JPH10213340A - 半導体クリーンルームの湿度調節方法及び湿度調節装置 - Google Patents

半導体クリーンルームの湿度調節方法及び湿度調節装置

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JPH10213340A
JPH10213340A JP9277620A JP27762097A JPH10213340A JP H10213340 A JPH10213340 A JP H10213340A JP 9277620 A JP9277620 A JP 9277620A JP 27762097 A JP27762097 A JP 27762097A JP H10213340 A JPH10213340 A JP H10213340A
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air
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JP9277620A
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Lee Dong-Jo
リー ドング−ジョー
Kim Kiido
キム キ−ドー
Fang Jung-Sung
ファング ジュング−スング
Young Lee Soon
リー スーン−ヤング
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/167Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/14Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by humidification; by dehumidification

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体クリーンルームの湿度調節方法及び湿
度調節装置において、大量に使用される空気の湿度を正
確で容易に、且つ大量に調節できるようにする。 【解決手段】 本発明の半導体クリーンルームの湿度調
節方法は、それぞれ個別的に調節された量の湿潤空気と
乾燥空気を一緒に混合することによって混合された全体
の空気の湿度を調節するようになされ、また本発明の半
導体クリーンルームの湿度調節装置は、湿潤空気が通過
する第1引入管5と乾燥空気が通過する第2引入管6を
流量調節器9を通じて混合器10に連結することでこの
混合器10内で湿潤空気と乾燥空気が混合される。従っ
て、大量の空気を所望の任意の湿度に調節することによ
り、工程に要求されるかまたはクリーンルームの条件に
要求される湿度を任意に調節した空気を大量に供給でき
る効果がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体生産用湿度調
節方法及び湿度調節装置に関するもので、より詳しくは
空気などの湿度調節を可能にして、半導体生産装置など
を含むクリーンルームの湿度を調節するための湿度調節
方法及び湿度調節装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造において湿度の調節は
とても重要視されている。
【0003】まず、半導体装置を生産する環境におい
て、クリーンルームは一定に密閉された空間の内外に清
浄化され、除湿器と加湿器を通過したフレッシュエアー
を循環させて構成される。ここで前記フレッシュエアー
は、ウェーハの汚染をもたらす可能性のある埃の流入を
予防するために外部の空気をヘパーフィルタやウルパー
フィルタのような半導体用フィルタに通過させ、清浄化
されたものである。また前記清浄化されたフレッシュエ
アーの除湿器及び加湿器への通過は、ウェーハの取り扱
い中の静電気の予防や半導体生産装置などの最適の運転
条件を形成するために湿度を調節することによって理解
され得る。
【0004】このような埃の除去及び湿度の調節などは
半導体製造分野で使用される通常の空気調和器などによ
ってある程度の水準まで達成されるくらいに公知となっ
ている。
【0005】前記空気中の水分を除去して湿度を低くす
る除湿器は、圧縮形、冷却形そして、乾式吸着形に大別
される。前記圧縮形は空気中に水分を圧縮して凝縮させ
湿度を低くする方式であり、冷凍式と吸着式がある。ま
た前記冷却形は圧縮形の冷凍式と類似しているが、エネ
ルギーの管理費用の節減が可能であるという利点があ
る。そして前記乾式吸着形はコラゲート(corrug
ate)形で制作され、塩化リチウム(Lithium
Chloride)が内蔵されたロター(roto
r)に水分が含まれた空気を通過させ除湿し、またロタ
ーは再生パートの中で熱風を利用し、水分が奪取されリ
サイクルされるように構成されている。従って、幅広い
風量に対応可能である他、湿度調節が簡単で維持費用が
経済的で、補修管理が容易で湿度の範囲も広いという特
徴があって半導体の生産設備のクリーンルームなどに幅
広く使用されている。これらの除湿器は空気の中の水分
を除去して湿度を低くする作用をする。
【0006】また、加湿器は前記に述べた除湿器とは反
対に空気の中に水蒸気などを加え、湿度を高める作用を
するもので、噴霧形と透過形に大別される。
【0007】前記噴霧形は、ベンチュリ管(ventu
ri tube)を利用して水を噴霧して水蒸気化する
か、または水晶発振子を使用する超音波発生器を利用し
て空気中に微粒の水粒子を強制的に放出させ湿度を高め
る方式である。また前記透過形はテフロン管のような微
細な気孔をもつ管の中に脱イオン水を入れ、一定な温度
を維持させ水分子が管の微細な気孔を透過し管の外に出
て空気中に蒸発されるようにすることで湿度を高める方
式である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の加湿器において、噴霧形はクリーンルームの湿度管
理のような大量の空気の湿度調節には有利であるという
長所はあるが、物理的に放出される微粒の水粒子の粒径
が一定でないため工程チューブや工程チャンバーのよう
にクローズドシステム(closed system)
では精密な湿度の調節が困難で、また、水粒子が工程チ
ューブや工程チャンバーの壁にぶつかり、壁面に凝縮さ
れ残留する可能性が高いので湿度を一定に維持させるこ
とが難しいという短所があった。
【0009】また、前記従来の加湿器のうち、透過形は
湿度を精密に制御することができるが、水分の発生量が
大変少ないので湿度のppm濃度の調節は可能である
が、パーセント(%)濃度の湿度調節には適合ではない
という問題があり、もっと容量が大きい工程チャンバー
や継続的に高い湿度の生成が要求される場合には適切で
はないという問題点があった。
【0010】従って、従来常用的に提供される空気調和
器の中の除湿器及び加湿器による湿度の調節は、大量で
あるためとても不正確であったし、それに従いクリーン
ルーム内の湿度の調節範囲もやはり15ないし50%程
度に大略的に調節されてきたことは事実である。
【0011】また、熱酸化のような酸化工程ではバブラ
ー(bubbler)のような特殊な湿度調節装置を別
途に使用している。バブラーの具体例は図5に示すよう
に、水晶フラスコ1内に脱イオン水を入れて、水晶フラ
スコ1をヒーター2で加熱しながら運搬ガスを吹き入
れ、運搬ガスに水蒸気を飽和させ運搬ガスと共に工程チ
ャンバー内に流入させ水蒸気を供給するのと同時に工程
チャンバーへの運搬ガスの流れを断続バルブ3で断続で
きるように構成されている。
【0012】またその他にも水素ガスと酸素ガスを加熱
された石英チャンバー内に供給する方式の乾式スチーム
や、熱板で水を加熱し運搬ガスを通過させる熱板方式な
どの湿度調節装置がやはり熱酸化などの工程装置用に開
発され使用されている。
【0013】しかし、前記のバブラーや乾式スチーム、
または熱板方式などの湿度調節装置などは高純度の水を
工程チャンバーに制限された容量で供給することにのみ
使用されることができるもので、クリーンルームの湿度
調節のような大量の空気の湿度調節には適切ではないと
いう短所がある。
【0014】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
その目的は、クリーンルームの湿度調節のような大量の
空気の湿度調節はもちろん、工程チューブや工程チャン
バーへの水蒸気の供給のような少容量の空気の精密な湿
度調節が可能な半導体生産用湿度調節装置及び湿度調節
方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めの本発明による半導体クリーンルームの湿度調節方法
は、乾燥空気の量と湿潤空気の量を個別的に調節して、
これらの調節された量の乾燥空気と湿潤空気を一緒に混
合することで、混合された全体の空気の湿度を調節す
る。
【0016】前記湿潤空気は飽和水蒸気圧で飽和された
水蒸気で、前記乾燥空気は除湿器によって乾燥された空
気である。
【0017】前記乾燥空気の量と湿潤空気の量がお互い
反比例するように調節され混合されることにより、混合
された全体の空気の量が一定に維持され得る。
【0018】また、本発明による半導体クリーンルーム
の湿度調節装置は、湿潤空気が通過する第1引入管及び
乾燥空気が通過する第2引入管と、前記第1引入管と第
2引入管それぞれに取り付けられその内部を通過する空
気の量を調節する流量調節器と、前記第1引入管と第2
引入管の端部に一緒に連結され前記乾燥空気と湿潤空気
を一緒に混合する混合器とから成る。
【0019】前記第1引入管及び第2引入管に取り付け
られた流量調節器は、その内部を通過する乾燥空気と湿
潤空気が互いに反比例するように調節され、前記混合器
は第1引入管の中心部に第2引入管が挿入されるように
取り付けられるか、逆に第2引入管の中心部に第1引入
管が挿入されるように取り付けられて構成される。
【0020】前記混合器以後には、更にフローメーター
が連結され得る。
【0021】また、本発明による半導体クリーンルーム
の湿度調節装置は、第1引入管と第2引入管の一方の端
部に除湿器が一緒に連結され、前記第1引入管の中間に
流量調節器が取り付けられ、前記第1引入管の他方の端
部と前記第2引入管の他方の端部に混合器が連結されて
構成されることもある。
【0022】ここで、前記第1引入管には流量調節器と
水蒸気発生チャンバーの順番で取り付けられるか、逆に
水蒸気発生チャンバーと流量調節器の順番で取り付けら
れても良い。
【0023】また、前記水蒸気発生チャンバーはバブラ
ーになり得るし、前記水蒸気発生チャンバー内に延長さ
れる前記第1引入管の端部には多孔質管が連結できる。
前記第1引入管の端部に連結される前記多孔質管は望ま
しくは焼結グラスから成る。
【0024】前記混合器以後にフローメーターがさらに
連結され得るし、または前記除湿器以前に断続バルブ、
フィルタ及びスクラバがさらに取り付けられることもあ
る。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態例を図面を参照しながら詳細に説明する。
【0026】本発明の半導体クリーンルームの湿度調節
方法は、乾燥空気の量と湿潤空気の量を個別的に調節し
て、これらの調節された量の乾燥空気と湿潤空気を一緒
に混合し、混合された全体の空気の湿度を調節するよう
にできるという特徴がある。
【0027】前記で湿潤空気というのは加湿器などによ
って飽和水蒸気圧で飽和された水蒸気を含む空気を自称
することで、主にクリーンルームに供給されるためには
通常の空気調和器によって清浄化されたフレッシュエア
ーを加湿器によって加湿して湿潤化させたものが使用さ
れ得る。
【0028】前記乾燥空気は図2〜図4に示す除湿器4
によって乾燥された空気で、やはりクリーンルームに供
給されるためには通常の空気調和器によって清浄化され
たフレッシュエアーを除湿器4によって除湿、乾燥させ
たものが使用され得る。
【0029】前記乾燥空気の量と湿潤空気の量が互いに
反比例するように調節され混合され、常に全体空気の量
を一定にすることによって適切な量の湿度に調節された
空気がクリーンルームへ供給されるようにする。
【0030】また、全体の空気の量を一定にし、乾燥空
気の量や湿潤空気の量をお互いにとって相対的に調節す
ることで混合された後の湿度を容易に設定する基準にな
ることもある。
【0031】例をあげると、総量100リットルの空気
が要求される場合、50リットルの乾燥空気と50リッ
トルの湿潤空気を含む場合の湿度を確認して、これを基
準に湿度を低くする場合には乾燥空気の量を多くして相
対的に湿潤空気の量を減らすことで全体の総計が100
リットルになるようにして湿度を低くすることができる
し、またその逆も可能である。
【0032】また、本発明による半導体クリーンルーム
の湿度調節装置は、図1に示されるように、湿潤空気が
通過する第1引入管5及び乾燥空気が通過する第2引入
管6と、前記第1引入管5と第2引入管6それぞれに取
り付けられその内部を通過する空気の量を調節する流量
調節器9及び前記第1引入管5と第2引入管6の端部に
一緒に連結されて前記乾燥空気と湿潤空気を一緒に混合
する混合器10とで構成され、前記第1引入管5や第2
引入管6は全てその内部に空気のような流体が通過でき
る管になり得るし、特に湿潤空気が通過する場合にも腐
食しない耐食性の管が使用され得る。
【0033】前記第1引入管5及び第2引入管6に取り
付けられた流量調節器9はその内部を通過する乾燥空気
と湿潤空気が互いに反比例するように調節される。この
ような乾燥空気の量と湿潤空気の量をお互い反比例にな
るように調節することは、湿度が調節された空気の総量
を一定にしてクリーンルームへの供給など循環を容易に
する。また湿度の調節においても全体の空気の量を限定
することで乾燥空気の湿潤空気に対する量の多少によっ
て湿度が比例的に調節できるようにする。
【0034】前記混合器10は第1引入管5の中心部に
第2引入管6が挿入されるように取り付けられて構成さ
れるか、逆に第2引入管6の中心部に第1引入管5が挿
入されるように取り付けられて構成される。
【0035】また、2つ以上の気流をそれぞれ均質に混
合できる違う形態の混合器10も使用可能であることは
当該技術分野で通常の知識を持つ者には容易に理解でき
ることは自明なことである。
【0036】前記混合器10以後にフローメーター11
がさらに連結され湿度が調節された空気の全体の流れの
量を確認し、そして調節できる。
【0037】また、本発明による半導体クリーンルーム
の湿度調節装置は、図2に示したように、第1引入管5
と第2引入管6の一方の端部に除湿器4を一緒に連結
し、前記第2引入管6の中間に流量調節器9を取り付
け、そして前記第1引入管5の中間に流量調節器9と水
蒸気発生チャンバー7を取り付け、前記第1引入管5の
他方の端部と前記第2引入管6の他方の端部に混合器1
0を連結して構成しても良い。
【0038】また、前記水蒸気発生チャンバー7はバブ
ラーになり得るし、前記水蒸気発生チャンバー7内に延
長される前記第1引入管5の端部には多孔質管8が連結
され得る。
【0039】前記バブラーというのは半導体生産ライン
で湿度を調節するために使用される水蒸気発生装置の一
種で、当該技術分野で通常の知識を持つ者には容易に理
解できることである。
【0040】前記第1引入管5の端部に連結される前記
多孔質管8は望ましくは焼結グラスになることもでき
る。
【0041】前記混合器10以後にフローメーター11
がさらに連結され、湿度が調節された空気の全体の流れ
の量を確認し、また調節できる。そして、図3及び図4
に示されたように、前記除湿器4以前に断続バルブ3、
フィルタ12及びスクラバー13がさらに取り付けられ
外気を直接清浄化して、湿度を調節してクリーンルーム
内に流入できるようにする。ここで断続バルブ3、フィ
ルタ12及びスクラバー13などは全て従来の半導体装
置生産設備で外気を清浄化するのに使用されていた物
で、やはり当該技術分野で通常の知識を持つ者には容易
に理解できる物であるのは自明なことである。
【0042】ここで、前記水蒸気発生チャンバー7及び
流量調節器9は、図3に示すように、第1引入管5に水
蒸気チャンバー7と流量調節器9の順番で取り付けられ
るか、または逆に図4のように、第1引入管5に流量調
節器9と水蒸気チャンバー7の順番で取り付けられる。
図3のように水蒸気チャンバー7と流量調節器9の順に
取り付けられる場合、水蒸気発生チャンバー7から流出
される湿潤空気の量を調節することができる。逆に図4
のように流量調節器9と水蒸気チャンバー7の順に取り
付けられる場合、水蒸気発生チャンバー7に供給される
空気の量を調節して湿潤空気の発生量自体を調節するこ
とができる。どちらも湿潤空気の量を調節するのは明ら
かであるが、図3のように水蒸気発生チャンバー7から
流出される湿潤空気の量を調節することがより望まし
い。
【0043】以上において、記載された具体例に対して
のみ詳細に説明したが、本発明は本発明の技術思想の範
囲内で、多様な変形及び修正が可能であることは、当業
者にとって明らかなものであり、このような変形及び修
正が添付されたものも特許請求範囲に属することは当然
なものである。
【0044】
【発明の効果】従って、本発明によるとクリーンルーム
を循環するフレッシュエアーなどのように大量に使用さ
れる空気の湿度を正確で、容易で、そして大量に調節で
きる効果がある。
【0045】また、本発明によるとクリーンルームを循
環する空気以外にも熱酸化装置などのように半導体装置
を生産することに使用される半導体製造装置にも直結さ
れ、高湿度の水蒸気を含む空気を提供することができる
という効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のバブラーの一つの具体例を概略的に示し
た構成図である。
【図2】本発明の一つの実施形態例による半導体クリー
ンルームの湿度調節装置を概略的に示した構成図であ
る。
【図3】本発明の異なる一つの実施形態例による半導体
クリーンルームの湿度調節装置を概略的に示した構成図
である。
【図4】本発明のもう一つの異なる実施形態例による半
導体クリーンルームの湿度調節装置を概略的に示した構
成図である。
【図5】本発明のもう一つの異なる実施形態例による半
導体クリーンルームの湿度調節装置を概略的に示した構
成図である。
【符号の説明】
1…水晶フラスコ 2…ヒーター 3…断続バルブ 4…除湿器 5…第1引入管 6…第2引入管 7…水蒸気発生チャンバー 8…多孔質管 9…流量調節器 10…混合器 11…フローメーター 12…フィルタ 13…スクラバー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キ−ドー キム 大韓民国,キュングキ−ド,ヨンギン−シ ティ,キヘウング−エウブ,ノングセオ− リ,サン24 (72)発明者 ジュング−スング ファング 大韓民国,キュングキ−ド,ヨンギン−シ ティ,キヘウング−エウブ,ノングセオ− リ,サン24 (72)発明者 スーン−ヤング リー 大韓民国,キュングキ−ド,ヨンギン−シ ティ,キヘウング−エウブ,ノングセオ− リ,サン24

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 乾燥空気の量と湿潤空気の量を個別的に
    調節して、これらの調節された量の乾燥空気と湿潤空気
    を一緒に混合することによって混合された全体の空気の
    湿度が調節されることを特徴とする半導体クリーンルー
    ムの湿度調節方法。
  2. 【請求項2】 前記湿潤空気は飽和水蒸気圧で飽和され
    た水蒸気を含む空気であることを特徴とする請求項1に
    記載の半導体クリーンルームの湿度調節方法。
  3. 【請求項3】 前記乾燥空気は除湿器によって乾燥され
    た空気であることを特徴とする請求項1に記載の半導体
    クリーンルームの湿度調節方法。
  4. 【請求項4】 前記乾燥空気の量と湿潤空気の量が互い
    に反比例するように調節されてから混合され、混合され
    た全体の空気の量が一定に維持されることを特徴とする
    請求項1に記載の半導体クリーンルームの湿度調節方
    法。
  5. 【請求項5】 湿潤空気が通過する第1引入管及び乾燥
    空気が通過する第2引入管と、前記第1引入管と第2引
    入管それぞれに取り付けられその内部を通過する空気の
    量を調節する流量調節器と、前記第1引入管と第2引入
    管の端部に一緒に連結され前記乾燥空気と湿潤空気を一
    緒に混合する混合器とから成ることを特徴とする半導体
    クリーンルームの湿度調節装置。
  6. 【請求項6】 前記第1引入管及び第2引入管に取り付
    けられた流量調節器は、その内部を通過する乾燥空気と
    湿潤空気が互いに反比例するよう調節されることを特徴
    とする請求項5に記載の半導体クリーンルームの湿度調
    節装置。
  7. 【請求項7】 前記混合器内では、第1引入管の中心部
    に第2引入管が挿入されるよう取り付けられていること
    を特徴とする請求項5に記載の半導体クリーンルームの
    湿度調節装置。
  8. 【請求項8】 前記混合器内では、第2引入管の中心部
    に第1引入管が挿入されるよう取り付けられていること
    を特徴とする請求項5に記載の半導体クリーンルームの
    湿度調節装置。
  9. 【請求項9】 前記混合器以後にフローメーターがさら
    に連結されていることを特徴とする請求項5に記載の半
    導体クリーンルームの湿度調節装置。
  10. 【請求項10】 第1引入管と第2引入管の一方の端部
    に除湿器が一緒に連結され、前記第2引入管の中間に流
    量調節器が取り付けられ、そして前記第1引入管の中間
    に流量調節器と水蒸気発生チャンバーが取り付けられ、
    前記第1引入管の他方の端部と前記第2引入管の他方の
    端部に混合器が連結されて構成されていることを特徴と
    する半導体クリーンルームの湿度調節装置。
  11. 【請求項11】 前記第1引入管及び第2引入管に取り
    付けられた流量調節器は、その内部を通過する乾燥空気
    と湿潤空気が互いに反比例するように調節されることを
    特徴とする請求項10に記載の半導体クリーンルームの
    湿度調節装置。
  12. 【請求項12】 前記混合器は第1引入管の中心部に第
    2引入管が挿入されるように取り付けられていることを
    特徴とする請求項10に記載の半導体クリーンルームの
    湿度調節装置。
  13. 【請求項13】 前記混合器は第2引入管の中心部に第
    1引入管が挿入されるように取り付けられていることを
    特徴とする請求項10に記載の半導体クリーンルームの
    湿度調節装置。
  14. 【請求項14】 前記第1引入管には、前記流量調節器
    および水蒸気発生チャンバーが流量調節器と水蒸気発生
    チャンバーの順番で取り付けられていることを特徴とす
    る請求項10に記載の半導体クリーンルームの湿度調節
    装置。
  15. 【請求項15】 前記第1引入管には、前記流量調節器
    および水蒸気発生チャンバーが水蒸気発生チャンバーと
    流量調節器の順番で取り付けられていることを特徴とす
    る請求項10に記載の半導体クリーンルームの湿度調節
    装置。
  16. 【請求項16】 前記水蒸気発生チャンバーはバブラー
    であることを特徴とする請求項10に記載の半導体クリ
    ーンルームの湿度調節装置。
  17. 【請求項17】 前記水蒸気発生チャンバー内に延長さ
    れる前記第1引入管の端部には、多孔質管が連結されて
    いることを特徴とする請求項10に記載の半導体クリー
    ンルームの湿度調節装置。
  18. 【請求項18】 前記第1引入管の端部に連結される前
    記多孔質管は焼結グラスであることを特徴とする請求項
    17に記載の半導体クリーンルームの湿度調節装置。
  19. 【請求項19】 前記混合器以後にフローメーターがさ
    らに連結されていることを特徴とする請求項10に記載
    の半導体クリーンルームの湿度調節装置。
  20. 【請求項20】 前記除湿器以前に断続バルブ、フィル
    タ及びスクラバーがさらに取り付けられていることを特
    徴とする請求項10に記載の半導体クリーンルームの湿
    度調節装置。
JP9277620A 1996-12-05 1997-10-09 半導体クリーンルームの湿度調節方法及び湿度調節装置 Pending JPH10213340A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR96-62083 1996-12-05
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JP2010236700A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Orion Mach Co Ltd 温湿度調整装置
JP2018112444A (ja) * 2017-01-11 2018-07-19 Q’z株式会社 二種混合気体の濃度測定装置
US20230073284A1 (en) * 2021-08-17 2023-03-09 Sigs, Inc. Automated plant growing system and methods

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