JPH10221455A - Ｘ線発生検出装置 - Google Patents
Ｘ線発生検出装置Info
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- JPH10221455A JPH10221455A JP2287497A JP2287497A JPH10221455A JP H10221455 A JPH10221455 A JP H10221455A JP 2287497 A JP2287497 A JP 2287497A JP 2287497 A JP2287497 A JP 2287497A JP H10221455 A JPH10221455 A JP H10221455A
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- shaping circuit
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線測定装置においてＸ線の発生を検出する
に際して、Ｘ線が入射してから検出までに要する時間を
短くし、複数個のＸ線が極めて近接した時間内に入射し
た場合にも各々のＸ線を検出でき、低エネルギーのＸ線
をも検出できるようにする。 【解決手段】 波形整形回路２０、２１の整形時定数は
互いに異ならされている。エネルギーの高いＸ線が入射
した場合は整形時定数が短い方の波形整形回路２０で短
時間で検出でき、エネルギーが低いＸ線が入射した場合
は整形時定数が長い方の波形整形回路２１によって検出
できる。波形整形回路２１は論理和回路２４からの検出
信号に基づいてリセットされ、次のステップ入力に備え
ることができるので、Ｘ線が入射してからそれを検出す
るまでに要する時間を短縮できる。
に際して、Ｘ線が入射してから検出までに要する時間を
短くし、複数個のＸ線が極めて近接した時間内に入射し
た場合にも各々のＸ線を検出でき、低エネルギーのＸ線
をも検出できるようにする。 【解決手段】 波形整形回路２０、２１の整形時定数は
互いに異ならされている。エネルギーの高いＸ線が入射
した場合は整形時定数が短い方の波形整形回路２０で短
時間で検出でき、エネルギーが低いＸ線が入射した場合
は整形時定数が長い方の波形整形回路２１によって検出
できる。波形整形回路２１は論理和回路２４からの検出
信号に基づいてリセットされ、次のステップ入力に備え
ることができるので、Ｘ線が入射してからそれを検出す
るまでに要する時間を短縮できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体検出器を用いた
Ｘ線測定装置に用いて好適なＸ線発生検出装置に関す
る。
Ｘ線測定装置に用いて好適なＸ線発生検出装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】試料に含まれる元素の同定及び定量を行
うものとして、半導体検出器を用いたＸ線測定装置が知
られている。図６にその構成例を示す。図中、１は半導
体検出器、２は前置増幅器、３は波形整形回路、４はＡ
／Ｄ変換器（以下、ＡＤＣと記す）、５はマルチ・チャ
ンネル・アナライザ（以下、ＭＣＡと記す）、６はＸ線
発生検出装置、７は制御装置を示す。
うものとして、半導体検出器を用いたＸ線測定装置が知
られている。図６にその構成例を示す。図中、１は半導
体検出器、２は前置増幅器、３は波形整形回路、４はＡ
／Ｄ変換器（以下、ＡＤＣと記す）、５はマルチ・チャ
ンネル・アナライザ（以下、ＭＣＡと記す）、６はＸ線
発生検出装置、７は制御装置を示す。
【０００３】半導体検出器１はＸ線が入射されると、そ
の入射したＸ線のエネルギーに対応した信号を出力す
る。そして、半導体検出器１の出力信号は前置増幅器２
で階段波に変換され、波形整形回路３とＸ線発生検出装
置６に入力される。波形整形回路３は、前置増幅器２か
ら入力される階段波の各ステップを、各々のステップの
高さに比例したピーク値を有する孤立したパルスに変換
するものである。
の入射したＸ線のエネルギーに対応した信号を出力す
る。そして、半導体検出器１の出力信号は前置増幅器２
で階段波に変換され、波形整形回路３とＸ線発生検出装
置６に入力される。波形整形回路３は、前置増幅器２か
ら入力される階段波の各ステップを、各々のステップの
高さに比例したピーク値を有する孤立したパルスに変換
するものである。
【０００４】いま、例えば図７に示すように、ｔ1 ，ｔ
2 ，ｔ3 のときに半導体検出器１にＸ線が入射したと
し、前置増幅器２からの出力された階段波が図７（ａ）
に示すようであったとする。この階段波の最初のステッ
プの高さＨ1 はｔ1 に入射したＸ線のエネルギーに対応
し、２番目のステップの高さＨ2 はｔ2 に入射したＸ線
のエネルギーに対応し、３番目のステップの高さＨ3 は
ｔ3 に入射したＸ線のエネルギーに対応していることは
当然である。なお、階段波のステップの高さは、入射す
るＸ線のエネルギーが大きい程高くなるものである。ま
た、前置増幅器２の構成は周知であるので詳細な説明は
省略する。
2 ，ｔ3 のときに半導体検出器１にＸ線が入射したと
し、前置増幅器２からの出力された階段波が図７（ａ）
に示すようであったとする。この階段波の最初のステッ
プの高さＨ1 はｔ1 に入射したＸ線のエネルギーに対応
し、２番目のステップの高さＨ2 はｔ2 に入射したＸ線
のエネルギーに対応し、３番目のステップの高さＨ3 は
ｔ3 に入射したＸ線のエネルギーに対応していることは
当然である。なお、階段波のステップの高さは、入射す
るＸ線のエネルギーが大きい程高くなるものである。ま
た、前置増幅器２の構成は周知であるので詳細な説明は
省略する。
【０００５】波形整形回路３はこのような前置増幅器２
の一つ一つの階段波を図７（ｂ）に示すように孤立した
パルスに変換する。具体的には、ｔ1 のときに高さがＨ
1 の階段波が入力されるとパルスに変換するための波形
整形動作を開始し、ピーク値がＰ1 のパルスを生成して
出力する。このピーク値Ｐ1 は当該階段波のステップの
高さＨ1 に比例している。同様に、高さがＨ2 の階段波
が入力されたときにはピーク値がＰ2 のパルスを生成
し、高さがＨ3 の階段波が入力されたときにはピーク値
がＰ3 のパルスを生成する。これらのパルスのピーク値
Ｐ2 ，Ｐ3 がそれぞれ対応する階段波の高さＨ2 ，Ｈ3
に比例していることは当然である。
の一つ一つの階段波を図７（ｂ）に示すように孤立した
パルスに変換する。具体的には、ｔ1 のときに高さがＨ
1 の階段波が入力されるとパルスに変換するための波形
整形動作を開始し、ピーク値がＰ1 のパルスを生成して
出力する。このピーク値Ｐ1 は当該階段波のステップの
高さＨ1 に比例している。同様に、高さがＨ2 の階段波
が入力されたときにはピーク値がＰ2 のパルスを生成
し、高さがＨ3 の階段波が入力されたときにはピーク値
がＰ3 のパルスを生成する。これらのパルスのピーク値
Ｐ2 ，Ｐ3 がそれぞれ対応する階段波の高さＨ2 ，Ｈ3
に比例していることは当然である。
【０００６】波形整形回路３で生成するパルスの波形と
しては、ガウス波、三角波、台形波等種々の波形がある
が、どのような波形のパルスであってもよいものであ
る。以下においては、単にパルスを生成する等と表現す
ることにする。
しては、ガウス波、三角波、台形波等種々の波形がある
が、どのような波形のパルスであってもよいものであ
る。以下においては、単にパルスを生成する等と表現す
ることにする。
【０００７】なお、ガウス波形のパルスを生成する波形
整形回路、三角波形のパルスを生成する波形整形回路、
台形波形のパルスを生成する波形整形回路等はいずれも
周知であるので、詳細な構成の説明は省略するが、例え
ば、ガウス波形のパルスを生成する波形整形回路は、初
段の微分回路と、その後段の複数の積分回路で構成され
ることは広く知られているところである。
整形回路、三角波形のパルスを生成する波形整形回路、
台形波形のパルスを生成する波形整形回路等はいずれも
周知であるので、詳細な構成の説明は省略するが、例え
ば、ガウス波形のパルスを生成する波形整形回路は、初
段の微分回路と、その後段の複数の積分回路で構成され
ることは広く知られているところである。
【０００８】そして、波形整形回路３で生成されたパル
スのピーク値はＡＤＣ４でデジタル化されてＭＣＡ５に
供給され、ＭＣＡ５において元素同定の処理、及び定量
の処理に用いられることになる。
スのピーク値はＡＤＣ４でデジタル化されてＭＣＡ５に
供給され、ＭＣＡ５において元素同定の処理、及び定量
の処理に用いられることになる。
【０００９】ところで、波形整形回路３はフィルタで構
成されるので時定数を有している。その時定数は、通
常、整形時定数と称されている。従って、波形整形回路
３で生成されるパルスは整形時定数に応じた有限長の幅
を有することになる。
成されるので時定数を有している。その時定数は、通
常、整形時定数と称されている。従って、波形整形回路
３で生成されるパルスは整形時定数に応じた有限長の幅
を有することになる。
【００１０】そのために、整形時定数に応じた有限長の
パルス幅より短い時間の間にＸ線が引き続いて半導体検
出器１に入射した場合には、波形整形回路３からはそれ
らのＸ線に対応するパルスを一つに合成したパルスが生
成されることになる。
パルス幅より短い時間の間にＸ線が引き続いて半導体検
出器１に入射した場合には、波形整形回路３からはそれ
らのＸ線に対応するパルスを一つに合成したパルスが生
成されることになる。
【００１１】その例を図８に示す。いま、Ｘ線が半導体
検出器１に入射し、ｔ4 のときに前置増幅器２から図８
（ａ）のＡで示すようなステップが出力されたとする
と、波形整形回路３はｔ4 のときに波形整形動作を開始
するが、このステップＡに対する波形整形が終了する前
にＸ線が半導体検出器１に入射し、ｔ5 のときに前置増
幅器２から図８（ａ）のＢで示すようなステップが出力
されたとすると、ステップＡに対する波形整形とステッ
プＢに対する波形整形が同時に行われてしまい、波形整
形回路３からは図８（ｂ）の実線で示すように、ステッ
プＡ，Ｂに対応する二つのパルス，が合成された一
つのパルスが出力されてしまうことになる。
検出器１に入射し、ｔ4 のときに前置増幅器２から図８
（ａ）のＡで示すようなステップが出力されたとする
と、波形整形回路３はｔ4 のときに波形整形動作を開始
するが、このステップＡに対する波形整形が終了する前
にＸ線が半導体検出器１に入射し、ｔ5 のときに前置増
幅器２から図８（ａ）のＢで示すようなステップが出力
されたとすると、ステップＡに対する波形整形とステッ
プＢに対する波形整形が同時に行われてしまい、波形整
形回路３からは図８（ｂ）の実線で示すように、ステッ
プＡ，Ｂに対応する二つのパルス，が合成された一
つのパルスが出力されてしまうことになる。
【００１２】このような現象は、当該分野ではパイルア
ップとして広く知られている現象であるが、パイルアッ
プされたパルスのピーク値は単一のＸ線のエネルギーを
示すものではないので、除外する必要がある。
ップとして広く知られている現象であるが、パイルアッ
プされたパルスのピーク値は単一のＸ線のエネルギーを
示すものではないので、除外する必要がある。
【００１３】そのために設けられているのがＸ線発生検
出装置６であり、このＸ線発生検出装置６はイベント検
出回路と称されることもある。
出装置６であり、このＸ線発生検出装置６はイベント検
出回路と称されることもある。
【００１４】このＸ線発生検出装置６は前置増幅器２か
ら出力される階段波に基づいてＸ線が入射されたか否か
を検出し、Ｘ線が入射されたことを検出すると検出信
号、例えばパルスを制御装置７に出力するものである。
ら出力される階段波に基づいてＸ線が入射されたか否か
を検出し、Ｘ線が入射されたことを検出すると検出信
号、例えばパルスを制御装置７に出力するものである。
【００１５】制御装置７は、Ｘ線発生検出装置６から検
出信号を受けた場合には、その検出信号から所定の時間
△Ｔの間にＸ線発生検出装置６から次の検出信号があっ
たときにはパイルアップが発生したと判断して、波形整
形回路３を制御して波形整形の動作を行わないようにし
たり、あるいはＡＤＣ４を制御してＡ／Ｄ変換の動作を
行わないようにする。
出信号を受けた場合には、その検出信号から所定の時間
△Ｔの間にＸ線発生検出装置６から次の検出信号があっ
たときにはパイルアップが発生したと判断して、波形整
形回路３を制御して波形整形の動作を行わないようにし
たり、あるいはＡＤＣ４を制御してＡ／Ｄ変換の動作を
行わないようにする。
【００１６】ここで、上記の所定の時間△Ｔは、波形整
形回路３において前置増幅器２から階段波の一つのステ
ップが入力されてから当該ステップに対する波形整形が
終了するまでに要する時間であり、通常プロセスタイム
と称されている。このプロセスタイム△Ｔは波形整形回
路３の整形時定数に応じて決定されるものであることは
当然である。
形回路３において前置増幅器２から階段波の一つのステ
ップが入力されてから当該ステップに対する波形整形が
終了するまでに要する時間であり、通常プロセスタイム
と称されている。このプロセスタイム△Ｔは波形整形回
路３の整形時定数に応じて決定されるものであることは
当然である。
【００１７】以上の動作が行われることによって、パイ
ルアップされたパルスを除外するようにしているのであ
る。
ルアップされたパルスを除外するようにしているのであ
る。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、Ｘ線発生検
出装置６は図９に示すように、波形整形回路８と、弁別
回路９とで構成されている。波形整形回路８は波形整形
回路３と同様の構成を備えており、前置増幅器２から入
力される階段波の各ステップを、各々のステップの高さ
に比例したピーク値を有する孤立したパルスに変換する
機能を有するものである。また、弁別回路９は波形整形
回路８から出力されたパルスのレベルと、予め設定され
ている閾値ＶREF とを比較し、波形整形回路８からの出
力パルスのレベルが増加しているときに閾値ＶREF を越
えたときに検出信号ＶOUT を出力するものである。
出装置６は図９に示すように、波形整形回路８と、弁別
回路９とで構成されている。波形整形回路８は波形整形
回路３と同様の構成を備えており、前置増幅器２から入
力される階段波の各ステップを、各々のステップの高さ
に比例したピーク値を有する孤立したパルスに変換する
機能を有するものである。また、弁別回路９は波形整形
回路８から出力されたパルスのレベルと、予め設定され
ている閾値ＶREF とを比較し、波形整形回路８からの出
力パルスのレベルが増加しているときに閾値ＶREF を越
えたときに検出信号ＶOUT を出力するものである。
【００１９】以上のように、Ｘ線発生検出装置６には波
形整形回路３と同様な構成の波形整形回路８が用いられ
るのであり、従って波形整形回路８は整形時定数を有す
ることになるが、この整形時定数がＸ線の検出に際して
重要な要素となる。
形整形回路３と同様な構成の波形整形回路８が用いられ
るのであり、従って波形整形回路８は整形時定数を有す
ることになるが、この整形時定数がＸ線の検出に際して
重要な要素となる。
【００２０】即ち、Ｘ線の検出という目的からすれば、
複数個のＸ線が極めて近接した時間内に入射した場合に
も各々のＸ線を検出できることが望まれることは当然で
あり、そのためには波形整形回路８の整形時定数を短く
すればよいことは明らかであるが、整形時定数を短くす
ると波形整形回路８のＳ／Ｎが劣化し、平均的なノイズ
レベルが高くなってしまう。
複数個のＸ線が極めて近接した時間内に入射した場合に
も各々のＸ線を検出できることが望まれることは当然で
あり、そのためには波形整形回路８の整形時定数を短く
すればよいことは明らかであるが、整形時定数を短くす
ると波形整形回路８のＳ／Ｎが劣化し、平均的なノイズ
レベルが高くなってしまう。
【００２１】そして、平均的なノイズレベルが高くなる
と弁別回路９の閾値ＶREF をそれに応じて高く設定しな
ければならなくなり、そのために低エネルギーのＸ線を
検出することが難しくなるという問題が生じる。即ち、
上述したように低エネルギーのＸ線に対応する階段波の
ステップの高さは小さく、従って波形整形回路８で変換
されたパルスのピーク値が小さいので、弁別回路９の閾
値ＶREF のレベルが高くなると低エネルギーのＸ線に対
応するパルスの検出が難しくなるのである。
と弁別回路９の閾値ＶREF をそれに応じて高く設定しな
ければならなくなり、そのために低エネルギーのＸ線を
検出することが難しくなるという問題が生じる。即ち、
上述したように低エネルギーのＸ線に対応する階段波の
ステップの高さは小さく、従って波形整形回路８で変換
されたパルスのピーク値が小さいので、弁別回路９の閾
値ＶREF のレベルが高くなると低エネルギーのＸ線に対
応するパルスの検出が難しくなるのである。
【００２２】これに対して、波形整形回路８の整形時定
数を長くすればＳ／Ｎは良好となるので弁別回路９の閾
値ＶREF を低いレベルに設定することができ、それに応
じて低エネルギーのＸ線をも検出することができるよう
になるが、この場合には波形整形回路８のプロセスタイ
ムが長くなるので、複数個のＸ線が極めて近接した時間
内に入射した場合に各々のＸ線を検出することが難しく
なるという問題が生じる。また、この場合にはＸ線が入
射してからそれを検出するまでに時間が掛かるという問
題もある。
数を長くすればＳ／Ｎは良好となるので弁別回路９の閾
値ＶREF を低いレベルに設定することができ、それに応
じて低エネルギーのＸ線をも検出することができるよう
になるが、この場合には波形整形回路８のプロセスタイ
ムが長くなるので、複数個のＸ線が極めて近接した時間
内に入射した場合に各々のＸ線を検出することが難しく
なるという問題が生じる。また、この場合にはＸ線が入
射してからそれを検出するまでに時間が掛かるという問
題もある。
【００２３】このことを図１０、図１１を参照して説明
する。なお、図１０、図１１において、（ａ）は前置増
幅器２から出力された階段波を示し、（ｂ）は波形整形
回路８の出力パルス及び弁別回路９の閾値ＶREF を示
し、（ｃ）は弁別回路９から出力される検出信号ＶOUT
を示す。また、△Ｔ′は波形整形回路８のプロセスタイ
ムを示す。
する。なお、図１０、図１１において、（ａ）は前置増
幅器２から出力された階段波を示し、（ｂ）は波形整形
回路８の出力パルス及び弁別回路９の閾値ＶREF を示
し、（ｃ）は弁別回路９から出力される検出信号ＶOUT
を示す。また、△Ｔ′は波形整形回路８のプロセスタイ
ムを示す。
【００２４】波形整形回路８の整形時定数を長くした場
合にはＳ／Ｎが良好であるので、弁別回路９の閾値Ｖ
REF は図１０（ｂ）、図１１（ｂ）に示すように波形整
形回路８の出力パルスのベースレベルに極めて近接した
レベルに設定することができ、従って低エネルギーのＸ
線をも検出することが可能であることは明らかである。
合にはＳ／Ｎが良好であるので、弁別回路９の閾値Ｖ
REF は図１０（ｂ）、図１１（ｂ）に示すように波形整
形回路８の出力パルスのベースレベルに極めて近接した
レベルに設定することができ、従って低エネルギーのＸ
線をも検出することが可能であることは明らかである。
【００２５】さて、いま、図１０（ａ）に示すようにｔ
6 のときに階段波の一つのステップが入力されたとする
と、波形整形回路８は波形整形動作を開始する。そし
て、その出力パルスのレベルが増加して閾値ＶREF を越
えると弁別回路９は図１０（ｃ）に示すように検出信号
ＶOUT1を出力する。その後、当該階段波に対する波形整
形動作が終了した後、前のステップからＴ1 （≧△
Ｔ′）時間後（ｔ7 ）に次のステップが入力されると、
波形整形回路８は再び波形整形動作を開始する。そし
て、その出力パルスのレベルが増加して閾値ＶREF を越
えると弁別回路９は図１０（ｃ）に示すように検出信号
ＶOUT2を出力する。
6 のときに階段波の一つのステップが入力されたとする
と、波形整形回路８は波形整形動作を開始する。そし
て、その出力パルスのレベルが増加して閾値ＶREF を越
えると弁別回路９は図１０（ｃ）に示すように検出信号
ＶOUT1を出力する。その後、当該階段波に対する波形整
形動作が終了した後、前のステップからＴ1 （≧△
Ｔ′）時間後（ｔ7 ）に次のステップが入力されると、
波形整形回路８は再び波形整形動作を開始する。そし
て、その出力パルスのレベルが増加して閾値ＶREF を越
えると弁別回路９は図１０（ｃ）に示すように検出信号
ＶOUT2を出力する。
【００２６】このように、引き続いて入力される階段波
の二つのステップの時間間隔が波形整形回路８のプロセ
スタイム△Ｔ′以上であれば、これらのＸ線を検出する
ことができるのである。
の二つのステップの時間間隔が波形整形回路８のプロセ
スタイム△Ｔ′以上であれば、これらのＸ線を検出する
ことができるのである。
【００２７】これに対して、図１１に示すように、ｔ8
のときに一つのステップが入力されたとすると波形整形
回路８は波形整形動作を開始する。そして、その出力パ
ルスのレベルが増加して閾値ＶREF を越えると弁別回路
９は図１１（ｃ）に示すように検出信号ＶOUT1を出力す
る。その後、当該ステップに対する波形整形動作が終了
する前、前のステップからＴ2 （＜△Ｔ′）時間後（ｔ
9 ）に次のステップが入力されたとする。このとき、波
形整形回路８はこの時点では未だ波形整形動作を終了し
ておらず、波形整形回路８の出力レベルは閾値ＶREF 以
下になっていない。そして、波形整形回路８はｔ9 の時
点から２番目のステップに対する波形整形動作を行うの
で、結局、波形整形回路８の出力レベルは、この２番目
のステップに対する波形整形動作が終了する間際まで閾
値ＶREF 以下になることはなく、２番目の階段波は検出
されないことになる。
のときに一つのステップが入力されたとすると波形整形
回路８は波形整形動作を開始する。そして、その出力パ
ルスのレベルが増加して閾値ＶREF を越えると弁別回路
９は図１１（ｃ）に示すように検出信号ＶOUT1を出力す
る。その後、当該ステップに対する波形整形動作が終了
する前、前のステップからＴ2 （＜△Ｔ′）時間後（ｔ
9 ）に次のステップが入力されたとする。このとき、波
形整形回路８はこの時点では未だ波形整形動作を終了し
ておらず、波形整形回路８の出力レベルは閾値ＶREF 以
下になっていない。そして、波形整形回路８はｔ9 の時
点から２番目のステップに対する波形整形動作を行うの
で、結局、波形整形回路８の出力レベルは、この２番目
のステップに対する波形整形動作が終了する間際まで閾
値ＶREF 以下になることはなく、２番目の階段波は検出
されないことになる。
【００２８】このように、引き続いて入力される階段波
の二つのステップの時間間隔が波形整形回路８のプロセ
スタイム△Ｔ′未満であるときには、２番目のＸ線は検
出されないのである。このことは、引き続いて入力され
る階段波の二つのステップを検出できるのは、これら二
つのステップの時間間隔が波形整形回路８のプロセスタ
イム△Ｔ′以上である場合に限られることを意味し、こ
のプロセスタイム△Ｔ′は整形時定数が長くなる程長く
なるので、結局波形整形回路８の整形時定数を長くする
とＸ線を検出できる周期、即ち時間間隔は長くなってし
まうのである。
の二つのステップの時間間隔が波形整形回路８のプロセ
スタイム△Ｔ′未満であるときには、２番目のＸ線は検
出されないのである。このことは、引き続いて入力され
る階段波の二つのステップを検出できるのは、これら二
つのステップの時間間隔が波形整形回路８のプロセスタ
イム△Ｔ′以上である場合に限られることを意味し、こ
のプロセスタイム△Ｔ′は整形時定数が長くなる程長く
なるので、結局波形整形回路８の整形時定数を長くする
とＸ線を検出できる周期、即ち時間間隔は長くなってし
まうのである。
【００２９】Ｘ線発生検出装置６としては、Ｘ線が入射
してから検出までに要する時間が短いこと、複数個のＸ
線が極めて近接した時間内に入射した場合にも各々のＸ
線を検出できること、そして低エネルギーのＸ線をも検
出できることが要求されるのであるが、上述したよう
に、従来のものにおいては、波形整形回路８の整形時定
数を短くして複数個のＸ線が極めて近接した時間内に入
射した場合にも各々のＸ線を検出できるようにすれば低
エネルギーのＸ線を検出することが難しくなり、また逆
に、整形時定数を長くして低エネルギーのＸ線をも検出
可能とすると、複数個のＸ線が極めて近接した時間内に
入射した場合に各々のＸ線を検出することが難しくな
り、更にＸ線が入射してからそれを検出するまでに時間
が掛かるものであった。
してから検出までに要する時間が短いこと、複数個のＸ
線が極めて近接した時間内に入射した場合にも各々のＸ
線を検出できること、そして低エネルギーのＸ線をも検
出できることが要求されるのであるが、上述したよう
に、従来のものにおいては、波形整形回路８の整形時定
数を短くして複数個のＸ線が極めて近接した時間内に入
射した場合にも各々のＸ線を検出できるようにすれば低
エネルギーのＸ線を検出することが難しくなり、また逆
に、整形時定数を長くして低エネルギーのＸ線をも検出
可能とすると、複数個のＸ線が極めて近接した時間内に
入射した場合に各々のＸ線を検出することが難しくな
り、更にＸ線が入射してからそれを検出するまでに時間
が掛かるものであった。
【００３０】そこで、本発明は、Ｘ線が入射してから検
出までに要する時間が短く、複数個のＸ線が極めて近接
した時間内に入射した場合にも各々のＸ線を検出でき、
しかも低エネルギーのＸ線をも検出することができるＸ
線発生検出装置を提供することを目的とするものであ
る。
出までに要する時間が短く、複数個のＸ線が極めて近接
した時間内に入射した場合にも各々のＸ線を検出でき、
しかも低エネルギーのＸ線をも検出することができるＸ
線発生検出装置を提供することを目的とするものであ
る。
【００３１】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１記載のＸ線発生検出装置は、各ステップ
の高さが入射したＸ線のエネルギーに対応した階段波
を、その階段波の各ステップの高さに対応した高さを有
するガウス波、三角波、台形波等の所定の波形のパルス
に変換する波形整形回路と、波形整形回路から出力され
たパルスのレベルが増加して閾値レベルを越えたときに
検出信号を出力する弁別回路とを備え、弁別回路の検出
信号によって波形整形回路の波形整形動作をリセットす
ることを特徴とする。
めに、請求項１記載のＸ線発生検出装置は、各ステップ
の高さが入射したＸ線のエネルギーに対応した階段波
を、その階段波の各ステップの高さに対応した高さを有
するガウス波、三角波、台形波等の所定の波形のパルス
に変換する波形整形回路と、波形整形回路から出力され
たパルスのレベルが増加して閾値レベルを越えたときに
検出信号を出力する弁別回路とを備え、弁別回路の検出
信号によって波形整形回路の波形整形動作をリセットす
ることを特徴とする。
【００３２】また、請求項２記載のＸ線発生検出装置
は、各ステップの高さが入射したＸ線のエネルギーに対
応した階段波を、その階段波の各ステップの高さに対応
した高さを有するガウス波、三角波、台形波等の所定の
波形のパルスに変換する整形時定数が異ならされた複数
の波形整形回路と、各波形整形回路に対応して設けら
れ、対応する波形整形回路から出力されたパルスのレベ
ルが増加して閾値レベルを越えたときに検出信号を出力
する弁別回路とを備え、いずれか一つの弁別回路から検
出信号が出力された場合には、所定の波形整形回路の波
形整形動作をリセットすることを特徴とする。
は、各ステップの高さが入射したＸ線のエネルギーに対
応した階段波を、その階段波の各ステップの高さに対応
した高さを有するガウス波、三角波、台形波等の所定の
波形のパルスに変換する整形時定数が異ならされた複数
の波形整形回路と、各波形整形回路に対応して設けら
れ、対応する波形整形回路から出力されたパルスのレベ
ルが増加して閾値レベルを越えたときに検出信号を出力
する弁別回路とを備え、いずれか一つの弁別回路から検
出信号が出力された場合には、所定の波形整形回路の波
形整形動作をリセットすることを特徴とする。
【００３３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ実施の形
態について説明する。図１は本発明に係るＸ線発生検出
装置の第１の実施形態を示す図であり、図中、１０は波
形整形回路、１１は弁別回路、１２はリセット信号発生
回路を示す。
態について説明する。図１は本発明に係るＸ線発生検出
装置の第１の実施形態を示す図であり、図中、１０は波
形整形回路、１１は弁別回路、１２はリセット信号発生
回路を示す。
【００３４】波形整形回路１０は、図６の波形整形回路
３と同様の構成を備えており、前置増幅器２から入力さ
れる階段波の各ステップを、各々のステップの高さに比
例したピーク値を有する孤立したパルスに変換する機能
を有するものである。弁別回路１１は、波形整形回路１
０から出力されたパルスのレベルと、予め設定されてい
る閾値ＶREF とを比較し、波形整形回路１０からの出力
パルスのレベルが増加しているときに閾値ＶREF を越え
たときに検出信号ＶOUT を出力する。また、リセット信
号発生回路１２は、弁別回路１１から出力される検出信
号ＶOUT に基づいてリセット信号を生成して波形整形回
路１０に出力する。つまり、このＸ線発生検出装置は、
図９に示す従来のＸ線発生検出装置にリセット信号発生
回路１２を付加した構成となっている。
３と同様の構成を備えており、前置増幅器２から入力さ
れる階段波の各ステップを、各々のステップの高さに比
例したピーク値を有する孤立したパルスに変換する機能
を有するものである。弁別回路１１は、波形整形回路１
０から出力されたパルスのレベルと、予め設定されてい
る閾値ＶREF とを比較し、波形整形回路１０からの出力
パルスのレベルが増加しているときに閾値ＶREF を越え
たときに検出信号ＶOUT を出力する。また、リセット信
号発生回路１２は、弁別回路１１から出力される検出信
号ＶOUT に基づいてリセット信号を生成して波形整形回
路１０に出力する。つまり、このＸ線発生検出装置は、
図９に示す従来のＸ線発生検出装置にリセット信号発生
回路１２を付加した構成となっている。
【００３５】図２に波形整形回路１０の構成例を示す。
図２は初段の微分回路と、その後段に２段の積分回路を
備える波形整形回路の構成例であり、図中、１３は微分
回路、１４、１５は積分回路、１６は演算増幅器、１７
〜２１はスイッチを示す。図２において、スイッチ１７
〜２１は例えばトランジスタで構成され、リセット信号
発生回路１２からのリセット信号によって導通し、各コ
ンデンサに蓄積された電荷を放電するようになされてお
り、このことによって波形整形回路１０の波形整形動作
をリセットするように構成されている。
図２は初段の微分回路と、その後段に２段の積分回路を
備える波形整形回路の構成例であり、図中、１３は微分
回路、１４、１５は積分回路、１６は演算増幅器、１７
〜２１はスイッチを示す。図２において、スイッチ１７
〜２１は例えばトランジスタで構成され、リセット信号
発生回路１２からのリセット信号によって導通し、各コ
ンデンサに蓄積された電荷を放電するようになされてお
り、このことによって波形整形回路１０の波形整形動作
をリセットするように構成されている。
【００３６】図１に示すＸ線発生検出装置の動作を図３
のタイミングチャートを参照して説明する。図３におい
て、（ａ）は波形整形回路１０に入力される階段波を示
し、（ｂ）は波形整形回路１０の出力パルスのレベルと
弁別回路１１の閾値ＶREF の関係を示し、（ｃ）は弁別
回路１１の出力である検出信号ＶOUT を示し、（ｄ）は
リセット信号発生回路１２の出力であるリセット信号を
示す。
のタイミングチャートを参照して説明する。図３におい
て、（ａ）は波形整形回路１０に入力される階段波を示
し、（ｂ）は波形整形回路１０の出力パルスのレベルと
弁別回路１１の閾値ＶREF の関係を示し、（ｃ）は弁別
回路１１の出力である検出信号ＶOUT を示し、（ｄ）は
リセット信号発生回路１２の出力であるリセット信号を
示す。
【００３７】いま、図３（ａ）に示すようにｔ1 のとき
に階段波の一つのステップが入力されたとすると、波形
整形回路１０は波形整形動作を開始する。そして、その
出力パルスのレベルが増加してｔ2 のときに閾値ＶREF
を越えると弁別回路１１は図３（ｃ）のイで示すように
検出信号ＶOUT を出力する。この検出信号ＶOUT に基づ
いてリセット信号発生回路１２は図３（ｄ）のロで示す
ようにリセット信号を出力するので波形整形回路１０は
リセットされ、波形整形動作は停止される。このとき波
形整形回路１０の出力レベルはパルスのベースラインレ
ベルになることは当然である。
に階段波の一つのステップが入力されたとすると、波形
整形回路１０は波形整形動作を開始する。そして、その
出力パルスのレベルが増加してｔ2 のときに閾値ＶREF
を越えると弁別回路１１は図３（ｃ）のイで示すように
検出信号ＶOUT を出力する。この検出信号ＶOUT に基づ
いてリセット信号発生回路１２は図３（ｄ）のロで示す
ようにリセット信号を出力するので波形整形回路１０は
リセットされ、波形整形動作は停止される。このとき波
形整形回路１０の出力レベルはパルスのベースラインレ
ベルになることは当然である。
【００３８】その後、ｔ3 のときに階段波の次のステッ
プが入力されたとすると、波形整形回路１０は再び波形
整形動作を開始し、その出力パルスのレベルが増加して
ｔ4のときに閾値ＶREF を越えたとすると弁別回路１１
は図３（ｃ）のハで示すように検出信号ＶOUT を出力す
る。この検出信号ＶOUT に基づいてリセット信号発生回
路１２は図３（ｄ）のニで示すようにリセット信号を出
力するので波形整形回路１０はリセットされ、波形整形
動作は停止される。以下、階段波のステップが入力され
る度毎に上記の動作を行う。
プが入力されたとすると、波形整形回路１０は再び波形
整形動作を開始し、その出力パルスのレベルが増加して
ｔ4のときに閾値ＶREF を越えたとすると弁別回路１１
は図３（ｃ）のハで示すように検出信号ＶOUT を出力す
る。この検出信号ＶOUT に基づいてリセット信号発生回
路１２は図３（ｄ）のニで示すようにリセット信号を出
力するので波形整形回路１０はリセットされ、波形整形
動作は停止される。以下、階段波のステップが入力され
る度毎に上記の動作を行う。
【００３９】以上のように、このＸ線発生検出装置によ
れば、波形整形回路１０はＸ線が検出されると直ちにリ
セットされ、波形整形動作が停止されて次のステップの
入力に備えることができるので、波形整形回路１０の整
形時定数を長く設定したとしても、従来に比較してより
短い時間間隔で入射したＸ線を検出することが可能とな
る。
れば、波形整形回路１０はＸ線が検出されると直ちにリ
セットされ、波形整形動作が停止されて次のステップの
入力に備えることができるので、波形整形回路１０の整
形時定数を長く設定したとしても、従来に比較してより
短い時間間隔で入射したＸ線を検出することが可能とな
る。
【００４０】即ち、上述した動作から明らかなように、
図１の構成では、引き続いて入力される階段波の二つの
ステップの時間間隔、即ちＸ線が入射する時間間隔が、
波形整形動作が開始されてからリセットされるまでの時
間以上であればよく、従来のものが波形整形回路１０の
プロセスタイム以上であることと比較すれば大幅に短く
することができることは明らかであろう。
図１の構成では、引き続いて入力される階段波の二つの
ステップの時間間隔、即ちＸ線が入射する時間間隔が、
波形整形動作が開始されてからリセットされるまでの時
間以上であればよく、従来のものが波形整形回路１０の
プロセスタイム以上であることと比較すれば大幅に短く
することができることは明らかであろう。
【００４１】以上、本発明に係るＸ線発生検出装置の第
１の実施形態について説明したが、次に図４を参照して
第２の実施形態について説明する。図４において、２
０、２１は波形整形回路、２２、２３は弁別回路、２４
は論理和回路、２５はリセット信号発生回路を示す。
１の実施形態について説明したが、次に図４を参照して
第２の実施形態について説明する。図４において、２
０、２１は波形整形回路、２２、２３は弁別回路、２４
は論理和回路、２５はリセット信号発生回路を示す。
【００４２】波形整形回路２０、２１は、前置増幅器か
ら入力される階段波の各ステップを、各々のステップの
高さに比例したピーク値を有する孤立したパルスに変換
する機能を有するものであり、共に同じ構成を有してい
るが整形時定数は互いに異ならされている。ここでは波
形整形回路２０の整形時定数は波形整形回路２１の整形
時定数より短く設定されているものとする。
ら入力される階段波の各ステップを、各々のステップの
高さに比例したピーク値を有する孤立したパルスに変換
する機能を有するものであり、共に同じ構成を有してい
るが整形時定数は互いに異ならされている。ここでは波
形整形回路２０の整形時定数は波形整形回路２１の整形
時定数より短く設定されているものとする。
【００４３】弁別回路２２は、波形整形回路２０から出
力されたパルスのレベルと、予め設定されている閾値Ｖ
REF1とを比較し、波形整形回路２０からの出力パルスの
レベルが増加しているときに閾値ＶREF1を越えたときに
検出信号を出力する。また、弁別回路２３は、波形整形
回路２１から出力されたパルスのレベルと、予め設定さ
れている閾値ＶREF2とを比較し、波形整形回路２１から
の出力パルスのレベルが増加しているときに閾値ＶREF2
を越えたときに検出信号を出力する。上述したようにこ
こでは波形整形回路２０の整形時定数は波形整形回路２
１の整形時定数より短く設定されているものとしている
ので、ＶREF1＞ＶREF2となる。
力されたパルスのレベルと、予め設定されている閾値Ｖ
REF1とを比較し、波形整形回路２０からの出力パルスの
レベルが増加しているときに閾値ＶREF1を越えたときに
検出信号を出力する。また、弁別回路２３は、波形整形
回路２１から出力されたパルスのレベルと、予め設定さ
れている閾値ＶREF2とを比較し、波形整形回路２１から
の出力パルスのレベルが増加しているときに閾値ＶREF2
を越えたときに検出信号を出力する。上述したようにこ
こでは波形整形回路２０の整形時定数は波形整形回路２
１の整形時定数より短く設定されているものとしている
ので、ＶREF1＞ＶREF2となる。
【００４４】弁別回路２２、２３の検出信号は論理和回
路２４で論理和演算がなされ、合成検出信号ＶOUT とし
て出力される。リセット信号発生回路２５は、論理和回
路２４から出力される合成検出信号ＶOUT に基づいてリ
セット信号を生成して波形整形回路２１に出力する。従
って、波形整形回路２１は図２に示す構成と同じでよ
く、波形整形回路２０は図２の構成からスイッチ１７〜
２１を除いた構成とすればよい。
路２４で論理和演算がなされ、合成検出信号ＶOUT とし
て出力される。リセット信号発生回路２５は、論理和回
路２４から出力される合成検出信号ＶOUT に基づいてリ
セット信号を生成して波形整形回路２１に出力する。従
って、波形整形回路２１は図２に示す構成と同じでよ
く、波形整形回路２０は図２の構成からスイッチ１７〜
２１を除いた構成とすればよい。
【００４５】図４に示すＸ線発生検出装置の動作を図５
のタイミングチャートを参照して説明する。図５におい
て、（ａ）は波形整形回路２０、２１に入力される階段
波を示し、（ｂ）は波形整形回路２０の出力パルスのレ
ベルと弁別回路２２の閾値ＶREF1の関係を示し、（ｃ）
は弁別回路２２から出力される検出信号を示し、（ｄ）
は波形整形回路２１の出力パルスのレベルと弁別回路２
３の閾値ＶREF2の関係を示し、（ｅ）は弁別回路２３か
ら出力される検出信号を示し、（ｆ）は論理和回路２４
の出力である合成検出信号ＶOUT を示す。
のタイミングチャートを参照して説明する。図５におい
て、（ａ）は波形整形回路２０、２１に入力される階段
波を示し、（ｂ）は波形整形回路２０の出力パルスのレ
ベルと弁別回路２２の閾値ＶREF1の関係を示し、（ｃ）
は弁別回路２２から出力される検出信号を示し、（ｄ）
は波形整形回路２１の出力パルスのレベルと弁別回路２
３の閾値ＶREF2の関係を示し、（ｅ）は弁別回路２３か
ら出力される検出信号を示し、（ｆ）は論理和回路２４
の出力である合成検出信号ＶOUT を示す。
【００４６】いま、図５（ａ）に示すようにｔ1 のとき
に階段波の一つのステップが入力されたとする。このス
テップの高さは高いので、エネルギーが高いＸ線が入射
した場合を示している。このとき波形整形回路２０、２
１は共に波形整形動作を開始するが、波形整形回路２０
の方が整形時定数が短いので、その出力レベルは波形整
形回路２１の出力レベルよりも速く高くなり、弁別回路
２２の閾値ＶREF1に達する（ｔ2 ）。このことにより図
５（ｃ）のイで示すように弁別回路２２から検出信号が
出力され、図５（ｆ）のロで示すようにこの検出信号が
論理和回路２４から合成検出信号ＶOUT として出力され
る。
に階段波の一つのステップが入力されたとする。このス
テップの高さは高いので、エネルギーが高いＸ線が入射
した場合を示している。このとき波形整形回路２０、２
１は共に波形整形動作を開始するが、波形整形回路２０
の方が整形時定数が短いので、その出力レベルは波形整
形回路２１の出力レベルよりも速く高くなり、弁別回路
２２の閾値ＶREF1に達する（ｔ2 ）。このことにより図
５（ｃ）のイで示すように弁別回路２２から検出信号が
出力され、図５（ｆ）のロで示すようにこの検出信号が
論理和回路２４から合成検出信号ＶOUT として出力され
る。
【００４７】そして、リセット信号発生回路２５はこの
合成検出信号ＶOUT に基づいてリセット信号を生成して
波形整形回路２１に供給するので、波形整形回路２１は
リセットされ、その出力レベルは出力パルスのベースラ
インレベルに戻されることになる。
合成検出信号ＶOUT に基づいてリセット信号を生成して
波形整形回路２１に供給するので、波形整形回路２１は
リセットされ、その出力レベルは出力パルスのベースラ
インレベルに戻されることになる。
【００４８】その後、当該ステップに対する波形整形回
路２０の波形整形動作が終了した後、図５（ａ）に示す
ようにｔ3 のときに階段波の次のステップが入力された
とする。図ではこのステップの高さは低いので、エネル
ギーが低いＸ線が入射した場合を示している。このとき
波形整形回路２０、２１は共に波形整形動作を開始する
が、入射Ｘ線のエネルギーが小さいので波形整形回路２
０の出力レベルは弁別回路２２の閾値ＶREF1には達せ
ず、波形整形回路２１の出力レベルが弁別回路２３の閾
値ＶREF2に達する（ｔ4 ）。このことにより図５（ｄ）
のハで示すように弁別回路２３から検出信号が出力さ
れ、図５（ｆ）のニで示すようにこの検出信号が論理和
回路２４から合成検出信号ＶOUT として出力される。
路２０の波形整形動作が終了した後、図５（ａ）に示す
ようにｔ3 のときに階段波の次のステップが入力された
とする。図ではこのステップの高さは低いので、エネル
ギーが低いＸ線が入射した場合を示している。このとき
波形整形回路２０、２１は共に波形整形動作を開始する
が、入射Ｘ線のエネルギーが小さいので波形整形回路２
０の出力レベルは弁別回路２２の閾値ＶREF1には達せ
ず、波形整形回路２１の出力レベルが弁別回路２３の閾
値ＶREF2に達する（ｔ4 ）。このことにより図５（ｄ）
のハで示すように弁別回路２３から検出信号が出力さ
れ、図５（ｆ）のニで示すようにこの検出信号が論理和
回路２４から合成検出信号ＶOUT として出力される。
【００４９】そして、リセット信号発生回路２５はこの
合成検出信号ＶOUT に基づいてリセット信号を生成して
波形整形回路２１に供給するので、波形整形回路２１は
リセットされ、その出力レベルは出力パルスのベースラ
インレベルに戻される。以下、階段波のステップが入力
される度毎に上記の動作が行われる。
合成検出信号ＶOUT に基づいてリセット信号を生成して
波形整形回路２１に供給するので、波形整形回路２１は
リセットされ、その出力レベルは出力パルスのベースラ
インレベルに戻される。以下、階段波のステップが入力
される度毎に上記の動作が行われる。
【００５０】以上のように、図４に示すＸ線発生検出装
置によれば、整形時定数が異なる二つの波形整形回路が
設けられているので、エネルギーの高いＸ線は整形時定
数が短い方の波形整形回路２０で短時間で検出すること
ができ、またエネルギーが低いＸ線は整形時定数が長い
方の波形整形回路２１によって検出することができる。
更に、整形時定数が長い波形整形回路２１はＸ線が検出
されると直ちにリセットされ、波形整形動作が停止され
て次のステップ入力に備えることができるので、Ｘ線の
検出周期、即ち検出時間間隔を短縮することが可能とな
る。
置によれば、整形時定数が異なる二つの波形整形回路が
設けられているので、エネルギーの高いＸ線は整形時定
数が短い方の波形整形回路２０で短時間で検出すること
ができ、またエネルギーが低いＸ線は整形時定数が長い
方の波形整形回路２１によって検出することができる。
更に、整形時定数が長い波形整形回路２１はＸ線が検出
されると直ちにリセットされ、波形整形動作が停止され
て次のステップ入力に備えることができるので、Ｘ線の
検出周期、即ち検出時間間隔を短縮することが可能とな
る。
【００５１】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能である。例えば、図４に示す実施形態で
は整形時定数が異なる波形整形回路を二つ備えるものと
したが、より多くの波形整形回路を備えるようにしても
よいことは当然である。その場合においてもそれらの波
形整形回路の整形時定数を互いに異ならせるのは当然で
ある。また、図４に示す実施形態では波形整形回路２１
のみをリセット信号でリセットするものとしたが、これ
は波形整形回路２０の整形時定数がリセットする必要の
ない程度に短いものとしているからであり、リセットす
るのが望ましいのであればリセット信号によってリセッ
トするようにしてもよいことは当然である。
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能である。例えば、図４に示す実施形態で
は整形時定数が異なる波形整形回路を二つ備えるものと
したが、より多くの波形整形回路を備えるようにしても
よいことは当然である。その場合においてもそれらの波
形整形回路の整形時定数を互いに異ならせるのは当然で
ある。また、図４に示す実施形態では波形整形回路２１
のみをリセット信号でリセットするものとしたが、これ
は波形整形回路２０の整形時定数がリセットする必要の
ない程度に短いものとしているからであり、リセットす
るのが望ましいのであればリセット信号によってリセッ
トするようにしてもよいことは当然である。
【００５２】更に、より多くの波形整形回路を備えた場
合にあって、リセットしない波形整形回路が複数存在す
るような場合には、図４に示した論理和回路２４は、同
一のＸ線により複数の検出信号が出力されないように制
御される優先順位回路とすることもできる。
合にあって、リセットしない波形整形回路が複数存在す
るような場合には、図４に示した論理和回路２４は、同
一のＸ線により複数の検出信号が出力されないように制
御される優先順位回路とすることもできる。
【図１】 本発明に係るＸ線発生検出装置の第１の実施
形態を示す図である。
形態を示す図である。
【図２】 図１の波形整形回路１０の構成例を示す図で
ある。
ある。
【図３】 図１に示すＸ線発生検出装置の動作を説明す
るためのタイミングチャートである。
るためのタイミングチャートである。
【図４】 本発明に係るＸ線発生検出装置の第２の実施
形態を示す図である。
形態を示す図である。
【図５】 図４に示すＸ線発生検出装置の動作を説明す
るためのタイミングチャートである。
るためのタイミングチャートである。
【図６】 半導体検出器を用いたＸ線測定装置の構成例
を示す図である。
を示す図である。
【図７】 図６の波形整形回路３の動作を説明するため
の図である。
の図である。
【図８】 パイルアップを説明するための図である。
【図９】 従来のＸ線発生検出装置の構成例を示す図で
ある。
ある。
【図１０】 従来のＸ線発生検出装置の動作を説明する
ための図である。
ための図である。
【図１１】 従来のＸ線発生検出装置の動作を説明する
ための図である。
ための図である。
１…半導体検出器、２…前置増幅器、３…波形整形回
路、４…Ａ／Ｄ変換器、５…マルチ・チャンネル・アナ
ライザ、６…Ｘ線発生検出装置、７…制御装置、８…波
形整形回路、９…弁別回路、１０…波形整形回路、１１
…弁別回路、１２…リセット信号発生回路、１３…微分
回路、１４、１５…積分回路、１６…演算増幅器、１７
〜２１…スイッチ、２０、２１…波形整形回路、２２、
２３…弁別回路、２４…論理和回路、２５…リセット信
号発生回路。
路、４…Ａ／Ｄ変換器、５…マルチ・チャンネル・アナ
ライザ、６…Ｘ線発生検出装置、７…制御装置、８…波
形整形回路、９…弁別回路、１０…波形整形回路、１１
…弁別回路、１２…リセット信号発生回路、１３…微分
回路、１４、１５…積分回路、１６…演算増幅器、１７
〜２１…スイッチ、２０、２１…波形整形回路、２２、
２３…弁別回路、２４…論理和回路、２５…リセット信
号発生回路。
Claims (2)
- 【請求項１】各ステップの高さが入射したＸ線のエネル
ギーに対応した階段波を、その階段波の各ステップの高
さに対応した高さを有するガウス波、三角波、台形波等
の所定の波形のパルスに変換する波形整形回路と、 波形整形回路から出力されたパルスのレベルが増加して
閾値レベルを越えたときに検出信号を出力する弁別回路
とを備え、 弁別回路の検出信号によって波形整形回路の波形整形動
作をリセットすることを特徴とするＸ線発生検出装置。 - 【請求項２】各ステップの高さが入射したＸ線のエネル
ギーに対応した階段波を、その階段波の各ステップの高
さに対応した高さを有するガウス波、三角波、台形波等
の所定の波形のパルスに変換する整形時定数が異ならさ
れた複数の波形整形回路と、 各波形整形回路に対応して設けられ、対応する波形整形
回路から出力されたパルスのレベルが増加して閾値レベ
ルを越えたときに検出信号を出力する弁別回路とを備
え、 いずれか一つの弁別回路から検出信号が出力された場合
には、所定の波形整形回路の波形整形動作をリセットす
ることを特徴とするＸ線発生検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2287497A JPH10221455A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Ｘ線発生検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2287497A JPH10221455A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Ｘ線発生検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10221455A true JPH10221455A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=12094848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2287497A Withdrawn JPH10221455A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Ｘ線発生検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10221455A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003021682A1 (fr) * | 2001-08-30 | 2003-03-13 | Acrorad Co., Ltd. | Detecteur d'images radiologiques |
| JP2008023331A (ja) * | 2006-07-20 | 2008-02-07 | General Electric Co <Ge> | イメージング・システム用の適応型データ取得 |
| JP2013015475A (ja) * | 2011-07-06 | 2013-01-24 | Shimadzu Corp | Ｘ線検出器 |
| WO2015114740A1 (ja) * | 2014-01-28 | 2015-08-06 | 株式会社島津製作所 | 放射線検出器 |
| WO2017006513A1 (en) * | 2015-07-08 | 2017-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation imaging apparatus, control method thereof, and program |
| JP2021124475A (ja) * | 2020-02-10 | 2021-08-30 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分析装置 |
| WO2022162976A1 (ja) * | 2021-01-27 | 2022-08-04 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分析用信号処理装置 |
| JP2022180502A (ja) * | 2017-03-06 | 2022-12-06 | プリズマティック、センサーズ、アクチボラグ | 光子計数に基づくｘ線検出システム |
-
1997
- 1997-02-05 JP JP2287497A patent/JPH10221455A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003021682A1 (fr) * | 2001-08-30 | 2003-03-13 | Acrorad Co., Ltd. | Detecteur d'images radiologiques |
| JP2008023331A (ja) * | 2006-07-20 | 2008-02-07 | General Electric Co <Ge> | イメージング・システム用の適応型データ取得 |
| JP2013015475A (ja) * | 2011-07-06 | 2013-01-24 | Shimadzu Corp | Ｘ線検出器 |
| WO2015114740A1 (ja) * | 2014-01-28 | 2015-08-06 | 株式会社島津製作所 | 放射線検出器 |
| JPWO2015114740A1 (ja) * | 2014-01-28 | 2017-03-23 | 株式会社島津製作所 | 放射線検出器 |
| WO2017006513A1 (en) * | 2015-07-08 | 2017-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation imaging apparatus, control method thereof, and program |
| US10441238B2 (en) | 2015-07-08 | 2019-10-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation imaging apparatus, control method thereof, and program |
| JP2022180502A (ja) * | 2017-03-06 | 2022-12-06 | プリズマティック、センサーズ、アクチボラグ | 光子計数に基づくｘ線検出システム |
| JP2021124475A (ja) * | 2020-02-10 | 2021-08-30 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分析装置 |
| WO2022162976A1 (ja) * | 2021-01-27 | 2022-08-04 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分析用信号処理装置 |
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