、下記一般式［II］で示されるヒドロキシカルボン酸
エステルを塗布溶媒に用いることによって反射率が大幅
に向上されることを見いだし本発明に至った。
に、上記一般式［Ｉ］で示されるフタロシアニン色素の
特性を最大限に引き出しうる塗布溶剤を鋭意検討した結
果、下記一般式［II］で示されるヒドロキシカルボン酸
エステルを塗布溶媒に用いることによって反射率が大幅
に向上されることを見いだし本発明に至った。
【００１０】
【化４】 ＣnＨ2n（ＯＨ）ＣＯＯＣmＨ2m+1 ───［II］
【００１１】（式中、ｎ及びｍは１から５までの整数を
表す。） すなわち、本発明の要旨は、透明基板上に、少なくとも
有機色素よりなる光吸収層、光反射層及び保護層をこの
順で積層してなる光情報記録媒体の製造方法において、
上記一般式［Ｉ］で示されるフタロシアニン色素を、上
記一般式［II］で示されるヒドロキシカルボン酸エステ
ル溶媒に溶解した有機色素溶液を透明基板上にスピンコ
ートすることにより光吸収層を形成することを特徴とす
る光情報記録媒体の製造方法、に存する。
表す。） すなわち、本発明の要旨は、透明基板上に、少なくとも
有機色素よりなる光吸収層、光反射層及び保護層をこの
順で積層してなる光情報記録媒体の製造方法において、
上記一般式［Ｉ］で示されるフタロシアニン色素を、上
記一般式［II］で示されるヒドロキシカルボン酸エステ
ル溶媒に溶解した有機色素溶液を透明基板上にスピンコ
ートすることにより光吸収層を形成することを特徴とす
る光情報記録媒体の製造方法、に存する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の光情報記録媒体
の製造方法を詳細に説明する。本発明に用いられる透明
基板の材質としては、ポリカーボネート、ポリメタクリ
ル酸メチル、ポリオレフィンなどのプラスチック、ある
いはガラス等が挙げられ、特にポリカーボネートが好ま
しく挙げられる。これらの透明基板は、通常、厚み０．
６〜２ｍｍ程度で、スパイラル状に案内溝を形成したも
のが用いられ、案内溝としては溝深さ５０〜３００ｎ
ｍ、溝幅３５０〜６００ｎｍのものが好適である。
の製造方法を詳細に説明する。本発明に用いられる透明
基板の材質としては、ポリカーボネート、ポリメタクリ
ル酸メチル、ポリオレフィンなどのプラスチック、ある
いはガラス等が挙げられ、特にポリカーボネートが好ま
しく挙げられる。これらの透明基板は、通常、厚み０．
６〜２ｍｍ程度で、スパイラル状に案内溝を形成したも
のが用いられ、案内溝としては溝深さ５０〜３００ｎ
ｍ、溝幅３５０〜６００ｎｍのものが好適である。
【００１３】光吸収層には記録レーザー光を吸収して熱
に変換するものを使用し、上記一般式［Ｉ］で示される
フタロシアニン色素が用いられるが、他の色素と混合し
て用いてもよい。他の色素としては、上記一般式［Ｉ］
以外のフタロシアニン系色素、含金属アゾ素、アゾ色
素、シアニン色素、スクアリリウム系色素、クロコニウ
ム色素、アズレニウム色素、トリアリールアミン色素、
アントラキノン色素、ジチオール金属錯体色素、インド
アニリン金属錯体色素、ナフタロシアニン色素、分子間
型ＣＴ色素などが例示でき、好ましくは含金属アゾ色
素、シアニン色素が挙げられる。また目的に応じて劣化
防止剤等の添加剤やバインダーを加えてもよい。
に変換するものを使用し、上記一般式［Ｉ］で示される
フタロシアニン色素が用いられるが、他の色素と混合し
て用いてもよい。他の色素としては、上記一般式［Ｉ］
以外のフタロシアニン系色素、含金属アゾ素、アゾ色
素、シアニン色素、スクアリリウム系色素、クロコニウ
ム色素、アズレニウム色素、トリアリールアミン色素、
アントラキノン色素、ジチオール金属錯体色素、インド
アニリン金属錯体色素、ナフタロシアニン色素、分子間
型ＣＴ色素などが例示でき、好ましくは含金属アゾ色
素、シアニン色素が挙げられる。また目的に応じて劣化
防止剤等の添加剤やバインダーを加えてもよい。
【００１４】上記一般式［Ｉ］中のＸ又はＲ1、Ｒ2のう
ち、置換基を有していてもよいアルキル基の具体例とし
ては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｎ−ヘキシル基などの炭素数１〜６の直鎖アルキ
ル基；ｉ−プロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル
基などの炭素数３〜６の分岐アルキル基；クロロメチル
基、ブロモメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロ
メチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、パーフ
ルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、３，３−ジ
フルオロプロピル基、２，３−ジフルオロプロピル基、
１，１−（トリフルオロメチル）エチル基、ｔｅｒｔ−
パ−フルオロブチル基などの炭素数１〜６のハロゲン化
アルキル基；シアノメチル基、シアノエチル基などの炭
素数２〜７のシアノ化アルキル基；ヒドロキシメチル
基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシブチル基などの炭
素数１〜６のヒドロキシアルキル基；メトキシメチル
基、エトキシエチル基、エトキシメチル基などの炭素数
２〜１２のアルコキシアルキル基、等が例示できる。
ち、置換基を有していてもよいアルキル基の具体例とし
ては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｎ−ヘキシル基などの炭素数１〜６の直鎖アルキ
ル基；ｉ−プロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル
基などの炭素数３〜６の分岐アルキル基；クロロメチル
基、ブロモメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロ
メチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、パーフ
ルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、３，３−ジ
フルオロプロピル基、２，３−ジフルオロプロピル基、
１，１−（トリフルオロメチル）エチル基、ｔｅｒｔ−
パ−フルオロブチル基などの炭素数１〜６のハロゲン化
アルキル基；シアノメチル基、シアノエチル基などの炭
素数２〜７のシアノ化アルキル基；ヒドロキシメチル
基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシブチル基などの炭
素数１〜６のヒドロキシアルキル基；メトキシメチル
基、エトキシエチル基、エトキシメチル基などの炭素数
２〜１２のアルコキシアルキル基、等が例示できる。
【００１５】置換基を有していてもよいシクロアルキル
基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロヘキシル基などの炭素数３〜６のシクロアル
キル基；４−メチルシクロヘキシル基などの合計炭素数
が４〜１０のアルキル基置換シクロアルキル基；等が例
示できる。置換基を有していてもよいアリール基の具体
例としては、フェニル基；ｏ−メチルフェニル基、ｐ−
メチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基などのアルキ
ル化フェニル基；ｏ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオ
ロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェ
ニル基などのハロゲン化フェニル基；ｐ−ニトロフェニ
ル基などのニトロ化フェニル基；１−ナフチル基、２−
ナフチル基などのナフチル基；等が例示できる。
基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロヘキシル基などの炭素数３〜６のシクロアル
キル基；４−メチルシクロヘキシル基などの合計炭素数
が４〜１０のアルキル基置換シクロアルキル基；等が例
示できる。置換基を有していてもよいアリール基の具体
例としては、フェニル基；ｏ−メチルフェニル基、ｐ−
メチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基などのアルキ
ル化フェニル基；ｏ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオ
ロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェ
ニル基などのハロゲン化フェニル基；ｐ−ニトロフェニ
ル基などのニトロ化フェニル基；１−ナフチル基、２−
ナフチル基などのナフチル基；等が例示できる。
【００１６】置換基を有していてもよいアルコキシ基の
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、１−プロポ
キシ基、２−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec-ブト
キシ基、tert−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基など
の炭素数１〜６のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、
メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエ
トキシ基などの炭素数２〜１２のアルコキシアルコキシ
基；メトキシメトキシメトキシ基、エトキシエトキシエ
トキシ基などの炭素数３〜１８のアルコキシアルコキシ
アルコキシ基；フルオロメトキシ基、２，２，２−トリ
フルオロエトキシ基、２，２，３，３，３−ペンタフル
オロプロポキシ基、２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロポキシ基、１、１−ジ（トリフルオロメチル）エトキ
シ基などの炭素数１〜６のハロゲン化アルコキシ基；等
が例示できる。
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、１−プロポ
キシ基、２−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec-ブト
キシ基、tert−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基など
の炭素数１〜６のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、
メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエ
トキシ基などの炭素数２〜１２のアルコキシアルコキシ
基；メトキシメトキシメトキシ基、エトキシエトキシエ
トキシ基などの炭素数３〜１８のアルコキシアルコキシ
アルコキシ基；フルオロメトキシ基、２，２，２−トリ
フルオロエトキシ基、２，２，３，３，３−ペンタフル
オロプロポキシ基、２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロポキシ基、１、１−ジ（トリフルオロメチル）エトキ
シ基などの炭素数１〜６のハロゲン化アルコキシ基；等
が例示できる。
【００１７】置換基を有していてもよいアリールオキシ
基の具体例としては、フェノキシ基；ｐ−メチルフェノ
キシ基、ｏ−メチルフェノキシ基、ｐ−エチルフェノキ
シ基などのアルキルフェノキシ基；ｐ−フルオロフェノ
キシ基、ペンタフルオロフェノキシ基などのハロゲン化
フェノキシ基；ｐ−フェニルフェノキシ基、ｏ−フェニ
ルフェノキシ基などのフェニルフェノキシ基；等が例示
できる。
基の具体例としては、フェノキシ基；ｐ−メチルフェノ
キシ基、ｏ−メチルフェノキシ基、ｐ−エチルフェノキ
シ基などのアルキルフェノキシ基；ｐ−フルオロフェノ
キシ基、ペンタフルオロフェノキシ基などのハロゲン化
フェノキシ基；ｐ−フェニルフェノキシ基、ｏ−フェニ
ルフェノキシ基などのフェニルフェノキシ基；等が例示
できる。
【００１８】置換基を有していてもよいアルキルチオ基
の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−
ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基などの炭素数１〜６
のアルキルチオ基；クロロメチルチオ基などのハロゲン
化アルキルチオ基；メトキシメチルチオ基、エトキシエ
チルチオ基などのアルコキシアルキルチオ基；メチルチ
オメチルチオ基などのアルキルチオアルキルチオ基；等
が例示できる。
の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−
ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基などの炭素数１〜６
のアルキルチオ基；クロロメチルチオ基などのハロゲン
化アルキルチオ基；メトキシメチルチオ基、エトキシエ
チルチオ基などのアルコキシアルキルチオ基；メチルチ
オメチルチオ基などのアルキルチオアルキルチオ基；等
が例示できる。
【００１９】置換基を有していてもよいアリールチオ基
の具体例としては、フェニルチオ基；ｐ−ニトロフェニ
ルチオ基などのニトロフェニルチオ基；ｐ−メチルフェ
ニルチオ基、ｏ−メチルフェニルチオ基などのアルキル
フェニルチオ基；等が例示できる。
の具体例としては、フェニルチオ基；ｐ−ニトロフェニ
ルチオ基などのニトロフェニルチオ基；ｐ−メチルフェ
ニルチオ基、ｏ−メチルフェニルチオ基などのアルキル
フェニルチオ基；等が例示できる。
【００２０】光吸収層の形成法としては、有機色素を溶
媒に溶解して前記透明基板上にスピンコートする方法が
とられるが、溶媒として上記一般式［II］で示されるヒ
ドロキシカルボン酸エステルを用いることが本発明の特
徴である。具体的には、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸
プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒ
ドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオ
ン酸プロピル、２−ヒドロキシ酪酸メチル、２−ヒドロ
キシ酪酸エチル、２−ヒドロキシ酪酸プロピル、３−ホ
ドロキシ酪酸メチル、３−ヒドロキシ酪酸エチル、３−
ヒドロキシ酪酸プロピル、４−ヒドロキシ酪酸メチル、
４−ヒドロキシ酪酸エチル、４−ヒドロキシ酪酸プロピ
ル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイ
ソ酪酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸プロピル、３−
ヒドロキシイソ酪酸メチル、３−ヒドロキシイソ酪酸エ
チル、３−ヒドロキシイソ酪酸プロピル、２−ヒドロキ
シ吉草酸メチル、２−ヒドロキシ吉草酸エチル、２−ヒ
ドロキシ吉草酸プロピル等が、好ましくは、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、２−ヒドロキシ酪酸メチル、２−ヒド
ロキシ酪酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２
−ヒドロキシイソ酪酸エチル等が挙げられる。
媒に溶解して前記透明基板上にスピンコートする方法が
とられるが、溶媒として上記一般式［II］で示されるヒ
ドロキシカルボン酸エステルを用いることが本発明の特
徴である。具体的には、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸
プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒ
ドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオ
ン酸プロピル、２−ヒドロキシ酪酸メチル、２−ヒドロ
キシ酪酸エチル、２−ヒドロキシ酪酸プロピル、３−ホ
ドロキシ酪酸メチル、３−ヒドロキシ酪酸エチル、３−
ヒドロキシ酪酸プロピル、４−ヒドロキシ酪酸メチル、
４−ヒドロキシ酪酸エチル、４−ヒドロキシ酪酸プロピ
ル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイ
ソ酪酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸プロピル、３−
ヒドロキシイソ酪酸メチル、３−ヒドロキシイソ酪酸エ
チル、３−ヒドロキシイソ酪酸プロピル、２−ヒドロキ
シ吉草酸メチル、２−ヒドロキシ吉草酸エチル、２−ヒ
ドロキシ吉草酸プロピル等が、好ましくは、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、２−ヒドロキシ酪酸メチル、２−ヒド
ロキシ酪酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２
−ヒドロキシイソ酪酸エチル等が挙げられる。
【００２１】光反射層としては、読み出しレーザー光の
波長に対して高反射率となるものであれば特に限定され
ないが、好適には金、銀、銅、ガリウム、アルミニウ
ム、パラジウム、ロジウム等の金属またはこれらの二成
分以上の合金が用いられる。光反射層は、通常、スパッ
タリング法、真空蒸着法により形成され、５０〜２００
ｎｍの膜厚とするのが好適である。
波長に対して高反射率となるものであれば特に限定され
ないが、好適には金、銀、銅、ガリウム、アルミニウ
ム、パラジウム、ロジウム等の金属またはこれらの二成
分以上の合金が用いられる。光反射層は、通常、スパッ
タリング法、真空蒸着法により形成され、５０〜２００
ｎｍの膜厚とするのが好適である。
【００２２】保護層としては、通常、紫外線硬化樹脂
が、特にアクリル系の紫外線硬化樹脂を用いるのが好適
あり、これらの保護層は、通常、スピンコート法により
厚み２〜２０μｍで塗布した後、紫外線照射等により硬
化させて形成される。また、必要に応じて保護層上に、
レーベル印刷層、第二保護層やインク受理層等を設けて
もよい。
が、特にアクリル系の紫外線硬化樹脂を用いるのが好適
あり、これらの保護層は、通常、スピンコート法により
厚み２〜２０μｍで塗布した後、紫外線照射等により硬
化させて形成される。また、必要に応じて保護層上に、
レーベル印刷層、第二保護層やインク受理層等を設けて
もよい。
【００２３】
【実施例】以下に実施例および比較例を挙げて本発明を
より具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に周期
的に蛇行したトラッキング溝（溝深さ：１７０ｎｍ、溝
幅：０．４５μｍ）を設けた直径１２０ｍｍ、厚さ１．
２ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。
より具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に周期
的に蛇行したトラッキング溝（溝深さ：１７０ｎｍ、溝
幅：０．４５μｍ）を設けた直径１２０ｍｍ、厚さ１．
２ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。
【００２４】光吸収層には、下記構造式で示されるフ
タロシアニン色素を２．２重量％（対溶媒重量）で２−
ヒドロキシイソ酪酸エチルに溶解して、濾過した後、前
記基板上にスピンコート法により成膜した。色素層塗布
は、塗布膜の可視光吸収スペクトルで最大吸収波長（７
４０ｎｍ）における吸光度が０．５４となるように、回
転数を調整して塗布を行った。色素塗布の後、色素層中
の溶媒を完全に蒸発させるために８０℃のオーブン中で
２０分間乾燥を行った。
タロシアニン色素を２．２重量％（対溶媒重量）で２−
ヒドロキシイソ酪酸エチルに溶解して、濾過した後、前
記基板上にスピンコート法により成膜した。色素層塗布
は、塗布膜の可視光吸収スペクトルで最大吸収波長（７
４０ｎｍ）における吸光度が０．５４となるように、回
転数を調整して塗布を行った。色素塗布の後、色素層中
の溶媒を完全に蒸発させるために８０℃のオーブン中で
２０分間乾燥を行った。
【００２５】
【化５】
【００２６】次いで、光吸収層の上に光反射層として、
厚さ１００ｎｍの金を、アルゴンガス中でのＤＣマグネ
トロンスパッタ法により形成した。更に、紫外線硬化剤
ＳＤ−３１８（大日本インキ化学社製）を４μｍの厚み
にスピンコートし、紫外線照射装置で紫外線を照射して
硬化させて、保護層を形成した。得られた記録可能コン
パクトディスクについて、ＤＤＵ−１０００（パルステ
ック社製）を用いて最適記録パワー（Ｐｏ）でＥＦＭ信
号の記録を行い、市販のＣＤプレイヤーで再生し、反射
率を測定した。結果を表−１に示す。
厚さ１００ｎｍの金を、アルゴンガス中でのＤＣマグネ
トロンスパッタ法により形成した。更に、紫外線硬化剤
ＳＤ−３１８（大日本インキ化学社製）を４μｍの厚み
にスピンコートし、紫外線照射装置で紫外線を照射して
硬化させて、保護層を形成した。得られた記録可能コン
パクトディスクについて、ＤＤＵ−１０００（パルステ
ック社製）を用いて最適記録パワー（Ｐｏ）でＥＦＭ信
号の記録を行い、市販のＣＤプレイヤーで再生し、反射
率を測定した。結果を表−１に示す。
【００２７】実施例２ 塗布溶媒として、乳酸エチルを用いたこと以外は、実施
例１と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を
行った。得られたディスクについて、実施例１と同様に
試験を行った。結果を表−１に示す。
例１と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を
行った。得られたディスクについて、実施例１と同様に
試験を行った。結果を表−１に示す。
【００２８】実施例３ 光記録層用の有機色素として、下記構造式で示される
フタロシアニン色素（最大吸収波長：７４１ｎｍ）を用
いたこと以外は実施例１と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。
フタロシアニン色素（最大吸収波長：７４１ｎｍ）を用
いたこと以外は実施例１と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。
【００２９】
【化６】
【００３０】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行った。結果を表−１に示す。
様に試験を行った。結果を表−１に示す。
【００３１】実施例４ 塗布溶媒として、２−ヒドロキシ酪酸メチルを用いたこ
と以外は、実施例３と同様にして記録可能コンパクトデ
ィスクの作製を行った。得られたディスクについて、実
施例１と同様に試験を行った。結果を表−１に示す。
と以外は、実施例３と同様にして記録可能コンパクトデ
ィスクの作製を行った。得られたディスクについて、実
施例１と同様に試験を行った。結果を表−１に示す。
【００３２】比較例１ 塗布溶媒として、エチルセロソルブを用いたこと以外
は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。得られたディスクについて、実施例１
と同様に試験を行った。結果を表−１に示した。
は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。得られたディスクについて、実施例１
と同様に試験を行った。結果を表−１に示した。
【００３３】比較例２ 塗布溶媒として、ジアセトンアルコールを用いたこと以
外は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディス
クの作製を行った。得られたディスクについて、実施例
１と同様に試験を行った。結果を表−１に示す。
外は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディス
クの作製を行った。得られたディスクについて、実施例
１と同様に試験を行った。結果を表−１に示す。
【００３４】比較例３ 塗布溶媒として、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブ
タノールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして記
録可能コンパクトディスクの作製を行った。得られたデ
ィスクについて、実施例１と同様に試験を行った。結果
を表−１に示す。
タノールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして記
録可能コンパクトディスクの作製を行った。得られたデ
ィスクについて、実施例１と同様に試験を行った。結果
を表−１に示す。
【００３５】比較例４ 塗布溶媒として、シクロヘキサノンを用いたこと以外
は、実施例３と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。得られたディスクについて、実施例１
と同様に試験を行った。結果を表−１に示す。
は、実施例３と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。得られたディスクについて、実施例１
と同様に試験を行った。結果を表−１に示す。
【００３６】
【表１】 ＊Ｐｏ：最適記録パワー（ｍＷ）を表す。
【００３７】表−１より次のことが明らかである。実施
例１〜２と比較例１〜２、及び実施例３〜４と比較例３
〜４では、光吸収層の吸光度がほぼ同じ値を示している
ことから、色素層膜厚はほぼ同じであり、また最適記録
感度もほぼ同じ値を示していることから、記録レーザー
パワーもほぼ同じである。これに対して、反射率では、
比較例１〜４が低いレベルであり不充分であるのに対し
て、本発明を適用した実施例１〜４では、いずれも６５
％以上の高い反射率が得られ、ＣＤ−Ｒの規格を満足し
ている。
例１〜２と比較例１〜２、及び実施例３〜４と比較例３
〜４では、光吸収層の吸光度がほぼ同じ値を示している
ことから、色素層膜厚はほぼ同じであり、また最適記録
感度もほぼ同じ値を示していることから、記録レーザー
パワーもほぼ同じである。これに対して、反射率では、
比較例１〜４が低いレベルであり不充分であるのに対し
て、本発明を適用した実施例１〜４では、いずれも６５
％以上の高い反射率が得られ、ＣＤ−Ｒの規格を満足し
ている。
【００３８】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明により特定の
フタロシアニン色素を用いた高性能な光情報記録媒体が
製造可能となる。
フタロシアニン色素を用いた高性能な光情報記録媒体が
製造可能となる。
Claims (1)
- 【請求項１】透明基板上に、少なくとも有機色素よりな
る光吸収層、光反射層及び保護層をこの順で積層してな
る光情報記録媒体の製造方法において、下記一般式
［Ｉ］で示されるフタロシアニン色素を、下記一般式
［II］で示されるヒドロキシカルボン酸エステル溶媒に
溶解した有機色素溶液を透明基板上にスピンコートする
ことにより光吸収層を形成することを特徴とする光情報
記録媒体の製造方法。 【化１】 （式中、置換基Ｘは、置換基を有していてもよい、アル
キル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基もしくはアリー
ルチオ基、または、シアノ基、スルホン酸基、スルホン
酸アミド基、スルホン酸エステル基またはフタルイミド
メチル基を表す。中心金属ＭはＳｉまたはＡｌを表す。
置換基Ｚは−ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ1Ｒ2を表す。ただし、
Ｒ1、Ｒ2は置換基を有していてもよい、アルキル基、シ
クロアルキル基、アルコキシ基、アリール基もしくはア
リールオキシ基を表す。ｍは１または２の整数を表
す。） 【化２】 ＣnＨ2n（ＯＨ）ＣＯＯＣmＨ2m+1 ───［II］ （式中、ｎ及びｍはそれぞれ独立に１〜５の整数を表
す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9024971A JPH10222884A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 光情報記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9024971A JPH10222884A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 光情報記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10222884A true JPH10222884A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=12152865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9024971A Pending JPH10222884A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 光情報記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10222884A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4893859B1 (ja) * | 2011-01-28 | 2012-03-07 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2012247589A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2012247591A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用感光性着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2012247590A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用感光性着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2013079301A (ja) * | 2011-10-03 | 2013-05-02 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | アルミニウムフタロシアニン |
| JP2013087251A (ja) * | 2011-10-21 | 2013-05-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | アルミニウムフタロシアニン |
-
1997
- 1997-02-07 JP JP9024971A patent/JPH10222884A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4893859B1 (ja) * | 2011-01-28 | 2012-03-07 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2012247589A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2012247591A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用感光性着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2012247590A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用感光性着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2013079301A (ja) * | 2011-10-03 | 2013-05-02 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | アルミニウムフタロシアニン |
| JP2013087251A (ja) * | 2011-10-21 | 2013-05-13 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | アルミニウムフタロシアニン |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
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