JPH10209628A - リフロー装置 - Google Patents

リフロー装置

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Publication number
JPH10209628A
JPH10209628A JP9012734A JP1273497A JPH10209628A JP H10209628 A JPH10209628 A JP H10209628A JP 9012734 A JP9012734 A JP 9012734A JP 1273497 A JP1273497 A JP 1273497A JP H10209628 A JPH10209628 A JP H10209628A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
furnace
zone
unit
units
temperature profile
Prior art date
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Pending
Application number
JP9012734A
Other languages
English (en)
Inventor
Kuniyo Matsumoto
邦世 松本
Toshihiro Abe
俊宏 阿部
Masaru Nonomura
勝 野々村
Naoichi Chikahisa
直一 近久
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP9012734A priority Critical patent/JPH10209628A/ja
Publication of JPH10209628A publication Critical patent/JPH10209628A/ja
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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 温度プロファイルの時間軸に対する自由度を
拡大し、要求する温度プロファイルを満足させることが
できるリフロー装置を提供する。 【解決手段】 基板10の搬送コンベア3と基板10を
加熱する炉体2とを有するリフロー装置1において、種
々の温度状態に設定される炉体2の各ゾーン5〜8を1
又は複数の炉単体ユニット4にて形成するとともに、こ
れら炉単位ユニット4を連結して炉体2を構成した。ま
た、基板を任意の搬送速度で搬送するコンベア単体と基
板を加熱する炉単体とを有するゾーン単体ユニットを連
結して構成してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板に電
子部品等をクリーム半田でハンダ付けするリフロー装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のリフロー装置31は、図6に示す
ように、炉体32が一体構造になっており、その中に予
備加熱ゾーン34、リフローゾーン35、冷却ゾーン3
6が区分形成されており、各ゾーン34〜36の長さは
変更することはできない構造となっている。また、搬送
系においても、炉体32と一体となった搬送コンベア3
3が設けられ、炉体32の入口から出口まで同一速度で
搬送されるようになっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、一般にプリ
ント基板をハンダ付けするときの温度プロファイルは、
基板に搭載される電子部品の種類、基板の材質等により
様々な温度プロファイルが要求される。
【0004】しかるに上記構成では、プリント基板をハ
ンダ付けするときの温度プロファイルの温度軸は、各ゾ
ーン34〜36の温度設定により温度の調節は可能であ
るが、時間軸は搬送コンベア33の搬送速度を変化させ
ることにより基板の予熱加熱時間とリフロー時間を同一
割合では変更できても、予備加熱時間とリフロー時間を
各々独自に変更することができず、所望の温度プロファ
イルを得ることができないという問題がある。
【0005】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、温度
プロファイルの時間軸に対する自由度を拡大し、要求す
る温度プロファイルを満足させることができるリフロー
装置を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のリフロー装置
は、基板の搬送コンベアと基板を加熱する炉体とを有す
るリフロー装置において、種々の温度状態に設定される
炉体の各ゾーンを1又は複数の炉単体ユニットにて形成
し、これら炉単位ユニットを連結して炉体を構成したも
のであり、連結する炉単体ユニットやその連結数によっ
て温度プロファイルの時間軸に対する自由度を拡大で
き、要求される温度プロファイルを満足させることがで
きる。
【0007】炉単位ユニットを同一長さとすると、単一
の規格ユニットを用いるので安価に構成できるととも
に、連結する炉単位ユニットの数によって温度プロファ
イルを変更することができる。
【0008】また、炉単位ユニットを長さの異なる複数
種類の内から選択するようにすると、温度プロファイル
の時間軸に対する自由度がより拡大し、要求される温度
プロファイルをより精度良く得ることができる。
【0009】また、本発明の別のリフロー装置は、種々
の温度状態に設定される炉体の各ゾーンを、基板を任意
の搬送速度で搬送する搬送コンベア単体と基板を加熱す
る炉単体とを有する1又は複数のゾーン単体ユニットに
て形成し、これらゾーン単体ユニットを連結して構成し
たものであり、連結するゾーン単体ユニットやその連結
数及び各ゾーン単体ユニットのコンベアの搬送速度を変
えることによりさらに温度プロファイルの時間軸に対す
る自由度を拡大し、要求する温度プロファイルを高精度
に満足させることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明のリフロー装置の第
1の実施形態について図1〜図3を参照して説明する。
【0011】図1において、1はリフロー装置、10は
基板である。リフロー装置1は基板10を加熱する炉体
2と、基板10を炉体2内に搬入して搬送する搬送コン
ベア3にて構成されている。炉体2は任意数の炉単体ユ
ニット4を連結して構成されている。図示例で、第1の
加熱ゾーン5、第2の加熱ゾーン6、第3の加熱ゾーン
7、及び冷却ゾーン8がそれぞれ単一の炉単体ユニット
4によって構成されている。
【0012】搬入された基板10は、第1の加熱ゾーン
5、第2の加熱ゾーン6、第3の加熱ゾーン7、及び冷
却ゾーン8によって加熱、冷却され、図2に示すような
温度プロファイルが得られる。
【0013】また、別の温度プロファイルが要求される
場合には、例えば図3(a)に示すように、炉単体ユニ
ット4を1台増加して連結し、図3(c)に示すよう
に、第1の加熱ゾーン5を長くしたり、図3(b)に示
すように、第2の加熱ゾーン6を長くすることにより、
その要求を満足することができる。
【0014】次に、本発明のリフロー装置の第2の実施
形態について図4を参照して説明する。なお、図1で説
明した第1の実施形態の同一の構成要素については同一
参照番号を付して説明を省略する。
【0015】本実施形態のリフロー装置11の炉体12
は、図4(a)に示すように、炉単体ユニット4とそれ
とは長さの異なった炉単体ユニット14を連結して構成
されている。具体的には、第1の加熱ゾーン5が2台の
炉単体ユニット4にて、第2の加熱ゾーン6が1台の炉
単体ユニット14にて、第3の加熱ゾーン7、及び冷却
ゾーン8がそれぞれ1台の炉単体ユニット4にて構成さ
れており、図4(b)に示すような温度プロファイルが
得られる。
【0016】次に、本発明のリフロー装置の第3の実施
形態について図5を参照して説明する。なお、図1で説
明した第1の実施形態の同一の構成要素については同一
参照番号を付して説明を省略する。
【0017】本実施形態のリフロー装置21において
は、第1の加熱ゾーン5、第2の加熱ゾーン6、第3の
加熱ゾーン7、及び冷却ゾーン8が、それぞれ基板10
を任意の搬送速度で搬送する搬送コンベア単体23と基
板10を加熱する炉単体24とを有するゾーン単体ユニ
ット22を連結して構成している。
【0018】本実施形態においては、基板10は各ゾー
ン単体ユニット22の搬送コンベア単体23にて順次搬
送されるとともに、各ゾーン単体ユニット22において
指定された温度、指定された搬送速度によってそれぞれ
温度プロファイルの一部が形成され、全体として所望の
温度プロファイルが形成される。
【0019】このように本実施形態では連結するゾーン
単体ユニット22の数や長さ及び各ゾーン単体ユニット
22の搬送コンベア単体23の搬送速度を変えることに
よりさらに温度プロファイルの時間軸に対する自由度を
拡大することができ、要求する温度プロファイルを満足
させることができる。
【0020】なお、以上の説明ではリフロー装置をプリ
ント基板の半田付け装置として機能する構成で説明した
が、電子部品をプリント基板に固定するための接着剤硬
化炉として使用する場合も実施可能である。
【0021】
【発明の効果】本発明のリフロー装置によれば、以上の
説明から明らかなように、基板の搬送コンベアと基板を
加熱する炉体とを有するリフロー装置において、種々の
温度状態に設定される炉体の各ゾーンを1又は複数の炉
単体ユニットにて形成し、これら炉単位ユニットを連結
して炉体を構成しているので、連結する炉単体ユニット
やその連結数に応じて温度プロファイルの時間軸に対す
る自由度が拡大し、所望の温度プロファイルを満足させ
ることができる。
【0022】また、炉単位ユニットを同一長さとする
と、単一の規格ユニットを用いるので安価に構成でき、
かつ連結する炉単位ユニットの数によって温度プロファ
イルを変更することができる。
【0023】また、炉単位ユニットを長さの異なる複数
種類の内から選択するようにすると、温度プロファイル
の時間軸に対する自由度が拡大し、所望の温度プロファ
イルを精度良く満足させることができる。
【0024】また、本発明の別のリフロー装置によれ
ば、種々の温度状態に設定される炉体の各ゾーンを、基
板を任意の搬送速度で搬送する搬送コンベア単体と基板
を加熱する炉単体とを有する1又は複数のゾーン単体ユ
ニットにて形成し、これらゾーン単体ユニットを連結し
て構成しているので、連結するゾーン単体ユニットやそ
の連結数及び各ゾーン単体ユニットのコンベアの搬送速
度を変えることによりさらに温度プロファイルの時間軸
に対する自由度が拡大し、所望の温度プロファイルをよ
り高精度に満足させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態のリフロー装置の概略
構成を示す斜視図である。
【図2】同実施形態のリフロー装置を示し、(a)は縦
断面図、(b)は得られる温度プロファイルを示す図で
ある。
【図3】同実施形態における他の温度プロファイルを得
るための具体構成例を示し、(a)は縦断面図、
(b)、(c)はそれぞれ得られる温度プロファイルを
示す図である。
【図4】本発明の第2の実施形態のリフロー装置を示
し、(a)は概略構成の縦断面図、(b)は得られる温
度プロファイルを示す図である。
【図5】本発明の第3の実施形態のリフロー装置の概略
構成を示す縦断面図である。
【図6】従来例のリフロー装置の概略構成を示す縦断面
図である。
【符号の説明】
1 リフロー装置 2 炉体 3 搬送コンベア 4 炉単位ユニット 5 第1の加熱ゾーン 6 第2の加熱ゾーン 7 第3の加熱ゾーン 8 冷却ゾーン 11 リフロー装置 14 長さの異なった炉単位ユニット 21 リフロー装置 22 ゾーン単位ユニット 23 搬送コンベア単体 24 炉単体
フロントページの続き (72)発明者 近久 直一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の搬送コンベアと基板を加熱する炉
    体とを有するリフロー装置において、種々の温度状態に
    設定される炉体の各ゾーンを1又は複数の炉単体ユニッ
    トにて形成し、これら炉単位ユニットを連結して炉体を
    構成したことを特徴とするリフロー装置。
  2. 【請求項2】 炉単位ユニットは同一長さであることを
    特徴とする請求項1記載のリフロー装置。
  3. 【請求項3】 炉単位ユニットは長さの異なる複数種類
    の内から選択されたものであることを特徴とする請求項
    1記載のリフロー装置。
  4. 【請求項4】 種々の温度状態に設定される炉体の各ゾ
    ーンを、基板を任意の搬送速度で搬送する搬送コンベア
    単体と基板を加熱する炉単体とを有する1又は複数のゾ
    ーン単体ユニットにて形成し、これらゾーン単体ユニッ
    トを連結して構成したことを特徴とするリフロー装置。
JP9012734A 1997-01-27 1997-01-27 リフロー装置 Pending JPH10209628A (ja)

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JP9012734A JPH10209628A (ja) 1997-01-27 1997-01-27 リフロー装置

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JP9012734A JPH10209628A (ja) 1997-01-27 1997-01-27 リフロー装置

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06164130A (ja) * 1992-11-18 1994-06-10 Toshiba Corp プリント基板のリフロー炉
JPH06224551A (ja) * 1993-01-23 1994-08-12 Sony Corp リフロー半田付け装置の温度制御方法
JPH08195551A (ja) * 1995-01-17 1996-07-30 Nihon Dennetsu Kk リフローはんだ付け装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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