JPH10203058A - プラスチックカードのようなプラスチック媒体への保護無機及びｄｌｃコーティング - Google Patents

プラスチックカードのようなプラスチック媒体への保護無機及びｄｌｃコーティング

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JPH10203058A
JPH10203058A JP34022797A JP34022797A JPH10203058A JP H10203058 A JPH10203058 A JP H10203058A JP 34022797 A JP34022797 A JP 34022797A JP 34022797 A JP34022797 A JP 34022797A JP H10203058 A JPH10203058 A JP H10203058A
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card
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ウォールター リー
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラスチックカードのようなプラスチック媒
体に対する室温又はそれに近い温度で金属有機プラズマ
増強化学蒸着法により塗布された保護薄膜無機又はダイ
アモンド類似カーボンコーティングを提供する。 【解決手段】 それはプラスチックカードのようなプラ
スチック媒体と、該プラスチック媒体上の硬く、透明又
は半透明で耐摩耗性の薄膜アモルファス無機又はＤＬＣ
コーティングとからなるプラスチック構造からなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は対象への保護コーテ
ィングに関し、より詳細にはプラスチックカードのよう
なプラスチック媒体に対する室温又はそれに近い温度で
金属有機プラズマ増強化学蒸着法により塗布された保護
薄膜無機又はダイアモンド類似カーボンコーティングに
関する。
【０００２】
【従来の技術】セキュリティーカードはこのハイテク化
した世の中で重要な情報要素になってきている。磁気署
名は磁気ストライプ又はカードの本体に埋め込まれた磁
性粒子のいずれかになされ、この場合にはカードは本体
を通して均一に分散された磁性粒子を有する固体のプラ
スチック体である。これらのカードはクレジットカー
ド、デビットカード、個人のＩＤカード、セキュリティ
パス、スマートカードを含む。光学的署名は典型的には
ＩＤ写真、会社のロゴ、エンブレムのような写真画像の
形でカードの表面に見いだされる。これらのカードは一
般にポリスチレン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ
アミド、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）、ポリカーボネー
ト、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレイト）、ポリオレ
フィン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレイト）のような
プラスチック樹脂材料から作られている。これらの樹脂
が可塑化された後でプラスチック材料は柔らかく、一般
的な機械的摩耗に対して傷つきやすく、化学的な侵襲に
対して傷つきやすい。一般的な機械的摩耗を最小にする
ためにこれらのプラスチックカードはエステル、ステア
リン酸塩、シリコン、ポリマー化したシリコン、パラフ
ィン、シロキサンのような付加的な潤滑剤を添加され
る。
【０００３】そのようなカードはプラスチック材料であ
り、いかなる添加された潤滑剤も有機ベースを有する傾
向にある故にそれらはなお一般的な機械的摩耗、毎日の
取り扱い、保管、カードリーダーで用いられると劣化及
び化学的な侵襲に対して傷つきやすい。これらの問題は
光学的又は保安的な情報の損失及び／又は歪みでプラス
チックカードの寿命を短くする。付加的に光学的な登録
が表面になされる故にそれらは保安上の不正な変更に曝
されることになる。
【０００４】薄く、硬く、耐久性のある、苛酷な環境を
浸透させない効果的な保護コーティングを用いることに
より実現可能な保護及び保安上の改善に対する要求が存
在する。そのような質のものでコーティングすることは
一般に薄膜であり、アルミナのような無機酸化物、シリ
コンカーバイド、チタニウムカーバイドのような無機カ
ーバイド、チッ化シリコン、チッ化チタンのような無機
チッ化物、又はダイヤモンド類似カーボン（ＤＬＣ）の
ようなダイアモンド類似物である。しかしながらこれら
のコーティングは一般的な標準の真空処理温度及び条件
下で薄膜として塗布されるときにそのようなコーティン
グのための処理温度又はそれ以下の融点を有するプラス
チックカードと全く両立しなくなる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記問
題を解決することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明はプラスチックカ
ードのようなプラスチック媒体に対する薄膜保護コーテ
ィングを提供する。保護コーティングは室温もしくはそ
れに近い温度（即ち＜＜１００゜Ｃ）で百から数千オン
グストロームの厚さの範囲の薄膜の形の無機酸化物、チ
ッ化物、カーバイド、ＤＬＣのような種々の耐摩耗保護
無機材料である。
【０００７】本発明は有機金属反応物の適切な選択での
み可能な２５から１００゜Ｃの範囲の低温で材料を処理
する金属有機（Ｍｅｔａｌｌｏ−Ｏｒｇａｎｉｃ）プラ
ズマ増強化学蒸着（ＭＯＰＥＣＶＤ）真空技術を用い
る。これらの反応物はジシリルヘキサン、ジメチルアル
ミニウム、アルキルトリメチルアルミニウム、トリメチ
ルチタンを含む。ＭＯＰＥＣＶＤ技術はプラズマに基づ
く処理であり、無線周波数（１３．５Ｍｈｚ）、マイク
ロ波（２．５４ＧＨｚ）又は光学的（ｈｖ＞５ｅｖ）プ
ラズマのいずれかに基づく。堆積された薄膜材料は高温
処理（例えば＞２５０゜Ｃ）を用いた鉄、セラミック、
ガラスのような高温耐久基体上に専ら堆積された高温度
高耐久性コーティングのアモルファス類似物である。こ
れらのアモルファス材料はチッ化シリコン、二酸化シリ
コン、酸化アルミニウムのような無機酸化物、シリコン
オキシニトリドのような無機オキシニトリド、シリコン
カーバイド、チタンカーバイドのような無機カーバイ
ド、シリコンオキシカーバイドのような無機オキシカー
バイド、ダイアモンド類似カーボン（ＤＬＣ）、シリコ
ン及び窒素をドープされたＤＬＣのようなドープされた
種々のＤＬＣを含む。
【０００８】本発明の特徴によれば、プラスチックカー
ドのようなプラスチック媒体と、該プラスチック媒体上
の硬く、透明又は半透明で耐摩耗性の薄膜アモルファス
無機又はＤＬＣコーティングとからなるプラスチック構
造が提供される。
【０００９】本発明の他の特徴によればチェンバー内に
保持された該プラスチック媒体を通過するよう該媒体に
無機又はＤＬＣコーティングを形成するための一以上の
成分を含む反応性ガスを流し；化学蒸着により該媒体に
アモルファス無機又はＤＬＣ薄膜保護コーティングが形
成されるよう室温又はそれに近い温度で該反応性ガスに
プラズマ形成エネルギーを印加する各段階からなる薄膜
保護コーティングが塗布されたプラスチック媒体が提供
される。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１を参照するに本発明を実施す
るシステムの概略図が示される。示されるように密閉さ
れたチェンバー１０は流入、流出ガス導管１２、１４を
有する。平行電極１８、２０を含む無線周波数エネルギ
ー源がチェンバー１０内に配置される。電極１８はグラ
ンドに電気的に接続され、電極２０は無線周波数エネル
ギー源２２に電気的に接続される。対象２４（例えばプ
ラスチックカードのような）は硬質の保護コーティング
でコートされるよう板２０上に配置される。
【００１１】反応ガスは流入導管１２から流出導管１４
へ矢印２６の方向に対象２４を通過するよう流される。
反応ガスはそれぞれガス源３４、３６、３８から流入導
管１２へ導管２８、３０、３２を介して供給される。質
量流量制御器（ＭＦＣ）４０、４２、４４はそれぞれ導
管３４、３６、３８を通してガスの流れを制御する。示
されるようにガス源３８は高蒸気圧の２，５ジシラヘキ
サン（Ｄｉｓｉｌａｈｅｘａｎｅ）（ＤＳＨ）のような
有機金属材料又はメタンのようなカーボンベースの有機
ガスを含む。
【００１２】ガス源３４、３６からの第二の反応ガスは
処理でのプラズマ化学を確立させるよう導入される。典
型的な第二の反応ガスは水素分子、窒素分子、酸素分子
である。システム圧力、前もって印加されるＲＦパワ
ー、電極間の離間のようなＲＦ処理条件はプラズマ内の
化学反応が最適になるよう調整される。酸化物、カーバ
イド、チッ化物ベースのシリコンの無機コーティングの
場合には最適な有機金属源のジシラヘキサンは：ａ）チ
ッ化シリコンのアモルファスフィルムに塗布するために
窒素分子、ｂ）シリコンオキシニトリドのアモルファス
フィルムに塗布するために酸素及び窒素分子、ｃ）酸化
シリコンのアモルファスフィルムに塗布するために酸素
分子、ｄ）シリコンカーバイドのアモルファスフィルム
に塗布するために水素又はアルゴン分子の存在下で用い
られる。典型的な処理条件は以下の通り：ＲＦパワー密
度は１．５ワット／ｃｍ2 と等しいかそれより大く、シ
ステム圧力は７５から１５００ｍＴｏｒｒであり、電極
ギャップの間隔は２．０ｃｍであり、流速はＤＳＨで３
ｓｃｃｍであり、メタンで５０ｓｃｃｍであり、水素で
１００から２００ｓｃｃｍであり、酸素で５０ｓｃｃｍ
であり、窒素で１００ｓｃｃｍであり、アルゴンで６０
から１００ｓｃｃｍである。これらの条件の下で典型的
には９５０から１０００Ａの材料が一分間に堆積され
た。
【００１３】アモルファスＤＬＣに対して、メタンは：
ａ）ＤＬＣのアモルファスフィルムに塗布するために水
素及び／又はアルゴンの分子、ｂ）ＤＬＣのシリコンド
ープされたフィルムに塗布するためにＤＳＨプラス水素
及び／又はアルゴンの分子、ｃ）窒素をドープされたＤ
ＬＣフィルムに塗布するために窒素分子の存在下で典型
的に用いられる。これらの条件下で典型的に毎分１００
から５００Ａが堆積される。
【００１４】図６はＤＬＣ及びドープされたＤＬＣ（左
の表）及びａ−ＳｉＯＸ：Ｈ，ａ−ＳｉＸ：Ｈ（Ｘ＝
Ｃ，Ｎ）（右の表）に対する本発明のコーティングを塗
布するための方法を実施する好ましいパラメータをテー
ブルの形で示す。チェンバー１０内でコートされるプラ
スチック媒体のような対象２４はいかなる対象でもよ
い。図４に示されるように対象２４は保護コーティング
５２を塗布される基板５０を含む。基板５０は金属のよ
うな高融点材料又はプラスチックのような低融点材料で
ありうる。何故ならば本発明の方法は室温又はそれに近
い温度（＜１００゜Ｃ）で実施されるからである。好ま
しい適応ではコートされる対象はセキュリティカード
（クレジットカード、デビットカード、個人ＩＤカー
ド、セキュリティパス、スマートカードのような）であ
る。図３に示されるようにセキュリティカード６０はプ
ラスチック体６２を通して均一に分散された磁性粒子６
４を有する固体のプラスチック体６２を含む。保護コー
ティング６４は本発明によりカード体６０に塗布され
る。カード６０は好ましくは情報がカードのどちらの面
又はどの端のいかなるところにも磁気的にエンコードさ
れる。カード６０は磁気ストリップ及び光学的特徴を有
するプラスチックカードでありうる。
【００１５】本発明のコーティングの保護的特性は測定
され、その高温類似物の特性と比較された。これらのコ
ーティングは堅牢で、耐久性があり、可視光に対して半
透明な透過性を有し、柔軟で、プラスチック基体に対し
て非常によい付着性を示し、苛酷な化学的な侵襲に対し
て耐久性を有する。コートされたカードの表面と処理さ
れていないカードの表面はイソプロピルアルコール及び
アセトンのような溶媒に曝された。コートされたカード
は溶媒に曝されても不浸透性であり、一方で処理されな
いカードは化学物質の侵襲を受けて、プリントされた画
像が歪んでしまった。コートされたカード及び新たな処
理されないカードは一連の磁気リーダーによる掃引に曝
された。ひどい引っかき傷が処理されないカード上にみ
られたが他方で処理されたカードはなおそのような摩耗
を免れた。
【００１６】図５は標準（従来の）ＲＦＰＥＣＶＤ法と
本発明に適用するために用いられた方法との間の差を示
す。図２を参照するに本発明を実施する他のシステムが
示される。図２のシステムはコートされるべき対象を除
き図１のシステムと実質的に同じである。図２でチェン
バー１０’は材料の連続的なウェッブ２４”が本発明に
よりコートされるようカーテン壁７０、７２を設けられ
る。示されるようにウェッブ２４”はロール７４からロ
ール７６へチェンバー１０’を通り搬送される。
【００１７】以下は本発明による典型的な材料処理例で
ある。
【００１８】
【実施例】
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】
【表３】
【００２２】
【表４】
【００２３】本発明はその特定の実施例を特に参照して
詳細に記載されてきたが、変更及び改善は本発明の精神
及び範囲内で有効である。
【００２４】
【発明の効果】本発明は就中以下の利点を有する。 １． 引っかき傷や劣化のような機械的摩耗からの改善
された保護。 ２． 光学的特徴及び光学的署名に対する改善された保
護。 ３． 媒体は大規模なバッチモードに適用可能な簡単で
便利な製造工程を用いてコーティングでき、それにより
コストが減少する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を実施するシステムの概略図である。
【図２】本発明を実施する他のシステムの概略図であ
る。
【図３】本発明の製品を示す概略図である。
【図４】本発明の製品を示す概略図である。
【図５】従来の方法と比較した本発明を実施するのに用
いられた方法の有用性を示す表である。
【図６】本発明を実施するパラメータを示す表である。
【符号の説明】
１０、１０’ チェンバー １２、１４ ガス導管 １８、２０ 平行電極 ２２ 無線周波数エネルギー源 ２４、２４’ 対象 ２４” 連続ウェッブ ２８、３０、３２ 導管 ３４、３６、３８ ガス源 ４０、４２、４４ 質量流量制御器 ５０ 基体 ５２ 保護コーティング ６０ セキュリティカード ６２ 固体プラスチック体 ６４ 磁性粒子 ７０、７２ カーテン壁 ７４、７６ ロール

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】プラスチックカードのようなプラスチック
    媒体と、 該プラスチック媒体上の硬く、透明又は半透明で耐摩耗
    性の薄膜アモルファス無機又はＤＬＣコーティングとか
    らなるプラスチック構造。
  2. 【請求項２】チェンバー内に支持された該プラスチック
    媒体に無機又はＤＬＣコーティングを形成するための一
    以上の成分を含む反応性ガスを該媒体に通過させて流
    し；化学蒸着により該媒体にアモルファス無機又はＤＬ
    Ｃ薄膜保護コーティングが形成されるよう室温又はそれ
    に近い温度で該反応性ガスにプラズマ形成エネルギーを
    印加する各段階からなる該コーティングが塗布される請
    求項１のプラスチック構造。
JP34022797A 1996-12-12 1997-12-10 プラスチックカードのようなプラスチック媒体への保護無機及びｄｌｃコーティング Pending JPH10203058A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/764,426 US5879775A (en) 1996-12-12 1996-12-12 Protective inorganic and DLC coatings for plastic media such as plastic cards
US764426 1996-12-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10203058A true JPH10203058A (ja) 1998-08-04

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34022797A Pending JPH10203058A (ja) 1996-12-12 1997-12-10 プラスチックカードのようなプラスチック媒体への保護無機及びｄｌｃコーティング

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EP (1) EP0848082A3 (ja)
JP (1) JPH10203058A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016135842A (ja) * 2014-11-03 2016-07-28 エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドＡｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ シリコン系膜及びその形成方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6312808B1 (en) 1999-05-03 2001-11-06 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating with DLC & FAS on substrate
US6475573B1 (en) 1999-05-03 2002-11-05 Guardian Industries Corp. Method of depositing DLC inclusive coating on substrate
US6335086B1 (en) 1999-05-03 2002-01-01 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC on substrate
US6368664B1 (en) 1999-05-03 2002-04-09 Guardian Industries Corp. Method of ion beam milling substrate prior to depositing diamond like carbon layer thereon
US6280834B1 (en) 1999-05-03 2001-08-28 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC and/or FAS on substrate
US6277480B1 (en) 1999-05-03 2001-08-21 Guardian Industries Corporation Coated article including a DLC inclusive layer(s) and a layer(s) deposited using siloxane gas, and corresponding method
US6261693B1 (en) 1999-05-03 2001-07-17 Guardian Industries Corporation Highly tetrahedral amorphous carbon coating on glass
US6338901B1 (en) 1999-05-03 2002-01-15 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC on substrate
US6461731B1 (en) 1999-05-03 2002-10-08 Guardian Industries Corp. Solar management coating system including protective DLC
US6447891B1 (en) 1999-05-03 2002-09-10 Guardian Industries Corp. Low-E coating system including protective DLC
DE19938945C1 (de) * 1999-08-17 2001-02-08 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Aufbringen einer Kohlenstoffschicht auf ein Substrat
US6969549B1 (en) * 1999-11-19 2005-11-29 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Techniques to prevent leakage of fluorescing signals through print media or indicia tape
DE10226386A1 (de) * 2002-06-13 2003-12-24 Datacard Corp Dokument
US6997014B2 (en) * 2002-11-04 2006-02-14 Azotic Coating Technology, Inc. Coatings for gemstones and other decorative objects
US7526928B1 (en) 2002-11-04 2009-05-05 Azotic Coating Technology, Inc. Multi-color gemstones and gemstone coating deposition technology
US7718044B2 (en) 2006-09-11 2010-05-18 Seagate Technology Llc Method for controlling shaft coating taper
EP2137338A2 (en) * 2007-03-28 2009-12-30 Dow Corning Corporation Roll-to-roll plasma enhanced chemical vapor deposition method of barrier layers comprising silicon and carbon
US8056363B1 (en) 2008-06-16 2011-11-15 Betterthandiamond, Inc. Method for producing a highly refractive composite gemstone, and product
ES2736731T3 (es) 2008-07-18 2020-01-07 Suneeta Neogi Método para producir recubrimientos de diamante nanocristalino sobre piedras preciosas
US8166883B1 (en) 2009-07-02 2012-05-01 B & B Metals, Inc. Slide rail for a high-rail vehicle
US8434675B2 (en) * 2010-04-02 2013-05-07 Visa International Service Association Crack embossing using diamond technology
US9898694B2 (en) 2012-05-30 2018-02-20 Black Card Llc Tri-layer transaction cards and associated methods
US9665814B2 (en) * 2012-05-30 2017-05-30 Black Card Llc Multi-layer metal-carbon transaction cards and associated methods
US9446662B2 (en) 2013-02-22 2016-09-20 B & B Metals, Inc. Auxiliary drive system

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5275850A (en) * 1988-04-20 1994-01-04 Hitachi, Ltd. Process for producing a magnetic disk having a metal containing hard carbon coating by plasma chemical vapor deposition under a negative self bias
FR2631346B1 (fr) * 1988-05-11 1994-05-20 Air Liquide Revetement protecteur multicouche pour substrat, procede de protection de substrat par depot par plasma d'un tel revetement, revetements obtenus et leurs applications
US5190807A (en) * 1990-10-18 1993-03-02 Diamonex, Incorporated Abrasion wear resistant polymeric substrate product
US5470661A (en) * 1993-01-07 1995-11-28 International Business Machines Corporation Diamond-like carbon films from a hydrocarbon helium plasma
CN1081537C (zh) * 1993-09-28 2002-03-27 美国3M公司 保密卡及其制造方法
US5643343A (en) * 1993-11-23 1997-07-01 Selifanov; Oleg Vladimirovich Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof
US5554415A (en) * 1994-01-18 1996-09-10 Qqc, Inc. Substrate coating techniques, including fabricating materials on a surface of a substrate
US5620754A (en) * 1994-01-21 1997-04-15 Qqc, Inc. Method of treating and coating substrates
US5508368A (en) * 1994-03-03 1996-04-16 Diamonex, Incorporated Ion beam process for deposition of highly abrasion-resistant coatings
US5618619A (en) * 1994-03-03 1997-04-08 Monsanto Company Highly abrasion-resistant, flexible coatings for soft substrates
US5551959A (en) * 1994-08-24 1996-09-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article having a diamond-like coating layer and method for making same
TW285753B (ja) * 1995-01-04 1996-09-11 Air Prod & Chem

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016135842A (ja) * 2014-11-03 2016-07-28 エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドＡｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ シリコン系膜及びその形成方法
US9879340B2 (en) 2014-11-03 2018-01-30 Versum Materials Us, Llc Silicon-based films and methods of forming the same
US10422034B2 (en) 2014-11-03 2019-09-24 Versum Materials Us, Llc Silicon-based films and methods of forming the same

Also Published As

Publication number Publication date
EP0848082A3 (en) 2001-03-07
EP0848082A2 (en) 1998-06-17
US5879775A (en) 1999-03-09

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