JPH10214815A - オゾン水処理装置およびスピン処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明はオゾン水からオゾンガスを安価
に、しかも確実に脱気することができるようにしたオゾ
ン水処理装置を提供することにある。 【解決手段】 オゾン水からオゾンガスを脱気するため
のオゾン水処理装置において、オゾン水が供給される処
理タンク１２と、この処理タンク内のオゾン水に超音波
振動を付与してオゾンガスを脱気する超音波発振器１５
と、脱気されたオゾンガスを上記処理タンクから排出す
る排ガス管１７と、オゾンガスが脱気された液体を上記
処理タンクから排出する排液管１６とを具備したことを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は被処理物を洗浄処
理したオゾン水を処理するオゾン水処理装置および被処
理物を回転させて処理するスピン処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶製造装置や半導体製造装
置などでは、被処理物としての液晶用ガラス基板や半導
体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求される工程
がある。被処理物には微粒子が付着しているだけでな
く、脂肪などの有機物が付着している場合もある。

【０００３】微粒子を洗浄する場合には、被処理物に純
水を単に吹き付けたり、純水に超音波振動を付与して吹
き付けるなどして除去することができる。しかしなが
ら、有機物の場合、純水では除去できないため、純水に
通常はオゾンと酸素の混合ガスであるオゾン含有ガスを
封入して溶解させたオゾン水が用いられる。

【０００４】オゾン水は周知のように酸化力が強く、限
られた種類の弗素系樹脂以外の材料は腐食するというこ
とがある。そのため、使用済みのオゾン水をそのままの
状態で廃棄すると、配管などを腐食させるなどのことが
あるため、その有害性を低減したり、除去してからでな
ければ廃棄できないということがあった。

【０００５】従来、使用済みのオゾン水は、純水などで
希釈して濃度を下げてから廃棄したり、オゾン分解作用
のある薬品や物質を混入して分解してから廃棄するとい
うことが行われていた。

【０００６】しかしながら、前者の手段によると、大量
の純水を使用するため、純水の製造コストが増大した
り、オゾン水を希釈した廃液の処理コストが増大するな
どのことがあった。

【０００７】後者の手段によると、オゾン水を分解する
ために使用する薬品や物質のコストが高くなるばかり
か、それらの供給設備が必要となるから、それによって
もコスト高を招くことになる。

【０００８】さらに、両者に共通して言えることは、オ
ゾン水からオゾンガス（酸素ガスも含む）を確実に分解
できないため、オゾンガスを含む液体を排出することに
なり、配管や設備などを早期に損傷させるということが
あった。

【０００９】洗浄処理された被処理物は乾燥処理され
る。洗浄と乾燥とを連続的に行うためにスピン処理装置
が用いられる。スピン処理装置は、周知のように処理容
器を有し、この処理容器内には回転駆動される回転体が
設けられている。この回転体には、上記被処理物を保持
するための複数の柱状部材が周方向に所定間隔で立設さ
れている。上記柱状部材の上端面には上記被処理物の下
面周辺部を支持する支持ピンと、上記被処理物の外周面
に係合する係合ピンとが設けられている。

【００１０】上記被処理物の下面周辺部を支持ピンで支
持した場合、この支持ピンによって上記被処理物に応力
が局部的に加わることが避けられない。とくに、洗浄処
理時に、被処理物の上面に洗浄液の圧力が加わると、そ
の反力として支持ピンによって被処理物に加わる応力も
大きくなる。

【００１１】上記支持ピンによって上記被処理物に応力
が加わると、この支持ピンにスクラッチが発生すること
があり、そのスクラッチによって被処理物が不良品とな
ることがある。

【００１２】洗浄処理された被処理物は、上記スピン処
理装置によって高速回転させることで乾燥処理される。
その場合、乾燥速度を向上させることが要求される。し
かしながら、上記被処理物を高速回転させて乾燥させる
だけでは、その回転速度に限界があるから、乾燥速度の
向上にも限界が生じるということがあった。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来はオ
ゾン水を純水で希釈したり、薬液などで分解してから廃
棄していたので、そのためのランニングコストが高くな
るということがあった。しかも、オゾン水からオゾンガ
スを確実に分解することができないため、配管や設備に
悪影響を及ぼすことがあった。

【００１４】また、被処理物をスピン処理する場合、従
来は上記被処理物の下面周辺部を支持ピンで支持してい
たので、上記支持ピンによる局部的な応力で被処理物に
スクラッチが発生するということがあった。

【００１５】さらに、被処理物を高速回転させて乾燥処
理する場合、単に高速回転させるだけではその乾燥速度
を高めることができないということがあった。この発明
の目的は、安価なランニングコストでオゾン水からオゾ
ンガスを確実に脱気できるようにしたオゾン水分解処理
装置およびそれを用いた洗浄処理装置を提供することに
ある。

【００１６】この発明の目的は、被処理物に局部的な応
力を発生させずに保持できるようにしたスピン処理装置
を提供することにある。この発明の目的は、被処理物を
効率よく乾燥処理できるようにしたスピン処理装置を提
供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、オゾ
ン水からオゾンガスを脱気するためのオゾン水処理装置
において、オゾン水が供給される処理タンクと、この処
理タンク内のオゾン水に超音波振動を付与してオゾンガ
スを脱気する気体分離手段と、脱気されたオゾンガスを
上記処理タンクから排出する排気手段と、オゾンガスが
脱気された液体を上記処理タンクから排出する排液手段
とを具備したことを特徴とする。

【００１８】請求項２の発明は、被処理物を回転させて
処理するスピン処理装置において、処理容器と、この処
理容器内に設けられた回転体と、この回転体に設けられ
上記被処理物の下面周辺部を液体を介して支持する支持
面を有する保持手段と、上記回転体を回転駆動して上記
被処理物を上記回転体と一体的に回転させる回転駆動手
段とを具備したことを特徴とする。

【００１９】請求項３の発明は、請求項２の発明におい
て、上記保持手段は、上記回転体の周方向に所定間隔で
立設された複数の柱状部材からなり、各柱状部材の上端
面が上記支持面に形成されていることを特徴とする。

【００２０】請求項４の発明は、請求項３の発明におい
て、上記支持面は凹曲面に形成されていることを特徴と
する。請求項５の発明は、請求項２の発明において、上
記保持手段は、上記回転体に下端側が取付けられた筒状
部材からなり、この筒状部材の上端面が上記支持面に形
成されていることを特徴とする。

【００２１】請求項６の発明は、請求項３または請求項
５の発明において、上記支持面には、ここに供給される
液体を吸収保持する保液部材が設けられていることを特
徴とする。

【００２２】請求項７の発明は、洗浄された被処理物を
回転させて乾燥処理するスピン処理装置において、処理
容器と、この処理容器内に設けられた回転体と、この回
転体に設けられ上記被処理物を保持する保持手段と、上
記回転体を回転駆動してこの回転体と一体的に上記被処
理物を回転させる駆動手段と、上記保持手段に保持され
た被処理物の上方に配置されこの被処理物の上面に向け
て乾燥用ガスを噴射するノズル体と、このノズル体を上
記被処理物の径方向中心部から外方に沿って揺動駆動す
る揺動駆動手段とを具備したことを特徴とする。

【００２３】請求項８の発明は、請求項７の発明におい
て、上記ノズル体は、上記被処理物の乾燥速度に応じた
揺動速度で揺動駆動されることを特徴とする。請求項１
の発明によれば、処理タンク内のオゾン水に超音波振動
を付与すると、そのオゾン水に含まれるオゾンガスが脱
気されるから、オゾン水がオゾンガスと液体とに分離さ
れる。

【００２４】請求項２、請求項３および請求項５の発明
によれば、被処理物の下面周辺部は支持面に供給された
液体の表面張力によって支持されるため、上記被処理物
に局部的な応力を発生させることなく支持できる。

【００２５】請求項４の発明によれば、柱状部材の上端
面を凹曲面に形成して支持面としたことで、この支持面
に供給される液体の貯留性を高めることができる。請求
項６の発明によれば、支持面に液体を吸収保持する保液
部材を設けることで、この支持面に供給される液体の貯
留性を高めることができる。

【００２６】請求項７の発明によれば、被処理物に向け
て乾燥用ガスを噴射することで、この被処理物の乾燥速
度を高めることができ、しかも上記乾燥用ガスを噴射す
るノズル体を被処理物の径方向に沿って揺動させること
で、乾燥速度をさらに向上させることができる。

【００２７】請求項８の発明によれば、乾燥用ガスを噴
射するノズル体を被処理物の乾燥速度に応じて揺動させ
ることで、被処理物の乾燥速度をさらに向上させること
ができる。

【００２８】

【発明の実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。図１に示すスピン処理装置は処理
容器１を有する。この処理容器１内には円盤状の回転体
４が設けられている。この回転体４は回転駆動源３によ
って回転駆動されるようになっている。上記回転体４に
は後述する保持手段によって液晶用ガラス基板や半導体
ウエハなどの被処理物２が着脱自在に保持され、上記回
転駆動源３によって上記回転体４ともに回転駆動される
ようになっている。

【００２９】上記被処理物２の上方には洗浄用ノズル体
５が配置されている。この洗浄用ノズル体５はオゾン水
の供給源６に連通されていて、上記被処理物２に向けて
オゾン水を噴射できるようになっている。それによっ
て、上記被処理物２は、とくにその板面に付着した有機
物を分解洗浄できるようになっている。

【００３０】上記処理容器１の底部には排液管７の一端
が接続されている。この排液管７の他端はバッファタン
ク８に連通していて、上記処理容器１からのオゾン水を
蓄えることができるようになっている。このバッファタ
ンク８にはここに蓄えられるオゾン水の量を検出するセ
ンサ１０が設けられている。

【００３１】上記バッファタンク８の底部には供給管９
の一端が接続されている。この供給管９の中途部には第
１の制御弁１１が接続され、他端はオゾン水の処理装置
を構成する気密構造の処理タンク１２に接続されてい
る。

【００３２】上記処理タンク１２の底部には開口部１２
ａが形成され、この開口部１２ａは金属製の振動板１３
によって液密に閉塞されている。この振動板１３の外面
には超音波振動子１４が接着固定されていて、この超音
波振動子１４は超音波発振器１５によって駆動されるよ
うになっている。

【００３３】超音波振動子１４が駆動されると、振動板
１３が超音波振動する。それによって、処理タンク１２
内のオゾン水に超音波振動が付与されることになる。オ
ゾン水に超音波振動が付与されると、その超音波振動が
もつ加速エネルギや超音波振動により発生するキャビテ
−ション作用によってオゾン水からオゾンガスが分離さ
れることになる。

【００３４】上記処理タンク１２の底部には、排液管１
６の一端が接続され、上部には排ガス管１７の一端が接
続されている。上記排液管１６は、第２の制御弁１８の
一端に接続され、この制御弁１８の他端は図示しない下
水道などに連通される。上記排ガス管１７には第３の制
御弁１９を介してオゾン分解器２１に接続されている。

【００３５】上記第１乃至第３の制御弁１１、１８、１
９および超音波発振器１５は、制御装置２２によって図
２に示すタイムチャ−トに基づいて制御されるようにな
っている。つまり、制御装置２２は、上記バッファタン
ク８に設けられたセンサ１０がこのタンク８内にオゾン
水が所定量以上たまったことを検知すると、その検知信
号で上記各制御弁および超音波発振器１５を上記タイム
チャ−トにしたがって駆動制御し、被処理物２を洗浄処
理したオゾン水を後述するように脱気処理するようにな
っている。

【００３６】上記回転体４に設けられる保持手段は図３
に示すように、この回転体４の上面周辺部に周方向に９
０度間隔で立設された柱状部材３１からなる。この柱状
部材３１の上端面は支持面をなす凹曲面３２に形成され
ているとともに、被処理物２の外周面に係合する係合ピ
ン３３が突設されている。

【００３７】上記凹曲面３２には純水などの液体Ｌが供
給され、その液体Ｌの表面張力によって上記被処理物２
の周辺部下面が保持される。被処理物２は、凹曲面３２
に供給された液体Ｌの表面張力によって上下方向だけで
なく、径方向に対しても保持される。つまり、被処理物
２に対する保持力は凹曲面３２に供給された液体Ｌと被
処理物２との接触面積によって決定される。したがっ
て、凹曲面３２を大きくして被処理物２と液体Ｌとの接
触面積を大きくすれば、上記柱状部材３１に係合ピン３
３を設けなくとも、被処理物２が径方向にずれ動くこと
がないよう保持できる。

【００３８】なお、上記柱状部材３１の支持面は凹曲面
３２に代わり、平坦面であってもよく、平坦面であって
も、そこに供給された液体Ｌの表面張力で被処理物２を
保持することができる。

【００３９】上記回転体４の上方にはア−ム体３５が配
設されている。このア−ム体３５は基端部が揺動駆動源
３６に取付けられ、先端部には乾燥用ノズル体３７が設
けられている。この乾燥用ノズル体３７には図示しない
供給源から窒素ガスなどの乾燥ガスが供給され、上記柱
状部材３１に保持された被処理物２に向けて噴射される
ようになっている。

【００４０】上記揺動駆動源３６は上記ア−ム体３５を
所定の範囲内の角度で揺動駆動する。それによって、上
記ノズル体３７は上記被処理物２の径方向中心部分に対
向した位置から径方向外方に向かって移動する。

【００４１】つぎに、上記構成の装置の動作について説
明する。処理容器１内の回転体４に設けられた柱状部材
３１の凹曲面３２に液体Ｌを供給し、その液体Ｌの表面
張力によって被処理物２を保持したならば、この回転体
４を回転駆動するとともに、洗浄用ノズル体５からオゾ
ン水を上記被処理物２に向けて噴射する。それによっ
て、オゾン水は被処理物２に付着した有機物を分解洗浄
する。

【００４２】被処理物２を洗浄したオゾン水は処理容器
１から排液管７を通りバッファタンク８に流入する。バ
ッファタンク８に所定量のオゾン水がたまり、そのこと
が上記バッファタンク８に設けられたセンサ１０によっ
て検出されると、第１乃至第３の制御弁１１、１８、１
９および超音波発振器１５が図２のタイムチャ−トに基
づいて駆動制御される。

【００４３】すなわち、まず、第１の制御弁１１が時間
Ｔ₁ から時間Ｔ₂ の間、開放される。第１の制御弁１１
が所定時間開放されることで、バッファタンク８内のオ
ゾン水が供給管９を通じて処理タンク１２へ所定量供給
される。

【００４４】時間Ｔ₂ では第１の制御弁１１が閉じ、超
音波発振器１５が駆動される。それによって、超音波振
動子１４が振動し、それに振動板１３が連動するから、
処理タンク１２内のオゾン水に超音波振動が付与され
る。

【００４５】オゾン水に超音波振動が付与されること
で、その超音波振動がもつ加速エネルギや超音波振動に
より発生するキャビテ−ション作用によってオゾン水か
らオゾンガスが脱気され、液体と分離される。

【００４６】上記超音波発振器１５は時間Ｔ₃ で超音波
振動子１４の駆動を停止する。ついで、時間Ｔ₃ では第
２の制御弁１８と第３の制御弁１９とが開放される。第
２の制御弁１８が開放されることで、オゾンガスが分離
された液体が排液管１６から排出される。また、第３の
制御弁１９が開放されることでオゾン水から脱気された
オゾンガスが排ガス管１７を通ってオゾン分解器２１に
供給される。

【００４７】排ガス管１７を通って供給されたオゾンガ
スはオゾン分解器２１で分解されて酸素などになってか
ら大気中に排出されるから、無害であり、また排液管１
６から排出される液体中には、オゾンガスがほとんど含
まれていないから、その液体も無害である。つまり、処
理タンク１２内にたとえばエア−などの加圧気体を供給
することで、オゾン水からオゾンガスを確実に脱気する
ことができるから、純水で希釈したり、薬液などを用い
る場合などに比べてそのランニングコストを低減するこ
とができる。

【００４８】上記被処理物２は柱状部材３１の凹曲面３
２に供給された液体Ｌの表面張力で保持されているか
ら、この被処理物２を局部的な応力を与えることなく保
持することができる。そのため、被処理物２に応力によ
るスクラッチが発生するのを防止できる。

【００４９】洗浄処理された被処理物２を乾燥処理する
場合には、上記回転体４を洗浄時に比べて高速度で回転
駆動する。それと同時に、ア−ム体３５に設けられた乾
燥用ノズル体３７から乾燥ガスを噴射させながら、上記
被処理物２の乾燥速度に応じて上記ア−ム体３５を揺動
させる。

【００５０】つまり、高速回転される被処理物２は、遠
心力によって径方向中心部から外方に向かって乾燥が進
行する。そのため、乾燥処理の開始時に、高速回転され
た被処理物２の中心部分に乾燥ガスを噴射することで、
その中心部分の乾燥が助長されるから、乾燥速度が向上
する。ついで、乾燥ガスの噴射を被処理物２の径方向外
方に移動させることで、遠心力によって乾燥する部位に
乾燥ガスが噴射されることになるから、遠心力と乾燥ガ
スとの相乗作用によって乾燥速度を速めることができ
る。

【００５１】つまり、乾燥用ノズル３７から噴射される
乾燥用ガスは、ア−ム体３５を揺動駆動することで、被
処理物２の上面の、乾燥した部分と乾燥していない部分
との境界部分に向けて噴射されることになるから、被処
理物２を遠心力と乾燥用ガスとの作用によって効率よく
乾燥させることができる。

【００５２】乾燥処理が終了したならば、被処理物２を
柱状部材３１から取り外す。被処理物２を取り外すに
は、凹曲面３２に供給された液体Ｌの表面張力に抗して
被処理物２を取り外したり、凹曲面３２に液体Ｌを供給
して被処理物２を凹曲面３２から浮き上がらせることで
取り外すことができる。

【００５３】図４はア−ム体３５の揺動速度と被処理物
２の乾燥時間とを測定したグラフである。この実験にお
ける種々の条件は以下の通りである。被処理物２の回転
速度は1500rpm 、被処理物２の表面は親水性面で、接触
角は５度以下、乾燥用ガスは窒素ガスが用いられ、流量
は10l/min 、乾燥用ノズル３７の径は２mm、乾燥用ノズ
ル３７と被処理物２との間隔は15mm、乾燥用ノズル３７
の被処理物２に対する角度は９０度である。

【００５４】まず、最初に被処理物２を高速回転させる
だけで乾燥させたところ、乾燥時間は同図に点Ａで示す
ように１７sec であった。つぎに、上述した条件のごと
く乾燥用ガスを噴射させるとともに高速回転させて乾燥
処理したところ、ア−ム体３５の揺動速度が１Deg/sec
のときには点Ｂで示すように13.5sec であり、２Deg/se
c のときには点Ｃです示すように13.2sec 、３Deg/sec
のときには点Ｄで示すように13.0sec であった。しかし
ながら、ア−ム体３５を４Deg/sec で揺動させると、乾
燥時間は点Ｅで示すように15.0sec に増加した。

【００５５】以上のことから、ア−ム体３５を揺動させ
ながら乾燥用ガスを噴射させることで乾燥時間を短くで
きることが確認されたが、上記ア−ム体３５の揺動速度
が速くなりすぎると、乾燥時間が長くなることが分か
る。つまり、ア−ム体３５の揺動速度は被処理物２の表
面の乾燥領域と非乾燥領域との境界部分に乾燥ガスを噴
射する速度がよく、それ以上速すぎて非乾燥領域に噴射
されると、乾燥速度が低下することになる。

【００５６】図５（ａ）、（ｂ）はこの発明の保持手段
の他の実施形態を示す。図５（ａ）は柱状部材３１の上
端面を平坦面３２ａからなる支持面とするとともに、こ
の平坦面３２ａにスポンジ状の樹脂や布状部材などから
なる、液体Ｌを吸収するシ−ト状の保液部材４１を貼着
する。

【００５７】このような構成とすることで、平坦面３２
ａに供給された液体Ｌは上記保液部材４１によって保持
されるから、液体Ｌによる被処理物２の保持状態を確実
にすることができる。

【００５８】図５（ｂ）は回転体４に柱状部材３１を立
設する代わりに、筒状部材４２を設けるようにしたもの
で、この筒状部材４２の上端面をたとえば凹曲面４３か
らなる支持面とし、その凹曲面４３に液体Ｌを供給する
ことで、その表面張力で被処理物２を保持するようにす
る。

【００５９】また、筒状部材４２の上端面の外周端に
は、被処理物２の外周面に係合する複数の係合ピン４４
が周方向に所定間隔で立設されているが、この係合ピン
４４はなくてもよい。

【００６０】このように、保持手段を筒状部材４２とす
ることで、被処理物２は下面周辺部が全長にわたって保
持されることになるから、保持力を増大させることがで
きる。

【００６１】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、処理タンク内
のオゾン水に超音波振動を付与することで、そのオゾン
水に含まれるオゾンガスを分離し、そのオゾンガスと液
体とを別々に排出できるようにした。

【００６２】そのため、オゾン水を大量の純水を用いて
希釈したり、薬液を用いて分解する従来の手段に比べて
ランニングコストを大幅に低減することができるばかり
か、オゾン水からのオゾンガスの分離を確実に行なうこ
とができる。

【００６３】請求項２、請求項３および請求項５の発明
によれば、被処理物を回転させて処理する場合に、上記
被処理物の下面周辺部を、支持面に供給された液体の表
面張力によって支持するようにした。

【００６４】そのため、被処理物を局部的な応力を加え
ることなく支持できるから、その被処理物に応力による
スクラッチが発生するのを防止できる。請求項４の発明
によれば、柱状部材の上端面を凹曲面に形成して支持面
としたことで、この支持面に供給される液体の貯留性を
高めることができるから、被処理物の支持性能を向上さ
せることができる。

【００６５】請求項６の発明によれば、支持面に液体を
吸収保持する保液部材を設けるようにした。そのため、
上記支持面に供給された液体の貯留性を高めることがで
きるから、上記支持面による被処理物の支持性能を高め
ることができる。

【００６６】請求項７の発明によれば、被処理物に向け
て乾燥用ガスを噴射するとともに、上記乾燥用ガスを噴
射するノズル体を被処理物の径方向に沿って揺動させる
ようにした。

【００６７】そのため、被処理物は回転にともなう遠心
力と乾燥ガスとの作用で乾燥されるから、その乾燥速度
を速くすることができ、しかもノズル体が揺動駆動され
ることで、その乾燥速度をさらに向上させることができ
る。

【００６８】請求項８の発明によれば、乾燥用ガスを噴
射するノズル体を被処理物の乾燥速度に応じて揺動させ
るようにした。そのため、ノズル体から噴射される乾燥
ガスを、被処理物の乾燥作用に効率よく作用させること
ができるから、被処理物の乾燥速度をさらに向上させる
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施形態を示すオゾン水処理装置
を備えたスピン処理装置の全体構成図。

【図２】同じく第１乃至第３の制御弁および超音波発振
器の動作を説明するためのタイムチャ−ト。

【図３】同じく被処理物を保持するための保持手段の説
明図。

【図４】同じく乾燥ガスを噴射するノズル体の揺動速度
と乾燥速度との関係を測定したグラフ。

【図５】（ａ）はこの発明の他の実施形態を示す保持手
段の断面図，（ｂ）はこの発明のさらに他の実施形態を
示す保持手段の断面図。

【符号の説明】

１…処理容器 ３…回転駆動源 ４…回転体 ６…オゾン水の供給源 ８…バッファタンク １２…処理タンク １３…振動板 １４…超音波振動子 １５…超音波発振器 １６…排液管 １７…排ガス管 １８…第２の制御弁 １９…第３の制御弁 ２０…排気装置 ２１…オゾン分解器 ２２…制御装置 ３１…柱状部材 ３２…凹曲面（支持面） ３５…ア−ム体 ３７…ノズル体 ４２…筒状部材

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 オゾン水からオゾンガスを脱気するため
   のオゾン水処理装置において、 オゾン水が供給される処理タンクと、 この処理タンク内のオゾン水に超音波振動を付与してオ
   ゾンガスを脱気する気体分離手段と、 脱気されたオゾンガスを上記処理タンクから排出する排
   気手段と、 オゾンガスが脱気された液体を上記処理タンクから排出
   する排液手段とを具備したことを特徴とするオゾン水処
   理装置。
2. 【請求項２】 被処理物を回転させて処理するスピン処
   理装置において、 処理容器と、 この処理容器内に設けられた回転体と、 この回転体に設けられ上記被処理物の下面周辺部を液体
   を介して支持する支持面を有する保持手段と、 上記回転体を回転駆動して上記被処理物を上記回転体と
   一体的に回転させる回転駆動手段とを具備したことを特
   徴とするスピン処理装置。
3. 【請求項３】 上記保持手段は、上記回転体の周方向に
   所定間隔で立設された複数の柱状部材からなり、各柱状
   部材の上端面が上記支持面に形成されていることを特徴
   とする請求項２記載のスピン処理装置。
4. 【請求項４】 上記支持面は凹曲面に形成されているこ
   とを特徴とする請求項３記載のスピン処理装置。
5. 【請求項５】 上記保持手段は、上記回転体に下端側が
   取付けられた筒状部材からなり、この筒状部材の上端面
   が上記支持面に形成されていることを特徴とする請求項
   ２記載のスピン処理装置。
6. 【請求項６】 上記支持面には、ここに供給される液体
   を吸収保持する保液部材が設けられていることを特徴と
   する請求項３または請求項５記載のスピン処理装置。
7. 【請求項７】 洗浄された被処理物を回転させて乾燥処
   理するスピン処理装置において、 処理容器と、 この処理容器内に設けられた回転体と、 この回転体に設けられ上記被処理物を保持する保持手段
   と、 上記回転体を回転駆動してこの回転体と一体的に上記被
   処理物を回転させる駆動手段と、 上記保持手段に保持された被処理物の上方に配置されこ
   の被処理物の上面に向けて乾燥用ガスを噴射するノズル
   体と、 このノズル体を上記被処理物の径方向中心部から外方に
   沿って揺動駆動する揺動駆動手段とを具備したことを特
   徴とするスピン処理装置。
8. 【請求項８】 上記ノズル体は、上記被処理物の乾燥速
   度に応じた揺動速度で揺動駆動されることを特徴とする
   請求項７記載のスピン処理装置。