JPH10199923A - パワー半導体モジュール - Google Patents
パワー半導体モジュールInfo
- Publication number
- JPH10199923A JPH10199923A JP9003590A JP359097A JPH10199923A JP H10199923 A JPH10199923 A JP H10199923A JP 9003590 A JP9003590 A JP 9003590A JP 359097 A JP359097 A JP 359097A JP H10199923 A JPH10199923 A JP H10199923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wire
- pad
- electrode
- semiconductor module
- power semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05556—Shape in side view
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05556—Shape in side view
- H01L2224/05557—Shape in side view comprising protrusions or indentations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05617—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/05624—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/45124—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4807—Shape of bonding interfaces, e.g. interlocking features
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48455—Details of wedge bonds
- H01L2224/48456—Shape
- H01L2224/48458—Shape of the interface with the bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
- H01L2224/48472—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/485—Material
- H01L2224/48505—Material at the bonding interface
- H01L2224/48699—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al)
- H01L2224/487—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/48717—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Aluminium (Al) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950 °C
- H01L2224/48724—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/852—Applying energy for connecting
- H01L2224/85201—Compression bonding
- H01L2224/85205—Ultrasonic bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/922—Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
- H01L2224/9222—Sequential connecting processes
- H01L2224/92242—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92247—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01014—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
- H01L2924/13055—Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ワイヤとチップとの熱膨張率の相違に基づく熱
応力により、ワイヤが短時間で剥離することを改善す
る。 【解決手段】パッド6にリング状の溝を設け、ワイヤ7
の端部のパッド6との接触角を大きくし、応力拡大係数
を小さくし、発生する熱応力を低減しクラックの進展速
度を低減する。
応力により、ワイヤが短時間で剥離することを改善す
る。 【解決手段】パッド6にリング状の溝を設け、ワイヤ7
の端部のパッド6との接触角を大きくし、応力拡大係数
を小さくし、発生する熱応力を低減しクラックの進展速
度を低減する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はパワー半導体モジュ
ールに関する。
ールに関する。
【0002】
【従来の技術】パワーモジュールは、各種モータの速度
制御に使用されているインバータ並びに電力変換機等に
幅広く適用されている。車両用インバータは、従来GT
O(Gate・Turn・Off)サイリスタが使用されてきたが、
最近、インバータ装置の小型化,高機能化の要求によ
り、大容量のIGBT(Insulated・Gate・Bipoler・Tr
ansisiter)を適用したインバータが開発された。
制御に使用されているインバータ並びに電力変換機等に
幅広く適用されている。車両用インバータは、従来GT
O(Gate・Turn・Off)サイリスタが使用されてきたが、
最近、インバータ装置の小型化,高機能化の要求によ
り、大容量のIGBT(Insulated・Gate・Bipoler・Tr
ansisiter)を適用したインバータが開発された。
【0003】図6は従来のIGBTモジュールの概略構
造を示す断面図である。図で、窒化アルミニウムからな
る絶縁基板1とNi/Cu層として設けられたコレクタ
電極2と、エミッタ電極3及びゲート電極4と、半導体
チップ5と、パッド6とアルミニウムからなるワイヤ7
とモリブデンからなる放熱板8から構成されている。半
導体チップ上の主成分がアルミニウムのパッドと、エミ
ッタならびにゲート電極(以下、外部電極と呼称する)
との電気的接続には、直径0.3mm 以上の太いアルミニ
ウムワイヤが用いられている。ワイヤの接続は、超音波
ワイヤボンディング法で行われている。超音波ワイヤボ
ンディングは、ワイヤにツールを介して大きな荷重と超
音波を印加することによって、ワイヤならびに被接合材
を変形させ、両者の酸化膜を除去し互いに清浄な新生面
を露出させる原理で接合するものである。
造を示す断面図である。図で、窒化アルミニウムからな
る絶縁基板1とNi/Cu層として設けられたコレクタ
電極2と、エミッタ電極3及びゲート電極4と、半導体
チップ5と、パッド6とアルミニウムからなるワイヤ7
とモリブデンからなる放熱板8から構成されている。半
導体チップ上の主成分がアルミニウムのパッドと、エミ
ッタならびにゲート電極(以下、外部電極と呼称する)
との電気的接続には、直径0.3mm 以上の太いアルミニ
ウムワイヤが用いられている。ワイヤの接続は、超音波
ワイヤボンディング法で行われている。超音波ワイヤボ
ンディングは、ワイヤにツールを介して大きな荷重と超
音波を印加することによって、ワイヤならびに被接合材
を変形させ、両者の酸化膜を除去し互いに清浄な新生面
を露出させる原理で接合するものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】パワーモジュールは、
車両の運行状況、すなわち加速,惰性,減速運転ならび
に停止の状態に応じた適切なモータの回転数を、半導体
チップに大小の電流を通電することによって制御するも
のである。通電によって半導体チップは著しく発熱し、
通電を停止すると急激に温度が下がる。半導体チップ上
にボンディングされたワイヤは、半導体チップに直接接
触しているため最も高温にさらされる。ワイヤとパッド
との接合界面では、チップ(シリコン)の熱膨張率が3.
5×10-6/℃に対し、アルミニウムワイヤのそれは2
4.3×10-6/℃ と極めて大きな差があるため、モジ
ュールの加熱・冷却時に高い熱応力が発生する。この熱
応力が繰り返し接合界面に働くため、ワイヤが熱疲労を
起こし、短時間でワイヤが剥離するという問題がある。
近年、パワーモジュールの大容量化が進み、一つのモジ
ュールに多数の半導体チップが搭載されているため、接
続されているワイヤが多い。したがって、熱疲労に対す
るワイヤ接合部の信頼性は、パワーモジュールの信頼性
に大きく係っており、接合部の長期信頼性の確保は重要
な課題である。本発明の目的は、半導体チップ上のパッ
ド上にボンディングされたワイヤの熱疲労による劣化の
進行を遅らせ、信頼性の高いパワーモジュールを提供す
ることにある。
車両の運行状況、すなわち加速,惰性,減速運転ならび
に停止の状態に応じた適切なモータの回転数を、半導体
チップに大小の電流を通電することによって制御するも
のである。通電によって半導体チップは著しく発熱し、
通電を停止すると急激に温度が下がる。半導体チップ上
にボンディングされたワイヤは、半導体チップに直接接
触しているため最も高温にさらされる。ワイヤとパッド
との接合界面では、チップ(シリコン)の熱膨張率が3.
5×10-6/℃に対し、アルミニウムワイヤのそれは2
4.3×10-6/℃ と極めて大きな差があるため、モジ
ュールの加熱・冷却時に高い熱応力が発生する。この熱
応力が繰り返し接合界面に働くため、ワイヤが熱疲労を
起こし、短時間でワイヤが剥離するという問題がある。
近年、パワーモジュールの大容量化が進み、一つのモジ
ュールに多数の半導体チップが搭載されているため、接
続されているワイヤが多い。したがって、熱疲労に対す
るワイヤ接合部の信頼性は、パワーモジュールの信頼性
に大きく係っており、接合部の長期信頼性の確保は重要
な課題である。本発明の目的は、半導体チップ上のパッ
ド上にボンディングされたワイヤの熱疲労による劣化の
進行を遅らせ、信頼性の高いパワーモジュールを提供す
ることにある。
【0005】ワイヤ接合部の熱疲労強度は、チップに通
電し所定の温度に上昇させた後に、通電を停止し約室温
まで冷却させる、この加熱・冷却のサイクルを繰り返し
行い、ワイヤを横から静かに押して剥離に要する力を測
定して評価できる。ワイヤ接合部の強度は、加熱・冷却
のサイクルを繰り返しうけると徐々に低下し、やがて外
部からのわずかな力でも剥離する。そこで、ワイヤの接
合強度が徐々に低下するメカニズムを調査した。
電し所定の温度に上昇させた後に、通電を停止し約室温
まで冷却させる、この加熱・冷却のサイクルを繰り返し
行い、ワイヤを横から静かに押して剥離に要する力を測
定して評価できる。ワイヤ接合部の強度は、加熱・冷却
のサイクルを繰り返しうけると徐々に低下し、やがて外
部からのわずかな力でも剥離する。そこで、ワイヤの接
合強度が徐々に低下するメカニズムを調査した。
【0006】図8は熱疲労試験を行う前と、室温から1
00℃までの温度差で一万サイクル試験した後のパッド
上のワイヤの断面の模式図を示したものである。熱疲労
試験を行う前のワイヤの断面(a)を観察すると、ワイ
ヤの両端にパッドに接合していない部分が認められる。
この部分を仮に未接着部と呼称する。一万サイクル後の
ワイヤの断面(b)では、ワイヤの未接着部先端から内
部までクラックが進行しているのが観察される。このク
ラックは、未接着部の先端が起点となっており、温度サ
イクル数の増加に伴い徐々に内部に進行することがわか
った。このため、ワイヤの接合面積が減少し、接合強度
が低下する。
00℃までの温度差で一万サイクル試験した後のパッド
上のワイヤの断面の模式図を示したものである。熱疲労
試験を行う前のワイヤの断面(a)を観察すると、ワイ
ヤの両端にパッドに接合していない部分が認められる。
この部分を仮に未接着部と呼称する。一万サイクル後の
ワイヤの断面(b)では、ワイヤの未接着部先端から内
部までクラックが進行しているのが観察される。このク
ラックは、未接着部の先端が起点となっており、温度サ
イクル数の増加に伴い徐々に内部に進行することがわか
った。このため、ワイヤの接合面積が減少し、接合強度
が低下する。
【0007】クラックは未接着部の先端にチップ(シリ
コン)とワイヤ(アルミニウム)の熱膨張率の差に基づ
く熱応力、すなわちワイヤを引き剥がす引張応力が作用
するために発生する。そこで、発生する引張応力σz が
どの程度かを計算によって求めた。計算のモデルは図8
に示したように、パッドの厚さ5μm,未接着部の長さ
aを70μm,ワイヤ中央部からワイヤの端部までの長
さbを300μmとし2次元応力,軸対称モデルとし、
温度差は100℃とした。
コン)とワイヤ(アルミニウム)の熱膨張率の差に基づ
く熱応力、すなわちワイヤを引き剥がす引張応力が作用
するために発生する。そこで、発生する引張応力σz が
どの程度かを計算によって求めた。計算のモデルは図8
に示したように、パッドの厚さ5μm,未接着部の長さ
aを70μm,ワイヤ中央部からワイヤの端部までの長
さbを300μmとし2次元応力,軸対称モデルとし、
温度差は100℃とした。
【0008】この結果、σz は50kg/mm2 と極めて高
い値であることがわかった。これは未接着部が一般に材
料力学でいわれている切欠きとなり、応力集中源の働き
をしたためであることを見出した。切欠き先端に作用す
る局所応力は、切欠きが長く、また鋭角なほど大きくな
る。すなわち、未接着部の先端に極めて高い引張応力が
働くことによってクラックが短時間で発生し、温度サイ
クル数の増加ともに内部に進行する。
い値であることがわかった。これは未接着部が一般に材
料力学でいわれている切欠きとなり、応力集中源の働き
をしたためであることを見出した。切欠き先端に作用す
る局所応力は、切欠きが長く、また鋭角なほど大きくな
る。すなわち、未接着部の先端に極めて高い引張応力が
働くことによってクラックが短時間で発生し、温度サイ
クル数の増加ともに内部に進行する。
【0009】本発明は、パッドに接合されたワイヤに発
生する引張応力を軽減し、クラックの進行速度を低減す
るためのワイヤとパッドとの接合構造にある。
生する引張応力を軽減し、クラックの進行速度を低減す
るためのワイヤとパッドとの接合構造にある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、連続あるいは
非連続のリング状の溝で少なくとも1個の閉じられた領
域を有するパッドに、ワイヤが超音波ボンディングされ
たパワー半導体モジュールを提供することにある。クラ
ックの発生ならびに進行を遅らせるには、未接着部にお
けるワイヤとパッドとの接触角を大きくし、応力集中を
軽減することである。すなわち、切欠きとならない接合
部にすることで、応力集中が起こらずクラック発生を遅
延できる。
非連続のリング状の溝で少なくとも1個の閉じられた領
域を有するパッドに、ワイヤが超音波ボンディングされ
たパワー半導体モジュールを提供することにある。クラ
ックの発生ならびに進行を遅らせるには、未接着部にお
けるワイヤとパッドとの接触角を大きくし、応力集中を
軽減することである。すなわち、切欠きとならない接合
部にすることで、応力集中が起こらずクラック発生を遅
延できる。
【0011】そこで、未接合部のワイヤとパッドとの接
触角を90°以上と大きくした場合、ワイヤ接合部の端
部に発生する引張応力が、前述した従来の接合部の場合
の引張応力に比べてどの程度であるのかを、前述と同様
の計算モデルで求めた。
触角を90°以上と大きくした場合、ワイヤ接合部の端
部に発生する引張応力が、前述した従来の接合部の場合
の引張応力に比べてどの程度であるのかを、前述と同様
の計算モデルで求めた。
【0012】接合部の構造は、図10に示すように溝が
設けられたパッドにワイヤがボンディングされ、接合部
の端部におけるワイヤとパッドとの接触角が溝のため約
90°と大きい場合のモデルで行った。ワイヤ中央部から
ワイヤの端部までの長さ及びパッドの厚さ等は、前述の
従来の場合と同じ寸法である。計算の結果、引張応力、
σz は15kg/mm2 と従来の場合の1/3以下に低減す
ることがわかった。
設けられたパッドにワイヤがボンディングされ、接合部
の端部におけるワイヤとパッドとの接触角が溝のため約
90°と大きい場合のモデルで行った。ワイヤ中央部から
ワイヤの端部までの長さ及びパッドの厚さ等は、前述の
従来の場合と同じ寸法である。計算の結果、引張応力、
σz は15kg/mm2 と従来の場合の1/3以下に低減す
ることがわかった。
【0013】本発明のパッド構造により、ワイヤを引き
剥がす応力が、従来の場合の1/3以下に低減できるこ
とを見出した。これは、ワイヤ端部とパッドとの接触角
の増大により、応力集中が起こらないためである。
剥がす応力が、従来の場合の1/3以下に低減できるこ
とを見出した。これは、ワイヤ端部とパッドとの接触角
の増大により、応力集中が起こらないためである。
【0014】図5は本発明のワイヤ接合部におけるパッ
ドの平面図及びパッドとワイヤとの接合部の断面図であ
る。図5(a)は、ほぼ楕円形の2本のリング状の溝を
設けたパッド構造である。図5(b)はワイヤ接合端部
とパッドとの接合部であり、両者の接触角が大きい接合
部である。溝は未接着部の形状と同一な形状に設けるこ
とが最も効果的であるので、未接着部の形状にほぼ合致
する楕円形のリング状が望ましい。ワイヤを接合する際
には未接着部が溝の上に合致するように行うのが理想で
ある。しかし、全ての未接着部が溝上に合致しなくて
も、クラックの進展を十分抑制する効果はある。また、
接合初期に未接着部と溝とがずれる場合があるので、こ
の場合は複数の溝を未接着部の内側に設けることが望ま
しい。この方法だと、進行したクラックは必ず溝に接す
ることになるからである。さらに溝を複数にすれば、接
合初期に未接着部と溝とが接する確率が高くなること
と、進行したクラックが溝に接する確率が高くなる効果
が得られる。
ドの平面図及びパッドとワイヤとの接合部の断面図であ
る。図5(a)は、ほぼ楕円形の2本のリング状の溝を
設けたパッド構造である。図5(b)はワイヤ接合端部
とパッドとの接合部であり、両者の接触角が大きい接合
部である。溝は未接着部の形状と同一な形状に設けるこ
とが最も効果的であるので、未接着部の形状にほぼ合致
する楕円形のリング状が望ましい。ワイヤを接合する際
には未接着部が溝の上に合致するように行うのが理想で
ある。しかし、全ての未接着部が溝上に合致しなくて
も、クラックの進展を十分抑制する効果はある。また、
接合初期に未接着部と溝とがずれる場合があるので、こ
の場合は複数の溝を未接着部の内側に設けることが望ま
しい。この方法だと、進行したクラックは必ず溝に接す
ることになるからである。さらに溝を複数にすれば、接
合初期に未接着部と溝とが接する確率が高くなること
と、進行したクラックが溝に接する確率が高くなる効果
が得られる。
【0015】一方、溝は図6(a)に示すように非連続
のほぼ楕円形のリング状でも、部分的にはワイヤ端部と
溝とが、図6(b)に示すような接触角の大きい接合に
なっているので、クラックの抑制効果が十分得られる。
さらに、溝は楕円形でなくても、矩形のリング状でも良
い。
のほぼ楕円形のリング状でも、部分的にはワイヤ端部と
溝とが、図6(b)に示すような接触角の大きい接合に
なっているので、クラックの抑制効果が十分得られる。
さらに、溝は楕円形でなくても、矩形のリング状でも良
い。
【0016】溝を設けたパッドを有する半導体装置は、
特許出願公開の半導体装置(平3−83352 号)に見られ
るが、本発明とは目的も装置を構成するワイヤ材質並び
に装置の用途などが異なる。公報では、金ワイヤをボー
ルにして1μm程度の厚さのパッドにボンディングする
際に、パッド下の絶縁膜に損傷を与えないことを目的と
して溝を設けている。すなわち、溝によってパッドの変
形を容易にし、絶縁層に損傷を与えず必要量のボールの
変形を促進させることにあり、接合後のボールの下部の
パッドは接合前の溝の形状は保持されず平坦になってい
る。この理由は、公報の場合、接合後でも溝の形状が保
持されていれば、パッドの変形が不十分であることを意
味しており、目的に反することになる。一方、本発明で
は公報とは溝を設ける目的が異なるため、ワイヤ接合後
でも溝が保持されている。また、公報における溝は、パ
ッドの変形を促進させるためパッド全体に格子状に設け
られている。一方、本発明はワイヤが細長い楕円形に変
形してパッド上に接合されるため、未接着部もワイヤ周
辺に沿って楕円形のリング状になっていることから、溝
はリング状に設けている。格子状に溝を設けてもクラッ
クの進展を抑制する効果はあるが、ワイヤとパッドとの
接合面積が減少するので、接合面積の減少を抑制できる
リング状が望ましい。
特許出願公開の半導体装置(平3−83352 号)に見られ
るが、本発明とは目的も装置を構成するワイヤ材質並び
に装置の用途などが異なる。公報では、金ワイヤをボー
ルにして1μm程度の厚さのパッドにボンディングする
際に、パッド下の絶縁膜に損傷を与えないことを目的と
して溝を設けている。すなわち、溝によってパッドの変
形を容易にし、絶縁層に損傷を与えず必要量のボールの
変形を促進させることにあり、接合後のボールの下部の
パッドは接合前の溝の形状は保持されず平坦になってい
る。この理由は、公報の場合、接合後でも溝の形状が保
持されていれば、パッドの変形が不十分であることを意
味しており、目的に反することになる。一方、本発明で
は公報とは溝を設ける目的が異なるため、ワイヤ接合後
でも溝が保持されている。また、公報における溝は、パ
ッドの変形を促進させるためパッド全体に格子状に設け
られている。一方、本発明はワイヤが細長い楕円形に変
形してパッド上に接合されるため、未接着部もワイヤ周
辺に沿って楕円形のリング状になっていることから、溝
はリング状に設けている。格子状に溝を設けてもクラッ
クの進展を抑制する効果はあるが、ワイヤとパッドとの
接合面積が減少するので、接合面積の減少を抑制できる
リング状が望ましい。
【0017】本発明の溝の上にワイヤの端部が接合され
ている場合における、熱疲労によるクラック進展速度を
計算によって求めた。クラック進展速度はワイヤ端部と
パッドとの接触角に大きく影響される。これは、接触角
によって応力拡大係数△Kが係ってくるためである。
ている場合における、熱疲労によるクラック進展速度を
計算によって求めた。クラック進展速度はワイヤ端部と
パッドとの接触角に大きく影響される。これは、接触角
によって応力拡大係数△Kが係ってくるためである。
【0018】図11は、アルミニウムのクラック進展速
度と応力拡大係数△Kとの関係を示したものである。ク
ラック進展速度は1サイクルにクラックが進む速度であ
る。図よりクラック進展速度は、応力拡大係数が大きい
ほど大きくなる。従来の場合のクラック進展速度は、実
測の結果4.2×10-5mm/ サイクルであるので、この
図から応力拡大係数△Kは24kg/mm3/2であることが
わかった。
度と応力拡大係数△Kとの関係を示したものである。ク
ラック進展速度は1サイクルにクラックが進む速度であ
る。図よりクラック進展速度は、応力拡大係数が大きい
ほど大きくなる。従来の場合のクラック進展速度は、実
測の結果4.2×10-5mm/ サイクルであるので、この
図から応力拡大係数△Kは24kg/mm3/2であることが
わかった。
【0019】一方、本発明の応力拡大係数(△K)は、
下記の引張応力(σz )と応力拡大係数(△K)の関係
式、△K=σz(πa)1/2F(a/b)から求められる。
この結果、△Kは6.8kg/mm3/2であることがわかっ
た。図8より、この値からクラック進展速度を求める
と、2×10-7mm/サイクルと従来の1/100の速度
に減少することがわかった。△Kが小さいのはワイヤ端
部とパッドとの接触角が大きいため、切欠きにならない
ためである。
下記の引張応力(σz )と応力拡大係数(△K)の関係
式、△K=σz(πa)1/2F(a/b)から求められる。
この結果、△Kは6.8kg/mm3/2であることがわかっ
た。図8より、この値からクラック進展速度を求める
と、2×10-7mm/サイクルと従来の1/100の速度
に減少することがわかった。△Kが小さいのはワイヤ端
部とパッドとの接触角が大きいため、切欠きにならない
ためである。
【0020】本発明では、ワイヤ接合直後にワイヤ端部
とパッドの溝が計算のモデルのように接触してなくとも
効果がある。すなわち、接合直後はワイヤ端部が平坦な
パッドの上にあっても、クラックが進行すれば必ず溝と
接触し、ここから先は、クラックの進行速度が減少する
ためである。溝の形状はワイヤ接合部と同様のほぼ楕円
形で連続のリング状が望ましいが、非連続でも効果があ
る。また、リング状の溝は、少なくともワイヤ接合部内
に1個あれば効果がある。
とパッドの溝が計算のモデルのように接触してなくとも
効果がある。すなわち、接合直後はワイヤ端部が平坦な
パッドの上にあっても、クラックが進行すれば必ず溝と
接触し、ここから先は、クラックの進行速度が減少する
ためである。溝の形状はワイヤ接合部と同様のほぼ楕円
形で連続のリング状が望ましいが、非連続でも効果があ
る。また、リング状の溝は、少なくともワイヤ接合部内
に1個あれば効果がある。
【0021】また、き裂の先端に発生する応力σmと先
端の曲率半径ρの関係は、σm∝1/√ρで表され、半
径が大きいほど応力が小さくなる。ワイヤとパッドとの
接触角をθとし、接触角に内接する円の半径をrとし
て、接触角θと曲率半径ρの関係は、ρ=rsinθ/2
の式で表せる。この式より接触角と応力との関係を示し
たのが図12である。接触角が180°では曲率半径1
で、その時の応力を1とすれば、90°で1.2,45
°で1.6,20°では2.4 と接触角が45°より小
さくなるほど応力が加速度的に高くなる。応力の度合い
を約1.5 以下にするには接触角は45°以上必要であ
る。
端の曲率半径ρの関係は、σm∝1/√ρで表され、半
径が大きいほど応力が小さくなる。ワイヤとパッドとの
接触角をθとし、接触角に内接する円の半径をrとし
て、接触角θと曲率半径ρの関係は、ρ=rsinθ/2
の式で表せる。この式より接触角と応力との関係を示し
たのが図12である。接触角が180°では曲率半径1
で、その時の応力を1とすれば、90°で1.2,45
°で1.6,20°では2.4 と接触角が45°より小
さくなるほど応力が加速度的に高くなる。応力の度合い
を約1.5 以下にするには接触角は45°以上必要であ
る。
【0022】
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例を示すパ
ワー半導体モジュールの断面及びこのモジュールのパッ
ドの平面図並びにパッドとワイヤとの接合部の断面図で
ある。図で、1は厚さ0.6mm の窒化アルミニウムの絶
縁基板、2,3及び4はNi/Cu層(厚さ5μm/
0.2mm)として形成されたコレクタ電極,エミッタ電
極,ゲート電極、5は半導体チップ、6は3本の連続の
楕円形のリング状の溝が設けられたAl−Si合金のパ
ッド、7はアルミニウムワイヤ、8は放熱板である。パ
ッドの厚さは6.5μm である。半導体チップ5上のパ
ッド6とエミッタ電極3とゲート電極4とは、直径0.
5mm のアルミニウムワイヤ7を用いた超音波ワイヤボ
ンディングによって接続されている。パッド上には、図
2(a)に示したように、深さ及び幅とも5μmの未接
着部の形状とほぼ同一の楕円形の3本のリング状の溝
を、ホトリソグラフィーとエッチングの方法で形成した
後、前述の方法でアルミニウムワイヤ7を接合した。図
2(b)に示したようにワイヤ接合端部とパッドとの接
触角が大きい接合構造である。ワイヤ接合初期にこの構
造が望ましいが、パッドの中心方向に複数の溝が設けら
れているため、熱疲労によって発生するクラックがワイ
ヤ内部に進展しても、確実にクラックは(b)図で示し
たように溝に接触する。パッドに溝が設けられているた
め、ワイヤ端部とパッドとの接合における接触角が大き
くなり、応力の集中が起こらないため、ワイヤ端部に働
く引張応力及び応力拡大係数が小さくなりクラックが発
生しにくくなることと、複数の溝によって進展するクラ
ックは確実に溝に接触し、そこで進展速度が低減する効
果がある。
ワー半導体モジュールの断面及びこのモジュールのパッ
ドの平面図並びにパッドとワイヤとの接合部の断面図で
ある。図で、1は厚さ0.6mm の窒化アルミニウムの絶
縁基板、2,3及び4はNi/Cu層(厚さ5μm/
0.2mm)として形成されたコレクタ電極,エミッタ電
極,ゲート電極、5は半導体チップ、6は3本の連続の
楕円形のリング状の溝が設けられたAl−Si合金のパ
ッド、7はアルミニウムワイヤ、8は放熱板である。パ
ッドの厚さは6.5μm である。半導体チップ5上のパ
ッド6とエミッタ電極3とゲート電極4とは、直径0.
5mm のアルミニウムワイヤ7を用いた超音波ワイヤボ
ンディングによって接続されている。パッド上には、図
2(a)に示したように、深さ及び幅とも5μmの未接
着部の形状とほぼ同一の楕円形の3本のリング状の溝
を、ホトリソグラフィーとエッチングの方法で形成した
後、前述の方法でアルミニウムワイヤ7を接合した。図
2(b)に示したようにワイヤ接合端部とパッドとの接
触角が大きい接合構造である。ワイヤ接合初期にこの構
造が望ましいが、パッドの中心方向に複数の溝が設けら
れているため、熱疲労によって発生するクラックがワイ
ヤ内部に進展しても、確実にクラックは(b)図で示し
たように溝に接触する。パッドに溝が設けられているた
め、ワイヤ端部とパッドとの接合における接触角が大き
くなり、応力の集中が起こらないため、ワイヤ端部に働
く引張応力及び応力拡大係数が小さくなりクラックが発
生しにくくなることと、複数の溝によって進展するクラ
ックは確実に溝に接触し、そこで進展速度が低減する効
果がある。
【0023】図3は本発明の一実施例を示すパワー半導
体モジュールのパッドの平面図並びにパッドとワイヤと
の接合部の断面図である。モジュールの構造は図1と同
様であるが、ワイヤとパッドとの接合で、図3(a)に
示すようにほぼ未接着部の形状と同一の楕円形の非連続
のリング状の溝が3本設けたパッド上に、ワイヤが接続
された構造である。パッドの厚さは6.5μm で、溝は
深さ及び幅とも5μmである。図3(b)に示すよう
に、ワイヤ接合端部とパッドとの接触角が大きい接合構
造であるため、応力の集中が起こらずワイヤ端部に働く
引張応力及び応力拡大係数が小さくなりクラックが発生
しにくくなることと、複数の溝を設けているため進展す
るクラックは確実に溝に接触し、そこで進展速度が低減
する効果がある。
体モジュールのパッドの平面図並びにパッドとワイヤと
の接合部の断面図である。モジュールの構造は図1と同
様であるが、ワイヤとパッドとの接合で、図3(a)に
示すようにほぼ未接着部の形状と同一の楕円形の非連続
のリング状の溝が3本設けたパッド上に、ワイヤが接続
された構造である。パッドの厚さは6.5μm で、溝は
深さ及び幅とも5μmである。図3(b)に示すよう
に、ワイヤ接合端部とパッドとの接触角が大きい接合構
造であるため、応力の集中が起こらずワイヤ端部に働く
引張応力及び応力拡大係数が小さくなりクラックが発生
しにくくなることと、複数の溝を設けているため進展す
るクラックは確実に溝に接触し、そこで進展速度が低減
する効果がある。
【0024】本実施例では楕円形のリング状の溝を設け
たが、矩形のリング状でもなんら問題はない。
たが、矩形のリング状でもなんら問題はない。
【0025】図4は図1と同様に本発明の楕円形のリン
グ状の溝を設けたパッドに直径0.5mmのアルミニウムワ
イヤを接合したパワー半導体モジュールを、パッド上に
おける温度差が70℃の条件で熱疲労試験を行い、ワイ
ヤ接合部が剥離するまでのサイクル数を、従来のパワー
半導体モジュールのワイヤ接合部の場合と比較したもの
である。本発明のパワー半導体モジュールのワイヤ接合
部は、従来の場合に比べ著しく長寿命であることが明ら
かである。
グ状の溝を設けたパッドに直径0.5mmのアルミニウムワ
イヤを接合したパワー半導体モジュールを、パッド上に
おける温度差が70℃の条件で熱疲労試験を行い、ワイ
ヤ接合部が剥離するまでのサイクル数を、従来のパワー
半導体モジュールのワイヤ接合部の場合と比較したもの
である。本発明のパワー半導体モジュールのワイヤ接合
部は、従来の場合に比べ著しく長寿命であることが明ら
かである。
【0026】
【発明の効果】本発明によれば、溝を設けたパッドにワ
イヤをボンディングするため、ワイヤ接合端部における
ワイヤとパッドとの接触角が大きくなり、応力の集中が
起こらないため、ワイヤ端部に働く引張応力及び応力拡
大係数が小さくなりクラックの進展を著しく抑制する効
果がある。したがって、パワー半導体モジュールの寿命
が伸び、高信頼のパワー半導体モジュールを提供でき
る。
イヤをボンディングするため、ワイヤ接合端部における
ワイヤとパッドとの接触角が大きくなり、応力の集中が
起こらないため、ワイヤ端部に働く引張応力及び応力拡
大係数が小さくなりクラックの進展を著しく抑制する効
果がある。したがって、パワー半導体モジュールの寿命
が伸び、高信頼のパワー半導体モジュールを提供でき
る。
【図1】本発明による実施例のパワー半導体モジュール
の断面図。
の断面図。
【図2】本発明による実施例のパワー半導体モジュール
の断面図。
の断面図。
【図3】本発明による実施例のパワー半導体モジュール
におけるパッド並びにワイヤの説明図。
におけるパッド並びにワイヤの説明図。
【図4】本発明による実施例のパワー半導体モジュール
におけるパッドとワイヤとの接合部の熱疲労試験結果を
従来の場合と比較して示した説明図。
におけるパッドとワイヤとの接合部の熱疲労試験結果を
従来の場合と比較して示した説明図。
【図5】本発明のワイヤ接合部におけるパッドの説明
図。
図。
【図6】本発明のワイヤ接合部におけるパッドの説明
図。
図。
【図7】従来のパワー半導体モジュールを示す断面図。
【図8】熱疲労試験前後のパッドとワイヤとの接合部の
断面図。
断面図。
【図9】従来のパッドとワイヤとの接合部に発生する引
張応力を計算で求めるための説明図。
張応力を計算で求めるための説明図。
【図10】未接着部のないワイヤ接合部に発生する引張
応力を計算で求めるための説明図。
応力を計算で求めるための説明図。
【図11】アルミニウムにおける応力拡大係数とクラッ
ク進展速度との関係を示す特性図。
ク進展速度との関係を示す特性図。
【図12】ワイヤとパッドとの接触角とワイヤ接合端部
に発生する引張応力との関係を示す特性図。
に発生する引張応力との関係を示す特性図。
1…絶縁基板、2…コレクタ電極、3…エミッタ電極、
4…ゲート電極、5…半導体チップ、6…パッド、7…
ワイヤ、8…放熱板。
4…ゲート電極、5…半導体チップ、6…パッド、7…
ワイヤ、8…放熱板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮田 寛 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内
Claims (5)
- 【請求項1】絶縁基板上にパターン状に電極を並設し、
一方の電極上にパッドを有する半導体チップを搭載し、
前記パッドと他方の電極とをワイヤで電気的に接続する
パワー半導体モジュールにおいて、前記半導体チップ上
のパッドに接続されたワイヤの下部のパッドに少なくと
も1個の連続あるいは非連続のリング状の溝で実質的に
閉じられた領域を有することを特徴とするパワー半導体
モジュール。 - 【請求項2】絶縁基板上にパターン状に電極を並設し、
一方の電極上にパッドを有する半導体チップを搭載し、
前記パッドと他方の電極とをワイヤで電気的に接続する
パワー半導体モジュールにおいて、ワイヤ接合部の端部
とパッドとの接触角が45°以上有することを特徴とす
るパワー半導体モジュール。 - 【請求項3】前記ワイヤがアルミニウムが主成分である
請求項1に記載のパワー半導体モジュール。 - 【請求項4】前記ワイヤの直径が0.1mm 以上である請
求項1に記載のパワー半導体モジュール。 - 【請求項5】前記半導体チップ上のパッドと他方の電極
とを超音波ボンディングによって、アルミニウムワイヤ
が接続された請求項1に記載のパワー半導体モジュー
ル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9003590A JPH10199923A (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | パワー半導体モジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9003590A JPH10199923A (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | パワー半導体モジュール |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10199923A true JPH10199923A (ja) | 1998-07-31 |
Family
ID=11561689
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9003590A Pending JPH10199923A (ja) | 1997-01-13 | 1997-01-13 | パワー半導体モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10199923A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7514790B2 (en) | 2005-06-02 | 2009-04-07 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and method of manufacturing a semiconductor device |
US8901569B2 (en) | 2010-02-19 | 2014-12-02 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Power semiconductor device |
WO2017145667A1 (ja) * | 2016-02-24 | 2017-08-31 | 三菱電機株式会社 | 半導体モジュールおよびその製造方法 |
CN109003909A (zh) * | 2017-06-07 | 2018-12-14 | 三菱电机株式会社 | 半导体装置的制造方法 |
US20210034129A1 (en) * | 2019-08-02 | 2021-02-04 | Schneider Electric Industries Sas | Detection of a failure of a power module based on operating conditions |
-
1997
- 1997-01-13 JP JP9003590A patent/JPH10199923A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7514790B2 (en) | 2005-06-02 | 2009-04-07 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and method of manufacturing a semiconductor device |
US8901569B2 (en) | 2010-02-19 | 2014-12-02 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Power semiconductor device |
WO2017145667A1 (ja) * | 2016-02-24 | 2017-08-31 | 三菱電機株式会社 | 半導体モジュールおよびその製造方法 |
JPWO2017145667A1 (ja) * | 2016-02-24 | 2018-03-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体モジュールおよびその製造方法 |
CN108701621A (zh) * | 2016-02-24 | 2018-10-23 | 三菱电机株式会社 | 半导体模块以及半导体模块的制造方法 |
US10643969B2 (en) | 2016-02-24 | 2020-05-05 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor module and method for manufacturing the same |
CN108701621B (zh) * | 2016-02-24 | 2021-07-09 | 三菱电机株式会社 | 半导体模块以及半导体模块的制造方法 |
CN109003909A (zh) * | 2017-06-07 | 2018-12-14 | 三菱电机株式会社 | 半导体装置的制造方法 |
CN109003909B (zh) * | 2017-06-07 | 2023-01-06 | 三菱电机株式会社 | 半导体装置的制造方法 |
US20210034129A1 (en) * | 2019-08-02 | 2021-02-04 | Schneider Electric Industries Sas | Detection of a failure of a power module based on operating conditions |
US12111709B2 (en) * | 2019-08-02 | 2024-10-08 | Schneider Electric Industries Sas | Detection of a failure of a power module based on operating conditions |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20170178998A1 (en) | Discrete Power Transistor Package Having Solderless DBC To Leadframe Attach | |
JP2008529303A (ja) | リボンボンディングツール及びリボンディング方法 | |
US7939376B2 (en) | Patterned die attach and packaging method using the same | |
KR20130014567A (ko) | 반도체 장치 | |
JPH081914B2 (ja) | 圧接型半導体装置 | |
EP2339622A1 (en) | Wirebonding Process | |
JP4221904B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH10199923A (ja) | パワー半導体モジュール | |
CN111326489A (zh) | 功率器件封装结构 | |
JP2003045920A (ja) | 電力用半導体装置及び電力用半導体装置の製造方法 | |
JP3097383B2 (ja) | パワー半導体装置 | |
JPH07311173A (ja) | ガス・湿度センサ | |
JP3601529B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH11135714A (ja) | 半導体装置 | |
JPH088288A (ja) | 半導体装置 | |
JPH06268027A (ja) | 半導体装置 | |
JPH07135234A (ja) | パワー半導体モジュール | |
JPH07302811A (ja) | 大電流通電用Alワイヤ及びこれを用いた半導体モジュール | |
JP3882648B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2012074463A (ja) | パワーデバイス | |
JPH02271561A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JP3265944B2 (ja) | パワー半導体モジュール | |
JPH0563038A (ja) | ワイヤボンデイング用電極 | |
JPS59172757A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0748507B2 (ja) | ワイヤボンデイング方法 |