JPH10189559A - Ｃｖｄ装置のガス吹出し用ヘッド水平調整装置およびその使用方法 - Google Patents
Ｃｖｄ装置のガス吹出し用ヘッド水平調整装置およびその使用方法Info
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- JPH10189559A JPH10189559A JP34362796A JP34362796A JPH10189559A JP H10189559 A JPH10189559 A JP H10189559A JP 34362796 A JP34362796 A JP 34362796A JP 34362796 A JP34362796 A JP 34362796A JP H10189559 A JPH10189559 A JP H10189559A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 水平調整工数を削減することが可能なＣＶＤ
装置のガス吹出し用ヘッド水平調整装置を提供する。 【解決手段】 ウェ−ハ６を上面に搭載するトレ−１
と、このトレ−１の上面から所定間隔の位置にガス吹出
し面を有するヘッド２とを備えたＣＶＤ装置のガス吹出
し用ヘッド水平調整装置１０であって、板状の架台１１
と、この架台の４ヶ所に固定した架台底面からの垂直方
向の高さを計測するゲ−ジ１３ａ〜１３ｄとを有する。
装置のガス吹出し用ヘッド水平調整装置を提供する。 【解決手段】 ウェ−ハ６を上面に搭載するトレ−１
と、このトレ−１の上面から所定間隔の位置にガス吹出
し面を有するヘッド２とを備えたＣＶＤ装置のガス吹出
し用ヘッド水平調整装置１０であって、板状の架台１１
と、この架台の４ヶ所に固定した架台底面からの垂直方
向の高さを計測するゲ−ジ１３ａ〜１３ｄとを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水平調整装置に関
し、より詳細にはウェ−ハが載置されるトレ−とプロセ
スガス導入部（ヘッド）の間隔を安定して水平調整でき
るＣＶＤ装置に利用できる水平調整装置に関するもので
ある。
し、より詳細にはウェ−ハが載置されるトレ−とプロセ
スガス導入部（ヘッド）の間隔を安定して水平調整でき
るＣＶＤ装置に利用できる水平調整装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】高温での化学反応によって酸化膜や窒化
膜などの薄膜をウェ−ハ上に堆積させる方法としてＣＶ
Ｄ（化学的気相成長）法が知られている。例えば、Ｓi
Ｏ2膜はシラン（ＳiＨ4）を酸素（これらのガスをプロ
セスガスという）と反応させて作られる。このＣＶＤを
大気圧下で行なう常圧ＣＶＤは、従来、例えば図３の部
分概略斜視図で示す常圧ＣＶＤ装置で行なわれる。
膜などの薄膜をウェ−ハ上に堆積させる方法としてＣＶ
Ｄ（化学的気相成長）法が知られている。例えば、Ｓi
Ｏ2膜はシラン（ＳiＨ4）を酸素（これらのガスをプロ
セスガスという）と反応させて作られる。このＣＶＤを
大気圧下で行なう常圧ＣＶＤは、従来、例えば図３の部
分概略斜視図で示す常圧ＣＶＤ装置で行なわれる。
【０００３】この従来の常圧ＣＶＤ装置は、酸化膜等を
成長させるためのウェ−ハが載置されるトレ−１と、プ
ロセスガスをトレ−面に導入するためのガス吹出し面を
下面側に有するプロセスガス導入部２（以下、ヘッドと
いう）と、ウェ−ハを加熱するためのヒ−タ−３とから
主に構成されている。図３に示した常圧ＣＶＤ装置では
トレ−１の枚数は、少数しか図示されていないが実際は
２７枚で各トレ−に２枚づつウェ−ハが搭載される。ヘ
ッド２は図示のように３個あり、同種類でもよいが３種
類のガス導入が可能である。ヒ−タ−３は例えば電熱方
式のヒ−タ−である。各ヘッド２はその下面がトレ−１
から所定間隔となるようにトレ−１上に水平に配設され
ている。トレ−１は、図示しないコンベヤ上に固定され
ヒ−タ−３の周囲を矢印Ａで示すように１２０ｍｍ／分
〜１３０ｍｍ／分の速度で回転して所定の温度に加熱さ
れる。なお図中４は透明なアクリル製前面扉である。
成長させるためのウェ−ハが載置されるトレ−１と、プ
ロセスガスをトレ−面に導入するためのガス吹出し面を
下面側に有するプロセスガス導入部２（以下、ヘッドと
いう）と、ウェ−ハを加熱するためのヒ−タ−３とから
主に構成されている。図３に示した常圧ＣＶＤ装置では
トレ−１の枚数は、少数しか図示されていないが実際は
２７枚で各トレ−に２枚づつウェ−ハが搭載される。ヘ
ッド２は図示のように３個あり、同種類でもよいが３種
類のガス導入が可能である。ヒ−タ−３は例えば電熱方
式のヒ−タ−である。各ヘッド２はその下面がトレ−１
から所定間隔となるようにトレ−１上に水平に配設され
ている。トレ−１は、図示しないコンベヤ上に固定され
ヒ−タ−３の周囲を矢印Ａで示すように１２０ｍｍ／分
〜１３０ｍｍ／分の速度で回転して所定の温度に加熱さ
れる。なお図中４は透明なアクリル製前面扉である。
【０００４】このような構成の常圧ＣＶＤ装置ではウェ
−ハが載置されるトレ−１とプロセスガス導入のための
ヘッド２の下面（ガス吹出し面）との間の間隔は、膜成
長に非常に大きな影響を与える。すなわち、図４に示す
ように、トレ−１とヘッド２が平行でなく間隔において
相違があると、即ちヘッド２が水平でなくｘ≠ｙ、例え
ばｘ＞ｙであると、ヘッド２上に反応物が順次堆積して
ゆくシュミレ−ションを示す図４（ａ），図４（ｂ），
図４（ｃ）にも示すように、以下のような現象を発生さ
せる。。
−ハが載置されるトレ−１とプロセスガス導入のための
ヘッド２の下面（ガス吹出し面）との間の間隔は、膜成
長に非常に大きな影響を与える。すなわち、図４に示す
ように、トレ−１とヘッド２が平行でなく間隔において
相違があると、即ちヘッド２が水平でなくｘ≠ｙ、例え
ばｘ＞ｙであると、ヘッド２上に反応物が順次堆積して
ゆくシュミレ−ションを示す図４（ａ），図４（ｂ），
図４（ｃ）にも示すように、以下のような現象を発生さ
せる。。
【０００５】１）図４（ａ）〜図４（ｃ）に示すよう
に、時間の経過とともにヘッド２に堆積した反応物５と
トレ−１上のウェ−ハ６が接触することによってウェ−
ハ６上のキズ、汚れの原因となる。
に、時間の経過とともにヘッド２に堆積した反応物５と
トレ−１上のウェ−ハ６が接触することによってウェ−
ハ６上のキズ、汚れの原因となる。
【０００６】２）ウェ−ハ６上へのプロセスガスの供給
に偏りが生じる。
に偏りが生じる。
【０００７】３）上記２）の結果、ウェ−ハ６上への膜
の成長速度に偏りが生じ、成膜の均一性が不充分とな
る。
の成長速度に偏りが生じ、成膜の均一性が不充分とな
る。
【０００８】これに対して、図５（ａ）〜図５（ｂ）の
シュミレ−ションに示すように、トレ−とヘッドとの間
隔が一定、すなわちヘッドが水平でトレ−上面とヘッド
下面が平行（ｘ＝ｙ）であればヘッド２上の反応物５と
ウェ−ハ６の接触が解消され、且つ、プロセスガスがウ
ェ−ハ６上に均一に供給されるため、良好な成膜均一性
が得られる状態になる。
シュミレ−ションに示すように、トレ−とヘッドとの間
隔が一定、すなわちヘッドが水平でトレ−上面とヘッド
下面が平行（ｘ＝ｙ）であればヘッド２上の反応物５と
ウェ−ハ６の接触が解消され、且つ、プロセスガスがウ
ェ−ハ６上に均一に供給されるため、良好な成膜均一性
が得られる状態になる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このように、ウェ−ハ
上の膜の成長に大きな影響を与えるトレ−とヘッドとの
間隔は、従来、ヘッドの配設高さ調整によって規定され
ている。すなわちこの配設高さ調整は、ヘッド上面から
ヘッド下のトレ−までの間隔Ｑ（図７）をノギスを用い
て測定し、図６に示したように本例ではヘッド２のＡ，
Ｂ，Ｃ，Ｄの４ヶ所、全て１０５．５ｍｍ±０．５ｍｍ
となるように、ヘッド配設高さ調整ネジ７で調整し、ヘ
ッドとトレ−の間隔が４．０ｍｍ±０．５ｍｍ以内にな
るようにしている。ＡとＣの位置、およびＢとＤの位置
はヘッド２において対称位置（対）となっている。ヘッ
ド２の４隅の外側にはヘッド配設高さ調整ネジ７を所定
高さに固定するためのロックナット８がヘッド配設高さ
調整ネジ７に対応して設けられている。このヘッド２は
その対角線上の２ヶ所に設けた孔に装置本体側から突出
するガイド９を挿入することにより位置決めされる。な
おヘッド２とトレ−１の間隔の関係を図７に示してあ
る。図７に模式的に示すようにヘッド２の上面とトレ−
１までの距離Ｑが上述の１０５．５ｍｍ±０．５ｍｍに
対応し、ヘッド２の下面とトレ−１間の距離Ｒが上述の
４．０ｍｍ±０．５ｍｍに対応している。ヘッド２のそ
のものの高さＰは本例では１０１．５ｍｍである。上記
従来のヘッド２とトレ−１の間隔調整（水平調整）は、
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの４ヶ所を、それぞれ１ヶ所ずつその間
隔を確認して行なうことになり、水平調整に時間がかか
る問題が生じる。例えば、先ずＡ点でヘッドとトレ−の
間隔を測定して所定値に合わせ、次にＢ点で合わせた
後、前に測定調整したＡ点を再度測定して測定値がずれ
ていないかを確認する必要がある。このような測定調整
を４カ所全てで繰り返し調整する必要があり調整に多大
の手間を要していた。本発明は上記の点を考慮してなさ
れたものであって、ウェ−ハ搭載用トレ−とガス吹出し
用ヘッドとの間隔を調整するための水平調整工数を削減
することが可能なＣＶＤ装置のガス吹出し用ヘッドの水
平調整装置を提供することを目的とする。
上の膜の成長に大きな影響を与えるトレ−とヘッドとの
間隔は、従来、ヘッドの配設高さ調整によって規定され
ている。すなわちこの配設高さ調整は、ヘッド上面から
ヘッド下のトレ−までの間隔Ｑ（図７）をノギスを用い
て測定し、図６に示したように本例ではヘッド２のＡ，
Ｂ，Ｃ，Ｄの４ヶ所、全て１０５．５ｍｍ±０．５ｍｍ
となるように、ヘッド配設高さ調整ネジ７で調整し、ヘ
ッドとトレ−の間隔が４．０ｍｍ±０．５ｍｍ以内にな
るようにしている。ＡとＣの位置、およびＢとＤの位置
はヘッド２において対称位置（対）となっている。ヘッ
ド２の４隅の外側にはヘッド配設高さ調整ネジ７を所定
高さに固定するためのロックナット８がヘッド配設高さ
調整ネジ７に対応して設けられている。このヘッド２は
その対角線上の２ヶ所に設けた孔に装置本体側から突出
するガイド９を挿入することにより位置決めされる。な
おヘッド２とトレ−１の間隔の関係を図７に示してあ
る。図７に模式的に示すようにヘッド２の上面とトレ−
１までの距離Ｑが上述の１０５．５ｍｍ±０．５ｍｍに
対応し、ヘッド２の下面とトレ−１間の距離Ｒが上述の
４．０ｍｍ±０．５ｍｍに対応している。ヘッド２のそ
のものの高さＰは本例では１０１．５ｍｍである。上記
従来のヘッド２とトレ−１の間隔調整（水平調整）は、
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの４ヶ所を、それぞれ１ヶ所ずつその間
隔を確認して行なうことになり、水平調整に時間がかか
る問題が生じる。例えば、先ずＡ点でヘッドとトレ−の
間隔を測定して所定値に合わせ、次にＢ点で合わせた
後、前に測定調整したＡ点を再度測定して測定値がずれ
ていないかを確認する必要がある。このような測定調整
を４カ所全てで繰り返し調整する必要があり調整に多大
の手間を要していた。本発明は上記の点を考慮してなさ
れたものであって、ウェ−ハ搭載用トレ−とガス吹出し
用ヘッドとの間隔を調整するための水平調整工数を削減
することが可能なＣＶＤ装置のガス吹出し用ヘッドの水
平調整装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明にかかるＣＶＤ装置のガス吹出し用ヘッドの
水平調整装置は、ウェ−ハを上面に搭載するトレ−と、
このトレ−の上面から所定間隔の位置にガス吹出し面を
有するヘッドとを備えたＣＶＤ装置のガス吹出し用ヘッ
ド水平調整装置であって、板状の架台と、この架台の４
ヶ所に固定した架台底面からその下方への垂直方向の高
さを計測するゲ−ジとを有することを特徴としている。
め、本発明にかかるＣＶＤ装置のガス吹出し用ヘッドの
水平調整装置は、ウェ−ハを上面に搭載するトレ−と、
このトレ−の上面から所定間隔の位置にガス吹出し面を
有するヘッドとを備えたＣＶＤ装置のガス吹出し用ヘッ
ド水平調整装置であって、板状の架台と、この架台の４
ヶ所に固定した架台底面からその下方への垂直方向の高
さを計測するゲ−ジとを有することを特徴としている。
【００１１】この構成によれば、板状架台の底面からそ
の面に垂直な方向に所定の距離の４ヶ所を架台に固定し
た４個のゲ−ジを用いて正確に、しかも連続的に測定調
整することができる。
の面に垂直な方向に所定の距離の４ヶ所を架台に固定し
た４個のゲ−ジを用いて正確に、しかも連続的に測定調
整することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】別の好ましい実施の形態において
は、前記板状架台は矩形であり、前記ヘッドの４隅近傍
に対応する架台の４隅部又はその近傍に前記ゲ−ジを固
定したことを特徴とする。
は、前記板状架台は矩形であり、前記ヘッドの４隅近傍
に対応する架台の４隅部又はその近傍に前記ゲ−ジを固
定したことを特徴とする。
【００１３】この構成によれば、矩形板状架台の４隅の
ゲ−ジにより、トレ−とヘッドとの対向面同士の平行調
整が容易に確実にできる。
ゲ−ジにより、トレ−とヘッドとの対向面同士の平行調
整が容易に確実にできる。
【００１４】別の好ましい実施の形態においては、前記
ゲ−ジはダイヤルゲ−ジであり、前記架台４隅部又はそ
の近傍にア−ムを介して取付けられたことをすることを
特徴とする。
ゲ−ジはダイヤルゲ−ジであり、前記架台４隅部又はそ
の近傍にア−ムを介して取付けられたことをすることを
特徴とする。
【００１５】この構成によれば、ダイヤルゲ−ジにより
間隔調整が容易にできるとともに、このダイヤルゲ−ジ
を、ア−ムを介して架台の所定位置に確実に取付けるこ
とができる。
間隔調整が容易にできるとともに、このダイヤルゲ−ジ
を、ア−ムを介して架台の所定位置に確実に取付けるこ
とができる。
【００１６】本発明装置を使用する好ましい実施の形態
においては、前記ガス吹出し用ヘッドと同一の高さを有
する基準ブロックを用い、この基準ブロックを水平面上
に設置してその上面に前記板状架台を載せ、この架台４
ヶ所のゲ−ジを所定目盛に合わせた後、この架台を基準
ブロックから外して水平調整すべきヘッド上面に載せ、
前記ガス吹出し面がトレ−上面から所定間隔となるよう
にゲ−ジの目盛に対応して４ヶ所のヘッド高さを順次調
整することを特徴とする。
においては、前記ガス吹出し用ヘッドと同一の高さを有
する基準ブロックを用い、この基準ブロックを水平面上
に設置してその上面に前記板状架台を載せ、この架台４
ヶ所のゲ−ジを所定目盛に合わせた後、この架台を基準
ブロックから外して水平調整すべきヘッド上面に載せ、
前記ガス吹出し面がトレ−上面から所定間隔となるよう
にゲ−ジの目盛に対応して４ヶ所のヘッド高さを順次調
整することを特徴とする。
【００１７】この方法によれば、予め準備したヘッドと
同寸法の基準ブロックを用いることにより、容易に確実
に４ヶ所を連続的に高さ調整して平行面を形成すること
ができる。
同寸法の基準ブロックを用いることにより、容易に確実
に４ヶ所を連続的に高さ調整して平行面を形成すること
ができる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について、図
面を参照しながら説明する。図１は本発明の１実施例を
説明するための水平調整装置を示す斜視図である。図１
において水平調整装置１０がＣＶＤ装置のトレ−１およ
びヘッド２（破線部）と組み合わされて示されている。
この水平調整装置１０は、上面と底面が平行な矩形板状
のＳＵＳ製架台１１の上面両端部に、それぞれ隣接する
２対のＳＵＳ製ア−ム１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ
が取付けられ、それぞれのＳＵＳ製ア−ム１２ａ〜１２
ｄに、ダイヤルゲ−ジ１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ
（図２にダイヤルゲ−ジ１３ａ、１個を拡大して示す）
が組込まれた構造となっている。ア−ム１２ａと１２
ｃ、および１２ｂと１２ｄは、矩形状のＳＵＳ製架台の
長軸に対称的にそれぞれ対をなしており、ダイヤルゲ−
ジを組込むそれぞれの一端がヘッド２の４隅部に近い側
面より突出するようにＳＵＳ製架台１１の上面に取付け
られている。
面を参照しながら説明する。図１は本発明の１実施例を
説明するための水平調整装置を示す斜視図である。図１
において水平調整装置１０がＣＶＤ装置のトレ−１およ
びヘッド２（破線部）と組み合わされて示されている。
この水平調整装置１０は、上面と底面が平行な矩形板状
のＳＵＳ製架台１１の上面両端部に、それぞれ隣接する
２対のＳＵＳ製ア−ム１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ
が取付けられ、それぞれのＳＵＳ製ア−ム１２ａ〜１２
ｄに、ダイヤルゲ−ジ１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ
（図２にダイヤルゲ−ジ１３ａ、１個を拡大して示す）
が組込まれた構造となっている。ア−ム１２ａと１２
ｃ、および１２ｂと１２ｄは、矩形状のＳＵＳ製架台の
長軸に対称的にそれぞれ対をなしており、ダイヤルゲ−
ジを組込むそれぞれの一端がヘッド２の４隅部に近い側
面より突出するようにＳＵＳ製架台１１の上面に取付け
られている。
【００１９】このように構成された水平調整装置１０
は、図１に示すように矩形状のＳＵＳ製の架台１１がヘ
ッド２の上面に配され、対のア−ム１２ａ，１２ｃおよ
び１２ｂ、１２ｄに組込まれた各ダイヤルゲ−ジ対１３
ａ，１３ｃおよび１３ｂ，１３ｄが安定した状態でその
ヘッドの両側面側でヘッド上面に対し垂直方向の距離を
測定できるように配され、ヘッド２とトレ−１間の距離
をゲ−ジを見ながら順番に調整することによりヘッド２
とトレ−１間を平行にしてヘッド２が水平に調整され
る。
は、図１に示すように矩形状のＳＵＳ製の架台１１がヘ
ッド２の上面に配され、対のア−ム１２ａ，１２ｃおよ
び１２ｂ、１２ｄに組込まれた各ダイヤルゲ−ジ対１３
ａ，１３ｃおよび１３ｂ，１３ｄが安定した状態でその
ヘッドの両側面側でヘッド上面に対し垂直方向の距離を
測定できるように配され、ヘッド２とトレ−１間の距離
をゲ−ジを見ながら順番に調整することによりヘッド２
とトレ−１間を平行にしてヘッド２が水平に調整され
る。
【００２０】ダイヤルゲ−ジ１３ａ〜１３ｄは通常のダ
イヤルゲ−ジを使用することができ、図２に拡大して示
したように尖端がバネによって上下可動になっており、
その上下の動きに連動して動いた距離に応じてゲ−ジの
針が動く構造になっている。ゲ−ジ目盛は、１周１ｍ
ｍ，最大１０ｍｍまで測定可能になっている。
イヤルゲ−ジを使用することができ、図２に拡大して示
したように尖端がバネによって上下可動になっており、
その上下の動きに連動して動いた距離に応じてゲ−ジの
針が動く構造になっている。ゲ−ジ目盛は、１周１ｍ
ｍ，最大１０ｍｍまで測定可能になっている。
【００２１】以下、上記本発明の実施例の水平調整装置
の使用方法を説明する。予め使用するヘッド（高さ：１
０１．５ｍｍ，図７参照）と同じ高さの基準ブロック
（図示せず）を作成しておく。この基準ブロックを先
ず、固定した水平面上に載置する。そのブロックの上
に、図１に示したＳＵＳ製ア−ム１２ａ〜１２ｄを取付
けた水平調整装置のＳＵＳ架台１１を載せる。
の使用方法を説明する。予め使用するヘッド（高さ：１
０１．５ｍｍ，図７参照）と同じ高さの基準ブロック
（図示せず）を作成しておく。この基準ブロックを先
ず、固定した水平面上に載置する。そのブロックの上
に、図１に示したＳＵＳ製ア−ム１２ａ〜１２ｄを取付
けた水平調整装置のＳＵＳ架台１１を載せる。
【００２２】次に、図１に示した水平調整装置のＳＵＳ
製ア−ム１２ａ〜１２ｄに、ダイヤルゲ−ジの目盛りが
４．５ｍｍをさすようにそれぞれダイヤルゲ−ジを取付
ける。この時、ダイヤルゲ−ジ尖端を上記ブロック下の
水平面に接触させる。この４．５ｍｍの長さは、水平調
整を行なう二つの物体、本例ではヘッドとトレ−との間
の距離の最大置として選択した。
製ア−ム１２ａ〜１２ｄに、ダイヤルゲ−ジの目盛りが
４．５ｍｍをさすようにそれぞれダイヤルゲ−ジを取付
ける。この時、ダイヤルゲ−ジ尖端を上記ブロック下の
水平面に接触させる。この４．５ｍｍの長さは、水平調
整を行なう二つの物体、本例ではヘッドとトレ−との間
の距離の最大置として選択した。
【００２３】次に、このように構成した水平調整装置１
０を基準ブロックから外し、図１に示したように、水平
調整すべきヘッド２上にセットする。各ダイヤルゲ−ジ
の尖端がトレ−１の表面に接触した状態で、ヘッド２と
トレ−１の間隔が４ｍｍ±０．５ｍｍになるように各ダ
イヤルゲ−ジの値を見ながら各ヘッド高さ調整ネジ７
（図６参照、図１では図示省略）を調整する。すなわ
ち、各ゲ−ジの値が０．５ｍｍ以内を指すように順番に
連続して調整する。これにより、ヘッド２とトレ−１と
が平行になり、ヘッド２の水平調整が完了する。
０を基準ブロックから外し、図１に示したように、水平
調整すべきヘッド２上にセットする。各ダイヤルゲ−ジ
の尖端がトレ−１の表面に接触した状態で、ヘッド２と
トレ−１の間隔が４ｍｍ±０．５ｍｍになるように各ダ
イヤルゲ−ジの値を見ながら各ヘッド高さ調整ネジ７
（図６参照、図１では図示省略）を調整する。すなわ
ち、各ゲ−ジの値が０．５ｍｍ以内を指すように順番に
連続して調整する。これにより、ヘッド２とトレ−１と
が平行になり、ヘッド２の水平調整が完了する。
【００２４】その後、確認のため、図１に示すＡ，Ｂ，
Ｃ，Ｄの４ヶ所の高さをノギスで測定する。万一、この
時、操作ミスや目盛の誤認等により所定の高さになって
いない所があればその部位を再度調整ネジで調整するこ
とになる。このように本例では連続的にＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
の４ヶ所の高さを原則として１回の操作で調整すること
ができ、トレ−１との水平を確実にしかも容易に調整す
ることができる。
Ｃ，Ｄの４ヶ所の高さをノギスで測定する。万一、この
時、操作ミスや目盛の誤認等により所定の高さになって
いない所があればその部位を再度調整ネジで調整するこ
とになる。このように本例では連続的にＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
の４ヶ所の高さを原則として１回の操作で調整すること
ができ、トレ−１との水平を確実にしかも容易に調整す
ることができる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の水平調整
装置によれば、ヘッドとトレ−の間隔を複数ヶ所連続的
に１回の操作で調整することが可能となり、水平調整の
工数を削減することができると共に、従来の方法より正
確な調整を行なうことができる。さらに、この水平調整
装置をＣＶＤ装置に利用することにより反応ガス導入用
のヘッドとウェ−ハを配したトレ−間の水平度を容易に
調整することができるため、トレ−上のウェ−ハにガス
を均一に供給し、均一な膜を成長することができると共
に、ヘッドのガス供給面部への反応物付着の偏りを低減
することができる。
装置によれば、ヘッドとトレ−の間隔を複数ヶ所連続的
に１回の操作で調整することが可能となり、水平調整の
工数を削減することができると共に、従来の方法より正
確な調整を行なうことができる。さらに、この水平調整
装置をＣＶＤ装置に利用することにより反応ガス導入用
のヘッドとウェ−ハを配したトレ−間の水平度を容易に
調整することができるため、トレ−上のウェ−ハにガス
を均一に供給し、均一な膜を成長することができると共
に、ヘッドのガス供給面部への反応物付着の偏りを低減
することができる。
【図１】 本発明にかかる平行調整装置の実施例を説明
するための斜視図。
するための斜視図。
【図２】 本発明にかかる平行調整装置に使用するダイ
ヤルゲ−ジを説明するための斜視図。
ヤルゲ−ジを説明するための斜視図。
【図３】 常圧ＣＶＤ装置の概略図。
【図４】 ヘッドとトレ−が平行でない場合の反応物生
成シュミレ−ションを示す部分概略図。
成シュミレ−ションを示す部分概略図。
【図５】 ヘッドとトレ−が平行である場合の反応物生
成シュミレ−ションを示す部分概略図。
成シュミレ−ションを示す部分概略図。
【図６】 本発明が適用されるヘッドとトレ−の構成を
示す概略斜視図。
示す概略斜視図。
【図７】 ヘッドとトレ−の間隔を示す図。
１：トレ−、２：ヘッド、３：ヒ−タ−、４：アクリル
製前面扉、５：反応物、６：ウェ−ハ、７：ヘッド配設
高さ調整ネジ、８：ロックナット、１０：水平調整装
置、１１：ＳＵＳ製架台、１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１
２ｄ：ＳＵＳ製ア−ム、１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３
ｄ：ダイヤルゲ−ジ。
製前面扉、５：反応物、６：ウェ−ハ、７：ヘッド配設
高さ調整ネジ、８：ロックナット、１０：水平調整装
置、１１：ＳＵＳ製架台、１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１
２ｄ：ＳＵＳ製ア−ム、１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３
ｄ：ダイヤルゲ−ジ。
Claims (4)
- 【請求項１】 ウェ−ハを上面に搭載するトレ−と、こ
のトレ−の上面から所定間隔の位置にガス吹出し面を有
するヘッドとを備えたＣＶＤ装置のガス吹出し用ヘッド
水平調整装置であって、 板状の架台と、 この架台の４ヶ所に固定した架台底面からその下方への
垂直方向の高さを計測するゲ−ジと、 を有することを特徴とするＣＶＤ装置のガス吹出し用ヘ
ッド水平調整装置。 - 【請求項２】 前記板状架台は矩形であり、前記ヘッド
の４隅近傍に対応する架台の４隅部又はその近傍に前記
ゲ−ジを固定したことを特徴とする請求項１に記載の水
平調整装置。 - 【請求項３】 前記ゲ−ジはダイヤルゲ−ジであり、前
記架台４隅部又はその近傍にア−ムを介して取付けられ
たことを特徴とする請求項２に記載の水平調整装置。 - 【請求項４】 前記ガス吹出し用ヘッドと同一の高さを
有する基準ブロックを用い、この基準ブロックを水平面
上に設置してその上面に前記板状架台を載せ、この架台
４ヶ所のゲ−ジを所定目盛に合わせた後、この架台を基
準ブロックから外して水平調整すべきヘッド上面に載
せ、前記ガス吹出し面がトレ−上面から所定間隔となる
ようにゲ−ジの目盛に対応して４ヶ所のヘッド高さを順
次調整することを特徴とする請求項１に記載のＣＶＤ装
置のガス吹出し用ヘッド水平調整装置の使用方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34362796A JPH10189559A (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | Ｃｖｄ装置のガス吹出し用ヘッド水平調整装置およびその使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34362796A JPH10189559A (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | Ｃｖｄ装置のガス吹出し用ヘッド水平調整装置およびその使用方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10189559A true JPH10189559A (ja) | 1998-07-21 |
Family
ID=18362998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34362796A Pending JPH10189559A (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | Ｃｖｄ装置のガス吹出し用ヘッド水平調整装置およびその使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10189559A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112366164A (zh) * | 2021-01-13 | 2021-02-12 | 四川富美达微电子有限公司 | 一种引线框架校平准直上料装置 |
-
1996
- 1996-12-24 JP JP34362796A patent/JPH10189559A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112366164A (zh) * | 2021-01-13 | 2021-02-12 | 四川富美达微电子有限公司 | 一种引线框架校平准直上料装置 |
| CN112366164B (zh) * | 2021-01-13 | 2021-03-23 | 四川富美达微电子有限公司 | 一种引线框架校平准直上料装置 |
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