JPH10208879A - 蛍光変換膜の製造方法 - Google Patents
蛍光変換膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH10208879A JPH10208879A JP9012276A JP1227697A JPH10208879A JP H10208879 A JPH10208879 A JP H10208879A JP 9012276 A JP9012276 A JP 9012276A JP 1227697 A JP1227697 A JP 1227697A JP H10208879 A JPH10208879 A JP H10208879A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- film
- fluorescent
- conversion film
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 133
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 102
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 56
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 34
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 30
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 5
- 230000008030 elimination Effects 0.000 abstract 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 35
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 35
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 24
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 17
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 17
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 14
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 14
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 14
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]benzene Chemical group C=1C=C(C=2C=CC(C=C(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPQKUYVSJWQSDY-UHFFFAOYSA-N 4-phenyldiazenylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 QPQKUYVSJWQSDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N benzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(=O)NC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- FQLZTPSAVDHUKS-UHFFFAOYSA-N 6-amino-2-(2,4-dimethylphenyl)benzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1N(C1=O)C(=O)C2=C3C1=CC=CC3=C(N)C=C2 FQLZTPSAVDHUKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- VYXSBFYARXAAKO-WTKGSRSZSA-N chembl402140 Chemical compound Cl.C1=2C=C(C)C(NCC)=CC=2OC2=C\C(=N/CC)C(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C(=O)OCC VYXSBFYARXAAKO-WTKGSRSZSA-N 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 3
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 3
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- PCGDWIWUQDHQLK-UHFFFAOYSA-N 2-morpholin-4-yl-5-nitrobenzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1N1CCOCC1 PCGDWIWUQDHQLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000282412 Homo Species 0.000 description 2
- 241000282414 Homo sapiens Species 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- QKLPIYTUUFFRLV-YTEMWHBBSA-N 1,4-bis[(e)-2-(2-methylphenyl)ethenyl]benzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1\C=C\C(C=C1)=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1C QKLPIYTUUFFRLV-YTEMWHBBSA-N 0.000 description 1
- HXWQJYVUJPBQEW-VAWYXSNFSA-N 1-phenyl-4-[(e)-2-(4-phenylphenyl)ethenyl]benzene Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1/C=C/C(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HXWQJYVUJPBQEW-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQHWUYVHKRVCMD-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-dimethyl-10-phenylphenazin-10-ium-2,8-diamine;chloride Chemical compound [Cl-].C12=CC(N(C)C)=CC=C2N=C2C=CC(N)=CC2=[N+]1C1=CC=CC=C1 SQHWUYVHKRVCMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 2-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n,2-n-triphenylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGQCCSGKGJLRL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-chromen-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=C1OC(=O)C=C2C PSGQCCSGKGJLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSHNITRMYYLLCV-UHFFFAOYSA-N 4-methylumbelliferone Chemical compound C1=C(O)C=CC2=C1OC(=O)C=C2C HSHNITRMYYLLCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZXAEJGHNXJTSE-UHFFFAOYSA-N 7-(ethylamino)-4,6-dimethylchromen-2-one Chemical compound O1C(=O)C=C(C)C2=C1C=C(NCC)C(C)=C2 QZXAEJGHNXJTSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJIJXIFQYOPWTF-UHFFFAOYSA-N 7-hydroxycoumarin Natural products O1C(=O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 CJIJXIFQYOPWTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEYSFABYSGQBG-UHFFFAOYSA-M Patent blue Chemical compound [Na+].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=CC=1)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 SJEYSFABYSGQBG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000009125 cardiac resynchronization therapy Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- VSSSHNJONFTXHS-UHFFFAOYSA-N coumarin 153 Chemical compound C12=C3CCCN2CCCC1=CC1=C3OC(=O)C=C1C(F)(F)F VSSSHNJONFTXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000000982 direct dye Substances 0.000 description 1
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 230000000415 inactivating effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000990 laser dye Substances 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- LPQMOFIXRVVOSF-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate;n-methyl-n-[(1,3,3-trimethylindol-1-ium-2-yl)methylideneamino]aniline Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C[N+]=1C2=CC=CC=C2C(C)(C)C=1/C=N/N(C)C1=CC=CC=C1 LPQMOFIXRVVOSF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- COIVODZMVVUETJ-UHFFFAOYSA-N sulforhodamine 101 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC=C1C1=C(C=C2C3=C4CCCN3CCC2)C4=[O+]C2=C1C=C1CCCN3CCCC2=C13 COIVODZMVVUETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- ORHBXUUXSCNDEV-UHFFFAOYSA-N umbelliferone Chemical compound C1=CC(=O)OC2=CC(O)=CC=C21 ORHBXUUXSCNDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000016776 visual perception Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 蛍光変換膜の蛍光性を失うことなく(変換効
率を低下させることなく)、高精細な蛍光変換膜を製造
することのできる方法を提供する。 【解決手段】 基板上に、発光体からの発光を、より長
波長の蛍光に変換する蛍光変換膜を形成する蛍光変換膜
の製造方法において、下記(I)〜(III)の段階を含む
ことを特徴とする蛍光変換膜の製造方法。 (I):基板1の表面に凹凸の繰り返しパターンを形成
する。 (II):この基板凹部を埋め込むようにして、基板の全
面に蛍光変換膜2を成膜する。 (III):この蛍光変換膜の表面を研磨して、基板表面
の凹部の内部以外に成膜された蛍光変換膜を除去する。
率を低下させることなく)、高精細な蛍光変換膜を製造
することのできる方法を提供する。 【解決手段】 基板上に、発光体からの発光を、より長
波長の蛍光に変換する蛍光変換膜を形成する蛍光変換膜
の製造方法において、下記(I)〜(III)の段階を含む
ことを特徴とする蛍光変換膜の製造方法。 (I):基板1の表面に凹凸の繰り返しパターンを形成
する。 (II):この基板凹部を埋め込むようにして、基板の全
面に蛍光変換膜2を成膜する。 (III):この蛍光変換膜の表面を研磨して、基板表面
の凹部の内部以外に成膜された蛍光変換膜を除去する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光変換膜の製造
方法に関する。さらに詳しくは、民生用、工業用の表示
機器、カラーディスプレイ等に好適に用いられる蛍光変
換膜の製造方法に関する。
方法に関する。さらに詳しくは、民生用、工業用の表示
機器、カラーディスプレイ等に好適に用いられる蛍光変
換膜の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子ディスプレイデバイスは、一般にma
n-machine interface といわれるように、各種装置(ma
chine)からの各種情報を視覚を通して人間(man)に伝
達する電子デバイスであって、人間と装置とを結ぶ重要
な橋渡し的役割(interface)を担っている。この電子
デバイスには、発光形と受光形とがあり、発光形として
は、例えばCRT(陰極線管),PDP(プラズマディ
スプレイ),ELD(エレクトロルミネッセンスディス
プレイ),VFD(蛍光表示管),LED(発光ダイオ
ード)などが挙げられる。一方、受光形としては、例え
ばLCD(液晶ディスプレイ),ECD(エレクトロケ
ミカルディスプレイ),EPID(電気泳動ディスプレ
イ),SPD(分散粒子配向形ディスプレイ),TBD
(着色粒子回転形ディスプレイ),PLZT(透明強誘
電性PLZT[(Pb,La)(Zr,Ti)O3]セ
ラミックスディスプレイ)などが挙げられる。
n-machine interface といわれるように、各種装置(ma
chine)からの各種情報を視覚を通して人間(man)に伝
達する電子デバイスであって、人間と装置とを結ぶ重要
な橋渡し的役割(interface)を担っている。この電子
デバイスには、発光形と受光形とがあり、発光形として
は、例えばCRT(陰極線管),PDP(プラズマディ
スプレイ),ELD(エレクトロルミネッセンスディス
プレイ),VFD(蛍光表示管),LED(発光ダイオ
ード)などが挙げられる。一方、受光形としては、例え
ばLCD(液晶ディスプレイ),ECD(エレクトロケ
ミカルディスプレイ),EPID(電気泳動ディスプレ
イ),SPD(分散粒子配向形ディスプレイ),TBD
(着色粒子回転形ディスプレイ),PLZT(透明強誘
電性PLZT[(Pb,La)(Zr,Ti)O3]セ
ラミックスディスプレイ)などが挙げられる。
【0003】ここで、電子ディスプレイデバイスのフル
カラー化の方法としては、多色(例えば赤,青,緑の三
原色)の発光部分を平面的に分離配置して、それぞれ発
光させる方法や、バックライトの白色光をカラーフィル
タで多色に分解させる方法が知られている。また、発光
体の発光を平面的に分離配置した異なる蛍光体に吸収さ
せ、それぞれの蛍光体から多色(異なる色)蛍光を発光
させる方法も知られている。ここで、蛍光体を用いて、
ある発光体から多色の蛍光を発光させる方法について
は、CRT,PDP,VFDに応用されている。しかし
ながら、この場合、発光体の発光が電子線や紫外線であ
るなど、エネルギー的に高いことが必要である。したが
ってLEDやELDのように発光体からの発光が近紫外
線ないし可視光のように、エネルギー的に低い場合に
は、CRT,PDP,VFDで用いられる無機の蛍光体
(通常、希土類オキシハライドなどを母体とし、この母
体を不活性化剤で不活性化したものが用いられる(例え
ばY2O3:Euなど))は励起されず、蛍光は発しな
い。
カラー化の方法としては、多色(例えば赤,青,緑の三
原色)の発光部分を平面的に分離配置して、それぞれ発
光させる方法や、バックライトの白色光をカラーフィル
タで多色に分解させる方法が知られている。また、発光
体の発光を平面的に分離配置した異なる蛍光体に吸収さ
せ、それぞれの蛍光体から多色(異なる色)蛍光を発光
させる方法も知られている。ここで、蛍光体を用いて、
ある発光体から多色の蛍光を発光させる方法について
は、CRT,PDP,VFDに応用されている。しかし
ながら、この場合、発光体の発光が電子線や紫外線であ
るなど、エネルギー的に高いことが必要である。したが
ってLEDやELDのように発光体からの発光が近紫外
線ないし可視光のように、エネルギー的に低い場合に
は、CRT,PDP,VFDで用いられる無機の蛍光体
(通常、希土類オキシハライドなどを母体とし、この母
体を不活性化剤で不活性化したものが用いられる(例え
ばY2O3:Euなど))は励起されず、蛍光は発しな
い。
【0004】従って、このような近紫外線ないし可視光
のような低いエネルギー線に対して、蛍光を発するもの
としては、レーザー色素のような有機系の蛍光色素また
は蛍光顔料が用いられる。例えば、有機エレクトロルミ
ネッセンス(以下、有機EL素子と略記する)を用いた
多色発光素子として、単色で発光する有機EL素子の各
々に対応して、蛍光色素を含む蛍光体(以下、蛍光変換
膜という)を積層または並列に配置したものが提案され
ている(特開平3−152897号公報)。このような
蛍光色素または蛍光顔料を含む蛍光変換膜を高精細にパ
ターニングすれば、近紫外線ないし可視光のような低い
エネルギー線を用いてもフルカラーの発光形ディスプレ
イが構築できる。そこで、蛍光変換膜のパターニングの
方法としては、無機蛍光体の場合と同様に蛍光色素を液
状のレジスト(感光性樹脂)中に分散させ、これをスピ
ンコート法などで成膜したのち、フォトリソグラフィー
法でパターニングする方法(特開平5−198921号
公報、特開平5−258860号公報)が容易に類推さ
れる。特に、特開平5−258860号公報には、上記
方法において有機EL素子の480nm未満のピーク波
長を有する発光(青色ないし青緑色領域の発光)を吸収
して、緑色発光するパターン化された蛍光媒体と赤色発
光するパターン化された蛍光媒体とを、平面的に分離配
置した構成(以下「蛍光変換フィルター」と略する。)
を開示している。
のような低いエネルギー線に対して、蛍光を発するもの
としては、レーザー色素のような有機系の蛍光色素また
は蛍光顔料が用いられる。例えば、有機エレクトロルミ
ネッセンス(以下、有機EL素子と略記する)を用いた
多色発光素子として、単色で発光する有機EL素子の各
々に対応して、蛍光色素を含む蛍光体(以下、蛍光変換
膜という)を積層または並列に配置したものが提案され
ている(特開平3−152897号公報)。このような
蛍光色素または蛍光顔料を含む蛍光変換膜を高精細にパ
ターニングすれば、近紫外線ないし可視光のような低い
エネルギー線を用いてもフルカラーの発光形ディスプレ
イが構築できる。そこで、蛍光変換膜のパターニングの
方法としては、無機蛍光体の場合と同様に蛍光色素を液
状のレジスト(感光性樹脂)中に分散させ、これをスピ
ンコート法などで成膜したのち、フォトリソグラフィー
法でパターニングする方法(特開平5−198921号
公報、特開平5−258860号公報)が容易に類推さ
れる。特に、特開平5−258860号公報には、上記
方法において有機EL素子の480nm未満のピーク波
長を有する発光(青色ないし青緑色領域の発光)を吸収
して、緑色発光するパターン化された蛍光媒体と赤色発
光するパターン化された蛍光媒体とを、平面的に分離配
置した構成(以下「蛍光変換フィルター」と略する。)
を開示している。
【0005】しかしながら、蛍光色素は、周囲の環境に
影響を受けやすく、例えば溶媒や樹脂などの媒体の種類
などによっては、その蛍光波長が変化したり、消光を起
こすことがよく知られている。特に、液状のレジスト中
に蛍光色素を分散させた場合、レジスト中に光開始剤
(重合開始剤)や反応性多官能モノマーが存在するた
め、フォトリソグラフィープロセスにおける露光工程や
熱処理(ポストベーク)工程において、この光開始剤や
反応性多官能モノマーからから発生するラジカル種やイ
オン種によって、蛍光色素が脱色したり、消光すること
がしばしば起こるという問題が生じる(特開平7−26
8010号公報)。また、蛍光色素自体、紫外線に弱
く、脱色したり、消光することが多々ある。
影響を受けやすく、例えば溶媒や樹脂などの媒体の種類
などによっては、その蛍光波長が変化したり、消光を起
こすことがよく知られている。特に、液状のレジスト中
に蛍光色素を分散させた場合、レジスト中に光開始剤
(重合開始剤)や反応性多官能モノマーが存在するた
め、フォトリソグラフィープロセスにおける露光工程や
熱処理(ポストベーク)工程において、この光開始剤や
反応性多官能モノマーからから発生するラジカル種やイ
オン種によって、蛍光色素が脱色したり、消光すること
がしばしば起こるという問題が生じる(特開平7−26
8010号公報)。また、蛍光色素自体、紫外線に弱
く、脱色したり、消光することが多々ある。
【0006】従って、蛍光色素をその蛍光性を失わせな
い透明なインキ(メジウム)中に分散させ、印刷法にて
高精細な蛍光変換膜のパターニングを行うという試みが
考えられるが、印刷法ではせいぜい300μmピッチ程
度のパターニングが限度で、それ以下の高精細化につい
ては精度上問題が大きい。
い透明なインキ(メジウム)中に分散させ、印刷法にて
高精細な蛍光変換膜のパターニングを行うという試みが
考えられるが、印刷法ではせいぜい300μmピッチ程
度のパターニングが限度で、それ以下の高精細化につい
ては精度上問題が大きい。
【0007】また、液晶用カラーフィルタの製造方法と
してその平坦化のために研磨法を用いた例は種々開示さ
れている(たとえば特開昭61−3122号公報等)。
中でも特開昭60−159803号公報では図8に示す
ように、基板1の凹部内に着色インキ層11が直接埋め
込まれて設けられ、その後、基板表面から突出している
部分を研磨しているが、凹部以外の部分(凸部)に着色
インキ層が付着する場合があるので選択的に高精細な凹
状のパターン内に直接着色インキ層を埋め込むことは困
難である。
してその平坦化のために研磨法を用いた例は種々開示さ
れている(たとえば特開昭61−3122号公報等)。
中でも特開昭60−159803号公報では図8に示す
ように、基板1の凹部内に着色インキ層11が直接埋め
込まれて設けられ、その後、基板表面から突出している
部分を研磨しているが、凹部以外の部分(凸部)に着色
インキ層が付着する場合があるので選択的に高精細な凹
状のパターン内に直接着色インキ層を埋め込むことは困
難である。
【0008】また、特開平8−136718号公報で
は、図9に示すように透明基板1上に一,二色の着色パ
ターン4R,4Gを形成後、最後の三色目の着色パター
ン4Bを形成する際に、一,二色の着色パターン上面に
三色目の着色膜4Bを成膜し(または基板の凹部に着色
膜を成膜し)、透明基板側から全面露光後、着色膜を現
像して三色目の着色パターンを形成するという液晶用カ
ラーフィルタの製造方法を開示している。この方法を蛍
光変換膜に適用すると、蛍光色素を感光性樹脂(レジス
ト)中に分散させることになり、前述したように紫外線
の露光によって、蛍光変換膜の蛍光性を低下させ(消光
あるいは脱色させ)発光体の発光を長波長の蛍光に変換
する効率(変換効率)を低下させることになる。
は、図9に示すように透明基板1上に一,二色の着色パ
ターン4R,4Gを形成後、最後の三色目の着色パター
ン4Bを形成する際に、一,二色の着色パターン上面に
三色目の着色膜4Bを成膜し(または基板の凹部に着色
膜を成膜し)、透明基板側から全面露光後、着色膜を現
像して三色目の着色パターンを形成するという液晶用カ
ラーフィルタの製造方法を開示している。この方法を蛍
光変換膜に適用すると、蛍光色素を感光性樹脂(レジス
ト)中に分散させることになり、前述したように紫外線
の露光によって、蛍光変換膜の蛍光性を低下させ(消光
あるいは脱色させ)発光体の発光を長波長の蛍光に変換
する効率(変換効率)を低下させることになる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の問題に
鑑みなされたものであり、蛍光変換膜の蛍光性を失うこ
となく(変換効率を低下させることなく)、高精細な蛍
光変換膜を製造することのできる方法を提供することを
目的とする。
鑑みなされたものであり、蛍光変換膜の蛍光性を失うこ
となく(変換効率を低下させることなく)、高精細な蛍
光変換膜を製造することのできる方法を提供することを
目的とする。
【0010】
【発明が解決しようとする手段】上記目的を達成するた
め、本願発明によれば、基板上に、発光体からの発光
を、より長波長の蛍光に変換する蛍光変換膜を形成する
蛍光変換膜の製造方法において、下記(I)〜(III)の
段階を含むことを特徴とする蛍光変換膜の製造方法が提
供される。 (I):基板の表面に凹凸の繰り返しパターンを形成す
る。 (II):この基板凹部に埋め込むようにして、基板の全
面に蛍光変換膜を成膜する。 (III):この蛍光変換膜の表面を研磨して、基板表面
の凹部の内部以外に成膜された蛍光変換膜を除去する。
め、本願発明によれば、基板上に、発光体からの発光
を、より長波長の蛍光に変換する蛍光変換膜を形成する
蛍光変換膜の製造方法において、下記(I)〜(III)の
段階を含むことを特徴とする蛍光変換膜の製造方法が提
供される。 (I):基板の表面に凹凸の繰り返しパターンを形成す
る。 (II):この基板凹部に埋め込むようにして、基板の全
面に蛍光変換膜を成膜する。 (III):この蛍光変換膜の表面を研磨して、基板表面
の凹部の内部以外に成膜された蛍光変換膜を除去する。
【0011】また、その好ましい態様として、前記段階
の間に(I)および(II)の間に、下記段階(A)を含
む蛍光変換膜の製造方法が提供される。 (A):基板の全面または凸部だけに保護膜を成膜す
る。
の間に(I)および(II)の間に、下記段階(A)を含
む蛍光変換膜の製造方法が提供される。 (A):基板の全面または凸部だけに保護膜を成膜す
る。
【0012】また、その好ましい態様として、前記段階
(III)の後に、下記段階(B)を含む蛍光変換膜の製
造方法が提供される。 (B):基板表面の凸部に成膜された保護膜を除去す
る。
(III)の後に、下記段階(B)を含む蛍光変換膜の製
造方法が提供される。 (B):基板表面の凸部に成膜された保護膜を除去す
る。
【0013】また、その好ましい態様として、前記段階
(B)における保護膜の除去が、水媒体による処理によ
るものである蛍光変換膜の製造方法が提供される。
(B)における保護膜の除去が、水媒体による処理によ
るものである蛍光変換膜の製造方法が提供される。
【0014】さらに、その好ましい態様として、前記発
光体が、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子で
ある蛍光変換膜の製造方法が提供される。
光体が、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子で
ある蛍光変換膜の製造方法が提供される。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ具体的に説明する。図1〜図5は、本発明
の蛍光変換膜の製造方法の一実施形態を模式的に示す断
面工程図である。なお、図4は、図2(d)の後に基板
表面の凸部の保護膜3を除去した場合を示し、図5は、
図3(d)の後に、基板表面の凸部の保護膜3を除去し
た場合を示す。図6は、本発明の一実施例に用いられ
る、その表面に凹凸の繰り返しパターンが形成された基
板を模式的に示す断面図である。図7は、本発明の一実
施例における蛍光変換膜と発光体とを組み合わせた例を
模式的に示す断面図である。本発明は、基板上に発光
体、たとえば有機EL素子からの発光をより長波長の蛍
光に変換する蛍光変換膜を形成する蛍光変換膜の製造方
法であって、下記(I)〜(III)の段階を含む。
を参照しつつ具体的に説明する。図1〜図5は、本発明
の蛍光変換膜の製造方法の一実施形態を模式的に示す断
面工程図である。なお、図4は、図2(d)の後に基板
表面の凸部の保護膜3を除去した場合を示し、図5は、
図3(d)の後に、基板表面の凸部の保護膜3を除去し
た場合を示す。図6は、本発明の一実施例に用いられ
る、その表面に凹凸の繰り返しパターンが形成された基
板を模式的に示す断面図である。図7は、本発明の一実
施例における蛍光変換膜と発光体とを組み合わせた例を
模式的に示す断面図である。本発明は、基板上に発光
体、たとえば有機EL素子からの発光をより長波長の蛍
光に変換する蛍光変換膜を形成する蛍光変換膜の製造方
法であって、下記(I)〜(III)の段階を含む。
【0016】1.基板表面への凹凸の繰り返しパターン
の形成 (I)の段階として、基板の表面に凹凸の繰り返しパタ
ーンを形成する。 (1)基板の材質 本発明に用いられる基板1としては、可視光に透明な透
明基板を挙げることができる。例えば、透明ガラス(ソ
ーダーライムガラス、無アルカリガラス等)、透明樹脂
(ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリフッ化
ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、フッ素系樹脂等)、および石英等を挙げることがで
きる。
の形成 (I)の段階として、基板の表面に凹凸の繰り返しパタ
ーンを形成する。 (1)基板の材質 本発明に用いられる基板1としては、可視光に透明な透
明基板を挙げることができる。例えば、透明ガラス(ソ
ーダーライムガラス、無アルカリガラス等)、透明樹脂
(ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリフッ化
ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、フッ素系樹脂等)、および石英等を挙げることがで
きる。
【0017】(2)基板の形状 基板の形状としては、例えば板状、シート状、フィルム
状等の表面の平滑なものを挙げることができる。
状等の表面の平滑なものを挙げることができる。
【0018】(3)凹凸の繰り返しパターンの形成 凹凸の繰り返しパターンを形成する方法としては、たと
えば下記の方法を挙げることができる。 平滑な基板上にフォトレジストを成膜し、所望のパタ
ーンをフォトリソグラフィー法で形成した後、露出した
基板をフッ酸等により化学エッチング、またはサンドブ
ラスト等の物理的な方法によりエッチングし、最後にフ
ォトレジストを剥離する方法。 平滑な基板上にメタルをメッキ、蒸着、スパッタリン
グ等により成膜した後、フォトリソグラフィー法でメタ
ルをエッチングして、基板表面に凹凸の繰り返しパター
ンを形成する方法。 平滑な基板上に感光性樹脂を成膜し、同じくフォトリ
ソグラフィー法で所望のパターンを形成し、基板表面に
凹凸の繰り返しパターンを形成する方法。 より具体的には、基板表面に表示用の画素を部分的に形
成し、残りの画素を形成する予定の部分を凹部として残
す方法。この方法には、図6に示すようにガラス基板1
上に例えば各画素にブラックマトリックス5、カラーフ
ィルタ4、蛍光変換膜2のパターンをあらかじめ形成す
ることにより、基板表面に凹凸の繰り返しパターンを形
成する方法も含まれる。
えば下記の方法を挙げることができる。 平滑な基板上にフォトレジストを成膜し、所望のパタ
ーンをフォトリソグラフィー法で形成した後、露出した
基板をフッ酸等により化学エッチング、またはサンドブ
ラスト等の物理的な方法によりエッチングし、最後にフ
ォトレジストを剥離する方法。 平滑な基板上にメタルをメッキ、蒸着、スパッタリン
グ等により成膜した後、フォトリソグラフィー法でメタ
ルをエッチングして、基板表面に凹凸の繰り返しパター
ンを形成する方法。 平滑な基板上に感光性樹脂を成膜し、同じくフォトリ
ソグラフィー法で所望のパターンを形成し、基板表面に
凹凸の繰り返しパターンを形成する方法。 より具体的には、基板表面に表示用の画素を部分的に形
成し、残りの画素を形成する予定の部分を凹部として残
す方法。この方法には、図6に示すようにガラス基板1
上に例えば各画素にブラックマトリックス5、カラーフ
ィルタ4、蛍光変換膜2のパターンをあらかじめ形成す
ることにより、基板表面に凹凸の繰り返しパターンを形
成する方法も含まれる。
【0019】なお、凹部の深さは、蛍光変換膜の所望の
膜厚に応じて決定されるが、その蛍光変換膜の膜厚は、
発光体の発光波長、変換する蛍光波長に応じ適宜決定さ
れる。
膜厚に応じて決定されるが、その蛍光変換膜の膜厚は、
発光体の発光波長、変換する蛍光波長に応じ適宜決定さ
れる。
【0020】2.基板全面への蛍光変換膜の成膜 段階(II)として、基板1の凹部に埋め込むようにし
て、基板の全面に蛍光変換膜2を成膜する。基板の全面
に成膜するので、凹状のパターンでの精細度によらず、
基板1の凹部に埋め込むことができる。 (1)蛍光変換膜 本発明に用いられる蛍光変換膜としては、例えば、蛍光
色素、蛍光顔料のみからなるもの、蛍光色素、蛍光顔料
をバインダー樹脂中に溶解または分散させたものであっ
て、固体状態のものを挙げることができる。蛍光色素
は、発光体からの発光を長波長の蛍光に変換する機能を
有している。具体的には、発光体の近紫外光から紫色ま
での発光から青色発光に変換する蛍光色素としては、
1,4−ビス(2−メチルスチリル)ベンゼン(Bis
−MSB)、トランス−4,4’−ジフェニルスチルベ
ン(DPS)の等スチルベン系色素、7−ヒドロキシ−
4−メチルクマリン(クマリン4)等のクマリン系色素
を挙げることができる。
て、基板の全面に蛍光変換膜2を成膜する。基板の全面
に成膜するので、凹状のパターンでの精細度によらず、
基板1の凹部に埋め込むことができる。 (1)蛍光変換膜 本発明に用いられる蛍光変換膜としては、例えば、蛍光
色素、蛍光顔料のみからなるもの、蛍光色素、蛍光顔料
をバインダー樹脂中に溶解または分散させたものであっ
て、固体状態のものを挙げることができる。蛍光色素
は、発光体からの発光を長波長の蛍光に変換する機能を
有している。具体的には、発光体の近紫外光から紫色ま
での発光から青色発光に変換する蛍光色素としては、
1,4−ビス(2−メチルスチリル)ベンゼン(Bis
−MSB)、トランス−4,4’−ジフェニルスチルベ
ン(DPS)の等スチルベン系色素、7−ヒドロキシ−
4−メチルクマリン(クマリン4)等のクマリン系色素
を挙げることができる。
【0021】次に、発光体の青色または青緑色の発光か
ら緑色発光に変換する蛍光色素については、例えば、
2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリ
フロロメチルキノリジノ(9,9a,1−gh)クマリ
ン(クマリン153)、3−(2’−ベンゾチアゾリ
ル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン6)、3
−(2’−ベンズイミダゾリル)−7−N,N−ジエチ
ルアミノクマリン(クマリン7)等のクマリン色素、他
クマリン色素系染料であるがベーシックイエロー51、
また、ソルベントイエロー11、ソルベントイエロー1
6等のナフタルイミド色素を挙げることができる。
ら緑色発光に変換する蛍光色素については、例えば、
2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリ
フロロメチルキノリジノ(9,9a,1−gh)クマリ
ン(クマリン153)、3−(2’−ベンゾチアゾリ
ル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン6)、3
−(2’−ベンズイミダゾリル)−7−N,N−ジエチ
ルアミノクマリン(クマリン7)等のクマリン色素、他
クマリン色素系染料であるがベーシックイエロー51、
また、ソルベントイエロー11、ソルベントイエロー1
6等のナフタルイミド色素を挙げることができる。
【0022】また、発光体の青色から緑色の発光を橙色
から赤色発光に変換する蛍光色素については、例えば、
4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチ
ルアミノスチルリル)−4H−ピラン(DCM)等のシ
アニン系色素、1−エチル−2−(4−(p−ジメチル
アミノフェニル)−1,3−ブタジエニル)−ピリジニ
ウム−パークロレート(ピリジン1)等のピリジン系色
素、ローダミンB、ローダミン6G,ローダミン10
1,スルホローダミン101等のローダミン系色素、他
にオキサジン系,ピラジン系が挙げられる。
から赤色発光に変換する蛍光色素については、例えば、
4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチ
ルアミノスチルリル)−4H−ピラン(DCM)等のシ
アニン系色素、1−エチル−2−(4−(p−ジメチル
アミノフェニル)−1,3−ブタジエニル)−ピリジニ
ウム−パークロレート(ピリジン1)等のピリジン系色
素、ローダミンB、ローダミン6G,ローダミン10
1,スルホローダミン101等のローダミン系色素、他
にオキサジン系,ピラジン系が挙げられる。
【0023】さらに、各種染料(直接染料、酸性染料、
塩基性染料、分散染料等)も蛍光性があれば使用可能で
ある。また、前記蛍光色素をポリメタクリル酸エステ
ル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、
アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の樹脂中に
あらかじめ練りこんで顔料(蛍光顔料)化したものも挙
げられる。
塩基性染料、分散染料等)も蛍光性があれば使用可能で
ある。また、前記蛍光色素をポリメタクリル酸エステ
ル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、
アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の樹脂中に
あらかじめ練りこんで顔料(蛍光顔料)化したものも挙
げられる。
【0024】また、これらの蛍光色素または蛍光顔料
は、必要に応じて、単独または混合して用いる。一方、
バインダー樹脂は、透明な(可視光50%以上)材料が
好ましい。例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピリジ
ン、ポリ(アルキルアミノ)スチレン、ポリ塩化ビニル
樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明樹脂が挙げら
れる。
は、必要に応じて、単独または混合して用いる。一方、
バインダー樹脂は、透明な(可視光50%以上)材料が
好ましい。例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピリジ
ン、ポリ(アルキルアミノ)スチレン、ポリ塩化ビニル
樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明樹脂が挙げら
れる。
【0025】蛍光変換膜の膜厚は、発光体の発光を十分
に吸収し、蛍光を発生する機能を妨げるものでなければ
特に制限はなく、蛍光色素により若干異なるが、10n
m〜1mm程度が適当である。好ましくは、1μm〜1
00μmで一般に液晶用カラーフィルタより厚い。
に吸収し、蛍光を発生する機能を妨げるものでなければ
特に制限はなく、蛍光色素により若干異なるが、10n
m〜1mm程度が適当である。好ましくは、1μm〜1
00μmで一般に液晶用カラーフィルタより厚い。
【0026】また、特に蛍光変換膜が蛍光色素とバイン
ダー樹脂(蛍光顔料の樹脂部分を含む)からなるもの
は、蛍光色素の濃度が、蛍光の濃度消光を起こすことな
く、かつ、発光体の発光を十分吸収できる範囲であれば
よい。蛍光色素の種類にもよるが、使用するバインダー
樹脂に対して、1〜10-4mol/kg程度が適当であ
り、一般に液晶用カラーフィルタの色素より濃度が小さ
い。
ダー樹脂(蛍光顔料の樹脂部分を含む)からなるもの
は、蛍光色素の濃度が、蛍光の濃度消光を起こすことな
く、かつ、発光体の発光を十分吸収できる範囲であれば
よい。蛍光色素の種類にもよるが、使用するバインダー
樹脂に対して、1〜10-4mol/kg程度が適当であ
り、一般に液晶用カラーフィルタの色素より濃度が小さ
い。
【0027】(2)成膜 成膜の方法としては、たとえば下記のものを挙げること
ができる。前記蛍光色素、蛍光顔料及びバインダー樹脂
を適当な溶媒に溶解または分散して、液状またはペース
ト状のインキとする。次に、そのインキを凹凸の繰り返
しパターンを形成した基板上にキャスティング、ロール
コート、スピンコート、スクリーン印刷等の方法で成膜
し、室温風乾または50℃〜180℃の熱処理を行って
凹部に埋め込むようにして、凹部内を含めた基板全体に
蛍光変換膜を成膜する。また、インキを一度平滑な基板
上に成膜し、フィルム状にしてそのフィルムを凹状にパ
ターン化された基板に均一にラミネートして貼り合わ
せ、熱処理して蛍光変換膜を成膜してもよい。
ができる。前記蛍光色素、蛍光顔料及びバインダー樹脂
を適当な溶媒に溶解または分散して、液状またはペース
ト状のインキとする。次に、そのインキを凹凸の繰り返
しパターンを形成した基板上にキャスティング、ロール
コート、スピンコート、スクリーン印刷等の方法で成膜
し、室温風乾または50℃〜180℃の熱処理を行って
凹部に埋め込むようにして、凹部内を含めた基板全体に
蛍光変換膜を成膜する。また、インキを一度平滑な基板
上に成膜し、フィルム状にしてそのフィルムを凹状にパ
ターン化された基板に均一にラミネートして貼り合わ
せ、熱処理して蛍光変換膜を成膜してもよい。
【0028】3.蛍光変換膜表面の研磨 段階(III) として、蛍光変換膜2の表面を研磨して、
基板1表面の凹部の内部以外の蛍光変換膜を除去する。 (1)研磨 本発明における研磨としては特に制限はなく、通常の研
磨操作を用いることができる。例えば、市販されている
紙やすりや、アルミナ、シリコンカーバイト、酸化クロ
ム、ダイヤモンド粒子をフィルム上に固定化したラッピ
ングフィルム等で蛍光変換膜をラッピングし、必要に応
じて回転研磨機を使用して、アルミナ等のセラミックス
微粒子を研磨材とし、水洗しながらポリッシングし、研
磨面を鏡面化する。研磨終了の目安は、基板の凹部以外
の部分上の蛍光変換膜が完全に研磨されて除去されると
きであり、場合によっては、基板の凹部以外の部分も多
少過剰に研磨してもよい。凹部以外の部分を過剰に研磨
したくないときは、後述する保護膜を、あらかじめ蛍光
変換膜の成膜前に基板上に成膜しておくことが好まし
い。
基板1表面の凹部の内部以外の蛍光変換膜を除去する。 (1)研磨 本発明における研磨としては特に制限はなく、通常の研
磨操作を用いることができる。例えば、市販されている
紙やすりや、アルミナ、シリコンカーバイト、酸化クロ
ム、ダイヤモンド粒子をフィルム上に固定化したラッピ
ングフィルム等で蛍光変換膜をラッピングし、必要に応
じて回転研磨機を使用して、アルミナ等のセラミックス
微粒子を研磨材とし、水洗しながらポリッシングし、研
磨面を鏡面化する。研磨終了の目安は、基板の凹部以外
の部分上の蛍光変換膜が完全に研磨されて除去されると
きであり、場合によっては、基板の凹部以外の部分も多
少過剰に研磨してもよい。凹部以外の部分を過剰に研磨
したくないときは、後述する保護膜を、あらかじめ蛍光
変換膜の成膜前に基板上に成膜しておくことが好まし
い。
【0029】4.保護膜の成膜 本発明においては、必要に応じて前記段階(I)および
(II)の間に段階(A)として、基板1の全面または凸
部にだけに保護膜3を成膜してもよい。
(II)の間に段階(A)として、基板1の全面または凸
部にだけに保護膜3を成膜してもよい。
【0030】(1)保護膜 保護膜は、研磨操作によって基板の凹部以外の部分(凸
部)に不必要な研磨傷が発生することを防止するため用
いられ、あるいは、不必要な蛍光変換膜の研磨残渣や、
くずを除去するために用いられる。保護膜としては、通
常の樹脂、ポリマー膜を挙げることができる。具体的に
は、蛍光変換膜のバインダー樹脂として前記した樹脂、
ポリマー、またアクリレート系、エポキシ系の熱硬化性
樹脂を挙げることができる。
部)に不必要な研磨傷が発生することを防止するため用
いられ、あるいは、不必要な蛍光変換膜の研磨残渣や、
くずを除去するために用いられる。保護膜としては、通
常の樹脂、ポリマー膜を挙げることができる。具体的に
は、蛍光変換膜のバインダー樹脂として前記した樹脂、
ポリマー、またアクリレート系、エポキシ系の熱硬化性
樹脂を挙げることができる。
【0031】(2)成膜 保護膜の成膜は、蛍光変換膜と同様な方法で行うことが
できる。特に基板の凹部以外の部分に選択的に保護膜を
形成する場合には、保護膜として感光性樹脂(フォトレ
ジスト)を選択し、フォトリソグラフィー法でそのまま
パターニングして、所望の場所に残すか、前記樹脂また
はポリマーを基板全面に成膜後、さらにフォトレジスト
を積層してパターン化し、下地の樹脂ポリマー膜をエッ
チングする方法を挙げることができる。
できる。特に基板の凹部以外の部分に選択的に保護膜を
形成する場合には、保護膜として感光性樹脂(フォトレ
ジスト)を選択し、フォトリソグラフィー法でそのまま
パターニングして、所望の場所に残すか、前記樹脂また
はポリマーを基板全面に成膜後、さらにフォトレジスト
を積層してパターン化し、下地の樹脂ポリマー膜をエッ
チングする方法を挙げることができる。
【0032】5.保護膜の除去 本発明において段階(A)を含む場合、必要に応じて、
前記段階(III) の後に、段階(B)として、基板1表
面の凸部に成膜された保護膜3を除去してもよい。保護
膜を蛍光変換膜の研磨後、除去する場合は、この保護膜
がアルカリ、酸の水溶液、または水そのもの等の水媒体
で、室温〜80℃の下、ディッピング、シャワー等の処
理で除去できる材料が好ましい。水媒体で処理できるこ
とにより、基板の凹部に埋め込まれた蛍光変換膜が、溶
解、浸食されることがなく、また廃液処理、安全性の面
で有利である。このような水媒体で処理(除去)できる
保護膜としては、例えばノボラック樹脂−ナフトキノン
ジアジド系のフォトレジスト、ポリアミック酸、ポリア
クリル酸、ポリメタクリル酸、これらの酸性基を含んだ
共重合体等のアルカリ性水溶液可溶性ポリマー、ポリビ
ニルピリジン、ポリアミノスチレン、これらの塩基性基
を含んだ共重合体等の酸性水溶液可溶性ポリマーを挙げ
ることができる。ノボラック樹脂−ナフトキノンジアジ
ド膜は、例えば除去したい部分を選択的に露光して、ア
ルカリ性水溶液に可溶な状態にして除去することができ
る。
前記段階(III) の後に、段階(B)として、基板1表
面の凸部に成膜された保護膜3を除去してもよい。保護
膜を蛍光変換膜の研磨後、除去する場合は、この保護膜
がアルカリ、酸の水溶液、または水そのもの等の水媒体
で、室温〜80℃の下、ディッピング、シャワー等の処
理で除去できる材料が好ましい。水媒体で処理できるこ
とにより、基板の凹部に埋め込まれた蛍光変換膜が、溶
解、浸食されることがなく、また廃液処理、安全性の面
で有利である。このような水媒体で処理(除去)できる
保護膜としては、例えばノボラック樹脂−ナフトキノン
ジアジド系のフォトレジスト、ポリアミック酸、ポリア
クリル酸、ポリメタクリル酸、これらの酸性基を含んだ
共重合体等のアルカリ性水溶液可溶性ポリマー、ポリビ
ニルピリジン、ポリアミノスチレン、これらの塩基性基
を含んだ共重合体等の酸性水溶液可溶性ポリマーを挙げ
ることができる。ノボラック樹脂−ナフトキノンジアジ
ド膜は、例えば除去したい部分を選択的に露光して、ア
ルカリ性水溶液に可溶な状態にして除去することができ
る。
【0033】6.発光体 本発明における発光体としては、青色から緑色さらに橙
色領域の光を発するものであればよく、特に制限され
ず、例えばEL,LED,VFD,PDPなどの各素子
を挙げることができるが、これらの素子の中で効率よく
発光が可能な有機EL素子が好適である。発光体の種類
が異なっても、図7に示すように平面的に分離配置をし
た単色の発光体と位置合わせをして、所望の色の蛍光を
発光できる蛍光変換膜を配置すれば、有機EL素子と同
様に多色発光は可能である。この有機EL素子は、基本
的には一対の電極の間に発光層を挟持し、必要に応じ正
孔注入層や電子注入層を介在させた構造を有している。
具体的には、 (i)陽極/発光層/陰極 (ii)陽極/正孔注入層/発光層/陰極 (iii)陽極/発光層/電子注入層/陰極 (iv)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極 などの構造がある。
色領域の光を発するものであればよく、特に制限され
ず、例えばEL,LED,VFD,PDPなどの各素子
を挙げることができるが、これらの素子の中で効率よく
発光が可能な有機EL素子が好適である。発光体の種類
が異なっても、図7に示すように平面的に分離配置をし
た単色の発光体と位置合わせをして、所望の色の蛍光を
発光できる蛍光変換膜を配置すれば、有機EL素子と同
様に多色発光は可能である。この有機EL素子は、基本
的には一対の電極の間に発光層を挟持し、必要に応じ正
孔注入層や電子注入層を介在させた構造を有している。
具体的には、 (i)陽極/発光層/陰極 (ii)陽極/正孔注入層/発光層/陰極 (iii)陽極/発光層/電子注入層/陰極 (iv)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極 などの構造がある。
【0034】上記発光層は(1)電界印加時に、陽極ま
たは正孔注入層より正孔を注入することができ、かつ陰
極又は電子注入層より電子を注入することができる注入
機能、(2)注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で
移動させる輸送機能、(3)電子と正孔の再結合の場を
発光層内部に提供し、これを発光につなげる発光機能な
どを有している。ただし、正孔の注入されやすさと電子
の注入されやすさに違いがあってもよく、また、正孔と
電子の移動度で表わされる輸送機能に大小があってもよ
いが、どちらか一方の電荷を移動させる機能を有するも
のが好ましい。この発光層に用いられる発光材料の種類
については特に制限はなく、従来有機EL素子における
発光材料として公知のものを用いることができる。
たは正孔注入層より正孔を注入することができ、かつ陰
極又は電子注入層より電子を注入することができる注入
機能、(2)注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で
移動させる輸送機能、(3)電子と正孔の再結合の場を
発光層内部に提供し、これを発光につなげる発光機能な
どを有している。ただし、正孔の注入されやすさと電子
の注入されやすさに違いがあってもよく、また、正孔と
電子の移動度で表わされる輸送機能に大小があってもよ
いが、どちらか一方の電荷を移動させる機能を有するも
のが好ましい。この発光層に用いられる発光材料の種類
については特に制限はなく、従来有機EL素子における
発光材料として公知のものを用いることができる。
【0035】フルカラーディスプレイを目指した場合
は、発光体として青色発光有機EL素子が好ましく用い
られる。この青色発光有機EL素子は、例えば特開平3
−47890号公報,特開平3−231970号公報,
特開平5−17765号公報,特開平5−135878
号公報,特開平5−140145号公報,特開平5−2
47458号公報,特開平5−247459号公報,特
開平6−100857号公報,特開平6−132080
号公報などに開示されている方法に従って作製すること
ができる。一例を挙げると、インジウム錫酸化物(以
下、ITOと略記する)電極を成膜したガラス基板から
なる透明基板に、4,4’,4”−トリス[N−(3−
メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニル
アミン(MTDATA)、4,4’−ビス[N−(1−
ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(NP
D)、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビ
フェニル(DPVBi),トリス(8−キノリノール)
アルミニウム(Alq)およびマグネシウム−銀電極を
順次真空蒸着し、積層させることによって青色発光有機
EL素子を得ることができる(製造例参照)。
は、発光体として青色発光有機EL素子が好ましく用い
られる。この青色発光有機EL素子は、例えば特開平3
−47890号公報,特開平3−231970号公報,
特開平5−17765号公報,特開平5−135878
号公報,特開平5−140145号公報,特開平5−2
47458号公報,特開平5−247459号公報,特
開平6−100857号公報,特開平6−132080
号公報などに開示されている方法に従って作製すること
ができる。一例を挙げると、インジウム錫酸化物(以
下、ITOと略記する)電極を成膜したガラス基板から
なる透明基板に、4,4’,4”−トリス[N−(3−
メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニル
アミン(MTDATA)、4,4’−ビス[N−(1−
ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(NP
D)、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビ
フェニル(DPVBi),トリス(8−キノリノール)
アルミニウム(Alq)およびマグネシウム−銀電極を
順次真空蒸着し、積層させることによって青色発光有機
EL素子を得ることができる(製造例参照)。
【0036】
【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明する。 [製造例] (発光体としての青色発光有機EL素子の作製)25m
m×75mm×1.1mmガラス基板(コーニング70
59)上全面に、スパッタリングにより、120nmの
膜厚でITO膜を成膜後、ノボラック/キノンジアジド
系のポジ型フォトレジスト(富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー社製HPR204)をスピンコートして
積層し、80℃で乾燥後、ガラス基板内15mm×50
mm□領域にITOベタパターンが得られるマスクを介
して100mJ/cm2 (365nm)で高圧水銀灯を
光源としたコンタクト露光を行い、さらに2.38%T
MAH(テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)で現
像、130℃でベーク後、臭化水素酸水溶液で露出した
ITO膜をエッチングし、最後にポジ型レジストを剥離
して有機EL素子の陽極となるITOパターンを得た。
次に、IPA(イソプロピルアルコール)洗浄、UV洗
浄した後、蒸着装置(日本真空技術社製)の基板ホルダ
ーに固定した。蒸着源は、モリブデン製の抵抗加熱ボー
トに正孔注入材料としてMTDATA及びNPD、発光
材料としてDPVBi、電子注入材料としてAlqをそ
れぞれ仕込み、陰極の第二金属としてAgをタングステ
ン製フィラメントに、陰極の電子注入性金属としてMg
をモリブデン製ボートに装着した。その後、真空槽を5
×10-7torrまで減圧後、以下の順序で積層してい
った。正孔注入層から陰極まで途中で真空を破らず一回
の真空引きで行った。まず、正孔注入層としては、MT
DATAを蒸着速度0.1〜0.3nm/s、膜厚60
nm、NPDを蒸着速度0.1〜0.3nm/s,膜厚
20nm、発光層としてはDPVBiを蒸着速度0.1
〜0.3nm/s,膜厚50nm、電子注入層として
は、Alqを蒸着速度0.1〜0.3nm/s,膜厚2
0nm、陰極としては、ITO陽極パターンと交差する
ようにガラス基板内15mm×50mm□領域にマスク
を介してMgとAgを同時蒸着した。すなわち、Mg
は、蒸着速度1.3〜1.4nm/s、Agは、蒸着速
度0.1nm/sで膜厚を200nmとした。このよう
にして、有機EL素子を作製し、陽極と陰極の間に直流
12Vの電圧を印加すると、陽極と陰極の交差部分が発
光した。発光輝度は、色彩色差計(ミノルタ製CS10
0)にて200cd/m2 、CIE色度座標はx=0.
16、y=0.15で青色の発光であることを確認し
た。
に説明する。 [製造例] (発光体としての青色発光有機EL素子の作製)25m
m×75mm×1.1mmガラス基板(コーニング70
59)上全面に、スパッタリングにより、120nmの
膜厚でITO膜を成膜後、ノボラック/キノンジアジド
系のポジ型フォトレジスト(富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー社製HPR204)をスピンコートして
積層し、80℃で乾燥後、ガラス基板内15mm×50
mm□領域にITOベタパターンが得られるマスクを介
して100mJ/cm2 (365nm)で高圧水銀灯を
光源としたコンタクト露光を行い、さらに2.38%T
MAH(テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)で現
像、130℃でベーク後、臭化水素酸水溶液で露出した
ITO膜をエッチングし、最後にポジ型レジストを剥離
して有機EL素子の陽極となるITOパターンを得た。
次に、IPA(イソプロピルアルコール)洗浄、UV洗
浄した後、蒸着装置(日本真空技術社製)の基板ホルダ
ーに固定した。蒸着源は、モリブデン製の抵抗加熱ボー
トに正孔注入材料としてMTDATA及びNPD、発光
材料としてDPVBi、電子注入材料としてAlqをそ
れぞれ仕込み、陰極の第二金属としてAgをタングステ
ン製フィラメントに、陰極の電子注入性金属としてMg
をモリブデン製ボートに装着した。その後、真空槽を5
×10-7torrまで減圧後、以下の順序で積層してい
った。正孔注入層から陰極まで途中で真空を破らず一回
の真空引きで行った。まず、正孔注入層としては、MT
DATAを蒸着速度0.1〜0.3nm/s、膜厚60
nm、NPDを蒸着速度0.1〜0.3nm/s,膜厚
20nm、発光層としてはDPVBiを蒸着速度0.1
〜0.3nm/s,膜厚50nm、電子注入層として
は、Alqを蒸着速度0.1〜0.3nm/s,膜厚2
0nm、陰極としては、ITO陽極パターンと交差する
ようにガラス基板内15mm×50mm□領域にマスク
を介してMgとAgを同時蒸着した。すなわち、Mg
は、蒸着速度1.3〜1.4nm/s、Agは、蒸着速
度0.1nm/sで膜厚を200nmとした。このよう
にして、有機EL素子を作製し、陽極と陰極の間に直流
12Vの電圧を印加すると、陽極と陰極の交差部分が発
光した。発光輝度は、色彩色差計(ミノルタ製CS10
0)にて200cd/m2 、CIE色度座標はx=0.
16、y=0.15で青色の発光であることを確認し
た。
【0037】[実施例1]25mm×50mm×1.1
mm厚の透明基板(ジオマテック社製ソーダーライムガ
ラス)上に、カーボンブラック含有光硬化型レジスト
(富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製CK2
000)をスピンコートして積層し、80℃でベーク
後、さらにポリビニルアルコールの酸素遮断膜(富士ハ
ントエレクトロニクステクノロジー社製CP)をスピン
コートし80℃でベークした。次に、基板を高圧水銀灯
を光源とするコンタクト式露光機にセットし、50μm
ライン,250μmギャップのストライプパターンが得
られるマスクを介して、600mJ/cm2 (365n
m)で露光した。さらに、1N炭酸ナトリウム水溶液で
現像後、基板側から1500mJ/cm2 (365n
m)で露光後、200℃でポストベークして、ブラック
マトリックス(膜厚15.0μm)を得ることにより、
基板表面が凹凸状に繰り返しパターニングされた基板を
作製した。次に、蛍光顔料としてベンゾグアナミン樹脂
に対して2重量%のソルベントイエロー116および6
重量%のソルベントイエロー44を予め練り込んだもの
(ナフタルイミド系蛍光顔料)を5g、ベンゾグアナミ
ン樹脂に対して4重量%のベーシックバイオレット11
および4重量%のローダミン6Gを予め練り込んだもの
(ローダミン系蛍光顔料)を10gとエチルセロソルブ
アセテート15gを混合したインキ(固形分50重量
%)を調製した。このインキを先の基板上全面にスピン
コートして、80℃でベークして乾燥し、赤色変換用の
蛍光変換膜を成膜した。次に、600番のアルミナを固
定化したラッピングフィルム(住友スリーエム社製)
で、純水を噴霧しながら蛍光変換膜をラッピング研磨
し、次に回転研磨機で(Speed Fam社製 )によ
り、アルミナの微粒子研磨剤(住友スリーエム社製)を
用いて純水を噴霧しながら蛍光変換膜をブラックマトリ
ックスの面上の蛍光変換膜がなくなるまで鏡面研磨(ポ
リッシング)した。この結果、ブラックマトリックスの
ない部分(基板の凹部内)に蛍光変換膜が埋め込まれた
赤色変換用の蛍光変換膜のパターンAを得た(図1
(c))。なお、本実施例では図1における基板凸部
を、図6に示すブラックマトリックスによって形成して
いる。以下の実施例においても同様である。ここで、製
造例で作製した発光体の有機EL素子と、赤色変換用の
蛍光変換膜が埋め込まれた基板とを重ね合わせると、赤
色変換用の蛍光変換膜のパターンAから発光する輝度
は、有機EL素子の輝度200cd/m2 に対して66
cd/m2 (変換効率33%)が得られ、CIE色度座
標はx=0.61、y=0.32で赤色(レッド)の発
光が得られることを観測した。
mm厚の透明基板(ジオマテック社製ソーダーライムガ
ラス)上に、カーボンブラック含有光硬化型レジスト
(富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製CK2
000)をスピンコートして積層し、80℃でベーク
後、さらにポリビニルアルコールの酸素遮断膜(富士ハ
ントエレクトロニクステクノロジー社製CP)をスピン
コートし80℃でベークした。次に、基板を高圧水銀灯
を光源とするコンタクト式露光機にセットし、50μm
ライン,250μmギャップのストライプパターンが得
られるマスクを介して、600mJ/cm2 (365n
m)で露光した。さらに、1N炭酸ナトリウム水溶液で
現像後、基板側から1500mJ/cm2 (365n
m)で露光後、200℃でポストベークして、ブラック
マトリックス(膜厚15.0μm)を得ることにより、
基板表面が凹凸状に繰り返しパターニングされた基板を
作製した。次に、蛍光顔料としてベンゾグアナミン樹脂
に対して2重量%のソルベントイエロー116および6
重量%のソルベントイエロー44を予め練り込んだもの
(ナフタルイミド系蛍光顔料)を5g、ベンゾグアナミ
ン樹脂に対して4重量%のベーシックバイオレット11
および4重量%のローダミン6Gを予め練り込んだもの
(ローダミン系蛍光顔料)を10gとエチルセロソルブ
アセテート15gを混合したインキ(固形分50重量
%)を調製した。このインキを先の基板上全面にスピン
コートして、80℃でベークして乾燥し、赤色変換用の
蛍光変換膜を成膜した。次に、600番のアルミナを固
定化したラッピングフィルム(住友スリーエム社製)
で、純水を噴霧しながら蛍光変換膜をラッピング研磨
し、次に回転研磨機で(Speed Fam社製 )によ
り、アルミナの微粒子研磨剤(住友スリーエム社製)を
用いて純水を噴霧しながら蛍光変換膜をブラックマトリ
ックスの面上の蛍光変換膜がなくなるまで鏡面研磨(ポ
リッシング)した。この結果、ブラックマトリックスの
ない部分(基板の凹部内)に蛍光変換膜が埋め込まれた
赤色変換用の蛍光変換膜のパターンAを得た(図1
(c))。なお、本実施例では図1における基板凸部
を、図6に示すブラックマトリックスによって形成して
いる。以下の実施例においても同様である。ここで、製
造例で作製した発光体の有機EL素子と、赤色変換用の
蛍光変換膜が埋め込まれた基板とを重ね合わせると、赤
色変換用の蛍光変換膜のパターンAから発光する輝度
は、有機EL素子の輝度200cd/m2 に対して66
cd/m2 (変換効率33%)が得られ、CIE色度座
標はx=0.61、y=0.32で赤色(レッド)の発
光が得られることを観測した。
【0038】[実施例2]蛍光色素として、0.03m
ol/kg(固形分中)の濃度のクマリン6とバインダ
ー樹脂としてポリ塩化ビニル樹脂(分子量2万)をシク
ロヘキサノンに溶解したインキ(固形分濃度30重量
%)を調製した。次に、基板表面が凹凸状に繰り返しパ
ターニングされた実施例1の基板全面上にスピンコート
して、80℃でベークして乾燥し、緑色変換用の蛍光変
換膜を成膜した。次に、実施例1と同一の条件で蛍光変
換膜を研磨し、緑色変換用の蛍光変換膜のパターンAを
得た(図1(c))。ここで、製造例で作製した発光体
の有機EL素子と、緑色変換用の蛍光変換膜が埋め込ま
れた基板とを重ね合わせると、緑色変換用の蛍光変換膜
のパターンAから発光する輝度は、有機EL素子の輝度
200cd/m2 に対して250cd/m2 (変換効率
125%)が得られ、CIE色度座標はx=0.28、
y=0.60で黄味がかった緑色(イエロイッシュグリ
ーン)の発光が得られることを観測した。
ol/kg(固形分中)の濃度のクマリン6とバインダ
ー樹脂としてポリ塩化ビニル樹脂(分子量2万)をシク
ロヘキサノンに溶解したインキ(固形分濃度30重量
%)を調製した。次に、基板表面が凹凸状に繰り返しパ
ターニングされた実施例1の基板全面上にスピンコート
して、80℃でベークして乾燥し、緑色変換用の蛍光変
換膜を成膜した。次に、実施例1と同一の条件で蛍光変
換膜を研磨し、緑色変換用の蛍光変換膜のパターンAを
得た(図1(c))。ここで、製造例で作製した発光体
の有機EL素子と、緑色変換用の蛍光変換膜が埋め込ま
れた基板とを重ね合わせると、緑色変換用の蛍光変換膜
のパターンAから発光する輝度は、有機EL素子の輝度
200cd/m2 に対して250cd/m2 (変換効率
125%)が得られ、CIE色度座標はx=0.28、
y=0.60で黄味がかった緑色(イエロイッシュグリ
ーン)の発光が得られることを観測した。
【0039】[実施例3]実施例1のブラックマトリッ
クスを形成した基板全面上に、保護膜としてアクリレー
ト系の熱硬化性樹脂(新日鉄化学社製V259PH)を
スピンコートし、80℃でベーク後、さらに200℃で
硬化させた。なお保護膜の膜厚は2.0μmに調節し
た。以下、実施例1と同一の条件で赤色変換用の蛍光変
換膜のパターンB(図2(d))を得て、実施例1と同
一の発光を得た。
クスを形成した基板全面上に、保護膜としてアクリレー
ト系の熱硬化性樹脂(新日鉄化学社製V259PH)を
スピンコートし、80℃でベーク後、さらに200℃で
硬化させた。なお保護膜の膜厚は2.0μmに調節し
た。以下、実施例1と同一の条件で赤色変換用の蛍光変
換膜のパターンB(図2(d))を得て、実施例1と同
一の発光を得た。
【0040】[実施例4]実施例1のブラックマトリッ
クスを形成した基板全面上に保護膜として、アクリレー
ト系の光硬化性樹脂(新日鉄化学社製V259PH)を
スピンコートし、80℃でベーク後、基板を高圧水銀灯
を光源とするコンタクト式露光機にセットし、50μm
ライン,250μmギャップのストライプパターンが得
られるマスクを基板と位置合わせし、300mJ/cm
2 (365nm)で露光した。さらに、1N炭酸ナトリ
ウム水溶液で現像後、200℃でポストベークして、基
板の凹部以外のところに選択的に保護膜が積層された基
板を作製した。なお保護膜の膜厚は2.0μmに調節し
た。以下、実施例1と同一の条件で赤色変換用の蛍光変
換膜のパターンCを得て(図3(d))、実施例1と同
一の発光を得た。
クスを形成した基板全面上に保護膜として、アクリレー
ト系の光硬化性樹脂(新日鉄化学社製V259PH)を
スピンコートし、80℃でベーク後、基板を高圧水銀灯
を光源とするコンタクト式露光機にセットし、50μm
ライン,250μmギャップのストライプパターンが得
られるマスクを基板と位置合わせし、300mJ/cm
2 (365nm)で露光した。さらに、1N炭酸ナトリ
ウム水溶液で現像後、200℃でポストベークして、基
板の凹部以外のところに選択的に保護膜が積層された基
板を作製した。なお保護膜の膜厚は2.0μmに調節し
た。以下、実施例1と同一の条件で赤色変換用の蛍光変
換膜のパターンCを得て(図3(d))、実施例1と同
一の発光を得た。
【0041】[実施例5]実施例1のブラックマトリッ
クスを形成した基板全面上に、保護膜としてポリビニル
アルコールの水溶液(東京応化社製TPF16000)
をスピンコートし、80℃でベークした。次に、実施例
1と同一の条件で赤色変換用の蛍光変換膜を成膜し、研
磨を行った。次に、基板を純水にて洗浄して蛍光変換膜
のパターンのない部分の保護膜を除去した。その結果、
赤色変換用の蛍光変換膜のパターンD以外の部分の研磨
傷や蛍光変換膜の微量の残りカスはほとんどなくなった
(図4)。なお、この赤色変換用の蛍光変換膜のパター
ンDから実施例1と同一の発光を得た。
クスを形成した基板全面上に、保護膜としてポリビニル
アルコールの水溶液(東京応化社製TPF16000)
をスピンコートし、80℃でベークした。次に、実施例
1と同一の条件で赤色変換用の蛍光変換膜を成膜し、研
磨を行った。次に、基板を純水にて洗浄して蛍光変換膜
のパターンのない部分の保護膜を除去した。その結果、
赤色変換用の蛍光変換膜のパターンD以外の部分の研磨
傷や蛍光変換膜の微量の残りカスはほとんどなくなった
(図4)。なお、この赤色変換用の蛍光変換膜のパター
ンDから実施例1と同一の発光を得た。
【0042】[実施例6]実施例1のブラックマトリッ
クスを形成した基板全面上に、保護膜としてポリアミッ
ク酸(東レ社製SP910)をスピンコートし、140
℃でベーク後、さらにノボラック樹脂−ナフトキノンア
ジド系のポジ型フォトレジスト(富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製HPR204)をスピンコート
し、80℃でベークした。次に、基板を高圧水銀灯を光
源とするコンタクト式露光機にセットし、基板の背面側
から全面に100mJ/cm2 (365nm)で露光し
た。次に、2.38%TMAH(テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド)水溶液にてブラックマトリックス上
のフォトレジストとポリアミック酸を現像およびエッチ
ングした。次に、フォトレジストをn−酢酸ブチルで除
去して、基板の凹部以外のところに選択的に保護膜が積
層された基板を作製した。なお、保護膜の膜厚は、2.
0μmに調節した。次に、実施例1と同一の条件で赤色
変換用の蛍光変換膜を成膜し、研磨を行った。次に、基
板を2.38%TMAH(テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド)水溶液にて保護膜を除去し、さらに純水に
て洗浄した。その結果、赤色変換用の蛍光変換膜のパタ
ーンE以外の部分の研磨傷や蛍光変換膜の微量の残りカ
スはほとんどなくなった(図5)。なお、この赤色変換
用の蛍光変換膜のパターンEから実施例1と同一の発光
を得た。
クスを形成した基板全面上に、保護膜としてポリアミッ
ク酸(東レ社製SP910)をスピンコートし、140
℃でベーク後、さらにノボラック樹脂−ナフトキノンア
ジド系のポジ型フォトレジスト(富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製HPR204)をスピンコート
し、80℃でベークした。次に、基板を高圧水銀灯を光
源とするコンタクト式露光機にセットし、基板の背面側
から全面に100mJ/cm2 (365nm)で露光し
た。次に、2.38%TMAH(テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド)水溶液にてブラックマトリックス上
のフォトレジストとポリアミック酸を現像およびエッチ
ングした。次に、フォトレジストをn−酢酸ブチルで除
去して、基板の凹部以外のところに選択的に保護膜が積
層された基板を作製した。なお、保護膜の膜厚は、2.
0μmに調節した。次に、実施例1と同一の条件で赤色
変換用の蛍光変換膜を成膜し、研磨を行った。次に、基
板を2.38%TMAH(テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド)水溶液にて保護膜を除去し、さらに純水に
て洗浄した。その結果、赤色変換用の蛍光変換膜のパタ
ーンE以外の部分の研磨傷や蛍光変換膜の微量の残りカ
スはほとんどなくなった(図5)。なお、この赤色変換
用の蛍光変換膜のパターンEから実施例1と同一の発光
を得た。
【0043】[実施例7]実施例1のブラックマトリッ
クスを形成した基板全面上に、銅フタロシアニン含有ア
クリレート系光硬化性レジスト(富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製CB2000)をスピンコート
し、80℃でベーク後、基板を高圧水銀灯を光源とする
コンタクト式露光機にセットし、250μmライン,6
50μmギャップのストライプパターンが得られるマス
クをブラックマトリックスに位置合わせして、300m
J/cm2 (365nm)で露光した。さらに、1N炭
酸ナトリウム水溶液で現像後、200℃でポストベーク
して、図6に示すように、基板上に繰り返す凹状パター
ンの2つ置きに青色カラーフィルタのパターンを埋め込
んだ。次に、蛍光色素として、0.02mol/kg
(固形分中)となる割合のクマリン6を0.33gと蛍
光顔料としてベンゾグアナミン樹脂に対して2重量%の
ソルベントイエロー116および6重量%のソルベント
イエロー44を予め練り込んだもの(ナフタルイミド系
蛍光顔料)を固形分に対して30重量%となる量14.
1gと、アクリレート系の光硬化型レジスト(日本合成
ゴム社製JNPC06、固形分38重量%)85.6g
を混合したインキ100g(固形分47重量%)を調製
した。次に、このインキをスピンコートし、80℃でベ
ーク後、基板を高圧水銀灯を光源とするコンタクト式露
光機にセットし、250μmライン,650μmギャッ
プのストライプパターンが得られるマスクを青色カラー
フィルタに隣接する位置に位置合わせして、300mJ
/cm2 (365nm)で露光した。さらに、2.38
%TMAH(テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)
水溶液で現像後、200℃でポストベークして、緑色変
換用の蛍光変換膜のパターンAを埋め込んだ。さらに、
この緑色変換用の蛍光変換膜に隣接する位置に位置合わ
せして、実施例1と同様にして、赤色変換用の蛍光変換
膜のパターンA(このパターンAは緑色変換用の蛍光変
換膜のパターンAと形状は同一であるが形成位置がずれ
ている)を埋め込んだ。ここで、製造例で作製した発光
体の有機EL素子と、緑色変換用および赤色変換用の蛍
光変換膜並びに青色カラーフィルタが埋め込まれた基板
とを重ね合わせると、蛍光変換膜のパターンF(このパ
ターンFは、緑色変換用および赤色変換用の蛍光変換膜
を合成した形状のパターンである)のうち緑色変換用の
蛍光変換膜Aのパターンから発光する輝度は、有機EL
素子の輝度200cd/m2 に対して184cd/m2
(変換効率92%)が得られ、CIE色度座標はx=
0.25、y=0.62で黄味がかった緑色(イエロイ
ッシュグリーン)の発光が得られることを観測した(図
7)。また、赤色変換用の蛍光変換膜のパターンAから
発光する輝度は、実施例1の場合と同様であった。一
方、青色のカラーフィルタのパターンから発光する輝度
は、有機EL素子の輝度200cd/m2 に対して10
0cd/m2 (変換効率50%)が得られ、CIE色度
座標はx=0.14、y=0.10で青色(ブルー)の
発光が得られることを観測した(図7)。以上より、三
原色の発光が可能な蛍光変換フィルターが作製できた。
クスを形成した基板全面上に、銅フタロシアニン含有ア
クリレート系光硬化性レジスト(富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製CB2000)をスピンコート
し、80℃でベーク後、基板を高圧水銀灯を光源とする
コンタクト式露光機にセットし、250μmライン,6
50μmギャップのストライプパターンが得られるマス
クをブラックマトリックスに位置合わせして、300m
J/cm2 (365nm)で露光した。さらに、1N炭
酸ナトリウム水溶液で現像後、200℃でポストベーク
して、図6に示すように、基板上に繰り返す凹状パター
ンの2つ置きに青色カラーフィルタのパターンを埋め込
んだ。次に、蛍光色素として、0.02mol/kg
(固形分中)となる割合のクマリン6を0.33gと蛍
光顔料としてベンゾグアナミン樹脂に対して2重量%の
ソルベントイエロー116および6重量%のソルベント
イエロー44を予め練り込んだもの(ナフタルイミド系
蛍光顔料)を固形分に対して30重量%となる量14.
1gと、アクリレート系の光硬化型レジスト(日本合成
ゴム社製JNPC06、固形分38重量%)85.6g
を混合したインキ100g(固形分47重量%)を調製
した。次に、このインキをスピンコートし、80℃でベ
ーク後、基板を高圧水銀灯を光源とするコンタクト式露
光機にセットし、250μmライン,650μmギャッ
プのストライプパターンが得られるマスクを青色カラー
フィルタに隣接する位置に位置合わせして、300mJ
/cm2 (365nm)で露光した。さらに、2.38
%TMAH(テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)
水溶液で現像後、200℃でポストベークして、緑色変
換用の蛍光変換膜のパターンAを埋め込んだ。さらに、
この緑色変換用の蛍光変換膜に隣接する位置に位置合わ
せして、実施例1と同様にして、赤色変換用の蛍光変換
膜のパターンA(このパターンAは緑色変換用の蛍光変
換膜のパターンAと形状は同一であるが形成位置がずれ
ている)を埋め込んだ。ここで、製造例で作製した発光
体の有機EL素子と、緑色変換用および赤色変換用の蛍
光変換膜並びに青色カラーフィルタが埋め込まれた基板
とを重ね合わせると、蛍光変換膜のパターンF(このパ
ターンFは、緑色変換用および赤色変換用の蛍光変換膜
を合成した形状のパターンである)のうち緑色変換用の
蛍光変換膜Aのパターンから発光する輝度は、有機EL
素子の輝度200cd/m2 に対して184cd/m2
(変換効率92%)が得られ、CIE色度座標はx=
0.25、y=0.62で黄味がかった緑色(イエロイ
ッシュグリーン)の発光が得られることを観測した(図
7)。また、赤色変換用の蛍光変換膜のパターンAから
発光する輝度は、実施例1の場合と同様であった。一
方、青色のカラーフィルタのパターンから発光する輝度
は、有機EL素子の輝度200cd/m2 に対して10
0cd/m2 (変換効率50%)が得られ、CIE色度
座標はx=0.14、y=0.10で青色(ブルー)の
発光が得られることを観測した(図7)。以上より、三
原色の発光が可能な蛍光変換フィルターが作製できた。
【0044】[比較例1]蛍光顔料としてベンゾグアナ
ミン樹脂に対して4重量%のソルベントイエロー116
および12重量%のソルベントイエロー44を予め練り
込んだもの(ナフタルイミド系蛍光顔料)を2.5g
と、ベンゾグアナミン樹脂に対して8重量%のベーシッ
クバイオレット11および8重量%のローダミン6Gを
予め練り込んだもの(ローダミン系蛍光顔料)を5g
と、アクリレート系の光硬化型レジスト19.7g(日
本合成ゴム社製JNPC06、固形分38重量%)とを
混合した溶液(固形分55重量%)を調製した。この溶
液を実施例1のブラックマトリックスを形成した基板の
表面が凹凸状に繰り返しパターンされた基板上にスピン
コートし、80℃でベーク後、次に、基板を高圧水銀灯
を光源とするコンタクト式露光機にセットし、基板の背
面側より600mJ/cm2 (365nm)で露光し
た。さらに2.38%のテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド水溶液で現像後、実施例1と同一の条件で研磨
し、赤色変換用の蛍光変換膜のパターンGを得た。これ
は、図9に示した方法と類似している。ここで、製造例
で作製した発光体の有機EL素子と、赤色変換用の蛍光
変換膜が埋め込まれた基板とを重ね合わせると、赤色変
換用の蛍光変換膜のパターンGから発光する輝度は、有
機EL素子の輝度200cd/m2 に対して20cd/
m2 (変換効率10%)が得られ、CIE色度座標はx
=0.61、y=0.32で赤色(レッド)の発光が得
られることを観測した。ここで、蛍光変換膜を300μ
mピッチの高精細にパターニングできたが、蛍光変換膜
に光硬化性樹脂を用い、紫外線露光したことにより、実
施例1に比べて発光体の有機EL素子の青色発光を効率
よく赤色に変換することはできなかった。
ミン樹脂に対して4重量%のソルベントイエロー116
および12重量%のソルベントイエロー44を予め練り
込んだもの(ナフタルイミド系蛍光顔料)を2.5g
と、ベンゾグアナミン樹脂に対して8重量%のベーシッ
クバイオレット11および8重量%のローダミン6Gを
予め練り込んだもの(ローダミン系蛍光顔料)を5g
と、アクリレート系の光硬化型レジスト19.7g(日
本合成ゴム社製JNPC06、固形分38重量%)とを
混合した溶液(固形分55重量%)を調製した。この溶
液を実施例1のブラックマトリックスを形成した基板の
表面が凹凸状に繰り返しパターンされた基板上にスピン
コートし、80℃でベーク後、次に、基板を高圧水銀灯
を光源とするコンタクト式露光機にセットし、基板の背
面側より600mJ/cm2 (365nm)で露光し
た。さらに2.38%のテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド水溶液で現像後、実施例1と同一の条件で研磨
し、赤色変換用の蛍光変換膜のパターンGを得た。これ
は、図9に示した方法と類似している。ここで、製造例
で作製した発光体の有機EL素子と、赤色変換用の蛍光
変換膜が埋め込まれた基板とを重ね合わせると、赤色変
換用の蛍光変換膜のパターンGから発光する輝度は、有
機EL素子の輝度200cd/m2 に対して20cd/
m2 (変換効率10%)が得られ、CIE色度座標はx
=0.61、y=0.32で赤色(レッド)の発光が得
られることを観測した。ここで、蛍光変換膜を300μ
mピッチの高精細にパターニングできたが、蛍光変換膜
に光硬化性樹脂を用い、紫外線露光したことにより、実
施例1に比べて発光体の有機EL素子の青色発光を効率
よく赤色に変換することはできなかった。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によって、
蛍光変換膜の蛍光性を失うことなく(変換効率を低下さ
せることなく)、高精細かつ高輝度で、視認性の高い蛍
光変換膜を提供することができる。
蛍光変換膜の蛍光性を失うことなく(変換効率を低下さ
せることなく)、高精細かつ高輝度で、視認性の高い蛍
光変換膜を提供することができる。
【図1】本発明の蛍光変換膜の製造方法の一実施形態を
模式的に示す断面工程図である。
模式的に示す断面工程図である。
【図2】本発明の蛍光変換膜の製造方法の一実施形態を
模式的に示す断面工程図である。
模式的に示す断面工程図である。
【図3】本発明の蛍光変換膜の製造方法の一実施形態を
模式的に示す断面工程図である。
模式的に示す断面工程図である。
【図4】本発明の蛍光変換膜の製造方法の一実施形態を
模式的に示す断面工程図である。
模式的に示す断面工程図である。
【図5】本発明の蛍光変換膜の製造方法の一実施形態を
模式的に示す断面工程図である。
模式的に示す断面工程図である。
【図6】本発明の一実施例に用いられる、その表面に凹
凸の繰り返しパターンが形成された基板を模式的に示す
断面図である。
凸の繰り返しパターンが形成された基板を模式的に示す
断面図である。
【図7】本発明の一実施例における、蛍光変換膜と発光
体との組み合わせた例を模式的に示す断面図である。
体との組み合わせた例を模式的に示す断面図である。
【図8】従来の製造方法を示す断面工程図である。
【図9】従来の製造方法を示す断面工程図である。
1 基板 2 蛍光変換膜 3 保護膜 4 カラーフィルタ 5 ブラックマトリックス 6 発光体 11 着色インキ層
Claims (5)
- 【請求項1】 基板上に、発光体からの発光を、より長
波長の蛍光に変換する蛍光変換膜を形成する蛍光変換膜
の製造方法において、下記(I)〜(III)の段階を含む
ことを特徴とする蛍光変換膜の製造方法。 (I):基板の表面に凹凸の繰り返しパターンを形成す
る。 (II):この基板凹部に埋め込むようにして、基板の全
面に蛍光変換膜を成膜する。 (III):この蛍光変換膜の表面を研磨して、基板表面
の凹部の内部以外に成膜された蛍光変換膜を除去する。 - 【請求項2】 前記段階(I) および(II)の間に、下
記段階(A)を含む請求項1記載の蛍光変換膜の製造方
法。 (A):基板の全面または凸部だけに保護膜を成膜す
る。 - 【請求項3】 前記段階(III) の後に、下記段階
(B)を含む請求項2記載の蛍光変換膜の製造方法。 (B):基板表面の凸部に成膜された保護膜を除去す
る。 - 【請求項4】 前記段階(B)における保護膜の除去
が、水媒体による処理によるものである請求項3記載の
蛍光変換膜の製造方法。 - 【請求項5】 前記発光体が、有機エレクトロルミネッ
センス(EL)素子である請求項1〜4記載の蛍光変換
膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9012276A JPH10208879A (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 蛍光変換膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9012276A JPH10208879A (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 蛍光変換膜の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10208879A true JPH10208879A (ja) | 1998-08-07 |
Family
ID=11800852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9012276A Pending JPH10208879A (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 蛍光変換膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10208879A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001067824A1 (fr) * | 2000-03-07 | 2001-09-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Affichage el organique a excitation active et procede de fabrication de cet affichage |
JP2001249627A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-09-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アクティブ駆動型有機el表示装置およびその製造方法 |
JP2005222915A (ja) * | 2003-02-20 | 2005-08-18 | Sanyo Electric Co Ltd | カラー発光表示装置 |
WO2006100957A1 (ja) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 色変換基板並びにその製造方法、及び発光装置 |
JP2007095326A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機elディスプレイおよびその製造方法 |
CN100359705C (zh) * | 2004-03-30 | 2008-01-02 | 深圳市蓝科电子有限公司 | 白光二极管制造方法 |
JP2018517157A (ja) * | 2015-04-16 | 2018-06-28 | オキュラス ブイアール,エルエルシー | Ledアレイの色変換構造 |
JP2018205456A (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-27 | 株式会社ブイ・テクノロジー | フルカラーled表示パネル |
-
1997
- 1997-01-27 JP JP9012276A patent/JPH10208879A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001067824A1 (fr) * | 2000-03-07 | 2001-09-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Affichage el organique a excitation active et procede de fabrication de cet affichage |
JP2001249627A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-09-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アクティブ駆動型有機el表示装置およびその製造方法 |
US6995736B2 (en) | 2000-03-07 | 2006-02-07 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Active-driving type organic EL display device, and a method of producing the same |
US7227518B2 (en) | 2000-03-07 | 2007-06-05 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Active-driving type organic el display device, and a method of producing the same |
JP4542659B2 (ja) * | 2000-03-07 | 2010-09-15 | 出光興産株式会社 | アクティブ駆動型有機el表示装置およびその製造方法 |
JP2005222915A (ja) * | 2003-02-20 | 2005-08-18 | Sanyo Electric Co Ltd | カラー発光表示装置 |
JP4502661B2 (ja) * | 2003-02-20 | 2010-07-14 | 三洋電機株式会社 | カラー発光表示装置 |
CN100359705C (zh) * | 2004-03-30 | 2008-01-02 | 深圳市蓝科电子有限公司 | 白光二极管制造方法 |
WO2006100957A1 (ja) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 色変換基板並びにその製造方法、及び発光装置 |
JP2007095326A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機elディスプレイおよびその製造方法 |
JP2018517157A (ja) * | 2015-04-16 | 2018-06-28 | オキュラス ブイアール,エルエルシー | Ledアレイの色変換構造 |
JP2018205456A (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-27 | 株式会社ブイ・テクノロジー | フルカラーled表示パネル |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5869929A (en) | Multicolor luminescent device | |
JP3584748B2 (ja) | 蛍光変換フィルタおよび該フィルタを有するカラー表示装置 | |
JP3224352B2 (ja) | 多色発光装置 | |
US5909081A (en) | Multi-color light emission apparatus with organic electroluminescent device | |
US6358652B1 (en) | Fluorescent conversion filter and organic light-emitting device equipped with the fluorescent conversion filter | |
JP4756318B2 (ja) | 色変換フィルタおよびそれを用いた色変換発光デバイス | |
JP2008010298A (ja) | 色変換基板及びカラー表示装置 | |
JPH09245511A (ja) | 蛍光変換フィルター及びその製造方法 | |
US7595585B2 (en) | Color conversion and optical enhancement layers for electroluminescent displays | |
JP2006278082A (ja) | フルカラー有機el表示装置の製造方法及びその製造用の光処理装置 | |
JP2008165108A (ja) | リブ機能を併せ持つカラーフィルタ基板、リブ機能を併せ持つ色変換フィルタ基板、および、これらを用いたカラー有機el素子、並びに、これらの製造方法 | |
JPH10208879A (ja) | 蛍光変換膜の製造方法 | |
JP2000284705A (ja) | 光学的表示装置および光学的表示装置の製造方法 | |
JP2006163325A (ja) | 有機elディスプレイ | |
JP2006269228A (ja) | 色変換フィルタおよびそれを用いた有機elディスプレイパネル、ならびにそれらの製造方法 | |
JP2008159321A (ja) | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 | |
JP2005050552A (ja) | 有機el表示装置 | |
JP2003297547A (ja) | 有機el表示装置 | |
JP2008157986A (ja) | 有機elディスプレイの製造方法および該製造方法により製造される有機elディスプレイ | |
JPH1154273A (ja) | 色変換フィルタおよびその製造方法 | |
JP2006216466A (ja) | 有機elディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
JP2000012217A (ja) | エレクトロルミネッセンス表示用色変換フィルターの製造方法 | |
JP2005276446A (ja) | 有機elディスプレイおよびその製造方法 | |
JP2006244729A (ja) | 着色層形成用転写シートを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 | |
JP2007019008A (ja) | 有機elディスプレイパネル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060405 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061024 |