JPH1022074A - 有機ｌｅｄ素子及びその作製方法 - Google Patents
有機ｌｅｄ素子及びその作製方法Info
- Publication number
- JPH1022074A JPH1022074A JP16971496A JP16971496A JPH1022074A JP H1022074 A JPH1022074 A JP H1022074A JP 16971496 A JP16971496 A JP 16971496A JP 16971496 A JP16971496 A JP 16971496A JP H1022074 A JPH1022074 A JP H1022074A
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- metal electrode
- layer
- organic
- insulator
- led element
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機薄膜のエレクトロルミネッセンス現象を
利用した有機ＬＥＤ素子において、隣り合う電極線間の
クロストークをなくし、高解像度のディスプレイが得ら
れるようにする。 【解決手段】 ガラス基板１上に所望の幅，ピッチでパ
ターニングされたＩＴＯ膜２を形成し、そのパターニン
グに合わせて絶縁膜５を成膜した後、有機層３及び金属
電極４を蒸着形成する。その後、絶縁膜５を所定の高さ
で削り取ることにより、金属電極４が絶縁物で分割され
た構造のマトリックス状のＬＥＤ素子を形成する。
利用した有機ＬＥＤ素子において、隣り合う電極線間の
クロストークをなくし、高解像度のディスプレイが得ら
れるようにする。 【解決手段】 ガラス基板１上に所望の幅，ピッチでパ
ターニングされたＩＴＯ膜２を形成し、そのパターニン
グに合わせて絶縁膜５を成膜した後、有機層３及び金属
電極４を蒸着形成する。その後、絶縁膜５を所定の高さ
で削り取ることにより、金属電極４が絶縁物で分割され
た構造のマトリックス状のＬＥＤ素子を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイやバ
ックライトに使用されるＬＥＤ素子、特に有機薄膜のエ
レクトロルミネッセンス現象を利用した有機ＬＥＤ素子
及びその作製方法に関するものである。
ックライトに使用されるＬＥＤ素子、特に有機薄膜のエ
レクトロルミネッセンス現象を利用した有機ＬＥＤ素子
及びその作製方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】有機ＬＥＤ（発光ダイオード）の素子構
造としては、例えば図２の（ａ）〜（ｄ）に示すような
積層構造のものが提案されている。同図において、１１
はガラス基板、１２は陽極、１３は正孔輸送層、１４は
発光層、１５は電子輸送層、１６は陰極である。
造としては、例えば図２の（ａ）〜（ｄ）に示すような
積層構造のものが提案されている。同図において、１１
はガラス基板、１２は陽極、１３は正孔輸送層、１４は
発光層、１５は電子輸送層、１６は陰極である。
【０００３】図２の（ａ）は陽極／正孔輸送層／発光層
／電子輸送層／陰極の順に積層したもの、（ｂ）は陽極
／正孔輸送層／発光層／陰極の順に積層したもの、
（ｃ）は陽極／発光層／電子輸送層／陰極の順に積層し
たもの、（ｄ）は陽極／発光層／陰極の順に積層したも
のをそれぞれ示しており、両端のガラス基板１１と陰極
１６間に直流電圧が印加されるようになっている。
／電子輸送層／陰極の順に積層したもの、（ｂ）は陽極
／正孔輸送層／発光層／陰極の順に積層したもの、
（ｃ）は陽極／発光層／電子輸送層／陰極の順に積層し
たもの、（ｄ）は陽極／発光層／陰極の順に積層したも
のをそれぞれ示しており、両端のガラス基板１１と陰極
１６間に直流電圧が印加されるようになっている。
【０００４】この有機ＬＥＤ素子で使用される基板は、
上記のガラス基板１１や透明プラスチック基板などがあ
るが、正極（陽極）としては、仕事関数の大きな金属，
合金が使用されている。例として、Ａｕなどの金属や、
ＩＴＯ，ＳｎＯ2 ，ＺｎＯなどの透明導電膜を用いるの
が一般的であり、この電極はこれらの電極物質を蒸着や
スパッタリングなどの方法により薄膜に形成することで
作製することができる。
上記のガラス基板１１や透明プラスチック基板などがあ
るが、正極（陽極）としては、仕事関数の大きな金属，
合金が使用されている。例として、Ａｕなどの金属や、
ＩＴＯ，ＳｎＯ2 ，ＺｎＯなどの透明導電膜を用いるの
が一般的であり、この電極はこれらの電極物質を蒸着や
スパッタリングなどの方法により薄膜に形成することで
作製することができる。
【０００５】一方、負極（陰極）としては、仕事関数の
小さな金属，合金、及びこれらの混合物を電極物質とす
るものが用いられる。例として、Ｎａ−Ｋ金属、Ｍｇ，
Ｌｉ，Ｍａ／Ｃｕ混合物、Ａｌ／Ａｌ2 Ｏ3 混合物、Ｉ
ｎなど、またこれらの合金が挙げられる。この電極もこ
れらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法によ
り薄膜に形成することで作製することができる。
小さな金属，合金、及びこれらの混合物を電極物質とす
るものが用いられる。例として、Ｎａ−Ｋ金属、Ｍｇ，
Ｌｉ，Ｍａ／Ｃｕ混合物、Ａｌ／Ａｌ2 Ｏ3 混合物、Ｉ
ｎなど、またこれらの合金が挙げられる。この電極もこ
れらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法によ
り薄膜に形成することで作製することができる。
【０００６】また、正孔輸送層１３，発光層１４及び電
子輸送層１５は、有機物で構成されるが、Ａｌｑ3 及び
ＴＰＤに代表される低分子系材料及びＰＰＶ誘導体に代
表される高分子系材料が使用可能である。
子輸送層１５は、有機物で構成されるが、Ａｌｑ3 及び
ＴＰＤに代表される低分子系材料及びＰＰＶ誘導体に代
表される高分子系材料が使用可能である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な従来の有機ＬＥＤ素子にあっては、電極，正孔輸送
層，発光層及び電子輸送層のパターニングは通常マスク
蒸着で行われるが、このマスクの幅及びピッチは最小で
も数百μｍが限界であり、例えばドットマトリックス表
示ディスプレイとした場合の解像度が低いという問題点
があった。
な従来の有機ＬＥＤ素子にあっては、電極，正孔輸送
層，発光層及び電子輸送層のパターニングは通常マスク
蒸着で行われるが、このマスクの幅及びピッチは最小で
も数百μｍが限界であり、例えばドットマトリックス表
示ディスプレイとした場合の解像度が低いという問題点
があった。
【０００８】また、隣接する陰極電極間に絶縁物がない
ので、クロストークが生じる可能性が高いという問題点
があった。
ので、クロストークが生じる可能性が高いという問題点
があった。
【０００９】本発明は、上記のような問題点に着目して
なされたもので、高解像度のディスプレイが得られ、ま
た電極間のクロストークのない有機ＬＥＤ素子及びその
作製方法を提供することを目的としている。
なされたもので、高解像度のディスプレイが得られ、ま
た電極間のクロストークのない有機ＬＥＤ素子及びその
作製方法を提供することを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係る有機ＬＥＤ
素子は、次のように構成したものである。
素子は、次のように構成したものである。
【００１１】（１）基板上に、発光層となる有機層と金
属電極とを有し、前記金属電極の線間に絶縁物を介装し
た。
属電極とを有し、前記金属電極の線間に絶縁物を介装し
た。
【００１２】（２）基板上に、パターニングされたＩＴ
Ｏ層、絶縁物により分割された発光層となる有機層及び
金属電極とを設けて、マトリックス状に形成した。
Ｏ層、絶縁物により分割された発光層となる有機層及び
金属電極とを設けて、マトリックス状に形成した。
【００１３】また本発明に係る有機ＬＥＤ素子の作製方
法は、次のように構成したものである。
法は、次のように構成したものである。
【００１４】（３）基板上に所定のパターンに応じて絶
縁物を設け、この上から発光層となる有機層と金属電極
とを積層した後、前記絶縁物を適当な高さで削り取るこ
とにより金属電極が分割された構造となるように形成し
た。
縁物を設け、この上から発光層となる有機層と金属電極
とを積層した後、前記絶縁物を適当な高さで削り取るこ
とにより金属電極が分割された構造となるように形成し
た。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る有機ＬＥＤ素
子の構成及びその作製過程を示す断面図である。
子の構成及びその作製過程を示す断面図である。
【００１６】この有機ＬＥＤ素子は、ガラス基板１上に
ＩＴＯ膜２を形成し、更にその上に発光層となる有機層
３と金属電極４を積層した構造となっており、金属電極
４の線間には絶縁膜５が介装され、ＩＴＯ膜２のパター
ニングによりマトリックス状に形成されている。
ＩＴＯ膜２を形成し、更にその上に発光層となる有機層
３と金属電極４を積層した構造となっており、金属電極
４の線間には絶縁膜５が介装され、ＩＴＯ膜２のパター
ニングによりマトリックス状に形成されている。
【００１７】次に、上記有機ＬＥＤ素子の作製方法につ
いて説明する。
いて説明する。
【００１８】まず、図１の（ａ）に示すように、幅３０
０μｍ，ピッチ３０μｍでパターニングされたＩＴＯ基
板上に、幅３００μｍ，ピッチ３０μｍ、またＩＴＯ膜
２からの高さ３０〜５０μｍの絶縁膜５を成膜形成す
る。この絶縁膜５の成膜は、感光性ポリイミドをスクリ
ーン印刷方式でパターニングすることにより行う。
０μｍ，ピッチ３０μｍでパターニングされたＩＴＯ基
板上に、幅３００μｍ，ピッチ３０μｍ、またＩＴＯ膜
２からの高さ３０〜５０μｍの絶縁膜５を成膜形成す
る。この絶縁膜５の成膜は、感光性ポリイミドをスクリ
ーン印刷方式でパターニングすることにより行う。
【００１９】次に図１の（ｂ）に示すように、絶縁膜５
が形成されたＩＴＯ基板上に、前述の正孔輸送層，発光
層及び電子輸送層の全てあるいは一部を蒸着し、有機層
３を形成する。続いて、金属電極４としてＭｇ−Ａｇ合
金あるいはＬｉ−Ａｌ合金、Ａｌなどを蒸着し、金属電
極層を形成する。
が形成されたＩＴＯ基板上に、前述の正孔輸送層，発光
層及び電子輸送層の全てあるいは一部を蒸着し、有機層
３を形成する。続いて、金属電極４としてＭｇ−Ａｇ合
金あるいはＬｉ−Ａｌ合金、Ａｌなどを蒸着し、金属電
極層を形成する。
【００２０】その後、図１の（ｃ）に示すように、有機
層３及び金属電極４が形成されたポリイミドの絶縁膜５
をＩＴＯ膜２から１５〜２５μｍの高さで削り取る。こ
れにより、有機層３及び金属電極４のないポリイミドの
部分で絶縁されたパターニングができ、幅３００μｍ×
３００μｍ，ピッチ３０μｍのドットマトリックスパタ
ーンが形成される。
層３及び金属電極４が形成されたポリイミドの絶縁膜５
をＩＴＯ膜２から１５〜２５μｍの高さで削り取る。こ
れにより、有機層３及び金属電極４のないポリイミドの
部分で絶縁されたパターニングができ、幅３００μｍ×
３００μｍ，ピッチ３０μｍのドットマトリックスパタ
ーンが形成される。
【００２１】このようにして、ＩＴＯ及びポリイミドの
パターニングによる任意の幅、ピッチのドットマトリッ
クスのディスプレイが可能となるが、本実施例では陰極
電極（金属電極４）の線間に絶縁物がある構造となって
いるため、クロストークの発生がなく、また微小ピッチ
でドットマトリックスの作製が可能となるので、高解像
度のディスプレイが得られる。
パターニングによる任意の幅、ピッチのドットマトリッ
クスのディスプレイが可能となるが、本実施例では陰極
電極（金属電極４）の線間に絶縁物がある構造となって
いるため、クロストークの発生がなく、また微小ピッチ
でドットマトリックスの作製が可能となるので、高解像
度のディスプレイが得られる。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、電極間
のクロストークがなく、高解像度のディスプレイが得ら
れるという効果がある。
のクロストークがなく、高解像度のディスプレイが得ら
れるという効果がある。
【図１】 本発明の一実施例を示す断面図
【図２】 従来例を示す構造図
１ ガラス基板 ２ ＩＴＯ膜 ３ 有機層 ４ 金属電極 ５ 絶縁膜
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に、発光層となる有機層と金属電
極とを有し、前記金属電極の線間に絶縁物を介装したこ
とを特徴とする有機ＬＥＤ素子。 - 【請求項２】 基板上に、パターニングされたＩＴＯ
層、絶縁物により分割された発光層となる有機層及び金
属電極とを設けて、マトリックス状に形成したことを特
徴とする有機ＬＥＤ素子。 - 【請求項３】 基板上に所定のパターンに応じて絶縁物
を設け、この上から発光層となる有機層と金属電極とを
積層した後、前記絶縁物を適当な高さで削り取ることに
より金属電極が分割された構造となるように形成したこ
とを特徴とする有機ＬＥＤ素子の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16971496A JPH1022074A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 有機ｌｅｄ素子及びその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16971496A JPH1022074A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 有機ｌｅｄ素子及びその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1022074A true JPH1022074A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=15891512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16971496A Withdrawn JPH1022074A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 有機ｌｅｄ素子及びその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1022074A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100623225B1 (ko) * | 2001-03-08 | 2006-09-11 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전계발광 소자 및 그의 제조방법 |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP16971496A patent/JPH1022074A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100623225B1 (ko) * | 2001-03-08 | 2006-09-11 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전계발광 소자 및 그의 제조방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030902 |