JPH10188834A - イオンガン - Google Patents

イオンガン

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Publication number
JPH10188834A
JPH10188834A JP35666596A JP35666596A JPH10188834A JP H10188834 A JPH10188834 A JP H10188834A JP 35666596 A JP35666596 A JP 35666596A JP 35666596 A JP35666596 A JP 35666596A JP H10188834 A JPH10188834 A JP H10188834A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
hole
opening
discharge tube
cathode
Prior art date
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Pending
Application number
JP35666596A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuya Kurata
田 和 也 倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TEKUMAATO KK
Original Assignee
TEKUMAATO KK
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Filing date
Publication date
Application filed by TEKUMAATO KK filed Critical TEKUMAATO KK
Priority to JP35666596A priority Critical patent/JPH10188834A/ja
Publication of JPH10188834A publication Critical patent/JPH10188834A/ja
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 周波数調整を容易にし、形状の小さいイオン
ガンを得る。 【解決手段】 2極放電管10のカソード13に電極貫
通口13aを設け、パイプ14より放電管10に送り込
んだアルゴンガスを図示しない電離装置で電離させ、電
離させたアルゴンガス分子をカソード13に引き付け
る。カソード13には電極貫通口13aが設けられてい
るので、そこを通過したアルゴンガス分子が水晶振動子
20の電極21に衝突して、電極21のエッチングを行
う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エッチングとデポ
ジットの双方が可能なイオンガンに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、アルゴン等の不活性ガスをイオン
化し、300V〜5KV程度の電圧で加速し、試料表面
に衝突させることにより試料表面分子をはじき飛ばすス
パッタリング現象を利用したイオンエッチングが行われ
ている。図4はこのような装置の例であり、イオン発生
部1でプラズマ放電等の方法によってイオンを発生さ
せ、そこで発生したイオンをイオン引き出し電極2によ
り外部に引き出し、加速電極3によって引き出されたイ
オンを加速する。これらの制御は制御部4によって行わ
れ、加速されたイオンは試料5に衝突し、試料5のスパ
ッタリングが行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】然し乍らこのような従
来の方法は、発生したイオンをイオン引き出し電極によ
って装置外部に引き出す必要があるので、イオンの運動
方向を変えていることから引き出されたイオンを更に加
速電極によって加速してから試料に衝突させる必要があ
るので、構造が複雑で且つ形状が大きくなるという課題
を有していた。本発明はこのような状況に鑑みてなされ
たもので、形状を小さくしながら効率を向上させるよう
にしたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために本発明は、2極放電管で加速されたガス粒子の
一部を直接対象物に衝突させることによって対象物の加
工を行うイオンガンを対象とする。このようなイオンガ
ンにおいて、ガス分子が引きつけられる電極の一部にガ
ス分子が通過できる電極貫通口を設けたものである。ま
たこのようなイオンガンにおいて、電極貫通口よりも大
きな第1の開口部と、開口部中心が前記第1の開口部中
心と同一軸上にあるその電極貫通口より小さな第2の開
口部の設けられた金属筒を、第1の開口部が電極貫通口
を収容する状態とし、電極貫通口と平行な状態で移動自
在に放電管外部へ設けたものである。
【0005】このように構成したイオンガンは2極放電
管に送り込まれたガスが電極に印加された電圧によって
加速され、電極の方向に高速で移動する。そのガス分子
の大部分は電極に衝突するが、電極貫通口に達したガス
分子はその部分に衝突する電極がないので、電極貫通口
を貫通して外部に放出される。そのガスの放出先に試料
を置いておけば、その試料と加速されたガス分子が衝突
するので、試料は表面の分子がはじき飛ばされてスパッ
タリングが行われる。
【0006】また、電極貫通口を通過したガス分子が電
極貫通口の外側に設けられた金属筒の内壁に衝突し、金
属筒の衝突部分における分子がはじき飛ばされ、そのは
じき飛ばされた分子が試料に到達し、デポジットが行わ
れる。
【0007】
【発明の実施の形態】図1は本発明の実施の形態を示
し、要部である2極放電管付近の断面図である。この例
では2極冷陰極の放電管10を用いている。放電管10
はケース11の一端にアノード12、他端にカソード1
3を有し、ケース11の一部にパイプ14を設け放電管
10の内部に例えばアルゴンのような不活性ガスが送り
込まれるようになっている。
【0008】放電管10の外部で、カソード13の近傍
には試料となる水晶振動子20が配置され、その水晶振
動子20には電極21,22が設けられている。また、
放電管10のカソード13の略中心部分には水晶振動子
20の電極21と同じ大きさの電極貫通口13aが設け
られており、試料としての水晶振動子20はその電極貫
通口13aの直径よりも若干離れた位置、この実施の形
態では電極貫通口13aの直径とほぼ同一距離離した位
置に置かれている。
【0009】そして、放電管10のアノード12、カソ
ード13間には、直流の高電圧が印加され、放電管10
内に送り込まれたアルゴンガス分子が正に電離される。
【0010】このように構成された装置において、先ず
アルゴンガスが放電管10の内部に送られ正に電離され
る。放電管10はアノード12が正となる極性で電圧が
印加されているので、正に帯電したアルゴンガス分子は
カソード13に向かって加速される。加速されたアルゴ
ンガス分子はカソード13に衝突するが、電極貫通口1
3aの部分に到達したアルゴンガス分子は、その部分の
カソード電極が除去されているので、加速された速度に
近い状態で電極貫通口13aを通過して放電管10の外
部に放出される。
【0011】カソード13の先には水晶振動子20が配
置されているので、放電管10の外部に放出されたアル
ゴンガス分子は水晶振動子20の電極21に衝突する。
この衝突はアルゴンガスが加速された速度に近い状態で
行われるので、電極21表面の金属分子がはじき出さ
れ、エッチングが行われる。エッチングが行われると水
晶振動子20の発振周波数は高い方に移行するので、水
晶振動子20に図示しない発振回路を接続しておき、そ
の発振回路で発信する周波数を測定しながらエッチング
を行えば、水晶振動子20の発振周波数を所望の値に調
整できる。
【0012】この実施の形態の場合、水晶振動子20は
周波数を高い方に移行させる調整を行うことはできる
が、周波数が高くなりすぎた場合、即ち周波数が規定値
よりは高くなりすぎた場合は規格はずれとして不良品に
なってしまう。
【0013】図2はこのような状態になったものも、周
波数を低い方にも調整できるようにしたものであり、図
1と同一記号は同一部分を表している。この装置は図1
のカソード13の外側の、カソード13に近接した位置
に金属筒30を設けたものである。この金属筒30は図
2(a)に示すように、電極貫通口13aよりも大きな
第1の開口部30aと、電極貫通口13aより小さな第
2の開口部30bを有し、電極貫通口13aの中心と、
第2の開口部30bの中心は同一軸上に位置するように
配置されている。例えば図2(b)に示すように、金属
筒30の上方に腕30cが延びており、その腕30cは
支点30dで回動自在に支持されている。そして、腕3
0cから直角に延びた爪30eにバネ30f及びソレノ
イド30gが設けられ、ソレノイド30gが付勢されて
いないとき、開口部30aはその内部に電極貫通口13
aを収容する位置となるように構成されている。
【0014】このため、ソレノイド30gを付勢した
り、消勢したりすることによって金属筒30はカソード
13の面と平行な方向に回動するので、この実施の形態
ではソレノイド30gを消勢したとき、金属筒30の開
口部30aが電極貫通口13aを完全に覆う位置とな
り、ソレノイド30gを付勢したとき金属筒30が電極
貫通口13aを外れる位置となるように設定されてい
る。尚、金属筒30は銀、金等のスパッタ率の高い金属
あるいは水晶振動子20の電極21と同一材料が用いら
れる。
【0015】このように構成された装置において、ソレ
ノイド30gが付勢されたとき、金属筒30は電極貫通
口13aを外れるので、図1の状態となり、そのときの
動作は図1で説明したものと同様になり、水晶振動子2
0の電極21がエッチングされ、周波数が高くなる方に
調整される。
【0016】ソレノイド30gを消勢すると、金属筒3
0は支点30dを中心に回動して元の位置に戻り、金属
筒30の開口部30aはカソード13の電極貫通口13
aを完全に覆う位置にくる。金属筒30はカソード13
側の開口部30aの方が開口部30bよりも直径が大き
くなるように構成されているので、その側壁は傾斜して
いる。
【0017】この結果、電極貫通口13aを通過したア
ルゴンガスは金属筒30の側壁に衝突して、側壁表面の
分子をはじき出す。そのはじき出された分子は開口部3
0bを通過して、金属筒30の近くに配置されている水
晶振動子20に到達し、電極21上にデポジット(積
着)されるので、水晶振動子20の発振周波数は低い方
に移行する。
【0018】従って図2(a),(b)の装置は周波数
を高い方にも低い方にも自在に調整でき、正確な周波数
調整が行える。
【0019】図2(a),(b)の装置において、金属
筒30を設けてあるので、大部分のアルゴン分子は金属
筒30に衝突するが、開口部30aの中心付近を通過す
るアルゴン分子もあり、金属筒ではじき飛ばされた金属
分子が互いに衝突し合って全体的には周波数は低い方に
調整される。
【0020】以上の実施の形態は放電管に冷陰極放電管
を用い、水晶振動子の周波数調整の例で説明したが、本
発明はこれに限られず、熱陰極放電管でもよく、また、
エッチング及びデポジットの厚みを任意に調整できる用
途に応用可能であり、乾式メッキ全般に使用できる。
【0021】図3は図2(a),(b)の装置で水晶振
動子の周波数調整をした具体例を示すグラフであって、
数秒のエッチングを行ったものである。この実施の形態
では約2秒で300Hz程度で発振周波数が高くなるよ
うに調整し、その後は約3秒で発振周波数が100Hz
程度低くなるように調整されている。このため、周波数
調整が多少高めとなっても、後で修正して正確な周波数
とすることができる。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るイオ
ンガンによれば、2極放電管に送り込まれたガス分子を
加速して対象物に衝突させることによって対象物の加工
を行うイオンガンにおいて、前記ガス分子が引きつけら
れる電極の一部に前記ガス分子が通過できる貫通口を設
けたので、試料のエッチング及びデポジットが任意に行
え、圧電振動子のようなものの周波数調整に使用すれ
ば、正確な周波数に調整することができるという効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るイオンガンの実施の形態を示す部
分断面図。
【図2】本発明に係るイオンガンの他の実施の形態を示
すもので、(a)は部分断面図、(b)は側面図。
【図3】図2の装置によって周波数調整したときの具体
例を示すグラフ。
【図4】従来のイオンガンの説明図。
【符号の説明】 1 イオン発生部 2 引き出し電極 3 加速電極 4 制御部 5 試料 10 放電管 11 ケース 12 アノード 13 カソード 13a 電極貫通口 14 パイプ 20 水晶振動子 21 電極 22 電極 30 金属筒 30a 開口部 30b 開口部 30c 腕 30d 支点 30e 爪 30f スプリング 30g ソレノイド

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2極放電管に送り込まれたガス分子を加
    速して対象物に衝突させることによって対象物の加工を
    行うイオンガンにおいて、 前記ガス分子が引きつけられる電極の一部に前記ガス分
    子が通過できる貫通口を設けたことを特徴とするイオン
    ガン。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のイオンガンにおいて、 前記電極の貫通口よりも大きな第1の開口部と、開口部
    中心が前記第1の開口部中心と同一軸上にある前記電極
    貫通口より小さな第2の開口部の設けられた金属筒を、
    前記第1の開口部が前記電極貫通口を収容し前記電極貫
    通口と平行な状態で移動自在に放電管外部へ設けたこと
    を特徴とするイオンガン。
JP35666596A 1996-12-27 1996-12-27 イオンガン Pending JPH10188834A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35666596A JPH10188834A (ja) 1996-12-27 1996-12-27 イオンガン

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35666596A JPH10188834A (ja) 1996-12-27 1996-12-27 イオンガン

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Publication Number Publication Date
JPH10188834A true JPH10188834A (ja) 1998-07-21

Family

ID=18450175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35666596A Pending JPH10188834A (ja) 1996-12-27 1996-12-27 イオンガン

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JP (1) JPH10188834A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009158491A (ja) * 2009-04-01 2009-07-16 Nu Eco Engineering Kk プラズマ発生装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009158491A (ja) * 2009-04-01 2009-07-16 Nu Eco Engineering Kk プラズマ発生装置

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