JPH10221556A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法Info
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- JPH10221556A JPH10221556A JP2271097A JP2271097A JPH10221556A JP H10221556 A JPH10221556 A JP H10221556A JP 2271097 A JP2271097 A JP 2271097A JP 2271097 A JP2271097 A JP 2271097A JP H10221556 A JPH10221556 A JP H10221556A
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- monomer
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- core
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の光導波路の製造方法は、導波路コア
部の光進行方向が変化しても、コアの断面の大きさが均
一な光導波路を提供することを目的とする。 【解決手段】 光導波路のコアとなる溝が、ａ方向部分
とｂ方向部分を含んで形成されたクラッド基板１の表面
を、Ａ方向およびＢ方向にスキージ２または３でコア材
料のモノマー４を掃き取り、モノマー４を重合させる。
部の光進行方向が変化しても、コアの断面の大きさが均
一な光導波路を提供することを目的とする。 【解決手段】 光導波路のコアとなる溝が、ａ方向部分
とｂ方向部分を含んで形成されたクラッド基板１の表面
を、Ａ方向およびＢ方向にスキージ２または３でコア材
料のモノマー４を掃き取り、モノマー４を重合させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ファクシミリ、コ
ピー機、イメージスキャナなどの、原稿読み取り光学系
に使用されるイメージセンサに適用して好適な光導波路
の製造方法に関する。
ピー機、イメージスキャナなどの、原稿読み取り光学系
に使用されるイメージセンサに適用して好適な光導波路
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ポリマー材料を用いた高分子
光導波路は、無機材料を用いたものに比べコストの低減
が可能で量産に向いているため、活発に研究開発が行わ
れている。この高分子光導波路の製造方法は、さまざま
な方法が試みられている。
光導波路は、無機材料を用いたものに比べコストの低減
が可能で量産に向いているため、活発に研究開発が行わ
れている。この高分子光導波路の製造方法は、さまざま
な方法が試みられている。
【０００３】例えば、微細な溝が表面に形成された高分
子クラッド基板表面に、硬化させると基板よりも屈折率
が高くなるコア材料をモノマー状態で滴下した後、スキ
ージなどを使って表面を掃くことによって、溝の中にだ
けモノマー材料を充填した後、重合、硬化させることに
よって、ポリマー光導波路を製造する方法がある。この
方法によれば、溝を形成した基板を射出成型などの方法
で作製することで、低コストでの大量生産が可能とな
り、低価格にてイメージセンサを提供することができ
る。
子クラッド基板表面に、硬化させると基板よりも屈折率
が高くなるコア材料をモノマー状態で滴下した後、スキ
ージなどを使って表面を掃くことによって、溝の中にだ
けモノマー材料を充填した後、重合、硬化させることに
よって、ポリマー光導波路を製造する方法がある。この
方法によれば、溝を形成した基板を射出成型などの方法
で作製することで、低コストでの大量生産が可能とな
り、低価格にてイメージセンサを提供することができ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法では、クラッド基板表面に滴下したコア材料を掃き取
る場合、掃き取る方向と溝のなす角度を変えると、溝の
中に充填されるコア材料の量に違いを生じることがあ
る。
法では、クラッド基板表面に滴下したコア材料を掃き取
る場合、掃き取る方向と溝のなす角度を変えると、溝の
中に充填されるコア材料の量に違いを生じることがあ
る。
【０００５】図５（ａ）は、クラッド基板表面の溝の方
向と、その表面に滴下したコア材料をスキージにて掃き
取る方向とのなす角度によって、クラッド基板表面の溝
のコア材料の充填率が変化する関係を示す。ここでスキ
ージ角度０度とは、スキージの掃き取り方向と溝とが図
５（ｂ）に示すように平行な関係であり、スキージ角度
９０度とは、スキージの掃き取り方向と溝とが図５
（ｃ）に示すように垂直な関係である。
向と、その表面に滴下したコア材料をスキージにて掃き
取る方向とのなす角度によって、クラッド基板表面の溝
のコア材料の充填率が変化する関係を示す。ここでスキ
ージ角度０度とは、スキージの掃き取り方向と溝とが図
５（ｂ）に示すように平行な関係であり、スキージ角度
９０度とは、スキージの掃き取り方向と溝とが図５
（ｃ）に示すように垂直な関係である。
【０００６】このため基板表面の溝が１方向の直線では
なく、途中に曲がり部分を含んで方向が変化する溝の場
合、１回１方向の掃き取り作業だけだと、コア材料の充
填率が方向によって変わってしまう。すなわち、上記方
法で作製した光導波路では、１本の導波路コア部の光進
行方向が変化する場合、方向が変化する度にコアの断面
の大きさおよび形状が変化する導波路となってしまい、
光の導波路損失増大の原因となってしまう。
なく、途中に曲がり部分を含んで方向が変化する溝の場
合、１回１方向の掃き取り作業だけだと、コア材料の充
填率が方向によって変わってしまう。すなわち、上記方
法で作製した光導波路では、１本の導波路コア部の光進
行方向が変化する場合、方向が変化する度にコアの断面
の大きさおよび形状が変化する導波路となってしまい、
光の導波路損失増大の原因となってしまう。
【０００７】そこで本発明は、上記従来の問題点を解消
すべくなされたものであり、導波路コア部の光進行方向
が変化しても、コアの断面の大きさおよび形状が均一な
光導波路の製造方法を提供することを目的とする。
すべくなされたものであり、導波路コア部の光進行方向
が変化しても、コアの断面の大きさおよび形状が均一な
光導波路の製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め、本発明の請求項１に記載の光導波路の製造方法は、
進行方向が変化して異なる方向部分を含む光導波路のコ
アとなる溝が形成されたクラッド基板表面にコア材料の
モノマーを滴下し、前記クラッド基板表面の余分なコア
材料のモノマーを、スキージが前記溝の各異なる方向部
分に対し一定の角度で、少なくとも１回掃き取り、前記
コア材料のモノマーを重合させることを特徴とする構成
を有する。
め、本発明の請求項１に記載の光導波路の製造方法は、
進行方向が変化して異なる方向部分を含む光導波路のコ
アとなる溝が形成されたクラッド基板表面にコア材料の
モノマーを滴下し、前記クラッド基板表面の余分なコア
材料のモノマーを、スキージが前記溝の各異なる方向部
分に対し一定の角度で、少なくとも１回掃き取り、前記
コア材料のモノマーを重合させることを特徴とする構成
を有する。
【０００９】本発明の請求項２に記載の光導波路の製造
方法は、進行方向が変化して異なる方向部分を含む光導
波路のコアとなる溝が形成されたクラッド基板表面にコ
ア材料のモノマーを滴下する工程と、前記クラッド基板
表面の余分なコア材料のモノマーを、スキージが前記溝
に一定の角度となるように掃き取る工程と、前記コア材
料のモノマーを重合させる工程とから成り、これらの各
工程を前記溝の各異なる方向部分に対し、少なくとも１
回行うことを特徴とする。
方法は、進行方向が変化して異なる方向部分を含む光導
波路のコアとなる溝が形成されたクラッド基板表面にコ
ア材料のモノマーを滴下する工程と、前記クラッド基板
表面の余分なコア材料のモノマーを、スキージが前記溝
に一定の角度となるように掃き取る工程と、前記コア材
料のモノマーを重合させる工程とから成り、これらの各
工程を前記溝の各異なる方向部分に対し、少なくとも１
回行うことを特徴とする。
【００１０】本発明の請求項３に記載の光導波路の製造
方法は、請求項１または請求項２に記載の光導波路の製
造方法において、前記クラッド基板表面に滴下するモノ
マーが紫外線硬化型樹脂であって、紫外線照射によって
このモノマーを重合することを特徴とする。
方法は、請求項１または請求項２に記載の光導波路の製
造方法において、前記クラッド基板表面に滴下するモノ
マーが紫外線硬化型樹脂であって、紫外線照射によって
このモノマーを重合することを特徴とする。
【００１１】本発明の請求項４に記載の光導波路の製造
方法は、請求項１または請求項２に記載の光導波路の製
造方法において、前記クラッド基板表面に滴下するモノ
マーが熱硬化型樹脂であって、加熱によってこのモノマ
ーを重合することを特徴とする。
方法は、請求項１または請求項２に記載の光導波路の製
造方法において、前記クラッド基板表面に滴下するモノ
マーが熱硬化型樹脂であって、加熱によってこのモノマ
ーを重合することを特徴とする。
【００１２】上記の構成によって、本発明の請求項１に
記載の光導波路の製造方法は、クラッド基板表面の溝の
各異なる方向部分に対しコア材料のモノマーを一定の角
度で掃き取り、重合させるので、導波路コア部の光進行
方向が変化しても、光導波路のコアの断面の形状および
大きさが均一となる。
記載の光導波路の製造方法は、クラッド基板表面の溝の
各異なる方向部分に対しコア材料のモノマーを一定の角
度で掃き取り、重合させるので、導波路コア部の光進行
方向が変化しても、光導波路のコアの断面の形状および
大きさが均一となる。
【００１３】本発明の請求項２に記載の光導波路の製造
方法は、クラッド基板表面の溝に一定の角度でコア材料
のモノマーを掃き取った後、重合させる工程を溝の各異
なる方向部分に対し行うので、導波路コア部の光進行方
向が変化しても、光導波路のコアの断面の形状および大
きさが均一となる。
方法は、クラッド基板表面の溝に一定の角度でコア材料
のモノマーを掃き取った後、重合させる工程を溝の各異
なる方向部分に対し行うので、導波路コア部の光進行方
向が変化しても、光導波路のコアの断面の形状および大
きさが均一となる。
【００１４】本発明の請求項３に記載の光導波路の製造
方法は、モノマーが紫外線硬化型樹脂であり、請求項４
に記載の光導波路の製造方法は、モノマーが熱硬化型樹
脂であるので、共に容易に光導波路を製造できる。
方法は、モノマーが紫外線硬化型樹脂であり、請求項４
に記載の光導波路の製造方法は、モノマーが熱硬化型樹
脂であるので、共に容易に光導波路を製造できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図１は本発明の実施の形態
の光導波路の製造方法の説明図である。図１（ａ）は、
光導波路のコアとなる溝が、直線でなく途中に曲がり部
分を有してａ方向部分とｂ方向部分を含んで形成された
クラッド基板１の表面を、Ａ方向およびＢ方向にスキー
ジ２または３でコア材料のモノマー４を掃き取る例を示
す。ここで図５（ａ）より、スキージの掃き取り方向と
溝とが平行な関係の場合、すなわちスキージ角度０度の
場合、３６％の充填率となり、スキージの掃き取り方向
と溝とが垂直な関係の場合、すなわちスキージ角度９０
度の場合、１００％の充填率となる。
施の形態を詳細に説明する。図１は本発明の実施の形態
の光導波路の製造方法の説明図である。図１（ａ）は、
光導波路のコアとなる溝が、直線でなく途中に曲がり部
分を有してａ方向部分とｂ方向部分を含んで形成された
クラッド基板１の表面を、Ａ方向およびＢ方向にスキー
ジ２または３でコア材料のモノマー４を掃き取る例を示
す。ここで図５（ａ）より、スキージの掃き取り方向と
溝とが平行な関係の場合、すなわちスキージ角度０度の
場合、３６％の充填率となり、スキージの掃き取り方向
と溝とが垂直な関係の場合、すなわちスキージ角度９０
度の場合、１００％の充填率となる。
【００１６】本発明の第１の実施の形態の光導波路の製
造方法では、クラッド基板表面にコア材料を滴下した
後、図１（ｂ）に示すようにＡ方向すなわち溝のｂ方向
部分に平行に掃き取りを行い、次にＢ方向すなわち溝の
ａ方向部分に平行に掃き取りを行う。このスキージの掃
き取り方向と溝とが平行な関係でコア材料のモノマーの
掃き取りを行う場合、３６％の充填率となる。
造方法では、クラッド基板表面にコア材料を滴下した
後、図１（ｂ）に示すようにＡ方向すなわち溝のｂ方向
部分に平行に掃き取りを行い、次にＢ方向すなわち溝の
ａ方向部分に平行に掃き取りを行う。このスキージの掃
き取り方向と溝とが平行な関係でコア材料のモノマーの
掃き取りを行う場合、３６％の充填率となる。
【００１７】また図２に示すように、クラッド基板表面
の溝がａ，ｂ，ｃの３方向部分を含む場合も、各方向部
分ａ，ｂ，ｃに対して、スキージ２，３，５を用いて同
様に掃き取りを繰り返す。
の溝がａ，ｂ，ｃの３方向部分を含む場合も、各方向部
分ａ，ｂ，ｃに対して、スキージ２，３，５を用いて同
様に掃き取りを繰り返す。
【００１８】本発明の第２の実施の形態の光導波路の製
造方法では、クラッド基板表面の溝の各方向に対し、一
定の角度での掃き取りおよび硬化のプロセスを繰り返
す。まずクラッド基板表面に紫外線硬化型樹脂のコア材
料のモノマーを滴下した後、図１（ｃ）に示すようにＡ
方向に掃き取りを行い、紫外線（ＵＶ）露光をしてコア
材料を重合、硬化させる。このとき、溝のａ方向部分に
対しては、溝に垂直な方向となり、１００％の充填率と
なる。また溝のｂ方向部分に対しては、溝に平行な方向
となり、３６％の充填率となる。そしてさらに、クラッ
ド基板表面にコア材料のモノマーを滴下した後、図１
（ｃ）に示すようにＢ方向に掃き取りを行い、紫外線露
光をしてコア材料を重合、硬化させる。このとき、溝の
ｂ方向部分に対しては、溝に垂直な方向でスキージにて
掃き取っているので、３６％の充填率から１００％の充
填率となる。このとき、溝のａ方向部分に充填されたコ
ア材料は、既に紫外線露光によって硬化しているため、
掃き取っても掻き出されることはない。その結果コア材
料は、溝のすべての方向部分に対して均一に１００％充
填され、コア断面形状もすべて均一の光導波路が作製さ
れる。
造方法では、クラッド基板表面の溝の各方向に対し、一
定の角度での掃き取りおよび硬化のプロセスを繰り返
す。まずクラッド基板表面に紫外線硬化型樹脂のコア材
料のモノマーを滴下した後、図１（ｃ）に示すようにＡ
方向に掃き取りを行い、紫外線（ＵＶ）露光をしてコア
材料を重合、硬化させる。このとき、溝のａ方向部分に
対しては、溝に垂直な方向となり、１００％の充填率と
なる。また溝のｂ方向部分に対しては、溝に平行な方向
となり、３６％の充填率となる。そしてさらに、クラッ
ド基板表面にコア材料のモノマーを滴下した後、図１
（ｃ）に示すようにＢ方向に掃き取りを行い、紫外線露
光をしてコア材料を重合、硬化させる。このとき、溝の
ｂ方向部分に対しては、溝に垂直な方向でスキージにて
掃き取っているので、３６％の充填率から１００％の充
填率となる。このとき、溝のａ方向部分に充填されたコ
ア材料は、既に紫外線露光によって硬化しているため、
掃き取っても掻き出されることはない。その結果コア材
料は、溝のすべての方向部分に対して均一に１００％充
填され、コア断面形状もすべて均一の光導波路が作製さ
れる。
【００１９】本実施の形態の光導波路の製造方法でも、
図２に示すように、溝がａ，ｂ，ｃの３方向部分を含む
場合、各方向部分に対して、同様に掃き取りおよび重合
を繰り返す。さらに多数の方向部分を含む場合も、各方
向部分に対して、同様の繰り返しを行う。
図２に示すように、溝がａ，ｂ，ｃの３方向部分を含む
場合、各方向部分に対して、同様に掃き取りおよび重合
を繰り返す。さらに多数の方向部分を含む場合も、各方
向部分に対して、同様の繰り返しを行う。
【００２０】また本実施の形態の光導波路の製造方法で
は、コア材料のモノマーに紫外線硬化型樹脂を用い、紫
外線照射によってこのモノマーを重合させているが、他
の実施の形態ではモノマーに熱硬化型樹脂を用い、加熱
によってこのモノマーを重合させる。
は、コア材料のモノマーに紫外線硬化型樹脂を用い、紫
外線照射によってこのモノマーを重合させているが、他
の実施の形態ではモノマーに熱硬化型樹脂を用い、加熱
によってこのモノマーを重合させる。
【００２１】
（実施例１）まず微細な溝をその表面に設けた高分子ク
ラッド基板の作製方法について、図３を用いて説明す
る。始めに（ａ）に示すように膜厚が８μｍのポジ型フ
ォトレジスト膜をガラス基板上にスピンコート法で塗布
する。次に（ｂ）に示すように、導波路コアに相当する
部分に窓が開いていて、その部分だけ紫外線を通すフォ
トマスクを密着させて紫外線を露光する。この窓の幅は
８μｍである。これを現像処理することで、（ｃ）に示
すように光導波路のコアに相当する部分が８μｍ×８μ
ｍの断面の溝になっているパターンが、フォトレジスト
膜に転写される。このレジストパターンをマスター原版
として（ｄ）に示すように金型を作製し、ポリメチルメ
タアクリレート（以降、ＰＭＭＡとする）材料を用いた
射出成型法によって、（ｅ）に示すように幅８μｍ、深
さ８μｍの溝を表面に有するＰＭＭＡ基板を作製した。
この基板は図１（ａ）に示すような光導波路となる溝が
２回曲がった構造を持つ。
ラッド基板の作製方法について、図３を用いて説明す
る。始めに（ａ）に示すように膜厚が８μｍのポジ型フ
ォトレジスト膜をガラス基板上にスピンコート法で塗布
する。次に（ｂ）に示すように、導波路コアに相当する
部分に窓が開いていて、その部分だけ紫外線を通すフォ
トマスクを密着させて紫外線を露光する。この窓の幅は
８μｍである。これを現像処理することで、（ｃ）に示
すように光導波路のコアに相当する部分が８μｍ×８μ
ｍの断面の溝になっているパターンが、フォトレジスト
膜に転写される。このレジストパターンをマスター原版
として（ｄ）に示すように金型を作製し、ポリメチルメ
タアクリレート（以降、ＰＭＭＡとする）材料を用いた
射出成型法によって、（ｅ）に示すように幅８μｍ、深
さ８μｍの溝を表面に有するＰＭＭＡ基板を作製した。
この基板は図１（ａ）に示すような光導波路となる溝が
２回曲がった構造を持つ。
【００２２】次に、この基板を用いた高分子光導波路の
製作方法について、図４を用いて説明する。まず、微細
な溝を形成したＰＭＭＡ基板表面に、（ａ）に示すよう
にモノマー状態のコア材料を滴下し、（ｂ）に示すよう
に、スキージゴムを用いて掃き取り、溝の中だけにコア
材料を充填する。コア材料には、紫外線硬化樹脂である
サマーズオプティカル社のＪ−９１を用いた。コア材料
充填後、（ｃ）に示すように紫外線を基板表面全体に照
射してコア材料を重合させ、コア材料硬化後、（ｄ）に
示すようにモノマー状態のクラッド材料を上記の基板表
面に塗布した後、（ｅ）に示すように補強材としてＰＭ
ＭＡ基板を張り付けて、紫外線照射によってクラッド層
を硬化させてＰＭＭＡ基板を接着する。クラッド材料に
はサマーズオプティカル社のＳＫ９を用いた。
製作方法について、図４を用いて説明する。まず、微細
な溝を形成したＰＭＭＡ基板表面に、（ａ）に示すよう
にモノマー状態のコア材料を滴下し、（ｂ）に示すよう
に、スキージゴムを用いて掃き取り、溝の中だけにコア
材料を充填する。コア材料には、紫外線硬化樹脂である
サマーズオプティカル社のＪ−９１を用いた。コア材料
充填後、（ｃ）に示すように紫外線を基板表面全体に照
射してコア材料を重合させ、コア材料硬化後、（ｄ）に
示すようにモノマー状態のクラッド材料を上記の基板表
面に塗布した後、（ｅ）に示すように補強材としてＰＭ
ＭＡ基板を張り付けて、紫外線照射によってクラッド層
を硬化させてＰＭＭＡ基板を接着する。クラッド材料に
はサマーズオプティカル社のＳＫ９を用いた。
【００２３】上記実施例の工程中図４（ａ）および
（ｂ）のコア材料滴下、掃き取りによるコア材料の充填
プロセスを、前記の第１の実施の形態の光導波路の製造
方法にて行う例を、図１（ａ）（ｂ）を用いて説明す
る。クラッド基板表面にコア材料のモノマーを滴下した
後、Ａ方向すなわち溝のｂ方向部分に平行に掃き取りを
行う。このとき、溝のａ方向部分には１００％コア材料
が充填されているが、ｂ方向部分には３６％コア材料が
充填されている．次にＢ方向すなわち溝のａ方向部分に
平行に掃き取りを行う。このことによって、ａ方向部分
に１００％充填されていたコア材料が３６％となる。そ
の結果、ａ，ｂ両方向部分ともコア材料の充填量がすべ
て均一に３６％となり、コア断面形状および大きさが均
一な光導波路が作製された。
（ｂ）のコア材料滴下、掃き取りによるコア材料の充填
プロセスを、前記の第１の実施の形態の光導波路の製造
方法にて行う例を、図１（ａ）（ｂ）を用いて説明す
る。クラッド基板表面にコア材料のモノマーを滴下した
後、Ａ方向すなわち溝のｂ方向部分に平行に掃き取りを
行う。このとき、溝のａ方向部分には１００％コア材料
が充填されているが、ｂ方向部分には３６％コア材料が
充填されている．次にＢ方向すなわち溝のａ方向部分に
平行に掃き取りを行う。このことによって、ａ方向部分
に１００％充填されていたコア材料が３６％となる。そ
の結果、ａ，ｂ両方向部分ともコア材料の充填量がすべ
て均一に３６％となり、コア断面形状および大きさが均
一な光導波路が作製された。
【００２４】この光導波路に波長５３２ｎｍのレーザを
入射させて、入射、出射損失を除いた透過損失を測定し
たところ、０．２ｄＢ／ｃｍとなり、良好な特性を得る
ことができた。
入射させて、入射、出射損失を除いた透過損失を測定し
たところ、０．２ｄＢ／ｃｍとなり、良好な特性を得る
ことができた。
【００２５】（実施例２）次に上記の実施例１と同様の
方法で微細な溝をその表面に設けた高分子クラッド基板
を作成し、その基板を用いて高分子光導波路を製作する
方法において、その工程中図４（ａ）および（ｂ）のコ
ア材料滴下、掃き取りによるコア材料の充填プロセス
を、前記の第２の実施の形態の光導波路の製造方法にて
行う例を、図１（ａ）（ｃ）を用いて説明する。まずク
ラッド基板表面にコア材料のモノマーを滴下した後、Ａ
方向に掃き取りを行い、紫外線露光をしてコア材料を硬
化させる。このとき、溝のａ方向部分に対しては、溝に
垂直な方向となり、１００％の充填率となる。また溝の
ｂ方向部分に対しては、溝に平行な方向となり、３６％
の充填率となる。次に再び、クラッド基板表面にコア材
料のモノマーを滴下した後、Ｂ方向に掃き取りを行い、
紫外線露光をしてコア材料を硬化させる。このとき、溝
のｂ方向部分に対しては、溝に垂直な方向でスキージに
て掃き取っているので、３６％の充填率から１００％の
充填率となる。このとき、溝のａ方向部分に充填された
コア材料は、既に紫外線露光によって硬化しているため
掃き取っても掻き出されることはない。このためコア材
料は、溝のすべての方向部分に対して均一に１００％充
填されコア断面形状および大きさもすべて均一の光導波
路が作製される。
方法で微細な溝をその表面に設けた高分子クラッド基板
を作成し、その基板を用いて高分子光導波路を製作する
方法において、その工程中図４（ａ）および（ｂ）のコ
ア材料滴下、掃き取りによるコア材料の充填プロセス
を、前記の第２の実施の形態の光導波路の製造方法にて
行う例を、図１（ａ）（ｃ）を用いて説明する。まずク
ラッド基板表面にコア材料のモノマーを滴下した後、Ａ
方向に掃き取りを行い、紫外線露光をしてコア材料を硬
化させる。このとき、溝のａ方向部分に対しては、溝に
垂直な方向となり、１００％の充填率となる。また溝の
ｂ方向部分に対しては、溝に平行な方向となり、３６％
の充填率となる。次に再び、クラッド基板表面にコア材
料のモノマーを滴下した後、Ｂ方向に掃き取りを行い、
紫外線露光をしてコア材料を硬化させる。このとき、溝
のｂ方向部分に対しては、溝に垂直な方向でスキージに
て掃き取っているので、３６％の充填率から１００％の
充填率となる。このとき、溝のａ方向部分に充填された
コア材料は、既に紫外線露光によって硬化しているため
掃き取っても掻き出されることはない。このためコア材
料は、溝のすべての方向部分に対して均一に１００％充
填されコア断面形状および大きさもすべて均一の光導波
路が作製される。
【００２６】この光導波路に波長５３２ｎｍのレーザを
入射させて、入射、出射損失を除いた透過損失を測定し
たところ、０．２ｄＢ／ｃｍとなり、良好な特性を得る
ことができた。
入射させて、入射、出射損失を除いた透過損失を測定し
たところ、０．２ｄＢ／ｃｍとなり、良好な特性を得る
ことができた。
【００２７】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の請求項１に
記載の光導波路の製造方法は、クラッド基板表面の溝の
各異なる方向部分に対しコア材料のモノマーを一定の角
度で掃き取り、重合させるので、導波路コア部の光進行
方向が変化しても、コアの断面の形状および大きさが均
一な光導波路の製造が可能となる。
記載の光導波路の製造方法は、クラッド基板表面の溝の
各異なる方向部分に対しコア材料のモノマーを一定の角
度で掃き取り、重合させるので、導波路コア部の光進行
方向が変化しても、コアの断面の形状および大きさが均
一な光導波路の製造が可能となる。
【００２８】本発明の請求項２に記載の光導波路の製造
方法は、クラッド基板表面の溝に一定の角度でコア材料
のモノマーを掃き取った後、重合させる工程を溝の各異
なる方向部分に対し行うので、導波路コア部の光進行方
向が変化しても、コアの断面の形状および大きさが均一
な光導波路の製造が可能となる。さらに溝に９０°の角
度でコア材料のモノマーを掃き取ることによって、充填
率１００％の光導波路の製造が可能となる。
方法は、クラッド基板表面の溝に一定の角度でコア材料
のモノマーを掃き取った後、重合させる工程を溝の各異
なる方向部分に対し行うので、導波路コア部の光進行方
向が変化しても、コアの断面の形状および大きさが均一
な光導波路の製造が可能となる。さらに溝に９０°の角
度でコア材料のモノマーを掃き取ることによって、充填
率１００％の光導波路の製造が可能となる。
【００２９】本発明の請求項３に記載の光導波路の製造
方法は、モノマーが紫外線硬化型樹脂であり、請求項４
に記載の光導波路の製造方法は、モノマーが熱硬化型樹
脂であるので、共に光導波路の容易な製造を可能とす
る。
方法は、モノマーが紫外線硬化型樹脂であり、請求項４
に記載の光導波路の製造方法は、モノマーが熱硬化型樹
脂であるので、共に光導波路の容易な製造を可能とす
る。
【図１】（ａ）ないし（ｃ）は、本発明の実施の形態の
光導波路の製造方法の説明図である。
光導波路の製造方法の説明図である。
【図２】他の実施の形態のクラッド基板を示す図であ
る。
る。
【図３】（ａ）ないし（ｅ）は、高分子クラッド基板の
作製方法の説明図である。
作製方法の説明図である。
【図４】（ａ）ないし（ｅ）は、本発明の高分子光導波
路の製作方法の説明図である。
路の製作方法の説明図である。
【図５】（ａ）ないし（ｃ）は、スキージ角度とコア材
料の充填率の関係を示す図である。
料の充填率の関係を示す図である。
１ クラッド基板 ２，３，５ スキージ ４ コア材料のモノマー
Claims (4)
- 【請求項１】 進行方向が変化して異なる方向部分を含
む光導波路のコアとなる溝が形成されたクラッド基板表
面にコア材料のモノマーを滴下し、 前記クラッド基板表面の余分なコア材料のモノマーを、
スキージが前記溝の各異なる方向部分に対し一定の角度
で、少なくとも１回掃き取り、 前記コア材料のモノマーを重合させることを特徴とする
光導波路の製造方法。 - 【請求項２】 進行方向が変化して異なる方向部分を含
む光導波路のコアとなる溝が形成されたクラッド基板表
面にコア材料のモノマーを滴下する工程と、 前記クラッド基板表面の余分なコア材料のモノマーを、
スキージが前記溝に一定の角度となるように掃き取る工
程と、 前記コア材料のモノマーを重合させる工程とから成り、 これらの各工程を前記溝の各異なる方向部分に対し、少
なくとも１回行うことを特徴とする光導波路の製造方
法。 - 【請求項３】 前記クラッド基板表面に滴下するモノマ
ーが紫外線硬化型樹脂であって、紫外線照射によってこ
のモノマーを重合することを特徴とする請求項１または
請求項２に記載の光導波路の製造方法。 - 【請求項４】 前記クラッド基板表面に滴下するモノマ
ーが熱硬化型樹脂であって、加熱によってこのモノマー
を重合することを特徴とする請求項１または請求項２に
記載の光導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2271097A JPH10221556A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2271097A JPH10221556A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | 光導波路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10221556A true JPH10221556A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=12090400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2271097A Pending JPH10221556A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10221556A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6500603B1 (en) | 1999-11-11 | 2002-12-31 | Mitsui Chemicals, Inc. | Method for manufacturing polymer optical waveguide |
| EP1418462A2 (en) * | 2002-07-02 | 2004-05-12 | Omron Corporation | Optical waveguide device, method of manufacturing the same, and optical communication equipment |
-
1997
- 1997-02-05 JP JP2271097A patent/JPH10221556A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6500603B1 (en) | 1999-11-11 | 2002-12-31 | Mitsui Chemicals, Inc. | Method for manufacturing polymer optical waveguide |
| EP1418462A2 (en) * | 2002-07-02 | 2004-05-12 | Omron Corporation | Optical waveguide device, method of manufacturing the same, and optical communication equipment |
| EP1418462A3 (en) * | 2002-07-02 | 2004-12-08 | Omron Corporation | Optical waveguide device, method of manufacturing the same, and optical communication equipment |
| US7283690B2 (en) | 2002-07-02 | 2007-10-16 | Omron Corporation | Optical waveguide device, method of manufacturing the same, and optical communication equipment |
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