RU1745080C - Источник ионов паров металлов - Google Patents
Источник ионов паров металлов Download PDFInfo
- Publication number
- RU1745080C RU1745080C SU4806303A RU1745080C RU 1745080 C RU1745080 C RU 1745080C SU 4806303 A SU4806303 A SU 4806303A RU 1745080 C RU1745080 C RU 1745080C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- hole
- ions
- plasma
- tip
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области технической физики и может быть использовано для вакуумно-плазменной обработки материалов. Целью изобретения является повышение концентрации ионов металла в рабочем потоке плазмы и увеличение ресурса работы источника. Поставленная цель достигается тем, что стержень с наконечником установлен на расстоянии l = (1 - 3)d, где d - диаметр катодного отверстия. При этом обращенная к катоду поверхность наконечника выполнена в форме части сферы, центр которой расположен на оси катодного отверстия и радиус которой не превышает диаметра d катодного отверстия. Между полым катодом 1 и анодом 3 зажигается разряд. Зажигание разряда сопровождается появлением катодной плазмы в полом катоде, анодной плазмы в аноде и сгустком плотной плазмы в контрагирующем отверстии 2. При подаче отрицательного потенциала на стержень 4 ионы анодной плазмы бомбардируют наконечник 6, интенсивно распыляя его металлическую поверхность, обращенную к катоду 1. Из плотной плазмы, генерируемой в контрагирующем отверстии 2, ионы металлов вместе с ионами сопутствующего газа проходят через полый катод и попадают в поле электродов 8, 9, где формируются в поток и ускоряются до требуемых энергий. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
Description
Изобретение относится к устройствам для получения стационарных интенсивных пучков ионов паров различных металлов, включая тугоплавкие, и может быть использовано для технологических операций на базе ионно-лучевой обработки материалов в вакууме (например, легирование инструмента с целью его упрочнения, легирование полупроводников, нанесение покрытий и т.д.
Целью изобретения является повышение концентрации ионов металла в потоке ионов и ресурса источника ионов.
Поставленная цель достигается тем, что стержень с наконечником установлен на расстоянии l = (1-3)d от дна катода, где d - диаметр катодного отверстия, при этом обращенная к катоду поверхность наконечника выполнена в форме части сферы, центр которой расположен на оси катодного отверстия, а ее радиус не превышает диаметра катодного отверстия. С целью расширения выбора рабочих материалов наконечник выполнен из следующего ряда металлов (Ta, Ti, Ni, Fe и др.).
Стержень с наконечником выведен из критичной к геометрическим размерам зоны разряда, поэтому уменьшение размеров наконечника при его распылении для получения ионов паров металла не оказывает влияния на параметры разряда и источника ионов в целом, что позволяет повысить ресурс источника ионов. Увеличение объема материала наконечника позволяет дополнительно повысить ресурс источника ионов. Так как расстояние, на котором наконечник стержня расположен от дна катода, равное (1-3)d, где d - диаметр катодного отверстия, сравнимо с длиной свободного пробега распыленных атомов металла в зоне ионизации при давлениях (10-3 - 10-2) Торр, соответствующих оптимальным для разрядов низкого давления, то уменьшается вероятность попадания распыленных атомов металлов на стенки разрядной камеры, что повышает концентрацию ионов металла в разряде и в выходящем из источника потоке ионов. Сферическая форма обращенной к катоду поверхности наконечника фокусирует распыленные атомы металла наконечника в отверстие катода, что также уменьшает вероятность потерь атомов металла и повышает концентрацию ионов металла в разряде и в потоке ионов из источника. Нижний предел расстояния от наконечника до дна катода, равный d, ограничен перекрытием катодных падений (ионных оболочек) наконечника и катода, что приводит к прекращению тока электронов на анод и обрыву разряда. Верхний предел этого расстояния, равный 3d, ограничен длиной свободного пробега распыленных атомов металла наконечника в зоне ионизации до контрагирующего отверстия катода. Увеличение этого расстояния выше 3d приводит к рассеянию распыленных атомов металла, что повышает потери атомов металла на стенки разрядной камеры и уменьшает концентрацию ионов металла в потоке ионов из источника.
На чертеже показан источник ионов паров металлов.
Полый катод 1 выполнен в виде цилиндрического стакана, в дне которого выполнено осевое контрагирующее катодное отверстие 2. Соосно с катодом герметично установлен анод 3, в ближней к катоду стенке которого выполнено отверстие диаметром, превышающим диаметр катодного отверстия. С анодной стороны разрядной камеры, включающей электроды 1 и 3, герметично установлен стержень 4, электрически изолированный с помощью изолятора 5. На стержне 4 установлен наконечник 6 из ионообразующего металла (например, тантал, титан, никель, железо и др.). Расстояние от дна катода 1 до наконечника 6 составляет (1-3)d, где d - диаметр катодного отверстия 2. Поверхность наконечника 6, обращенная к катоду 1, выполнена в форме части сферы, центр которой расположен на оси катодного отверстия 2, а ее радиус не превышает диаметра катодного отверстия 2. Дно катода 1, стержень 4 выполняются из ферромагнитного материала и вместе с катушкой электромагнита 7 образуют магнитную систему, создающую магнитное поле вдоль оси источника ионов в области отверстия анода 3. Эмиссионный электрод 8, вместе с ускоряющим электродом 9 образует многоапертурную ионно-оптическую систему. Напуск сопутствующего газа, необходимого для горения разряда, осуществляется через торцовую стенку анода 3. Откачка герметизированной разрядной камеры осуществляется через отверстия ионно-оптической системы. С целью увеличения площади токоотбора ионов, а вместе с тем и площади поперечного сечения пучка, возможно увеличение числа отверстий в катоде 1 и аноде 2 и стержней 4 с наконечниками 6, т.е. возможна организация параллельных каналов разряда с одним катодом и одним анодом. Подключение электродов источника ионов к блокам электропитания катод 1 и анод 3 - к блоку питания разряда, анод 3 и стержень 4 - к блоку питания распыляемого наконечника 6 стержня 4 (минус - на стержень 4), электроды 8 и 9 - к высоковольтному блоку питания (плюс - на электрод 8).
Источник ионов работает следующим образом.
Разряд между полым катодом 1 и анодом 3 зажигается после напуска сопутствующего газа (например, аргона) и подачи разрядного напряжения ≈ 600 В. Напряжение горения разряда составляет величину 300 В. Зажигание разряда сопровождается появление катодной плазмы, отделенной от стенок катода 1 электростатическим слоем (катодным падением), и сгустка плотной плазмы в контрагирующем отверстии 2, отделенного ДЭС в форме, близкой к полусфере, от катодной плазмы и электро- статическим слоем от стенок отверстия 2. ДЭС располагается в полом катоде 1 вблизи контрагирующего отверстия 2.
Из контрагирующего отверстия плазма проникает в анод 3, выполненный в форме полого цилиндрического стакана, где образуется плазменная граница, отделенная от обращенной к катоду 1 поверхности наконечника 6, выполненной в форме части сферы, электростатическим слоем. При подаче отрицательного потенциала на стержень 4 ионы с плазменной границы движутся вдоль силовых линий электрического поля электростатического слоя нормально к поверхности наконечника 6, обращенной к катоду 1. Ускоренные ионы бомбардируют поверхность наконечника 6, интенсивно распыляя ее. Распыленные атомы металла наконечника 6, двигаясь нормально от поверхности и наконечника, поступают в направлении оси источника в зону интенсивной ионизации, расположенной в катодном контрагирующем отверстии 2, где и происходит образование ионов металла.
Механизм образования заряженных частиц, обеспечивающих поддержание разряда и поставку ионов в пучок, следующий.
Со стенок полого катода 1 за счет ионно-электронной эмиссии выбиваются первичные электроны. Они ускоряются катодным падением Uk. При пересечении полости они теряют часть энергии на взаимодействия с катодной плазмой и уже не могут вернуться обратно на стенку, покинуть полость катода 1 они могут только через катодное отверстие 2. Из-за большого отношения внутренней поверхности полого катода 1 к площади отверстия 2 первичные электроны многократно осциллируют в полом катоде, растрачивая свою энергию eUk на генерацию катодной плазмы, при этом обеспечивается коэффициент объемного размножения первичных электронов α1> 2. Далее первичные электроны вместе с образованными электронами катодной плазмы фокусируются и ускоряются ДЭС до энергии eUc (Uс - напряжение на ДЭС) в область сжатия разряда контрагирующим отверстием 2, где обеспечивается ионизация распыленных атомов металла наконечника 6 и сопутствующего газа с образованием плотной плазмы. Плотная плазма генерируется за счет пучково-плазменных взаимодействий (ППВ).
Введение аксиального магнитного поля между стержнем 4 и дном катода 1 и подача отрицательного потенциала на стержень 4 препятствуют уходу ионизирующих электронов на ближнюю к катоду 1 стенку анода 3 и обеспечивают увеличение отдачи энергии eUc электронами, прошедшими ДЭС, на объемную генерацию плотной плазмы в контрагирующем отверстии 2 за счет их осцилляций вдоль силовых линий магнитного поля (вдоль оси - источника) при отражении от наконечника 6. В плотной плазме контрагирующего отверстия 2 обеспечивается размножение электронов, поступивших из катодной полости 1 с энергией eUc, с коэффициентом α2 > 2. Ток электронов в разряде замыкается на анод, перемещение которых поперек силовых линий магнитного поля происходит при столкновениях с атомами рабочего вещества и за счет ППВ.
Из плотной плазмы, генерируемой в контрагирующем отверстии 2, ионы паров металла вместе с ионами сопутствующего газа ускоряются ДЭС и в виде расходящегося потока движутся в полом катоде 1 и через отверстия в эмиссионном электроде 8 выходят в ускоряющий промежуток. При подаче от высоковольтного блока питания ускоряющего напряжения между эмиссионным 8 и ускоряющим 9 электродами ионы формируются в пучок и ускоряются до требуемых энергий. Часть ионов из расходящегося потока и катодной плазмы попадают на стенки полого катода 1 и участвуют в воспроизводстве первичных электронов.
Пары металла наконечника 6 образуются за счет катодного распыления наконечника 6 при подаче напряжения на стержень 4 до 1 кВ. При этом сферическая форма обращенной к катоду 1 поверхности наконечника 6 обеспечивает фокусировку распыленного металла в зону интенсивной ионизации (контрагирующеее отверстие 2). С увеличением потенциала наконечника 6 относительно анода 3 увеличивается и ширина электростатического слоя у его поверхности, отделяющего плотную плазму контрагирующего отверстия 2. Этим обусловлено ограничение минимального расстояния l между наконечником 6 и дном полого катода 1 величиной d, так как перекрытие слоев у наконечника 6 и отверстия 2 приводит к прекращению тока на анод, т.е. к обрыву разряда.
Распыленные атомы ионообразующего металла наконечника 6 поступают непосредственно в зону интенсивной ионизации (отверстие 2), при этом максимальное расстояние l = 3d ограничено длиной свободного пробега λ распыленных атомов металла в этой зоне (l = 3d ≈λ). При p ≈ 5 ˙ 10-3Торр величина λ≈ 10-2 м, что обеспечивает при d = 4 ˙ 10-3 мм соотношение l ≈ 2,5d, которое находится в пределах (1-3)d. Очевидно, что уменьшение концентрации ионов металла в разряде и в потоке ионов из источника при l > 3d (l > λ) связано с увеличением рассеяния распыленных атомов металла на атомах сопутствующего газа. При этом уменьшается и коэффициент использования рабочего вещества.
Предложенный источник ионов имеет большой ресурс работы и высокую концентрацию ионов металла в потоке ионов из источника.
Claims (2)
1. ИСТОЧНИК ИОНОВ ПАРОВ МЕТАЛЛОВ, содержащий холодный полый катод в виде цилиндрического стакана с осевым отверстием в дне, анод, выполненный в форме полого цилиндрического стакана, обращенный своим основанием к днищу катода, в котором выполнено отверстие, соосное с осевым катодным отверстием, и диаметром, большим диаметра катодного отверстия, стержень с наконечником из ионообразующего металла, установленный со стороны анода вдоль оси симметрии источника, электромагнитную катушку и многоапертурную ионно-оптическую систему, отличающийся тем, что, с целью повышения концентрации ионов металла в потоке ионов и ресурса источника ионов, стержень с наконечником установлен на расстоянии l = (1 - 3) d от дна катода, где d - диаметр катодного отверстия, при этом обращенная к катоду поверхность наконечника выполнена в форме части сферы, центр которой расположен на оси катодного отверстия, а ее радиус не превышает диаметр катодного отверстия.
2. Источник ионов по п.1, отличающийся тем, что, с целью расширения выбора рабочих материалов, наконечник выполнен из следующего ряда металлов: Ta, Ti, Ni, Fe.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4806303 RU1745080C (ru) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Источник ионов паров металлов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4806303 RU1745080C (ru) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Источник ионов паров металлов |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1745080C true RU1745080C (ru) | 1995-03-27 |
Family
ID=30441719
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4806303 RU1745080C (ru) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Источник ионов паров металлов |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1745080C (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10243406A1 (de) * | 2002-09-18 | 2004-04-01 | Leybold Optics Gmbh | Plasmaquelle |
-
1990
- 1990-03-29 RU SU4806303 patent/RU1745080C/ru active
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР N 1561744, кл. H 01J 27/00, 1987. * |
Никитинский В.А. и др. Источник ионов металлов. Сб. Тезисы докладов I-й Всесоюзной конференции "Модификация свойств конструкционных материалов пучками заряженных частиц". Томск, 1988, с.53-55. * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10243406A1 (de) * | 2002-09-18 | 2004-04-01 | Leybold Optics Gmbh | Plasmaquelle |
US6841942B2 (en) | 2002-09-18 | 2005-01-11 | Leybold Optics Gmbh | Plasma source with reliable ignition |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4684848A (en) | Broad-beam electron source | |
US5022977A (en) | Ion generation apparatus and thin film forming apparatus and ion source utilizing the ion generation apparatus | |
US4714860A (en) | Ion beam generating apparatus | |
US4541890A (en) | Hall ion generator for working surfaces with a low energy high intensity ion beam | |
US4122347A (en) | Ion source | |
US4894546A (en) | Hollow cathode ion sources | |
US4412153A (en) | Dual filament ion source | |
US5640009A (en) | Fast atom beam source | |
EP0291185B1 (en) | Improved ion source | |
US5315121A (en) | Metal ion source and a method of producing metal ions | |
US3702416A (en) | Ion source having a uniform radial density | |
RU1745080C (ru) | Источник ионов паров металлов | |
White | Ion sources for use in ion implantation | |
JPH07169425A (ja) | イオン源 | |
JP3064214B2 (ja) | 高速原子線源 | |
JPH0762989B2 (ja) | 電子ビ−ム励起イオン源 | |
US4846953A (en) | Metal ion source | |
JPH10275566A (ja) | イオン源 | |
Burdovitsin et al. | Plasma Electron Sources | |
Schanin et al. | Cold-hollow-cathode arc discharge in crossed electric and magnetic fields | |
Kazakov et al. | Parameters of Constricted Arc for the Pulsed Forevacuum Plasma Electron Source | |
Cornish et al. | The use of an electron microchannel as a self-extracting and focusing plasma cathode electron gun | |
KR960004963B1 (ko) | 이온 유도 스퍼터링(Ion Induced Sputtering)을 이용한 고밀도 플라즈마 생성법과 그 장치 | |
EP0095879B1 (en) | Apparatus and method for working surfaces with a low energy high intensity ion beam | |
JP2627420B2 (ja) | 高速原子線源 |