JPH10213801A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH10213801A JPH10213801A JP5472598A JP5472598A JPH10213801A JP H10213801 A JPH10213801 A JP H10213801A JP 5472598 A JP5472598 A JP 5472598A JP 5472598 A JP5472598 A JP 5472598A JP H10213801 A JPH10213801 A JP H10213801A
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- liquid crystal
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ラビング工程などの配向処理の際にラビング
スジの発生を防ぐことができる液晶表示素子の製造方法
を提供する。 【解決手段】 液晶表示素子用基板１は、ガラスなどの
透光性基板の表面にＳｉＯなどの無機配向膜やポリイミ
ドなどの有機配向膜が成膜されており、ラビング工程に
おいてその表面をガーゼ、フェルト、ラバー、刷毛など
のラビング部材で一定方向に擦することによって、液晶
分子を所定方向に配列させるための配向処理が行われ
る。液晶表示素子用基板１の全体の形状は、正方形や長
方形などの方形状に形成されており、その端面７および
角部２、３、４、５は滑らかな曲面となる面取り処理が
施されており、基板１の姿勢を明確かつ迅速に判断する
ために、基板表面から見て１つの角部５の曲率半径が他
の角部２、３、４の曲率半径より大きく形成されてい
る。
スジの発生を防ぐことができる液晶表示素子の製造方法
を提供する。 【解決手段】 液晶表示素子用基板１は、ガラスなどの
透光性基板の表面にＳｉＯなどの無機配向膜やポリイミ
ドなどの有機配向膜が成膜されており、ラビング工程に
おいてその表面をガーゼ、フェルト、ラバー、刷毛など
のラビング部材で一定方向に擦することによって、液晶
分子を所定方向に配列させるための配向処理が行われ
る。液晶表示素子用基板１の全体の形状は、正方形や長
方形などの方形状に形成されており、その端面７および
角部２、３、４、５は滑らかな曲面となる面取り処理が
施されており、基板１の姿勢を明確かつ迅速に判断する
ために、基板表面から見て１つの角部５の曲率半径が他
の角部２、３、４の曲率半径より大きく形成されてい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の製
造方法に関するもので、特にラビング工程において良好
な配向処理を行うことができる液晶表示素子の製造方法
に関するものである。
造方法に関するもので、特にラビング工程において良好
な配向処理を行うことができる液晶表示素子の製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は、従来の液晶表示素子用基板の一
例を示す平面図、正面図および側面図である。液晶表示
素子用基板５１は、ガラスなどの透光性基板の表面に、
ＳｉＯなどの無機配向膜やポリイミドなどの有機配向膜
が成膜されており、液晶表示素子を組立てる前のラビン
グ工程において、配向膜の表面をガーゼ、フェルト、ラ
バー、刷毛などのラビング部材を一定方向に擦ることに
よって、液晶分子を所定方向に配列させるための配向処
理が行われる。
例を示す平面図、正面図および側面図である。液晶表示
素子用基板５１は、ガラスなどの透光性基板の表面に、
ＳｉＯなどの無機配向膜やポリイミドなどの有機配向膜
が成膜されており、液晶表示素子を組立てる前のラビン
グ工程において、配向膜の表面をガーゼ、フェルト、ラ
バー、刷毛などのラビング部材を一定方向に擦ることに
よって、液晶分子を所定方向に配列させるための配向処
理が行われる。
【０００３】液晶表示素子用基板５１の全体の形状は、
正方形や長方形などの方形状に形成され、その端面５７
および角部５２、５３、５４は滑らかな面取り処理が施
されており、基板５１の姿勢を明確かつ迅速に判断する
ために、４つの角部のうちの１つの角部５５が端面に対
して略４５度の角度となるように、たとえば端面での長
さ５ｍｍ×５ｍｍ程度に直線状に切断され、表面と切断
面との稜線が鋭く形成されている。
正方形や長方形などの方形状に形成され、その端面５７
および角部５２、５３、５４は滑らかな面取り処理が施
されており、基板５１の姿勢を明確かつ迅速に判断する
ために、４つの角部のうちの１つの角部５５が端面に対
して略４５度の角度となるように、たとえば端面での長
さ５ｍｍ×５ｍｍ程度に直線状に切断され、表面と切断
面との稜線が鋭く形成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶表示素子用基板５１は、ラビングなどの配向処理の
際、角部５５を起点としたラビングスジなどの欠陥が発
生することが多く、このような液晶表示素子用基板５１
を用いて液晶表示素子を組立てると表示ムラを生じ、液
晶表示素子の製造歩留りを低下させるという課題があ
る。
液晶表示素子用基板５１は、ラビングなどの配向処理の
際、角部５５を起点としたラビングスジなどの欠陥が発
生することが多く、このような液晶表示素子用基板５１
を用いて液晶表示素子を組立てると表示ムラを生じ、液
晶表示素子の製造歩留りを低下させるという課題があ
る。
【０００５】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、ラビング工程などの配向処理
の際にラビングスジの発生を防ぐことができる液晶表示
素子の製造方法を提供することを目的としている。
みなされたものであって、ラビング工程などの配向処理
の際にラビングスジの発生を防ぐことができる液晶表示
素子の製造方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の請求項１記載の液晶表示素子の製造方
法は、方形状に形成された透光性基板に、ラビングによ
る配向処理を行う液晶表示素子の製造方法において、前
記基板の基板表面から見たすべての角部およびすべての
端面を滑らかな曲面で形成し、ラビングによる配向処理
を行うことを特徴としている。
ために、本発明の請求項１記載の液晶表示素子の製造方
法は、方形状に形成された透光性基板に、ラビングによ
る配向処理を行う液晶表示素子の製造方法において、前
記基板の基板表面から見たすべての角部およびすべての
端面を滑らかな曲面で形成し、ラビングによる配向処理
を行うことを特徴としている。
【０００７】請求項２記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項１記載の液晶表示素子の製造方法において、
すべての前記角部のうち、１つの角部の曲率半径を他の
角部の曲率半径よりも大きく形成することを特徴として
いる。
は、請求項１記載の液晶表示素子の製造方法において、
すべての前記角部のうち、１つの角部の曲率半径を他の
角部の曲率半径よりも大きく形成することを特徴として
いる。
【０００８】本発明の液晶表示素子の製造方法によれ
ば、方形状に形成された透光性基板の基板表面から見た
すべての角部およびすべての端面を滑らかな曲面で形成
し、ラビングによる配向処理を行うことにより、基板と
ラビング部材との接触圧分布が滑らかになり、直線状に
切断された角部に形成される鋭い稜線を起点とするラビ
ングスジなどの欠陥が発生しなくなる。
ば、方形状に形成された透光性基板の基板表面から見た
すべての角部およびすべての端面を滑らかな曲面で形成
し、ラビングによる配向処理を行うことにより、基板と
ラビング部材との接触圧分布が滑らかになり、直線状に
切断された角部に形成される鋭い稜線を起点とするラビ
ングスジなどの欠陥が発生しなくなる。
【０００９】さらに、すべての角部のうち、１つの角部
の曲率半径を他の角部の曲率半径よりも大きく形成する
ことにより、基板とラビング部材との接触圧分布が滑ら
かになり、ラビングスジなどの欠陥が発生しなくなると
ともに、基板の姿勢が明確かつ迅速に判断できる。
の曲率半径を他の角部の曲率半径よりも大きく形成する
ことにより、基板とラビング部材との接触圧分布が滑ら
かになり、ラビングスジなどの欠陥が発生しなくなると
ともに、基板の姿勢が明確かつ迅速に判断できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施の形態で
ある液晶表示素子用基板１を示す平面図、正面図および
側面図である。
ある液晶表示素子用基板１を示す平面図、正面図および
側面図である。
【００１１】液晶表示素子用基板１は、従来と同様に、
ガラスなどの透光性基板の表面にＳｉＯなどの無機配向
膜やポリイミドなどの有機配向膜が成膜されており、ラ
ビング工程においてその表面をガーゼ、フェルト、ラバ
ー、刷毛などのラビング部材で一定方向に擦することに
よって、液晶分子を所定方向に配列させるための配向処
理が行われる。
ガラスなどの透光性基板の表面にＳｉＯなどの無機配向
膜やポリイミドなどの有機配向膜が成膜されており、ラ
ビング工程においてその表面をガーゼ、フェルト、ラバ
ー、刷毛などのラビング部材で一定方向に擦することに
よって、液晶分子を所定方向に配列させるための配向処
理が行われる。
【００１２】液晶表示素子用基板１の全体の形状は、正
方形や長方形などの方形状に形成されており、その端面
７および角部２、３、４、５は滑らかな曲面となる面取
り処理が施されており、基板１の姿勢を明確かつ迅速に
判断するために、基板表面から見て１つの角部５の曲率
半径が他の角部２、３、４の曲率半径より大きく形成さ
れている。なお、角部２、３、４の曲率半径が約３ｍｍ
程度の場合は、基板姿勢の明瞭さと基板材料損失の観点
から、角部５の曲率半径は約８ｍｍ程度が好ましい。
方形や長方形などの方形状に形成されており、その端面
７および角部２、３、４、５は滑らかな曲面となる面取
り処理が施されており、基板１の姿勢を明確かつ迅速に
判断するために、基板表面から見て１つの角部５の曲率
半径が他の角部２、３、４の曲率半径より大きく形成さ
れている。なお、角部２、３、４の曲率半径が約３ｍｍ
程度の場合は、基板姿勢の明瞭さと基板材料損失の観点
から、角部５の曲率半径は約８ｍｍ程度が好ましい。
【００１３】図２は、液晶表示素子用基板１に配向処理
を施すためのラビング装置を示したものであり、図２
（ａ）は平面図、図２（ｂ）は正面図、図２（ｃ）は側
面図である。
を施すためのラビング装置を示したものであり、図２
（ａ）は平面図、図２（ｂ）は正面図、図２（ｃ）は側
面図である。
【００１４】液晶表示素子用基板１は、移動テーブル２
６に設けられたラビングステージ２５に固定されるとと
もに、円筒状に形成され、かつ側面全体にガーゼなどの
ラビング部材が貼付けられたラビングローラ２１が、所
定の接触圧力で基板１と接触する。ラビングローラ２１
の回転軸２３は支柱２４で支えられ、図示しない駆動機
構による回転運動と併せて、移動テーブル２６が一定方
向に相対的に移動することによって、基板１の表面に配
向処理が施される。基板１の端面７および角部２、３、
４、５は滑らかな曲面で形成されているため、従来のよ
うなラビングスジは発生しなくなる。
６に設けられたラビングステージ２５に固定されるとと
もに、円筒状に形成され、かつ側面全体にガーゼなどの
ラビング部材が貼付けられたラビングローラ２１が、所
定の接触圧力で基板１と接触する。ラビングローラ２１
の回転軸２３は支柱２４で支えられ、図示しない駆動機
構による回転運動と併せて、移動テーブル２６が一定方
向に相対的に移動することによって、基板１の表面に配
向処理が施される。基板１の端面７および角部２、３、
４、５は滑らかな曲面で形成されているため、従来のよ
うなラビングスジは発生しなくなる。
【００１５】図３は、本発明に係る液晶表示素子用基板
１が用いられる液晶表示素子の一例を示した断面図であ
る。液晶表示素子用基板１は、ガラスなどの透光性基板
１０の表面にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や酸化錫
（ＳｎＯ2）などからなる透明電極１１が形成され、さ
らにＳｉＯやポリイミドなどの配向膜１２が形成されて
いる。
１が用いられる液晶表示素子の一例を示した断面図であ
る。液晶表示素子用基板１は、ガラスなどの透光性基板
１０の表面にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や酸化錫
（ＳｎＯ2）などからなる透明電極１１が形成され、さ
らにＳｉＯやポリイミドなどの配向膜１２が形成されて
いる。
【００１６】配向処理された２枚の基板１は、所定の間
隙で互いに対向し、封止部材１４により液晶１３が封入
されることによって、液晶表示素子が組立てられる。な
お、以上の工程において、基板１の向き、姿勢が角部５
の位置によって明確に判断される。
隙で互いに対向し、封止部材１４により液晶１３が封入
されることによって、液晶表示素子が組立てられる。な
お、以上の工程において、基板１の向き、姿勢が角部５
の位置によって明確に判断される。
【００１７】なお、以上の実施の形態において、透明電
極１１および配向膜１２が成膜された液晶表示素子用基
板１の配向処理の例を説明したが、図４の断面図に示す
ように、表面に透明電極１１だけが成膜された透光性基
板１０、または図５の断面図に示すように透光性基板１
０単体に対する配向処理においても、本発明が適用され
る。
極１１および配向膜１２が成膜された液晶表示素子用基
板１の配向処理の例を説明したが、図４の断面図に示す
ように、表面に透明電極１１だけが成膜された透光性基
板１０、または図５の断面図に示すように透光性基板１
０単体に対する配向処理においても、本発明が適用され
る。
【００１８】
【発明の効果】以上の説明のように、本発明の液晶表示
素子の製造方法によれば、方形状に形成された透光性基
板の基板表面から見たすべての角部およびすべての端面
を滑らかな曲面で形成し、ラビングによる配向処理を行
うことにより、基板とラビング部材との接触圧分布が滑
らかになり、ラビングスジなどの欠陥が発生しなくなる
ため、液晶表示素子の製造歩留まりを向上させることが
できる。
素子の製造方法によれば、方形状に形成された透光性基
板の基板表面から見たすべての角部およびすべての端面
を滑らかな曲面で形成し、ラビングによる配向処理を行
うことにより、基板とラビング部材との接触圧分布が滑
らかになり、ラビングスジなどの欠陥が発生しなくなる
ため、液晶表示素子の製造歩留まりを向上させることが
できる。
【００１９】さらに、すべての角部のうち、１つの角部
の曲率半径を他の角部の曲率半径よりも大きく形成する
ことにより、ラビングスジなどの欠陥が発生しなくなる
とともに、基板の姿勢が明確かつ迅速に判断できる。
の曲率半径を他の角部の曲率半径よりも大きく形成する
ことにより、ラビングスジなどの欠陥が発生しなくなる
とともに、基板の姿勢が明確かつ迅速に判断できる。
【図１】本発明の一実施の形態である液晶表示素子用基
板１を示す平面図、正面図および側面図である。
板１を示す平面図、正面図および側面図である。
【図２】液晶表示素子用基板１に配向処理を施すための
ラビング装置を示したものであって、図２（ａ）は平面
図、図２（ｂ）は正面図、図２（ｃ）は側面図である。
ラビング装置を示したものであって、図２（ａ）は平面
図、図２（ｂ）は正面図、図２（ｃ）は側面図である。
【図３】液晶表示素子用基板１が用いられる液晶表示素
子の一例を示した断面図である。
子の一例を示した断面図である。
【図４】液晶表示素子用基板１の構成を示す断面図であ
る。
る。
【図５】液晶表示素子用基板１の構成を示す断面図であ
る。
る。
【図６】従来の液晶表示素子用基板の一例を示す平面
図、正面図および側面図である。
図、正面図および側面図である。
１ 液晶表示素子用基板 ２、３、４、５ 角部 ７ 端面 １０ 透光性基板 １１ 透明電極 １２ 配向膜 １３ 液晶 １４ 封止部材 ２１ ラビングローラ ２３ 回転軸 ２４ 支柱 ２５ ラビングステージ ２６ 移動テーブル ５１ 液晶表示素子用基板 ５２、５３、５４、５５ 角部 ５７ 端面
Claims (2)
- 【請求項１】 方形状に形成された透光性基板に、ラビ
ングによる配向処理を行う液晶表示素子の製造方法にお
いて、 前記基板の基板表面から見たすべての角部およびすべて
の端面を滑らかな曲面で形成し、ラビングによる配向処
理を行うことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項２】 すべての前記角部のうち、１つの角部の
曲率半径を他の角部の曲率半径よりも大きく形成するこ
とを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5472598A JP3007869B2 (ja) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5472598A JP3007869B2 (ja) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | 液晶表示素子の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4126007A Division JP2781493B2 (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | 液晶表示素子用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10213801A true JPH10213801A (ja) | 1998-08-11 |
| JP3007869B2 JP3007869B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=12978788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5472598A Expired - Lifetime JP3007869B2 (ja) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3007869B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7465596B2 (en) | 2005-06-30 | 2008-12-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of semiconductor device |
| US7510950B2 (en) | 2005-06-30 | 2009-03-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
-
1998
- 1998-03-06 JP JP5472598A patent/JP3007869B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7465596B2 (en) | 2005-06-30 | 2008-12-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of semiconductor device |
| US7510950B2 (en) | 2005-06-30 | 2009-03-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US7791153B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-09-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3007869B2 (ja) | 2000-02-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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