JPH10217074A - 平面研削方法及び装置 - Google Patents

平面研削方法及び装置

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JPH10217074A
JPH10217074A JP2407097A JP2407097A JPH10217074A JP H10217074 A JPH10217074 A JP H10217074A JP 2407097 A JP2407097 A JP 2407097A JP 2407097 A JP2407097 A JP 2407097A JP H10217074 A JPH10217074 A JP H10217074A
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JP
Japan
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grinding wheel
grinding
processing
wafer
wheel
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Withdrawn
Application number
JP2407097A
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English (en)
Inventor
Tameyoshi Hirano
為義 平野
Kanji Handa
貫士 半田
Keiji Kawaguchi
桂司 川口
Fumihiko Hasegawa
文彦 長谷川
Toshihiro Tsuchiya
敏弘 土屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Toyo Advanced Technologies Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Toyo Advanced Technologies Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP2407097A priority Critical patent/JPH10217074A/ja
Publication of JPH10217074A publication Critical patent/JPH10217074A/ja
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ワーク加工面を効率良くかつ高精度で平面研
削する。 【解決手段】 ウェハW等のワークの加工面を平面研削
するための方法及び装置。加工面の最大幅寸法以上の軸
方向寸法をもつ研削用砥石を回転させ、加工面に接触さ
せながら、ワークと研削用砥石とを相対移動させて研削
を行う。その研削中、加工位置xでの加工面と研削用砥
石との接触幅bが大きいほど、加工条件を切込み量が増
える方向に変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハをは
じめとする各種ワークの加工面を平面状に研削するため
の方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ワーク加工面を平面研削する装置
として、図6に示すようなものが一般に知られている。
図示のテーブル90は、ベッド上に設置され、図略のボ
ールねじ機構等で水平方向に往復駆動されるようになっ
ている。ワーク92は、その加工面92aが上を向く状
態でテーブル90上に設置され、このテーブル90と一
体に往復動するようにテーブル90に固定されている。
一方、テーブル90の上方には、水平に延びる砥石軸9
4が配設され、この砥石軸94の端部に研削用砥石96
が固定されている。この研削用砥石96は、上記砥石軸
94を中心軸とする円筒状の外周面を有している。
【0003】このような装置によれば、図略のモータ等
により砥石軸94及び研削用砥石96を一体に回転駆動
し、研削用砥石96の外周面をワーク92の上面(加工
面92a)に押付けながら、ワーク92をテーブル90
と一体に水平方向に移送することにより、加工面92a
を平面研削することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図6に示すように、従
来の平面研削装置では、研削用砥石96の幅寸法(すな
わち軸方向寸法a)が加工面92aの最大幅寸法dmax
よりも小さいため、一回のワーク移送では、その加工面
92aの一部しか研削することができない。従って、加
工面92aを全域にわたって研削するには、砥石軸94
と平行な方向に研削用砥石96の位置を変えて何度もワ
ーク92の往復操作をしなければならず、加工能率が悪
い。
【0005】このような不都合を解消する手段として、
研削用砥石96の軸方向寸法aを加工面92aの最大幅
寸法dmaxよりも大きくし、加工中常に加工面92aを
その幅方向全域にわたって研削用砥石96と接触させる
ことが考えられる。しかし、この場合、ワーク92の位
置によってその加工面92aと研削用砥石96とが接触
している部分の幅寸法(以下、接触幅と称する。)が変
化するので、この接触幅の増減に伴って研削用砥石96
が加工面92から受ける上向きの反力も増減してしま
う。この反力は、砥石支持部材(例えば砥石軸94)等
を弾性変形させながら研削用砥石96を上向きに変位さ
せるものであるので、この反力の増減に伴って研削用砥
石96が加工中に上下に変位することになる。このよう
な加工中での研削用砥石96の上下動は、加工面92a
の平面度を悪化させる要因となる。
【0006】本発明は、このような事情に鑑み、ワーク
加工面を効率良くしかも高精度で平面研削できる方法及
び装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の手段として、本発明は、円筒状外周面を有し、かつ、
ワーク加工面の最大幅寸法以上の軸方向寸法を有する研
削用砥石をその中心軸回りに回転させ、この研削用砥石
にワークの加工面をその幅方向全域にわたって接触させ
ながらこれらの研削用砥石及びワークを研削用砥石の回
転軸と略直交する方向に相対移動させるとともに、この
相対移動中、上記研削用砥石に対する加工面の接触幅が
大きいほど切り込み量を増やす方向に研削加工条件を変
化させるものである。
【0008】また本発明は、円筒状外周面を有し、か
つ、ワーク加工面の最大幅寸法以上の軸方向寸法を有す
る研削用砥石と、この研削用砥石をその中心軸回りに回
転可能に支持する砥石支持部材と、上記研削用砥石を回
転させる砥石駆動手段と、上記研削用砥石にワークの加
工面を接触させながらこれらのワーク及び研削用砥石を
研削用砥石の回転軸と略直交する方向に相対移動させる
加工送り手段と、上記加工面が上記研削用砥石と接触し
ている加工位置を検出する加工位置検出手段と、上記ワ
ークの加工中、上記加工位置検出手段により検出される
加工位置での研削用砥石に対する加工面の接触幅が大き
いほど加工面の切り込み量を増やす方向に研削加工条件
を変化させる制御手段とを備えたものである。
【0009】これらの方法及び装置では、研削加工中、
常に加工面をその幅方向全域にわたって研削用砥石に接
触させるので、従来のように研削用砥石の位置をその軸
方向にずらして何度も研削加工を繰り返すといった作業
は要しない。また、その研削加工中、加工面と研削用砥
石との接触幅の変化に起因して加工面から研削用砥石へ
向かう反力(すなわち研削用砥石を加工面から遠ざかる
方向に変位させようとする力)が増減しても、その接触
幅が大きいほど、すなわち、上記反力が大きいほど、切
込み量を増やす方向に加工条件を変化させるので、これ
により加工面の実際の切込み量を均等化して加工面の平
面度を高めることができる。
【0010】上記制御手段による制御には、種々のもの
が考えられる。例えば、上記砥石支持部材及び研削用砥
石を上記加工面に対して接離する方向に移動させる切込
み送り手段を備えるとともに、上記制御手段として、上
記接触幅が大きいほど上記研削用砥石を上記加工面に押
付ける向きにこの研削用砥石及び砥石支持部材を変位さ
せるように上記切込み送り手段を作動させる切込み制御
手段を備えることにより、実際の切込み量の均等化がで
きる。
【0011】ここで、一対の研削用砥石をその回転軸同
士が平行となるように配置し、これら研削用砥石を互い
に接離する方向に移動させるように上記切込み送り手段
を構成したものでは、両研削用砥石のすき間にワークを
通してこのワークの両面に研削用砥石を接触させるよう
に加工送り手段を構成するとともに、上記加工位置での
両研削用砥石に対するワーク両面の接触幅が大きいほど
研削用砥石同士を接近させるように上記切込み制御手段
を構成すればよい。この装置では、両研削用砥石により
ワークの両面を同時研削できる利点がある。
【0012】また、ワークと研削用砥石との相対移動速
度が低いほど、実際の切込み量は増大するので、上記制
御手段として、上記接触幅が大きいほど上記ワークと研
削用砥石との相対移動速度を低下させるように上記加工
送り手段を作動させる送り速度制御手段を備えるように
してもよい。
【0013】また、上記切込み量は研削用砥石の回転速
度にも影響を受けるので、この回転速度を変化させるよ
うにしてもよい。例えば、上記研削用砥石として表面に
気孔を有しない砥石を用いる場合には、この研削用砥石
と加工面との間に形成されるクーラント膜に起因して、
研削用砥石の回転速度が高いほどこの研削用砥石が加工
面に対して滑りやすくなり、実際の切込み量は低減する
ので、この場合には、上記制御手段として、上記接触幅
が大きいほど上記砥石の回転速度を低下させるように上
記砥石駆動手段を作動させる砥石駆動制御手段を備えれ
ばよい。
【0014】逆に、上記研削用砥石として表面に気孔を
有する砥石を用いる場合には、その気孔内にクーラント
が取り込まれるために上記クーラント膜及びこれに起因
する滑りは生じにくく、砥石回転速度が高いほど、すな
わち単位時間当たりに加工面に接触する砥粒の数が多い
ほど、実際の切込み量は増大するので、この場合には、
上記制御手段として、上記接触幅が大きいほど上記砥石
の回転速度を上昇させるように上記砥石駆動手段を作動
させる砥石駆動制御手段を備えればよい。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の形態の一
例を図1〜図5に基づいて説明する。なお、この実施の
形態では、ワーク加工面として半導体ウェハWの両面を
研削するものを示すが、本発明は種々の工作物の加工面
であって、その送り方向に幅寸法が変化する加工面の平
面研削に良好に適用できるものである。
【0016】図2〜図4に示すウェハ研削装置は、ベッ
ド10を備えている。このベッド10の左右両翼部には
砥石台12が配置され、両砥石台12の奥中央にウェハ
保持台14が配置されている。
【0017】各砥石台12は、固定台16と、移動台1
8とを備えている。固定台16は、加工装置全体の左右
方向(図2及び図4のX軸方向。以下、単に「X軸方
向」と称する。)に延び、ベッド10上に固定されてい
る。移動台18は、固定台16上にX軸方向にスライド
可能に支持され、切込み送りモータ28及び図略の送り
ねじ機構からなる切込み送り手段によって上記X軸方向
にスライド駆動されるようになっている。
【0018】各移動台18の前端部(加工装置中央より
の端部)には、砥石保持部(砥石保持部材)20が形成
されている。この砥石保持部20には、上下に延びる砥
石回転軸22が回転可能に保持され、この砥石回転軸2
2の周囲に研削用砥石24が固定されている。そして、
上記切込み送りモータ28の作動で両移動台18が相互
逆向きにスライド駆動されることにより、研削用砥石2
4が互いに接離する方向に移送され、両研削用砥石24
間の隙間寸法が調節されるようになっている。また、各
砥石回転軸22には砥石駆動モータ(砥石駆動手段)2
6が連結され、この砥石駆動モータ26の作動により研
削用砥石24が砥石回転軸22を中心に所定方向(図4
の矢印方向)に回転駆動されるようになっている。
【0019】なお、本発明では研削用砥石24の具体的
な材質は問わず、ウェハの研削に適したものであれば良
い。一般には、ダイヤモンド砥石を結合剤で一体化した
ものが好適である。
【0020】ウェハ保持台14も、固定台30と、移動
台32とを備えている。固定台30は、加工装置全体の
前後方向(図2及び図4のY軸方向。以下、単に「Y軸
方向」と称する。)に延び、ベッド10上に固定されて
いる。移動台32は、固定台30上にY軸方向にスライ
ド可能に支持され、ウェハ送りモータ33及び図略の送
りねじ機構からなる加工送り手段によって上記Y軸方向
にスライド駆動されるようになっている。
【0021】移動台32には、上記Y軸方向に延びる上
下一対の支持アーム34が固定され、これら支持アーム
34の前端部同士の間にキャリア36が固定されてい
る。このキャリア36は、図5(a)に示すように、加
工対象であるウェハWよりも薄肉の板状をなし、このウ
ェハWの半径と同一の曲率半径をもつ円弧状の内周面3
6aを有している。さらに、上記ウェハWの表裏両側の
エッジが面取りされてテーパー面tfが形成されている
関係から、このテーパー面tfとキャリア36の内周面
36aとを略合致させるべく、この内周面36aがV溝
状に形成されている。
【0022】上記キャリア36よりも後方の位置には、
シリンダ装置38が設けられている。このシリンダ装置
38は、シリンダ本体への油圧あるいは空気圧の供給に
よりX軸方向に伸縮する複数の伸縮ロッド39を有し、
これら伸縮ロッド39の前端部に固定板40が固定され
ている。そして、この固定板40から前方(キャリア3
6に近づく方向)にクランパ保持部材42が延び、この
クランパ保持部材42の前端にクランパ44が固定され
ている。
【0023】このクランパ44も、前記キャリア36と
同様、ウェハWよりも薄肉の板状をなし、このウェハW
の半径と同一の曲率半径をもつ円弧状の内周面44aを
有している。さらに、上記ウェハWのテーパー面tfと
クランパ44の内周面44aとを略合致させるべく、こ
の内周面44aもV溝状に形成されている。そして、上
記シリンダ装置38の作動でクランパ44が前方に駆動
されることにより、このクランパ44の内周面44aと
上記キャリア36の内周面36aとがウェハWの外周テ
ーパー面tfと略合致する状態でウェハWがクランプ可
能とされ(図5(a)二点鎖線)、このクランプ状態で
ウェハ送りモータ33が作動することにより、ウェハW
が移動台32と一体に上記Y軸方向に移送されるように
なっている。
【0024】ここで、キャリア36及びクランパ44の
X軸方向に関する配設位置は、両研削用砥石24の中間
位置と合致する位置に設定されている。また、両研削用
砥石24の軸方向寸法(図例では上下方向の寸法)はウ
ェハWの直径以上の寸法に設定され、かつ、このウェハ
Wの両面全域が両研削用砥石24と接触可能となるよう
に、上記キャリア36及びクランパ44がウェハWを保
持する高さ位置が設定されている。
【0025】ベッド10上において、図4のようにキャ
リア36及びクランパ44が最も後退した位置から両研
削用砥石24間の位置へ至る途中の位置には、ウェハ供
給台46が立設されている。このウェハ供給台46の上
部には、その片側面(図3では右側面、図4では手前側
面)にウェハWを吸着保持する吸着部47が設けられて
いる。
【0026】ベッド10の適所には支持コラム48が立
設され、この支持コラム48の上端にドレス装置50が
支持されている。このドレス装置50は、固定台52及
び昇降台54を備えており、固定台52は上記支持コラ
ム48に固定され、昇降台54は固定台52に上下方向
(図4のZ軸方向)にスライド可能すなわち昇降可能に
支持されている。
【0027】昇降台54からは下向きに砥石保持棒56
が延設され、この砥石保持棒56の下端にドレス用砥石
58が固定されている。このドレス用砥石58は、その
X軸方向両端が砥石保持棒56の両側面から突出してお
り、このドレス用砥石58の両突出部が両研削用砥石2
4の側面に同時接触可能となるように(図3参照)、ド
レス装置50全体の支持位置が設定されている。また、
固定台52の頂部にはドレス送りモータ60が設けら
れ、このドレス送りモータ60及び図略の送りねじ機構
によって、上記昇降台54、砥石保持棒56、及びドレ
ス用砥石58が一体に上下に往復駆動されるようになっ
ている。
【0028】この装置には、図2に示すような制御装置
(制御手段)70が装備されている。この制御装置70
は、コンピュータ等からなり、各モータ26,28,3
3,60に内蔵されたエンコーダの出力する検出信号に
基づき、これらのモータやシリンダ装置38の作動を制
御するように構成されている。
【0029】次に、この制御装置70の制御の下で行わ
れるウェハWの両面研削動作を説明する。
【0030】 初期状態として、砥石台12の移動台
18、ウェハ保持台14の移動台32、クランパ44を
全て後退させる。すなわち、研削用砥石24同士を大き
く離間させ、キャリア36及びクランパ44を吸着部4
7よりも後方に位置させる。
【0031】 ウェハ送りモータ33を作動させて移
動台32を前進させ、キャリア36の円弧状内周面36
aの中心が吸着部47の中心を通り過ぎた位置で停止さ
せる。
【0032】 図略のスライシング装置により切り出
されたウェハWを搬送し、これを吸着部47に吸着させ
る。
【0033】 シリンダ装置38を作動させてクラン
パ44を前進させ、このクランパ44と前記キャリア3
6とでウェハWをその直径方向外側からクランプする
(図1(a)の二点鎖線の状態)。このクランプ後、吸
着部47による吸着を止める。
【0034】 各砥石駆動モータ26の作動によって
研削用砥石24を回転駆動するとともに、両砥石台12
の移動台18を前進させて研削用砥石24同士を接近さ
せ、両研削用砥石24の間の隙間寸法をウェハWの目標
厚み寸法(<加工前のウェハWの厚み寸法)に対応する
寸法に合致させる。
【0035】 の状態からウェハ保持台14の移動
台32をさらに前進させる。ここで、クランプ部材であ
るキャリア36及びクランパ44はウェハWよりも薄い
ため、これらキャリア36及びクランパ44は両研削用
砥石24と接触することなくこれら研削用砥石24の間
を通り抜け、ウェハWの表裏両面のみが研削用砥石24
と接触する(図5(b)の状態)。これにより、ウェハ
Wの両面が同時に研削加工される。
【0036】この研削加工中、制御装置70は、ウェハ
送りモータ33に内蔵のエンコーダ(加工位置検出手
段)から入力される検出信号に基づいて、現在のウェハ
Wと両研削用砥石24との接触位置(加工位置)を認識
するとともに、この加工位置でのウェハWの両面と研削
用砥石24との接触幅(図例の装置では接触領域の上下
寸法)を演算し、この接触幅が大きいほど両研削用砥石
24をさら接近させるように両切込み送りモータ28を
作動させる制御を行う。
【0037】その詳細を以下に説明する。図1に示すよ
うに、ウェハWの半径をR、ウェハWの送り方向前端
(図では左端)から加工位置までの距離をx、その加工
位置でのウェハWのエッジ高さをyとすると、この加工
位置でのウェハWと研削用砥石24との接触幅bは次式
で表される。
【0038】
【数1】
【0039】この数1から、加工位置xと接触幅bとの
関係を表す次式が導かれる。
【0040】
【数2】
【0041】この式に示されるように、加工位置xがウ
ェハWの半径Rに近づくにつれて(すなわちウェハWの
中心位置に近づくにつれて)接触幅bは増大し、x=R
の位置で接触幅bは最大値2Rとなる。この位置を過ぎ
た後は接触幅bが再び減少し、x=2Rの位置で接触幅
bは0に戻る。
【0042】このように接触幅bが加工中に増減する
と、これに比例して研削用砥石24がウェハWの両面か
ら受ける反力(両外側向きの力)も増減する。この反力
が大きいほど、各移動台18におけるボールねじや軸受
等の弾性変形を伴って研削用砥石24が正規の位置より
も両外側に逃げようとするので、もし移動台18が従来
のように加工中に完全静止しているとすると、上記反力
の増減に伴って研削用砥石24の位置がX軸方向に変化
する(すなわち研削用砥石24間の隙間寸法が変化す
る)ことになる。このような隙間寸法の変化は、加工面
であるウェハW両面の位置変化に直結し、このウェハW
両面の平面度を悪化させる要因となる。具体的には、反
力の大きいウェハW中央部でウェハWが厚くなり、反力
の小さいウェハWの前後両端部でウェハWが薄くなって
しまう。
【0043】そこで、制御装置70は、加工中での接触
幅bの変化をリアルタイムで演算し、この接触幅bの増
大に伴い、この接触幅bに対応した量(例えば一定の比
例係数を乗じた量)だけ両研削用砥石24を加工開始時
よりもさらに接近させる。すなわち、両研削用砥石24
間の隙間寸法を小さくする。このような補正制御によ
り、研削用砥石24によるウェハWの両面の切り込み量
を均一化でき、ウェハWの両面を高精度で平面研削する
ことができる。
【0044】 加工後のウェハWは吸着部47に再吸
着し、適宜回収する。また、研削用砥石24の切れ味が
鈍った場合等には、ドレス装置50で適宜ドレッシング
を行う。
【0045】以上のような方法及び装置によれば、加工
面の最大幅寸法(ウェハ直径2R)以上の軸方向寸法を
もつ研削用砥石24を用いて常にウェハWの両面が幅方
向全域(図例では上下方向全域)にわたって研削用砥石
24と接触するようにしているので、従来のように研削
用砥石24の軸方向位置を変えてウェハWを何度も往復
させる必要がなく、短時間で効率良くウェハWの両面を
加工することができる。しかも、加工中の接触幅bの変
化に伴って両研削用砥石24の隙間寸法を変化させる
(すなわち切込み位置を変化させる)ようにしているの
で、ウェハWの両面を高精度で平面研削できる。
【0046】なお、このような高精度研削を実現する手
段は、上記のような切込み制御に限らず、他の加工条件
の制御、例えば次のような制御を行うように制御装置7
0を構成してもよい。
【0047】A)ウェハ送り速度制御:接触幅bが増大
するにつれて、ウェハWの送り速度を小さくする。上記
の例では、ウェハWの中央部分に向かうにつれて送り速
度を低下させ、中央部分を過ぎた後は送り速度を上昇さ
せる。一般に、ウェハWの切込み量は研削用砥石24と
の接触時間が長いほど多くなるので、上記のような送り
速度制御を行うことにより、実際の切込み量を均一化し
て平面度を向上させることができる。なお、前記図2等
にはウェハWを実際に移動させるものを示したが、ウェ
ハWの位置は固定して研削用砥石24側を移送する装置
では、この研削用砥石24の移動速度を変化させるよう
にすればよい。
【0048】B)砥石駆動速度制御:切込み量は研削用
砥石24の回転速度によっても変化するので、砥石駆動
モータ26による砥石回転駆動速度を加工中に変化させ
ることによっても形状補正が可能である。ただし、研削
用砥石24の性状によって制御内容を異ならせる必要が
ある。
【0049】まず、レジノイド結合剤(人造樹脂質結合
剤)を用いた砥石のように、表面に実質上気孔を有しな
い砥石を研削用砥石24として用いた場合には、この研
削用砥石24と加工面との間にクーラント膜が形成され
るため、砥石回転速度が大きいほど加工面に対して研削
用砥石24が滑り易く、実際の切込み量は低減する。従
って、この場合には、上記接触幅bが増大するにつれて
砥石回転速度を低下させるような制御を行えばよい。
【0050】逆に、ビトリファイド結合剤(磁器質結合
剤)のように、表面に十分な数の気孔を有する砥石を研
削用砥石24として用いた場合には、供給されるクーラ
ントが気孔内に取り込まれて上記クーラント膜の形成及
びこれに起因する滑りが抑制されるため、砥石回転速度
が大きいほど、すなわち、単位時間当たりに加工面と接
触する砥石の数が多いほど、実際の切込み量は増大す
る。従って、この場合には、上記接触幅bが増大するに
つれて砥石回転速度を上昇させるような制御を行えばよ
い。
【0051】なお、前記図2等には、一対の研削用砥石
24の間にウェハWを通してその両面を同時研削するも
のを示したが、本発明は、前記図6に示したようなテー
ブル移送式のもの、すなわち、テーブルでワークを移送
しながらその一面のみを研削するものにも適用すること
が可能である。図6に示すタイプの装置において切込み
制御により形状補正をするには、研削用砥石96を上下
方向に変位可能とし、接触幅の増大に伴って研削用砥石
96を降下させるような制御を行えばよい。
【0052】また、上記装置では、ワークであるウェハ
Wを研削用砥石24の回転軸に対して完全に直交する方
向に相対移動させるものを示したが、その相対移動の方
向は研削用砥石24の回転軸に対して若干傾斜していて
もよい。
【0053】
【発明の効果】以上のように本発明は、回転する研削用
砥石にワークの加工面をその幅方向全域にわたって接触
させながら研削用砥石とワークとを相対移動させるとと
もに、この相対移動中、上記研削用砥石に対する加工面
の接触幅が大きいほど切り込み量を増やす方向に研削加
工条件を変化させて形状補正をするものであるので、研
削用砥石を軸方向に動かすことなく、加工面を効率良く
かつ高精度で平面研削できる効果がある。
【0054】具体的に、上記研削用砥石及びその砥石支
持部材を上記加工面に対して接離する方向に移動させる
切込み送り手段と、上記接触幅が大きいほど上記研削用
砥石を上記加工面に押付ける向きにこの研削用砥石及び
砥石支持部材を変位させるように上記切込み送り手段を
作動させる切込み制御手段とを備えたものによれば、加
工中の接触幅の変化に起因する研削用砥石の変位を直接
的に解消することができ、より確実に加工面の平面度を
高めることができる効果が得られる。
【0055】ここで、一対の研削用砥石をその回転軸同
士が平行となるように配置し、これら研削用砥石を互い
に接離する方向に移動させるように上記切込み送り手段
を構成するとともに、上記加工位置での両研削用砥石に
対するワーク両面の接触幅が大きいほど研削用砥石同士
を接近させるように上記切込み制御手段を構成したもの
によれば、ワーク両面の同時研削を可能にして加工能率
を高めながら、両加工面の平面度を高く保持できる効果
が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態におけるウェハの加工位置
と接触幅との関係を示す説明図である。
【図2】本発明の実施の形態にかかるウェハ研削装置の
全体平面図である。
【図3】本発明の実施の形態にかかるウェハ研削装置の
全体正面図である。
【図4】本発明の実施の形態にかかるウェハ研削装置の
全体斜視図である。
【図5】(a)は本発明の実施の形態においてウェハに
クランパをアプローチさせる様子を示す断面平面図、
(b)は同クランパ及びキャリアでウェハをクランプし
た状態でこのウェハの両面を研削加工している様子を示
す断面平面図である。
【図6】従来の平面研削装置の一例を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】 12 砥石台 14 ウェハ保持台 20 砥石保持部 24 研削用砥石 26 回転駆動モータ(砥石駆動手段) 28 切込み送りモータ(切込み送り手段) 33 ウェハ送りモータ(加工送り手段) 70 制御装置(制御手段) W ウェハ(ワーク)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川口 桂司 広島市南区宇品東5丁目3番38号 トーヨ ーエイテック株式会社内 (72)発明者 長谷川 文彦 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150番地 信越半導体株式会社白河工場内 (72)発明者 土屋 敏弘 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150番地 信越半導体株式会社白河工場内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円筒状外周面を有し、かつ、ワーク加工
    面の最大幅寸法以上の軸方向寸法を有する研削用砥石を
    その中心軸回りに回転させ、この研削用砥石にワークの
    加工面をその幅方向全域にわたって接触させながらこれ
    らの研削用砥石及びワークを研削用砥石の回転軸と略直
    交する方向に相対移動させるとともに、この相対移動
    中、上記研削用砥石に対する加工面の接触幅が大きいほ
    ど切り込み量を増やす方向に研削加工条件を変化させる
    ことを特徴とする平面研削方法。
  2. 【請求項2】 円筒状外周面を有し、かつ、ワーク加工
    面の最大幅寸法以上の軸方向寸法を有する研削用砥石
    と、この研削用砥石をその中心軸回りに回転可能に支持
    する砥石支持部材と、上記研削用砥石を回転させる砥石
    駆動手段と、上記研削用砥石にワークの加工面を接触さ
    せながらこれらのワーク及び研削用砥石を研削用砥石の
    回転軸と略直交する方向に相対移動させる加工送り手段
    と、上記加工面が上記研削用砥石と接触している加工位
    置を検出する加工位置検出手段と、上記ワークの加工
    中、上記加工位置検出手段により検出される加工位置で
    の研削用砥石に対する加工面の接触幅が大きいほど加工
    面の切り込み量を増やす方向に研削加工条件を変化させ
    る制御手段とを備えたことを特徴とする平面研削装置。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の平面研削装置において、
    上記砥石支持部材及び研削用砥石を上記加工面に対して
    接離する方向に移動させる切込み送り手段を備えるとと
    もに、上記制御手段として、上記接触幅が大きいほど上
    記研削用砥石を上記加工面に押付ける向きにこの研削用
    砥石及び砥石支持部材を変位させるように上記切込み送
    り手段を作動させる切込み制御手段を備えたことを特徴
    とする平面研削装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の平面研削装置において、
    一対の研削用砥石をその回転軸同士が平行となるように
    配置し、これら研削用砥石を互いに接離する方向に移動
    させるように上記切込み送り手段を構成し、両研削用砥
    石のすき間にワークを通してこのワークの両面に研削用
    砥石を接触させるように加工送り手段を構成するととも
    に、上記加工位置での両研削用砥石に対するワーク両面
    の接触幅が大きいほど研削用砥石同士を接近させるよう
    に上記切込み制御手段を構成したことを特徴とする平面
    研削装置。
  5. 【請求項5】 請求項2記載の平面研削装置において、
    上記制御手段として、上記接触幅が大きいほど上記ワー
    クと研削用砥石との相対移動速度を低下させるように上
    記加工送り手段を作動させる送り速度制御手段を備えた
    ことを特徴とする平面研削装置。
  6. 【請求項6】 請求項2記載の平面研削装置において、
    上記研削用砥石を表面に気孔を有しない砥石とするとと
    もに、上記制御手段として、上記接触幅が大きいほど上
    記砥石の回転速度を低下させるように上記砥石駆動手段
    を作動させる砥石駆動制御手段を備えたことを特徴とす
    る平面研削装置。
  7. 【請求項7】 請求項2記載の平面研削装置において、
    上記研削用砥石を表面に気孔を有する砥石とするととも
    に、上記制御手段として、上記接触幅が大きいほど上記
    砥石の回転速度を上昇させるように上記砥石駆動手段を
    作動させる砥石駆動制御手段を備えたことを特徴とする
    平面研削装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000067950A1 (fr) * 1999-05-07 2000-11-16 Shin-Etsu Handotai Co.,Ltd. Procedes et dispositifs correspondants permettant de meuler et de roder des surfaces doubles simultanement

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KR100642879B1 (ko) * 1999-05-07 2006-11-10 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤 양면동시 연삭방법, 양면동시 연삭기, 양면동시 래핑방법및 양면동시 래핑기

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