JPH10197822A - 面倒れ補正光学系 - Google Patents
面倒れ補正光学系Info
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- JPH10197822A JPH10197822A JP9002737A JP273797A JPH10197822A JP H10197822 A JPH10197822 A JP H10197822A JP 9002737 A JP9002737 A JP 9002737A JP 273797 A JP273797 A JP 273797A JP H10197822 A JPH10197822 A JP H10197822A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 56
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0856—Catadioptric systems comprising a refractive element with a reflective surface, the reflection taking place inside the element, e.g. Mangin mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
- G02B26/126—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane including curved mirrors
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光走査装置に使用される面倒れ補正光学系に
おいて、高精度な面倒れ補正を行う。 【解決手段】レーザ光源11から出射され、高速回転する
ポリゴンミラー13により偏向された光ビームＬを、ｆθ
レンズ15により感光材料20の面上で結像させて主走査方
向Ｘについて等速度走査せしめるとともに、ポリゴンミ
ラー13の面倒れに起因する副走査方向Ｙへの変動を、ｆ
θレンズ15と感光材料20との間に配された、凹円筒状の
屈折面18a と凹円筒状の反射面18b を有するインミラー
レンズ18により補正する。
おいて、高精度な面倒れ補正を行う。 【解決手段】レーザ光源11から出射され、高速回転する
ポリゴンミラー13により偏向された光ビームＬを、ｆθ
レンズ15により感光材料20の面上で結像させて主走査方
向Ｘについて等速度走査せしめるとともに、ポリゴンミ
ラー13の面倒れに起因する副走査方向Ｙへの変動を、ｆ
θレンズ15と感光材料20との間に配された、凹円筒状の
屈折面18a と凹円筒状の反射面18b を有するインミラー
レンズ18により補正する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光等を偏向
して被走査面上を走査させる光走査装置に使用される面
倒れ補正光学系に関するものであり、特に詳細には、光
ビームを回転多面鏡等の偏向器により偏向走査させる際
に該偏向器の面倒れにより被走査面上に生じる走査線の
ピッチむらを補正する光学系に関するものである。
して被走査面上を走査させる光走査装置に使用される面
倒れ補正光学系に関するものであり、特に詳細には、光
ビームを回転多面鏡等の偏向器により偏向走査させる際
に該偏向器の面倒れにより被走査面上に生じる走査線の
ピッチむらを補正する光学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ポリゴンミラー等の回転多面
鏡やガルバノ式スキャナによって反射偏向される光ビー
ムにより光走査を行う光走査装置がよく知られている。
鏡やガルバノ式スキャナによって反射偏向される光ビー
ムにより光走査を行う光走査装置がよく知られている。
【０００３】この種の光走査装置においては、上記回転
多面鏡等における光ビームの反射面の変動により走査ス
ポットの位置が、被走査面内における光ビームの走査方
向（以下、主走査方向という）に垂直な方向（以下、副
走査方向という）に変動する現象が生じ、これが副走査
方向のピッチすなわち走査線の間隔を不安定なものにす
るという問題が生じる。回転多面鏡の場合は製造精度に
起因する各反射面の回転軸に対する平行度の誤差（面倒
れという）が、ガルバノミラーの場合は運動中のふらつ
き（ウォブリングという）が原因となっているが、以下
これを総称して「面倒れ」ということとする。
多面鏡等における光ビームの反射面の変動により走査ス
ポットの位置が、被走査面内における光ビームの走査方
向（以下、主走査方向という）に垂直な方向（以下、副
走査方向という）に変動する現象が生じ、これが副走査
方向のピッチすなわち走査線の間隔を不安定なものにす
るという問題が生じる。回転多面鏡の場合は製造精度に
起因する各反射面の回転軸に対する平行度の誤差（面倒
れという）が、ガルバノミラーの場合は運動中のふらつ
き（ウォブリングという）が原因となっているが、以下
これを総称して「面倒れ」ということとする。
【０００４】そこで、この面倒れを補正するためにポジ
ティブシリンドリカルレンズあるいはシリンドリカルミ
ラー等の光学素子を使用した面倒れ補正光学系を使用す
ることが知られている。
ティブシリンドリカルレンズあるいはシリンドリカルミ
ラー等の光学素子を使用した面倒れ補正光学系を使用す
ることが知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし近年、より高精
度、高密度の走査が要求されており、このような観点か
ら上記面倒れ補正もより高精度に行う必要があり、上記
シリンドリカルレンズあるいはシリンドリカルミラーを
単独で用いる補正光学系により面倒れ補正を高精度に行
うのは困難となってきている。
度、高密度の走査が要求されており、このような観点か
ら上記面倒れ補正もより高精度に行う必要があり、上記
シリンドリカルレンズあるいはシリンドリカルミラーを
単独で用いる補正光学系により面倒れ補正を高精度に行
うのは困難となってきている。
【０００６】そこで、特公平４-21164号においては、ネ
ガティブ屈折シリンドリカルレンズとポジティブシリン
ドリカルミラーとを組み合わせた補正光学系が提案され
ている。その一例を図５および図６を参照して説明す
る。
ガティブ屈折シリンドリカルレンズとポジティブシリン
ドリカルミラーとを組み合わせた補正光学系が提案され
ている。その一例を図５および図６を参照して説明す
る。
【０００７】レーザ光源111 から発生された光ビームＬ
は、シリンドリカルレンズ112 を通過して、偏向器であ
る回転多面鏡113 に該回転多面鏡113 の回転軸に垂直な
線像として入射され、回転多面鏡113 が矢印Ｒ方向に回
転するのに伴って反射偏向される。図５はこの反射偏向
された光ビームＬの光路を前記回転軸と平行な方向から
見た概略図であり、図６は前記光路を前記回転軸と垂直
な方向から見た概略図である。まず、図５を参照して偏
向された光ビームＬの主走査について説明する。前記回
転多面鏡113 の反射面（偏向面）114 により反射偏向さ
れた光ビームＬは光路上に設けられた走査レンズ115 に
入射し、この走査レンズ115 に平行光として入射した光
ビームＬはネガティブ屈折シリンドリカルレンズ116 を
通過してポジティブシリンドリカルミラー117 によって
被走査面120 上に集束され、矢印Ｘ方向に繰り返し主走
査が行われる。また、前記走査レンズ115 と被走査面１
２０との間に設けられている主走査方向に延びたネガテ
ィブシリンドリカルレンズ１１６ およびポジティブシ
リンドリカルミラー117 は、入射した光を主走査方向と
垂直な方向（副走査方向）にのみそれぞれ発散および集
束させるレンズおよびミラーであり、図５においては光
ビームを透過および反射させるだけである。一方、前述
したように前記回転多面鏡113 は面倒れ等を生じること
が多く、これを補正するシステムを図６により説明す
る。
は、シリンドリカルレンズ112 を通過して、偏向器であ
る回転多面鏡113 に該回転多面鏡113 の回転軸に垂直な
線像として入射され、回転多面鏡113 が矢印Ｒ方向に回
転するのに伴って反射偏向される。図５はこの反射偏向
された光ビームＬの光路を前記回転軸と平行な方向から
見た概略図であり、図６は前記光路を前記回転軸と垂直
な方向から見た概略図である。まず、図５を参照して偏
向された光ビームＬの主走査について説明する。前記回
転多面鏡113 の反射面（偏向面）114 により反射偏向さ
れた光ビームＬは光路上に設けられた走査レンズ115 に
入射し、この走査レンズ115 に平行光として入射した光
ビームＬはネガティブ屈折シリンドリカルレンズ116 を
通過してポジティブシリンドリカルミラー117 によって
被走査面120 上に集束され、矢印Ｘ方向に繰り返し主走
査が行われる。また、前記走査レンズ115 と被走査面１
２０との間に設けられている主走査方向に延びたネガテ
ィブシリンドリカルレンズ１１６ およびポジティブシ
リンドリカルミラー117 は、入射した光を主走査方向と
垂直な方向（副走査方向）にのみそれぞれ発散および集
束させるレンズおよびミラーであり、図５においては光
ビームを透過および反射させるだけである。一方、前述
したように前記回転多面鏡113 は面倒れ等を生じること
が多く、これを補正するシステムを図６により説明す
る。
【０００８】回転多面鏡113 の偏向面114 により反射偏
向された光ビームＬは、前記走査レンズ115 に入射し該
走査レンズ115 を通過してやや広がった光ビームとな
る。このやや広がった光ビームＬは該光ビームＬを前記
被走査面120 上において副走査方向（矢印Ｙ方向）にの
み集束させるシリンドリカルミラー117 に入射する。こ
の時、回転多面鏡113 に面倒れ等があっても、偏向面11
4 の一点で反射された光はシリンドリカルミラー117 に
より被走査面120 上の副走査方向において同一位置に集
束させることができる。すなわち、面倒れ等により図６
の上下方向に光ビームＬの光路がずれてもそのズレを補
正することが可能となる。また、走査レンズ115 とシリ
ンドリカルミラー117 との間にシリンドリカルレンズ11
6 を配して像面湾曲を補償している。
向された光ビームＬは、前記走査レンズ115 に入射し該
走査レンズ115 を通過してやや広がった光ビームとな
る。このやや広がった光ビームＬは該光ビームＬを前記
被走査面120 上において副走査方向（矢印Ｙ方向）にの
み集束させるシリンドリカルミラー117 に入射する。こ
の時、回転多面鏡113 に面倒れ等があっても、偏向面11
4 の一点で反射された光はシリンドリカルミラー117 に
より被走査面120 上の副走査方向において同一位置に集
束させることができる。すなわち、面倒れ等により図６
の上下方向に光ビームＬの光路がずれてもそのズレを補
正することが可能となる。また、走査レンズ115 とシリ
ンドリカルミラー117 との間にシリンドリカルレンズ11
6 を配して像面湾曲を補償している。
【０００９】この技術によれば、単にポジティブシリン
ドリカルレンズあるいはシリンドリカルミラーのみで面
倒れ補正を行うよりも、高精度にその補正を行うことが
できる。しかし、上記の構成では部品点数の増加させる
こととなり、この部品点数の増加はコストアップにつな
がるだけでなく、高精度化をねらったにもかかわらず逆
に取付時の累積誤差を増加させる原因ともなり得る。
ドリカルレンズあるいはシリンドリカルミラーのみで面
倒れ補正を行うよりも、高精度にその補正を行うことが
できる。しかし、上記の構成では部品点数の増加させる
こととなり、この部品点数の増加はコストアップにつな
がるだけでなく、高精度化をねらったにもかかわらず逆
に取付時の累積誤差を増加させる原因ともなり得る。
【００１０】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
って、部品点数を抑制して、高精度に面倒れ補正を行う
ことができる面倒れ補正光学系を提供することを目的と
するものである。
って、部品点数を抑制して、高精度に面倒れ補正を行う
ことができる面倒れ補正光学系を提供することを目的と
するものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の面倒れ補正光学
系は、偏向手段によって偏向された光ビームを所定の被
走査面上に結像するとともに該被走査面上で等速度走査
せしめる光走査装置において、前記偏向手段と前記被走
査面との間に設けられ、前記偏向手段によって偏向され
た光ビームを反射して前記被走査面上に前記走査の方向
に垂直な方向に集束させる光学素子を備えた面倒れ補正
光学系であって、前記光学素子がインミラーレンズであ
ることを特徴とするものである。
系は、偏向手段によって偏向された光ビームを所定の被
走査面上に結像するとともに該被走査面上で等速度走査
せしめる光走査装置において、前記偏向手段と前記被走
査面との間に設けられ、前記偏向手段によって偏向され
た光ビームを反射して前記被走査面上に前記走査の方向
に垂直な方向に集束させる光学素子を備えた面倒れ補正
光学系であって、前記光学素子がインミラーレンズであ
ることを特徴とするものである。
【００１２】ここで、インミラーレンズとは、表面に屈
折面を有し、裏面に反射面を有するレンズをいう。
折面を有し、裏面に反射面を有するレンズをいう。
【００１３】なお、前記インミラーレンズの屈折面およ
び反射面はともに入射光に対して偏向手段側に凹円筒面
であり、前記屈折面の曲率半径が前記反射面の曲率半径
よりも小さいことが望ましい。
び反射面はともに入射光に対して偏向手段側に凹円筒面
であり、前記屈折面の曲率半径が前記反射面の曲率半径
よりも小さいことが望ましい。
【００１４】
【発明の効果】本発明の光走査装置における面倒れ補正
光学系は、光ビームを反射して被走査面上に副走査方向
に集束させる光学素子としてインミラーレンズ採用して
いるので、シリンドリカルレンズ若しくはシリンドリカ
ルミラーを単独に用いた補正光学系と比較して高精度に
面倒れ補正をすることができる。
光学系は、光ビームを反射して被走査面上に副走査方向
に集束させる光学素子としてインミラーレンズ採用して
いるので、シリンドリカルレンズ若しくはシリンドリカ
ルミラーを単独に用いた補正光学系と比較して高精度に
面倒れ補正をすることができる。
【００１５】また、このようにインミラーレンズにより
面倒れを補正することにより、従来のようにシリンドリ
カルレンズとシリンドリカルミラーとによって光ビーム
の面倒れを補正する場合に比較して構成部品点数を削減
することができ組立工程における累積誤差の増加を防止
することができる。
面倒れを補正することにより、従来のようにシリンドリ
カルレンズとシリンドリカルミラーとによって光ビーム
の面倒れを補正する場合に比較して構成部品点数を削減
することができ組立工程における累積誤差の増加を防止
することができる。
【００１６】また、凹円筒状の屈折面と凹円筒状の反射
面を有するインミラーレンズは、すなわち負素子と正素
子との組合せであるため、一個の素子としてのパワーは
小さくなる。一般にパワーが大きいほど誤差に対する感
度も大きくなることから、パワーを小さく抑えることは
性能の劣化を抑制することにつながる。
面を有するインミラーレンズは、すなわち負素子と正素
子との組合せであるため、一個の素子としてのパワーは
小さくなる。一般にパワーが大きいほど誤差に対する感
度も大きくなることから、パワーを小さく抑えることは
性能の劣化を抑制することにつながる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の光走査装置用の面
倒れ補正光学系の具体的な実施の形態について図面を用
いて詳細に説明する。
倒れ補正光学系の具体的な実施の形態について図面を用
いて詳細に説明する。
【００１８】図１は本発明の面倒れ補正光学系を使用し
た光走査装置の概略構成を示す斜視図、図２および図３
は図１に示した光走査装置のうち本発明の面倒れ補正光
学系を含む集光光学系だけを抜粋した構成図であり、図
２は図１の矢視Ａを、図３は図１の矢視Ｂをそれぞれ示
すものである。なお、図３（ｂ）は同図（ａ）のインミ
ラーレンズ部の拡大図である。
た光走査装置の概略構成を示す斜視図、図２および図３
は図１に示した光走査装置のうち本発明の面倒れ補正光
学系を含む集光光学系だけを抜粋した構成図であり、図
２は図１の矢視Ａを、図３は図１の矢視Ｂをそれぞれ示
すものである。なお、図３（ｂ）は同図（ａ）のインミ
ラーレンズ部の拡大図である。
【００１９】図示の光走査装置は、レーザビームＬを出
射するレーザ光源11と、このレーザビームＬを光偏向器
であるポリゴンミラー13の反射面（偏向面）14上に線像
として結像せしめるシリンドリカルレンズ12と、図示し
ないモータにより軸回りに回転せしめられて偏向面14に
入射したレーザビームＬを所定の方向に偏向せしめるポ
リゴンミラー13と、偏向されたレーザビームＬを所定の
感光材料20上に結像するとともにその感光材料20上で主
走査方向Ｘについて等速度走査せしめる、２枚のレンズ
からなるｆθレンズ15（ｆθ第一レンズ15A,ｆθ第二レ
ンズ15B ）と、このｆθレンズ15を通過したレーザビー
ムＬの進行方向を感光材料20に向けて変える（立ち下げ
る）とともに主走査方向Ｘに垂直な副走査方向Ｙについ
てのポリゴンミラー13の面倒れを補正するための屈折力
を有するインミラーレンズ18とから構成される。このイ
ンミラーレンズ18は凹円筒状の屈折面18a と凹円筒状の
反射面18b とからなり、この屈折面18a および反射面18
b により面倒れを補正するように構成されている。な
お、屈折面18a の曲率半径は反射面18b の曲率半径より
も小さい。
射するレーザ光源11と、このレーザビームＬを光偏向器
であるポリゴンミラー13の反射面（偏向面）14上に線像
として結像せしめるシリンドリカルレンズ12と、図示し
ないモータにより軸回りに回転せしめられて偏向面14に
入射したレーザビームＬを所定の方向に偏向せしめるポ
リゴンミラー13と、偏向されたレーザビームＬを所定の
感光材料20上に結像するとともにその感光材料20上で主
走査方向Ｘについて等速度走査せしめる、２枚のレンズ
からなるｆθレンズ15（ｆθ第一レンズ15A,ｆθ第二レ
ンズ15B ）と、このｆθレンズ15を通過したレーザビー
ムＬの進行方向を感光材料20に向けて変える（立ち下げ
る）とともに主走査方向Ｘに垂直な副走査方向Ｙについ
てのポリゴンミラー13の面倒れを補正するための屈折力
を有するインミラーレンズ18とから構成される。このイ
ンミラーレンズ18は凹円筒状の屈折面18a と凹円筒状の
反射面18b とからなり、この屈折面18a および反射面18
b により面倒れを補正するように構成されている。な
お、屈折面18a の曲率半径は反射面18b の曲率半径より
も小さい。
【００２０】なお被走査媒体である感光材料20は図示し
ない搬送手段によって矢印Ｙ方向（副走査方向）に搬送
される。
ない搬送手段によって矢印Ｙ方向（副走査方向）に搬送
される。
【００２１】次に本実施形態の集光光学系の作用につい
て説明する。
て説明する。
【００２２】レーザ光源11からレーザビームＬが出射さ
れ、このレーザビームＬはシリンドリカルレンズ12によ
りポリゴンミラー13の偏向面14上に線像として結像せし
められる。
れ、このレーザビームＬはシリンドリカルレンズ12によ
りポリゴンミラー13の偏向面14上に線像として結像せし
められる。
【００２３】ポリゴンミラー13の偏向面14により偏向せ
しめられたレーザビームＬは、ｆθレンズ15を通過し、
インミラーレンズ18により屈折反射せしめられて感光材
料20の面上に導光されるとともに走査スポットを形成す
る。ここでポリゴンミラー13は矢印Ｒ方向に高速回転さ
れるため、この走査スポットは感光材料20の面上を矢印
Ｘ方向に繰り返し主走査する。この間、感光材料20は矢
印Ｙ方向に副走査されるため、この主走査と副走査とに
より走査スポットが感光材料20の面上を全面に亘って走
査する。
しめられたレーザビームＬは、ｆθレンズ15を通過し、
インミラーレンズ18により屈折反射せしめられて感光材
料20の面上に導光されるとともに走査スポットを形成す
る。ここでポリゴンミラー13は矢印Ｒ方向に高速回転さ
れるため、この走査スポットは感光材料20の面上を矢印
Ｘ方向に繰り返し主走査する。この間、感光材料20は矢
印Ｙ方向に副走査されるため、この主走査と副走査とに
より走査スポットが感光材料20の面上を全面に亘って走
査する。
【００２４】さらに詳しくは、ポリゴンミラー13の偏向
面14により偏向せしめられたレーザビームＬは、ｆθレ
ンズ15により感光材料20の面上において等速度で主走査
される一方、ポリゴンミラー13の偏向面14の面倒れによ
り副走査方向に走査位置が変動する。この副走査方向に
変動するレーザビームＬはインミラーレンズ18に入射せ
しめられ、インミラーレンズ18の屈折面18a で屈折され
反射面18b で反射され再びその屈折面18a から出射され
る間にこの屈折面18a による発散および反射面18b によ
る集束作用により高精度に面倒れ補正がなされる。
面14により偏向せしめられたレーザビームＬは、ｆθレ
ンズ15により感光材料20の面上において等速度で主走査
される一方、ポリゴンミラー13の偏向面14の面倒れによ
り副走査方向に走査位置が変動する。この副走査方向に
変動するレーザビームＬはインミラーレンズ18に入射せ
しめられ、インミラーレンズ18の屈折面18a で屈折され
反射面18b で反射され再びその屈折面18a から出射され
る間にこの屈折面18a による発散および反射面18b によ
る集束作用により高精度に面倒れ補正がなされる。
【００２５】このように本実施形態の光走査装置におけ
る面倒れ補正光学系によれば、シリンドリカルレンズお
よびシリンドリカルミラーの効果を併せ持つインミラー
レンズ18を用いて光ビームの面倒れを補正することによ
り、構成部品点数の増加を防止しつつ高精度な面倒れ補
正を実現することができる。
る面倒れ補正光学系によれば、シリンドリカルレンズお
よびシリンドリカルミラーの効果を併せ持つインミラー
レンズ18を用いて光ビームの面倒れを補正することによ
り、構成部品点数の増加を防止しつつ高精度な面倒れ補
正を実現することができる。
【００２６】図２に示した本実施形態の集光光学系の具
体的な実施例を表１に示す。表において、面数ｎとは、
ポリゴンミラー13の偏向面を第１面とし、各レンズ面を
偏向面側から数えた順番である。したがって、面数１，
２，３，４，５，６，７はそれぞれ、偏向面、ｆθ第一
レンズ15A の入射面および出射面、ｆθ第二レンズ15B
の入射面および出射面、インミラーレンズ18の屈折面お
よび反射面である。なお、ＩＭＧは感光材料20の面であ
る。軸上面間隔ｄn のうちｄ1 からｄ4 は、図３（ａ）
に示すように隣接する面間の間隔であり、ｄ5 からｄ7
は図３（ｂ）に示す距離である。屈折率は、各レンズの
ｄ線での屈折率である。なお、曲率半径を示すに当たっ
ては軸方向を正にとり、曲率中心の位置を基準にして符
号を付している。
体的な実施例を表１に示す。表において、面数ｎとは、
ポリゴンミラー13の偏向面を第１面とし、各レンズ面を
偏向面側から数えた順番である。したがって、面数１，
２，３，４，５，６，７はそれぞれ、偏向面、ｆθ第一
レンズ15A の入射面および出射面、ｆθ第二レンズ15B
の入射面および出射面、インミラーレンズ18の屈折面お
よび反射面である。なお、ＩＭＧは感光材料20の面であ
る。軸上面間隔ｄn のうちｄ1 からｄ4 は、図３（ａ）
に示すように隣接する面間の間隔であり、ｄ5 からｄ7
は図３（ｂ）に示す距離である。屈折率は、各レンズの
ｄ線での屈折率である。なお、曲率半径を示すに当たっ
ては軸方向を正にとり、曲率中心の位置を基準にして符
号を付している。
【００２７】
【表１】
【００２８】なお、図４（ａ）, （ｂ）に、表１に示し
た集光光学系による像面湾曲特性図およびｆθ特性図を
それぞれ示す。図示のグラフによれば本実施例の光学系
は良好に収差補正がなされているのが認められる。
た集光光学系による像面湾曲特性図およびｆθ特性図を
それぞれ示す。図示のグラフによれば本実施例の光学系
は良好に収差補正がなされているのが認められる。
【図１】本発明の集光光学系を使用した光走査装置の概
略構成を示す斜視図
略構成を示す斜視図
【図２】図１に示した光走査装置のうち本発明の集光光
学系を抜粋した構成であり、図１のＡから見た図
学系を抜粋した構成であり、図１のＡから見た図
【図３】図１に示した光走査装置のうち本発明の集光光
学系を抜粋した構成であり、（ａ）は図１のＢから見た
図、（ｂ）は（ａ）のインミラーレンズ部を拡大した図
学系を抜粋した構成であり、（ａ）は図１のＢから見た
図、（ｂ）は（ａ）のインミラーレンズ部を拡大した図
【図４】本発明の光走査装置の具体的な実施例における
収差図
収差図
【図５】従来の光走査装置における光ビームの光路を偏
向器の駆動軸と平行な方向からみた概略図
向器の駆動軸と平行な方向からみた概略図
【図６】従来の光走査装置における光ビームの光路を偏
向器の駆動軸と垂直な方向からみた概略図
向器の駆動軸と垂直な方向からみた概略図
11 レーザ光源 12 シリンドリカルレンズ 13 ポリゴンミラー 15 ｆθレンズ 18 インミラーレンズ 20 感光材料
Claims (2)
- 【請求項１】 偏向手段によって偏向された光ビームを
所定の被走査面上に結像するとともに該被走査面上で等
速度走査せしめる光走査装置において、前記偏向手段と
前記被走査面との間に設けられ、前記偏向手段によって
偏向された光ビームを反射して前記被走査面上に前記走
査の方向に垂直な方向に集束させる光学素子を備えた面
倒れ補正光学系であって、前記光学素子がインミラーレ
ンズであることを特徴とする面倒れ補正光学系。 - 【請求項２】 前記インミラーレンズの屈折面および反
射面がともに偏向手段側に凹円筒面であり、前記屈折面
の曲率半径が前記反射面の曲率半径よりも小さいことを
特徴とする請求項１記載の面倒れ補正光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00273797A JP3726928B2 (ja) | 1997-01-10 | 1997-01-10 | 面倒れ補正光学系 |
| US09/001,923 US5982523A (en) | 1997-01-10 | 1997-12-31 | Tilt correcting optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00273797A JP3726928B2 (ja) | 1997-01-10 | 1997-01-10 | 面倒れ補正光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10197822A true JPH10197822A (ja) | 1998-07-31 |
| JP3726928B2 JP3726928B2 (ja) | 2005-12-14 |
Family
ID=11537661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00273797A Expired - Fee Related JP3726928B2 (ja) | 1997-01-10 | 1997-01-10 | 面倒れ補正光学系 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5982523A (ja) |
| JP (1) | JP3726928B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001235695A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-08-31 | Xerox Corp | ラスタ出力走査（ｒｏｓ）式像形成システム |
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|---|---|---|---|---|
| DE102017104104A1 (de) * | 2017-02-28 | 2018-08-30 | Valeo Schalter Und Sensoren Gmbh | Optisches Element für eine Sendeeinrichtung einer optischen Erfassungsvorrichtung, Sendeeinrichtung, optische Erfassungsvorrichtung, Kraftfahrzeug sowie Verfahren |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58190919A (ja) * | 1982-05-01 | 1983-11-08 | Ricoh Co Ltd | レ−ザビ−ム光学系 |
| JPS60170825A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
| JPH01309021A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光ビーム走査光学系 |
| JPH0421164B2 (ja) * | 1979-03-26 | 1992-04-08 | Xerox Corp | |
| JPH08184780A (ja) * | 1995-01-04 | 1996-07-16 | Olympus Optical Co Ltd | 画像表示装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61289318A (ja) * | 1985-06-17 | 1986-12-19 | Tsuneo Nakamura | 光ビ−ムの偏差補正装置 |
-
1997
- 1997-01-10 JP JP00273797A patent/JP3726928B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-31 US US09/001,923 patent/US5982523A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH01309021A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光ビーム走査光学系 |
| JPH08184780A (ja) * | 1995-01-04 | 1996-07-16 | Olympus Optical Co Ltd | 画像表示装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001235695A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-08-31 | Xerox Corp | ラスタ出力走査（ｒｏｓ）式像形成システム |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3726928B2 (ja) | 2005-12-14 |
| US5982523A (en) | 1999-11-09 |
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