JP2002280187A - 有機ｅｌ素子 - Google Patents
有機ｅｌ素子Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】発光部が絶縁層で区画されている有機ＥＬ素子
において、発光時には必要とされる発光強度が得られ、
しかも非発光時の透明性が高い有機ＥＬ素子を提供す
る。 【解決手段】絶縁層３の厚さを１５００Åとした場合に
は、陰極５を１２０Åのカルシウム薄膜と２０Åの金薄
膜からなる二層構造とする。
において、発光時には必要とされる発光強度が得られ、
しかも非発光時の透明性が高い有機ＥＬ素子を提供す
る。 【解決手段】絶縁層３の厚さを１５００Åとした場合に
は、陰極５を１２０Åのカルシウム薄膜と２０Åの金薄
膜からなる二層構造とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＥＬ（エレク
トロルミネッセンス）素子に関する。
トロルミネッセンス）素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機ＥＬ素子は、少なくとも一層の発光
性有機層が陰極と陽極の間に配置された構造を有する自
発光性素子であり、３Ｖ程度の直流電圧で駆動させるこ
とができるとともに、多彩な発光色の素子が作製可能で
あるという特長がある。また、有機ＥＬ素子は、液晶表
示素子と比較して応答速度が速く視野角が広い等、表示
素子としての利点を多く備えているため、表示装置の画
素や光源等を含む多種多様な用途での実用化が検討され
ている。
性有機層が陰極と陽極の間に配置された構造を有する自
発光性素子であり、３Ｖ程度の直流電圧で駆動させるこ
とができるとともに、多彩な発光色の素子が作製可能で
あるという特長がある。また、有機ＥＬ素子は、液晶表
示素子と比較して応答速度が速く視野角が広い等、表示
素子としての利点を多く備えているため、表示装置の画
素や光源等を含む多種多様な用途での実用化が検討され
ている。
【０００３】例えば、腕時計の用途では、文字盤の上
に、有機ＥＬ素子からなる発光部を備えた透明な有機Ｅ
Ｌパネルを配置することにより、文字盤による時刻のア
ナログ表示と、有機ＥＬパネルによるデジタル数字等の
表示の両方を同じ面内で行うことができる。このような
有機ＥＬパネルは以下のようにして形成される。先ず、
透明なガラス基板に陽極用の透明薄膜（ＩＴＯ薄膜）を
形成する。次に、この薄膜に対してフォトリソグラフィ
とエッチングを行うことにより、有機ＥＬ素子の陽極
（発光部を含む所定領域に形成される）と、陽極用の端
子と、陰極用の端子と、陽極−端子間の配線とを同時に
パターニングする。
に、有機ＥＬ素子からなる発光部を備えた透明な有機Ｅ
Ｌパネルを配置することにより、文字盤による時刻のア
ナログ表示と、有機ＥＬパネルによるデジタル数字等の
表示の両方を同じ面内で行うことができる。このような
有機ＥＬパネルは以下のようにして形成される。先ず、
透明なガラス基板に陽極用の透明薄膜（ＩＴＯ薄膜）を
形成する。次に、この薄膜に対してフォトリソグラフィ
とエッチングを行うことにより、有機ＥＬ素子の陽極
（発光部を含む所定領域に形成される）と、陽極用の端
子と、陰極用の端子と、陽極−端子間の配線とを同時に
パターニングする。
【０００４】次に、陽極の発光部および端子部分を残し
て、それ以外の部分のガラス基板面を透明な絶縁層で覆
う。これにより、発光部および端子部分が絶縁層で区画
される。次に、このガラス基板面の端子部分以外の部分
に、正孔注入層と発光性有機層とを形成する。次に、こ
のガラス基板面の、発光部全体を含み端子部分を除く領
域に透明陰極を形成する。次に、陰極側の端子部分以外
の部分を封止材で封止する。
て、それ以外の部分のガラス基板面を透明な絶縁層で覆
う。これにより、発光部および端子部分が絶縁層で区画
される。次に、このガラス基板面の端子部分以外の部分
に、正孔注入層と発光性有機層とを形成する。次に、こ
のガラス基板面の、発光部全体を含み端子部分を除く領
域に透明陰極を形成する。次に、陰極側の端子部分以外
の部分を封止材で封止する。
【０００５】透明陰極については、「Ａｐｐｌ．Ｐｈｙ
ｓ．Ｌｅｔｔ．Ｖｏｌ．６８（１９）、６Ｍａｙ，１９
９６」の２６０６頁に、ＭｇとＡｇを共蒸着して得られ
た薄膜を、透過型有機ＥＬ素子（発光時に光が陽極側だ
けでなく陰極側にも放射される有機ＥＬ素子）の陰極と
して形成することが記載されている。この有機ＥＬ素子
では、発光層として低分子量の有機材料であるアルミキ
ノリノール錯体（Ａｌｑ３）を用いている。また、Ｍｇ
とＡｇとからなる陰極の上にＩＴＯ膜をスパッタリング
法で成膜している。このＩＴＯ膜は、封止層および補助
陰極として設けられている。
ｓ．Ｌｅｔｔ．Ｖｏｌ．６８（１９）、６Ｍａｙ，１９
９６」の２６０６頁に、ＭｇとＡｇを共蒸着して得られ
た薄膜を、透過型有機ＥＬ素子（発光時に光が陽極側だ
けでなく陰極側にも放射される有機ＥＬ素子）の陰極と
して形成することが記載されている。この有機ＥＬ素子
では、発光層として低分子量の有機材料であるアルミキ
ノリノール錯体（Ａｌｑ３）を用いている。また、Ｍｇ
とＡｇとからなる陰極の上にＩＴＯ膜をスパッタリング
法で成膜している。このＩＴＯ膜は、封止層および補助
陰極として設けられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、発光部が絶
縁層で区画されている有機ＥＬ素子において、発光時に
は必要とされる発光強度が得られ、しかも非発光時の透
明性が高い有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。
縁層で区画されている有機ＥＬ素子において、発光時に
は必要とされる発光強度が得られ、しかも非発光時の透
明性が高い有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、発光部が絶縁層で区画され、二層構造の
透明陰極を備えている有機ＥＬ素子を提供する。二層構
造の透明陰極は、仕事関数が小さい材料からなる第一陰
極層（発光層側）と、この層より仕事関数の大きい第二
陰極層とからなり、合計厚さを所定範囲にしたものであ
る。この合計厚さは、有機ＥＬ素子の陰極以外の構成部
材（特に、陽極や絶縁層）の材質や厚さに応じて設定さ
れる。
に、本発明は、発光部が絶縁層で区画され、二層構造の
透明陰極を備えている有機ＥＬ素子を提供する。二層構
造の透明陰極は、仕事関数が小さい材料からなる第一陰
極層（発光層側）と、この層より仕事関数の大きい第二
陰極層とからなり、合計厚さを所定範囲にしたものであ
る。この合計厚さは、有機ＥＬ素子の陰極以外の構成部
材（特に、陽極や絶縁層）の材質や厚さに応じて設定さ
れる。
【０００８】第一陰極層の材料としては、例えばカルシ
ウム（Ｃａ）またはマグネシウム（Ｍｇ）を、第二陰極
層の材料としては、例えばアルミニウム（Ａｌ）、銀
（Ａｇ）、金（Ａｕ）を用いることができる。陽極の材
料としては、ＩＴＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）やＩＤＩ
ＸＯ（Ｉｎ2Ｏ3 −ＺｎＯ）が挙げられる。
ウム（Ｃａ）またはマグネシウム（Ｍｇ）を、第二陰極
層の材料としては、例えばアルミニウム（Ａｌ）、銀
（Ａｇ）、金（Ａｕ）を用いることができる。陽極の材
料としては、ＩＴＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）やＩＤＩ
ＸＯ（Ｉｎ2Ｏ3 −ＺｎＯ）が挙げられる。
【０００９】絶縁層としては、例えば、透明な絶縁層で
ある、ＳｉＯ2 、ポリイミド、ポリスチレン、アクリル
系樹脂、またはフッ化リチウム（ＬｉＦ）からなる層が
挙げられる。この絶縁層の成膜方法としては、例えば、
スパッタリング法、ＣＶＤ法、蒸着法、スピンコート法
が挙げられる。
ある、ＳｉＯ2 、ポリイミド、ポリスチレン、アクリル
系樹脂、またはフッ化リチウム（ＬｉＦ）からなる層が
挙げられる。この絶縁層の成膜方法としては、例えば、
スパッタリング法、ＣＶＤ法、蒸着法、スピンコート法
が挙げられる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。図１〜３を用いて、本発明の有機ＥＬ素子の
一実施形態について説明する。図１はこの有機ＥＬ素子
の断面図であり、図２および３はこの有機ＥＬ素子の製
造方法の各工程を示す平面図である。
説明する。図１〜３を用いて、本発明の有機ＥＬ素子の
一実施形態について説明する。図１はこの有機ＥＬ素子
の断面図であり、図２および３はこの有機ＥＬ素子の製
造方法の各工程を示す平面図である。
【００１１】この実施形態の有機ＥＬ素子は、発光部と
して、デジタル数字を構成する７個のエレメントと「Ｄ
ＥＭＯ」という文字を備えた、全面が透明な有機ＥＬパ
ネルである。この有機ＥＬパネルは、腕時計の文字盤の
上に配置して使用され、必要に応じて有機ＥＬ素子を発
光させることにより、文字盤上にデジタル数字と「ＤＥ
ＭＯ」という文字を表示する表示体である。
して、デジタル数字を構成する７個のエレメントと「Ｄ
ＥＭＯ」という文字を備えた、全面が透明な有機ＥＬパ
ネルである。この有機ＥＬパネルは、腕時計の文字盤の
上に配置して使用され、必要に応じて有機ＥＬ素子を発
光させることにより、文字盤上にデジタル数字と「ＤＥ
ＭＯ」という文字を表示する表示体である。
【００１２】このような有機ＥＬパネルを以下のように
して形成した。先ず、透明な正八角形のガラス基板１
に、陽極用の透明薄膜２を形成する。次に、この薄膜に
対してフォトリソグラフィとエッチングを行う。これに
より、前記７個のエレメントに対応する７個のエレメン
ト用陽極２１〜２７と、「ＤＥＭＯ」という文字を表示
する領域に対応する１つの長方形陽極２８と、これらの
各陽極用の端子２１ａ〜２８ａと、陰極用の端子２９
と、陽極−端子間の配線２１ｂ〜２８ｂとを同時にパタ
ーニングする。図２（ａ）はこの状態を示す。
して形成した。先ず、透明な正八角形のガラス基板１
に、陽極用の透明薄膜２を形成する。次に、この薄膜に
対してフォトリソグラフィとエッチングを行う。これに
より、前記７個のエレメントに対応する７個のエレメン
ト用陽極２１〜２７と、「ＤＥＭＯ」という文字を表示
する領域に対応する１つの長方形陽極２８と、これらの
各陽極用の端子２１ａ〜２８ａと、陰極用の端子２９
と、陽極−端子間の配線２１ｂ〜２８ｂとを同時にパタ
ーニングする。図２（ａ）はこの状態を示す。
【００１３】次に、エレメント用陽極２１〜２７のエレ
メント部分（発光部）２１ｃ〜２７ｃと、長方形陽極２
８の「ＤＥＭＯ」という文字の部分（発光部）２８ｃ
と、端子部分１０を残して、それ以外の部分のガラス基
板１面を、透明な絶縁層３で覆う。図２（ｂ）はこの状
態を示す。これにより、全ての発光部２１ｃ〜２８ｃが
透明な絶縁層３で区画される。
メント部分（発光部）２１ｃ〜２７ｃと、長方形陽極２
８の「ＤＥＭＯ」という文字の部分（発光部）２８ｃ
と、端子部分１０を残して、それ以外の部分のガラス基
板１面を、透明な絶縁層３で覆う。図２（ｂ）はこの状
態を示す。これにより、全ての発光部２１ｃ〜２８ｃが
透明な絶縁層３で区画される。
【００１４】次に、このガラス基板１面の端子部分１０
以外の部分に、発光性有機層（例えば正孔注入層／発光
層／電子輸送層）４を形成する。図２（ｃ）はこの状態
を示す。これにより、図１から分かるように、発光性有
機層４は、エレメント部分（発光部）２１ｃ〜２７ｃお
よび「ＤＥＭＯ」という文字の部分（発光部）２８ｃに
は接触するように、それ以外の部分には絶縁層３を介し
て形成される。
以外の部分に、発光性有機層（例えば正孔注入層／発光
層／電子輸送層）４を形成する。図２（ｃ）はこの状態
を示す。これにより、図１から分かるように、発光性有
機層４は、エレメント部分（発光部）２１ｃ〜２７ｃお
よび「ＤＥＭＯ」という文字の部分（発光部）２８ｃに
は接触するように、それ以外の部分には絶縁層３を介し
て形成される。
【００１５】次に、このガラス基板１面に、ガラス基板
１の周縁部全体（端子部分１０を含む）を除く領域に、
透明陰極５を形成する。なお、この透明陰極５は、正八
角形の一つの角部から小さな長方形が突出している形状
で形成され、この突出部５１により透明陰極５と陰極用
の端子２９とを接触させている。図３（ａ）はこの状態
を示す。
１の周縁部全体（端子部分１０を含む）を除く領域に、
透明陰極５を形成する。なお、この透明陰極５は、正八
角形の一つの角部から小さな長方形が突出している形状
で形成され、この突出部５１により透明陰極５と陰極用
の端子２９とを接触させている。図３（ａ）はこの状態
を示す。
【００１６】次に、このガラス基板１面の陽極用の端子
２１ａ〜２８ａと陰極用の端子２９の上に、それぞれ独
立にアルミニウム薄膜からなる端子被覆部６１〜６８，
６０を形成する。陰極用の端子被覆部６０は、端子２９
の上のみでなく、透明陰極５の端子２９側の一部、すな
わち、端子２９の上に形成された突出部５１と、この突
出部５１の基端に位置する正八角形の辺（陽極用の端子
部側ではなくその反対側に延びる辺）に沿った所定長さ
の部分、の上にも形成する。図３（ｂ）はこの状態を示
す。
２１ａ〜２８ａと陰極用の端子２９の上に、それぞれ独
立にアルミニウム薄膜からなる端子被覆部６１〜６８，
６０を形成する。陰極用の端子被覆部６０は、端子２９
の上のみでなく、透明陰極５の端子２９側の一部、すな
わち、端子２９の上に形成された突出部５１と、この突
出部５１の基端に位置する正八角形の辺（陽極用の端子
部側ではなくその反対側に延びる辺）に沿った所定長さ
の部分、の上にも形成する。図３（ｂ）はこの状態を示
す。
【００１７】次に、図１に示すように、このガラス基板
１面（透明陰極５が形成されている面）の端子部分１０
以外の部分に、封止層７を形成し、この封止層７の上に
封止用のガラス基板８を固定する。これにより、腕時計
の文字盤の上に配置して使用される有機ＥＬパネルＰが
得られる。この有機ＥＬパネルＰの陰極用の端子２９と
陽極用の端子２１ａ〜２８ａを、駆動回路の対応する各
端子に接続し、デジタル数字を構成する７個のエレメン
トと「ＤＥＭＯ」のうち発光させたい部分の陽極２１〜
２８の端子２１ａ〜２８ａと陰極用の端子２９との間に
通電を行う。これにより、通電された部分の有機ＥＬ素
子が発光して、「１」〜「８」のいずれかのデジタル数
字および／または「ＤＥＭＯ」という文字が表示され
る。
１面（透明陰極５が形成されている面）の端子部分１０
以外の部分に、封止層７を形成し、この封止層７の上に
封止用のガラス基板８を固定する。これにより、腕時計
の文字盤の上に配置して使用される有機ＥＬパネルＰが
得られる。この有機ＥＬパネルＰの陰極用の端子２９と
陽極用の端子２１ａ〜２８ａを、駆動回路の対応する各
端子に接続し、デジタル数字を構成する７個のエレメン
トと「ＤＥＭＯ」のうち発光させたい部分の陽極２１〜
２８の端子２１ａ〜２８ａと陰極用の端子２９との間に
通電を行う。これにより、通電された部分の有機ＥＬ素
子が発光して、「１」〜「８」のいずれかのデジタル数
字および／または「ＤＥＭＯ」という文字が表示され
る。
【００１８】図３（ｃ）は、この有機ＥＬパネルＰの全
ての陽極用端子２１ａ〜２８ａを陰極用端子２９と接続
して、デジタル数字の「８」と「ＤＥＭＯ」の両方を表
示した状態を示す。この有機ＥＬパネルＰを以下の構成
で作製したところ、３Ｖの直流電圧を供給することによ
って、デジタル数字の「８」と「ＤＥＭＯ」の両方につ
いて、実用的な強度で発光することが確認された。この
有機ＥＬパネルＰは、端子被覆部６０〜６８を有するこ
とにより、端子被覆部６０〜６８を設けない場合よりも
駆動電圧を低くすることができる。
ての陽極用端子２１ａ〜２８ａを陰極用端子２９と接続
して、デジタル数字の「８」と「ＤＥＭＯ」の両方を表
示した状態を示す。この有機ＥＬパネルＰを以下の構成
で作製したところ、３Ｖの直流電圧を供給することによ
って、デジタル数字の「８」と「ＤＥＭＯ」の両方につ
いて、実用的な強度で発光することが確認された。この
有機ＥＬパネルＰは、端子被覆部６０〜６８を有するこ
とにより、端子被覆部６０〜６８を設けない場合よりも
駆動電圧を低くすることができる。
【００１９】ガラス基板１：厚さ０．７ｍｍのソーダガ
ラス 陽極用の透明薄膜２：厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ薄膜 透明な絶縁層３：厚さ１５０ｎｍのＳｉＯ2 膜 発光性有機層４：絶縁層側３から、厚さ５０ｎｍのＮ，
Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジナフチル−１，１’−
ビフェニル−４，４’−ジアミンからなる正孔注入層
と、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム錯
体からなる電子輸送性発光層 透明陰極５：発光性有機層４側から、厚さ１２０Å（１
２ｎｍ）のカルシウム（Ｃａ）薄膜（第１陰極）と、厚
さ２０Å（２ｎｍ）の金（Ａｕ）薄膜（第２陰極）とか
らなる二層構造、ともに真空蒸着法により形成 陰極用の端子被覆部６０：厚さ２００ｎｍ、幅０．２ｍ
ｍ 陽極用の端子被覆部６１〜６８：厚さ２００ｎｍ、幅
０．２ｍｍ 封止層７：厚さ２μｍのエポキシ樹脂からなる層 封止用のガラス基板８：厚さ０．１ｍｍのソーダガラス 次に、二層構造の透明陰極を構成する第１陰極（カルシ
ウム薄膜）と第２陰極（金薄膜）の厚さを変化させて、
上記と同じ構成の有機ＥＬパネルを作製し、発光部の分
光透過率を測定した。その結果を図４にグラフで示す。
この図において、「−○−」は、上記構成の透明薄膜
（１５０ｎｍのＩＴＯ薄膜）単独での分光透過率を示
す。また、Ｃａ９０Ａｕ３０は、第１陰極であるカルシ
ウム薄膜の厚さが９０Å（９ｎｍ）、第２陰極である金
薄膜の厚さが３０Å（３ｎｍ）であることを示す。
ラス 陽極用の透明薄膜２：厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ薄膜 透明な絶縁層３：厚さ１５０ｎｍのＳｉＯ2 膜 発光性有機層４：絶縁層側３から、厚さ５０ｎｍのＮ，
Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジナフチル−１，１’−
ビフェニル−４，４’−ジアミンからなる正孔注入層
と、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム錯
体からなる電子輸送性発光層 透明陰極５：発光性有機層４側から、厚さ１２０Å（１
２ｎｍ）のカルシウム（Ｃａ）薄膜（第１陰極）と、厚
さ２０Å（２ｎｍ）の金（Ａｕ）薄膜（第２陰極）とか
らなる二層構造、ともに真空蒸着法により形成 陰極用の端子被覆部６０：厚さ２００ｎｍ、幅０．２ｍ
ｍ 陽極用の端子被覆部６１〜６８：厚さ２００ｎｍ、幅
０．２ｍｍ 封止層７：厚さ２μｍのエポキシ樹脂からなる層 封止用のガラス基板８：厚さ０．１ｍｍのソーダガラス 次に、二層構造の透明陰極を構成する第１陰極（カルシ
ウム薄膜）と第２陰極（金薄膜）の厚さを変化させて、
上記と同じ構成の有機ＥＬパネルを作製し、発光部の分
光透過率を測定した。その結果を図４にグラフで示す。
この図において、「−○−」は、上記構成の透明薄膜
（１５０ｎｍのＩＴＯ薄膜）単独での分光透過率を示
す。また、Ｃａ９０Ａｕ３０は、第１陰極であるカルシ
ウム薄膜の厚さが９０Å（９ｎｍ）、第２陰極である金
薄膜の厚さが３０Å（３ｎｍ）であることを示す。
【００２０】すなわち、この図には、９０Åのカルシ
ウム薄膜と３０Åの金薄膜からなる二層構造の陰極（合
計厚さ１２０Å）を有する有機ＥＬ素子と、１２０Å
のカルシウム薄膜と２０Åの金薄膜からなる二層構造の
陰極（合計厚さ１４０Å）を有する有機ＥＬ素子と、
１５０Åのカルシウム薄膜と２０Åの金薄膜からなる二
層構造の陰極（合計厚さ１７０Å）を有する有機ＥＬ素
子についての、分光透過率の測定結果が記載されてい
る。
ウム薄膜と３０Åの金薄膜からなる二層構造の陰極（合
計厚さ１２０Å）を有する有機ＥＬ素子と、１２０Å
のカルシウム薄膜と２０Åの金薄膜からなる二層構造の
陰極（合計厚さ１４０Å）を有する有機ＥＬ素子と、
１５０Åのカルシウム薄膜と２０Åの金薄膜からなる二
層構造の陰極（合計厚さ１７０Å）を有する有機ＥＬ素
子についての、分光透過率の測定結果が記載されてい
る。
【００２１】この図から分かるように、これらの３つの
有機ＥＬ素子のいずれについても、５００ｎｍで５０％
以上の透過率が得られた。また、いずれの有機ＥＬ素子
についても、３Ｖの直流電圧を供給することによって、
実用的な強度で発光することが確認された。ただし、
の素子では各素子における複数の発光部間の発光強度
に差は認められなかったが、の素子については、複数
の発光部間の発光強度に差が認められた。これは、の
素子の陰極の合計厚さが１２０Åと薄いため、発光性有
機層４の基板面と平行でない部分（特に、図１に符号４
３で示す、絶縁層３の発光部を囲う壁面に対応する部
分）に、陰極をなす両薄膜で十分に覆われない部分が生
じて、陰極面に沿った方向での導通が不完全になったこ
とに起因すると考えられる。尚、本発明の有機ＥＬ素子
において、絶縁層で区画された領域内で、陽極としてＰ
ｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｕの層、又はＩＴＯとＡｌの
積層構造等を設け、更に有機発光層（発光部）等を介し
て、透明陰極、即ち発光層からの光に対して実質的に透
明である陰極として、金、カルシルム、アルミニウムの
層、これらの積層構造等を所定の厚みで設けて、発光層
から上層（陰極）を介して外部へ光が出射するような形
態とすることができる。
有機ＥＬ素子のいずれについても、５００ｎｍで５０％
以上の透過率が得られた。また、いずれの有機ＥＬ素子
についても、３Ｖの直流電圧を供給することによって、
実用的な強度で発光することが確認された。ただし、
の素子では各素子における複数の発光部間の発光強度
に差は認められなかったが、の素子については、複数
の発光部間の発光強度に差が認められた。これは、の
素子の陰極の合計厚さが１２０Åと薄いため、発光性有
機層４の基板面と平行でない部分（特に、図１に符号４
３で示す、絶縁層３の発光部を囲う壁面に対応する部
分）に、陰極をなす両薄膜で十分に覆われない部分が生
じて、陰極面に沿った方向での導通が不完全になったこ
とに起因すると考えられる。尚、本発明の有機ＥＬ素子
において、絶縁層で区画された領域内で、陽極としてＰ
ｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｕの層、又はＩＴＯとＡｌの
積層構造等を設け、更に有機発光層（発光部）等を介し
て、透明陰極、即ち発光層からの光に対して実質的に透
明である陰極として、金、カルシルム、アルミニウムの
層、これらの積層構造等を所定の厚みで設けて、発光層
から上層（陰極）を介して外部へ光が出射するような形
態とすることができる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
発光部が絶縁層で区画されている有機ＥＬ素子におい
て、発光時には必要とされる発光強度が得られ、しかも
非発光時の透明性が高い有機ＥＬ素子が提供される。
発光部が絶縁層で区画されている有機ＥＬ素子におい
て、発光時には必要とされる発光強度が得られ、しかも
非発光時の透明性が高い有機ＥＬ素子が提供される。
【図１】本発明の有機ＥＬ素子の一実施形態に相当する
有機ＥＬパネルを示す断面図である。
有機ＥＬパネルを示す断面図である。
【図２】図１の有機ＥＬパネルの製造方法の各工程を示
す平面図である。
す平面図である。
【図３】図１の有機ＥＬパネルの製造方法の各工程を示
す平面図である。
す平面図である。
【図４】実施形態の有機ＥＬ素子において、二層構造の
透明陰極を構成する第１陰極（カルシウム薄膜）と第２
陰極（金薄膜）の厚さを変化させた時の、発光部の分光
透過率の違いを示すグラフである。
透明陰極を構成する第１陰極（カルシウム薄膜）と第２
陰極（金薄膜）の厚さを変化させた時の、発光部の分光
透過率の違いを示すグラフである。
１ ガラス基板 １０ 端子部分 ２ 陽極用の透明薄膜 ２１〜２７ エレメント用陽極 ２１ａ〜２７ａ 陽極用の端子 ２１ｂ〜２７ｂ 陽極−端子間の配線 ２１ｃ〜２７ｃ エレメント部分（発光部） ２８ 長方形陽極 ２８ａ 陽極用の端子 ２８ｂ 陽極−端子間の配線 ２８ｃ 「ＤＥＭＯ」部分（発光部） ２９ 陰極用の端子 ３ 透明な絶縁層 ４ 発光性有機層 ５ 透明陰極 ５１ 透明陰極の突出部 ６０ 陰極用の端子被覆部 ６１〜６８ 陽極用の端子被覆部 ７ 封止層 ８ 封止用のガラス基板 Ｐ 有機ＥＬパネル
Claims (2)
- 【請求項１】 発光部が絶縁層で区画され、二層構造の
透明陰極を備えている有機ＥＬ素子。 - 【請求項２】 基板上に設けられた絶縁層で区画された
領域に基板側から陽極、発光層、陰極の順で積層された
構造の有機ＥＬ素子であって、陰極が実質的に該当発光
層からの光に対して透明であり、該発光層から該陰極を
経て外部に光が出射される有機ＥＬ素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001076041A JP2002280187A (ja) | 2001-03-16 | 2001-03-16 | 有機ｅｌ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001076041A JP2002280187A (ja) | 2001-03-16 | 2001-03-16 | 有機ｅｌ素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002280187A true JP2002280187A (ja) | 2002-09-27 |
Family
ID=18933041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001076041A Withdrawn JP2002280187A (ja) | 2001-03-16 | 2001-03-16 | 有機ｅｌ素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002280187A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005123205A (ja) * | 2002-10-24 | 2005-05-12 | Toyota Industries Corp | 有機ｅｌ素子 |
| KR100625969B1 (ko) | 2003-04-24 | 2006-09-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전자 발광 소자 |
| JP2007234610A (ja) * | 2007-05-01 | 2007-09-13 | Sony Corp | 表示装置の製造方法 |
| US7274142B2 (en) | 2002-10-01 | 2007-09-25 | Sony Corporation | Display unit having sealing structure and manufacturing method of same |
| JP2012178579A (ja) * | 2005-08-31 | 2012-09-13 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
| US9129922B2 (en) | 2011-06-28 | 2015-09-08 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
-
2001
- 2001-03-16 JP JP2001076041A patent/JP2002280187A/ja not_active Withdrawn
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