JPH10204137A - 高透光性硬化性組成物およびそれを用いた積層体ならびにタッチパネル - Google Patents

高透光性硬化性組成物およびそれを用いた積層体ならびにタッチパネル

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JPH10204137A
JPH10204137A JP1140397A JP1140397A JPH10204137A JP H10204137 A JPH10204137 A JP H10204137A JP 1140397 A JP1140397 A JP 1140397A JP 1140397 A JP1140397 A JP 1140397A JP H10204137 A JPH10204137 A JP H10204137A
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JP
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substrate
curable composition
group
highly translucent
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Application number
JP1140397A
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English (en)
Inventor
Toru Nakatsuka
徹 中塚
Takaharu Hida
敬治 肥田
Masamichi Furukawa
正道 古川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Paint Co Ltd
Original Assignee
Nippon Paint Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラスチックの表面に塗布することによりプ
ラスチックに優れた透光性と表面硬度を付与することの
できる高透光性硬化性組成物、およびこれを表面に塗布
硬化したプラスチックを電極基板として用いた透光性の
優れたタッチパネルを提供する。 【解決手段】(A)少なくとも1個の重合性官能基を含
むセグメントと、(B)屈折率が1.45以下の特性を
持つセグメントを含んでなる化合物を含む高透光性硬化
性組成物であり、セグメントAとセグメントBを含んで
なる化合物がA1−B−A2またはA3−Bの構造を有
し、セグメントBはフッ素置換アルキレン基またはジメ
チルシロキサン鎖である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高透光性の硬化性樹
脂組成物およびこの高透光性硬化性組成物の重合硬化膜
を表面に有する透明積層板を電極用基板として用いたタ
ッチパネルに関する。
【0002】
【従来の技術】LCDやCRTなどのディスプレイ上に
配置し、スイッチ機能を有する入力装置としてタッチパ
ネルがある。このようなタッチパネルはITOなどの透
明な電極が形成された可動電極基板と、ITOなどの透
明な電極が形成された固定電極基板とがスペーサーなど
によりわずかな間隔を隔てて対向して積層されて構成さ
れている。このようなタッチパネルの電極の基板として
一般にプラスチックやガラスが使用され、特に可動電極
の基板には透明プラスチックが好んで用いられて来た。
しかしタッチパネルのように、中間空気層を設けて形成
された積層体の場合、その透光性は十分満足できるもの
ではなかった。また特にプラスチック基板を用いた場
合、その表面硬度が低いため傷が付きやすく、その結
果、美観や透光性を低下するという問題が生じている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、プラ
スチックの表面に塗布することによりプラスチックに優
れた透光性と表面硬度を付与することのできる高透光性
硬化性組成物を提供することであり、更に上記高透光性
硬化性組成物を表面に塗布硬化したプラスチック基板を
電極の基板として用いた透光性の優れたタッチパネルを
提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも1
個の重合性官能基を含むセグメントAと屈折率が1.4
5以下の特性を持つセグメントBとを有する化合物
(C)を含む高透光性硬化性組成物に関する。詳しく
は、本発明は、セグメントAとセグメントBを含んでな
る化合物(C)が
【化2】 〔ただし、A1、A2、A3およびA4は同じであっても異
なっていてもよいセグメントAの1種を表す〕または
A′−B〔A′は少なくとも2個の重合性官能基を含む
セグメントAの1種を表す〕の形で結合した構造を有す
る上記の高透光性硬化性組成物である。本発明はまた、
上記重合性官能基が少なくとも1個の(メタ)アクリロ
イル基、少なくとも1個のエポキシ基または少なくとも
1個のビニルエーテル基を含み、セグメントBがフッ素
置換アルキレン基またはジメチルシロキサン鎖である上
記化合物(C)を含む高透光性硬化性組成物に関する。
【0005】更に、本発明は、基板の片面または両面上
に上記の高透光性硬化性組成物の重合硬化膜を有する積
層板に関する。なおまた、本発明は、可動電極用基板、
固定電極用基板またはその両方に上記の積層板を用いる
透明タッチパネルに関する。
【0006】更に本発明は、可動電極用基板のひとつの
面に透明電極を設けた可動電極基板と、固定電極用基板
のひとつの面に透明電極を設けた固定電極基板とを、所
定間隔が形成されるようにスペーサーを介して透明電極
面が対向するように配置された上記透明タッチパネルに
関する。
【0007】
【発明の実施の態様】本発明の高透光性硬化性組成物
は、少なくとも1個の重合性官能基を含むセグメントA
と屈折率が1.45以下の特性を持つセグメントBとを
有する化合物を含む組成物である。この組成物は重合硬
化後の透光性および硬度が高いので、これを重合硬化す
ることにより得られた膜をプラスチックの表面に設ける
ことにより、プラスチックの表面硬度を著しく改善し、
透光性を向上することができる。
【0008】少なくとも1個の重合性官能基を含むセグ
メントAはセグメントBと
【化3】 〔ただし、A1、A2、A3およびA4は同じであっても異
なっていてもよいセグメントAの1種を表す〕の形で化
学結合している。セグメントAに含まれる重合性官能基
の数は少なくとも1個であるが、好ましくは2〜6個で
ある。またセグメントAはセグメントBとA′−B
〔A′は少なくとも2個の重合性官能基を含むセグメン
トAの1種を表す〕の形で結合して化合物(C)を形成
してもよい。この場合はセグメントA、すなわちセグメ
ントA′中に含まれる重合性官能基の数は2個以上であ
る。セグメントAに含まれる重合性官能基としては、
(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル
基、イソシアネート基、その他が挙げられる。
【0009】このようなセグメントAは例えば多価アル
コールと(メタ)アクリル酸のエステルを含むセグメン
トである。
【0010】多価アルコールとしては、分岐を有してい
てもよいアルキレングリコール類、ポリアルキレングリ
コール類のような二価のアルコール類、例えばエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコ
ール、ブチレングリコール、ジブチレングリコール、ネ
オペンチルグリコール、ジネオペンチルグリコール等、
3価以上の多価アルコール類、例えばグリセリン、ジグ
リセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール、トリメチロールプロパン、ソルビトール等、およ
び3価以上の多価アルコールのアルキレンオキシド類を
用いることができる。好ましい多価アルコールはグリセ
リン、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパ
ン、ジグリセリン、ジペンタエリスリトール、ソルビト
ールである。
【0011】(メタ)アクリル酸としては、アクリル
酸、メチルアクリル酸、エチルアクリル酸を用いること
ができる。好ましくはアクリル酸である。
【0012】セグメントAとしては、上記多価アルコー
ルと(メタ)アクリル酸を反応させて得られたエステル
のいずれも使用することができる。セグメントA中には
(メタ)アクリロイル基が少なくとも1個含まれておれ
ばよく、また遊離の水酸基が残存していてもよい。好ま
しいセグメントAは、(メタ)アクリル酸とグリセリン
またはトリメチロールプロパンとのジエステル、ペンタ
エリスリトールとのジエステルおよびトリエステルであ
る。特に好ましくは(メタ)アクリル酸とペンタエリス
ルトールとのジエステルである。
【0013】少なくとも1個含まれる重合性官能基がエ
ポキシ基である場合、エポキシ基を含むセグメントA
は、グリシジル基、メチルグリシジル基、脂環式エポキ
シ基としてのエポキシシクロヘキシル基、エポキシシク
ロブチル基のようなモノエポキシ含有基でもよいし、こ
れらのモノエポキシ含有基を複数個有するセグメントで
あってもよい。少なくとも1個のエポキシ基を含むセグ
メントAとして特に好ましいものは次の構造を有するセ
グメントである:
【0014】
【化4】
【0015】少なくとも1個含まれる重合性官能基がビ
ニルエーテル基である場合、ビニルエーテル基を含むセ
グメントAは、アルキルモノビニルエーテル基、アルキ
ルジビニルエーテル基、アルキルトリビニルエーテル
基、ヒドロキシアルキルビニルエーテル基、ヒドロキシ
アルキルジビニルエーテル基、ヒドロキシアルキルトリ
ビニルエーテル基である。
【0016】セグメントBは屈折率が1.45以下の特
性をもつセグメントである。このようなセグメントとし
て好適なものはフッ素置換アルキレン鎖およびジメチル
シロキサン鎖である。フッ素置換アルキレン鎖は、分岐
を有していてもよく、炭素数が2〜20、好ましくは4
〜12のものを使用することができる。フッ素置換アル
キレン鎖中のフッ素含有量はアルキレン鎖の水素原子の
うち50%以上、好ましくは80以上がフッ素原子で置
換されているものである。特に好ましいセグメントBと
してのフッ素置換アルキレン鎖の構造は次のものであ
る:
【0017】
【化5】
【0018】ジメチルシロキサン鎖は、一般式
【化6】 で表され、nの好ましい範囲は2〜30、特に好ましい
ものはn=4〜12である。
【0019】セグメントAとセグメントBを含んでなる
化合物(C)(以降、「高透光性硬化性化合物」と呼
ぶ)は、セグメントAとセグメントBが
【化7】 またはA′−Bの形で結合した構造を有する。ここでA
1、A2、A3およびA4とA′はいずれもセグメントAを
表し、A1、A2、A3およびA4は同じであっても異なっ
ていてもよい。しかし、そのひとつが例えば(メタ)ク
リロイル基含有セグメントである時は他のものも(メ
タ)クリロイル基含有セグメントであり、例えばそのひ
とつがエポキシ基含有セグメントである場合は他のもの
もエポキシ基含有セグメントである。A′は少なくとも
2個の重合性官能基を含むセグメントAを表す。高透光
性硬化性化合物は上記のいずれの構造をとるにしても、
分子中に少なくとも2個の重合性官能基を含むものであ
る。
【0020】セグメントAとセグメントBとは、エステ
ル結合、エーテル結合、アミド結合、ウレア結合、ウレ
タン結合、その他共有結合であればどのような構造によ
って結合していてもよい。また縮合反応等により、上記
のような結合構造を残さず直接カップリングした形であ
ってもよい。
【0021】セグメントAとセグメントBを上記のよう
な形で結合されるために、セグメントBを有する化合物
と反応してセグメントAを導入することのできるセグメ
ントA含有化合物には反応性基として水酸基、酸クロラ
イド基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基または
イソシアネート基が導入されている。またセグメントA
を有する上記化合物と反応してセグメントBを導入する
ことができるセグメントB含有化合物には反応性基とし
て1個または2個の水酸基、酸クロライド基、カルボキ
シル基、エポキシ基、アミノ基またはイソシアネート基
が導入されている。セグメントAを導入することのでき
る化合物の好ましい反応性末端は水酸基であり、セグメ
ントBを導入することのできる化合物の好ましい反応性
末端は酸クロライド基である。
【0022】セグメントAがエポキシ基含有セグメント
の場合は、エピクロルヒドリンのように末端が塩素のも
のが好ましい。この場合、対応するセグメントB導入化
合物の反応性末端は水酸基またはメチロール基が用いら
れる。
【0023】セグメントAを導入する化合物とセグメン
トBを導入する化合物を結合するために、両者を直接結
合する代わりに、分子量の低い第3の化合物、例えばエ
チレングリコール、ホルムアルデヒドまたはジイソシア
ネートを介在させて行うこともできる。
【0024】本発明の高透光性硬化性化合物(C)の具
体例として、例えば次のものを例示することができる。
【化8】
【0025】
【化9】
【0026】
【化10】
【0027】
【化11】
【0028】
【化12】
【0029】
【化13】
【0030】
【化14】
【0031】
【化15】
【0032】本発明の高透光性硬化性組成物は、上記の
高透光性硬化性化合物(C)を主成分とするもので、こ
れを重合硬化することによって高透光性硬化性組成物を
得ることができる。高透光性硬化性組成物は、高透光性
硬化性化合物(C)単独で構成されていてもよいが、高
透光性硬化性化合物(C)以外の重合性単量体を併用し
た構成のものでも良い。
【0033】高透光性硬化性化合物(C)以外の単量体
としては、例えば以下のようなアクリレート類およびエ
ポキシ化合物類を例示することができる。アクリレート
としては、新中村化学(株)製アクリルモノマーADP
−6(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとペ
ンタアクリレートの混合物)、日本化薬(株)製アクリ
ルモノマーDPCA60(ジペンタエリスリトール/カ
プロラクトン付加物のヘキサアクリレート)、三菱レー
ヨン(株)製アクリルモノマーUK−4101〔3-
(3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロパノイルオキシ)
-2,2-ジメチルプロパノールのジアクリレート〕、H
X−220、HX−620〔3-(3-ヒドロキシ-2,2
-ジメチルプロパノイルオキシ)-2,2-ジメチルプロパ
ノール/カプロラクトン付加物のジアクリレート〕、R
−604〔2-(2-アクロイル-1,1-ジメチルエチ
ル)-5-アクロイルメチル-5-エチル-1,3-ジオキサ
ン〕、R−684(4,7-メタノペルヒドロインデンジ
メタノールジアクリレート)、R−526〔1,4-ビス
-(3-アクリロイルオキシ-2,2-ジメチルプロピルオ
キシカルボニル)ブタン〕、HBA−240P〔2,2-
ビス-(4-アクリロイルオキシプロピルオキシプロピル
オキシシクロヘキシル)プロパン〕、M−230(ジエ
チレングリコール/β-プロピオラクトン付加物のジア
クリレート)、M−330(トリメチロールプロパン/
β-プロピオラクトン付加物のトリアクリレート)、T
O−747(ペンタエリスリトール/β-プロピオラク
トン付加物のテトラアクリレート)、TO−755(ジ
ペンタエリスリトール/β-プロピオラクトン付加物の
ヘキサアクリレート)、THEIC−TA2〔トリ-
(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート〕
【0034】またエポキシ化合物類としては、ジグリセ
ロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトール
ポリグリシジルエーテル、1,4−ビス(2,3−エポキ
シプロポキシパーフルオロイソプロピル)シクロヘキサ
ン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンポリグリシジルエーテル、レゾルシンジグ
リシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、フェニルグリシジルエーテル、パラターシャリ
ーブチルフェニルグリシジルエーテル、アジピン酸ジグ
リシジルエステル、オルソフタル酸ジグリシジルエステ
ル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロモネ
オペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,2,
7,8−ジエポキシオクタン、1,6−ジメチロールパー
フルオロヘキサンジグリシジルエーテル、4,4'−ビス
(2,3−エポキシプロポキシパーフルオロイソプロピ
ル)ジフェニルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、3,4−エポキシシクロヘキシルオキシラ
ン、1,2,5,6−ジエポキシ−4,7−メタノペルヒド
ロインデン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
−3',4'−エポキシ−1,3−ジオキサン−5−スピロ
シクロヘキサン、1,2−エチレンジオキシ−ビス(3,
4−エポキシシクロヘキシルメタン)、4',5'−エポ
キシ−2'−メチルシクロヘキシルメチル−4,5−エポ
キシ−2−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エ
チレングリコール−ビス(3,4−エポキシシクロヘキ
サンカルボキシレート)、ビス−(3,4−エポキシシ
クロヘキシルメチル)アジペート、ジ−2,3−エポキ
シシクロペンチルエーテル、ビニル−2−クロロエチル
エーテル、ビニル−n−ブチルエーテル、トリエチレン
グリコールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサン
ジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールエタン
トリビニルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、及び
【0035】
【化16】
【0036】で表される化合物が挙げられる。
【0037】また、次のような構造のセグメントAを含
む化合物
【化17】 等もこのような単量体として使用することはできる。高
透光性硬化性化合物(C)以外の単量体は、高透光性硬
化性組成物中、80重量%以下、好ましくは50重量%
以下の量で併用することができる。
【0038】高透光性硬化性組成物中に用いる化合物
(C)は2種以上を混合して用いることもできる。
【0039】また高透光性硬化性組成物中には重合硬化
触媒が含まれる。重合硬化触媒としてはラジカル重合を
開始する光重合型の触媒またはカチオン重合を開始する
光重合型の触媒あるいは熱重合型の触媒のいずれを選ぶ
こともできる。セグメントAが(メタ)アクリロイル基
の場合、ラジカル重合を開始する光重合開始剤を用い、
セグメントAがエポキシ基およびビニルエーテルの場
合、カチオン重合を開始する光重合開始剤あるいは熱硬
化触媒を用いる。(メタ)アクリロイル基を持つ化合物
とエポキシ基を持つ化合物を混合して用いる場合は、そ
れぞれに対応する開始剤または硬化触媒を併用すればよ
い。
【0040】ラジカル重合開始剤は、次に挙げるものが
好ましい。2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノ
ン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、2-ヒドロ
キシ-2-メチルプロピオフェノン、ベンジル、ベンゾフ
ェノン、2-〔4-(メチルチオ)フェニル〕2-モルフ
ォリノ-1-プロパノン、2-メチルアントラキノン、2,
4-ジエチルチオキサントン、メチルフェニルグリオキ
シレート、アシルホスフィンオキサイド。
【0041】カチオン重合型の触媒としては次のものを
用いることができる。例えば「UV硬化;科学と技術
(UV CURING:SCIENCE AND TE
CHNOLOGY)」(pp.23〜76、S.ピーター・
パーパス(S.PETER PAPPAS)編集、ア・
テクノロジー・マーケッティング・パブリケーション
(ATECHNOLOGY MARKETING PU
BLICATION)及び「コメンツ・インオーグ.ケ
ム.(Comments Inorg.Chem.)」(B.クリンゲル
ト、M.リーディーカー及びA.ロロフ(B.KLIN
GERT、M.RIEDIKER and A.ROLO
FF)、第7巻、No.3、pp109−138(198
8)などに記載されているものが挙げられ、これらの1
種以上を使用してよい。
【0042】本発明で用いられる特に好ましい光カチオ
ン重合開始剤系としては、ジアリールヨードニウム塩
類、トリアリールスルホニウム塩類あるいは鉄アレン錯
体類等を挙げることができる。
【0043】光カチオン重合開始剤系としてのジアリー
ルヨードニウム塩類で好ましいものとしては、ヨードニ
ウムのテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフ
ェート、ヘキサフルオロアルセネートおよびヘキサフル
オロアンチモネート、トリフルオロメタンスルホン酸
塩、9,10−ジメトキシアントラセンスルホン酸塩な
どが挙げられる。トリアリールスルホニウム塩類で好ま
しいものとしては、トリフェニルスルホニウム、4−タ
ーシャリーブチルトリフェニルスルホニウム、トリス
(4−メチルフェニル)スルホニウム、トリス(4−メト
キシフェニル)スルホニウム、4−チオフェニルトリフ
ェニルスルホニウムなどのスルホニウムのテトラフルオ
ロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフル
オロアルセネートおよびヘキサフルオロアンチモネー
ト、トリフルオロスルホン酸塩、9,10−ジメトキシ
アントラセン−2−スルホン酸塩などが挙げられる。
【0044】また、ゼネラル・エレクトリック社のUV
E-1014およびユニオン・カーバイド社のCyra
cureUVI-6974のようなトリアリールスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート;ゼネラル・エレ
クトリック社のUVE-1016およびユニオン・カー
バイド社のCyracureUVI-6990および3
Mカンパニー社のFC-512のようなトリアリールス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート;および3Mカ
ンパニー社のFC-509のようなジアリールヨードニ
ウム塩がある。
【0045】光重合型触媒の添加量はモノマー全量に対
して0.1〜20重量%、好ましくは0.3〜10重量%
である。
【0046】熱重合型の触媒としては次のものを用いる
ことができる。例えば、アルミニウム錯体と有機シラノ
ール化合物から成り立つ以下のようなものを挙げること
ができる。アルミニウム錯体としてトリス(アセチルア
セトナト)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセタ
ト)アルミニウムおよびトリス(サリチルアルデヒダ
ト)アルミニウム、組み合わせるシラノール化合物とし
てジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシ
シラン、ジフェニルジイソプロポキシシラン等が挙げら
れる。
【0047】熱重合型触媒の添加量はモノマー全量に対
して0.1〜20重量%、好ましくは0.3〜10重量%
である。
【0048】上記の高透光性硬化性組成物をプラスチッ
クの基板上に塗布して硬化することにより、表面硬度の
高い優れた透光性を有するプラスチック積層板を形成す
ることができる。プラスチック基板上への高透光性硬化
性組成物の塗布は2〜100μm程度の均一な厚みで塗
布できる方法であればどのような方法でもよい。そのよ
うな塗布方法としては例えばディッピング法、ロールコ
ーター法、バーコーター法等が利用できる。
【0049】塗布するに当たっては各塗布方法に応じて
最適な粘度を選べばよく、適切な粘度に調整するために
酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン等の
溶媒を使用して希釈することができる。高透光性硬化性
組成物が重合硬化した膜厚は可動電極基板の表面側では
1〜10μm、特に3〜5μm、透明電極側では1〜1
0μm、特に2〜5μmが好ましい。表面膜厚は硬化成
膜時の収縮などによる変形防止およびペン摺接でのフィ
ルム変形による表面傷つき防止の兼合いより適切な膜厚
が決定され、1μmより薄いと、耐摺擦強度が出ずまた
膜厚むらによる干渉縞が出やすく、10μmより厚いと
フィルムにカールが発生しやすくまた割れが出やすい。
透明電極側膜厚は1μmより薄いと膜厚むらによる干渉
縞が出やすく、10μmより厚いとやはりフィルムにカ
ールが発生しやすい。固定電極基板では透明電極と接す
る接する側は3〜30μm、特に5〜20μm、裏面は
1〜10μm、特に2〜5μmが好ましい。電極側膜厚
は硬化成膜時の収縮などによる変形の危険性は少なく、
また固定電極のペン圧による変形を防ぐためには多少厚
めの方が好ましい。3μmより薄いと基材の変形防止の
効果が少なく、寿命が短くなり、30μmより厚いと割
れが出やすい。裏面は薄くてもかまわないが、1μmよ
り薄いと膜厚むらによる干渉縞が出やすく10μmより
厚いとコストが高くなる。
【0050】高透光性硬化性組成物を重合硬化する条件
は、熱を用いる方法および光を用いる方法のどちらの方
法を採るかによって異なる。熱を用いて重合を行う場合
は、上で列挙した熱重合の触媒を配合した組成物を使用
する。高透光性硬化性組成物を塗布したプラスチック基
板を150℃まで、好ましくは120℃まで加熱するこ
とにより、組成物は重合硬化してプラスチック基板に硬
質で高透光性を有する被膜を形成して積層板が得られ
る。
【0051】光を用いて重合を行う場合は、上で列挙し
た光重合の開始剤を配合した組成物を使用する。高透光
性硬化性組成物を塗布したプラスチック基板を紫外線照
射装置により重合硬化を行う。組成物は硬質で高透光性
を有する被膜を形成して積層板が得られる。
【0052】プラスチック基板の両面に高透光性樹脂層
を形成する場合は、片面ずつ塗布して重合硬化してもよ
いし、または片面ずつもしくは両面同時に塗布した後、
両面を一緒に重合硬化してもよい。
【0053】本発明の透明タッチパネルは、可撓性透明
プラスチックを基板(1)とし、その片面または両面に
前述の高透光性硬化性組成物の重合硬化膜(2)、
(3)を形成し、その一つの面に透明電極(4)(例え
ばITO膜、SnO2膜、アルミ等の金属薄膜を網目状
に形成したもの、ITO等の導電性微粒子をバインダー
に分散塗布したものなど)を設けた可動電極基板(1
1)と、非可撓性透明プラスチックを基板(5)とし、
その片面または両面に前述の高透光性硬化性組成物の重
合硬化膜(6)、(7)を形成し、その一つの面に透明
電極(8)を設けた固定電極基板(9)とを電極を対向
させてスペーサー(13)を介して積層することが代表
的な構成として挙げられる。この構成例を図1に示す。
図1では硬化膜を可動電極用および固定電極用基板の両
方の両面に有しており、この態様が特に好ましい。
【0054】上記のプラスチック基板は、可動電極側に
は厚さ50〜500μm、好ましくは100〜300μ
mの例えばPET、PMMA、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリ
レート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポ
リエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、セルロース
アセテート等を用いることができ、固定電極側には厚さ
0.1〜3mm、好ましくは0.5〜2mmの例えばPE
T、ポリカーボネート、PMMA、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン等を用いる
ことができる。
【0055】こうして作成された本発明の透明タッチパ
ネルは、従来の透明タッチパネルに比較して、透光性が
高いためディスプレイの視認性に優れ、しかも表面硬度
が高いため傷が付きにくく長期の使用後も優れた外観を
保持できるという特徴がある。
【0056】
【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に、
且つ詳細に説明する。 〔高透光性硬化性化合物の製造〕製造例 1:モノマーAの製造
【化18】
【0057】パーフロオロスベリン酸ジクロライドの調
製:撹拌機、温度制御装置、還流冷却器および滴下ロー
トを備えたフラスコに、ダイキン工業(株)製「C−7
602」(パーフルオロスベリン酸)390.08g
(1モル)、ベンゼン832.79gを仕込み、撹拌下
に滴下ロートから塩化チオニル356.91g(3モ
ル)を30分かけて滴下した。滴下終了後、内温が75
℃になるまで加熱し6時間加熱還流した。IRスペクト
ルでカルボン酸の吸収(1700cm-1)が消失したこ
とにより、反応終了を確認した。放冷後、ベンゼンおよ
び過剰の塩化チオニルを減圧留去し、得られた濃縮液を
減圧蒸留し、パーフルオロスベリン酸ジクロライドを沸
点43℃/7mmHgの無色透明液体として得た。
【0058】IRスペクトル上にパーフルオロスベリン
酸ジクロライドを特徴付けるCOCl基の存在を示す1
800cm-1の吸収が観測された。 モノマーAの製造:撹拌機、温度制御装置、還流冷却器
および滴下ロートを備えたフラスコに、新中村化学
(株)製「アクリルモノマーA-TMM-3L」(ペンタ
エリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトー
ルテトラアクリレートの混合物)561.49g(1.0
2モル)、ピリジン79.31g(1.1モル)、ベンゼ
ン437.25gを仕込み、窒素気流中撹拌下に室温で
滴下ロートから上記で得たパーフルオロスベリン酸ジク
ロライド213.49g(0.5モル)を30分かけて滴
下した。滴下終了後、室温で3時間撹拌を続け、薄層ク
ロマトグラフィーにてペンタエリスリトールトリアクリ
レートのスポットが消失したことおよびIRスペクトル
にてOH吸収ピーク(3500cm-1)の消失を確認
し、目的とするモノマーAを得た。IRスペクトル上に
モノマーAを特徴付けるCO(カルボニル基)の存在を
示す1780cm-1の吸収が観測された。
【0059】製造例 2:モノマーBの製造
【化19】
【0060】撹拌機、温度制御装置、還流冷却器および
滴下ロートを備えたフラスコに、新中村化学(株)製
「アクリルモノマーA-TMM-3L」561.49g
(1.02モル)、ピリジン79.31g(1.1モ
ル)、ベンゼン435.35gを仕込み、窒素気流中撹
拌下に室温で滴下ロートから東京化成(株)製アジポイ
ルクロライド試薬特級91.52g(0.5モル)を30
分かけて滴下した。滴下終了後、室温で4時間撹拌を続
け、薄層クロマトグラフィーにてペンタエリスリトール
トリアクリレートのスポットが消失したことおよびIR
スペクトルにてOH吸収ピーク(3500cm-1)の消
失を確認し、目的とするモノマーBを得た。
【0061】製造例 3:モノマーCの製造
【化20】
【0062】撹拌機、温度制御装置、還流冷却器および
滴下ロートを備えたフラスコに、新中村化学(株)製
「アクリルモノマーA-TMM-3L」561.49g
(1.02モル)、ピリジン79.31g(1.1モ
ル)、ベンゼン538.02gを仕込み、窒素気流中撹
拌下に室温で滴下ロートからダイキン(株)製「C−5
608」(7H-ドデカフルオロヘプタノイルクロライ
ド)364.51g(1.0モル)を30分かけて滴下し
た。滴下終了後、室温で4時間撹拌を続け、薄層クロマ
トグラフィーにてペンタエリスリトールトリアクリレー
トのスポットが消失したことおよびIRスペクトルにて
OH吸収ピーク(3500cm-1)の消失を確認し、目
的とするモノマーCを得た。
【0063】製造例 4:モノマーDの製造
【化21】
【0064】冷却管、乾燥空気導入管、温度計および撹
拌装置をセットした100ml容3口フラスコに水素化
ナトリウム2.2g(55〜65% in oil)を秤
量し、適当量のn-ヘキサンを注入して数回撹拌するこ
とにより水素化ナトリウムのオイル分を除去した。その
後、51.5gのトルエンを上記フラスコに入れて撹拌
し水素化ナトリウムが均一に分散した状態で27.4g
のA−TMM−3Lをおよそ10分間かけて滴下した。
滴下後、室温で2〜3時間撹拌することによりA−TM
M−3Lのナトリウム塩を合成した。ナトリウム塩の生
成は、薄層クロマトグラフィーによるA−TMM−3L
のスポットの消失、およびH-NMRを用いた塩中の二
重結合(5.85〜6.3ppm)ピークの存在により確
認した。
【0065】生成したナトリウム塩のトルエン分散液
に、信越化学工業(株)製「LS-8610」(1,7-
ジクロロオクタメチルテトラシロキサン)の8.8gを
およそ40分かけて滴下した。その後、室温で4〜5時
間撹拌することにより目的物であるモノマーDを得た。
モノマーDの生成は、H-NMRにより、二重結合(5.
85〜6.3ppm)およびCH3-Si(0.11pp
m)の存在、CH2O-Si(2.3ppm)の生成、お
よびCl-Si(0.45ppm)の消失により確認でき
た。収率は57%。
【0066】〔高透光性硬化性組成物の調製〕実施例 1〜4 上記製造例1、3および4で得た本発明の高透光性硬化
性化合物であるモノマーA、CおよびDを用い、これに
必要に応じて他の硬化性化合物である「NKエステルA
D−TMPL」(新中村化学(株)製;ジトリメチロー
ルプロパンテトラアクリレート)および製造例2で得た
モノマーBを配合し、更に光重合開始剤「イルガキュア
−651」(チバガイギー社製;ベンジルジメチルケタ
ール)を加え、酢酸ブチルに溶解して、表1に示す配合
処方の高透光性硬化性組成物1〜4を調製した。
【0067】
【表1】
【0068】実施例 5、6、7 下記のモノマーE(ダイキン社製)およびモノマーF
(ダイキン社製)
【化22】
【0069】および「セロキサイド2021」(ダイセ
ル(株)製;脂環式エポキシ)を用い、これに光重合開
始剤「サンエイド SI-100L」(三新化学工業
(株)製)を配合して、表2に示す配合組成の高透光性
硬化性組成物5〜7を調製した。
【0070】
【表2】
【0071】実施例 8、9、10 モノマーEおよびFを用い、これに熱重合開始剤として
アセチルアセトンアルミニウムおよび「MKCシリケー
トMS51」(三菱化学社製)を配合して、表3に示す
配合組成の高透光性硬化性組成物8〜10を調製した。
【0072】
【表3】
【0073】〔積層板の製造〕実施例 11〜18 上記高透光性硬化性組成物1〜4を透明プラスチック基
板PET(ダイアホイルテキスト(株)製;「ダイアホ
イル O300E」;厚さ188μm)およびポリカー
ボネート(三菱レーヨン(株)製「ダイアライト100
1」;厚さ1.0mm)それぞれの表面に、硬化後の膜
厚が3〜5μmとなるように、バーコーター#009に
て塗布した。次いで、80℃で5分間セッティングし、
これを80W/cm高圧水銀灯(集光型、オゾン発生型
ランプ)の下8cmのところを、3m/minの速度で
通過させて、紫外線による重合硬化を行った。こうして
得られた積層板の、全光線透過率、表面硬度の尺度であ
る△H(ヘイズ差)および密着性を測定し、その結果を
表4(PET基板)および表5(ポリカーボネート基
板)に示した。
【0074】
【表4】
【0075】
【表5】
【0076】実施例 19〜24 高透光性硬化性組成物5〜7を透明プラスチック基板P
ET(ダイアホイルテキスト(株)製;「ダイアホイル
O300E」;厚さ188μm)およびポリカーボネ
ート(三菱レーヨン(株)製「ダイアライト100
1」;厚さ1.0mm)それぞれの表面に、硬化後の膜
厚が3〜5μmとなるように、バーコーター#009に
て塗布した。次いで、80℃で5分間セッティングし、
これを80W/cm高圧水銀灯(集光型、オゾン発生型
ランプ)の下8cmのところを、3m/minの速度で
通過させて、紫外線による重合硬化を行った。こうして
得られた積層板の、全光線透過率、表面硬度の尺度であ
る△H(ヘイズ差)および密着性を測定し、その結果を
表6(PET基板)および表7(ポリカーボネート基
板)に示した。比較として、PET単独、ポリカーボネ
ート(PC)単独のデータも記載した。
【0077】
【表6】
【0078】
【表7】
【0079】実施例 25〜30 高透光性硬化性組成物8〜10を透明プラスチック基板
PET(ダイアホイルテキスト(株)製;「ダイアホイ
ル O300E」;厚さ188μm)およびポリカーボ
ネート(三菱レーヨン(株)製「ダイアライト100
1」;厚さ1.0mm)それぞれの表面に、硬化後の膜
厚が3〜5μmとなるように、バーコーター#009に
て塗布した。次いで、熱オーブン中で100℃で1時間
熱硬化を行った。こうして得られた積層板の、全光線透
過率、表面硬度の尺度である△H(ヘイズ差)および密
着性を測定し、その結果を表8(PET基板)および表
9(ポリカーボネート基板)に示した。
【0080】
【表8】
【0081】
【表9】
【0082】〔タッチパネルの製造〕実施例 31〜33 可動電極基板として、上記実施例11〜14で得た上面
に光硬化膜が形成されたPET積層板の下面にITOを
スパッタリングして用いた。また固定電極基板として実
施例15〜18で得た表面に光硬化膜が形成されたポリ
カーボネート積層板の上の面にITOをスパッタリング
して用いた。固定電極基板の上面の入力部とならない周
縁部にアクリル系透明接着剤を塗布して接着層を形成し
たのち、絶縁性のスペーサーを挟んで両電極のITO電
極面が対向するように両電極を積層し貼り合わせた。こ
うして得た透明タッチパネルを、全光線透過率および摺
動試験後の電気特性について評価した。結果を表10に
示した。
【0083】
【表10】
【0084】実施例 34〜36 可動電極基板として、上記実施例19〜21で得た上面
に光硬化膜が形成された積層板の下面にITOをスパッ
タリングして用いた。また固定電極基板として実施例2
2〜24で得た積層板の光硬化膜が形成された面の上に
ITOをスパッタリングして用いた。固定電極基板の上
面の入力部とならない周縁部にアクリル系透明接着剤を
塗布して接着層を形成したのち、絶縁性のスペーサーを
挟んで両電極のITO電極面が対向するように両電極を
積層し貼り合わせた。こうして得た透明タッチパネル
を、全光線透過率および摺動試験後の電気特性について
評価した。結果を表11に示した。
【0085】
【表11】
【0086】
【発明の効果】本発明の高透光性硬化性組成物を重合硬
化して得られる重合硬化膜は光の透過率に優れ、表面が
傷つき難いため、透明タッチパネル、特にアナログ抵抗
膜式タッチパネル用透明タッチパネルとして有用であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明透明タッチパネルの模式的断面図
【符号の説明】
1:基板 2:重合硬化膜 3:重合硬化膜 4:透明電極 5:基板 6:重合硬化膜 7:重合硬化膜 8:透明電極 9:固定電極基板 10:可動電極用基板 11:可動電極基板 12:固定電極用基板 13:スペーサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G06F 3/033 360 G06F 3/033 360H

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも1個の重合性官能基を含むセ
    グメントAと屈折率が1.45以下の特性を持つセグメ
    ントBとを有する化合物(C)を含む高透光性硬化性組
    成物。
  2. 【請求項2】 セグメントAとセグメントBを含んでな
    る化合物(C)が 【化1】 〔ただし、A1、A2、A3およびA4は同じであっても異
    なっていてもよいセグメントAの1種を表す〕または
    A′−B〔A′は少なくとも2個の重合性官能基を含む
    セグメントAの1種を表す〕の形で結合した構造を有す
    る請求項1記載の高透光性硬化性組成物。
  3. 【請求項3】 重合性官能基が少なくとも1個の(メ
    タ)アクリロイル基、少なくとも1個のエポキシ基また
    は少なくとも1個のビニルエーテル基である請求項1ま
    たは2記載の高透光性硬化性組成物。
  4. 【請求項4】 セグメントBがフッ素置換アルキレン基
    またはジメチルシロキサン鎖である請求項1、2または
    3のいずれかに記載の高透光性硬化性組成物。
  5. 【請求項5】 基板の片面または両面上に請求項1、
    2、3または4のいずれかに記載の高透光性硬化性組成
    物の重合硬化膜を有する積層板。
  6. 【請求項6】 可動電極用基板、固定電極用基板または
    その両方に請求項5記載の積層板を用いる透明タッチパ
    ネル。
  7. 【請求項7】 可動電極用基板のひとつの面に透明電極
    を設けた可動電極基板と、固定電極用基板のひとつの面
    に透明電極を設けた固定電極基板とを、所定間隔が形成
    されるようにスペーサーを介して透明電極面が対向する
    ように配置された請求項6記載の透明タッチパネル。
  8. 【請求項8】 基板がプラスチックスである請求項6ま
    たは7記載の透明タッチパネル。
  9. 【請求項9】 可動電極側の基板がポリエチレンテレフ
    タレート、固定電極側の基板がポリカーボネートである
    請求項6または7記載の透明タッチパネル。
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