JPH10199049A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エラレートの少ない信頼性の高い光記録媒体
の製造方法を提供する。 【解決手段】 記録層を設けた樹脂基板の記録層側を他
の基板と対向させて接着剤で貼合せて光記録媒体を製造
するにあたり、樹脂基板の記録層の設けられた側に保護
コート層を設け、基板の記録層の設けられた側とは反対
側にハードコート層を設け、保護コート層とハードコー
ト層の収縮率の相違により基板と保護コート層側に凹状
に反らせ、この反らせた状態で基板同志を接着すること
を特徴とする光記録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光記録媒体の製造方
法に係り、特に透明な樹脂基板上に記録層を形成してな
る光記録媒体基板の記録層側を他の基板と対向させて接
着剤を用いて貼合せて光記録媒体を製造する方法の改良
に関する。

【０００２】

【従来の技術】光学式ビデオディスク、光学式オーディ
オディスク、ＤＲＡＷディスク、追記型光ディスク、光
磁気ディスク、相変化光ディスク等の光記録媒体は、透
明な樹脂基板上に金属系記録層、色素系記録層等を設け
たものが基本であり、記録層の光ビームによる溶融、昇
華を利用した孔あけタイプ、結晶と非晶質の間の相転移
を利用したタイプ、磁気光学効果を利用した光磁気タイ
プなどが知られている。何れのタイプにおいても、通
常、基板表面や記録層へのゴミ付着、傷などを防止する
ために基板の記録層上及び記録層が設けられた側とは反
対側の基板上に保護層が設けられ、基板の記録層側を対
向させて接着剤で貼合せた構造とし、基板を通して記録
再生を行なっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このようにして得られ
た基板同士を対向して貼合せた構造の光記録媒体は高温
高湿の環境下において基板の縁部が外側に（基板同士が
離反する方向に）そりやすくなり、機械的特性が悪化す
ると同時に縁部から記録層が劣化し、エラレートが増加
して信頼性が低下していくという現象が生じる。本発明
は接着剤を用いて貼合せて光記録媒体を製造する際の上
記問題点を解決する光記録媒体の製造方法を提供するこ
とを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記問題点
を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、基板の記録層上
に設ける保護コート層と記録層が設けられた側とは反対
側の基板上に設けられたハードコート層とのそれぞれの
硬化後の収縮応力のバランスを調節し、かつ、そのバラ
ンスが高温高湿の環境下において保持されるように基板
を保護コート層側に凹状に反った状態で２枚の基板を保
護コート層を内側にして接着剤で貼り合わせることによ
り、上記問題点が解決できることを見出し、本発明を完
成した。

【０００５】本発明の要旨は、記録層を設けた樹脂基板
の記録層側を他の基板と対向させて接着剤で貼合せて光
記録媒体を製造するにあたり、樹脂基板の記録層の設け
られた側に保護コート層を設け、基板の記録層の設けら
れた側とは反対側にハードコート層を設け、保護コート
層とハードコート層の収縮率の相違により基板を保護コ
ート層側に凹状に反らせ、この反らせた状態で基板同士
を接着することを特徴とする光記録媒体の製造方法に存
する。

【０００６】以下、本発明につきさらに詳細に説明す
る。本発明において、記録層を形成する透明基板として
は、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の樹脂基板
が用いられる。また、記録層としては、保護コート層や
接着剤で密閉された状態で用いられる記録層であればど
のようなものでも良く、例えば相変化型（追記型、書き
換え可能型）、光磁気型（書き換え可能型）等がある。
また、色素系記録層を用いた追記型等でも良い。特に、
記録消去の繰り返しの耐久性を要求される書き換え可能
型のものが好適である。相変化型記録層としては、例え
ばＴｅＯｘ、Ｔｅ−Ｇｅ、Ｓｎ−Ｔｅ−Ｇｅ、Ｂｉ−Ｔ
ｅ−Ｇｅ、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ、Ｐｂ−Ｓｎ−Ｔｅ、Ｔｌ
−Ｉｎ−Ｓｅなどからなるものが挙げられ、光磁気型記
録層としては、例えばＴｂ−Ｆｅ、Ｔｂ−Ｃｏ、Ｔｂ−
Ｆｅ−Ｃｏ、Ｇｄ−Ｔｂ−Ｃｏ、Ｄｙ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃ
ｏ、Ｎｄ−Ｄｙ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ
−Ｃｕ−Ｂｉなどからなるものが挙げられる。記録層と
基板との間や記録層を挟んで両側に無機誘電体層や他の
中間層を設けることもあり、無機誘電体層としては、例
えばＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＧｅＯ₂、ＰｂＯ、ＴｉＯ
₂ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ などの酸化物、ＺｎＳ、ＰｂＳなどの硫
化物、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 、ＡｌＮなどの窒化物などの誘電体が
場合により選択して用いられる。

【０００７】本発明では上記した記録層及び無機誘電体
層等を含めて「記録層」と云う場合がある。これらの誘
電体層は、緻密で外部からの水分や酸素の浸入を防ぐこ
とができ、また、耐食性が高く後述の反射層との反応性
も小さい。更に、基板として樹脂基板を使用する場合、
基板を構成する樹脂との密着性にも優れている。基板と
記録層との間の誘電体層は干渉層として働き、この干渉
層の膜厚は、その屈折率により最適膜厚が異なるが、通
常４００〜１５００Å程度、特に５００〜１０００Å程
度とするのが適当である。記録層の干渉層と反対の面に
は、干渉層と同様の材質を持つ誘電体よりなる保護層、
即ち第２誘電体層を設けるのが望ましい。この誘電体層
の膜厚は通常の場合、１００〜１０００Å程度とする。

【０００８】反射層を設ける構造の媒体では、記録層に
接して、又は数百Åの誘電体層を介して高反射率の金属
（例えばＡｌ、Ｃｕ等）の単体又はその合金の層を反射
層として設ける。反射層の膜厚は１００〜１０００Å、
望ましくは３００〜８００Å程度である。なお、本発明
において、基板上に干渉層、記録層、誘電体層、反射層
等の各層を形成する方法としては、スパッタリング等の
物理蒸着法（ＰＶＤ）等が適用される。本発明では、干
渉層、記録層、誘電体層及び反射層等を含めて「記録
層」と云う場合がある。

【０００９】上記した基板の記録層側には保護コート
層、記録層の設けられていない基板表面上にはハードコ
ート層をそれぞれ設ける。保護コート層及びハードコー
ト層としては、エネルギー線（例えば、紫外線）硬化型
或るいは熱硬化型の硬化性樹脂からなる保護コート剤又
はハードコート剤が用いられる。エネルギー線（例え
ば、紫外線）硬化型樹脂としてはアクリレート又はメタ
アクリレート基を単一或るいは複数有する化合物よりな
るもの、例えばエポキシアクリレートやウレタンアクリ
レート等を主成分としたものが好適に用いられる。ま
た、熱硬化型樹脂としてはシリコン系、エポキシ系、チ
タン系等が用いられる。

【００１０】保護コート層あるいはハードコート層とし
て用いて好適な紫外線硬化型樹脂として紫外線硬化型ア
クリレート樹脂が挙げられる。紫外線硬化型アクリレー
ト樹脂は光重合性オリゴマー、光重合性モノマー及び光
重合開始剤からなる３成分を主成分としたもので、これ
に他の添加剤、例えば、レベリング剤、熱重合禁止剤等
を含有させる場合もある。光重合性オリゴマーとしては
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルの二重結
合、アクリロイル基、メタクリロイル基の官能基を含ん
だオリゴマーが使用され、ベースオリゴマーの主鎖構造
としてはポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系、ポ
リエーテル系、アクリル系、ポリチオール系、ポリイミ
ド系等が挙げられる。具体的にはポリエステルアクリレ
ート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、
ポリエーテルアクリレート、ポリアクリレート等の重合
性オリゴマーが好適に用いられる。

【００１１】また、光重合性モノマーとしては単官能性
モノマー、多官能性モノマーが用いられる。単官能性モ
ノマーとしてはＮ−ビニルピロリドンフェノキシエチル
アクリレート、イソデシルアクリレート、ｎ−ヘキシル
アクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアク
リレート、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチ
ルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリ
レート、グリシジルアクリレート、アリルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−メトキシ
エトキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、
シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリー
ルアクリレート、ジシクロペンタジエニルアクリレー
ト、等があげられる。また、多官能性モノマーとしては
１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキ
サンジオールアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
ジアクリレート、ビス（アクリロキシエトキシ）ビスフ
ェノールＡ、３−メチルペンタンジオールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアネート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート等が挙げられる。さらに光重合開始
剤としてはアセトフェノンやベンゾフェノン及びこれら
の誘導体、ベンゾイルエチルエーテル等のベンゾイルエ
ーテル類、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパ
ーオキサイド、メチルベンゾイルフォーメート、メチル
フェニルグリオキシレート、２−メチル−１−〔４−
（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−
１等が挙げられる。

【００１２】保護コート層あるいはハードコート層を形
成するには、光重合性オリゴマー、光重合性モノマー及
び光重合開始剤の３成分を主成分とする紫外線硬化型ア
クリレート樹脂組成物の塗布剤（コート剤）を記録層上
に又は記録層の設けられていない側の基板表面に直接又
は他の層を介して塗布した後、紫外線照射して重合反応
させて硬化樹脂層からなる保護層を形成させれば良い。
保護コート層あるいはハードコート層を形成する際硬化
型樹脂はスピンコート、ディッピング、スプレーコー
ト、ロールコート、フローコート、グラビア塗布等の公
知の方法で塗布すれば良い。該塗膜の塗布条件は塗膜組
成の混合物の粘度、基板の記録層表面の状態、塗膜厚さ
等を考慮して適宜決定すればよい。

【００１３】本発明においては、基板の記録層上の保護
コート層と、記録層が設けられた側とは反対側の基板上
のハードコート層との硬化後の収縮応力が保護コート層
の方が大きくなるようにそのバランスを調節し、かつ、
そのバランスが高温高湿の環境下で保持される状態で基
板を保護コート層側に凹状に反った状態とする。このよ
うな状態とした基板を記録層（保護コート層）側（凹状
に反った側）が内側となるように接着剤を介して貼り合
わせる。

【００１４】上記保護コート層とハードコート層との硬
化後の収縮応力の調節は硬化性樹脂の種類、膜厚及び硬
化条件等を選択してそのバランスを調節することによっ
て実施することができる。保護コート層とハードコート
層として同じ材料を用いても、その厚さ等を調節するこ
とにより、保護コート層側に凹に反らすことが可能であ
る。ここでの凹に反らすことは、凸に反ったものを平坦
にすることも含む。上記基板の貼合せ前の反り量として
は、保護コート層側に凹状にチルト：Ｔｉｌｔ（傾き
角）で０〜５ミリラジアン（ｍｒａｄ）、好ましくは
０．００１〜５ミリラジアン、更に好ましくは０．０１
〜３ミリラジアンの範囲内である。

【００１５】上記基板を保護コート層側に凸状に反った
状態（本願発明とは逆方向に反った状態）で、２枚の基
板を保護コート層側を内側にして接着剤を介して貼合せ
た場合には貼合せ後、ハードコート側の引張応力が強
く、基板の縁部が外側にめくれるように引張られて基板
同士がはがれようとする力が働き特に高温高湿の環境下
において基板が徐々に反りやすくなり、機械的特性が悪
化する。また、同時に縁部近くから記録層が劣化して信
頼性が低下する。上記保護コート層又はハードコート層
の硬化後の膜厚としては、通常５〜３００Å、望ましく
は１０〜２００Åの範囲である。

【００１６】本発明において使用される接着剤として
は、ゴム系、ポリエステル系、ＥＶＡ系、ポリオレフィ
ン系或いはウレタン系のホットメルト接着剤などが挙げ
られる。このようなホットメルト接着剤の塗布に用いる
塗布装置としては、各種のホットメルトコータやアプリ
ケータを採用することができるが、特にロールコータが
好ましく用いられる。ロールコータにより塗布する場
合、接着剤塗布層の厚さは１００〜１０００Åが好まし
く、特に１００〜６００Åが好ましい。接着剤塗布後、
媒体の貼合せに用いるプレス機としては、コールドプレ
ス機又はホットプレス機を用いることができるが、貼合
せに際してホットプレス機を使用すると加熱工程と貼合
せ工程とを同時に実施することができ、非常に有利であ
る。

【００１７】

【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて本発明を
更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として中央に直径１５ｍｍの孔を有する直径１
３０ｍｍ、板厚１．２ｍｍの案内溝付き円形平板状のポ
リカーボネート射出成形基板を用い、その上に以下の層
構成の記録膜（カッコ内は膜厚を示す。）を連続スパッ
タ装置で成膜して記録ディスクを製造した。 基板／ＳｉＮｘ（１０００Å）／ＴｂＦｅＣｏ（３００
Å）／ＳｉＮｘ（３００Å）／ＡｌＴｉ（５００Å） 上記で得られたディスク基板の記録層上に紫外線硬化型
樹脂（紫外線硬化型アクリル酸エステルＡ（無溶剤系）
をスピンコーターにより塗布し紫外線照射して保護コー
ト層（５０Å）を得た。次に紫外線硬化型樹脂ハードコ
ート剤〔紫外線硬化型アクリル酸エステルＣ（溶剤
系）〕をスピンコーターにより記録層が設けられていな
い基板上に前記保護コート層よりも収縮応力が少なくな
るように薄く塗布し紫外線照射してハードコート層（１
０Å）を得た。

【００１８】上記で得られた基板は記録層側に凹状に反
っていた（反り量は＋１ミリラジアンであった。）この
ディスク基板を２枚用意し、記録膜の保護コート層上
に、ロールコータ（松下工業（株）社製「ＤＴＷ−１３
０」）を用いてホットメルト接着剤（セメダイン社製；
商品名「セメダインＨＭ−４５８」）を５００Åの厚み
に塗布した。なお、塗布ローラ温度は１２０度とした。
このようにした２枚の記録ディスクの接着剤塗布面を内
側にして対向するように合わせ、プレス装置で加圧（１
１０ｋｇｆ）して貼合せ、光記録媒体を得た。

【００１９】（１）ＢＥＲ 得られた光磁気ディスクを８５℃、９５％ＲＨの条件で
５００時間の加速試験を行ない、該加速試験前後のエラ
レートを市販の光磁気ディスクドライブを使用してそれ
ぞれ測定し、そのエラレートの増加率を求めた。

【００２０】（２）傾き角（Ｔｉｌｔ） 上記（１）のＢＥＲと同様の加速試験を行ない、該加速
試験前後のＴｉｌｔの変化量を下記方法で測定した。 商品名：エルエム−１００（ＬＭ−１００） 会社名：小野測器 方法：一定のピッチでディスクの垂直方向の変位を測定
する時、あるポイントの垂直方向の変位から数ｍｍ外側
のポイントの垂直方向の変位を測定し、２点間の傾きを
測定（単位：ｍｒａｄ（ミリラジアン）

【００２１】（３）機械特性（面振れ加速度） 上記（１）のＢＥＲと同様の加速試験を行ない、該加速
試験前後の面振れ加速度の変化量を下記測定器で測定し
た。 商品名：エルエム−１００（ＬＭ−１００） 会社名：小野測器 各種物性の測定結果を表１に示す。

【００２２】実施例２ 実施例１において、保護コート層の膜厚を１００Åとし
てより大きな収縮応力を発揮するようにした以外は、実
施例１と同様にして光記録媒体を得た。各種物性の測定
結果を表１に示す。 比較例１ 実施例１において、保護コート層として実施例１で用い
た紫外線硬化型アクリル酸エステルＡよりも収縮応力の
弱い紫外線硬化樹脂（紫外線硬化型アクリル酸エステル
Ｃ（無溶剤系）を用いて、膜厚６５Åの保護コート層を
得た以外は実施例１と同様にして光記録媒体を得た。得
られたそれぞれの貼合せ後の記録ディスクについて、Ｂ
ＥＲ、傾き角、機械特性を測定した結果を表１に示す。

【００２３】

【表１】

【００２４】

【発明の効果】本発明の方法によりエラレートが低く信
頼性の高い光記録媒体を製造することができる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録層を設けた樹脂基板の記録層側を他
   の基板と対向させて接着剤で貼合せて光記録媒体を製造
   するにあたり、樹脂基板の記録層の設けられた側に保護
   コート層を設け、基板の記録層の設けられた側とは反対
   側にハードコート層を設け、保護コート層とハードコー
   ト層の収縮率の相違により基板を保護コート層側に凹状
   に反らせ、この反らせた状態で基板同士を接着すること
   を特徴とする光記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 保護コート層として、その硬化後の収縮
   応力が、ハードコート層の硬化後の収縮応力より大きい
   ものを用いることを特徴とする請求項１に記載の光記録
   媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 基板の貼合せ前の反り量（チルト）が０
   〜５ミリラジアンであることを特徴とする請求項１に記
   載の光記録媒体の製造方法。