JPH10207087A

JPH10207087A - ポリマー結合剤を用いる光導電性像形成部材

Info

Publication number: JPH10207087A
Application number: JP9358032A
Authority: JP
Inventors: J Evans Kent; ジェイエバンスケント; E Normandin Sharron; イーノルマンディンシャロン; M Carmichael Catherine; エムカーマイケルキャサリーン; P Sullivan Donald; ピーサリバンドナルド
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1997-01-13
Filing date: 1997-12-25
Publication date: 1998-08-07
Also published as: BR9800224A

Abstract

(57)【要約】【課題】ゼログラフィー特性を阻害することなく接着
性が改善された光導電性像形成部材を提供する。【解決手段】発光体は、ジルコニウムからなる接地面
４でコーティングされた基板２にアンチカールコーティ
ング３を重層させ、さらに、この接地面４に遮断層５、
コポリエステル接着剤を含有する界面層６、光導電性像
形成部材からなる光発生層７及び輸送層８を順次積層し
て構成されている。光発生層を構成する光導電性像形成
部材は、少なくともポリスチレン／ポリビニルピリミジ
ンコポリマー結合剤中に分散した少なくとも１種のフタ
ロシアニン光発生顔料を用いることにより構成されてい
る。この結果、優れたゼログラフィー特性を阻害するこ
となく接着性の改善を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は一般に、像形成部材
ならびにその静電複写像形成方法および印刷方法に関す
る。より具体的には、本発明は、特に光発生顔料として
コポリマー結合剤が選択される積層像形成部材に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】別々の電荷発生層および電荷輸送層、空
孔輸送層をオーバコートされた後光発生層をオーバコー
トされた空孔注入層を含むオーバコートされた感光性材
料ならびに絶縁性有機樹脂のトップコーティングからな
るものをはじめとする、いくつかの積層像形成部材が公
知である。このような像形成部材の設計は、開示内容を
すべて引用例として本明細書に包含される米国特許第
４，２６５，９９０号明細書および第４，２５１，６１
２号明細書に開示されている。これらの特許に開示され
ている光発生層の例には、三方晶系セレンおよびフタロ
シアニン類があり、輸送層の例には、前記明細書で挙げ
られている特定のアリールジアミン類がある。

【０００３】アゾ、ビスアゾおよび関連の化合物を用い
る積層有機電子写真光導電体要素を記載するさらなる引
用例には、米国特許第４，３９０，６１１号明細書、第
４，５５１，４０４号明細書、第４，４００，４５５号
明細書、第４，３９０，６０８号明細書、第４，３２
７，１６８号明細書、第４，２９９，８９６号明細書、
第４，３１４，０１５号明細書、第４，４８６，５２２
号明細書、第４，４８６，５１９号明細書、第４，５５
５，６６７号明細書、第４，４４０，８４５号明細書、
第４，４８６，８００号明細書、第４，３０９，６１１
号明細書、第４，４１８，１３３号明細書、第４，２９
３，６２８号明細書、第４，４２７，７５３号明細書、
第４，４９５，２６４号明細書、第４，３５９，５１３
号明細書、第３，８９８，０８４号明細書、第４，８３
０，９４４号明細書および第４，８２０，６０２号明細
書ならびに特開昭６０−１１１２４７号および特開昭６
０−６４３５４号がある。

【０００４】米国特許第４，７５５，４４３号明細書に
は、電荷担体生成物質および電荷輸送物質を含む、一つ
の電荷担体生成物質が金属フタロシアニンまたは金属を
含まないフタロシアニンである電子写真用の感光体が開
示している。生成物質を含む層はまた、有機アミンを含
む。アゾ顔料、アントラキノン染料、ペリレン染料、多
環式キノン染料およびメタンステアレート顔料をはじめ
とする他の担体発生物質をフタロシアニン発生物質と組
み合わせて使用することができる。

【０００５】開示内容をすべて引用例として本明細書に
包含される米国特許第５，３８４，２２２号明細書に
は、チタニルフタロシアニンタイプIVを適当な溶剤中で
ＡＢブロックコポリマー、たとえばポリスチレン−４−
ビニルピリジンと混合することを含む、光発生組成物を
調製する方法が示されている。

【０００６】米国特許第４，４２４，２６６号明細書に
は、導電性支持体と、ペリレン染料、多環式キノン類お
よびアゾ染料からなる群より選択される担体発生物質を
含む担体発生相層およびヒドラゾン担体輸送物質を含む
担体輸送相層を含む感光層とを有する電子写真用感光性
要素が開示されている。担体発生物質は、単独で使用す
ることもできるし、組み合わせて使用することもでき
る。

【０００７】開示内容をすべて引用例として本明細書に
包含される米国特許第４，８８２，２５４号明細書に
は、支持基板と、第一の顔料と第二の顔料との混合物を
含む光発生層と、アリールアミン空孔輸送層とを含む積
層感光性像形成部材が開示されている。顔料の混合物
は、ペリレン類とフタロシアニン類、多環式キノン類と
フタロシアニン類またはペリノン類とフタロシアニン類
から選択される。

【０００８】ペリノン化合物およびペリレン化合物を含
有する感光性像形成部材もまた周知である。たとえば、
１９８０年５月２１日に出願された欧州特許公開第００
４０４０２号公報、ＤＥ（ドイツ特許）３０１９３２６
には、光導電性物質としてのＮ，Ｎ′−ジ置換ペリレン
−３，４，９，１０−テトラカルボキシルジイミド顔料
の使用が開示されている。

【０００９】また、たとえば、いずれの開示内容をもす
べて引用例として本明細書に包含される米国特許第３，
５９４，１６３号明細書、第３，６５７，２７２号明細
書、第３，８１６，１１８号明細書、第３，８６２，１
２７号明細書、第３，９０３，１０７号明細書、第３，
９２７，０２６号明細書、第３，９３２，１８０号明細
書、第３，９３２，４５４号明細書、第４，０３１，１
０９号明細書、第４，０９８，７９５号明細書、第５，
４５６，９９８号明細書、第５，４７３，０６４号明細
書および第５，５１０，２１７号明細書ならびに米国特
許再発行第２７，１１７号明細書に開示されているよう
に、フタロシアニン物質を有する像形成部材は公知であ
る。

【００１０】開示内容をすべて引用例として本明細書に
含まれる米国特許第５，３８４，２２３号明細書には、
支持基板、光発生層および電荷輸送層からなる光導電性
像形成部材が示されている。光発生層は、ポリスチレン
／ポリビニルピリジンＡｎＢｍブロックコポリマー（ｎ
は、Ａブロックを構成するＡモノマーのセグメントの数
を表し、ｍは、Ｂブロックを構成するＢモノマーのセグ
メントの数を表す）中に分散した光発生顔料からなる。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持基板と、
少なくとも１種のポリスチレン／ポリビニルピリジンン
コポリマー結合剤中に分散した少なくとも１種のフタロ
シアニン光発生顔料を含む光発生層とを有する光導電性
像形成部材に関する。

【００１２】本発明はまた、支持基板上に形成された、
以下の順序の層、すなわち、（Ａ）接地面、（Ｂ）遮断
層、（Ｃ）界面層、（Ｄ）少なくとも１種のポリスチレ
ン／ポリビニルピリジンコポリマー結合剤中に分散した
少なくとも１種のヒドロキシガリウムフタロシアニン光
発生顔料を有する結合剤発生体層、および（Ｅ）輸送
層、を有する光導電性像形成部材に関する。

【００１３】本発明の光導電性像形成部材は、電子写真
装置に用いることができる。

【００１４】本発明はまた、少なくとも１種のヒドロキ
シガリウムフタロシアニン光発生顔料と、少なくとも１
種のポリスチレン／ポリビニルピリジンコポリマーと、
少なくとも１種の溶媒との混合物を用意し、基板上にそ
の混合物の層を形成し、混合物を乾燥させることによ
り、光導電性像形成部材を製造する方法に関する。

【００１５】

【発明の実施の形態】本明細書に記載する光導電性像形
成部材は、種々の像形成系、たとえばゼログラフィー式
像形成法として従来より公知である像形成系に組み込む
ことができる。さらには、本発明の像形成部材は、近赤
および／または赤外線を用いる像形成および印刷系に選
択することができる。この実施形態では、感光性要素を
負または正に帯電させ、約７００〜約８２０nm、好まし
くは７４０〜８００nmの波長を有する光に対し、順次ま
たは同時に露光させた後、得られた像を現像し、それを
印刷基材、たとえば透明画または紙に転写することがで
きる。さらには、本発明の像形成部材は、可視光を用い
る像形成および印刷系に選択することもできる。この実
施形態では、感光性要素を負または正に帯電させ、約４
００〜約７００nmの波長を有する光に露光させた後、公
知のトナーで現像し、像を印刷基材に転写し、定着させ
ることができる。

【００１６】本発明の一つの実施形態の光導電性像形成
部材を図１に示す。この像形成部材は、接地面４を有す
る基板２ならびに基板の上に形成された遮断層５、界面
層６、光発生層７および輸送層８を含む。基板２の後面
（すなわち、接地面４と反対側）にアンチカールコーテ
ィング３を形成してもよい。

【００１７】像形成部材の支持基板は、絶縁材、たとえ
ば無機もしくは有機のポリマー材料、たとえばMYLAR
（商標）、市販のポリマー、たとえばポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレートおよびチタン化
MYLAR（商標）、半導体表面層、たとえばインジウムス
ズ酸化物もしくはアルミニウムを上に配設された有機も
しくは無機材料の層または導電材、たとえばアルミニウ
ム、チタン、ジルコニウム、クロム、ニッケル、黄銅な
どを含むことができる。基板は、可撓性、シームレスま
たは剛性であることができ、多数の異なる形態、たとえ
ば板、円筒形ドラム、渦巻模様、エンドレスフレキシブ
ルベルトなどの形態を有することができる。一つの実施
形態では、基板は、エンドレスフレキシブルベルトの形
態にある。

【００１８】状況によっては、特に基板が有機ポリマー
材料であるとき、アンチカール層、たとえばFarbenfabr
icken Bayer社からMAKROLON（商標）として市販されて
いるポリカーボネート材料またはコポリエステル樹脂、
たとえばGoodyear Tire and Rubber社から市販され
ているVitel PE-200を基板の背面にコーティングする
ことが望ましいかもしれない。加えて、本発明の実施形
態のアンチカールコーティングは、接着促進剤を、好ま
しくはアンチカールコーティングの１０重量％までの量
で含めることができる。実施形態においては、アンチカ
ール層はまた、摩擦および／または磨耗軽減剤、たとえ
ばシリカを含めることもできる。

【００１９】好ましくは、基板はポリエチレンテレフタ
レートを含み、アンチカール層はMakrolonまたはVitel
PE-200であり、シリカを０〜約１０重量％、より好ま
しくは２〜８重量％を含む。

【００２０】基板層の厚さは、経済的考慮、他の層の構
成成分などをはじめとする多数の要因に依存する。した
がって、この層は、実質的な厚さ、たとえば１２５μm
までの厚さでもよいし、得られる像形成要素または方法
に悪影響を及ぼさないならば、最低限の厚さでもよい。
実施形態においては、この層の厚さは、約３〜約１００
μmであり、好ましくは約２０〜約８０μmであり、より
好ましくは約２５〜約７５μmである。アンチカール層
は、厚さ約１〜約４０μm、好ましくは約５〜約３０μ
m、より好ましくは約１０〜約２０μmであることができ
る。

【００２１】上記のとおり、本発明の像形成部材は、導
電性の基板または非導電性の基板のいずれを含むもので
もよい。特に、非導電性基板を用いる場合、導電性の接
地面を用いることが好ましく、この接地面が導電層とし
て働く。導電性基板を用いる場合、基板が導電層として
働くが、所望により、導電性の接地面をさらに設けても
よい。

【００２２】導電性の接地面を使用するならば、それ
は、好ましくは基板の上かつ遮断層および連続する像形
成部材層の下に配置する。導電性の接地面に適当な材料
には、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタ
ル、バナジウム、ハフニウム、チタン、ニッケル、ステ
ンレス鋼、クロム、タングステン、モリブデン、銅な
ど、ならびにそれらの混合物および合金があるが、これ
らに限定はされない。実施形態においては、アルミニウ
ム、チタンおよびジルコニウムが好ましい。

【００２３】接地面は、公知のコーティング技術、たと
えば溶液コーティング、蒸着およびスパッタリングによ
って被着することができる。導電性の接地面を被着する
のに好ましい方法は真空蒸着である。他の適当な方法を
用いることもできる。

【００２４】接地面の好ましい厚さは、電子写真導電性
部材に望まれる光学透明度および可撓性に依存して、実
質的に広い範囲にある。したがって、可撓性の感光性像
形成要素の場合、導電性、可撓性および光透過率の最適
な組み合わせを得るためには、導電層の厚さは、好まし
くは約２０Å〜約７５０Åであり、より好ましくは約１
００Å〜約５００Åであり、もっとも好ましくは約５０
Å〜約２００Åである。しかし、所望の場合には、接地
面は不透明であってもよい。

【００２５】実施形態おいては、接地面層はケイ素をさ
らに含む。ケイ素を接地面層に組み込む場合、それは、
接地面層の含有量として約１０重量％までとすることが
好ましい。

【００２６】光発生または光導電層は、少なくとも１種
のポリスチレン／ポリビニルピリジンコポリマー結合剤
中に分散した少なくとも１種のフタロシアニン光発生顔
料からなる。ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料
は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、アルコキシガ
リウムフタロシアニンまたはそれら混合物を含有させる
ことができる。好ましくは、フタロシアニン顔料はヒド
ロキシガリウムフタロシアニンである。

【００２７】フタロシアニン光発生顔料は、光発生層
中、前記結合剤の約２０〜約９０容量％、好ましくは前
記結合剤の約３２〜約８０容量％、より好ましくは前記
結合剤の約４０〜約６０容量％の量で含有させる。コポ
リマー結合剤の量に対するフタロシアニン光発生顔料の
量の比は、約０．５〜約２であり、好ましくは約０．７
５〜約１．５であり、より好ましくは約１．０である。

【００２８】一般に、光発生または光導電層は、厚さ約
０．０５〜約３０μm以上、好ましくは約０．１〜約
２．０μm、より好ましくは約０．１〜約５０．５μmで
ある。一般に、この層は、入射光の実質量を吸収するの
に十分な厚さで設けることが望ましい。たとえば、入射
光の約８０〜約９０％以上が像形成または印刷露光工程
でこの層に向けられる。この層の最大厚さもまた、機械
的考慮、他の層の厚さおよび可撓性の光導電性像形成部
材が望まれるのかどうかのような要因に依存する。

【００２９】電荷輸送層は、たとえば、効果的に電荷
（空孔）を輸送することができるならば、種々の成分、
たとえば樹脂系結合剤中に分散したアリールアミン化合
物および他の成分からなることができる。開示内容すべ
てを引用例として本明細書に含める、本明細書で言及し
た米国特許第４，９２１，７７３号明細書および開示内
容すべてを引用例として本明細書に含める米国特許第
４，９３３，２４５号明細書を参照すること。一つの実
施形態では、電荷輸送層は、次式で示されるアリールア
ミン化合物からなる。

【００３０】

【化１】式中、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ独立して、水素、炭
素原子たとえば１〜約２５個のアルキル基、たとえばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピルなどおよびハロ
ゲン、好ましくは塩素からなる群より選択され、Ｘ、Ｙ
およびＺの少なくとも一つが独立してアルキル基または
塩素である。ＹおよびＺが水素であるならば、アミン
は、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（アルキル
フェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジ
アミン（アルキルは、たとえばメチル、エチル、プロピ
ル、ｎ−ブチルなどである）またはＮ，Ｎ′−ジフェニ
ル−Ｎ，Ｎ′−ビス（クロロフェニル）−［１，１′−
ビフェニル］−４，４′−ジアミンである。好ましく
は、Ｘは、オルト、メタまたはパラのいずれかの位置に
あるメチルおよび塩化物からなる群より選択される。上
記式に該当する化合物には、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−
Ｎ，Ｎ′−ビス（アルキルフェニル）−［１，１′−ビ
フェニル］−４，４′−ジアミン（アルキルは、メチ
ル、たとえば２−メチル、３−メチルおよび４−メチ
ル、エチル、プロピル、ブチルなどからなる群より選択
される）がある。ハロ置換されると、このアミンは、
Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（ハロフェニ
ル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン
（ハロは、２−クロロ、３−クロロまたは４−クロロで
ある）である。空孔を輸送する他の電気的に活性な小分
子には、ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニ
ルフェニルメタン、４′，４″−ビス（ジエチルアミ
ノ）−２′，２″−ジメチルトリフェニルメタン、ビス
−４−^*（ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンお
よび４，４′−ビス（ジエチルアミノ）−２，２′−ジ
メチルトリフェニルメタンがある。一般に、空孔輸送層
は、厚さ約５〜約７５μmであり、好ましくは約１０〜
約４０μmである。

【００３１】他の輸送層としては、たとえば、米国特許
第４，２６５，９９０号明細書、第４，６０９，６０５
号明細書、第４，２９７，４２４号明細書および第４，
９２１，７７３号明細書に記載されている。これらの特
許それぞれの開示内容をすべて引用例として本明細書に
含める。有機電荷輸送物質を用いることもできる。典型
的な電荷輸送物質、特に空孔輸送物質には、以下のもの
がある。

【００３２】１）それぞれの開示内容をすべて引用例と
して本明細書に含まれる米国特許第４，３０６，００８
号明細書、第４，３０４，８２９号明細書、第４，２３
３，３８４号明細書、第４，１１５，１１６号明細書、
第４，２９９，８９７号明細書、第４，０８１，２７４
号明細書および第５，１３９，９１０号明細書に記載さ
れているタイプの空孔輸送分子を、本実施形態における
像形成部材として選択することができる。典型的なジア
ミン空孔輸送分子には、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，
Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフ
ェニル］−４，４′−ジアミンなどがある。

【００３３】２）それぞれの開示内容をすべて引用例と
して本明細書に含まれる米国特許第４，３１５，９８２
号明細書、第４，２７８，７４６号明細書および第３，
８３７，８５１号明細書に開示されているピラゾリン輸
送分子もまた、本実施形態において採用することができ
る。開示内容をすべて引用例として本明細書に含まれる
米国特許第４，２４５，０２１号明細書に記載されてい
る置換フルオレン電荷輸送分子もまた、実施形態におい
て採用することができる。

【００３４】３）オキサジアゾール輸送分子、たとえば
２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，
３，４−オキサジアゾール、ピラゾリン、イミダゾー
ル、トリアゾールなどもまた、実施形態において電荷輸
送分子として採用することができる。他の典型的なオキ
サジアゾール輸送分子が、たとえば、それぞれの開示内
容をすべて引用例として本明細書に含まれるドイツ国特
許第１，０５８，８３６号明細書、第１，０６０，２６
０号明細書および第１，１２０，８７５号明細書に記載
されている。これらもまた、本実施形態において採用す
ることができる。

【００３５】他の具体的な空孔輸送体には、ヒドラゾン
輸送分子、たとえばｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒ
ド−（ジフェニルヒドラゾン）、４−メトキシナフタレ
ン−１−カルバルデヒド、１−メチル−１−フェニルヒ
ドラゾンなどがある。他の典型的なヒドラゾン輸送分子
が、たとえば、それぞれの開示内容をすべて引用例とし
て本明細書に包含する米国特許第４，１５０，９８７号
明細書、第４，３８５，１０６号明細書、第４，３３
８，３８８号明細書、第４，３８７，１４７号明細書、
第４，２５６，８２１号明細書および第４，２９７，４
２６号明細書に記載されている。

【００３６】輸送層として選択することができる絶縁性
および透明度が高い樹脂系成分または不活性結合剤樹脂
系材料の例には、開示内容をすべて引用例として本明細
書に含める米国特許第３，１２１，００６号明細書に示
されているような成分がある。適当な有機樹脂系材料の
具体例には、ポリカーボネート、アクリレートポリマ
ー、ビニルポリマー、セルロースポリマー、ポリエステ
ル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタンおよび
エポキシならびにそれらのブロックコポリマー、ランダ
ムコポリマーまたは交互コポリマーがある。好ましい電
気的に不活性な結合剤材料は、約２０，０００〜約１０
０，０００の重量平均分子量を有するポリカーボネート
樹脂であり、約５０，０００〜約１００，０００の範囲
の重量平均分子量を有するものが特に好ましい。本発明
の実施形態において電気的に不活性な樹脂系材料として
好ましい材料は、General Electric社からLEXAN 145
^TMとして市販されている重量平均分子量約３５，０００
〜約４０，０００のポリ（４，４′−ジプロピリジン−
ジフェニリンカーボネート）、General Electric社か
らLEXAN 141^TMとして市販されている重量平均分子量約
４０，０００〜約４５，０００のポリ（４，４′−イソ
プロピリジン−ジフェニリンカーボネート）、Farbenfa
bricken Bayer社からMAKROLON（商標）として市販され
ている重量平均分子量約５０，０００〜約１００，００
０のポリカーボネート樹脂およびMobayChemical社からM
ERLON^TMとして市販されている重量平均分子量約２０，
０００〜約５０，０００のポリカーボネートである。一
般に、樹脂系結合剤は、前記式に該当する輸送層材料を
約１０〜約８５重量％、好ましくは約２０〜約７０重量
％、より好ましくは約５０〜約７０重量％含有する。

【００３７】電荷輸送層に使用するのに適したすべての
材料のうち、より好ましい材料は、絶縁性および透明度
の高い樹脂系成分または不活性結合剤樹脂系材料として
ポリカーボネート樹脂、たとえばMAKROLON（商標）を含
み、活性材料がＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス
（３−メチルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）−
４，４′−ジアミンである。好ましくは、Ｎ，Ｎ′−ジ
フェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−
（１，１′−ビフェニル）−４，４′−ジアミンは、輸
送層材料の約３０〜約５０重量％の量で輸送層中に存在
する。

【００３８】輸送層は一般に、厚さ約２〜約８０μm、
好ましくは約５〜約６０μm、より好ましくは約１０〜
約４０μmである。

【００３９】光導電性像形成部材は、場合により、支持
基板と光発生層との間に位置する空孔遮断層を含むこと
もできる。この層は、金属酸化物、たとえば酸化アルミ
ニウム、酸化ジルコニウム、シリカなどまたはシラン、
ナイロンなどのような材料を含むことができる。好まし
くは、空孔遮断層は、３−アミノプロピルトリエトキシ
シランを含む。この層の第一の目的は、帯電中および帯
電後に基板からの空孔の注入を防ぐことにある。通常、
この層は、厚さ約５０〜約２０００Å、好ましくは約１
００〜約１７００Å、より好ましくは約２５０〜約１５
００Åであるが、場合によっては２μmの厚さであって
もよい。

【００４０】加えて、光導電性像形成部材はまた、場合
により、空孔遮断層と光発生層との間に位置する接着界
面層を含むこともできる。この層は、ポリマー材料、た
とえばポリ塩化ビニル、ポリメタクリレート、特定のポ
リエステル、たとえばMortonChemical 49,000（４９
Ｋ）、コポリエステル、たとえばGoodyear Tire and
Rubber社から市販されているVitel PE-100、PE-20
0、PE-200DおよびPE-222、ポリエチレンテレフタレート
グリコール、ポリアリーレートおよびポリアリールスル
ホン、たとえばAmoco社から市販されているArdel、Cele
neseから市販されているDurel、３Ｍ社から市販されて
いる4902および4921などを含むことができる。好ましく
は、接着界面層は、Morton 49,000またはポリアリーレ
ート、たとえばArdelを含む。

【００４１】特に、ポリアリーレートが他の接着界面層
材料よりも改善された接着を提供することが見いだされ
た。特に、ポリアリーレートの使用が、発生層が切り離
されるときでも、縁部の離層を起こさずに層同士の優れ
た接着を提供することが見いだされた。

【００４２】典型的には、この層は、たとえば厚さ約
０．６μm未満であり、本発明の実施形態には、約５０
〜約２０００Å、好ましくは約１００〜約１８００Å、
より好ましくは約３００〜約１５００Åの厚さが適して
いる。

【００４３】本発明の像形成部材は、その実施形態にお
いて優れたゼログラフィー特性を示す。たとえば、前述
の空孔輸送層が、ブロックコポリマー中に分散した電荷
発生顔料とともに使用されるという条件で、あるいは、
電荷発生ポリマーが約＋４００ボルトから約＋９７５ボ
ルトの単一層光導電体として使用されるという条件で、
前述の空孔輸送層が、電荷発生ポリマーとともに空孔輸
送層が電荷発生ポリマー層と基板材料との間に挟まれる
反転モードで使用される場合または電荷発生ポリマーが
単一層光導電体として使用される場合、暗現像電位（Ｖ
_ddp）を約−４００ボルトから約−９７５ボルトの範囲
とすることができる。本発明の像形成部材の暗現像電位
に好ましい範囲は、普通、それぞれ約−４００〜約−９
００ボルトまたは約＋４００〜約＋９００ボルトであ
り、それぞれ−８００または＋８００ボルトが実施形態
として特に好ましい。高い暗現像電位は高いコントラス
ト電位を許容し、それが結果として、実質的にバックグ
ラウンド現像なしの高品質像をもたらす。

【００４４】本発明の像形成部材はまた、その実施形態
において、たとえば１秒あたり約１００ボルト以下の低
い暗減衰値を示す。低い暗減衰値は、高品質像を現像す
るのに重要である。理由は、暗減衰が、感光体の帯電後
に消滅する電荷の量を計測し、感光体の露光区域と未露
光区域との大きな電荷差が高いコントラストを有する像
をもたらすからである。暗減衰に許容しうる値は、像形
成部材が収容される像形成装置の設計に依存して異な
る。この暗減衰は、１秒あたり２００ボルトにもなるこ
とができ、１秒あたり１００ボルト以下および１秒あた
り１０〜３０ボルトが実施形態として好ましい。

【００４５】本発明の像形成部材の残留電位値（Ｖ_r）
は、本実施形態において優秀であり、たとえば、それぞ
れ約−５〜約−５０ボルトまたは約＋５〜約＋５０ボル
トの範囲である。残留電位は、露光による消去の後かつ
像形成の前に像形成部材上に残る電荷の量の測度であ
る。−５〜−１５ボルトまたは＋５〜＋１５ボルトの残
留電位が秀逸かつ好ましいとみなされる。

【００４６】本発明の像形成部材の感光度値（６７０nm
でＥ_0.5ddp）は、実施形態において許容可能であり、実
施形態によっては優秀であり、たとえば１cm²あたり約
２〜約２５エルグとすることができる。許容可能な感光
度値は、像形成部材が収容される像形成装置の設計に依
存して異なる。たとえば、場合によっては、１cm²あた
り４０または５０エルグの高さの値が許容可能であり、
１cm²あたり約５エルグ未満の値が好ましいかもしれな
い。

【００４７】本発明はまた、本明細書に開示する光導電
性像形成部材を用いて像を生成する方法を含む。この方
法は一般に、本発明の光導電性像形成部材の上に静電像
を生成する工程と、続いて、樹脂粒子、顔料粒子、電荷
制御剤をはじめとする添加物および担体粒子からなる公
知の現像剤組成物（それぞれの開示内容をすべて引用例
として本明細書に含まれる米国特許第４，５５８，１０
８号明細書、第４，５６０，５３５号明細書、第３，５
９０，０００号明細書、第４，２６４，６７２号明細
書、第３，９００，５８８号明細書および第３，８４
９，１８２号明細書を参照すること）によって静電像を
現像する工程と、現像した静電像を適当な印刷基材、た
とえば紙または透明画に転写する工程と、転写した像を
永久的に基材に定着させる工程とを含む。現像は、多数
の方法、たとえばカスケード、タッチダウン、パウダー
クラウド、磁気ブラシなどによって達成することができ
る。現像した像の印刷基材への転写は、コロトロン（co
rotron）またはバイアスロールが選択されるものをはじ
めとするいかなる適当な方法によって実施してもよい。
定着工程は、いかなる適当な方法、たとえばフラッシュ
融着、熱融着、圧力融着、蒸気融着などによっても実施
することができる。

【００４８】本発明の像形成部材は、多数の異なる公知
の方法、たとえば、開示内容をすべて引用例として本明
細書に含める、現在は破棄された同時係属中の米国特許
出願第０７／６１７，２３４号に記載の方法によって調
製することができる。

【００４９】一つの実施形態における方法では、光発生
体層は、以下のようにして製造される。

【００５０】Ａ）少なくとも１種のヒドロキシガリウム
フタロシアニン光発生顔料と、少なくとも１種のポリス
チレン／ポリビニルピリジンコポリマーと、少なくとも
１種の溶媒との混合物を用意する。たとえば、前記混合
物は、攪拌ボールミルまたはジャーミルの中で顔料をポ
リマーおよび溶媒とともに０．５〜９６時間混練するこ
とによって製造することができる。攪拌ボールミルを用
いるならば、０．５〜４時間の混練が好ましい。また、
条件の適切な最適化により、前記混合物は、ポリマー／
顔料分散系の製造に一般的な多数の他の混練処理のいず
れによっても製造することができる。好ましくは、本発
明の実施形態において、溶媒は、トルエン、アニソー
ル、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、シクロヘキサン、それらの混合物などであることが
できるが、これらに限定はされない。好ましくは、トル
エンを溶媒として使用する。

【００５１】Ｂ）コーティング産業で使用される種々の
方法のいずれかによって前記混合物の層を基板上に形成
する。この方法には、バードバーコーティング、ダイコ
ーティング（スロット、スライド、カーテンなど）、ロ
ールコーティング（順、逆、グラビアなど）、ブレード
／ナイフコーティング、噴霧コーティングなどがある
が、これらに限定はされない。

【００５２】Ｃ）前記層をオーブンまたはコーティング
産業で使用される他の手段によって乾燥させる。

【００５３】他の光導電性像形成部材は、上記手法と同
様な手法によって製造することができる。混合物調製お
よび層形成の詳細は、形成される具体的な層の材料およ
びコーティングの要件に依存して異なる。

【００５４】

【実施例】本発明の種々の実施形態をさらに明らかにす
るため、以下の実施例を提示する。これらの実施例は、
本発明を説明することを意図するものであり、本発明の
範囲を限定するものではないことを記しておく。別段記
載しない限り、部および％値は重量基準である。また、
比較例を提示する。

【００５５】片側をチタンおよびジルコニウム（接地
面）でコーティングされた厚さ７５μmのポリエステル
基板のウェブ（ICI Americas社から市販のMELINEX^TM）
に対し、乾燥重量５％のシリカ添加Makrolonを反対側に
１７μmの厚さまでコーティング（アンチカールコーテ
ィング）し、その基板に対し、グラビアアプリケータに
より、３−アミノプロピルトリエトキシシラン５０g、
酢酸１５g、２００プルーフ変性アルコール６８４．８g
およびヘプタン２００gを含む溶液を塗布することによ
り、光導電性像形成部材を調製した。次に、この層を、
コータの強制空気乾燥器中、１３５℃で約５分間乾燥さ
せた。得られた遮断層（ＵＣＬ）は乾燥厚さ４００Åで
あった。

【００５６】次に、グラビアアプリケータを使用して、
テトラヒドロフラン／シクロヘキサノンの容量比７０：
３０の混合物中にコポリエステル接着剤（E. I. DuPo
ntde Nemours & Companyから市販のDuPont 49,000
（４９Ｋ））３．５重量％（溶液の総重量を基準）を含
有する湿コーティングを遮断層の上に塗布することによ
り、接着界面層を調製した。そして、接着界面層を、コ
ータの強制空気乾燥器中、１３５℃で約５分間乾燥させ
た。得られた接着界面層は乾燥厚さ７００Åであった。

【００５７】その後、接着界面層を、ヒドロキシガリウ
ムフタロシアニン４０容量％およびポリスチレン／ポリ
ビニルピリジン６０容量％を含有する光発生層でコーテ
ィングした。このコーティング溶液は、ステンレス鋼シ
ョット３００gを入れた４オンスのボトル中でヒドロキ
シガリウムフタロシアニン１．３３g、ポリスチレン／
ポリビニルピリジン１．５０gおよびトルエン４２mlを
合わせ、２４時間ロール混練することによって調製し
た。その後、得られたスラリーをBirdアプリケータによ
って接着界面に塗布して、湿厚さ６．４μmの層を形成
した。この層を、強制通気オーブン中、１３５℃で５分
間乾燥させて、乾燥後の厚さとして０．３１μmの光発
生層を形成した。

【００５８】この光発生層に電荷輸送層をオーバコート
した。電荷輸送層は、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′
−ビス（３−メチルフェニル）−１，１′−ビフェニル
−４，４′−ジアミンと、Farbenfabricken Bayer社か
ら市販されている重量平均分子量約５０，０００〜１０
０，０００のポリカーボネート樹脂であるMAKROLON（商
標）とを重量比１：１でアンバーガラスボトルに導入す
ることによって調製した。得られた混合物を塩化メチレ
ンに溶解して、固形物１５重量％を含有する溶液を形成
した。Birdアプリケータを用いてこの溶液を光発生層に
塗布してコーティングを形成した。このコーティング
は、乾燥すると、厚さ２９μmになった。このコーティ
ング過程の間、湿度は１５％以下であった。上記の層す
べてを含む得られた感光体要素を、強制通気オーブン
中、１３５℃で５分間アニールさせた後、周囲の室温ま
で冷却した。

【００５９】種々の材料（表１〜３を参照）を異なる層
に使用したこと以外、上記要素を調製する方法を繰り返
すことにより、像形成部材を調製した。

【００６０】調製した像形成部材を次のようにして評価
した。コロナ放電源を用いて、像形成部材の表面を、静
電電圧計に取り付けられた容量結合されたプローブによ
る計測で約８００ボルトの表面帯電電位まで静電帯電さ
せることにより、像形成部材のゼログラフィー暗放電電
気特性を測定した。帯電の１．２５秒後に静電電圧計お
よびプローブを使用して暗現像電位Ｖｄｄｐを計測し
た。次に、帯電の約２．４５秒後に試料をキセノンアー
ク灯に露光させて、像形成部材を約１０ボルトの残留表
面電位まで放電させた。試料を再び約８００ボルトの表
面電位まで静電帯電させ、帯電の約０．６秒後にキセノ
ンアーク灯に露光させ、干渉フィルタを使用して６７０
nmの波長にろ波し、像形成部材を約１００ボルトまで放
電させるのに十分なエネルギーを用いて、放電の約１．
２５秒後に計測した。像形成部材を８００ボルトの暗電
位から１００ボルトの光放電電位まで放電させるのに要
するエネルギーの量によって感光度を測定した。放電の
約２．４５秒後に試料を再びキセノンアーク灯に露光さ
せて、像形成部材を約１００ボルトまで放電させた。こ
の帯電−消去および帯電−光放電−消去のパターンを数
回繰り返して、像形成部材のゼログラフィー電気特性を
さらに評価した。

【００６１】表１〜３は、本発明の光導電性像形成部材
とは材料および構造において種々の違いを有する種々の
光導電性像形成部材の比較を提供する。図２〜図６は、
その結果をレーダプロットとして示した。たとえば、表
１には、一般的なアンチカールバックコーティング（Ｕ
ＣＬ）、接着界面層（ＩＦＬ）および電荷輸送層（ＣＴ
Ｌ）を有する像形成部材のゼログラフィー電気特性を記
す。光発生層は、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを
４０容量％含む。実施例１は、本発明の光導電性像形成
部材に関し、実施例２および３は、比較のための光導電
性像形成部材に関する。

【００６２】

【表１】表２は、種々の遮断層（ＵＣＬ）の上に異なる光発生層
結合剤を有する種々の光導電性像形成部材を比較する。
すべての像形成部材には、共通の輸送層（ＣＴＬ）を加
えている。ここでもまた、光発生層には、所与の結合剤
中にヒドロキシガリウムフタロシアニンが４０容量％含
まれる。実施例４は、本発明の光導電性像形成部材に関
し、実施例５〜９は、比較のための光導電性像形成部材
に関する。

【００６３】

【表２】表３は、異なる輸送層溶媒を有する光導電性像形成部材
を比較する。光導電性像形成部材は、共通の遮断層およ
び界面層を含む。実施例１０は、本発明の光導電性像形
成部材に関し、実施例１１は、比較のための光導電性像
形成部材に関する。

【００６４】

【表３】上記表に示すように、本発明の光導電性像形成部材（実
施例１、４および１０）は、表１〜３に示すように、優
れたゼログラフィー特性を提供する。たとえば、これら
の像形成部材は、初期電位および残留電位、低い暗減衰
値および優れた感光性を示す。対照的に、比較のための
光導電性像形成部材（実施例２、３、５〜９および１
１）は、少なくとも一つの受け入れられないゼログラフ
ィー特性を露呈する。したがって、本発明の像形成部材
の光発生層の結合剤ポリスチレン／ポリビニルピリジン
および顔料ヒドロキシガリウムフタロシアニンは、結合
剤と顔料との他の様々な組み合わせよりも優れたゼログ
ラフィー特性を示す。

【００６５】接着界面層におけるポリアリーレートの使
用によって得られる接着性の増大を実証するため、さら
なる試料を調製した。これらの実施例では、電荷発生層
が、ポリスチレン−コ−４−ビニルピリジンの結合剤樹
脂層中にヒドロキシガリウムフタロシアニン４０重量％
を含むように調製した。Amoco Performance Products
社から市販されているAdrel D-100の層を使用して、電
荷発生層を遮断層に被着し、これを実施例１２と指定し
た。比較のため、49,000の接着界面層を使用して、実施
例１２の電荷発生層に類似した電荷発生層を同様な遮断
層に被着した第二の試料（実施例１３）を調製した。試
料を逆方向剥離試験および９０°直角剥離試験に付し
て、両試料の剥離接着特性を評価した。結果を以下、表
４に提示する。

【００６６】

【表４】表４に示すように、ポリアリーレート、たとえばArdel
を界面層に使用することにより、49,000を使用する場合
に比較して接着性が７倍改善される。そのうえ、接着性
の改善は、ゼログラフィー特性を犠牲にはしない。すな
わち、ゼログラフィー特性は、接着材料の変更によって
わずかしか影響を受けない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例の感光体の拡大断面図である。

【図２】本実施例の感光体を他の感光体構造および光
発生層配合物と比較するレーダプロットを示す図であ
る。

【図３】本実施例の感光体を他の感光体構造および光
発生層配合物と比較するレーダプロットを示す図であ
る。

【図４】本実施例の感光体を他の感光体構造および光
発生層配合物と比較するレーダプロットを示す図であ
る。

【図５】本実施例の感光体を他の感光体構造および光
発生層配合物と比較するレーダプロットを示す図であ
る。

【図６】本実施例の感光体を他の感光体構造および光
発生層配合物と比較するレーダプロットを示す図であ
る。

【符号の説明】

２基板、３アンチカールコーティング、４接地
面、５遮断層、６界面層、７光発生層、８輸送
層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者キャサリーンエムカーマイケルアメリカ合衆国ニューヨーク州ウィリアムソンピースロード 5689 (72)発明者ドナルドピーサリバンアメリカ合衆国ニューヨーク州ロチェスターチャドウィックドライブ 20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持基板と、少なくとも１種のポリスチレン／ポリビニルピリジンコ
ポリマー結合剤中に分散した少なくとも１種のフタロシ
アニン光発生顔料を含む光発生層と、を含むことを特徴
とする光導電性像形成部材。