JPH10209341A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH10209341A JPH10209341A JP1156297A JP1156297A JPH10209341A JP H10209341 A JPH10209341 A JP H10209341A JP 1156297 A JP1156297 A JP 1156297A JP 1156297 A JP1156297 A JP 1156297A JP H10209341 A JPH10209341 A JP H10209341A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin package
- semiconductor chip
- die pad
- semiconductor device
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
つ、放熱板が樹脂パッケージの表面に露出する恰好で備
わる樹脂パッケージ型半導体装置の製造方法を提供す
る。 【解決手段】樹脂パッケージ10の表面または裏面に露出
するようにして上記樹脂パッケージ内に埋設された放熱
板14を備える半導体装置1の製造方法であって、上記ダ
イパッド12、上記内部リード16および上記外部リード11
を含むように形成されたリードフレーム22を用い、上記
ダイパッド12の上面に半導体チップ13をボンディングす
る工程と、上記半導体チップ13と上記内部リード16とを
電気的に導通させる工程と、上記ダイパッド12、上記半
導体チップ13ないし上記内部リード16を樹脂パッケージ
10によって包み込む樹脂パッケージ工程とを含んでお
り、上記樹脂パッケージ工程において、樹脂パッケージ
10の表面または裏面に凹陥部20を形成しておき、上記樹
脂パッケージ工程の後において、上記凹陥部20に、上記
放熱板14を嵌め込み固定することを特徴とする。
Description
型半導体装置およびその製造方法に関し、より詳しく
は、樹脂パッケージの表面または裏面に露出するように
して放熱板が設けられた形態の樹脂パッケージ型半導体
装置およびその製造方法に関する。
種のゲートアレイ、超LSIなど、駆動時に生じる発熱
量が比較的大きい樹脂パッケージ型半導体装置には、樹
脂パッケージ内に放熱板を組み込み、これによって放熱
性能を高めたものが見受けられる。
導体装置1の構造例を示す。この半導体装置1は、半導
体チップ13と、この半導体チップ13が搭載されるダ
イパッド12と、半導体チップ13の上面の端子パッド
との間がワイヤボンディングなどによって電気的に導通
させられる複数の内部リード16と、この内部リード1
6と連続して樹脂パッケージ10の側面から外部に延出
させられる外部リード11と、上記樹脂パッケージ10
の下面に面一状に露出させられる放熱板14とを備えて
いる。この放熱板14は、たとえば銅などの熱伝導性に
優れた金属板によって形成される。図6に示される構造
の場合、上記放熱板14は、ダイパッド12の下面に対
して接合されている。すなわち、この放熱板14は、リ
ードフレームの段階において、ダイパッド12の下面に
対して、たとえば超音波接合、あるいはスポット溶接な
どによってあらかじめ接合される。このようなリードフ
レームに対して、ダイパッド12に半導体チップ13を
ボンディングするチップボンディング工程、半導体チッ
プ13と内部リード16とを結線するワイヤボンディン
グ工程を施した後、このリードフレーム22は、樹脂パ
ッケージ工程に供される。樹脂パッケージ工程では、図
7に示すように、上下の金型60,61間に上記のリー
ドフレーム22を挟持するようにして、キャビティ空間
7内に熱硬化性の樹脂を溶融状態で注入するとともに、
これを加熱硬化させる。このように、従来のこの種の樹
脂パッケージ型半導体装置においては、上記放熱板14
は、樹脂パッケージ工程において、パッケージ内に組み
込まれていた。
フレーム22のダイパッド12は、その下面に接合した
放熱板14の下面が上記樹脂パッケージ工程においてち
ょうど下金型のキャビティ71の底面に接するように、
あらかじめダウンオフセットさせられている。そして、
このダイパッド12は、通常、比較的細い支持リード
(図示略)を介して、リードフレーム22に支持されて
いる。そのため、上記ダイパッド12に接合された放熱
板14は、非常に不安定であり、外力が作用すれば、容
易に姿勢が変化する。その結果、図7に示す樹脂パッケ
ージ工程、より詳しくは、リードフレーム22を挟持す
るようにして上下の金型60,61の型締めをした状態
において、キャビティ空間7内に溶融樹脂を注入する工
程において、樹脂の流れの力によって上記の放熱板14
の姿勢が狂い、こうして放熱板の姿勢が狂ったまま樹脂
が硬化してしまうことがあった。
の全部または一部がパッケージの樹脂によって薄バリ状
に覆われるといった状態が現出し、しかもその状態が個
々の半導体装置によってまちまちとなり、これらは外観
的に不良とされ、歩留りの低下が著しかった。
のような放熱板14の姿勢の変動は、ダイパッド上の半
導体チップと内部リードとをつなぐワイヤの接合状態に
不良をもたらすこともあり、この場合は、外観的には良
品であっても、電気機能的に不良となる。
出されたものであって、外観不良や機能不良の可能性を
著しく低減しつつ、放熱板が樹脂パッケージの表面に露
出する恰好で備わる樹脂パッケージ型半導体装置の製造
方法を提供することをその課題としている。
は、次の技術的手段を講じている。
提供される半導体装置の製造方法は、半導体チップと、
この半導体チップが搭載されるダイパッドと、上記半導
体チップと電気的に導通させられる複数本の内部リード
と、上記半導体チップないし上記内部リードを包み込む
樹脂パッケージと、上記各内部リードに連続して上記樹
脂パッケージの外部に延出する外部リードと、上記樹脂
パッケージの表面または裏面に露出するようにして上記
樹脂パッケージ内に埋設された放熱板と、を備える半導
体装置の製造方法であって、上記ダイパッド、上記内部
リードおよび上記外部リードを含むように形成されたリ
ードフレームを用い、上記ダイパッドの上面に半導体チ
ップをボンディングする工程と、上記半導体チップと上
記内部リードとを電気的に導通させる工程と、上記ダイ
パッド、上記半導体チップないし上記内部リードを樹脂
パッケージによって包み込む樹脂パッケージ工程とを含
んでおり、上記樹脂パッケージ工程において、樹脂パッ
ケージの表面または裏面に凹陥部を形成しておき、上記
凹陥部に、上記放熱板を嵌め込み固定することに特徴づ
けられる。
来のように樹脂パッケージ工程において樹脂パッケージ
内に組み込まれるのではなく、樹脂パッケージ工程の後
に組み込まれる。すなわち、樹脂パッケージ工程におい
ては、放熱板が嵌まり込むべき凹陥部を設けておき、樹
脂パッケージ工程の後、この凹陥部内に嵌め込み固定さ
れる。放熱板を嵌め込むのは、リードフレームの状態に
おいて行ってもよいし、リードカット工程を経て各半導
体装置に分離された後に行ってもよい。
来のように樹脂パッケージ工程において、キャビティ内
に注入される樹脂の流れの力によって放熱板の姿勢が狂
い、このように姿勢が狂った状態において樹脂が硬化さ
れてしまうといったことは起こりえない。上記凹陥部を
放熱板の形状に対応したものとしておくことにより、こ
の放熱板が適正に樹脂パッケージの表面に露出させられ
た形態の樹脂パッケージ型半導体装置が得られる。
て、放熱板の姿勢が変動することによってダイパッド上
の半導体チップの姿勢が変動するということもないの
で、半導体チップと内部リードをつなぐワイヤの接続不
良が生じるといったこともなく、機能的な不良の出現も
また、抑制される。
の形成は、この凹陥部の底部に上記ダイパッドの底面が
露出するようにして行われる。このようにすれば、放熱
板とダイパッドとを直接的に接合することが可能となる
ので、放熱性能を向上させることができる。
陥部への上記放熱板の嵌め込み固定は、上記ダイパッド
の底面に対して上記放熱板を超音波接合することによっ
て行う。このようにすれば、ダイパッド上の半導体チッ
プに悪影響を与えることなく、確実に上放熱板の固定を
行うことができる。
樹脂パッケージ型半導体装置は、半導体チップと、この
半導体チップが搭載されるダイパッドと、上記半導体チ
ップと電気的に導通させられる複数本の内部リードと、
上記半導体チップないし上記内部リードを包み込む樹脂
パッケージと、上記各内部リードに連続して上記樹脂パ
ッケージの外部に延出する外部リードと、上記樹脂パッ
ケージの表面または裏面に露出するようにして上記樹脂
パッケージ内に埋設された放熱板と、を備える半導体装
置であって、上記放熱板は、上記半導体パッケージの表
面または裏面に形成された凹陥部に嵌め込み固定されて
いることを特徴としている。
発明の上記第1の側面にかかる方法によって製造された
半導体装置であり、その利点は、前述したことから明ら
かであろう。すなわち、この樹脂パッケージ型半導体装
置における放熱板は、樹脂パッケージ工程において樹脂
パッケージ内に組み込まれるのではなく、樹脂パッケー
ジ工程の後において、この樹脂パッケージの外面に露出
するようにして取り付けられたものである。
面を参照して以下に行う詳細な説明からち、より明らか
となろう。
態を、図面を参照しつつ、具体的に説明する。なお、こ
れらの図において、図6および図7に示した従来例と同
等の部材または部分には、同一の符号を付してある。
によって製造された樹脂パッケージ型半導体装置1の一
例の断面図である。同図に示されるように、この樹脂パ
ッケージ型半導体装置1は、半導体チップ13が搭載さ
れるダイパッド12と、上記半導体チップ13の上面パ
ッドとの間がワイヤボンディング19によって電気的に
導通させられる複数の内部リード16と、これらダイパ
ッド12、半導体チップ13ないし内部リード16を包
み込む樹脂パッケージ10と、この樹脂パッケージ10
の下面に面一状に露出させられた放熱板14とを備えて
いる。放熱板14は、樹脂パッケージ10の下面に形成
した凹陥部20内に嵌め込まれた状態において、上記ダ
イパッド12の裏面に対して接合されている。両者の接
合は、放熱板14およびダイパッド12の双方の中央部
において、たとえば超音波接合によって行われる。凹陥
部20の深さは、上記放熱板14の厚みと対応させられ
ており、平面的な形状は、放熱板14の平面的な形状と
対応させられている。
は、たとえば、図2に示すようなリードフレーム22を
用いて製造される。これらの図2に示されるリードフレ
ーム22は、いわゆるクワッド・フラット型パッケージ
を有する半導体装置を製造するためのものである。
よび長手方向等間隔に上記サイドフレーム23,23間
を掛け渡すように形成されるクロスフレーム24,24
によって囲まれる矩形領域25内に、上記樹脂パッケー
ジ型半導体装置1の構成部分となるべきリード11,1
6ないしダイパッド12などが打ち抜き形成されてい
る。四辺形枠状のタイバー26がその支持リード27に
よってサイドフレーム23およびクロスフレーム24に
連結されるようにして形成されている。この四辺形枠状
のタイバー26の四隅部から内方に延びる吊りリード1
5によって、矩形状のダイパッド12が支持されてい
る。隣合う吊りリード15,15で区画される各台形領
域には、タイバー26に基端が連結され、かつダイパッ
ド12の各辺に向けて延びる複数本の内部リード16が
形成されている。タイバー26の外側には、各内部リー
ド16に連続して外方に延びる外部リード11が形成さ
れている。各外部リード11の外端部は、支持リード2
7を介してサイドフレーム23,23またはクロスフレ
ーム24,24に連結されている。各内部リード16
は、概して、ダイパッド12の中心から放射状に延びる
方向に形成されている。
うに、樹脂パッケージ工程において、放熱板14の厚み
を勘案して深さが設定されて樹脂パッケージ10の裏面
に形成される凹陥部20の底面に露出することができる
ように、リードフレーム22における他の部分に対して
ダウンオフセットされている。
ードフレーム22のダイパッド12の上面に、半導体チ
ップ13がボンディングされるとともに、この半導体チ
ップ13の上面に形成された電極パッド(図示略)と上
記各内部リード16との間がワイヤボンディング19に
よって結線される。このようにチップボンディング工程
およびワイヤボンディング工程を終えたリードフレーム
22は、樹脂パッケージ工程に供される。
ァモールド法によって上記のリードフレーム22上の所
定領域を熱硬化性樹脂によるパッケージで包み込む工程
を行う装置であり、図3に示すように、上下方向に相対
移動して型締め状態と型開き状態とを選択しうる下金型
61および上金型60を備える。下金型61および上金
型60には、型締め状態において、上記リードフレーム
22上のタイバー26でだ囲まれた矩形領域に樹脂パッ
ケージ10を形成するに適したキャビティ70,71が
それぞれ形成されている。そして、図3に示す実施形態
においては、下金型61のキャビティ71の底部に、放
熱板14の形状と対応した膨出部30が形成されてい
る。たとえば、放熱板14が所定厚みの円形をしている
のであれば、この膨出部30の平面形態は放熱板14の
平面形態と対応した円形とし、膨出部30の膨出高さ
は、放熱板14の厚みと対応したものとされる。そし
て、本実施形態においてはとくに、上記膨出部30の上
面に、小径の吸引孔80が設けられている。この吸引孔
80は、バルブを介して図示しない負圧発生源につなが
っている。下金型61および/または上金型60におけ
る上記キャビティ70,71の隅部には、図示しないラ
ンナから送られる溶融樹脂をキャビティ空間内に注入す
るためのゲート(図示略)が設けられている。
た状態において、下金型61上に上記のようにチップボ
ンディング工程およびワイヤボンディング工程を終えた
リードフレーム22を位置決めしつつセットし、図3に
示すように両金型60,61を型締めする。この状態に
おいて、図3に表れているように、ダイパッド12の裏
面は、下金型61のキャビティ71の底面に形成した上
記の膨出部30の上面に接触している。本実施形態にお
いては、上記吸引孔80に負圧を作用させて、上記ダイ
パッド12を確実に上記膨出部30の上面に密着させ
る。この状態において上記キャビティ空間7内にエポキ
シ樹脂等の熱硬化性樹脂を溶融状態において注入する。
上記ダイパッド12は、吸引力によって上記の膨出部3
0の上面に密着させられているので、キャビティ空間内
に注入される樹脂の流れによってダイパッド12の姿勢
が不用意に変動することはない。そして、上記の溶融樹
脂は、金型に与えられる熱によって所定時間を経過する
間に硬化させられる。
60,61を型開きすると、図4に示すような断面形状
を有する樹脂パッケージ10が形成される。樹脂パッケ
ージ10の裏面側には、上記下金型61のキャビティ7
0の底面に形成した膨出部30の形態と対応する凹陥部
20が形成されており、しかも、この凹陥部20の底面
には、ダイパッド12の下面が面一状に臨んでいる。
れた凹陥部20には、たとえば銅などの熱伝導性に優れ
た金属からなる放熱板14が嵌め込み固定される。本実
施形態においては、図5に示すように、上記樹脂パッケ
ージ10を含めたリードフレーム22を反転させて上記
樹脂パッケージ10の裏面側を上に向け、そして、上記
凹陥部20内に放熱板14を吸着ハンドなどを用いて装
填するとともに、超音波ホーン40を用いて上記放熱板
14を凹陥部20の底面に向けて圧し付ける。この場
合、必要であれば、放熱板14を加熱する。そうする
と、超音波振動による相互摩擦により、ダイパッド12
と上記放熱板14とは、それらの中央部において、合金
化するなどして結合される。
対して、ハンダメッキ工程、検査工程、標印工程等を行
った後、リードカット・フォーミングを施して、図1に
示すような個別の樹脂パッケージ型半導体装置1が得ら
れる。
0の表面に露出する放熱板14が、樹脂パッケージ工程
の後において、樹脂パッケージ工程において形成された
凹陥部20内に嵌め込み固定されるので、この放熱板1
4の樹脂パッケージ表面における露出形態が一定とな
る。
形態に限定されるものではない。実施形態では、樹脂パ
ッケージの裏面側に凹陥部を設けてこれに放熱板を嵌め
込み固定しているが、事情が許せば、樹脂パッケージの
表面側に凹陥部を設けてこれに放熱板を嵌め込み固定し
てもよい。
ダイパッド12を臨ませ、このダイパッド12に上記放
熱板14を連結しているが、凹陥部20の底面にダイパ
ッドを臨ませなくとも、放熱板による大きな放熱効果を
期待することができる。この場合、凹陥部への放熱板の
固定は、接着等の手段を用いればよい。
状態において、樹脂パッケージ10に設けた凹陥部20
に放熱板14を取付けているが、各半導体装置としてリ
ードフレームから分離した後において、必要に応じて樹
脂パッケージの表面に設けておいた凹陥部に放熱板を嵌
め込み固定する場合も、もちろん、本願発明の範囲に含
まれる。
図である。
ードフレームの一例の部分拡大平面図であり、チップボ
ンディングおよびワイヤボンディングを施した状態を示
す。
明方法によって特徴づけられる樹脂モールド工程を行っ
ている状態を示す模式的断面図である。
れる中間製品を示す断面図である。
ける工程を示す断面図である。
ある。
ける樹脂モールド工程を示す模式的断面図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 半導体チップと、この半導体チップが搭
載されるダイパッドと、上記半導体チップと電気的に導
通させられる複数本の内部リードと、上記半導体チップ
ないし上記内部リードを包み込む樹脂パッケージと、上
記各内部リードに連続して上記樹脂パッケージの外部に
延出する外部リードと、上記樹脂パッケージの表面また
は裏面に露出するようにして上記樹脂パッケージ内に埋
設された放熱板と、を備える半導体装置の製造方法であ
って、 上記ダイパッド、上記内部リードおよび上記外部リード
を含むように形成されたリードフレームを用い、 上記ダイパッドの上面に半導体チップをボンディングす
る工程と、 上記半導体チップと上記内部リードとを電気的に導通さ
せる工程と、 上記ダイパッド、上記半導体チップないし上記内部リー
ドを樹脂パッケージによって包み込む樹脂パッケージ工
程とを含んでおり、 上記樹脂パッケージ工程において、樹脂パッケージの表
面または裏面に凹陥部を形成しておき、 上記凹陥部に、上記放熱板を嵌め込み固定することを特
徴とする、半導体装置の製造方法。 - 【請求項2】 上記凹陥部の形成は、この凹陥部の底部
に上記ダイパッドの底面が露出するようにして行われ
る、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 上記凹陥部への上記放熱板の嵌め込み固
定は、上記ダイパッドの底面に対して上記放熱板を超音
波接合することによって行う、請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかの方法によ
って製造された半導体装置。 - 【請求項5】 半導体チップと、この半導体チップが搭
載されるダイパッドと、上記半導体チップと電気的に導
通させられる複数本の内部リードと、上記半導体チップ
ないし上記内部リードを包み込む樹脂パッケージと、上
記各内部リードに連続して上記樹脂パッケージの外部に
延出する外部リードと、上記樹脂パッケージの表面また
は裏面に露出するようにして上記樹脂パッケージ内に埋
設された放熱板と、を備える半導体装置であって、 上記放熱板は、上記半導体パッケージの表面または裏面
に形成された凹陥部に嵌め込み固定されていることを特
徴とする、半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1156297A JP3813680B2 (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1156297A JP3813680B2 (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10209341A true JPH10209341A (ja) | 1998-08-07 |
JP3813680B2 JP3813680B2 (ja) | 2006-08-23 |
Family
ID=11781385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1156297A Expired - Fee Related JP3813680B2 (ja) | 1997-01-24 | 1997-01-24 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3813680B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020021476A (ko) * | 2000-09-15 | 2002-03-21 | 이중구 | 칩 스케일 반도체 팩키지 및, 그것의 제조 방법 |
JP2013118353A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-06-13 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
-
1997
- 1997-01-24 JP JP1156297A patent/JP3813680B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020021476A (ko) * | 2000-09-15 | 2002-03-21 | 이중구 | 칩 스케일 반도체 팩키지 및, 그것의 제조 방법 |
US9905499B2 (en) | 2011-10-30 | 2018-02-27 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2013118353A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-06-13 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
US9613883B2 (en) | 2011-10-31 | 2017-04-04 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device |
US10504822B2 (en) | 2011-10-31 | 2019-12-10 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3813680B2 (ja) | 2006-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3205235B2 (ja) | リードフレーム、樹脂封止型半導体装置、その製造方法及び該製造方法で用いる半導体装置製造用金型 | |
US5409866A (en) | Process for manufacturing a semiconductor device affixed to an upper and a lower leadframe | |
US5091341A (en) | Method of sealing semiconductor device with resin by pressing a lead frame to a heat sink using an upper mold pressure member | |
JP2005191146A (ja) | 混成集積回路装置の製造方法 | |
JP3813680B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20010042912A1 (en) | Dual-die integrated circuit package | |
JP3616469B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP3688760B2 (ja) | 樹脂パッケージ型半導体装置およびその製造方法 | |
JP5119092B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3550100B2 (ja) | 自動車用電子回路装置及びそのパッケージ製造方法 | |
JP3842356B2 (ja) | 半導体装置、およびその製造方法 | |
JP3442911B2 (ja) | 樹脂パッケージ型半導体装置およびその製造方法 | |
JP3022910B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3660444B2 (ja) | 樹脂パッケージ型半導体装置、およびその製造方法 | |
JP3566479B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、およびこの方法により製造される半導体装置 | |
JPH0582573A (ja) | 樹脂封止型半導体装置用金型 | |
JP3553513B2 (ja) | 自動車用電子回路装置 | |
WO2024116924A1 (ja) | 半導体装置、および、半導体装置の製造方法 | |
WO2024116933A1 (ja) | 半導体装置、および、半導体装置の製造方法 | |
JP2011210936A (ja) | 半導体装置の製造方法および半導体装置 | |
JP3732604B2 (ja) | 樹脂パッケージ型半導体装置、およびその製造方法 | |
JP4201060B2 (ja) | 半導体装置、およびその製造方法 | |
JPH11330116A (ja) | 半導体装置の製造方法、それに使用されるリードフレーム及び成型用金型 | |
JP2001196401A (ja) | 半導体装置の樹脂パッケージ形成方法 | |
JPH08125051A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20041005 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20050909 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051206 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20060203 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20060222 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20060530 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060601 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110609 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120609 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130609 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |