JP2000148090A - 有機ｅｌ素子およびその製造方法 - Google Patents
有機ｅｌ素子およびその製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の層構成の有機ＥＬ素子では、不要箇所
が実質的に発光しないものを高い歩留まりの下に製造す
ることが困難である。 【解決手段】 基板上に第１の電極，発光層を含む１〜
複数の有機層および第１の電極とは反対の極性の電極と
して使用される第２の電極を積層することによって形成
された有機ＥＬ素子は、発光領域と、非発光領域とを有
する。非発光領域においては、第１の電極または第２の
電極と有機層とが絶縁膜によって電気的に絶縁されてお
り、かつ、引き回しパターンと有機層もまた絶縁膜によ
って電気的に絶縁されている。
が実質的に発光しないものを高い歩留まりの下に製造す
ることが困難である。 【解決手段】 基板上に第１の電極，発光層を含む１〜
複数の有機層および第１の電極とは反対の極性の電極と
して使用される第２の電極を積層することによって形成
された有機ＥＬ素子は、発光領域と、非発光領域とを有
する。非発光領域においては、第１の電極または第２の
電極と有機層とが絶縁膜によって電気的に絶縁されてお
り、かつ、引き回しパターンと有機層もまた絶縁膜によ
って電気的に絶縁されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＥＬ素子およ
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】蛍光性を有する有機材料を発光材料とし
て用いた有機ＥＬ素子は、無機ＥＬ素子に比べて低電圧
で駆動させることができる等の利点を有する。表示素子
として、あるいは、バックライト等の面光源として、有
機ＥＬ素子の実用化が進められている。
て用いた有機ＥＬ素子は、無機ＥＬ素子に比べて低電圧
で駆動させることができる等の利点を有する。表示素子
として、あるいは、バックライト等の面光源として、有
機ＥＬ素子の実用化が進められている。
【０００３】図４（ａ）に示すように、有機ＥＬ素子１
０ａの最も簡単な構成は、透明基板１１上に陽極１２，
発光層１３，陰極１４が順次積層された層構成を有す
る。通常、陽極１２を透明電極で形成し、透明基板１１
側を発光観察面とする。この有機ＥＬ素子には、その特
性を向上させるため、正孔輸送層や電子輸送（注入）層
が必要に応じて併設される。
０ａの最も簡単な構成は、透明基板１１上に陽極１２，
発光層１３，陰極１４が順次積層された層構成を有す
る。通常、陽極１２を透明電極で形成し、透明基板１１
側を発光観察面とする。この有機ＥＬ素子には、その特
性を向上させるため、正孔輸送層や電子輸送（注入）層
が必要に応じて併設される。
【０００４】図４（ｂ）は、正孔輸送層１５が併設され
た有機ＥＬ素子１０ｂを示している。同図に示したよう
に、正孔輸送層１５は、陽極１２と発光層１３との間に
設けられる。
た有機ＥＬ素子１０ｂを示している。同図に示したよう
に、正孔輸送層１５は、陽極１２と発光層１３との間に
設けられる。
【０００５】図４（ｃ）は、電子輸送（注入）層１６が
併設された有機ＥＬ素子１０ｃを示している。電子輸送
（注入）層１６は、発光層１３と陰極１４との間に設け
られる。
併設された有機ＥＬ素子１０ｃを示している。電子輸送
（注入）層１６は、発光層１３と陰極１４との間に設け
られる。
【０００６】図４（ｄ）は、正孔輸送層１５および電子
輸送（注入）層１６が併設された有機ＥＬ素子１０ｄを
示している。この有機ＥＬ素子１０ｄでは、透明基板上
１１上に陽極１２，正孔輸送層１５，発光層１３，電子
輸送（注入）層１６，陰極１４が順次積層されている。
輸送（注入）層１６が併設された有機ＥＬ素子１０ｄを
示している。この有機ＥＬ素子１０ｄでは、透明基板上
１１上に陽極１２，正孔輸送層１５，発光層１３，電子
輸送（注入）層１６，陰極１４が順次積層されている。
【０００７】有機ＥＬ素子用の透明基板としては、透明
ガラス基板または透明樹脂基板が多用されている。ま
た、陽極としては、Ａｕ等の仕事関数が大きい金属もし
くは合金からなる透明電極、または、ＩＴＯ，Ｓｎ
Ｏ2 ，ＺｎＯ等の導電性酸化物からなる透明電極が一般
に使用されている。陰極としては、仕事関数が小さい金
属，合金またはこれらの混合物、例えばＣａ，Ａｌ，Ａ
ｌ−Ｌｉ合金，Ｍｇ−Ａｇ合金，Ｍｇ−Ａｌ合金，Ｍｇ
−Ｉｎ合金等からなるものが一般に使用されている。
ガラス基板または透明樹脂基板が多用されている。ま
た、陽極としては、Ａｕ等の仕事関数が大きい金属もし
くは合金からなる透明電極、または、ＩＴＯ，Ｓｎ
Ｏ2 ，ＺｎＯ等の導電性酸化物からなる透明電極が一般
に使用されている。陰極としては、仕事関数が小さい金
属，合金またはこれらの混合物、例えばＣａ，Ａｌ，Ａ
ｌ−Ｌｉ合金，Ｍｇ−Ａｇ合金，Ｍｇ−Ａｌ合金，Ｍｇ
−Ｉｎ合金等からなるものが一般に使用されている。
【０００８】発光層，正孔輸送層および電子輸送層はそ
れぞれ有機材料によって形成される（以下、これらの層
を「有機層」と総称する）。有機層は、通常、トリス
（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（アルミニ
ウムキノリノール錯体）（以下、このものを「Ａｌ
ｑ3 」と略記する）やＮ，Ｎ´−ジフェニル−Ｎ，Ｎ´
−ビス（３−メチルフェニル）１，１´−ビフェニル−
４，４´−ジアミン（トリフェニルジアミン誘導体）
（以下、このものを「ＴＰＤ」と略記する）によって代
表される低分子系材料によって形成されるが、ポリパラ
フェニレンビニレン誘導体によって代表される高分子系
材料をその材料として使用することも試みられている。
れぞれ有機材料によって形成される（以下、これらの層
を「有機層」と総称する）。有機層は、通常、トリス
（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（アルミニ
ウムキノリノール錯体）（以下、このものを「Ａｌ
ｑ3 」と略記する）やＮ，Ｎ´−ジフェニル−Ｎ，Ｎ´
−ビス（３−メチルフェニル）１，１´−ビフェニル−
４，４´−ジアミン（トリフェニルジアミン誘導体）
（以下、このものを「ＴＰＤ」と略記する）によって代
表される低分子系材料によって形成されるが、ポリパラ
フェニレンビニレン誘導体によって代表される高分子系
材料をその材料として使用することも試みられている。
【０００９】前述のように、有機ＥＬ素子は透明基板上
に所定の層を積層して、当該透明基板側を発光観察面と
する薄膜発光素子であるが、基板とは反対の側（基板上
に積層されている層側）を発光観察面とする有機ＥＬ素
子も提案されている。この場合、発光観察面側の電極
（陽極でも陰極でもよい）を透明電極にする。
に所定の層を積層して、当該透明基板側を発光観察面と
する薄膜発光素子であるが、基板とは反対の側（基板上
に積層されている層側）を発光観察面とする有機ＥＬ素
子も提案されている。この場合、発光観察面側の電極
（陽極でも陰極でもよい）を透明電極にする。
【００１０】ところで、有機ＥＬ素子によって所望の文
字あるいは図形を表示しようとする場合には、通常、１
つの基板上に１または複数の発光領域が形成され、か
つ、当該発光領域の平面視上の外側には非発光領域が形
成される。更に、発光領域を構成している陽極と電源と
を電気的に接続するための引き回しパターン（配線）、
または、発光領域を構成している陰極と電源とを電気的
に接続するための引き回しパターン（配線）が形成され
る。
字あるいは図形を表示しようとする場合には、通常、１
つの基板上に１または複数の発光領域が形成され、か
つ、当該発光領域の平面視上の外側には非発光領域が形
成される。更に、発光領域を構成している陽極と電源と
を電気的に接続するための引き回しパターン（配線）、
または、発光領域を構成している陰極と電源とを電気的
に接続するための引き回しパターン（配線）が形成され
る。
【００１１】図５は、透明基板側を発光観察面とする７
セグメント表示用有機ＥＬ素子における透明電極の配置
仕様を示す概略平面図である。
セグメント表示用有機ＥＬ素子における透明電極の配置
仕様を示す概略平面図である。
【００１２】同図に示したように、７セグメント表示用
有機ＥＬ素子では、通常、透明基板２０の片面に７つの
透明電極（陽極）２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２
１ｅ，２１ｆおよび２１ｇが８の字状に配置され、これ
らの透明電極２１ａ〜２１ｇのそれぞれには、透明電極
材料からなる引き回しパターン２２ａ，２２ｂ，２２
ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆまたは２２ｇが連続して形
成される。
有機ＥＬ素子では、通常、透明基板２０の片面に７つの
透明電極（陽極）２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２
１ｅ，２１ｆおよび２１ｇが８の字状に配置され、これ
らの透明電極２１ａ〜２１ｇのそれぞれには、透明電極
材料からなる引き回しパターン２２ａ，２２ｂ，２２
ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆまたは２２ｇが連続して形
成される。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】例えば図５に示した７
セグメント表示用有機ＥＬ素子を製造するにあたって、
７つの透明電極２１ａ〜２１ｇを平面視上覆うようにし
て当該透明電極２１ａ〜２１ｇ上に発光層を含む単純形
状（たとえば矩形）の１〜複数の有機層２３（図５参
照）を形成し、この有機層２３上に同様単純形状（たと
えば矩形）の陰極（図５においては図示せず）を形成す
ることによって目的とする有機ＥＬ素子を得ることがで
きれば、その歩留まりが向上する。
セグメント表示用有機ＥＬ素子を製造するにあたって、
７つの透明電極２１ａ〜２１ｇを平面視上覆うようにし
て当該透明電極２１ａ〜２１ｇ上に発光層を含む単純形
状（たとえば矩形）の１〜複数の有機層２３（図５参
照）を形成し、この有機層２３上に同様単純形状（たと
えば矩形）の陰極（図５においては図示せず）を形成す
ることによって目的とする有機ＥＬ素子を得ることがで
きれば、その歩留まりが向上する。
【００１４】しかしながら、上記のようにして７セグメ
ント表示用有機ＥＬ素子を製造した場合には、引き回し
パターン２２ａ〜２２ｇ上にも有機層２３および陰極が
形成されることから、当該引き回しパターン２２ａ〜２
２ｇ上に形成された有機層２３も発光してしまう。
ント表示用有機ＥＬ素子を製造した場合には、引き回し
パターン２２ａ〜２２ｇ上にも有機層２３および陰極が
形成されることから、当該引き回しパターン２２ａ〜２
２ｇ上に形成された有機層２３も発光してしまう。
【００１５】したがって、表示精度を高めるためには、
透明基板２０の他方の面（電極，有機層および引き回し
パターンが形成されている面とは反対側の観察面）の所
定箇所にマスク（遮光膜）を設けて、引き回しパターン
２２ａ〜２２ｇ上に形成された有機層２３からの発光を
マスキングすることが必要になる。
透明基板２０の他方の面（電極，有機層および引き回し
パターンが形成されている面とは反対側の観察面）の所
定箇所にマスク（遮光膜）を設けて、引き回しパターン
２２ａ〜２２ｇ上に形成された有機層２３からの発光を
マスキングすることが必要になる。
【００１６】しかしながら、透明基板２０の他方の面に
たとえマスク（遮光膜）を設けたとしても、透明基板２
０に厚みがあることから、前記の発光を完全にマスクキ
ングすることは困難である。
たとえマスク（遮光膜）を設けたとしても、透明基板２
０に厚みがあることから、前記の発光を完全にマスクキ
ングすることは困難である。
【００１７】勿論、上記の７セグメント表示用有機ＥＬ
素子を製造するにあたって、７つの透明電極２１ａ〜２
１ｇ上にのみ発光層を含む１〜複数の有機層および陰極
を形成するようにすれば、表示精度の高い７セグメント
表示用有機ＥＬ素子を得ることが可能である。しかしな
がら、このような有機ＥＬ素子は、下記の理由からその
歩留まりが悪い。
素子を製造するにあたって、７つの透明電極２１ａ〜２
１ｇ上にのみ発光層を含む１〜複数の有機層および陰極
を形成するようにすれば、表示精度の高い７セグメント
表示用有機ＥＬ素子を得ることが可能である。しかしな
がら、このような有機ＥＬ素子は、下記の理由からその
歩留まりが悪い。
【００１８】すなわち、有機ＥＬ素子用の発光材料は一
般に有機溶媒に弱く、有機溶媒と接するとその発光能が
低下もしくは消失してしまう。このため、所望形状の有
機層を形成しようとする際には、エッチング法によって
所望形状に成形するのではなく、その成膜時に所定形状
のマスクを用いることによって、目的とする形状の有機
層を直接形成することが望ましい。有機層上に所望形状
の陰極を形成しようとする際にも、当該陰極の成膜時に
所定形状のマスクを用いることによって、目的とする陰
極を直接形成することが望ましい。
般に有機溶媒に弱く、有機溶媒と接するとその発光能が
低下もしくは消失してしまう。このため、所望形状の有
機層を形成しようとする際には、エッチング法によって
所望形状に成形するのではなく、その成膜時に所定形状
のマスクを用いることによって、目的とする形状の有機
層を直接形成することが望ましい。有機層上に所望形状
の陰極を形成しようとする際にも、当該陰極の成膜時に
所定形状のマスクを用いることによって、目的とする陰
極を直接形成することが望ましい。
【００１９】しかしながら、所定形状のマスクを用いた
陰極の成膜時においては、マスクと有機層との間に隙間
があり、かつ、透明基板と有機層との間に段差があるこ
とから、陰極材料が有機層および透明電極（陽極）の各
側面に回り込んで無用の短絡を生じやすい。このような
短絡を防止するためには、有機層の成膜時に使用するマ
スクおよび陰極の成膜時に使用するマスクをそれぞれ高
精度に作製し、かつ、成膜時にこれらのマスクを正確に
位置合わせすることが必要となる。その結果として、目
的とする７セグメント表示用有機ＥＬ素子の歩留まりが
低下する。
陰極の成膜時においては、マスクと有機層との間に隙間
があり、かつ、透明基板と有機層との間に段差があるこ
とから、陰極材料が有機層および透明電極（陽極）の各
側面に回り込んで無用の短絡を生じやすい。このような
短絡を防止するためには、有機層の成膜時に使用するマ
スクおよび陰極の成膜時に使用するマスクをそれぞれ高
精度に作製し、かつ、成膜時にこれらのマスクを正確に
位置合わせすることが必要となる。その結果として、目
的とする７セグメント表示用有機ＥＬ素子の歩留まりが
低下する。
【００２０】本発明の目的は、不要箇所が実質的に発光
せず、高い歩留まりの下に製造することが可能な有機Ｅ
Ｌ素子およびその製造方法を提供することにある。
せず、高い歩留まりの下に製造することが可能な有機Ｅ
Ｌ素子およびその製造方法を提供することにある。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明の有機ＥＬ素子
は、基板上に第１の電極層、発光層を含む１〜複数の有
機層および前記第１の電極とは反対の極性の電極として
使用される第２の電極層を有し、前記第１の電極層およ
び前記第２の電極層が存在するが発光すべきでない領域
において、前記第１の電極層と前記第２の電極層との間
に絶縁層が設けられている。
は、基板上に第１の電極層、発光層を含む１〜複数の有
機層および前記第１の電極とは反対の極性の電極として
使用される第２の電極層を有し、前記第１の電極層およ
び前記第２の電極層が存在するが発光すべきでない領域
において、前記第１の電極層と前記第２の電極層との間
に絶縁層が設けられている。
【００２２】また、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法
は、基板上に第１の電極を形成する工程と、前記第１の
電極上および該第１の電極の平面視上の外側に発光層を
含む１〜複数の有機層を形成する工程と、前記第１の電
極とは反対の極性の電極として使用される第２の電極を
前記有機層上に形成する工程とを含み、前記第１の電極
を形成する工程または前記第２の電極を形成する工程
が、前記第１の電極または前記第２の電極と電源とを電
気的に接続するための引き回しパターンも形成するもの
であり、さらに、前記引き回しパターンと前記有機層と
を電気的に絶縁する絶縁膜を形成する工程を含む。
は、基板上に第１の電極を形成する工程と、前記第１の
電極上および該第１の電極の平面視上の外側に発光層を
含む１〜複数の有機層を形成する工程と、前記第１の電
極とは反対の極性の電極として使用される第２の電極を
前記有機層上に形成する工程とを含み、前記第１の電極
を形成する工程または前記第２の電極を形成する工程
が、前記第１の電極または前記第２の電極と電源とを電
気的に接続するための引き回しパターンも形成するもの
であり、さらに、前記引き回しパターンと前記有機層と
を電気的に絶縁する絶縁膜を形成する工程を含む。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００２４】（実施例１）まず、ガラス基板の片面に成
膜した膜厚２０００オングストロームのＩＴＯ膜をパタ
ーニングして、７セグメント表示用の電極（陽極）およ
びこれらの陽極に接続された７つの引き回しにパターン
を形成する。
膜した膜厚２０００オングストロームのＩＴＯ膜をパタ
ーニングして、７セグメント表示用の電極（陽極）およ
びこれらの陽極に接続された７つの引き回しにパターン
を形成する。
【００２５】図１は、上記の陽極および引き回しパター
ンを形成した後のガラス基板の概略を示す斜視図であ
る。
ンを形成した後のガラス基板の概略を示す斜視図であ
る。
【００２６】同図に示したように、ガラス基板１の片面
１ａには、それぞれがＩＴＯ膜からなる７つの陽極２
ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆおよび２ｇが形成さ
れており、これの陽極２ａ〜２ｇは、平面視上、８の字
状に配置されている。そして、これの陽極２ａ〜２ｇの
各々には、それぞれがＩＴＯ膜からなる引き回しパター
ン３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆまたは３ｇが接
続されている。各引き回しパターン３ａ〜３ｇの一端は
それぞれ平面視上矩形に成形されており、電極取り出し
部として利用される。各電極取り出し部は、ガラス基板
１の縁部に形成されている。
１ａには、それぞれがＩＴＯ膜からなる７つの陽極２
ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆおよび２ｇが形成さ
れており、これの陽極２ａ〜２ｇは、平面視上、８の字
状に配置されている。そして、これの陽極２ａ〜２ｇの
各々には、それぞれがＩＴＯ膜からなる引き回しパター
ン３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆまたは３ｇが接
続されている。各引き回しパターン３ａ〜３ｇの一端は
それぞれ平面視上矩形に成形されており、電極取り出し
部として利用される。各電極取り出し部は、ガラス基板
１の縁部に形成されている。
【００２７】少なくとも引き回しパターン３ａ〜３ｇそ
れぞれにおける電極取り出し部および陽極２ａ〜２ｇを
覆い、少なくとも引き回しパターン３ａ〜３ｇの電極取
り出し部以外の部分を露出するマスクを形成する。この
マスクを介して前記の片面１ａのうちで当該マスクによ
って覆われていない部分に、電気絶縁膜としてのＳｉＯ
2 膜を電子ビーム蒸着法によって形成する。ＳｉＯ2 膜
の膜厚は、概ね５００〜２５００オングストロームの範
囲内で適宜選択可能である。たとえば、その膜厚を５０
０オングストロームとする。
れぞれにおける電極取り出し部および陽極２ａ〜２ｇを
覆い、少なくとも引き回しパターン３ａ〜３ｇの電極取
り出し部以外の部分を露出するマスクを形成する。この
マスクを介して前記の片面１ａのうちで当該マスクによ
って覆われていない部分に、電気絶縁膜としてのＳｉＯ
2 膜を電子ビーム蒸着法によって形成する。ＳｉＯ2 膜
の膜厚は、概ね５００〜２５００オングストロームの範
囲内で適宜選択可能である。たとえば、その膜厚を５０
０オングストロームとする。
【００２８】図２は、ＳｉＯ2 膜まで形成したガラス基
板１を示す斜視図であり、図中の符号４が上記のＳｉＯ
2 膜を示している。
板１を示す斜視図であり、図中の符号４が上記のＳｉＯ
2 膜を示している。
【００２９】この後、陽極２ａ〜２ｇ，電極取り出し部
を除く引き回しパターン３ａ〜３ｇおよびＳｉＯ2 膜４
の中央部をそれぞれ覆うようにして、正孔輸送層として
のＴＰＤ膜（膜厚５００オングストローム）および発光
層兼電子輸送（注入）層としてのＡｌｑ3 膜（膜厚５０
０オングストローム）を抵抗加熱型の真空蒸着法によっ
て順次積層することにより有機層を形成する。さらに、
この有機層上に陰極としてのＭｇ−Ａｇ合金膜（膜厚１
０００オングストローム）を抵抗加熱型真空蒸着法によ
って形成する。Ｍｇ−Ａｇ合金膜まで形成することによ
り、７セグメント表示用有機ＥＬ素子が得られる。
を除く引き回しパターン３ａ〜３ｇおよびＳｉＯ2 膜４
の中央部をそれぞれ覆うようにして、正孔輸送層として
のＴＰＤ膜（膜厚５００オングストローム）および発光
層兼電子輸送（注入）層としてのＡｌｑ3 膜（膜厚５０
０オングストローム）を抵抗加熱型の真空蒸着法によっ
て順次積層することにより有機層を形成する。さらに、
この有機層上に陰極としてのＭｇ−Ａｇ合金膜（膜厚１
０００オングストローム）を抵抗加熱型真空蒸着法によ
って形成する。Ｍｇ−Ａｇ合金膜まで形成することによ
り、７セグメント表示用有機ＥＬ素子が得られる。
【００３０】図３は、このようにして得られた７セグメ
ント表示用有機ＥＬ素子９の概略を示す斜視図である。
ント表示用有機ＥＬ素子９の概略を示す斜視図である。
【００３１】同図に示したように、この７セグメント表
示用有機ＥＬ素子９においては、陽極２ａ〜２ｇ，引き
回しパターン３ａ〜３ｇの一部およびＳｉＯ2 膜４の一
部をそれぞれ覆うようにして、ＴＰＤ膜とＡｌｑ3 膜と
の積層物からなる上記の有機層５が形成されており、当
該有機層５は、平面視上、矩形を呈する。そして、この
有機層５上に形成されている上記のＭｇ−Ａｇ合金膜
（陰極）６もまた、平面視上、矩形を呈する。
示用有機ＥＬ素子９においては、陽極２ａ〜２ｇ，引き
回しパターン３ａ〜３ｇの一部およびＳｉＯ2 膜４の一
部をそれぞれ覆うようにして、ＴＰＤ膜とＡｌｑ3 膜と
の積層物からなる上記の有機層５が形成されており、当
該有機層５は、平面視上、矩形を呈する。そして、この
有機層５上に形成されている上記のＭｇ−Ａｇ合金膜
（陰極）６もまた、平面視上、矩形を呈する。
【００３２】上記の７セグメント表示用有機ＥＬ素子９
においては、陽極２ａ〜２ｇ上のみならず、電極取り出
し部を除く引き回しパターン３ａ〜３ｇそれぞれの上に
も有機層５およびＭｇ−Ａｇ合金膜（陰極）６が形成さ
れている。このような７セグメント表示用有機ＥＬ素子
９を実際に作成し、通電したところ、陽極２ａ〜２ｇ上
に形成された有機層５からの発光（Ａｌｑ3 層からの発
光）のみが観察され、引き回しパターン３ａ〜３ｇ上に
形成された有機層５からの発光（Ａｌｑ3 層からの発
光）は認められなかった。したがって、所望の表示を高
精度に行うことが可能であった。
においては、陽極２ａ〜２ｇ上のみならず、電極取り出
し部を除く引き回しパターン３ａ〜３ｇそれぞれの上に
も有機層５およびＭｇ−Ａｇ合金膜（陰極）６が形成さ
れている。このような７セグメント表示用有機ＥＬ素子
９を実際に作成し、通電したところ、陽極２ａ〜２ｇ上
に形成された有機層５からの発光（Ａｌｑ3 層からの発
光）のみが観察され、引き回しパターン３ａ〜３ｇ上に
形成された有機層５からの発光（Ａｌｑ3 層からの発
光）は認められなかった。したがって、所望の表示を高
精度に行うことが可能であった。
【００３３】また、この７セグメント表示用有機ＥＬ素
子９を製造するにあたっては、上述のように有機層５お
よびＭｇ−Ａｇ合金膜（陰極）６のパターニングは不要
であり、それぞれを所定の大きさの矩形に成膜するだけ
でよいので、その歩留まりが高い。
子９を製造するにあたっては、上述のように有機層５お
よびＭｇ−Ａｇ合金膜（陰極）６のパターニングは不要
であり、それぞれを所定の大きさの矩形に成膜するだけ
でよいので、その歩留まりが高い。
【００３４】（実施例２）ＳｉＯ2 膜に代えてカプトン
型ポリイミド樹脂膜をスピンコート法によって形成した
以外は実施例１と同じ要領で、７セグメント表示用有機
ＥＬ素子を作製した。カプトン型ポリイミド樹脂膜の膜
厚は、概ね５００〜２５００オングストロームの範囲内
で適宜選択可能である。本実施例では、その膜厚を５０
０オングストロームとした。
型ポリイミド樹脂膜をスピンコート法によって形成した
以外は実施例１と同じ要領で、７セグメント表示用有機
ＥＬ素子を作製した。カプトン型ポリイミド樹脂膜の膜
厚は、概ね５００〜２５００オングストロームの範囲内
で適宜選択可能である。本実施例では、その膜厚を５０
０オングストロームとした。
【００３５】この７セグメント表示用有機ＥＬ素子に通
電したところ、陽極上に形成された有機層からの発光
（Ａｌｑ3 層からの発光）のみが観察され、引き回しパ
ターン上に形成された有機層からの発光（Ａｌｑ3 層か
らの発光）は認められなかった。したがって、所望の表
示を高精度に行うことが可能であった。
電したところ、陽極上に形成された有機層からの発光
（Ａｌｑ3 層からの発光）のみが観察され、引き回しパ
ターン上に形成された有機層からの発光（Ａｌｑ3 層か
らの発光）は認められなかった。したがって、所望の表
示を高精度に行うことが可能であった。
【００３６】また、この７セグメント表示用有機ＥＬ素
子を製造するにあたっては、実施例１と同様に有機層５
およびＭｇ−Ａｇ合金膜（陰極）６のパターニング不要
であり、それぞれを所定の大きさの矩形に成膜するだけ
でよいので、その歩留まりが高い。
子を製造するにあたっては、実施例１と同様に有機層５
およびＭｇ−Ａｇ合金膜（陰極）６のパターニング不要
であり、それぞれを所定の大きさの矩形に成膜するだけ
でよいので、その歩留まりが高い。
【００３７】以上、実施例を挙げて本発明を説明した
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【００３８】例えば、上記の実施例では７セグメント表
示用有機ＥＬ素子を作製したが、本発明の有機ＥＬ素子
は所望の文字あるいは図形を表示するためのものであれ
ば７セグメント表示用有機ＥＬ素子に限定されるもので
はない。例えば、ドットマトリックス表示用の素子、パ
ターン表示素子等であってもよい。
示用有機ＥＬ素子を作製したが、本発明の有機ＥＬ素子
は所望の文字あるいは図形を表示するためのものであれ
ば７セグメント表示用有機ＥＬ素子に限定されるもので
はない。例えば、ドットマトリックス表示用の素子、パ
ターン表示素子等であってもよい。
【００３９】また、非発光領域を形成するために成膜す
る電気絶縁膜は、所望の電気絶縁性を有していればよ
く、当該電気絶縁膜は、ＳｉＯ2 以外の無機材料やカプ
トン型ポリイミド樹脂以外の有機材料によって形成して
もよい。
る電気絶縁膜は、所望の電気絶縁性を有していればよ
く、当該電気絶縁膜は、ＳｉＯ2 以外の無機材料やカプ
トン型ポリイミド樹脂以外の有機材料によって形成して
もよい。
【００４０】実施例ではガラス基板上に電気絶縁膜を形
成したが、当該電気絶縁膜は、有機層上に形成してもよ
い。有機層上に電気絶縁膜を形成する場合においても、
有機層および当該有機層上に形成すべき電極は、平面視
上、目的とする発光領域より面積が広い所望の形状、例
えば矩形，円形等とすることができる。
成したが、当該電気絶縁膜は、有機層上に形成してもよ
い。有機層上に電気絶縁膜を形成する場合においても、
有機層および当該有機層上に形成すべき電極は、平面視
上、目的とする発光領域より面積が広い所望の形状、例
えば矩形，円形等とすることができる。
【００４１】また、基板表面に形成する電極（第１の電
極）の形状を、目的とする発光領域より面積が広い所望
の形状、例えば矩形，円形等とし、有機層上に形成する
電極（第２の電極）の平面視上の形状を、目的とする発
光領域の平面視上の形状と同じ形状として、当該電極
（第２の電極）に引き回しパターンを接続するようにし
てもよい。
極）の形状を、目的とする発光領域より面積が広い所望
の形状、例えば矩形，円形等とし、有機層上に形成する
電極（第２の電極）の平面視上の形状を、目的とする発
光領域の平面視上の形状と同じ形状として、当該電極
（第２の電極）に引き回しパターンを接続するようにし
てもよい。
【００４２】電気絶縁膜の開口のパターンによって発光
領域を画定すれば、上下の電極はどのような形状でもよ
い。一対の矩形電極の間に表示パターンの開口を有する
電気絶縁膜を形成してもよい。
領域を画定すれば、上下の電極はどのような形状でもよ
い。一対の矩形電極の間に表示パターンの開口を有する
電気絶縁膜を形成してもよい。
【００４３】基板材料，陽極材料，有機層の層構成，有
機層を構成する各層の材料および陰極材料ならびに基板
上への各層の積層順も、有機ＥＬ素子を得ることができ
さえすれば特に限定されるものではなく、公知の材料を
用いて公知の順に積層することができる。たとえば、図
４（ａ）〜４（ｄ）のどの層構成を用いてもよい。電気
絶縁膜は電極層のどの位置に挿入してもよい。
機層を構成する各層の材料および陰極材料ならびに基板
上への各層の積層順も、有機ＥＬ素子を得ることができ
さえすれば特に限定されるものではなく、公知の材料を
用いて公知の順に積層することができる。たとえば、図
４（ａ）〜４（ｄ）のどの層構成を用いてもよい。電気
絶縁膜は電極層のどの位置に挿入してもよい。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、不要箇所が実質的
に発光せず、高い歩留まりの下に製造することが可能な
有機ＥＬ素子が提供される。表示精度の高い有機ＥＬ素
子を得ることが容易になる。
に発光せず、高い歩留まりの下に製造することが可能な
有機ＥＬ素子が提供される。表示精度の高い有機ＥＬ素
子を得ることが容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で７セグメント表示素子用に形成した
陽極および引き回しパターンの概略を示す斜視図であ
る。
陽極および引き回しパターンの概略を示す斜視図であ
る。
【図２】実施例１で７セグメント表示素子用に形成した
陽極，引き回しパターンおよび電気絶縁膜の概略を示す
斜視図である。
陽極，引き回しパターンおよび電気絶縁膜の概略を示す
斜視図である。
【図３】実施例１で作製した７セグメント表示素子用有
機ＥＬ素子の概略を示す斜視図である。
機ＥＬ素子の概略を示す斜視図である。
【図４】有機ＥＬ素子の層構成の例を概略的に示す側面
図である。
図である。
【図５】透明基板側を発光観察面とするタイプの７セグ
メント表示用有機ＥＬ素子における透明電極の配置仕様
の一例を示す平面図である。
メント表示用有機ＥＬ素子における透明電極の配置仕様
の一例を示す平面図である。
１…ガラス基板 ２ａ〜２ｇ…陽極 ３ａ〜３ｇ…引き回しパターン ４…電気絶縁膜（ＳｉＯ2 膜） ５…有機層 ６…Ｍｇ−Ａｇ合金膜（陰極） ９…７セグメント表示素子用有機ＥＬ素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梶川 政隆 神奈川県横浜市青葉区荏田西１−３−１ スタンレー電気株式会社技術研究所内 (72)発明者 高山 浩一 神奈川県横浜市青葉区荏田西１−３−１ スタンレー電気株式会社技術研究所内 Ｆターム(参考） 5C080 AA06 BB02 DD28 EE05 JJ06
Claims (6)
- 【請求項１】 基板上に第１の電極層、発光層を含む１
〜複数の有機層および前記第１の電極とは反対の極性の
電極として使用される第２の電極層を有し、 前記第１の電極層および前記第２の電極層が存在するが
発光すべきでない領域において、前記第１の電極層と前
記第２の電極層との間に絶縁層が設けられている有機Ｅ
Ｌ素子。 - 【請求項２】 前記第１の電極層と前記第２の電極層の
一方が表示用の電極と該電極と電源とを電気的に接続す
るための引き回しパターンを有し、前記絶縁層が前記引
き回しパターンの領域に形成されている請求項１記載の
有機ＥＬ素子。 - 【請求項３】 前記第１の電極層が陽極として使用され
る透明電極であり、該透明電極と前記有機層との間に電
気絶縁層が設けられている、請求項１に記載の有機ＥＬ
素子。 - 【請求項４】 複数の発光領域を有し、これらの発光領
域が個別に制御される、請求項１〜３のいずれかに記載
の有機ＥＬ素子。 - 【請求項５】 前記複数の発光領域が、８の字状に配置
された７つの発光領域である請求項４に記載の有機ＥＬ
素子。 - 【請求項６】 基板上に第１の電極を形成する工程と、
前記第１の電極上および該第１の電極の平面視上の外側
に発光層を含む１〜複数の有機層を形成する工程と、前
記第１の電極とは反対の極性の電極として使用される第
２の電極を前記有機層上に形成する工程とを含み、前記
第１の電極を形成する工程または前記第２の電極を形成
する工程が、前記第１の電極または前記第２の電極と電
源とを電気的に接続するための引き回しパターンも形成
するものであり、 さらに、前記引き回しパターンと前記有機層とを電気的
に絶縁する絶縁膜を形成する工程を含む、有機ＥＬ素子
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10325405A JP2000148090A (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | 有機ｅｌ素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10325405A JP2000148090A (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | 有機ｅｌ素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000148090A true JP2000148090A (ja) | 2000-05-26 |
Family
ID=18176486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10325405A Pending JP2000148090A (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | 有機ｅｌ素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000148090A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003241683A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-08-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| JP2003241685A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-08-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| US6784459B2 (en) | 2000-11-27 | 2004-08-31 | Seiko Epson Corporation | Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith |
| US7068247B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-06-27 | Seiko Epson Corporation | Display device and electronic apparatus |
| KR100617234B1 (ko) * | 2000-07-18 | 2006-08-31 | 엘지전자 주식회사 | 유기전계발광 디스플레이 소자의 제조방법 |
| CN1324549C (zh) * | 2001-10-18 | 2007-07-04 | Lg电子株式会社 | 有机电致发光装置屏及其相应的制造方法 |
-
1998
- 1998-11-16 JP JP10325405A patent/JP2000148090A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100617234B1 (ko) * | 2000-07-18 | 2006-08-31 | 엘지전자 주식회사 | 유기전계발광 디스플레이 소자의 제조방법 |
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| US6924593B2 (en) | 2000-11-27 | 2005-08-02 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method for organic electroluminescent device including an effectively optical area and an organic electroluminescent layer, organic electroluminescent device, and electronic devices therewith |
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| US7470976B2 (en) | 2000-11-27 | 2008-12-30 | Seiko Epson Corporation | Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith |
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| JP2003241683A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-08-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| JP2003241685A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-08-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置及び電子機器 |
| US7068247B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-06-27 | Seiko Epson Corporation | Display device and electronic apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030722 |