JPH10182608A

JPH10182608A - アリールウレア又はアリールメチルカルバモイル誘導体

Info

Publication number: JPH10182608A
Application number: JP30510997A
Authority: JP
Inventors: Hiroaki Yanagisawa; 宏明柳沢; Satoru Naito; 覚内藤; Minoru Takamura; 実高村; Teiichiro Koga; 貞一郎古賀
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 1996-11-08
Filing date: 1997-11-07
Publication date: 1998-07-07

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、優れたアシルＣｏＡ：コレステロー
ルアシルトランスフェラーゼ阻害作用を有し、ＡＣＡＴ
阻害作用に起因する各種疾患の治療剤若しくは予防剤、
例えば、高脂血症の治療剤若しくは予防剤、アテローム
性動脈硬化症の治療剤若しくは予防剤等として有用であ
るアリールウレア若しくはアリールカルバモイル誘導体
又はその薬理上許容されるを提供する。【解決手段】一般式【化１】（式中、Ｘ：＝ＣＨ−、＝Ｎ−；Ｙ：メチレン、イミ
ノ；Ｒ¹ ：Ｈ、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキル；Ｒ² ：６員環状ヘ
テロアリール；Ｒ³ ：Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール；Ｒ⁴ ：Ｈ、
ハロゲン、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルコキ
シ、Ｃ₁ −Ｃ₈アルキルチオ、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール、Ｃ₆
−Ｃ₁₀アリールオキシ、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリールチオ、Ｃ₇
−Ｃ₁₂アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₁₂アラルキルオキシ、Ｃ₇
−Ｃ₁₂アラルキルチオ、ジーＣ₁ −Ｃ₆ アルキルアミ
ノ、３−６員環状アミノ。）を有するアリ−ルウレア若
しくはアリ−ルメチルカルバモイル誘導体又はそれらの
薬理上許容される塩。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は優れたアシルＣｏ
Ａ：コレステロールアシルトランスフェラーゼ（以下、
ＡＣＡＴと略記する。）阻害作用を有し、ＡＣＡＴ阻害
作用に起因する各種疾患の治療剤若しくは予防剤、例え
ば、高脂血症の治療剤若しくは予防剤、アテローム性動
脈硬化症の治療剤若しくは予防剤等として有用なアリ−
ルウレア若しくはアリ−ルメチルカルバモイル誘導体又
はそれらの薬理上許容される塩、又はそれらを有効成分
とするＡＣＡＴ阻害剤、高脂血症の治療剤若しくは予防
剤又はアテローム性動脈硬化症の治療剤若しくは予防剤
に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＡＣＡＴ阻害作用を有する化合物とし
て、ｏ−置換アニリンのウレア誘導体が幾つか知られて
いる。例えば、特開平７−１０１９４０号公報には、Ｎ
−（ｏ−置換フェニル）−Ｎ’−（４−フェニルピリミ
ジン−５−イル）ウレア誘導体、Ｎ−（ｏ−置換フェニ
ル）−Ｎ’−（６−フェニルピリジン−５−イル）ウレ
ア誘導体等が記載されている。また、特開昭６２−１４
９６６２号公報には、Ｎ−（２, ４- ビスアリ−ル- ５
- ピリジル）−Ｎ’−ジアルキルアミノアルキルウレア
誘導体等が脳血管疾患の治療に有用であると記載されて
いるが、ＡＣＡＴ阻害作用、血清コレステロール低下作
用に関しては何等記載がない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、ウレア
誘導体等を合成し、その薬理活性について、永年に亘り
鋭意研究を行なった結果、特異な構造を有するアリ−ル
ウレア若しくはアリ−ルメチルカルバモイル誘導体が、
優れたＡＣＡＴ阻害作用を有し、また経口吸収性にも優
れ、ＡＣＡＴ阻害作用に起因する各種疾患治療剤若しく
は予防剤、例えば、高脂血症の治療剤若しくは予防剤、
アテローム性動脈硬化症の治療剤若しくは予防剤等とし
て有用であることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。本発明は、アリ−ルウレア若しくはアリ−ルメチル
カルバモイル誘導体又はそれらの薬理上許容される塩、
又はそれらを有効成分とするＡＣＡＴ阻害剤、高脂血症
の治療剤若しくは予防剤又はアテローム性動脈硬化症の
治療剤若しくは予防剤を提供する。

【０００４】

【課題を解決するための手段】アリ−ルウレア若しくは
アリ−ルメチルカルバモイル誘導体は、一般式

【０００５】

【化２】

【０００６】を有する。

【０００７】上記式中、Ｘは、式＝ＣＨ− 又は＝
Ｎ− を有する基を示し、Ｙは、メチレン基又はイミノ
基を示し、Ｒ¹ は、水素原子又はＣ₁ −Ｃ₈ アルキル基
を示し、Ｒ² は、窒素原子を１乃至２個含む６員環状ヘ
テロアリール基を示し、Ｒ³ は、置換されていてもよい
Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール基（該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ
₁ −Ｃ₆ アルキル基、ハロゲノ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル
基、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキシ基又はＣ₁ −Ｃ₆ アルキルチ
オ基を示す。）を示し、Ｒ⁴ は、水素原子、ハロゲン原
子、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルコキシ基、
Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキルチオ基、置換されていてもよいＣ₆
−Ｃ₁₀アリール基（該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ₁ −
Ｃ₆ アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキシ基、Ｃ₁ −Ｃ₆
アルキルチオ基、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルカノイル基、Ｃ₁ −Ｃ
₆ アルカノイルアミノ基、シアノ基又はニトロ基を示
す。）、置換されていてもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリールオキ
シ基（該置換基は、Ｒ⁴ のＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基の置換
基と同一の基を示す。）、置換されていてもよいＣ₆ −
Ｃ₁₀アリールチオ基（該置換基は、Ｒ⁴ のＣ₆ −Ｃ₁₀ア
リール基の置換基と同一の基を示す。）、置換されてい
てもよいＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキル基（該置換基は、Ｒ⁴ の
Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール基の置換基と同一の基を示す。）、
置換されていてもよいＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキルオキシ基
（該置換基は、Ｒ⁴ のＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基の置換基と
同一の基を示す。）、置換されていてもよいＣ₇ −Ｃ₁₂
アラルキルチオ基（該置換基は、Ｒ⁴ のＣ₆ −Ｃ₁₀アリ
ール基の置換基と同一の基を示す。）、ジーＣ₁ −Ｃ₆
アルキルアミノ基又は酸素若しくは硫黄原子を含んでも
よい３乃至６員環状アミノ基を示す。

【０００８】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹ のＣ₁ −
Ｃ₈ アルキル基は、炭素数１個乃至８個の直鎖状若しく
は分枝状のアルキル基であり、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ
−ブチル、ｔ- ブチル、ペンチル、イソペンチル、ｔ−
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル基であり得、
好適には、Ｃ₁ −Ｃ₅ アルキル基であり、更に好適に
は、イソプロピル、ｔ−ブチル又はｔ- ペンチル基であ
り、特に好適には、ｔ−ブチル基である。

【０００９】Ｒ² の窒素原子を１乃至２個含む６員環状
ヘテロアリール基は、例えば、ピリジル、ピリミジル、
ピラジニル、ピリダジニル基であり得、好適には、ピリ
ジル基である。

【００１０】Ｒ³ の置換されていてもよいＣ₆ −Ｃ₁₀ア
リール基のアリール部分は、例えば、フエニル、ナフチ
ル基であり得、好適には、フエニル基である。また、置
換基の数は、好適には、１乃至３であり、更に好適に
は、１乃至２であり、特に好適には、１である。更に、
置換基の位置は、好適には、オルソ又はメタ位であり、
特に好適には、オルソ位である。

【００１１】Ｒ³ のアリール基の置換基であるハロゲン
原子は、例えば、弗素、塩素、臭素、沃素原子であり
得、好適には、弗素、塩素又は臭素原子であり、特に好
適には、弗素又は塩素原子である。

【００１２】Ｒ³ のアリール基の置換基であるＣ₁ −Ｃ
₆ アルキル基は、例えば、Ｒ¹ のＣ₁ −Ｃ₈ アルキル基
における炭素数１個乃至６個のアルキル基であり得、好
適には、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基であり、更に好適には、
メチル又はエチル基であり、特に好適には、メチル基で
ある。

【００１３】Ｒ³ のアリール基の置換基であるハロゲノ
−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基は、ハロゲン原子で置換された
炭素数１個乃至４個のアルキル基であり、例えば、フル
オロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ヨードメチ
ル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、トリクロ
ロメチル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、２
−ブロモエチル、２−トリフルオロエチル、３−フルオ
ロプロピル、４−フルオロブチル基であり得、好適に
は、フルオロ−Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基であり、特に好適
には、トリフルオロメチル基である。

【００１４】Ｒ³ のアリール基の置換基であるＣ₁ −Ｃ
₆ アルコキシ基は、炭素数１個乃至６個の直鎖状若しく
は分枝状のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソ
ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基であり
得、好適には、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ基であり、更に好
適には、メトキシ又はエトキシ基であり、特に好適に
は、メトキシ基である。

【００１５】Ｒ³ のアリール基の置換基であるＣ₁ −Ｃ
₆ アルキルチオ基は、炭素数１個乃至６個の直鎖状若し
くは分枝状のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、イソブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチ
オ基であり得、好適には、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルチオ基で
あり、更に好適には、メチルチオ又はエチルチオ基であ
り、特に好適には、メチルチオ基である。

【００１６】Ｒ⁴ のハロゲン原子は、Ｒ³ の置換基で述
べたハロゲン原子と同様なものである。

【００１７】Ｒ⁴ のＣ₁ −Ｃ₈ アルキル基は、Ｒ¹ で述
べたものと同様なものであり得、好適には、Ｃ₂ −Ｃ₇
アルキル基であり、更に好適には、Ｃ₃ −Ｃ₆ アルキル
基であり、更により好適には、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル又はヘ
キシル基であり、特に好適には、プロピル、ブチル、ペ
ンチル又はヘキシル基である。

【００１８】Ｒ^４のＣ₁ −Ｃ₈ アルコキシ基は、例え
ば、Ｒ³ の置換基で述べたＣ₁ −Ｃ₆アルコキシ基、ヘ
プチルオキシ基、オクチルオキシ基であり得、好適に
は、Ｃ₂−Ｃ₇ アルコキシ基であり、更に好適には、Ｃ₃
−Ｃ₆ アルコキシ基であり、更により好適には、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔ
-ブトキシ、ペンチオキシ又はヘキシルオキシ基であ
り、特に好適には、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオ
キシ又はヘキシルオキシ基である。

【００１９】Ｒ⁴ のＣ₁ −Ｃ₈ アルキルチオ基は、例え
ば、Ｒ³ の置換基で述べたＣ₁ −Ｃ₆ アルキルチオ基、
ヘプチルチオ基、オクチルチオ基であり得、好適には、
Ｃ₂ −Ｃ₇ アルキルチオ基であり、更に好適には、Ｃ₃
−Ｃ₆ アルキチオ基であり、更により好適には、プロピ
ルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチ
オ、ｔ- ブチルチオ、ペンチルチオ又はヘキシルチオ基
であり、特に好適には、プロピルチオ、ブチルチオ、ペ
ンチルチオ又はヘキシルチオ基である。

【００２０】Ｒ⁴ の置換されていてもよいＣ₆ −Ｃ₁₀ア
リール基のアリール部分は、Ｒ³ で述べたものと同様で
あるが、置換基の位置は、好適には、メタ又はパラ位で
あり、特に好適には、パラ位である。

【００２１】Ｒ⁴ のアリール基の置換基であるハロゲン
原子、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆ アルコキシ基
又はＣ₁ −Ｃ₆ アルキルチオ基は、Ｒ³ で述べたものと
同様である。

【００２２】Ｒ⁴ のアリール基の置換基であるＣ₁ −Ｃ
₆ アルカノイル基は、炭素数１個乃至６個の直鎖状若し
くは分枝状のアルカノイル基であり、例えば、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル基であり得、
好適には、Ｃ₁ −Ｃ₃ アルカノイル基であり、特に好適
には、ホルミル又はアセチル基である。

【００２３】Ｒ⁴ のアリール基の置換基であるＣ₁ −Ｃ
₆ アルカノイルアミノ基のＣ₁ −Ｃ₆ アルカノイル部分
は、上述したものと同様のものであるが、特に好適に
は、アセチル基である。

【００２４】Ｒ⁴ の置換されていてもよいアリールオキ
シ基のアリール部分及びその置換基はＲ⁴ のアリール基
及びその置換基と同様である。Ｒ⁴ の置換されていても
よいアリールチオ基のアリール部分及びその置換基はＲ
⁴ のアリール基及びその置換基と同様である。

【００２５】Ｒ⁴ の置換されていてもよいＣ₇ −Ｃ₁₂ア
ラルキル基のＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキル部分は、炭素数６個
乃至１０個のアリール基で置換された炭素数１個乃至４
個の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基であり、例え
ば、ベンジル、フエネチル、３−フエニルプロピル、４
−フエニルブチル、ナフチルメチル、２−ナフチルエチ
ル基であり得、好適には、ベンジル、フエネチル又は３
−フエニルプロピル基であり、更に好適には、ベンジル
又はフエネチル基であり、特に好適には、ベンジル基で
ある。また、アリール部分の置換基は、Ｒ⁴ のアリール
基の置換基と同様のものである。

【００２６】Ｒ⁴ の置換されていてもよいＣ₇ −Ｃ₁₂ア
ラルキルオキシ基のＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキル部分は、Ｒ⁴
のアラルキル部分と同様のものであるが、好適には、ベ
ンジルオキシ又はフエネチルオキシ基であり、特に好適
には、ベンジルオキシ基である。また、アリール部分の
置換基は、Ｒ⁴ のアリール基の置換基と同様のものであ
る。

【００２７】Ｒ⁴ の置換されていてもよいＣ₇ −Ｃ₁₂ア
ラルキルチオ基のＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキル部分は、Ｒ⁴ の
アラルキル部分と同様のものであるが、好適には、ベン
ジルオチオ又はフエネチルチオ基であり、特に好適に
は、ベンジルチオ基である。また、アリール部分の置換
基は、Ｒ⁴ のアリール基の置換基と同様のものである。

【００２８】Ｒ⁴ のジ−Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルアミノ基の
Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル部分は、例えば、Ｒ¹ のＣ₁ −Ｃ₈
アルキル基における炭素数１個乃至６個のアルキル基で
あり得、好適には、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基であり、更に
好適には、メチル又はエチル基であり、特に好適には、
メチル基である。

【００２９】Ｒ⁴ の酸素若しくは硫黄原子を含んでもよ
い３乃至６員環状アミノ基は、例えば、１−アジリジニ
ル、１−アゼチジニル、１−ピロリジニル、１−ピペリ
ジニル、４−モルホリニル、４−チオモルホリニル基で
あり得、好適には、５乃至６員環状アミノ基であり、更
に好適には、１−ピロリジニル、１−ピペリジニル、４
−モルホリニル又は４−チオモルホリニル基であり、更
により好適には、１−ピロリジニル、１−ピペリジニル
又は４−モルホリニル基であり、特に好適には、１−ピ
ロリジニル又は１−ピペリジニル基である。

【００３０】Ｘは、好適には、式＝Ｎ− を有する基
である。

【００３１】Ｙは、好適には、イミノ基である。

【００３２】一般式（Ｉ）で表わされる化合物におい
て、Ｒ¹ が結合している炭素原子等は不斉炭素原子であ
り得、それらに基づく光学異性体が存在するが、その異
性体及びそれらの混合物も本発明の化合物に包含され
る。

【００３３】また、化合物（Ｉ）は、容易に薬理上許容
される塩に変換される。それらの塩としては、例えば、
塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸のような無機酸
との塩、酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、酒石
酸、クエン酸のようなカルボン酸との塩、メタンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸のようなスルホン酸との塩であり得、
特に好適には、塩酸塩又は酢酸塩である。更に、化合物
（Ｉ）又はその塩の水和物も本発明に包含される。

【００３４】本発明の化合物（Ｉ）において、好適に
は、１）Ｙが、イミノ基である化合物、２）Ｒ¹ が、Ｃ₁ −Ｃ₅ アルキル基である化合物、３）Ｒ¹ が、イソプロピル基、ｔ−ブチル基又はｔ−ペ
ンチル基である化合物、４）Ｒ¹ が、ｔ−ブチル基である化合物、５）Ｒ² が、ピリジル基である化合物、６）Ｒ³ が、置換されていてもよいフェニル基（該置換
基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
キル基、フルオロ−Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₄
アルコキシ基又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルチオ基である。）
である化合物、７）Ｒ³ が、置換されていてもよいフェニル基（該置換
基は、弗素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、トリ
フルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチ
オ基又はエチルチオ基である。）である化合物、８）Ｒ³ が、置換されていてもよいフェニル基（該置換
基は、弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメ
チル基、メトキシ基又はメチルチオ基である。）である
化合物、９）Ｒ³ が、置換されたフェニル基（該置換基は、メチ
ル基又はメトキシ基である。）である化合物、１０）Ｒ⁴ が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、Ｃ₂ −Ｃ₇ アルキル基、Ｃ₂ −Ｃ₇ アルコキシ基、
Ｃ₂ −Ｃ₇ アルキルチオ基、置換されていてもよいフェ
ニル、ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、
フェノキシ、フェニルチオ、ベンジルオキシ、フェネチ
ルオキシ、ベンジルチオ若しくはフェネチルチオ基（該
置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ₁ −Ｃ₄
アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ基、メチルチオ基、
エチルチオ基、Ｃ₁ −Ｃ₃ アルカノイル基、Ｃ₁ −Ｃ₃
アルカノイルアミノ基、シアノ基又はニトロ基であ
る。）、ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ基又は５乃至６
員環状アミノ基である化合物、１１）Ｒ⁴ が、弗素原子、塩素原子、Ｃ₃ −Ｃ₆ アルキ
ル基、Ｃ₃ −Ｃ₆ アルコキシ基、Ｃ₃ −Ｃ₆ アルキルチ
オ基、置換されていてもよいフェニル、フェノキシ、フ
ェニルチオ、ベンジル、フェネチル、ベンジルオキシ若
しくはベンジルチオ基（該置換基は、弗素原子、塩素原
子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、メ
チルチオ基、エチルチオ基、ホルミル基、アセチル基、
アセトアミノ基、シアノ基又はニトロ基である。）、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、１−ピロリジニル
基、１−ピペリジニル基又は４−モルホリニル基である
化合物、１２）Ｒ⁴ が、塩素原子、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｔ- ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブ
トキシ基、イソブトキシ基、ｔ- ブトキシ基、ペンチオ
キシ基、ヘキシルオキシ基、プロピルチオ基、イソプロ
ピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｔ- ブ
チルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、置換さ
れていてもよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ、
ベンジル、ベンジルオキシ若しくはベンジルチオ基（該
置換基は、弗素原子、塩素原子、メチル基、メトキシ
基、シアノ基又はニトロ基である。）、ジメチルアミノ
基、１−ピロリジニル基又は１−ピペリジニル基である
化合物又は１３）Ｒ⁴ が、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチオキシ
基、ヘキシルオキシ基、プロピルチオ基、ブチルチオ
基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基又は置換されてい
てもよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ若しくは
ベンジルオキシ基（該置換基は、弗素原子、塩素原子、
メチル基又はメトキシ基である。）である化合物をあげ
ることができる。

【００３５】また、Ｙを１）から選択し、Ｒ¹ を２）乃
至４）から選択し、Ｒ² を５）から選択し、Ｒ³ を６）
乃至９）から選択し、Ｒ⁴ を１０）乃至１３）から選択
し、それらを任意に組み合わせて得られる化合物も好適
である。更に、１４）Ｘが、式＝ＣＨ− を有する基であり、Ｙが、
イミノ基であり、Ｒ¹ が、ｔ−ブチル基であり、Ｒ²
が、３−ピリジル基であり、Ｒ³ が、置換されていても
よいフェニル基（該置換基は、弗素原子、塩素原子、メ
チル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基又はメチル
チオ基である。）であり、Ｒ⁴ が、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、プロポキシ基、ブトキシ
基、ペンチオキシ基、ヘキシルオキシ基、プロピルチオ
基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基又
は置換されていてもよいフェノキシ、フェニルチオ若し
くはベンジルオキシ基（該置換基は、弗素原子、塩素原
子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基又は
メチルチオ基である。）である化合物又は１５）Ｘが、式＝Ｎ− を有する基であり、Ｙが、イ
ミノ基であり、Ｒ¹ が、ｔ−ブチル基であり、Ｒ² が、
３−ピリジル基であり、Ｒ³ が、置換されていてもよい
フェニル基（該置換基は、弗素原子、塩素原子、メチル
基、トリフルオロメチル基、メトキシ基又はメチルチオ
基である。）であり、Ｒ⁴ が、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、プロポキシ基、ブトキシ基、
ペンチオキシ基、ヘキシルオキシ基、プロピルチオ基、
ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基又は置
換されていてもよいフェノキシ、フェニルチオ若しくは
ベンジルオキシ基（該置換基は、弗素原子、塩素原子、
メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基又はメチ
ルチオ基である。）である化合物をあげることができ
る。

【００３６】一般式（Ｉ）における好適な化合物は、以
下の表１及び表２に具体的に例示することができる。な
お、表１の化合物は、式（Ｉ−１）の構造式を有し、表
２の化合物は、式（Ｉ−２）の構造式を有する。

【００３７】

【化３】

【００３８】

【表１】 ──────────────────────────────────── 例示化合物Ｒ¹ Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ Ｘ番号 ──────────────────────────────────── 1-1 i-Pr 3-Pyd- Ph H- =CH- 1-2 t-Bu 3-Pyd- Ph H- =CH- 1-3 t-Pn 3-Pyd- Ph H- =CH- 1-4 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- H- =CH- 1-5 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- H- =CH- 1-6 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- H- =CH- 1-7 t-Bu- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- H- =CH- 1-8 t-Bu- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- H- =CH- 1-9 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- H- =CH- 1-10 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- H- =CH- 1-11 i-Pr 3-Pyd- Ph F- =CH- 1-12 t-Bu 3-Pyd- Ph F- =CH- 1-13 t-Pn 3-Pyd- Ph F- =CH- 1-14 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- F- =CH- 1-15 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- F- =CH- 1-16 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- F- =CH- 1-17 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- F- =CH- 1-18 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- F- =CH- 1-19 i-Pr 3-Pyd- Ph Cl- =CH- 1-20 t-Bu 3-Pyd- Ph Cl- =CH- 1-21 t-Pn 3-Pyd- Ph Cl- =CH- 1-22 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Cl- =CH- 1-23 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Cl- =CH- 1-24 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Cl- =CH- 1-25 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Cl- =CH- 1-26 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Cl- =CH- 1-27 i-Pr 3-Pyd- Ph Me- =CH- 1-28 t-Bu 3-Pyd- Ph Me- =CH- 1-29 t-Pn 3-Pyd- Ph Me- =CH- 1-30 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Me- =CH- 1-31 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Me- =CH- 1-32 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Me- =CH- 1-33 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Me- =CH- 1-34 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Me- =CH- 1-35 i-Pr 3-Pyd- Ph Et- =CH- 1-36 t-Bu 3-Pyd- Ph Et- =CH- 1-37 t-Pn 3-Pyd- Ph Et- =CH- 1-38 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- Et- =CH- 1-39 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- Et- =CH- 1-40 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- Et- =CH- 1-41 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Et- =CH- 1-42 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Et- =CH- 1-43 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Et- =CH- 1-44 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Et- =CH- 1-45 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Et- =CH- 1-46 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Et- =CH- 1-47 i-Pr 3-Pyd- Ph Pr- =CH- 1-48 t-Bu 3-Pyd- Ph Pr- =CH- 1-49 t-Pn 3-Pyd- Ph Pr- =CH- 1-50 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pr- =CH- 1-51 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pr- =CH- 1-52 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pr- =CH- 1-53 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pr- =CH- 1-54 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pr- =CH- 1-55 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pr- =CH- 1-56 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Pr- =CH- 1-57 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Pr- =CH- 1-58 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Pr- =CH- 1-59 i-Pr 3-Pyd- Ph i-Pr- =CH- 1-60 t-Bu 3-Pyd- Ph i-Pr- =CH- 1-61 t-Pn 3-Pyd- Ph i-Pr- =CH- 1-62 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-Pr- =CH- 1-63 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-Pr- =CH- 1-64 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-Pr- =CH- 1-65 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-Pr- =CH- 1-66 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-Pr- =CH- 1-67 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-Pr- =CH- 1-68 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- i-Pr- =CH- 1-69 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- i-Pr- =CH- 1-70 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- i-Pr- =CH- 1-71 i-Pr 3-Pyd- Ph Bu- =CH- 1-72 t-Bu 3-Pyd- Ph Bu- =CH- 1-73 t-Pn 3-Pyd- Ph Bu- =CH- 1-74 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- Bu- =CH- 1-75 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- Bu- =CH- 1-76 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- Bu- =CH- 1-77 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Bu- =CH- 1-78 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Bu- =CH- 1-79 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Bu- =CH- 1-80 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Bu- =CH- 1-81 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Bu- =CH- 1-82 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Bu- =CH- 1-83 i-Pr 3-Pyd- Ph i-Bu- =CH- 1-84 t-Bu 3-Pyd- Ph i-Bu- =CH- 1-85 t-Pn 3-Pyd- Ph i-Bu- =CH- 1-86 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-Bu- =CH- 1-87 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-Bu- =CH- 1-88 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-Bu- =CH- 1-89 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-Bu- =CH- 1-90 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-Bu- =CH- 1-91 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-Bu- =CH- 1-92 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- i-Bu- =CH- 1-93 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- i-Bu- =CH- 1-94 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- i-Bu- =CH- 1-95 i-Pr 3-Pyd- Ph t-Bu- =CH- 1-96 t-Bu 3-Pyd- Ph t-Bu- =CH- 1-97 t-Pn 3-Pyd- Ph t-Bu- =CH- 1-98 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- t-Bu- =CH- 1-99 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- t-Bu- =CH- 1-100 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- t-Bu- =CH- 1-101 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- t-Bu- =CH- 1-102 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- t-Bu- =CH- 1-103 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- t-Bu- =CH- 1-104 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- t-Bu- =CH- 1-105 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- t-Bu- =CH- 1-106 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- t-Bu- =CH- 1-107 i-Pr 3-Pyd- Ph Pn- =CH- 1-108 t-Bu 3-Pyd- Ph Pn- =CH- 1-109 t-Pn 3-Pyd- Ph Pn- =CH- 1-110 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pn- =CH- 1-111 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pn- =CH- 1-112 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pn- =CH- 1-113 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pn- =CH- 1-114 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pn- =CH- 1-115 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pn- =CH- 1-116 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Pn- =CH- 1-117 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Pn- =CH- 1-118 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Pn- =CH- 1-119 i-Pr 3-Pyd- Ph Hx- =CH- 1-120 t-Bu 3-Pyd- Ph Hx- =CH- 1-121 t-Pn 3-Pyd- Ph Hx- =CH- 1-122 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- Hx- =CH- 1-123 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- Hx- =CH- 1-124 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- Hx- =CH- 1-125 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Hx- =CH- 1-126 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Hx- =CH- 1-127 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Hx- =CH- 1-128 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Hx- =CH- 1-129 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Hx- =CH- 1-130 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Hx- =CH- 1-131 i-Pr 3-Pyd- Ph Hp- =CH- 1-132 t-Bu 3-Pyd- Ph Hp- =CH- 1-133 t-Pn 3-Pyd- Ph Hp- =CH- 1-134 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- Hp- =CH- 1-135 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- Hp- =CH- 1-136 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- Hp- =CH- 1-137 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Hp- =CH- 1-138 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Hp- =CH- 1-139 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Hp- =CH- 1-140 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Hp- =CH- 1-141 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Hp- =CH- 1-142 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Hp- =CH- 1-143 i-Pr 3-Pyd- Ph Oc- =CH- 1-144 t-Bu 3-Pyd- Ph Oc- =CH- 1-145 t-Pn 3-Pyd- Ph Oc- =CH- 1-146 i-Pr 3-Pyd- 2-Me-Ph- Oc- =CH- 1-147 t-Bu 3-Pyd- 2-Me-Ph- Oc- =CH- 1-148 t-Pn 3-Pyd- 2-Me-Ph- Oc- =CH- 1-149 i-Pr 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Oc- =CH- 1-150 t-Bu 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Oc- =CH- 1-151 t-Pn 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Oc- =CH- 1-152 i-Pr 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Oc- =CH- 1-153 t-Bu 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Oc- =CH- 1-154 t-Pn 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Oc- =CH- 1-155 i-Pr- 3-Pyd- Ph- MeO- =CH- 1-156 t-Bu- 3-Pyd- Ph- MeO- =CH- 1-157 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- MeO- =CH- 1-158 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- MeO- =CH- 1-159 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- MeO- =CH- 1-160 t-Bu- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- MeO- =CH- 1-161 t-Bu- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- MeO- =CH- 1-162 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- MeO- =CH- 1-163 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- MeO- =CH- 1-164 i-Pr- 3-Pyd- Ph- EtO- =CH- 1-165 t-Bu- 3-Pyd- Ph- EtO- =CH- 1-166 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- EtO- =CH- 1-167 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- EtO- =CH- 1-168 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- EtO- =CH- 1-169 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- EtO- =CH- 1-170 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- EtO- =CH- 1-171 i-Pr- 3-Pyd- Ph- PrO- =CH- 1-172 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PrO- =CH- 1-173 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PrO- =CH- 1-174 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PrO- =CH- 1-175 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PrO- =CH- 1-176 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PrO- =CH- 1-177 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PrO- =CH- 1-178 i-Pr- 3-Pyd- Ph- i-PrO- =CH- 1-179 t-Bu- 3-Pyd- Ph- i-PrO- =CH- 1-180 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-PrO- =CH- 1-181 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-PrO- =CH- 1-182 i-Pr- 3-Pyd- Ph- BuO- =CH- 1-183 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BuO- =CH- 1-184 H- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =CH- 1-185 H- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =CH- 1-186 Me- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =CH- 1-187 Me- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =CH- 1-188 Et- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =CH- 1-189 Et- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =CH- 1-190 Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =CH- 1-191 Pr- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =CH- 1-192 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =CH- 1-193 i-Pr- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =CH- 1-194 i-Pr- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- BuO- =CH- 1-195 i-Pr- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- BuO- =CH- 1-196 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =CH- 1-197 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =CH- 1-198 t-Bu- 3-Pyd- 2,4-di-MeO-Ph- BuO- =CH- 1-199 t-Bu- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- BuO- =CH- 1-200 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeS-Ph- BuO- =CH- 1-201 t-Bu- 3-Pyd- 2-F-Ph- BuO- =CH- 1-202 t-Bu- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- BuO- =CH- 1-203 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =CH- 1-204 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =CH- 1-205 t-Pn- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- BuO- =CH- 1-206 t-Pn- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- BuO- =CH- 1-207 i-Pr- 3-Pyd- Ph- i-BuO- =CH- 1-208 t-Bu- 3-Pyd- Ph- i-BuO- =CH- 1-209 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-BuO- =CH- 1-210 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-BuO- =CH- 1-211 i-Pr- 3-Pyd- Ph- t-BuO- =CH- 1-212 t-Bu- 3-Pyd- Ph- t-BuO- =CH- 1-213 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- t-BuO- =CH- 1-214 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- t-BuO- =CH- 1-215 i-Pr- 3-Pyd- Ph- PnO- =CH- 1-216 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PnO- =CH- 1-217 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PnO- =CH- 1-218 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PnO- =CH- 1-219 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PnO- =CH- 1-220 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PnO- =CH- 1-221 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PnO- =CH- 1-222 i-Pr- 3-Pyd- Ph- HxO- =CH- 1-223 t-Bu- 3-Pyd- Ph- HxO- =CH- 1-224 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HxO- =CH- 1-225 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HxO- =CH- 1-226 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- HxO- =CH- 1-227 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HxO- =CH- 1-228 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- HxO- =CH- 1-229 i-Pr- 3-Pyd- Ph- HpO- =CH- 1-230 t-Bu- 3-Pyd- Ph- HpO- =CH- 1-231 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HpO- =CH- 1-232 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HpO- =CH- 1-233 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- HpO- =CH- 1-234 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HpO- =CH- 1-235 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- HpO- =CH- 1-236 i-Pr- 3-Pyd- Ph- OcO- =CH- 1-237 t-Bu- 3-Pyd- Ph- OcO- =CH- 1-238 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- OcO- =CH- 1-239 i-Pr- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- OcO- =CH- 1-240 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- OcO- =CH- 1-241 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- OcO- =CH- 1-242 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- OcO- =CH- 1-243 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- OcO- =CH- 1-244 i-Pr- 3-Pyd- Ph- MeS- =CH- 1-245 t-Bu- 3-Pyd- Ph- MeS- =CH- 1-246 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- MeS- =CH- 1-247 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- MeS- =CH- 1-248 i-Pr- 3-Pyd- Ph- EtS- =CH- 1-249 t-Bu- 3-Pyd- Ph- EtS- =CH- 1-250 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- EtS- =CH- 1-251 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- EtS- =CH- 1-252 i-Pr- 3-Pyd- Ph- PrS- =CH- 1-253 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PrS- =CH- 1-254 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PrS- =CH- 1-255 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PrS- =CH- 1-256 i-Pr- 3-Pyd- Ph- i-PrS- =CH- 1-257 t-Bu- 3-Pyd- Ph- i-PrS- =CH- 1-258 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-PrS- =CH- 1-259 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-PrS- =CH- 1-260 i-Pr- 3-Pyd- Ph- BuS- =CH- 1-261 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BuS- =CH- 1-262 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuS- =CH- 1-263 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuS- =CH- 1-264 i-Pr- 3-Pyd- Ph- i-BuS- =CH- 1-265 t-Bu- 3-Pyd- Ph- i-BuS- =CH- 1-266 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- i-BuS- =CH- 1-267 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- i-BuS- =CH- 1-268 i-Pr- 3-Pyd- Ph- t-BuS- =CH- 1-269 t-Bu- 3-Pyd- Ph- t-BuS- =CH- 1-270 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- t-BuS- =CH- 1-271 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- t-BuS- =CH- 1-272 i-Pr- 3-Pyd- Ph- PnS- =CH- 1-273 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PnS- =CH- 1-274 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PnS- =CH- 1-275 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PnS- =CH- 1-276 i-Pr- 3-Pyd- Ph- HxS- =CH- 1-277 t-Bu- 3-Pyd- Ph- HxS- =CH- 1-278 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HxS- 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Ph- =N- 1-858 t-Bu- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- Ph- =N- 1-859 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeS-Ph- Ph- =N- 1-860 t-Bu- 3-Pyd- 2-F-Ph- Ph- =N- 1-861 t-Bu- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Ph- =N- 1-862 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Ph- =N- 1-863 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Ph- =N- 1-864 t-Pn- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- Ph- =N- 1-865 t-Pn- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- Ph- =N- 1-866 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 3-F-Ph- =N- 1-867 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-F-Ph- =N- 1-868 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-869 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-870 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-871 t-Bu- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-872 t-Bu- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-873 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-874 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-875 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 3-Cl-Ph- =N- 1-876 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-Cl-Ph- =N- 1-877 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-878 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-879 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-880 t-Bu- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-881 t-Bu- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-882 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-883 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-884 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 3-Me-Ph- =N- 1-885 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-Me-Ph- =N- 1-886 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-887 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-888 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-889 t-Bu- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-890 t-Bu- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-891 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-892 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-893 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 3-MeO-Ph- =N- 1-894 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-MeO-Ph- =N- 1-895 i-Pr- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-896 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-897 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-898 t-Bu- 3-Pyd- 2-CF₃-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-899 t-Bu- 3-Pyd- 2-Cl-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-900 t-Pn- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-901 t-Pn- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-902 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- H- =N- 1-903 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- H- =N- 1-904 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- Me- =N- 1-905 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- Me- =N- 1-906 t-Bu- 2-Pyd- Ph- Bn- =N- 1-907 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- Bn- =N- 1-908 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- Bn- =N- 1-909 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- PhCH₂CH₂- =N- 1-910 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- PhCH₂CH₂- =N- 1-911 t-Bu- 2-Pyd- Ph- Ph- =N- 1-912 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- Ph- =N- 1-913 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- Ph- =N- 1-914 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- 3-F-Ph- =N- 1-915 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-F-Ph- =N- 1-916 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-917 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-918 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- 3-Cl-Ph- =N- 1-919 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-Cl-Ph- =N- 1-920 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-921 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-922 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- 3-Me-Ph- =N- 1-923 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-Me-Ph- =N- 1-924 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-925 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-926 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- 3-MeO-Ph- =N- 1-927 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-MeO-Ph- =N- 1-928 t-Bu- 2-Pyd- 2-Me-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-929 t-Bu- 2-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-930 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- H- =N- 1-931 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- H- =N- 1-932 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- Me- =N- 1-933 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- Me- =N- 1-934 t-Bu- 4-Pyd- Ph- Bn- =N- 1-935 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- Bn- =N- 1-936 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- Bn- =N- 1-937 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- PhCH₂CH₂- =N- 1-938 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- PhCH₂CH₂- =N- 1-939 t-Bu- 4-Pyd- Ph- Ph- =N- 1-940 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- Ph- =N- 1-941 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- Ph- =N- 1-942 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- 3-F-Ph- =N- 1-943 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-F-Ph- =N- 1-944 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-945 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-F-Ph- =N- 1-946 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- 3-Cl-Ph- =N- 1-947 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-Cl-Ph- =N- 1-948 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-949 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 1-950 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- 3-Me-Ph- =N- 1-951 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-Me-Ph- =N- 1-952 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-953 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Me-Ph- =N- 1-954 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- 3-MeO-Ph- =N- 1-955 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- 3-MeO-Ph- =N- 1-956 t-Bu- 4-Pyd- 2-Me-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-957 t-Bu- 4-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 1-958 t-Bu- 2-Pyz- 2-Me-Ph- H- =N- 1-959 t-Bu- 2-Pyz- 2-MeO-Ph- H- =N- 1-960 t-Bu- 2-Pyz- 2-Me-Ph- Me- =N- 1-961 t-Bu- 2-Pyz- 2-MeO-Ph- Me- =N- 1-962 t-Bu- 2-Pyz- Ph- Ph- =N- 1-963 t-Bu- 2-Pyz- 2-Me-Ph- Ph- =N- 1-964 t-Bu- 2-Pyz- 2-MeO-Ph- Ph- =N- 1-965 t-Bu- 5-Pym- 2-Me-Ph- H- =N- 1-966 t-Bu- 5-Pym- 2-MeO-Ph- H- =N- 1-967 t-Bu- 5-Pym- 2-Me-Ph- Me- =N- 1-968 t-Bu- 5-Pym- 2-MeO-Ph- Me- =N- 1-969 t-Bu- 5-Pym- Ph- Ph- =N- 1-970 t-Bu- 5-Pym- 2-Me-Ph- Ph- =N- 1-971 t-Bu- 5-Pym- 2-MeO-Ph- Ph- =N- 1-972 t-Bu- 3-Pyzn- 2-Me-Ph- H- =N- 1-973 t-Bu- 3-Pyzn- 2-MeO-Ph- H- =N- 1-974 t-Bu- 3-Pyzn- 2-Me-Ph- Me- =N- 1-975 t-Bu- 3-Pyzn- 2-MeO-Ph- Me- =N- 1-976 t-Bu- 3-Pyzn- Ph- Ph- =N- 1-977 t-Bu- 3-Pyzn- 2-Me-Ph- Ph- =N- 1-978 t-Bu- 3-Pyzn- 2-MeO-Ph- Ph- =N- 1-979 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 1-Np =N- 1-980 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 1-Np =N- 1-981 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 1-Np =N- 1-982 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 2-Np =N- 1-983 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 2-Np =N- 1-984 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 2-Np =N- ──────────────────────────────────。

【００３９】

【表２】 ──────────────────────────────────── 例示化合物Ｒ¹ Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ Ｘ番号 ──────────────────────────────────── 2-1 t-Bu- 3-Pyd- Ph- H- =CH- 2-2 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- H- =CH- 2-3 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- H- =CH- 2-4 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Me- =CH- 2-5 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Me- =CH- 2-6 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Me- =CH- 2-7 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Pr- =CH- 2-8 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pr- =CH- 2-9 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pr- =CH- 2-10 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Bu- =CH- 2-11 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Bu- =CH- 2-12 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Bu- =CH- 2-13 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Pn- =CH- 2-14 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pn- =CH- 2-15 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pn- =CH- 2-16 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Hx- =CH- 2-17 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Hx- =CH- 2-18 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Hx- =CH- 2-19 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Oc- =CH- 2-20 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Oc- =CH- 2-21 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Oc- =CH- 2-22 t-Bu- 3-Pyd- Ph- MeO- =CH- 2-23 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- MeO- =CH- 2-24 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- MeO- =CH- 2-25 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PrO- =CH- 2-26 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PrO- =CH- 2-27 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PrO- =CH- 2-28 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BuO- =CH- 2-29 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =CH- 2-30 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =CH- 2-31 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PnO- =CH- 2-32 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PnO- =CH- 2-33 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PnO- =CH- 2-34 t-Bu- 3-Pyd- Ph- HxO- =CH- 2-35 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HxO- =CH- 2-36 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- HxO- =CH- 2-37 t-Bu- 3-Pyd- Ph- OcO- =CH- 2-38 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- OcO- =CH- 2-39 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- OcO- =CH- 2-40 t-Bu- 3-Pyd- Ph- MeS- =CH- 2-41 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- MeS- =CH- 2-42 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- MeS- =CH- 2-43 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PrS- =CH- 2-44 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PrS- =CH- 2-45 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PrS- =CH- 2-46 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BuS- =CH- 2-47 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuS- =CH- 2-48 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuS- =CH- 2-49 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PnS- =CH- 2-50 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PnS- =CH- 2-51 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PnS- =CH- 2-52 t-Bu- 3-Pyd- Ph- HxS- =CH- 2-53 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HxS- =CH- 2-54 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- HxS- =CH- 2-55 t-Bu- 3-Pyd- Ph- OcS- =CH- 2-56 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- OcS- =CH- 2-57 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- OcS- =CH- 2-58 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Bn- =CH- 2-59 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Bn- =CH- 2-60 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Bn- =CH- 2-61 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PhCH₂CH₂- =CH- 2-62 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PhCH₂CH₂- =CH- 2-64 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BnO- =CH- 2-65 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BnO- =CH- 2-66 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BnO- =CH- 2-67 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BnS- =CH- 2-68 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BnS- =CH- 2-69 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BnS- =CH- 2-70 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Ph- =CH- 2-71 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Ph- =CH- 2-72 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Ph- =CH- 2-73 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 4-F-Ph- =CH- 2-74 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-F-Ph- =CH- 2-75 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-F-Ph- =CH- 2-76 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 4-Cl-Ph- =CH- 2-77 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Cl-Ph- =CH- 2-78 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Cl-Ph- =CH- 2-79 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 4-Me-Ph- =CH- 2-80 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Me-Ph- =CH- 2-81 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Me-Ph- =CH- 2-82 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 4-MeO-Ph- =CH- 2-83 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-MeO-Ph- =CH- 2-84 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-MeO-Ph- =CH- 2-85 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PhO- =CH- 2-86 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PhO- =CH- 2-87 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PhO- =CH- 2-88 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PhS- =CH- 2-89 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PhS- =CH- 2-90 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PhS- =CH- 2-91 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Me₂N- =CH- 2-92 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Me₂N- =CH- 2-93 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Me₂N- =CH- 2-94 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Pyr- =CH- 2-95 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pyr- =CH- 2-96 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pyr- =CH- 2-97 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Pip- =CH- 2-98 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pip- =CH- 2-99 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pip- =CH- 2-100 t-Bu- 3-Pyd- Ph- H- =N- 2-101 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- H- =N- 2-102 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- H- =N- 2-103 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Me- =N- 2-104 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Me- =N- 2-105 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Me- =N- 2-106 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Pr- =N- 2-107 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pr- =N- 2-108 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pr- =N- 2-109 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Bu- =N- 2-110 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Bu- =N- 2-111 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Bu- =N- 2-112 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Pn- =N- 2-113 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pn- =N- 2-114 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pn- =N- 2-115 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Hx- =N- 2-116 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Hx- =N- 2-117 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Hx- =N- 2-118 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Oc- =N- 2-119 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Oc- =N- 2-120 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Oc- =N- 2-121 t-Bu- 3-Pyd- Ph- MeO- =N- 2-122 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- MeO- =N- 2-123 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- MeO- =N- 2-124 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PrO- =N- 2-125 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PrO- =N- 2-126 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PrO- =N- 2-127 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BuO- =N- 2-128 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuO- =N- 2-129 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuO- =N- 2-130 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PnO- =N- 2-131 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PnO- =N- 2-132 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PnO- =N- 2-133 t-Bu- 3-Pyd- Ph- HxO- =N- 2-134 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HxO- =N- 2-135 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- HxO- =N- 2-136 t-Bu- 3-Pyd- Ph- OcO- =N- 2-137 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- OcO- =N- 2-138 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- OcO- =N- 2-139 t-Bu- 3-Pyd- Ph- MeS- =N- 2-140 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- MeS- =N- 2-141 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- MeS- =N- 2-142 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PrS- =N- 2-143 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PrS- =N- 2-144 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PrS- =N- 2-145 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BuS- =N- 2-146 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BuS- =N- 2-147 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BuS- =N- 2-148 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PnS- =N- 2-149 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PnS- =N- 2-150 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PnS- =N- 2-151 t-Bu- 3-Pyd- Ph- HxS- =N- 2-152 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- HxS- =N- 2-153 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- HxS- =N- 2-154 t-Bu- 3-Pyd- Ph- OcS- =N- 2-155 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- OcS- =N- 2-156 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- OcS- =N- 2-157 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Bn- =N- 2-158 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Bn- =N- 2-159 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Bn- =N- 2-160 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PhCH₂CH₂- =N- 2-161 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PhCH₂CH₂- =N- 2-162 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PhCH₂CH₂- =N- 2-163 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BnO- =N- 2-164 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BnO- =N- 2-165 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BnO- =N- 2-166 t-Bu- 3-Pyd- Ph- BnS- =N- 2-167 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- BnS- =N- 2-168 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- BnS- =N- 2-169 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Ph- =N- 2-170 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Ph- =N- 2-171 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Ph- =N- 2-172 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 4-F-Ph- =N- 2-173 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-F-Ph- =N- 2-174 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-F-Ph- =N- 2-175 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 4-Cl-Ph- =N- 2-176 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 2-177 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Cl-Ph- =N- 2-178 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 4-Me-Ph- =N- 2-179 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-Me-Ph- =N- 2-180 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-Me-Ph- =N- 2-181 t-Bu- 3-Pyd- Ph- 4-MeO-Ph- =N- 2-182 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 2-183 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- 4-MeO-Ph- =N- 2-184 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PhO- =N- 2-185 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PhO- =N- 2-186 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PhO- =N- 2-187 t-Bu- 3-Pyd- Ph- PhS- =N- 2-188 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- PhS- =N- 2-189 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- PhS- =N- 2-190 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Me₂N- =N- 2-191 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Me₂N- =N- 2-192 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Me₂N- =N- 2-193 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Pyr- =N- 2-194 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pyr- =N- 2-195 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pyr- =N- 2-196 t-Bu- 3-Pyd- Ph- Pip- =N- 2-197 t-Bu- 3-Pyd- 2-Me-Ph- Pip- =N- 2-198 t-Bu- 3-Pyd- 2-MeO-Ph- Pip- =N- ──────────────────────────────────。

【００４０】上記表において、略号は以下の基を示す。 Bn : ベンジル Bu : ブチル Et : エチル Hp : ヘプチル Hx : ヘキシル Me : メチル Mor : モルホリノ Np : ナフチル Oc : オクチル Ph : フェニル Pip : ピペリジノ Pr : プロピル Pyd : ピリジル Pym : ピリミジニル Pyr : ピロリジノニル Pyz : ピラジニル Pyzn : ピリダジニル。

【００４１】上記表において、好適には、化合物番号１
−２０、１−２３、１−２４、１−２９、１−３１、１
−３２、１−３６、１−３９、１−４２、１−４８、１
−５１、１−５４、１−６０、１−６３、１−６６、１
−７２、１−７５、１−７８、１−８４、１−８７、１
−９０、１−９６、１−９９、１−１０２、１−１０
８、１−１１１、１−１１４、１−１２０、１−１２
３、１−１２６、１−１３２、１−１３５、１−１３
８、１−１４４、１−１４７、１−１５０、１−１５
６、１−１５８、１−１５９、１−１６５、１−１６
７、１−１６８、１−１７２、１−１７４、１−１７
５、１−１７９、１−１８０、１−１８１、１−１８
３、１−１９２、１−１９３、１−１９５、１−１９
６、１−１９７、１−２０３、１−２０４、１−２０
６、１−２０７、１−２０８、１−２０９、１−２１
０、１−２１２、１−２１３、１−２１４、１−２１
６、１−２１８、１−２１９、１−２２３、１−２２
５、１−２２６、１−２３０、１−２３２、１−２３
３、１−２３７、１−２４０、１−２４１、１−２４
５、１−２４６、１−２４７、１−２４９、１−２５
０、１−２５１、１−２５３、１−２５４、１−２５
５、１−２５７、１−２５８、１−２５９、１−２６
１、１−２６２、１−２６３、１−２６５、１−２６
６、１−２６７、１−２６９、１−２７０、１−２７
１、１−２７３、１−２７４、１−２７５、１−２７
７、１−２７８、１−２７９、１−２８１、１−２８
２、１−２８３、１−２８５、１−２８６、１−２８
７、１−２８９、１−２９０、１−２９１、１−２９
３、１−２９４、１−２９５、１−２９７、１−２９
９、１−３００、１−３０６、１−３０８、１−３０
９、１−３１５、１−３２４、１−３２５、１−３２
８、１−３２９、１−３３５、１−３３６、１−３６
０、１−３６１、１−３６７、１−３６８、１−３６
９、１−３８６、１−３８７、１−３９０、１−３９
１、１−３９２、１−３９８、１−３９９、１−４０
０、１−４４１、１−４４２、１−４４３、１−４４
９、１−４５０、１−４５１、１−４５６、１−４５
７、１−４５８、１−４６５、１−４６６、１−４６
７、１−４７４、１−４７５、１−４７６、１−４８
６、１−４８７、１−４８８、１−４９１、１−４９
２、１−４９３、１−５１６、１−５１７、１−５１
８、１−５２１、１−５２２、１−５２３、１−５５
８、１−５５９、１−５６０、１−５６３、１−５６
４、１−５６５、１−５８７、１−５８８、１−５８
９、１−５９３、１−５９４、１−５９５、１−６８
１、１−６８２、１−６８３、１−６８７、１−６８
９、１−６９０、１−６９２、１−６９４、１−６９
５、１−６９７、１−６９９、１−７００、１−７０
２、１−７０４、１−７０５、１−７０７、１−７０
９、１−７１０、１−７１２、１−７１４、１−７１
５、１−７１７、１−７１９、１−７２０、１−７２
２、１−７２４、１−７２５、１−７２７、１−７２
９、１−７３０、１−７３２、１−７３４、１−７３
５、１−７３６、１−７３７、１−７３８、１−７３
９、１−７４０、１−７４１、１−７４２、１−７４
３、１−７４４、１−７４５、１−７４６、１−７４
７、１−７４８、１−７４９、１−７５０、１−７５
１、１−７５２、１−７５３、１−７５４、１−７５
５、１−７５６、１−７５７、１−７５８、１−７５
９、１−７６０、１−７６１、１−７６２、１−７６
３、１−７６４、１−７６５、１−７６６、１−７６
７、１−７６８、１−７６９、１−７７０、１−７７
１、１−７７２、１−７７３、１−７７４、１−７７
５、１−７７６、１−７７７、１−７７８、１−７７
９、１−７８０、１−７８１、１−７８２、１−７８
３、１−７８４、１−７８５、１−７８６、１−７８
７、１−７８８、１−７８９、１−７９０、１−７９
１、１−７９２、１−７９３、１−７９４、１−７９
５、１−７９６、１−７９７、１−７９８、１−７９
９、１−８００、１−８０１、１−８０２、１−８０
３、１−８０４、１−８０５、１−８０６、１−８０
７、１−８０８、１−８０９、１−８１０、１−８１
１、１−８１２、１−８１３、１−８１４、１−８１
５、１−８１６、１−８１７、１−８１８、１−１８１
９、１−８２０、１−８２１、１−８２２、１−８２
３、１−８２４、１−８２５、１−８２６、１−８２
７、１−８２８、１−８２９、１−８３２、１−８３
３、１−８５０、１−８５１、１−８５４、１−８５
５、１−８５６、１−８６２、１−８６３、１−９０
６、１−９０７、１−９０８、１−９１１、１−９１
２、１−９１３、１−９３４、１−９３５、１−９３
６、１−９３９、１−９４０、１−９４１、２−７、２
−８、２−９、２−１０、２−１１、２−１２、２−１
３、２−１４、２−１５、２−１６、２−１７、２−１
８、２−２５、２−２６、２−２７、２−２８、２−２
９、２−３０、２−３１、２−３２、２−３３、２−３
４、２−３５、２−３６、２−４３、２−４４、２−４
５、２−４６、２−４７、２−４８、２−４９、２−５
０、２−５１、２−５２、２−５３、２−５４、２−５
８、２−５９、２−６０、２−６４、２−６５、２−６
６、２−６７、２−６８、２−６９、２−７０、２−７
１、２−７２、２−８５、２−８６、２−８７、２−８
８、２−８９、２−９０、２−１０６、２−１０７、２
−１０８、２−１０９、２−１１０、２−１１１、２−
１１２、２−１１３、２−１１４、２−１１５、２−１
１６、２−１１７、２−１２４、２−１２５、２−１２
６、２−１２７、２−１２８、２−１２９、２−１３
０、２−１３１、２−１３２、２−１３３、２−１３
４、２−１３５、２−１４２、２−１４３、２−１４
４、２−１４５、２−１４６、２−１４７、２−１４
８、２−１４９、２−１５０、２−１５１、２−１５
２、２−１５３、２−１５７、２−１５８、２−１５
９、２−１６３、２−１６４、２−１６５、２−１６
６、２−１６７、２−１６８、２−１６９、２−１７
０、２−１７１、２−１８４、２−１８５、２−１８
６、２−１８７、２−１８８及び２−１８９の化合物を
あげることができ、更に好適には、化合物番号１−３
６、１−３９、１−４２、１−４８、１−５１、１−５
４、１−６０、１−６３、１−６６、１−７２、１−７
５、１−７８、１−８４、１−８７、１−９０、１−９
６、１−９９、１−１０２、１−１０８、１−１１１、
１−１１４、１−１２０、１− １２３、１−１２６、
１−１７２、１−１７４、１−１７５、１−１７９、１
−１８０、１−１８１、１−１８３、１−１９６、１−
１９７、１−２０８、１−２０９、１−２１０、１−２
１２、１−２１３、１−２１４、１−２１６、１−２１
８、１−２１９、１−２２３、１−２２５、１−２２
６、１−２５３、１−２５４、１−２５５、１−２５
７、１−２５８、１−２５９、１−２６１、１−２６
２、１−２６３、１−２６５、１−２６６、１−２６
７、１−２６９、１−２７０、１−２７１、１−２７
３、１−２７４、１−２７５、１−２７７、１−２７
８、１−２７９、１−２８９、１−２９０、１−２９
１、１−２９３、１−２９４、１−２９５、１−２９
７、１−２９９、１−３００、１−３１５、１−３２
８、１−３２９、１−３６７、１−３６８、１−３６
９、１−３９０、１−３９１、１−３９２、１−４４
１、１−４４２、１−４４３、１−４５６、１−４５
７、１−４５８、１−４６５、１−４６６、１−４６
７、１−４７５、１−６９２、１−６９４、１−６９
５、１−６９７、１−６９９、１−７００、１−７０
２、１−７０４、１−７０５、１−７０７、１−７０
９、１−７１０、１−７１２、１−７１４、１−７１
５、１−７１７、１−７１９、１−７２０、１−７２
２、１−７２４、１−７２５、１−７４２、１−７４
３、１−７４４、１−７４５、１−７４６、１−７４
７、１−７４８、１−７４９、１−７５０、１−７５
１、１−７５２、１−７５３、１−７５４、１−７５
５、１−７５６、１−７５７、１−７５８、１−７５
９、１−７６０、１−７６１、１−７６２、１−７７
５、１−７７６、１−７７７、１−７７８、１−７７
９、１−７８０、１−７８１、１−７８２、１−７８
３、１−７８４、１−７８５、１−７８６、１−７８
７、１−７８８、１−７８９、１−７９０、１−７９
１、１−７９２、１−７９３、１−７９４、１−７９
５、１−７９９、１−８００、１−８０１、１−８０
２、１−８０３、１−８０４、１−８０５、１−８０
６、１−８０７、１−８１１、１−８１２、１−８１
３、１−８１４、１−８１５、１−８１６、１−８２
０、１−８２１、１−８２２、１−８２３、１−８２
４、１−８２５、１−８２７、１−８２８、１−８２
９、１−８５４、１−８５５、１−８５６、２−７、２
−８、２−９、２−１０、２−１１、２−１２、２−１
３、２−１４、２−１５、２−２５、２−２６、２−２
７、２−２８、２−２９、２−３０、２−３１、２−３
２、２−３３、２−４３、２−４４、２−４５、２−４
６、２−４７、２−４８、２−４９、２−５０、２−５
１、２−５８、２−５９、２−６０、２−６４、２−６
５、２−６６、２−６７、２−６８、２−６９、２−７
０、２−７１、２−７２、２−８５、２−８６、２−８
７、２−８８、２−８９、２−９０、２−１０６、２−
１０７、２−１０８、２−１０９、２−１１０、２−１
１１、２−１１２、２−１１３、２−１１４、２−１２
４、２−１２５、２−１２６、２−１２７、２−１２
８、２−１２９、２−１３０、２−１３１、２−１３
２、２−１４２、２−１４３、２−１４４、２−１４
５、２−１４６、２−１４７、２−１４８、２−１４
９、２−１５０、２−１５７、２−１５８、２−１５
９、２−１６３、２−１６４、２−１６５、２−１６
６、２−１６７、２−１６８、２−１６９、２−１７
０、２−１７１、２−１８４、２−１８５、２−１８
６、２−１８７、２−１８８及び２−１８９の化合物を
あげることができ、更により好適には、化合物番号１−
４８、１−５１、１−５４、１−７２、１−７５、１−
７８、１−１０８、１−１１１、１−１１４、１−１２
０、１−１２３、１−１２６、１−１７２、１−１７
４、１−１７５、１−１８３、１−１９６、１−１９
７、１−２１６、１−２１８、１−２１９、１−２２
３、１−２２５、１−２２６、１−２５３、１−２５
４、１−２５５、１−２６１、１−２６２、１−２６
３、１−２７３、１−２７４、１−２７５、１−２７
７、１−２７８、１−２７９、１−３１５、１−３２
８、１−３２９、１−３９０、１−３９１、１−３９
２、１−４７５、１−６９２、１−６９４、１−６９
５、１−７０２、１−７０４、１−７０５、１−７１
７、１−７１９、１−７２０、１−７２２、１−７２
４、１−７２５、１−７４２、１−７４３、１−７４
４、１−７４８、１−７４９、１−７５０、１−７５
７、１−７５８、１−７５９、１−７６０、１−７６
１、１−７６２、１−７７５、１−７７６、１−７７
７、１−７８１、１−７８２、１−７８３、１−７９
０、１−７９１、１−７９２、１−７９３、１−７９
４、１−７９５、１−８２０、１−８２１、１−８２
２、１−８２３、１−８２４、１−８２５、１−８２
７、１−８２８、１−８２９、１−８５４、１−８５
５、１−８５６、２−１０、２−１１、２−１２、２−
２８、２−２９、２−３０、２−４６、２−４７、２−
４８、２−７０、２−７１、２−７２、２−１０９、２
−１１０、２−１１１、２−１２７、２−１２８、２−
１２９、２−１４５、２−１４６、２−１４７、２−１
６９、２−１７０及び２−１７１の化合物をあげること
ができ、特に好適には、化合物番号1-196 ：Ｎ−［４−ブトキシ−２−（２−メ
チルフェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル
−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-197 ：Ｎ−［４−ブトキシ−２−（２−メ
トキシフェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチ
ル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-218 ：Ｎ−［４−ペンチルオキシ−２−
（２−メチルフェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−
ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-219 ：Ｎ−［４−ペンチルオキシ−２−
（２−メトキシフェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２
−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-225 ：Ｎ−［４−ヘキシルオキシ−２−
（２−メチルフェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−
ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-226 ：Ｎ−［４−ヘキシルオキシ−２−
（２−メトキシフェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２
−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-328 ：Ｎ−［４−ベンジルオキシ−２−
（２−メチルフェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−
ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-329 ：Ｎ−［４−ベンジルオキシ−２−
（２−メトキシフェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２
−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-391 ：Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）
−４−ビフェニル−１−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメ
チル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-392 ：Ｎ−［２−（２−メトキシフェニ
ル）−４−ビフェニル−１−イル］−Ｎ’−［２，２−
ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-475 ：Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）
−４−モルホリノフェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチ
ル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-749 ：Ｎ−［６−ブトキシ−４−（２−メ
チルフェニル）ピリジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２
−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、化合物番号1-750 ：Ｎ−［６−ブトキシ−４−（２−メ
トキシフェニル）ピリジン−３−イル］−Ｎ’−［２，
２−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレ
ア、化合物番号1-758 ：Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）
−６−ペンチルオキシピリジン−３−イル］−Ｎ’−
［２，２−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］
ウレア、化合物番号1-759 ：Ｎ−［４−（２−メトキシフェニ
ル）−６−ペンチルオキシピリジン−３−イル］−Ｎ’
−［２，２−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピ
ル］ウレア、化合物番号1-761 ：Ｎ−［６−ヘキシルオキシ−４−
（２−メチルフェニル）ピリジン−３−イル］−Ｎ’−
［２，２−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］
ウレア、化合物番号1-762 ：Ｎ−［６−ヘキシルオキシ−４−
（２−メトキシフェニル）ピリジン−３−イル］−Ｎ’
−［２，２−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピ
ル］ウレア、化合物番号1-855 ：Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）
−６−フェニルピリジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２
−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、
及び化合物番号1-856 ：Ｎ−［４−（２−メトキシフェニ
ル）−６−フェニルピリジン−３−イル］−Ｎ’−
［２，２−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］
ウレアの化合物をあげることができる。

【００４２】

【発明の実施の形態】本発明の一般式（Ｉ）を有する化
合物は、以下の方法に従って容易に製造される。

【００４３】

【化４】

【００４４】上記式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 及びＸ
は、前述したものと同意義を示す。Ａ法は、化合物(I)
において、Ｙがイミノ基である化合物(Ia)を製造する方
法である。第Ａ１工程は、一般式(III) を有する化合物
を製造する工程で、不活性溶剤中、塩基存在下又は不存
在下、一般式(II)を有するカルボン酸化合物、その酸ハ
ライド類又はその酸とハロゲノギ酸Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル
エステルから得られる混合酸無水物をアジド化剤と反応
させ、次いで、得られた酸アジド化合物を加熱すること
により達成される。

【００４５】使用されるアジド化剤は、例えば、ジメチ
ルホスホリルアジド、ジエチルホスホリルアジド、ジブ
チルホスホリルアジドのようなジＣ₁ −Ｃ₄ アルキルホ
スホリルアジド；ジフェニルホスホリルアジド、ジトリ
ルホスホリルアジドのようなジＣ₆ −Ｃ₁₀アリールホス
ホリルアジド；アジ化水素；アジ化ナトリウム、アジ化
カリウムのようなアルカリ金属アジド；又はトリメチル
シリルアジド、トリエチルシリルアジド、トリｔ−ブチ
ルシリルアジドのようなトリＣ₁ −Ｃ₄ アルキルシリル
アジドであり得、好適には、ジＣ₆ −Ｃ₁₀アリールホス
ホリルアジド又はアルカリ金属アジドであり、特に好適
には、ジフェニルホスホリルアジド又はアジ化ナトリウ
ムである。

【００４６】ジＣ₁ −Ｃ₄ アルキルホスホリルアジド又
はジＣ₆ −Ｃ₁₀アリールホスホリルアジドは、塩基の存
在下、カルボン酸化合物(II)と反応でき、アジ化水素
は、塩基の存在下、カルボン酸化合物(II)の酸ハライド
類（例えば、酸クロリド、酸ブロミド又は酸ヨーダイ
ド、好適には、酸クロリド）又はカルボン酸化合物(II)
とハロゲノギ酸Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルエステル（例えば、
クロルギ酸メチル、クロルギ酸エチル、ブロムギ酸エチ
ル、クロルギ酸プロピル、クロルギ酸ブチル、クロルギ
酸イソブチル、ブロムギ酸イソブチル又はクロルギ酸ヘ
キシル、好適には、クロルギ酸エチル又はクロルギ酸イ
ソブチル）から得られる混合酸無水物と反応でき、アル
カリ金属アジド又はトリＣ₁ −Ｃ₄ アルキルシリルアジ
ドは、カルボン酸化合物(II)の酸ハライド類又はカルボ
ン酸化合物(II)とハロゲノギ酸Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルエス
テルから得られる混合酸無水物と反応できる。上記反応
に用いるカルボン酸化合物(II)の酸ハライド類及びカル
ボン酸化合物(II)とハロゲノギ酸Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルエ
ステルから得られる混合酸無水物は、後述するＢ法第Ｂ
１工程で述べる方法によって製造できる。

【００４７】使用される塩基は、例えば、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；重炭酸ナトリウ
ム、重炭酸カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩；リ
チウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのようなアルカリ
金属アルコキド；又はトリエチルアミン、Ｎ−メチルモ
ルホリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、
１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ンのような有機アミン類であり得、ホスホリルアジド類
を反応させる場合は、好適には、有機アミン類であり、
さらに好適には、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホ
リン又はピリジンであり、アジ化水素を反応させる場合
は、好適には、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属
炭酸塩であり、さらに好適には、水酸化ナトリウム又は
又は水酸化カリウムである。使用される溶剤は、原料化
合物を溶解させ、反応を阻害しないものであれば特に限
定されないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素類；ジク
ロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジク
ロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類；エチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類；アセトン、２−ブタノンのようなケトン類；アセ
トニトリルのようなニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−２−ピロリジノンのようなアミド類；ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類；又はこれらの混合溶剤
であり得、ホスホリルアジド類を反応させる場合は、好
適には、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類又はエーテ
ル類であり、アジ化水素又はアルカリ金属アジドを反応
させる場合は、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エー
テル類又はアミド類であり、トリアルキルシリルアジド
類を反応させる場合は、好適には、炭化水素類、ハロゲ
ン化炭化水素類又はエーテル類であり、さらに好適に
は、炭化水素類又はエーテル類である。反応温度は、原
料化合物、アジド化剤、溶剤の種類等により異なるが、
通常−１０℃乃至１００℃であり、好適には、０℃乃至
５０℃である。反応時間は、原料化合物、アジド化剤、
反応温度の種類等により異なるが、通常３０分間乃至１
０時間であり、好適には、１時間乃至６時間である。

【００４８】得られた酸アジド化合物を加熱する反応
は、好適には、不活性溶剤中で行われ、使用される不活
性溶剤は、上記の溶剤と同様であり、好適には、芳香族
炭化水素類又はアミド類であり、更に好適には、芳香族
炭化水素類である。反応温度は、溶剤の種類等により異
なるが、通常５０℃乃至１５０℃であり、好適には、７
０℃乃至１４０℃である。反応時間は、反応温度等によ
り異なるが、通常３０分間乃至１０時間であり、好適に
は、１時間乃至６時間である。

【００４９】反応終了後、本工程の目的化合物は、常法
に従って、反応混合物から採取される。例えば、溶剤を
減圧留去することにより得ることができ、必要ならば、
常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で
さらに精製することができる。また、反応液中に得られ
た目的化合物をそのまま次の工程に用いることもでき
る。

【００５０】第Ａ２工程は、化合物(Ia)を製造する工程
で、不活性溶剤中、一般式(IV)を有するアミン化合物と
反応させることにより達成される。、使用される不活性
溶剤は、第Ａ１工程の溶剤と同様であり、好適には、芳
香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類又はアミド類で
ある。反応温度は、溶剤の種類等により異なるが、通常
０℃乃至１５０℃であり、好適には、２０℃乃至１００
℃である。反応時間は、反応温度等により異なるが、通
常３０分間乃至１０時間であり、好適には、１時間乃至
６時間である。

【００５１】反応終了後、本工程の目的化合物は、常法
に従って、反応混合物から採取される。例えば、適宜中
和して、溶剤を減圧留去することによって又は溶剤を減
圧留去し、残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不
混和性有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾
燥した後、溶媒を留去することにより得ることができ、
必要ならば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグ
ラフィー等でさらに精製することができる。

【００５２】Ｂ法は、化合物(I) において、Ｙがメチレ
ン基である化合物(Ib)を製造する方法である。第Ｂ１工
程は、化合物(Ib)を製造する工程で、不活性溶剤中、一
般式（V)を有する化合物又はその反応性誘導体（例え
ば、酸ハライド類、混合酸無水物又は活性エステル類）
と化合物(IV)又はその酸付加塩（例えば、塩酸塩、硝酸
塩、硫酸塩のような鉱酸塩）を反応させることによって
達成され、例えば、酸ハライド法、混合酸無水物法、活
性エステル法又は縮合法によって行われる。

【００５３】酸ハライド法は、不活性溶剤中、化合物
(V) をハロゲン化剤（例えば、チオニルクロリド、オキ
ザリルクロリド、五塩化リン等）と反応させ、酸ハライ
ドを製造し、その酸ハライドと化合物(IV)またはその酸
付加塩を不活性溶剤中、塩基の存在下または非存在下、
反応させることにより達成される。使用される塩基は、
例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカ
リ金属炭酸塩；重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属重炭酸塩；又はトリエチルアミン、Ｎ
−メチルモルホリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピ
リジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−
ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−
ウンデセンのような有機アミン類であり得、好適には、
有機アミンである。

【００５４】使用される不活性溶剤は、原料化合物を溶
解させ、反応を阻害しないものであれば特に限定されな
いが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレンのような炭化水素類；ジクロルメタ
ン、クロロホルム、１，２−ジクロルエタン、四塩化炭
素のようなハロゲン化炭化水素類；エチルエ−テル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類；又
はアセトン、２−ブタノンのようなケトン類であり得、
好適には、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類又はエ−
テル類である。反応温度は、原料化合物（V)、（IV) お
よび溶媒の種類等により異なるが、ハロゲン化剤と化合
物（V)との反応および酸ハライドと化合物（IV) との反
応とも、通常−２０℃乃至１５０℃であり、好適には、
ハロゲン化剤と化合物（V)との反応では、−１０℃乃至
５０℃であり、酸ハライドと化合物（IV) との反応で
は、０℃乃至１００℃である。反応時間は、反応温度等
により異なるが、両反応とも、通常１５分間乃至２４時
間（好適には、３０分間乃至１６時間）である。

【００５５】混合酸無水物法は、ハロゲノギ酸Ｃ₁ −Ｃ
₆ アルキル又はハロゲノギ酸Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリールと化合
物（V)を反応させ、混合酸無水物を製造し、その混合酸
無水物と化合物(IV)またはその酸付加塩を反応させるこ
とにより達成される。混合酸無水物を製造する反応は、
クロルギ酸メチル、クロルギ酸エチル、クロルギ酸イソ
ブチル、クロルギ酸ヘキシルのようなハロゲノギ酸Ｃ₁
−Ｃ₆ アルキル（好適には、クロルギ酸エチル又はクロ
ルギ酸イソブチル）又はクロルギ酸フェニル、ブロムギ
酸フェニル、クロルギ酸トリル、クロルギ酸ナフチルの
ようなハロゲノギ酸Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール（好適には、ク
ロルギ酸フェニル）と化合物（V)を反応させることによ
り行われ、好適には、不活性溶剤中、塩基の存在下に行
われる。

【００５６】使用される塩基および不活性溶剤は、上記
の酸ハライド法で使用されるものと同様である。反応温
度は、原料化合物（V)および溶媒の種類等により異なる
が、通常−２０℃乃至５０℃（好適には、０℃乃至３０
℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なるが、
通常１５分間乃至２４時間（好適には、３０分間乃至１
６時間）である。

【００５７】混合酸無水物と化合物（IV) 又はその酸付
加塩との反応は、好適には、不活性溶剤中で、塩基の存
在下又は非存在下で行われ、使用される塩基および不活
性溶剤は、上記の酸ハライド法で使用されるものと同様
である。反応温度は、原料化合物（IV) 及び溶媒の種類
等により異なるが、通常−２０℃乃至１００℃（好適に
は、−１０℃乃至５０℃）であり、反応時間は、反応温
度等により異なるが、通常１５分間乃至２４時間（好適
には、３０分間乃至１６時間）である。

【００５８】活性エステル法は、縮合剤（例えば、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾ−
ル等）の存在下、化合物（V)を活性エステル化剤（例え
ば、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾ−ルのようなＮ−ヒドロキシ化合物等）と
反応させ、活性エステルを製造し、この活性エステルと
化合物（IV) 又はその酸付加塩を反応させることにより
達成される。活性エステルを製造する反応は、好適に
は、不活性溶剤中で行われ、使用される不活性溶剤は、
上記の酸ハライド法で使用されるものと同様である。反
応温度は、原料化合物（V)、(IV)および溶媒の種類等に
より異なるが、活性エステル化反応では、通常−２０℃
乃至５０℃（好適には、−１０℃乃至３０℃）であり、
活性エステル化合物と化合物（IV) との反応では、−２
０℃乃至５０℃（好適には、−１０℃乃至３０℃）であ
り、反応時間は、反応温度等により異なるが、両反応と
も、通常１５分間乃至２４時間（好適には、３０分間乃
至１６時間）である。

【００５９】縮合法は、縮合剤［例えば、ジシクロヘキ
シルカルボジイミド、１−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩のようなカ
ルボジイミド類；ジメチルシアノリン酸、ジエチルシア
ノリン酸、ジヘキシルシアノリン酸のようなＣ₁ −Ｃ₆
アルキルシアノリン酸；ジフェニルホスホリルアジド、
ジ（ｐ−ニトロフェニル）ホスホリルアジド、ジナフチ
ルホスホリルアジドのようなジ−Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリールホ
スホリルアジド；又はカルボニルジイミダゾール、好適
には、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−（Ｎ、Ｎ
−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミ
ド塩酸塩、ジエチルシアノリン酸、ジフェニルホスホリ
ルアジド又はカルボニルジイミダゾール］の存在下、化
合物（Ｖ）と化合物（ＩＶ）又はその酸付加塩を直接反
応させることにより行われる。本反応は、前記の活性エ
ステルを製造する反応と同様に行われる。反応終了後、
各反応の目的物は、常法に従って反応混合物から採取さ
れる。例えば、適宜不溶物をロ別した後、析出してくる
結晶を瀘取すること又は適宜不溶物をロ別し、適宜、中
和し、溶剤を留去した後、水を加え、酢酸エチルのよう
な水不混合性有機溶媒で抽出し、乾燥した後、抽出溶媒
を留去することにより得ることができ、必要ならば常
法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等でさ
らに精製することができる。

【００６０】本発明の原料化合物(II)、(IV)及び(V)
は、以下の方法に従って容易に製造される。

【００６１】

【化５】

【００６２】

【化６】

【００６３】

【化７】

【００６４】

【化８】

【００６５】

【化９】

【００６６】

【化１０】

【００６７】

【化１１】

【００６８】

【化１２】

【００６９】

【化１３】

【００７０】上記式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 及びＸ
は、前述したものと同意義を示し、Ｒ¹aは、Ｒ¹ におけ
るＣ₁ −Ｃ₈ アルキル基を示し、Ｒ¹bは、メチル又はエ
チル基を示し、Ｒ⁴aは、Ｒ⁴ におけるＣ₁ −Ｃ₈ アルコ
キシ基又はＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキルオキシ基を示し、Ｒ⁴b
は、Ｒ⁴ におけるＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基を示し、Ｒ⁴c
は、Ｒ⁴ におけるＣ₁ −Ｃ₈ アルキル基、Ｃ₆ −Ｃ₁₀ア
リール基又はＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキル基を示し、Ｒ⁴dは、
Ｒ⁴ におけるジ−Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルアミノ基を示し、
Ｒ⁴eは、Ｒ⁴ における酸素若しくは硫黄原子を含んでも
よい３乃至６員環状アミノ基（該基は窒素原子を介して
ベンゼン環と結合する）を示し、Ｒ⁴fは、Ｒ⁴ における
Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキルチオ基を示し、Ｒ⁵ は、Ｃ₁ −Ｃ₆
アルキル基又はＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキル基（好適には、Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルキル基又はＣ₇ −Ｃ₈アラルキル基、更に
好適には、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基又はベンジル基、特に
好適には、メチル又はエチル基）を示し、Ｒ⁶ は、Ｒ⁴
におけるＣ₁ −Ｃ₈ アルコキシ基のＣ₁ −Ｃ₈ アルキル
部分、Ｒ⁴ におけるＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキルオキシ基のＣ
₇ −Ｃ₁₂アラルキル部分又は水酸基の保護基を示し、Ｒ
⁶aは、Ｒ⁶ における置換されていてもよいベンジル基又
は水酸基の保護基を示し、Ｖは脱離基を示し、Ｗは酸素
若しくは硫黄原子を含んでもよいＣ₂ −Ｃ₅ アルキレン
基を示し、Ｚはハロゲン原子（好適には、塩素又は臭素
原子）を示す。

【００７１】Ｒ⁶ の水酸基の保護基は、例えば、テトラ
ヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、４−メトキシ
テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニルのよ
うな環状エーテル若しくはチオエーテル基、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシメチル基又は置換されていて
もよいベンジルオキシカルボニル基（該置換基は、Ｃ₁
−Ｃ₄ アルキル、ハロゲン、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ又は
ニトロであり、好適には、メチル、クロル、メトキシ又
はニトロであり、特に好適には、ｐ−クロロ又はｐ−メ
トキシである。）であり得、好適には、テトラヒドロピ
ラニル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシカルボニ
ル基、ｐ−クロルベンジルオキシカルボニル基又はｐ−
メトキシベンジルオキシカルボニル基であり、特に好適
には、ベンジルオキシカルボニル基である。又は、Ｒ⁶
のＲ⁴ におけるＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキルオキシ基のＣ₇ −
Ｃ₁₂アラルキル部分のうち、置換されていてもよいベン
ジル部分（該置換基は、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル、ハロゲ
ン、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ又はニトロであり、好適に
は、メチル、クロル、メトキシ又はニトロであり、特に
好適には、ｐ−クロロ又はｐ−メトキシである。）は、
水酸基の保護基となり得、好適には、ベンジル基、ｐ−
クロルベンジル基又はｐ−メトキシベンジル基であり、
特に好適には、ベンジル基である。

【００７２】Ｖの「脱離基」は、通常、求核性残基とし
て脱離する基であれば特に限定はないが、例えば、塩素
原子、臭素原子又は沃素原子のようなハロゲン原子；メ
タンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、
プロパンスルホニルオキシ基又はブタンスルホニルオキ
シ基のようなＣ₁ −Ｃ₄ アルカンスルホニルオキシ基；
トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、２，２，２−
トリクロロエタンスルホニルオキシ基、３，３，３−ト
リブロモプロパンスルホニルオキシ基又は、４，４，４
−トリフルオロブタンスルホニルオキシ基のような、ハ
ロゲノＣ₁ −Ｃ₄ アルカンスルホニルオキシ基；或はベ
ンゼンスルホニルオキシ基、α−ナフチルスルホニルオ
キシ基、β−ナフチルスルホニルオキシ基、ｐ−トルエ
ンスルホニルオキシ基、４−ｔ−ブチルベンゼンスルホ
ニルオキシ基、メシチレンスルホニルオキシ基又は６−
エチル−α−ナフチルスルホニルオキシ基のような、Ｃ
₁−Ｃ₄ アルキルを１乃至３個有してもよいＣ₆ −Ｃ₁₀
アリ−ルスルホニルオキシ基であり得、好適には、ハロ
ゲン原子；メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニ
ルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、
２，２，２−トリクロロエタンスルホニルオキシ基；ベ
ンゼンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ
基又はメシチレンスルホニルオキシ基であり、更に好適
には、塩素原子、臭素原子、沃素原子、メタンスルホニ
ルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、
ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニル
オキシ基又はメシチレンスルホニルオキシ基であり、特
に好適には、塩素原子、臭素原子、沃素原子、メタンス
ルホニルオキシ基又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基
である。

【００７３】Ｗの「酸素若しくは硫黄原子を含んでもよ
いＣ₂ −Ｃ₅ アルキレン基」は、例えば、エチレン基、
プロピレン基、トリメチレン基、２−オキサトリメチレ
ン基、２−チアトリメチレン基、テトラメチレン基、２
−オキサテトラメチレン基、２−チアテトラメチレン
基、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレ
ン基、３−メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基、
２−オキサペンタメチレン基、２−チアペンタメチレン
基、３−オキサペンタメチレン基又は３−チアペンタメ
チレン基であり得、好適には、テトラメチレン基、ペン
タメチレン基又は３−オキサペンタメチレン基である。

【００７４】Ｃ法は、一般式(VI)を有する４−置換サリ
チル酸又は６−置換−４−ヒドロキシピリジン−３−カ
ルボン酸化合物を原料として、化合物(II)を製造する方
法である。第Ｃ１工程は、一般式(VII) を有する化合物
を製造する工程で、一般式(VI)を有するカルボン酸類を
エステル化することにより達成される。

【００７５】エステル化反応は、溶剤を兼ねた過剰のエ
ステル殘基を形成するアルコール類中（例えば、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジ
ルアルコール、フェネチルアルコール等）、酸触媒（例
えば、塩酸、硫酸、硝酸のような鉱酸、メタンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸のようなスルホン酸類；好適に
は、塩酸、硫酸又はトルエンスルホン酸）、ハロゲノト
リＣ₁ −Ｃ₄ アルキルシラン（好適には、クロルトリメ
チルシラン又はクロルトリエチルシラン）又はハロゲン
化アセチル（好適には、クロロアセチル又はブロモアセ
チル）の存在下、カルボン酸類(VI)をエステル殘基を形
成するアルコール類と、−１０℃乃至１５０℃（好適に
は、１０℃乃至１００℃）で、３０分間乃至３６時間
（好適には、１時間乃至３２時間）反応させるか、不活
性溶剤中（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、アセトン、２
−ブタノンのようなケトン類、アセトニトリルのような
ニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミドのようなアミド類；好適には、芳
香族炭化水素類又はアミド類）、塩基の存在下（例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、
ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジア
ザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンのような有
機アミン類；好適には、アルカリ金属炭酸塩）、カルボ
ン酸類(VI)をエステル殘基を形成するハライド類（例え
ば、メチルヨーダイド、エチルヨーダイド、プロピルヨ
ーダイド、ブチルブロミド、ブチルヨーダイド、ベンジ
ルクロリド、ベンジルブロミド、フェネチルクロリド
等）と、−１０℃乃至１５０℃（好適には、１０℃乃至
１００℃）で、３０分間乃至１０時間（好適には、１時
間乃至６時間）反応させることにより行われる。

【００７６】第Ｃ２工程は、一般式(VIII)を有する化合
物を製造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ジ
クロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジ
クロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類、アセトン、２−ブタノンのようなケトン類、ア
セトニトリルのようなニトリル類；好適には、ハロゲン
化炭化水素類）、塩基の存在下（例えば、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリ
ジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビ
シクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビ
シクロ［５．４．０］−７−ウンデセンのような有機ア
ミン類；好適には、有機アミン類；更に好適には、トリ
エチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン又はピリジン）、
カルボン酸エステル類(VII)を無水トリフルオロメタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸ハライド
（好適には、無水トリフルオロメタンスルホン酸）と、
−１０℃乃至５０℃（好適には、０℃乃至３０℃）で、
１０分間乃至６時間（好適には、３０分間乃至３時間）
反応させることにより行われる。

【００７７】第Ｃ３工程は、一般式(X) を有する化合物
を製造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ベンゼン、
トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノンの
ようなアミド類又はこれら有機溶剤と水との混合溶剤；
好適には、アミド類）、パラジウム触媒の存在下（例え
ば、パラジウムー炭素、水酸化パラジウム、酢酸パラジ
ウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム；
好適には、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム）、塩基の存在下（例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、トリ
エチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−
ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ
［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセンのような有機アミン
類；好適には、有機アミン類；更に好適には、トリエチ
ルアミン、Ｎ−メチルモルホリン又はピリジン）、スル
ホン酸エステル類(VIII)を一般式(IX)を有するホウ素化
合物と、２０℃乃至１５０℃（好適には、５０℃乃至１
２０℃）で、１０分間乃至６時間（好適には、３０分間
乃至３時間）反応させることにより行われる。

【００７８】第Ｃ４工程は、化合物(II)を製造する工程
で、不活性溶剤中（例えば、エチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メタノー
ル、エタノール、ブタノールのようなアルコール類、水
又はこれらの混合溶媒；好適には、エーテル類とアルコ
ール類の混合溶媒又は含水アルコール類）、化合物(X)
をアルカリ（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩；好適には、アルカリ金属水酸化物）と、０℃乃至１
５０℃（好適には、２０℃乃至１００℃）で、３０分間
乃至１６時間（好適には、１時間乃至１０時間）反応さ
せることにより行われる。

【００７９】反応終了後、Ｃ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、不溶物が存在する場合は、適宜濾別して、又は、反
応液が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜中和して、溶
剤を減圧留去することによって又は溶剤を減圧留去し、
残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機
溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、
溶媒を留去することにより得ることができ、必要なら
ば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等でさらに精製することができる。

【００８０】Ｄ法は、一般式(XI)を有する２，４−ジヒ
ドロキシ安息香酸を原料として、化合物(II)において、
Ｘが式＝ＣＨ− を有する基であり、Ｒ⁴ がＲ⁴aであ
る化合物(IIa) 及びＸが式＝ＣＨ− を有する基であ
り、Ｒ⁴ がＲ⁴bである化合物(IIb) を製造する方法であ
る。第Ｄ１工程は、一般式(XII) を有する化合物を製造
する工程で、一般式(XI)を有するカルボン酸類をエステ
ル化することにより達成され、本工程は、前記Ｃ法第Ｃ
１工程と同様に行われる。

【００８１】第Ｄ２工程は、一般式(XIII)を有する化合
物を製造する工程で、カルボン酸類エステル類(XII) の
水酸基をアルキル化、アラルキル化又は保護することに
より達成される。

【００８２】水酸基をアルキル化又はアラルキル化する
反応は、不活性溶剤中（例えば、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類、エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
アセトン、２−ブタノンのようなケトン類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類；好適
には、ケトン類又はアミド類）、塩基の存在下（例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、
ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジア
ザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンのような有
機アミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよう
なアルカリ金属水素化物；好適には、アルカリ金属炭酸
塩）、化合物(XII) を相当するアルキルハライド（好適
には、メチルヨーダイド、エチルヨーダイド又はその他
のアルキルクロリド、ブロミド若しくは又はヨーダイ
ド）、相当するアラルキルハライド（好適には、ベンジ
ルクロリド、ベンジルブロミド又はその他のアラルキル
クロリド、ブロミド若しくはヨーダイド）、ジＣ₁ −Ｃ
₈ アルキル硫酸エステル、ジＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキル硫酸
エステル、ハロゲンで置換されていてもよいＣ₁ −Ｃ₆
アルカンスルホン酸若しくはＣ₆ −Ｃ₁₀アリールスルホ
ン酸Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキルエステル（好適なスルホン酸部
分は、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ
−クロロベンゼンスルホン酸又はｐ−ニトロベンゼンス
ルホン酸）又はハロゲンで置換されていてもよいＣ₁ −
Ｃ₆アルカンスルホン酸若しくはＣ₆ −Ｃ₁₀アリールス
ルホン酸Ｃ₇ −Ｃ₁₂アラルキルエステル（好適なスルホ
ン酸部分は、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸又はｐ−ニトロベン
ゼンスルホン酸）と、−１０℃乃至１００℃（好適に
は、１０℃乃至８０℃）で、３０分間乃至２４時間（好
適には、２時間乃至２０時間）反応させることにより行
われる。

【００８３】水酸基を保護する反応は、保護基の種類に
より異なり、有機合成化学でよく知られている方法で行
われる。

【００８４】水酸基の保護基が環状エーテル若しくはチ
オエーテル基である場合には、水酸基を保護する反応
は、不活性溶剤中（例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類、エチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；好適
には、エーテル類）、酸の存在下（例えば、塩酸、硫
酸、硝酸のような鉱酸、メタンスルホン酸、トリフルオ
ロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸のようなスルホン酸類；好適には、塩酸又はト
ルエンスルホン酸）、化合物(XII) をジヒドロ環状エー
テル若しくはチオエーテル化合物（例えば、ジヒドロフ
ラン、ジヒドロピラン、４−メトキシジヒドロピラン、
ジヒドロチオピラン）と、−１０℃乃至５０℃（好適に
は、１０℃乃至３０℃）で、３０分間乃至１０時間（好
適には、１時間乃至５時間）反応させることにより行わ
れる。また、溶剤を兼ねて、大過剰のジヒドロ環状エー
テル若しくはチオエーテル化合物を使用することもでき
る。

【００８５】水酸基の保護基がメトキシメチル基、メト
キシエトキシメチル基又は置換されていてもよいベンジ
ルオキシカルボニル基である場合には、水酸基を保護す
る反応は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化合物(XII)
を保護基の残基を有するハライド（例えば、メトキシメ
チルブロミド、メトキシメチルヨーダイド、メトキシエ
トキシメチルクロリド、メトキシエトキシメチルブロミ
ド、ベンジルオキシカルボニルクロリド、ベンジルオキ
シカルボニルブロミド、ｐ−クロロベンジルオキシカル
ボニルクロリド、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニ
ルクロリド）と反応させることにより行われ、使用され
る不活性溶剤、使用される塩基及び反応条件は、上記ア
ルキル化又はアラルキル化反応と同様である。

【００８６】第Ｄ３工程は、一般式(XIV) を有する化合
物を製造する工程で、化合物(XIII)をトリフルオロメタ
ンスルホニル化することにより達成され、本工程は、前
記Ｃ法第Ｃ２工程と同様に行われる。

【００８７】第Ｄ４工程は、一般式(XV)を有する化合物
を製造する工程で、化合物(XIV) を化合物(IX)と反応さ
せることにより達成され、本工程は、前記Ｃ法第Ｃ３工
程と同様に行われる。

【００８８】第Ｄ５工程は、化合物(IIa) を製造する工
程で、化合物(XV)において、式ＯＲ⁶ を有する基がＲ⁴a
である化合物(XVa) をアルカリ加水分解することにより
達成され、本工程は、前記Ｃ法第Ｃ４工程と同様に行わ
れる。

【００８９】第Ｄ６工程は、一般式(XVI) を有する化合
物を製造する工程で、化合物(XV)において、Ｒ⁶ がＲ⁶a
である化合物(XVb) の水酸基の保護基を除去することに
より達成される。

【００９０】水酸基を除去する反応は、保護基の種類に
より異なり、有機合成化学でよく知られている方法で行
われる。

【００９１】水酸基の保護基が環状エーテル若しくはチ
オエーテル基、メトキシメチル基又はメトキシエトキシ
メチル基である場合には、不活性溶剤中（例えば、メタ
ノール若しくはエタノールのようなアルコール類又は水
或はエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサ
ンのようなエーテル類とアルコール類との混合溶剤；好
適には、アルコール類）、化合物(XV)を酸（例えば、塩
酸、硫酸、硝酸のような鉱酸、メタンスルホン酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸のようなスルホン酸類；好適には、塩酸
又はトルエンスルホン酸）と、−１０℃乃至５０℃（好
適には、１０℃乃至３０℃）で、１０分間乃至１０時間
（好適には、３０分間乃至５時間）反応させることによ
り、水酸基の保護基を除去する反応が行われる。

【００９２】水酸基の保護基が置換されていてもよいベ
ンジル基又は置換されていてもよいベンジルオキシカル
ボニル基である場合には、不活性溶剤中（例えば、エチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類、メタノール、エタノール、ブタノールのよ
うなアルコール類、ギ酸、酢酸のようなカルボン酸類、
酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類；好適に
は、アルコール類）、接触還元触媒存在下（例えば、パ
ラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム、酢酸パラ
ジウム、水酸化パラジウム、酸化白金、白金黒、ロジウ
ム−アルミナ、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウ
ム；好適には、パラジウム−炭素）、化合物(XVb) を水
素（通常１気圧乃至５気圧、好適には、１圧乃至２気
圧）と、−１０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至
５０℃）で、３０分間乃至１０時間（好適には、１時間
乃至５時間）反応させることにより、水酸基の保護基を
除去する反応が行われる。

【００９３】第Ｄ７工程は、一般式(XVII)を有する化合
物を製造する工程で、ヒドロキシ化合物(XVI) をトリフ
ルオロメタンスルホニル化することにより達成され、本
工程は、前記Ｃ法第Ｃ２工程と同様に行われる。

【００９４】第Ｄ８工程は、一般式(XIX) を有する化合
物を製造する工程で、化合物(XVII)を一般式(XVIII) を
有する化合物と反応させることにより達成され、本工程
は、前記Ｃ法第Ｃ３工程と同様に行われる。

【００９５】第Ｄ９工程は、化合物(IIb) を製造する工
程で、化合物(XIX) を加水分解することにより達成さ
れ、本工程は、前記Ｃ法第Ｃ４工程と同様に行われる。

【００９６】反応終了後、Ｄ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、不溶物が存在する場合は、適宜濾別して、又は、反
応液が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜中和して、溶
剤を減圧留去することによって又は溶剤を減圧留去し、
残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機
溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、
溶媒を留去することにより得ることができ、必要なら
ば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等でさらに精製することができる。

【００９７】Ｅ法は、化合物(II)において、Ｒ⁴ がＲ⁴c
であり、Ｘが式＝Ｎ− を有する基である化合物(II
c) を製造する方法である。第Ｅ１工程は、一般式(XXI
I)を有する化合物を製造する工程で、不活性溶剤中（例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、１，２−ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水
素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類；好適には、エーテル類）、銅塩
の存在下（例えば、塩化銅、臭化銅、沃化銅のようなハ
ロゲン化銅、臭化銅−ジメチルスルフィド、沃化銅−ジ
メチルスルフィドのようなハロゲン化銅−ジメチルスル
フィド錯体；好適には、沃化銅又は沃化銅−ジメチルス
ルフィド）、化合物(XX)をハロゲノギ酸Ｃ₁ −Ｃ₆ アル
キル若しくはＣ₆ −Ｃ₁₀アリール（例えば、クロルギ酸
メチル、クロルギ酸エチル、クロルギ酸イソブチル、ク
ロルギ酸ヘキシル、クロルギ酸フェニル、ブロムギ酸フ
ェニル；好適には、クロルギ酸フェニル）と、−５０℃
乃至１０℃（好適には、−３０℃乃至０℃）で、１０分
間乃至５時間（好適には、３０分間乃至３時間）反応さ
せた後、一般式(XXI) を有するグリニアル試薬と、−５
０℃乃至１０℃（好適には、−３０℃乃至０℃）で、１
０分間乃至５時間（好適には、３０分間乃至３時間）反
応させることにより行われる。また、反応液中の目的化
合物(XXII)をそのまま次の工程に用いることもできる。

【００９８】第Ｅ２工程は、一般式(XXIII) を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ジ
クロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジ
クロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類；好適には、芳香族炭化水素類）、化合物(XXII)
を酸化剤（例えば、ｏ−クロラニル、ｐ−クロラニルの
ようなクロラニル類、ジクロロジシアノキノン；好適に
は、クロラニル類）と、０℃乃至１４０℃（好適には、
２０℃乃至１２０℃）で、３０分間乃至５時間（好適に
は、１時間乃至３時間）反応させることにより行われ
る。

【００９９】第Ｅ３工程は、一般式(XXV) を有する化合
物を製造する工程で、化合物(XXIII) を一般式(XXIV)を
有する化合物と反応させることにより達成され、本工程
は、銅塩の存在下又は不存在下、上記第Ｅ１工程と同様
に行われる。

【０１００】第Ｅ４工程は、一般式(XXVI)を有する化合
物を製造する工程で、化合物(XXV)を酸化剤と反応させ
ることにより達成され、本工程は、上記第Ｅ２工程と同
様に行われる。

【０１０１】第Ｅ５工程は、化合物(IIc) を製造する工
程で、化合物(XXVI)を加水分解することにより達成さ
れ、本工程は、前記Ｃ法第Ｃ４工程と同様に行われる。

【０１０２】又、化合物(II)において、Ｒ⁴ が水素原子
であり、Ｘが式＝Ｎ− を有する基である化合物は、
化合物(XXIII) を前記Ｃ法第Ｃ４工程と同様に加水分解
することによっても、製造できる。

【０１０３】反応終了後、Ｅ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、不溶物が存在する場合は、適宜濾別して、又は、反
応液が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜中和して、溶
剤を減圧留去することによって又は溶剤を減圧留去し、
残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機
溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、
溶媒を留去することにより得ることができ、必要なら
ば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等でさらに精製することができる。

【０１０４】Ｆ法は、化合物(V) を製造する方法であ
る。第Ｆ１工程は、一般式(XXVII) を有する化合物を製
造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ヘキサン、シク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭
化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類、メタノール、エタノール、
ブタノールのようなアルコール類、水または水と上記有
機溶剤の混合物；好適には、後述する還元剤が水素化リ
チウムアルミニウム又は水素化アルキルアルミニウムの
場合には、炭化水素類又はエーテル類、還元剤が水素化
ホウ素塩の場合には、アルコール類、水又は含水アルコ
ール類）、化合物(II)又はそのエステル体（化合物(II)
を前記Ｃ法第Ｃ１工程と同様に反応させて製造され
る。）を還元剤（例えば、水素化リチウムアルミニウ
ム、水素化ジイソブチルアルミニウムのような水素化ア
ルキルアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ
水素化ホウ素ナトリウムのような水素化ホウ素塩；好適
には、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチ
ルアルミニウム又は水素化ホウ素ナトリウム）と、−１
０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至５０℃）で、
１０分間乃至１０時間（好適には、３０分間乃至５時
間）反応させることにより行われる。

【０１０５】第Ｆ２工程は、一般式(XXVIII)を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ジ
クロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジ
クロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類；好適には、ハロゲン化炭化水素類）、化合物(X
XVII) をハロゲン化剤（例えば、チオニルクロライドの
ようなハロゲン化チオニル、三塩化リン、三臭化リンの
ような三ハロゲン化リン、五塩化リン、五臭化リンのよ
うな五ハロゲン化リン、オキシ塩化リン、オキシ臭化リ
ンのようなオキシハロゲン化リン、トリフェニルホスフ
ィン−四塩化炭素、トリフェニルホスフィン−四臭化炭
素、トリフェニルホスフィン−四沃化炭素のようなトリ
フェニルホスフィン−四ハロゲン化炭素、オキザリルク
ロリド；好適には、チオニルクロライド、オキシ塩化リ
ン、オキシ臭化リン又はオキザリルクロリド）と、−１
０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至５０℃）で、
１０分間乃至１０時間（好適には、３０分間乃至５時
間）反応させることにより行われる。

【０１０６】第Ｆ３工程は、一般式(XXIX)を有する化合
物を製造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ジ
クロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジ
クロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノンのよ
うなアミド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキ
シド類；好適には、アミド類）、化合物(XXVIII)をアル
カリ金属シアン化物（例えば、シアン化リチウム、シア
ン化ナトリウム、シアン化カリウム；好適には、シアン
化ナトリウム又はシアン化カリウム）と、０℃乃至１５
０℃（好適には、２０℃乃至１００℃）で、３０分間乃
至２０時間（好適には、１時間乃至１０時間）反応させ
ることにより行われる。

【０１０７】第Ｆ４工程は、化合物(V) を製造する工程
で、化合物(XXIX)を加水分解することにより達成され、
本工程は、前記Ｃ法第Ｃ４工程と同様に行われる。

【０１０８】反応終了後、Ｆ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、不溶物が存在する場合は、適宜濾別して、又は、反
応液が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜中和して、溶
剤を減圧留去することによって又は反応液中に、水また
は塩化アンモニウム水溶液を加え、室温で撹拌した後、
不溶物が存在する場合は、それを濾別して、酢酸エチル
のような水不混和性有機溶剤で抽出し、無水硫酸マグネ
シウム等で乾燥した後、溶媒を留去することにより得る
ことができ、必要ならば、常法、例えば、再結晶、カラ
ムクロマトグラフィー等でさらに精製することができ
る。

【０１０９】Ｇ法は、化合物(IV)を製造する方法であ
る。第Ｇ１工程は、一般式(XXXI)を有する化合物を製造
する工程で、不活性溶剤中（例えば、メタノール、エタ
ノール、ブタノールのようなアルコール類、ピリジン、
ルチジン、コリジンのようなピリジン類、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチル−２−ピロリジノンのようなアミド類又はこれ
らの混合溶媒；好適には、アルコール類又はピリジン
類）、化合物(XXX) をヒドロキシルアミン又はその塩
（例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような鉱酸塩；好
適には、塩酸塩）と、０℃乃至１００℃（好適には、２
０℃乃至５０℃）で、１０分間乃至６時間（好適には、
３０分間乃至３時間）反応させることにより行われる。
尚、ヒドロキシルアミンの塩をアルコール溶媒中で反応
させる場合、ヒドロキシルアミンの塩を中和させるた
め、塩基（水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸リチウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような
アルカリ金属重炭酸塩、又はトリエチルアミン、Ｎ−メ
チルモルホリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジ
ン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネ
ン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウン
デセンのような有機アミン類；好適には、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルア
ミン又はＮ−メチルモルホリン）を加えて反応を行うこ
ともできる。

【０１１０】第Ｇ２工程は、化合物(IV)を製造する工程
で、不活性溶剤中（例えば、ジクロルメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、１，２−ジクロルエタンのようなハ
ロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類、メタノール、エ
タノール、ブタノールのようなアルコール類；好適に
は、アルコール類）、化合物(XXXI)を還元剤（例えば、
亜鉛末、鉄粉、錫粉のような金属粉、好適には、亜鉛
末）と、１０℃乃至１２０℃（好適には、３０℃乃至１
００℃）で、１時間乃至２４時間（好適には、２時間乃
至５時間）反応させることにより行われる。

【０１１１】又、化合物(IV)は、不活性溶剤中（例え
ば、メタノール、エタノール、ブタノールのようなアル
コール類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸のような脂肪酸又
はこれらの混合溶剤；好適には、アルコール類）、Ｄ法
第Ｄ６工程で述べた接触還元触媒の存在下、１乃至２気
圧の水素若しくはギ酸、ギ酸アンモニウムのようなギ酸
類の存在下（好適には、ギ酸アンモニウム）、化合物(X
XX) をアンモニウム塩（例えば、アンモニウムクロリ
ド、アンモニウムブロミドのような鉱酸との塩、ギ酸ア
ンモニウム、酢酸アンモニウムのようなカルボン酸との
塩；好適には、アンモニウムクロリド又はギ酸アンモニ
ウム）と、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至６
０℃）で、３０分間乃至１０時間（好適には、１時間乃
至５時間）反応させることによっても製造される。

【０１１２】反応終了後、Ｇ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、不溶物が存在する場合は、適宜濾別して、又は、反
応液が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜中和して、溶
剤を減圧留去することによって又は溶剤を減圧留去し、
残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機
溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、
溶媒を留去することにより得ることができ、必要なら
ば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等でさらに精製することができる。

【０１１３】上記方法で製造される化合物(IV)におい
て、Ｒ¹ がアルキル基である化合物は、ラセミ体として
得られる。このラセミ体は、常法、例えば、光学活性カ
ラムクロマトグラフィーにより分割すること；光学活性
有機酸（例えば、酒石酸、マンデル酸、カンファースル
ホン酸、しょうのう酸、Ｏ，Ｏ’−ジベンゾイル酒石
酸、Ｏ，Ｏ’−ジトルオイル酒石酸等）との塩の分別結
晶により分割すること；又は上記光学活性有機酸と脱水
縮合させて光学活性カルボキシアミド化合物のジアステ
レオ異性体混合物とし、分別結晶によりジアステレオ異
性体を分割した後、加水分解することにより、光学活性
アミン化合物を得ることができる。

【０１１４】光学活性有機酸との塩の分別結晶による分
割では、例えば、化合物(IV)のラセミ体と０．５乃至１
当量の光学活性有機酸を熱不活性有機溶剤中に溶解さ
せ、塩を形成させて、溶液を冷却することにより、化合
物(IV)の内の一方の光学活性体の塩を結晶として析出さ
せる。これを濾取し、得られた塩を再び、カ性ソーダ水
のような塩基と混合して、分離してくる遊離光学活性ア
ミン化合物を塩化メチレンのような有機溶剤で抽出し
て、更に有機溶剤を減圧留去して、目的の光学活性アミ
ン化合物を得ることができる。もう一方のアミン化合物
(IV)の光学活性体は、上記で用いた光学活性有機酸の対
掌体を用いて、上記と同様の方法で得ることができる。
更に、上記で塩を濾取した残りの濾液をカ性ソーダ水の
ような塩基でアルカリ性にした後、析出するアミン化合
物を塩化メチレンのような有機溶剤で抽出して、更に有
機溶剤を減圧留去して、得られたもう一方のアミン化合
物(IV)の光学活性体を豊富に含む混合物を上記で使用し
た光学活性有機酸の対掌体と塩を形成させ、上記と同様
に、塩をアルカリで処理し、有機溶剤で抽出し、更に有
機溶剤を減圧留去することにより、容易にもう一方のア
ミン化合物(IV)の光学活性体を得ることができる。

【０１１５】Ｈ法は、Ｇ法の原料化合物(XXX) におい
て、Ｒ¹ がＲ¹aである化合物(XXXa)を製造する方法であ
る。第Ｈ１工程は、一般式(XXXIII)を有する化合物を製
造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ジクロルメ
タン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロルエ
タンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；
好適には、エーテル類）、一般式(XXXII) を有する化合
物を式Ｒ¹a−Ｍｇ−Ｚ（式中、Ｒ¹a及びＺは、前述し
たものと同意義を示す。）を有するグリニアル試薬又は
式Ｒ¹a−Ｌｉ（式中、Ｒ¹aは、前述したものと同意
義を示す。）を有するアルキルリチウムと、−７８℃乃
至５０℃（好適には、−３０℃乃至２０℃）で、１０分
間乃至１０時間（好適には、３０分間乃至５時間）反応
させることにより行われる。

【０１１６】第Ｈ２工程は、化合物(XXXa)を製造する工
程で、不活性溶剤中（例えば、ヘキサン、ヘプタン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、ジク
ロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジク
ロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類、ア
セトン、２−ブタノンのようなケトン類；好適には、ハ
ロゲン化炭化水素類又はケトン類）、化合物(XXXIII)を
酸化剤（例えば、ジメチルスルホキシド−オギザリルク
ロリド、ジメチルスルホキシド−無水硫酸・ピリジン錯
体、クロム酸−ピリジン、二酸化マンガン、酸化銀、
１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，
２−ベンジオドキシル−３（１Ｈ）−オン（デス−マー
チン試薬）；好適には、クロム酸−ピリジン、二酸化マ
ンガン又はデス−マーチン試薬）と、−２０℃乃至１０
０℃（好適には、１０℃乃至６０℃）で、３０分間乃至
２４時間（好適には、１時間乃至１６時間）反応させる
ことにより行われる。

【０１１７】反応終了後、Ｈ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、不溶物が存在する場合は、適宜濾別して、又は、反
応液が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜中和して、溶
剤を減圧留去することによって又は溶剤を減圧留去し、
残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性有機
溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、
溶媒を留去することにより得ることができ、必要なら
ば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等でさらに精製することができる。

【０１１８】Ｉ法は、化合物(XXX) において、Ｒ¹ が
式Ｃ（Ｒ¹b）₃ を有する基である化合物(XXXb)を製
造する方法である。第Ｉ１工程は、化合物(XXXb)を製造
する工程で、不活性溶剤中（例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ジクロルメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロルエタ
ンのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノンのようなアミ
ド類；好適には、芳香族炭化水素類）、塩基の存在下
（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシドのような金属アルコ
キシド類、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジ
シクロヘキシルアミドのアルカリ金属アミド類、トリエ
チルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−ジ
メチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．
３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］−７−ウンデセンのような有機アミン類、水素
化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水
素化物；好適には、カリウムｔ−ブトキシド）、一般式
(XXXIV) を有する化合物を、式Ｒ¹b−Ｚ（式中、Ｒ
¹b及びＺは、前述したものと同意義を示す。）を有する
化合物（好適には、メチルヨーダイド、エチルブロミド
又はエチルヨーダイド）と、−５０℃乃至１００℃（好
適には、０℃乃至５０℃）で、１０分間乃至５時間（好
適には、３０分間乃至３時間）反応させることにより行
われる。

【０１１９】反応終了後、Ｉ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、適宜中和して、溶剤を減圧留去することによって又
は溶剤を減圧留去し、残留物に水を加え、酢酸エチルの
ような水不混和性有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシ
ウム等で乾燥した後、溶媒を留去することにより得るこ
とができ、必要ならば、常法、例えば、再結晶、カラム
クロマトグラフィー等でさらに精製することができる。

【０１２０】Ｊ法は、化合物(VII) において、Ｒ⁴ がＲ
⁴dであり、Ｘが式＝Ｃ− を有する基である化合物
(VIIa)を製造する方法である。

【０１２１】第Ｊ１工程は、一般式(XXXVI) を有する化
合物を製造する工程で、４−アミノサリチル酸(XXXV)を
エステル化することにより達成され、本工程は、前記Ｃ
法第Ｃ１工程と同様に行われる。

【０１２２】第Ｊ２工程は、一般式(XXXVII)を有する化
合物を製造する工程で、化合物(XXXVI) の水酸基をアル
キル化、アラルキル化又は保護することにより達成さ
れ、本工程は、前記Ｄ法第Ｄ２工程と同様に行われる。

【０１２３】第Ｊ３工程は、一般式(XXXVIII) を有する
化合物を製造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド又はヘキサメチルホスホラミドのようなアミド類或は
ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類等；好適
にはヘキサメチルホスホラミド）、塩基の存在下（例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類或は炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム又は炭酸水素リチウムのようなアルカ
リ金属重炭酸塩類；好適にはアルカリ金属重炭酸塩
類）、化合物(XXXVII)を、ハロゲン化アルキル化合物
（例えば、沃化メチル、臭化エチル、沃化エチル、臭化
プロピル、沃化プロピル又は臭化ブチル等；好適には沃
化アルキル化合物）と、０℃乃至２００℃（好適には、
５０℃乃至１５０℃）で、１０分間乃至１２時間（好適
には、３０分間乃至５時間）反応させることにより行わ
れる。

【０１２４】第Ｊ４工程は、化合物(VIIa)を製造する工
程で、化合物(XXXVIII) の水酸基の保護基を除去するこ
とにより達成される。水酸基を除去する反応は、保護基
の種類により異なり、有機合成化学でよく知られている
方法で行われ、例えば、前記Ｄ法第Ｄ６工程と同様に行
うことができる。

【０１２５】反応終了後、Ｊ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、適宜中和して、溶剤を減圧留去することによって又
は溶剤を減圧留去し、残留物に水を加え、酢酸エチルの
ような水不混和性有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシ
ウム等で乾燥した後、溶媒を留去することにより得るこ
とができ、必要ならば、常法、例えば、再結晶、カラム
クロマトグラフィー等でさらに精製することができる。

【０１２６】Ｋ法は、化合物(VII) において、Ｒ⁴ がＲ
⁴eであり、Ｘが式＝Ｃ− を有する基である化合物
(VIIb)を製造する方法である。

【０１２７】第Ｋ１工程は、一般式(XXXX)を有する化合
物を製造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド又
はヘキサメチルホスホラミドのようなアミド類或はジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類等；好適には
ヘキサメチルホスホラミド）、塩基の存在下（例えば、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸リチウムのよう
なアルカリ金属炭酸塩類或は炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム又は炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属重炭酸塩類；好適にはアルカリ金属重炭酸塩類）、化
合物(XXXVII)を、一般式(XXXIX) を有する化合物（例え
ば、１，４−ジヨードブタン、１，５−ジヨードペンタ
ン又はジエチレングリコール・ジ−ｐ−トシレート）
と、０℃乃至２００℃（好適には、５０℃乃至１５０
℃）で、１０分間乃至１２時間（好適には、３０分間乃
至５時間）反応させることにより行われる。

【０１２８】第Ｋ２工程は、化合物(VIIb)を製造する工
程で、化合物(XXXX)の水酸基の保護基を除去することに
より達成される。水酸基を除去する反応は、保護基の種
類により異なり、有機合成化学でよく知られている方法
で行われ、例えば、前記Ｄ法第Ｄ６工程と同様に行うこ
とができる。

【０１２９】反応終了後、Ｋ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、適宜中和して、溶剤を減圧留去することによって又
は溶剤を減圧留去し、残留物に水を加え、酢酸エチルの
ような水不混和性有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシ
ウム等で乾燥した後、溶媒を留去することにより得るこ
とができ、必要ならば、常法、例えば、再結晶、カラム
クロマトグラフィー等でさらに精製することができる。

【０１３０】Ｌ法は、化合物(X) において、Ｒ⁴ がＲ⁴f
であり、Ｘが式＝Ｃ− を有する基である化合物(X
a)を製造する方法である。

【０１３１】第Ｌ１工程は、一般式(XXXXII)を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶剤中（例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、エ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド又はヘキサメチルホスホラミドの
ようなアミド類或はそれらの混合溶媒等；好適にはトル
エン及びジメチルホルムアミドの混合溶媒）、塩基の存
在下（例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物等；好適には、水素化ナトリ
ウム）、化合物(XVI) を、一般式(XXXXI) を有する化合
物（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロライド
等）と、−５０℃乃至１５０℃（好適には、０℃乃至１
００℃）で、１０分間乃至１２時間（好適には、３０分
間乃至５時間）反応させることにより行われる。

【０１３２】第Ｌ２工程は、一般式(XXXXIII) を有する
化合物を製造する工程で、化合物(XXXXII)を、１００℃
乃至３００℃（好適には、２００℃乃至２６０℃）で、
１０分間乃至１２時間（好適には、３０分間乃至３時
間）反応させることにより行われる。

【０１３３】第Ｌ３工程は、一般式(XXXXIV)を有する化
合物を製造する工程で、化合物(XXXXIII)をアルカリ加
水分解することにより達成され、本工程は、前記Ｃ法第
Ｃ４工程と同様に行われる。

【０１３４】第Ｌ４工程は、化合物(Xa)を製造する工程
で、化合物(XXXXIV)のメルカプト基をアルキル化するこ
とにより達成され、本工程は、前記Ｊ法第Ｊ３工程と同
様に行われる。

【０１３５】反応終了後、Ｌ法の各工程の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、適宜中和して、溶剤を減圧留去することによって又
は溶剤を減圧留去し、残留物に水を加え、酢酸エチルの
ような水不混和性有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシ
ウム等で乾燥した後、溶媒を留去することにより得るこ
とができ、必要ならば、常法、例えば、再結晶、カラム
クロマトグラフィー等でさらに精製することができる。

【０１３６】原料化合物(VI)及び(XXXV)は、市販されて
いるか、公知の方法［例えば、４−メチルチオー２−ヒ
ドロキシ安息香酸のような４−アルキルチオ又は４−ア
ラルキルチオ−２−ヒドロキシ安息香酸誘導体は、ジャ
ーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー、第28巻、
第717 頁 (1985年) （J. Med. Chem., 28, 717 (1985)
）、ケミカル・アブストラクツ、第50巻、第16701 (1
956年) （Chem.Abstr.,50, 16701(1956)）等の方法、４
−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ安息香酸、４−ピペ
リジノ−２−ヒドロキシ安息香酸のような４−アミノ−
２−ヒドロキシ安息香酸誘導体は、４−アミノ−２−ヒ
ドロキシ安息香を有機合成化学で良く知らているＮ−ア
ルキル化する方法、４−ベンジル−２−ヒドロキシ安息
香酸のような４−アラルキル−２−ヒドロキシ安息香酸
誘導体は、ケミストリー・アンド・インダストリー第37
頁 (1974年) （Chem. Ind., 37 (1974) ）等の方法、６
−アルキル−４−ヒドロキシニコチン酸誘導体は、ケミ
カル・アブストラクツ、第52巻、第10072 (1958年)
（ Chem.Abstr., 52, 10072(1958) ）等の方法又は６−
アルコキシ若しくは６−アラルキルオキシ−４−ヒドロ
キシピリジン−５−カルボン酸誘導体は、ジャーナル・
オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー、第20巻、第
1363頁 (1983年) （J. Heterocyclic Chem., 20, 1363
(1983)）等に記載されている４，６−ジヒドロキシニコ
チン酸メチルエステルの６位の水酸基を選択的にアルキ
ル化又はアラルキル化する方法］に従って、製造され
る。また、原料化合物(IX)、(XVIII) 、(XXXIX) 及び(X
XXXI) は、公知であるか公知の方法［例えば、オーガニ
ック・シンセシス・コレクティブ・ボリューム IV 、第
68頁 (1963年) ：Organic Syntheses, col. vol. IV, 6
8 (1963)、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミスト
リー、第56巻、第3763頁 (1991年) ：J. Org.Chem., 5
6, 3763 (1991)］に従って、製造される。

【０１３７】本発明の化合物（Ｉ）又はその薬理上許容
される塩は、優れたアシルＣｏＡ：コレステロールアシ
ルトランスフェラーゼ（以下、ＡＣＡＴと略記する。）
阻害作用を有し、ＡＣＡＴ阻害作用に起因する各種疾患
の治療剤若しくは予防剤、例えば、高脂血症の治療剤若
しくは予防剤（特に、治療剤）、アテローム性動脈硬化
症の治療剤若しくは予防剤（特に、治療剤）等として有
用である。

【０１３８】本発明の化合物（Ｉ）又はその薬理上許容
される塩を上記疾患の治療剤又は予防剤として使用する
場合には、それ自体あるいは適宜の薬理学的に許容され
る、賦形剤、希釈剤等と混合し、錠剤、カプセル剤、顆
粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注射
剤等による非経口的に投与することができる。これら
の製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、ブドウ糖、マ
ンニット、ソルビットのような糖誘導体；トウモロコシ
デンプン、馬鈴薯デンプン、α−デンプン、デキストリ
ン、カルボキシメチルデンプンのようなデンプン誘導
体；結晶セルロース、低置換度ヒドロキシプロピルセル
ロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースカ
ルシウム、内部架橋カルボキシメチルセルロースナトリ
ウムのようなセルロース誘導体；アラビアゴム；デキス
トラン；プルラン；軽質無水珪酸、合成珪酸アルミニウ
ム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩誘
導体；リン酸カルシウムのようなリン酸塩誘導体；炭酸
カルシウムのような炭酸塩誘導体；硫酸カルシウムのよ
うな硫酸塩誘導体等）、結合剤（例えば、前記の賦形
剤；ゼラチン；ポリビニルピロリドン；マグロゴール
等）、崩壊剤（例えば、前記の賦形剤；クロスカルメロ
ースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウ
ム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾され
た、デンプン、セルロース誘導体等）、滑沢剤（例え
ば、タルク；ステアリン酸；ステアリン酸カルシウム、
ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金属
塩；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイロウのようなラッ
クス類；硼酸；グリコール；フマル酸、アジピン酸のよ
うなカルボン酸類；安息香酸ナトリウムのようなカルボ
ン酸ナトリウム塩；硫酸ナトリウムのような硫酸類塩；
ロイシン；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグ
ネシウムのようなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和
物のような珪酸類；前記の賦形剤におけるデンプン誘導
体等）、安定剤（例えば、メチルパラベン、プロピルパ
ラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロ
ブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアル
コールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；
フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロ
サール；無水酢酸；ソルビン酸等）、矯味矯臭剤（例え
ば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料等）、希釈
剤、注射剤用溶剤（例えば、水、エタノール、グリセリ
ン等）等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。そ
の使用量は症状、年齢等により異なるが、経口投与の場
合には、１回当り１日下限１０ｍｇ（好適には、５０ｍ
ｇ）、上限１０００ｍｇ（好適には、５００ｍｇ）を、
静脈内投与の場合には、１回当り１日下限0.1 ｍｇ（好
適には、１ｍｇ）、上限５００ｍｇ（好適には、１００
ｍｇ）を成人に対して、１日当り１乃至６回症状に応じ
て投与することが望ましい。以下に、実施例、参考例、
試験例及び製剤例を示し、本発明をさらに詳細に説明す
るが、本発明の範囲は、これらに限定されるものではな
い。

【０１３９】

【実施例】

実施例１Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）フェニル］−Ｎ'-
［２, ２−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピル］
ウレア（例示化合物番号１−５）参考例４で得られた２−（２−メチルフェニル）安息香
酸（106 mg, 0.5 mmol）とジフェニルホスホリルアジド
（165 mg, 0.6 mmol）のベンゼン（2 ml）溶液に、トリ
エチルアミン（51 mg, 0.5 mmol ）のベンゼン（1 ml）
溶液を滴下し、室温で２. ５時間攪拌した。これに、参
考例１ｂで得られた３−（１−アミノ−２, ２−ジメチ
ルプロピル）ピリジン（82 mg, 0.5 mmol ）のベンゼン
（1 ml）溶液を滴下し、加熱還流下、２. ５時間攪拌し
た。反応溶液に飽和炭酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧で濃縮して、粗生成物を得た。この粗生成物を
エタノールから再結晶して、標題化合物（39 mg ：収率
21% ）を得た。融点：２４７−２４８℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.86 及び
0.87 (9H, s), 1.97及び 2.04 (3H, s), 4.33-4.37 (1
H, m), 5.39-5.42 (1H, m), 6.02 及び 6.03(1H, br.
s), 7.09-7.40 (8H, m), 7.93-7.97 (1H, m), 8.27 (1
H, br.s), 8.41-8.43 (1H, m)； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3333, 1638, 1549；マススペクトル (m/z) : 373(M⁺)。

【０１４０】実施例２Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）−４−ビフェニル−
１−イル］−Ｎ'-［２, ２−ジメチル−１−（３−ピリ
ジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−３９１）２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考
例５ｆで得られた２−（２−メチルフェニル）−４−フ
ェニル安息香酸を用いるほか、実施例１と同様にして、
粗生成物を得た。この粗生成物をベンゼンから再結晶し
て、標題化合物を収率64% で得た。融点：２１３−２１４℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.87 及び
0.88 (9H, s), 2.03及び 2.08 (3H, s), 4.35-4.43 (1
H, m), 5.47-5.52 (1H, m), 6.12-6.13 (1H,m), 7.15-
8.43 (16H, m)； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3358, 1700, 1663, 1524,
762 ；マススペクトル (m/z) : 449(M⁺)。

【０１４１】実施例３Ｎ−［４−メトキシ−２−（２−メチルフェニル）フェ
ニル］−Ｎ’−［２,２−ジメチル−１−（３−ピリジ
ル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−１５８）２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考
例６ｃで得られた４−メトキシ−２−（２−メチルフェ
ニル）安息香酸を用いるほか、実施例１と同様にして、
粗生成物を得た。この粗生成物を酢酸エチルから再結晶
して、標題化合物を収率41% で得た。融点：２２７−２２８℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.85 及び
0.86 (9H, s), 2.00及び 2.05 (3H, s), 3.80 (3H,
s), 4.37-4.43 (1H, m), 5.31-5.37 (1H, m), 5.79 (1
H, br.s), 6.70 (1H, d, J=3.0Hz), 6.92 (1H, dd, J=
3.0及び 8.8Hz),7.06-7.40 (6H, m), 7.68 (1H, dd, J
=2.8及び 8.8Hz), 8.29 (1H, d, J=2.0Hz), 8.43 (1H,
dd, J=1.4及び 4.7Hz) ； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3354, 1648, 1537, 1210
；マススペクトル (m/z) : 403(M⁺)。

【０１４２】実施例４Ｎ−［４−ブトキシ−２−（２−メチルフェニル）フェ
ニル］−Ｎ'-［２, ２−ジメチル−１−（３−ピリジ
ル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−１９６）２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考
例７ｂで得られた４−ブトキシ−２−（２−メチルフェ
ニル）安息香酸を用いるほか、実施例１と同様にして、
粗生成物を得た。この粗生成物をベンゼンから再結晶し
て、標題化合物を収率67% で得た。融点：１８３−１８５℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.85 及び
0.86 (9H, s), 0.97(3H, t, J=7.4Hz), 1.41-1.55 (2
H, m), 1.71-1.81 (2H, m), 1.99及び 2.06 (3H, s),
3.94 (2H, t, J =6.5Hz), 4.36-4.43 (1H, m), 5.26-5.
31 (1H, m), 5.73 (1H, br.s), 6.70 (1H, d, J=2.9H
z), 6.91 (1H, dd, J =2.9及び 8.8Hz),7.06-7.40 (6
H, m), 7.64 (1H, dd, J= 3.0 及び 8.8Hz), 8.30 (1H,
d, J=2.0Hz), 8.43-8.45 (1H, m) ； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3355, 1645, 1544, 1206
；マススペクトル (m/z) : 284(M⁺)。

【０１４３】実施例５Ｎ−［４−ベンジルオキシ−２−（２−メチルフェニ
ル）フェニル］−Ｎ'-［２, ２−ジメチル−１−（３−
ピリジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−３２
８）２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考
例８で得られた４−ベンジルオキシ−２−（２−メチル
フェニル）安息香酸を用いるほか、実施例１と同様にし
て、粗生成物を得た。この粗生成物を酢酸エチルから再
結晶して、標題化合物を収率33% で得た。融点：１９４−１９８℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.85 及び
0.86 (9H, s), 1.97及び 2.03 (3H, s), 4.35-4.45 (1
H, m), 5.05 (2H, s), 5.27-5.32 (1H, m), 5.77 (1H,
br.s), 6.77-7.44 (13H, m), 7.63-7.72 (1H, m), 8.29
(1H, br.s),8.44 (1H, br.d, J=4.8Hz) ； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3354, 1697, 1649, 1541,
1204 ；マススペクトル (m/z) : 479(M⁺)。

【０１４４】実施例６Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）ピリジン−３−イ
ル］−Ｎ'-［２, ２−ジメチル−１−（３−ピリジル）
プロピル］ウレア（例示化合物番号１−６７４）２−
（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考例９
ｂで得られた４−（２−メチルフェニル）ピリジン−３
−カルボン酸を用いるほか、実施例１と同様にして、粗
生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶剤：塩化メチレン／メタノール＝
２０／１から１０／１）を用いて精製して、標題化合物
を収率90% で得た。融点：２４１−２４３℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.87 (9H,
s), 2.00 (3H, s), 4.38-4.50 (1H, m), 5.56 (1H, b
r.s), 6.19 (1H, br.s), 6.99-7.45 (7H, m), 8.26 (1
H, br.s), 8.31 (1H, d, J=5.0Hz), 8.37-8.39 (1H,
m), 9.30 (1H, s)； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3336, 1703, 1637, 1551,
1415 ；マススペクトル (m/z) : 374(M⁺)。

【０１４５】実施例７Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）−６−フェニルピリ
ジン−３−イル］−Ｎ’−［２, ２−ジメチル−１−
（３−ピリジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１
−８５５）２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考
例１０ｂで得られた４−（２−メチルフェニル）−６−
フェニルピリジン−３−カルボン酸を用いるほか、実施
例１と同様にして、粗生成物を得た。この粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：塩化メ
チレン／メタノール＝３０／１から１５／１）を用いて
精製し、さらに酢酸エチルから再結晶して、標題化合物
を収率83% で得た。融点：２２６−２２９℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.88 (9H,
s), 2.04 及び 2.05(3H, s), 4.39-4.50 (1H, m), 5.5
6-5.59 (1H, m), 6.16-6.19 (1H, br.s), 7.12-7.47 (9
H, m), 7.95 (2H, d, J=6.7Hz), 8.28 (1H, br.s), 8.3
9 (1H, dd, J=1.2 及び 4.6Hz), 9.36 (1H,s) ； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3335, 1702, 1557, 1532,
1238 ；マススペクトル (m/z) : 351(M⁺+H)。

【０１４６】実施例８Ｎ−［４−（２−メトキシフェニル）−６−フェニルピ
リジン−３−イル］−Ｎ'-［２, ２−ジメチル−１−
（３−ピリジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１
−８５６）２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考
例１１ｃで得られた４−（２−メトキシフェニル）−６
−フェニルピリジン−３−カルボン酸を用いるほか、実
施例１と同様にして、粗生成物を得た。この粗生成物を
エタノールから再結晶して、標題化合物を収率84% で得
た。融点：１８０−１８３℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.88 (9H,
s), 3.73 (3H, s), 4.54 (1H, br.d, J=8.4Hz), 5.30
(1H, br.d, J=8.4Hz), 6.31 (1H, br.s), 6.99-7.49 (1
0H, m), 7.61 (1H, s), 7.97-8.01 (2H, m), 8.36 (1H,
d, J=2.0 Hz),8.45 (1H, dd, J=1.3及び 4.7Hz), 9.0
3 (1H, s) ； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3339, 1702, 1536, 1497,
1247 ；マススペクトル (m/z) : 467(M⁺+H)。

【０１４７】実施例９Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）−６−フェニルピリ
ジン−３−イル］−Ｎ’−［２, ２−ジメチル−１−
（２−ピリジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１
−９１２）２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考
例１０ｂで得られた４−（２−メチルフェニル）−６−
フェニルピリジン−３−カルボン酸を用い、３−（１−
アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジンの代わり
に、参考例２で得られた２−（１−アミノ−２, ２−ジ
メチルプロピル）ピリジンを用いるほか、実施例１と同
様にして、標題化合物を得る。

【０１４８】実施例１０Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）−６−フェニルピリ
ジン−３−イル］−Ｎ’−［２, ２−ジメチル−１−
（４−ピリジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１
−９４０）２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに、参考
例１０ｂで得られた４−（２−メチルフェニル）−６−
フェニルピリジン−３−カルボン酸を用い、３−（１−
アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジンの代わり
に、参考例３で得られた４−（１−アミノ−２, ２−ジ
メチルプロピル）ピリジンを用いるほか、実施例１と同
様にして、標題化合物を得る。実施例１１（Ｓ）−（−）−Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）−
６−フェニルピリジン−３−イル］−Ｎ'-［２, ２−ジ
メチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア（例示
化合物番号１−８５５）３−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジ
ンの代わりに、参考例１２で得られた（Ｓ）−（−）−
３−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジ
ンを用いるほか、実施例７と同様の方法により、粗生成
物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶剤：塩化メチレン／メタノール＝１０
／１）を用いて精製し、さらに酢酸エチルから再結晶し
て、標題化合物を収率54% で得た。融点：２４７−２５０℃ ；旋光度：［α］_D ²⁴ −３．５°（c 1, エタノー
ル）。

【０１４９】実施例１２（Ｒ）−（＋）−Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）−
６−フェニルピリジン−３−イル］−Ｎ'-［２, ２−ジ
メチル−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア（例示
化合物番号１−８５５）３−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジ
ンの代わりに、参考例１３で得られた（Ｒ）−（＋）−
３−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジ
ンを用いるほか、実施例７と同様の方法により、粗生成
物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶剤：塩化メチレン／メタノール＝１０
／１）を用いて精製し、さらに酢酸エチルから再結晶し
て、標題化合物を収率37% で得た。融点：２５０−２５２℃ ；旋光度：［α］_D ²⁴ ＋３．８°（c 1, エタノー
ル）。

【０１５０】実施例１３Ｎ−［４−ジメチルアミノ−２−（２−メチルフェニ
ル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３
−ピリジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−４
４２）参考例１６で得られた４−ジメチルアミノ−２−（２−
メチルフェニル）安息香酸 (255 mg, 1.0 mmol) 、ジフ
ェニルホスホリルアジド (0.258 ml, 1.2mmol)およびト
リエチルアミン (0.146 ml, 1.05 mmol)をベンゼン (3
ml) 中、３時間加熱還流下、撹拌した。反応液に参考例
１ｂで得られた３−（１−アミノ−２，２−ジメチルプ
ロピル）ピリジン (165 mg, 1.0 mmol) を加え、加熱還
流下、３時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え水
洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮して
粗生成物を得た。この粗生成物をイソプロピルエーテル
中で結晶化させ濾取して、標題化合物 (393 mg :収率94
%)を得た。融点 : ２０１−２０７℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃) δppm : 0.85 及
び 0.87 (9H, s), 2.01 及び 2.10 (3H, s), 2.96 (6H,
s), 4.51-4.62 (1H, m), 5.25-5.36 (1H, m),5.57(1H,
s), 6.55 (1H, d, J=3.0Hz), 6.77 (1H, dd, J=3.0
及び 9.0Hz),7.04-7.49 (7H, m), 8.35 (1H, s), 8.46
(1H, d, J=4.5Hz)。

【０１５１】実施例１４Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）−４−（１−ピロリ
ジニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−
（３−ピリジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１
−４５７）参考例１７ｃで得られた２−（２−メチルフェニル）−
４−（１−ピロリジニル）安息香酸を４−ジメチルアミ
ノ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに用
いるほか、実施例１３と同様にして、標題化合物を収率
８７％で得た。融点：１５０−１５２℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.85 及び
0.86 (9H, s), 1.95-2.10 (4H, m), 3.20-3.36 (4H,
m), 4.47-4.55 (1H, m), 5.26-5.34 (1H, m), 5.52 (1
H, s), 6.40 (1H, d, J=2.5Hz), 6.61 (1H, dd, J=2.5
及び 8.5Hz), 7.05-7.42 (7H, m), 8.34 (1H, s), 8.4
6 (1H, d, J=4.0Hz)。

【０１５２】実施例１５Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）−４−モルホリノフ
ェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３−ピリ
ジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−４７５）参考例１８ｄで得られた２−（２−メチルフェニル）−
４−モルホリノ安息香酸を４−ジメチルアミノ−２−
（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに用いるほ
か、実施例１３と同様にして、標題化合物を収率８８％
で得た。融点：１５２−１５４℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.86 及び
0.87 (9H, s), 1.99及び 2.06 (3H, s), 3.11-3.16 (4
H, m), 3.80-3.87 (1H, m), 4.36-4.50 (1H,m), 5.31-
5.39 (1H, m), 5.76 (1H, s), 6.70 (1H, d, J=3.0Hz),
6.93 (1H, dd, J=2.5 及び 8.5Hz), 7.03-7.69 (7H,
m), 8.33 (1H, s), 8.44 (1H, d, J=3.5Hz) 。実施例１６Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）−４−ピペリジノフ
ェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３−ピリ
ジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−４６５）参考例１９ｆで得られた２−（２−メチルフェニル）−
４−ピペリジノ安息香酸を４−ジメチルアミノ−２−
（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに用いるほ
か、実施例１３と同様にして、標題化合物を収率９９％
で得た。融点：１７０−１７９℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.85 及び
0.87 (9H, s), 1.51-1.90 (6H, m), 1.99及び 2.07
(3H, s), 3.11-3.19 (4H, m), 4.39-4.49 (1H,m), 5.30
-5.43 (1H, m), 5.70 (1H, s), 6.76 (1H, d, J=3.0H
z), 6.98 (1H, dd, J=3.0 及び 9.0Hz), 7.02-7.31 (5
H, m), 7.39-7.46 (1H, m), 7.52-7.61 (1H, m), 8.35
(1H, s), 8.42-8.47 (1H,m)。

【０１５３】実施例１７Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）−４−メチルチオフ
ェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３−ピリ
ジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−２４６）参考例２０ｄで得られた２−（２−メチルフェニル）−
４−メチルチオ安息香酸 (258 mg, 1.0 mmol) 、ジフェ
ニルホスホリルアジド (0.258 ml, 1.2mmol)およびトリ
エチルアミン (0.146 ml, 1.05 mmol)をトルエン (4 m
l) 中、１時間加熱還流下、撹拌した。反応液に参考例
１ｂで得られた３−（１−アミノ−２，２−ジメチルプ
ロピル）ピリジン (165 mg, 1.0 mmol) を加え、加熱還
流下、１時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え水
洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮して
粗生成物を得た。この粗生成物をイソプロピルエーテル
中で結晶化させ濾取して、標題化合物 (325 mg :収率77
%)を得た。融点：２０９−２１１℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.85 及び
0.86 (9H, s), 1.99及び 2.02 (3H, s), 2.45 (3H,
s), 4.30-4.41 (1H, br.s), 5.52 (1H, d, J=8.5Hz),
6.08 (1H, s), 7.01 (1H, d, J=1.5Hz), 7.03-7.42 (7
H, m), 7.90 (1H,dd, J=2.5 及び 8.5Hz), 8.26 (1H,
s), 8.39 (1H, d, 4.5Hz)。

【０１５４】実施例１８Ｎ−［４−イソプロピルチオ−２−（２−メチルフェニ
ル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３
−ピリジル）プロピル］ウレア（例示化合物番号１−２
５８）参考例２１ｂで得られた４−イソプロピルチオ−２−
（２−メチルフェニル）安息香酸を４−メチルチオ−２
−（２−メチルフェニル）安息香酸の代わりに用いるほ
か、実施例１７と同様にして、表題化合物の粗生成物を
得た。この生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１９／１）
を用いて精製し、得られた結晶をイシプロピルエーテル
−ヘキサンで洗浄して標題化合物を収率８４％で得た。融点：１８９−１９１℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.86 (9H,
s), 1.25 (6H, d, J=6.5Hz), 1.99及び 2.02 (3H, s),
3.26 (1H, quintet, J=6.5Hz), 4.29-4.41 (1H, m),
5.41-5.60 (1H, m), 6.10-6.20 (1H, m), 7.04-7.41 (8
H, m), 7.99 (1H, dd,J=3.5及び 8.5Hz), 8.24 (1H,
s), 8.32-8.41(1H,m)。

【０１５５】実施例１９Ｎ−［２，２−ジメチル−１−（３−ピリジル）プロピ
ル］−４−メトキシ−２−（２−メチルフェニル）フェ
ニルアセトアミド（例示化合物番号２−２３）参考例２３ｃで得られた４−メトキシ−２−（２−メチ
ルフェニル）フェニル酢酸(0.40 g, 1.56mmol)のジクロ
ルメタン(5 ml)溶液にオキザリルクロライド(0.40 ml,
4.2 mmol) とジメチルホルムアミド１滴を加え、室温で
２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物をベンゼ
ンに溶かして減圧濃縮をして、残存するオキザリルクロ
ライドを除去した後、残留物をジクロルメタン(4 ml)に
溶かし、参考例１ｂで得られた３−（１−アミノ−２，
２−ジメチルプロピル）ピリジン(256 mg, 1.56 mmol)
とトリエチルアミン（0.40 ml, 2.9 mmol)を加え、室温
で２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸
エチルと水に溶かし、酢酸エチルを分離して、抽出液を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ジ
クロルメタンメタノール＝２０：１）を用いて精製し
て、泡状固体の標題化合物(0.54 g,収率８６％）を得
た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.79 (9H,
s), 2.01及び 2.04 (3H, s), 3.20 (1H, dd, J=11.5及
び 16.5Hz), 3.37 (1H, dd, J=6.5及び 16.5Hz), 3.8
4 (3H, s), 4.68 (1H, d, J=9.0Hz), 5.81 (1H, br.t,
J=9.0Hz), 6.77(1H, d, J=2.5Hz), 6.96 (1H, dd, J=2.
5及び 8.5Hz), 7.02及び 7.08 (1H,d, J=7.5Hz), 7.1
3-7.40 (6H, m), 8.32 (1H, s), 8.48 (1H, d,J=4.5H
z)。

【０１５６】参考例１３−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジ
ン（１ａ）３−ピバロイルピリジンカリウム t−ブトキシド（74.06g, 0.66mol ）のトルエ
ン（400ml ）懸濁液に、氷冷下、３−アセチルピリジン
（24.20g, 0.2mol）を滴下した。引き続き氷冷下で、１
８−クラウン−６−エーテル（0.53g, 0.002mol）を加
えてから、ヨードメタン（93.68g, 0.66mol ）のトルエ
ン（100ml ）溶液を滴下した。このとき、反応温度が１
０℃以下になるように滴下速度を調節した。滴下終了
後、室温で１時間攪拌した。反応液に水（300ml ）を加
え、有機層を分液した。水層を酢酸エチル（300ml ）で
抽出し、得られた抽出液を先の有機層と合せ、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた粗生成物
を蒸留して、標題化合物（26.73g, 収率82% ）を得た。沸点：75-78 ℃/4mmHg ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.36 (9H,
s), 7.36 (1H, dd, J=4.7及び 7.9Hz), 7.99 (1H, b
r.d, J=7.9Hz), 8.66 (1H, dd, J=1.7 及び 4.7Hz), 8.
97 (1H, d, J=1.7Hz) ； IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1681, 1584 ；マススペクトル (m/z) : 164(M⁺)。（１ｂ）３−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピ
ル）ピリジン窒素雰囲気下、参考例１ａで得られた３−ピバロイルピ
リジン（16.30g, 0.1mol ）とギ酸アンモニウム（31.50
g, 0.5mol）をメタノール（200ml ）中で、１時間加熱
還流した。反応溶液を室温にした後、５％パラジウム−
炭素（2.13g,0.001mol）を加え、油浴温度40-50 ℃で４
時間加熱した。反応終了後、ろ過によりパラジウム−炭
素を除き、得られたろ液を減圧で濃縮した。濃縮残渣に
１５％水酸化ナトリウム水溶液（200ml ）を加え、塩化
メチレン（200ml ）で２回抽出した。抽出液を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた油状
物をエタノール（100ml ）に溶解し、フマル酸（11.61
g, 0.1mol）を加え、油浴上（温度４０℃）で１５分加
熱した後、放置し室温に戻した。生成した結晶をろ取
し、エタノール（50ml）で結晶を洗浄して、相当するフ
マル酸塩（26.73g，融点：191-196 ℃）を得た。このフ
マル酸塩に１５％水酸化ナトリウム水溶液（200ml ）を
加え、塩化メチレン（200ml ）で２回抽出し、抽出液を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、シロップ
状の標題化合物（10.51g, 収率64%)を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.91 (9H,
s), 3.75 (1H, s), 7.23 (1H, dd, J=4.9及び 7.9H
z), 7.67 (1H, br.d, J=7.9Hz), 8.48 (1H, br.d, J=4.
8Hz), 8.53 (1H,br.s) ； IRスペクトル (液状) cm^-1 : 3376, 1478, 1427, 1364,
718 ；マススペクトル (m/z) : 165(M⁺)。

【０１５７】参考例２２−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジ
ン（２ａ）２−（１−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプ
ロピル）ピリジン窒素雰囲気下、２−ピリジンカルボキシアルデヒド（1.
07 g, 10 mmol ）のテトラヒドロフラン（20 ml ）溶液
に、−７８℃で、 t−ブチルマグネシウムクロリドの２
Ｍテトラヒドロフラン溶液（7.5 ml）を滴下した。徐々
に昇温し、約１時間かけて、反応液を室温に戻した。反
応液に飽和炭酸ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧で留去して、粗生成物を得た。この粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
剤：塩化メチレン／メタノール＝３０／１）を用いて精
製して、結晶として、標題化合物（0.83g, 収率50%)を
得た。融点：４８−５２℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.92 (9H,
s), 4.28 (1H, d, J=7.1Hz), 4.35 (1H, d, J=7.1Hz),
7.12-7.21 (2H, m), 8.60-8.66 (1H, m), 8.54-8.57
(1H, m)。（２ｂ）２−ピバロイルピリジンオキシム参考例２ａで得られた２−（１−ヒドロキシ−２，２−
ジメチルプロピル）ピリジン（0.57 g, 3.45 mmol ）の
塩化メチレン（35 ml ）溶液に室温で、1,1,1-トリアセ
トキシ-1,1−ジヒドロ-1,2−ベンズイオドキソール−3
(1H)-オンからなるデス−マーチン（Dess−Martin) 試
薬（1.61 g, 3.80 mmol ）を加え、室温で３０分間撹袢
した。反応終了後、反応溶液にエーテル（90 ml ）を加
え、１規定水酸化ナトリウム水溶液（39 ml ）で洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し
た。得られた残渣に、ピリジン（5 ml）とヒドロキシル
アミン塩酸塩（1.04g, 15.03 mmol ）を加え、反応液を
加熱し、均一溶液とした後、放置し、約３０分かけて室
温に戻した。反応溶液から溶媒を減圧で留去して、得ら
れた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、
結晶として、標題化合物を得た。融点：１１６−１２０℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.21 (9H,
s) 7.00 (1H, s)，7.18 (1H, d, J=8.0Hz), 7.25-7.29
(1H, m), 7.70-7.77 (1H, m), 8.70 (1H, br.d, J=5.7
Hz）。（２ｃ）２−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピ
ル）ピリジン参考例２ｂで得られたオキシム誘導体全量をエタノール
（3 ml）と酢酸（3 ml）の混合溶媒に溶解し、０℃で亜
鉛末（0.98 g, 17.25 mmol）を加え、２時間加熱還流下
攪拌した。反応溶液をろ過して、得られたろ液を減圧濃
縮した。飽和炭酸ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレ
ンで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶剤：塩化メチレン／メタノール＝
１０／１）を用いて精製して、シロップ状の標題化合物
（0.41 g, 収率83%)を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.93 (9H,
s), 1.98 (2H, br.s), 3.72 (1H, s), 7.12-7.21 (2H,
m), 7.56-7.62 (1H, m), 8.55 (1H, br.d, J=4.4Hz)
; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 3377, 1591, 1570, 1474,
1434, 797, 752 ; マススペクトル (m/z) : 165(M⁺)。

【０１５８】参考例３４−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジ
ン（３ａ）４−（１−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプ
ロピル）ピリジン２−ピリジンカルボキシアルデヒドの代わりに、４−ピ
リジンカルボキシアルデヒドを用いるほか、参考例２ａ
と同様にして、粗生成物を得た。この粗生成物をヘキサ
ン−酢酸エチルから再結晶して、標題化合物を収率52％
で得た。融点：１１１−１１４℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.93 (9H,
s), 2.22 (1H, m), 4.39 (1H, d, J=6.3 Hz), 7.22-7.
26 (2H, m), 8.52-8.54 (2H,m)。（３ｂ）４−（１−アミノ−２, ２−ジメチルプロピ
ル）ピリジン２−（１−ヒドロキシ−２, ２−ジメチルプロピル）ピ
リジンの代わりに、参考例３ａで得られた４−（１−ヒ
ドロキシ−２, ２−ジメチルプロピル）ピリジンを用い
るほか、参考例２ｂ及び２ｃと同様にして、油状物の標
題化合物を収率51％で得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.91 (9H,
s), 1.65 (2H, br.s), 3.69 (1H, s), 7.23 (2H, d, J
=6.0Hz), 8.52 (2H, d, J=6.0Hz) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 3299, 1662, 1600, 829,
563 ; マススペクトル (m/z) : 165(M⁺)。

【０１５９】参考例４２−（２−メチルフェニル）安息香酸（４ａ）２−（２−メチルフェニル）安息香酸メチルサリチル酸メチル（1.51 g, 5 mmol）とトリエチルアミ
ン（1.39 ml, 10 mmol）の塩化メチレン（10 ml ）溶液
に、氷冷下トリフルオロメタンスルホン酸無水物（1.23
ml, 7.5 mmol ）を滴下し、室温で３０分間反応させ
た。反応終了後、反応液に酢酸エチルと水を加え、有機
層を分離し、この有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮して、粗スルホニルオキシ体を得た。この
粗スルホニルオキシ体をジメチルホルムアミド（15 ml
）に溶解し、２−メチルフェニルホウ酸（1.02 g, 7.5
mmol）、トリエチルアミン（2.1 ml, 15 mmol ）及び
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（0.17
g, 0.15 mmol ）を加え、油浴温度１００℃で１時間反
応した。反応液に酢酸エチルを加え、水洗し、有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）を用いて精製
して、油状の標題化合物（1.02 g, 収率90%)を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.07 (3H,
s), 3.61 (3H, s), 7.06-7.98 (8H, m) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1733, 1721, 1291, 1253,
755 ; マススペクトル (m/z) : 226(M⁺)。

【０１６０】（４ｂ）２−（２−メチルフェニル）安
息香酸参考例４ａで得られた２−（２−メチルフェニル）安息
香酸メチル（1.02 g,4.5 mmol）と水酸化リチウム１水
和物（0.57 g, 13.5 mmol ）をメタノール（4ml）、テ
トラヒドロフラン（4 ml）及び水（1 ml）の混合溶媒に
加え、３時間加熱還流した。反応溶液に１規定塩酸を加
え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧で濃縮した。ヘキサンを加え、得られ
た粗結晶を濾取して、標題化合物(0.46g, 収率48% ）を
得た。融点：９５−９８℃。参考例５２−（２−メチルフェニル）−４−フェニル安息香酸（５ａ）２，４−ジヒドロキシ安息香酸メチル２，４−ジヒドロキシ安息香酸（15.41 g, 100 mmol ）
とクロロトリメチルシラン（38 ml, 300 mmol ）のメタ
ノール（100 ml）溶液を３０時間加熱還流した。反応溶
液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、飽和重炭酸
ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して、粗結晶を得た。この粗結
晶を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、標題化合物
（7.43 g, 収率63% ）を得た。融点：１１８−１２０℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.92 (3H,
s), 5.70 (1H, br.s), 6.36-6.41 (2H, m), 7.73 (1H,
d, J=8.5Hz), 10.98 (1H, s) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3344, 1644, 1436, 1282,
773 ; マススペクトル (m/z) : 168(M⁺)。

【０１６１】（５ｂ）４−ベンジルオキシ−２−ヒド
ロキシ安息香酸メチル参考例５ａで得られた２，４−ジヒドロキシ安息香酸メ
チル（3.40 g, 20.2mmol）、ベンジルブロミド（2.65 m
l, 22.2 mmol）及び炭酸カリウム（3.07 g,22.2 mmol
）の２−ブタノン（60 ml ）溶液を１時間加熱還流し
た。ろ過により反応溶液から不溶物を除去し、ろ液を減
圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）を用
いて精製して、結晶として、標題化合物（4.36 g, 収率
83%)を得た。融点：１０１−１０３℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.91 (3H,
s), 5.08 (2H, s), 6.49-6.53 (2H, m), 7.32-7.43 (5
H, m), 7.74 (1H, d, J=8.8Hz), 10.98 (1H, s) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1668, 1621, 1347, 1251,
1218, 1140 ; マススペクトル (m/z) : 258(M⁺)。

【０１６２】（５ｃ）４−ベンジルオキシ−２−（２
−メチルフェニル）安息香酸メチル参考例５ｂで得られた４−ベンジルオキシ−２−ヒドロ
キシ安息香酸メチル（1.29 g, 5.0 mmol）とピリジン
（0.84 ml, 10.5 mmol）の塩化メチレン（10 ml）溶液
に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（1.
30 ml, 7.9 mmol）を滴下し、室温で１時間攪拌した。
反応溶液に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸ナトリウム
水溶液及び１規定塩酸で順次洗浄した。有機層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し、粗スルホニルオキ
シ体を得た。この粗スルホニルオキシ体をジメチルホル
ムアミド（20 ml ）に溶解し、２−メチルフェニルほう
酸（1.02 g, 7.5 mmol）、トリエチルアミン（2.10 ml,
15 mmol）及びテトラキストリフェニルホスフィンパラ
ジウム（0.17 g, 0.15 mmol ）を加え、１００℃で１時
間反応した。反応溶液に酢酸エチルを加え、水洗し、有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧濃縮した。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）を用
いて精製して、結晶として、標題化合物（1.62 g, 収率
97%)を得た。融点：７３−７９℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.05 (3H,
s), 3.59 (3H, s), 5.15 (2H, s), 6.80-7.45 (11H,
m), 7.99 (1H, d, J=8.8Hz) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1722, 1595, 1249, 1227,
1139, 1005 ; マススペクトル (m/z) : 332(M⁺)。

【０１６３】（５ｄ）４−ヒドロキシ−２−（２−メ
チルフェニル）安息香酸メチル参考例５ｃで得られた４−ベンジルオキシ−２−（２−
メチルフェニル）安息香酸メチル（1.19 g, 3.6 mmol）
をメタノール（20 ml ）に溶解し、５％パラジウム−炭
素（0.38 g, 0.18 mmol ）を加え、１気圧の水素雰囲気
下、室温で３時間攪拌した。ろ過により反応溶液からパ
ラジウム−炭素を除去し、得られたろ液を減圧濃縮し
て、結晶として、標題化合物（0.83 g, 収率96% ）を得
た。融点：１０９−１１２℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.07 (3H,
s), 3.59 (3H, s), 5.41 (1H, br.s), 6.66 (1H, d, J
=2.6Hz), 6.85 (1H, dd, J=2.6及び 9.6Hz),7.05-7.30
(4H, m), 7.95 (1H, d, J=8.6Hz) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 3262, 1684, 1567, 1283
; マススペクトル (m/z) : 242(M⁺)。

【０１６４】（５ｅ）２−（２−メチルフェニル）−
４−フェニル安息香酸メチル参考例５ｄで得られた４−ヒドロキシ−２−（２−メチ
ルフェニル）安息香酸メチル（0.33 g, 1.4 mmol）とピ
リジン（0.16 ml, 2.0 mmol ）の塩化メチレン（7 ml）
溶液に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物
（0.25 ml, 1.5mmol ）を滴下し、同温度で０. ５時間
攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、水及び飽和炭
酸ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、粗スルホニルオキ
シ体を得た。この粗スルホニルオキシ体をジメチルホル
ムアミド（7 ml）に溶解し、フェニルほう酸（0.25 g,
2.0 mmol）、トリエチルアミン（0.57 ml, 4.1 mmol ）
及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（0.
05 g, 0.04 mmol ）を加え、１００℃で１時間反応し
た。反応溶液に酢酸エチルを加え、水洗し、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１２／１）を用いて精製し
て、粘張な油状物として、標題化合物（0.40 g, 収率97
%)を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.12 (3H,
s), 3.64 (3H, s), 7.12-7.68 (11H, m), 8.06 (1H,
d, J=8.3Hz) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1731, 1716, 1600, 1290,
1254, 1097, 757 ; マススペクトル (m/z) : 302(M⁺)。

【０１６５】（５ｆ）２−（２−メチルフェニル）−
４−フェニル安息香酸参考例５ｅで得られた２−（２−メチルフェニル）−４
−フェニル安息香酸メチル（0.40 g, 1.3 mmol）と水酸
化リチウム１水和物（0.28 g, 6.6 mmol）をメタノール
（4 ml）、テトラヒドロフラン（4 ml）及び水（1 ml）
の混合溶媒に加え、１時間加熱還流した。反応溶液を減
圧で濃縮し、１規定塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し
て、粗生成物を得た。この粗生成物をシクロヘキサンか
ら再結晶して、標題化合物（0.24 g, 収率63% ）を得
た。融点：１８３−１８４℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.13 (3H,
s), 7.15-7.70 (11H,m), 8.15 (1H, d, J=8.3Hz) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1682, 1296, 760 ; マススペクトル (m/z) : 288(M⁺)。

【０１６６】参考例６４−メトキシ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸（６ａ）２−ヒドロキシ−４−メトキシ安息香酸エチ
ル２−ヒドロキシ−４−メトキシ安息香酸（3.36 g, 20 m
mol ）、１, ８−ジアザビシクロ［５, ４, ０］−７−
ウンデセン（3.04 g, 20 mmol ）及びヨウ化エチル（1.
6 ml, 20 mmol ）のアセトニトリル（40 ml ）溶液を加
熱還流下４時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加
え、水及び１規定塩酸で順次洗浄した。有機層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた粗生成
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：
ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）を用いて精製して、
油状物の標題化合物（3.64g, 収率93% ）を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.40 (3H,
t, J=7.1Hz), 3.82 (3H, s), 4.37 (2H, q, J=7.1Hz),
6.41-6.45 (2H, m), 7.75 (1H, d, J=9.3Hz),11.05 (1
H, s) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1668, 1624, 1258, 779
; マススペクトル (m/z) : 196(M⁺)。

【０１６７】（６ｂ）４−メトキシ−２−（２−メチ
ルフェニル）安息香酸エチル参考例６ａで得られた２−ヒドロキシ−４−メトキシ安
息香酸エチル（0.98 g, 5 mmol）とトリエチルアミン
（1.4 ml, 10 mmol ）の塩化メチレン（10 ml ）溶液
に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（1.
2 ml, 7.5 mmol）を滴下し、室温で３０分間攪拌した。
反応溶液に酢酸エチルを加え、飽和炭酸ナトリウム水溶
液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧濃縮して、粗スルホニルオキシ体を得た。この粗ス
ルホニルオキシ体をジメチルホルムアミド（15 ml ）に
溶解し、２−メチルフェニルほう酸（1.02 g, 7.5 mmo
l ）、トリエチルアミン(2.1 ml, 15 mmol）及びテトラ
キストリフェニルホスフィンパラジウム（0.17 g, 0.15
mmol ）を加え、１００℃で１時間反応した。反応溶液
に酢酸エチルを加え、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エ
チル＝１５／１）を用いて精製して、粘張油状物とし
て、標題化合物（0.94 g, 収率70%)を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.95 (3H,
t, J=7.1 Hz), 2.07(3H, s), 3.85 (3H, s), 4.01 (2
H, q, J=7.1Hz), 6.72 (1H, d, J=2.6Hz), 6.93(1H, d
d, J=2.6 及び 8.7Hz), 7.06-7.28 (4H, m), 7.99 (1H,
d, J=8.7Hz) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1706, 1600, 1280, 761
; マススペクトル (m/z) : 270(M⁺)。

【０１６８】（６ｃ）４−メトキシ−２−（２−メチ
ルフェニル）安息香酸参考例６ｂで得られた４−メトキシ−２−（２−メチル
フェニル）安息香酸エチル（0.93 g, 3.4 mmol）と水酸
化リチウム１水和物（0.43 g, 10.3 mmol ）をメタノー
ル（4 ml）、テトラヒドロフラン（4 ml）及び水（1 m
l）の混合溶媒に加え、５時間加熱還流した。反応溶液
に１規定塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、粗生成物
を得た。この粗生成物をヘキサン−酢酸エチルから再結
晶して、標題化合物（0.58 g, 収率70% ）を得た。融点：１４９−１５０℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.07 (3H,
s), 3.85 (3H, s), 6.70 (1H, d, J=2.6Hz), 6.92 (1
H, dd, J=2.6 及び 8.7Hz), 7.06-7.29 (4H, m), 8.05
(1H, d, J=8.7Hz) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1671, 1597, 1279 ; マススペクトル (m/z): 242 (M⁺)。

【０１６９】参考例７４−ブトキシ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸（７ａ）４−ブトキシ−２−（２−メチルフェニル）
安息香酸メチル参考例５ｄで得られた４−ヒドロキシ−２−（２−メチ
ルフェニル）安息香酸メチル（339 mg, 1.4 mmol）のジ
メチルホルムアミド（3 ml）溶液に、氷冷下、水素化ナ
トリウム（80 mg, 1.7 mmol ）と臭化ブチル（230 mg,
1.7 mmol）を順次加え、室温で１８時間攪拌した。反応
溶液に１規定塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧で留去し
て、粗標題化合物を得た。この化合物は精製することな
く次の工程に用いた。（７ｂ）４−ブトキシ−２−（２−メチルフェニル）
安息香酸参考例７ａで得られた粗生成物全量と水酸化リチウム１
水和物（0.18 g, 4.2mmol）をテトラヒドロフラン（2 m
l）、メタノール（2 ml）及び水（0.5 ml）の混合溶液
に加え、加熱還流下で７時間攪拌した。反応終了後、反
応溶液に１規定塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧で留去
した。得られた粗生成物にヘキサンを加え、析出した結
晶を濾取して、標題化合物（332 mg, 収率83% ）を得
た。融点：１１３−１１４℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.97 (3H,
t, J=7.3Hz), 1.41-1.55 (2H, m), 1.72-1.82 (2H,
m), 2.07 (3H, s), 4.00 (2H, t, J=6.5Hz),6.69 (1H,
d, J=2.6Hz), 6.90 (1H, dd, J=2.6及び8.6Hz), 7.06-
7.28 (4H, m),8.04 (1H, d, J=8.6Hz) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1683, 1593, 1294, 1220
; マススペクトル (m/z) : 284(M⁺)。

【０１７０】参考例８４−ベンジルオキシ−２−（２−メチルフェニル）安息
香酸参考例５ｃで得られた４−ベンジルオキシ−２−（２−
メチルフェニル）安息香酸メチル（0.44 g, 1.3 mmol）
と水酸化リチウム１水和物（0.28 g, 6.6 mmol）をメタ
ノール（4 ml）、テトラヒドロフラン（4 ml）及び水
（1 ml）の混合溶媒に加えし、４時間加熱還流した。反
応溶液を減圧で濃縮し、１規定塩酸を加え、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧濃縮して、粗結晶を得た。この粗結晶をヘキサン−酢
酸エチルから再結晶して、標題化合物（0.28 g, 収率66
% ）を得た。融点：１７３−１７７℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.05 (3H,
s), 5.11 (2H, s), 6.79 (1H, d, J=2.6Hz), 7.00 (1
H, dd,J=2.6及び 8.7Hz), 7.06-7.44 (9H, m),8.06 (1
H, d, J=8.7Hz) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1687, 1671, 1593, 1225,
1003, 763 ; マススペクトル (m/z) : 318(M⁺)。

【０１７１】参考例９４−（２−メチルフェニル）ピリジン−３−カルボン酸（９ａ）４−（２−メチルフェニル）ピリジン−３−
カルボン酸エチルニコチン酸エチル（1.51 g, 10 mmol ）とヨウ化銅ジメ
チルスルフィド錯体（0.10 g, 0.5 mmol）のテトラヒド
ロフラン（10 ml ）溶液に、−２０℃でクロルギ酸フェ
ニル（1.57 g, 10 mmol ）のテトラヒドロフラン（10 m
l ）溶液を滴下した。滴下終了後、−２０℃で１０分間
攪拌し、同温度でo-トリルマグネシウムクロリドの１Ｍ
テトラヒドロフラン溶液（10 ml ）を滴下した。−２０
℃で１５分間攪拌した後、反応温度を、約１時間かけ
て、徐々に室温に戻した。２０％塩化アンモニウム水溶
液（50 ml ）を反応溶液に加え、酢酸エチル（100 ml）
で抽出した。抽出液を１規定塩酸（20 ml ）及び飽和塩
化ナトリウム水溶液（20 ml）で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧で濃縮して、粗ジヒドロピリ
ジン体を得た。この粗ジヒドロピリジン体とｏ−クロラ
ニル（1.51 g, 10mmol）をトルエン（50 ml ）に溶解
し、２. ５時間加熱還流下攪拌した。反応溶液を冷却
し、エーテル（150 ml）と１規定水酸化ナトリウム水溶
液（83 ml ）を加え、室温で１０分間攪拌した。セライ
トを加え、不溶物をろ過した。ろ液を分液し、得られた
有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃
縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝３／
１）を用いて精製して、標題化合物（1.65 g, 収率68%)
を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.00 (3H,
t, J=7.0 Hz), 2.08(3H, s), 4.10 (2H, q, J=7.0Hz),
7.03-7.34 (5H, m), 8.74 (1H, d, J=4.9Hz), 9.16 (1
H, s) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1717, 1589, 1279, 110
8, 762 ; マススペクトル (m/z) : 241(M⁺)。

【０１７２】（９ｂ）４−（２−メチルフェニル）ピ
リジン−３−カルボン酸参考例９ａで得られた４−（２−メチルフェニル）ピリ
ジン−３−カルボン酸エチル（452 mg, 1.87 mmol ）と
水酸化リチウム１水和物（393 mg, 9.37 mmol）をメタ
ノール（4 ml）、テトラヒドロフラン（4 ml）及び水
（1 ml）の混合溶媒に加え、３０分間加熱還流した。反
応溶液に１規定塩酸（4 ml）を加え、減圧で濃縮した。
析出した結晶を濾取し、水洗した。得られた粗結晶をエ
タノールから再結晶して、標題化合物（251 mg, 収率63
% ）で得た。融点：２０３−２０４℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.04 (3H,
s), 7.05-7.33 (5H,m), 8.74 (1H, d, J=4.9Hz), 9.00
(1H, s) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1719, 1271 ; マススペクトル (m/z) : 213(M⁺)。

【０１７３】参考例１０４−（２−メチルフェニル）−６−フェニルピリジン−
３−カルボン酸（１０ａ）４−（２−メチルフェニル）−６−フェニ
ルピリジン−３−カルボン酸エチル参考例９ａで得られた４−（２−メチルフェニル）ピリ
ジン−３−カルボン酸エチル（8.67 g, 35.9 mmol ）の
テトラヒドロフラン（36 ml ）溶液に−２０℃でクロル
ギ酸フェニル（5.91 g, 37.7 mmol ）のテトラヒドロフ
ラン（38 ml ）溶液を滴下し、−２０℃で１０分間攪拌
した。同温度でフェニルマグネシウムブロリドの２Ｍテ
トラヒドロフラン溶液（18.9 ml ）を滴下し、−２０℃
で１５分間攪拌した後、反応温度を、約３０分かけて、
徐々に室温に戻した。２０％塩化アンモニウム水溶液を
反応溶液に加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１規
定塩酸と飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、粗ジヒドロピ
リジン体を得た。この粗ジヒドロピリジン体とｏ−クロ
ラニル（9.72 g, 39.5 mmol ）をトルエン（180 ml）に
溶解し２時間加熱還流下攪拌した。反応溶液を冷却し、
１規定水酸化ナトリウム水溶液（298 ml）を加え、室温
で１０分間攪拌した。セライトを加え、不溶物をろ過
し、不溶物をイソプロピルエーテルで洗浄した。ろ液を
分液し、得られた有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧で濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／
酢酸エチル＝１５／１）を用いて精製し、標題化合物
（8.62 g, 収率76% ）を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.00 (3H,
t, J=7.2Hz), 2.12 (3H, s), 4.12 (2H, q, J=7.2Hz),
7.09-7.51 (7H, m), 7.63 (1H, s),8.04-8.09 (2H,
m), 9.25 (1H, s) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1728, 1715, 1591, 1232
; マスペクトル (m/z)： 317 (M⁺)。

【０１７４】（１０ｂ）４−（２−メチルフェニル）
−６−フェニルピリジン−３−カルボン酸参考例１０ａで得られた４−（２- メチルフェニル）−
６−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチル（8.62
g, 27.2 mmol ）と水酸化リチウム１水和物（5.70 g, 1
36 mmol）をメタノール（54 ml ）、テトラヒドロフラ
ン（54 ml ）及び水（14 ml ）の混合溶媒に加え、１.
５時間加熱還流した。反応溶液を減圧で濃縮し、１規定
塩酸（136 ml）を加え、塩化メチレンで抽出した。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、粗生
成物を得た。この粗生成物にイソプロピルエーテルを加
え、析出した結晶を濾取して、標題化合物（5.30 g, 収
率67% ）を得た。融点：１８９−１９１℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.14 (3H,
s), 7.13 (1H, br.d,J=7.4Hz), 7.24-7.37 (3H, m),
7.45-7.53 (3H, m), 7.63 (1H, s), 8.04-8.08(2H, m),
9.32 (1H, s) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1713, 1596, 1536, 1281,
765 ; マスペクトル (m/z)： 289 (M⁺)。

【０１７５】参考例１１４−（２−メトキシフェニル）−６−フェニルピリジン
−３−カルボン酸（１１ａ）４−（２−メトキシフェニル）ピリジン−
６−カルボン酸エチルｏ−トリルマグネシウムクロリドの代わりに、２−ヨー
ドアニソールとマグネシウムより調製した２−メトキシ
フェニルマグネシウムヨーダイドの１Ｍエーテル溶液を
用いて、参考例９ａと同様にして、粗生成物を得た。こ
の粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）を用いて精製
し、シロップ状の標題化合物を収率４０％で得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.09 (3H,
t, J=7.2Hz), 3.73(3H, s), 4.15 (2H, q, J=7.2Hz),
6.90-7.43 (5H, m), 8.73 (1H, d, J=5.2Hz),9.04 (1
H, s) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1724, 1589, 1278, 1110,
755 ; マスペクトル (m/z)： 257 (M⁺)。

【０１７６】（１１ｂ）４−（２−メトキシフェニ
ル）−６−フェニルピリジン−３−カルボン酸エチル４−（２−メチルフェニル）ピリジン−３−カルボン酸
エチルの代わりに、参考例１１ａで得られた４−（２−
メトキシフェニル）ピリジン−３−カルボン酸エチルを
用いて、参考例１０ａと同様にして、粗生成物を得た。
この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）を用いて
精製し、標題化合物を収率８５％で得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.10 (3H,
t, J=7.2Hz), 3.75(3H, s), 4.16 (2H, q, J=7.2Hz),
6.93-7.53 (8H, m), 7.68 (1H, s), 8.06 (2H,br.d, J=
7.9Hz), 9.14 (1H, s) ; IRスペクトル (液状) cm^-1 : 1719, 1591, 1249, 754
; マスペクトル (m/z)： 333 (M⁺)。

【０１７７】（１１ｃ）４−（２−メトキシフェニ
ル）−６−フェニルピリジン−３−カルボン酸４−（２−メチルフェニル）−６−フェニルピリジン−
３−カルボン酸エチルの代わりに、参考例１１ｂで得ら
れた４−（２−メトキシフェニル）−６−フェニルピリ
ジン−３−カルボン酸エチルを用いて、参考例１０ｂと
同様にして、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：塩化メチレン
／メタノール＝１０／１）を用いて精製し、さらにイソ
プロピルエーテルを加え、析出した結晶を濾取して、標
題化合物を収率７０％で得た。融点：１５８−１６３℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.75 (3H,
s), 6.93-7.55 (7H,m), 7.70 (1H, s), 8.05 (2H, br.
d, J=7.9Hz), 9.20 (1H, s) ; IRスペクトル (KBr) cm^-1 : 1699, 1593, 1249, 763 ; マスペクトル (m/z)： 305 (M⁺)。

【０１７８】参考例１２（Ｓ）−（−）−３−（１−アミノ−２，２−ジメチル
プロピル）ピリジン参考例１ｂで得られた（±）−３−（１−アミノ−２，
２−ジメチルプロピル）ピリジン（0.84 g, 5.15 mmol)
とＤ−（−）−酒石酸（0.77 g, 5.15 mmol)を、メタノ
ール(10ml)と水(2ml) の混合溶液に加熱して溶解し、室
温に放置した後、析出した結晶を濾取して、標題化合物
のＤ−（−）−酒石酸塩(0.74g) を得た。これを15％カ
性ソーダ水溶液(10ml)と塩化メチレン(20ml)の混合溶液
中、攪拌し、塩化メチレン層を分離した。この塩化メチ
レン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、
結晶性の標題化合物(0.33g, 収率39%)を得た。融点：４７−４９℃ ; 旋光度：［α］_D ²⁴ -1.9°(c 1, メタノール) 。

【０１７９】参考例１３（Ｒ）−（＋）−３−（１−アミノ−２，２−ジメチル
プロピル）ピリジン参考例１２において、（Ｓ）−（−）−３−（１− ア
ミノ−２，２−ジメチルプロピル）ピリジンのＤ−
（−）−酒石酸塩(0.74g) を濾取して、得られた濾液を
減圧で濃縮した。この残留物を15％カ性ソーダ水溶液(1
0ml)と塩化メチレン(20ml)の混合溶液に溶解し、塩化メ
チレン層を分離した。この塩化メチレン層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧濃縮して、結晶性の残留物(0.4
8g) を得た。これをＬ−（＋）−酒石酸(0.44g, 2.93mm
ol) とともに、80％水性メタノールから再結晶して、標
題化合物のＬ−（＋）−酒石酸塩(0.74g) を得た。これ
を15％カ性ソーダ水溶液(10ml)と塩化メチレン(20ml)の
混合溶液中、攪拌し、塩化メチレン層を分離した。この
塩化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃
縮して、結晶性の標題化合物(0.36g, 収率43%)を得た。融点：４８−４９．５℃ ; 旋光度：［α］_D ²⁴ +3.4°(c 1, メタノール) 。

【０１８０】参考例１４（Ｒ）−（＋）−３−（１−アミノ−２，２−ジメチル
プロピル）ピリジン分離剤として、Ｄ−（−）−酒石酸の代わりにＬ−
（＋）−酒石酸を用い、参考例１２と同様にして、参考
例１ｂで得られた（±）−３−（１−アミノ−２，２−
ジメチルプロピル）ピリジンから標題化合物を得た。

【０１８１】参考例１５（Ｓ）−（−）−３−（１−アミノ−２，２−ジメチル
プロピル）ピリジン分離剤として、Ｌ−（＋）−酒石酸の代わりにＤ−
（−）−酒石酸を用い、参考例１３と同様にして、参考
例１４で得られた濾液から標題化合物を得た。

【０１８２】参考例１６４−ジメチルアミノ−２−（２−メチルフェニル）安息
香酸（１６ａ）４−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸メチ
ル４−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸 (25g)のメタノー
ル (670ml) 懸濁液に濃硫酸 (33ml )を加え、６４時間
還流下、撹拌した。反応液を濃縮し、残留物に10％炭酸
ナトリウム水溶液を加えて中和し、沈殿物を濾取して、
標題化合物(27.3g) を得た。

【０１８３】融点 :１１９−１２０℃ ;¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.88 (3H,
s), 4.10 (2H, br.s), 6.15 (1H, d, J=7.5Hz), 6.16
(1H, s), 7.62 (1H, d, J=7.5Hz)。

【０１８４】（１６ｂ）４−アミノ−２−ベンジルオ
キシ安息香酸メチル参考例（１６ａ）で得られる４−アミノ−２−ヒドロキ
シ安息香酸メチル (4.7g) 、臭化ベンジル (2.31ml) お
よび炭酸カリウム(9.75g) を含むＮ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド (50ml) を８０℃で１６時間撹拌した。反応液
を酢酸エチルと水に溶かし、酢酸エチル層を分離した
後、水洗し、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾
燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／
酢酸エチル＝１／１）を用いて精製することにより、結
晶性の標題化合物 (2.94g)を得た。融点：１２６−１２８℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.84 (3H,
s), 4.02 (2H, br.s), 5.12 (2H, s), 6.23-6.26 (2H,
m), 7.26-7.41 (3H, m), 7.50-7.53 (2H, m),7.77 (1
H, d, J=9.0Hz)。

【０１８５】（１６ｃ）２−ベンジルオキシ−４−ジ
メチルアミノ安息香酸メチル参考例（１６ｂ）で得られた４−アミノ−２−ベンジル
オキシ安息香酸メチル(1.20g) 、沃化メチル (0.612ml)
及び炭酸水素ナトリウム (1.57g) をヘキサメチルリン
酸トリメチル (20ml) 中、１３０℃で２時間撹拌した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗した後、有機層を無
水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を
留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）を
用いて精製することにより、結晶性の標題化合物 (995m
g)を得た。融点：８１−８３℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.00 (6H,
s), 3.85 (3H, s), 5.19 (2H, s), 6.18 (1H, d, J=2.
5Hz), 6.28 (1H, dd, J=2.5 及び 9.0Hz), 7.29-7.41
(3H, m), 7.54 (2H, d, J=7.5Hz), 7.84 (1H, d, J=9.0
Hz)。

【０１８６】（１６ｄ）２−ヒドロキシ−４−ジメチ
ルアミノ安息香酸メチル参考例（１６ｃ）で得られた２−ベンジルオキシ−４−
ジメチルアミノ安息香酸メチル (990mg)と５％パラジウ
ム炭素 (500mg) をメタノール (10ml) 中、水素ガス雰
囲気下、５０℃で１．５時間撹拌した。触媒を濾去した
後、濾液を減圧濃縮して、結晶性の標題化合物 (618mg)
を得た。融点：８２−８３℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.02 (6H,
s), 3.88 (3H, s), 6.14 (1H, d, J=2.5Hz), 6.21 (1
H, dd, J=2.5 及び 9.0Hz), 7.65 (1H, d, J=9.0Hz)。

【０１８７】（１６ｅ）４−ジメチルアミノ−２−
（２−メチルフェニル）安息香酸メチル２−ヒドロキシ−４−メトキシ安息香酸エチルの代わり
に、参考例（１６ｄ）で得られた２−ヒドロキシ−４−
ジメチルアミノ安息香酸メチルを用いるほかは、参考例
（６ｂ）と同様にして、粗生成物を得た。この粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘ
キサン／酢酸エチル＝７／２）を用いて精製することに
より、粘稠油状物として標題化合物を収率９９％で得
た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.08 (3H,
s), 3.03 (6H, s), 3.58 (3H, s), 6.42 (1H, d, J=2.
5Hz), 6.66 (1H, dd, J=2.5 及び 9.0Hz), 7.08-7.16
(1H, m), 7.16-7.30 (3H, m), 7.97 (1H, d, J=9.0H
z)。

【０１８８】（１６ｆ）４−ジメチルアミノ−２−
（２−メチルフェニル）安息香酸参考例（１６ｅ）で得られた４−ジメチルアミノ−２−
（２−メチルフェニル）安息香酸メチル (827mg)と水酸
化リチウム１水和物 (1.28g) をメタノール (6ml)、テ
トラヒドロフラン (6ml)及び水 (1.5ml) の混合溶剤中
で２４時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮した後、１
Ｎ塩酸を加えて中和し、生成物を酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
した後、残留物をイソピロピルエーテルと酢酸エチル中
で結晶化させ、濾取することにより標題化合物 (526mg)
を得た。融点：２１０−２１１℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.08 (3H,
s), 3.02 (6H, s), 6.37 (1H, d, J=2.5Hz), 6.64 (1
H, dd, J=2.5 及び 9.0Hz), 7.06-7.12 (1H, m), 7.13-
7.29 (3H, m), 8.01 (1H, d, J=9.0Hz)。

【０１８９】参考例１７２−（２−メチルフェニル）−４−（１−ピロリジニ
ル）安息香酸（１７ａ）２−ベンジルオキシ−４−（１−ピロリジ
ニル）安息香酸メチル参考例１６（ｂ）で得られた４−アミノ−２−ベンジル
オキシ安息香酸メチル (598mg)、１，４−ジヨードブタ
ン (0.31ml)および重炭酸ナトリウム (786mg) のヘキ
サメチルホスホロアミド (10ml) 混合液を１３０℃で
１．５時間撹拌した。反応液を酢酸エチルと水に溶か
し、酢酸エチル層を分離し、水洗した後、有機層を無水
硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留
去し、得られた結晶をイソプロピルエーテル−ヘキサン
（１：１）で洗浄することにより、標題化合物（５０１
ｍｇ）を得た。融点：１４３−１４４℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.99-2.04
(4H, m), 3.28-3.33(4H, m), 3.85 (3H, s), 5.18 (2
H, s), 6.05 (1H, d, J=2.0Hz), 6.15 (1H, dd, J=2.0
及び 9.0Hz), 7.28-7.41 (3H, m), 7.55 (2H, d, J=8.5
Hz), 7.84 (1H,d, J=9.0Hz)。

【０１９０】（１７ｂ）２−ヒドロキシ−４−（１−
ピロリジニル）安息香酸メチル参考例（１７ａ）で得られた２−ベンジルオキシ−４−
（１−ピロリジニル）安息香酸メチル (1.25g)と５％パ
ラジウム−炭素 (0.62g) をエタノール (12ml) とテト
ラヒドロフラン(4ml) の混合溶剤中、水素ガス雰囲気下
７０℃で１．５時間撹拌した。触媒を濾去した後、濾液
を減圧濃縮し、得られた粗結晶をイソプロピルエーテル
で洗浄することにより、標題化合物 (446mg)を得た。融点：１２４−１２６℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.95-2.04
(4H, m), 3.29-3.38(4H, m), 3.87 (3H, s), 6.01 (1
H, d, J=2.0Hz), 6.08 (1H, dd, J=2.0 及び 9.0Hz),
7.64 (1H, d, J=9.0Hz)。

【０１９１】（１７ｃ）２−（２−メチルフェニル）
−４−（１−ピロリジニル）安息香酸メチル２−ヒドロキシ−４−メトキシ安息香酸エチルの代わり
に参考例（１７ｂ）で得られた２−ヒドロキシ−４−
（１−ピロリジニル）安息香酸メチルを用いる他、参考
例（６ｂ）と同様にして粗生成物を得た。これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／
酢酸エチル＝９／１）を用いて精製することにより、粘
稠油状物として標題化合物を収率６５％で得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.98-2.00
(7H, m), 3.29-3.38(4H, m), 3.58 (3H, s), 6.28 (1
H, d, J=2.5Hz), 6.52 (1H, dd, J=2.5 及び 9.0Hz),
7.05-7.28 (4H, m)。

【０１９２】（１７ｄ）２−（２−メチルフェニル）
−４−（１−ピロリジニル）安息香酸参考例（１７ｃ）で得られた２−（２−メチルフェニ
ル）−４−（１−ピロリジニル）安息香酸メチル (369m
g)と水酸化リチウム１水和物 (524mg) をメタノール
(4ml)、テトラヒドロフラン (4ml)及び水 (1ml) の混
合溶剤中で６４時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮し
た後、１Ｎ塩酸を加えて中和し、生成物を酢酸エチルで
抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧濃縮した後、残留物をイソピロピルエーテル中で結晶
化させ、濾取することにより標題化合物 (157mg)を得
た。融点：２１３−２１５℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.98-2.14
(7H, m), 3.29-3.42(4H, m), 6.25 (1H, d, J=2.5Hz),
6.51 (1H, dd, J=2.5 及び 9.0Hz), 7.08-7.33 (4H,
m), 8.01 (1H, d,J=8.5Hz)。

【０１９３】参考例１８４−モルホリノ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸（１８ａ）２−ベンジルオキシ−４−モルホリノ安息
香酸メチル参考例１６（ｂ）で得られた４−アミノ−２−ベンジル
オキシ安息香酸メチル(598mg) 、ジエチレングリコール
・ジ−ｐ−トシレート(967mg) 及び重炭酸ナトリウム(7
86mg) のヘキサメチルホスホロアミド (10ml) 混合液を
１３０℃で１．５時間撹拌した。反応液を酢酸エチルと
水に溶かし、酢酸エチル層を分離し、水洗した後、有機
層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。減圧下
溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝７／
３）を用いて精製することにより、結晶性の標題化合物
(267mg) を得た。融点：１１２−１１４℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.28 (4H,
t, J=5.0Hz), 3.89 (4H, t, J=5.0Hz), 3.92 (3H, s),
5.22 (2H, s), 6.47 (1H, d, J=2.5Hz), 6.53(1H, dd,
J=2.5及び 9.0Hz), 7.33-7.47 (3H, m), 7.58 (2H,
d, J=7.5Hz), 7.90 (1H, d,J=9.0Hz)。

【０１９４】（１８ｂ）２−ヒドロキシ−４−モルホ
リノ安息香酸メチル参考例（１８ａ）で得られた２−ベンジルオキシ−４−
モルホリノ安息香酸メチルを２−ベンジルオキシ−４−
ジメチルアミノ安息香酸の代わりに用いる他、参考例
（１６ｄ）と同様にして、標題化合物を収率９５％で得
た。融点：１０８−１０９℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 3.29 (4H,
t, J=5.0Hz), 3.83 (4H, t, J=5.0Hz), 3.90 (3H, s),
6.34 (1H, d, J=2.5Hz), 6.40 (1H, dd, J=2.5 及び
9.0Hz), 7.69 (1H, d, J=9.0Hz)。

【０１９５】（１８ｃ）２−（２−メチルフェニル）
−４−モルホリノ安息香酸メチル２−ヒドロキシ−４−メトキシ安息香酸エチルの代わり
に参考例（１８ｂ）で得られた２−ヒドロキシ−４−モ
ルホリノ安息香酸メチルを用いる他、参考例（６ｂ）と
同様にして粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝
７／３）を用いて精製することにより、粘稠油状物とし
て標題化合物を収率９３％で得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.07 (3H,
s), 3.28 (4H, t, J=5.0Hz), 3.60 (3H, s), 3.85 (4
H, t, J=5.0Hz), 6.64 (1H, d, J=2.5Hz), 6.87(1H, d
d, J=2.5及び 9.0Hz), 7.05-7.10 (1H, m), 7.15-7.30
(3H, m), 7.98 (1H, d,J=8.5Hz)。

【０１９６】（１８ｄ）２−（２−メチルフェニル）
−４−モルホリノ安息香酸参考例（１８ｂ）で得られた２−（２−メチルフェニ
ル）−４−（１−ピロリジニル）安息香酸メチルを４−
ジメチルアミノ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸
メチルの代わりに用いる他、参考例（１６ｆ）と同様に
して粗生成物を得た。得られた粗生成物をイソプロピル
エーテル中で結晶化させ、結晶を濾取することにより標
題化合物を収率８４％で得た。融点：２０１−２０４℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.08 (3H,
s), 3.29 (4H, t, J=5.0Hz), 3.84 (4H, t, J=5.0Hz),
6.60 (1H, d, J=2.5Hz), 6.86 (1H, dd, J=2.5 及び
9.0Hz), 7.05-7.11 (1H, m), 7.15-7.31 (3H, m), 8.03
(1H, d, J=8.5Hz)。

【０１９７】参考例１９２−（２−メチルフェニル）−４−ピペリジノ安息香酸（１９ａ）４−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸エチ
ル４−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸 (25g)とヨウ化エ
チル (26.7g) のアセトニトリル(250ml) 混合液に、
１、８−ジアザビシクロ［５、４、０］−７−ウンデセ
ン(26.1g) を加え、混合物を８時間還流下、撹拌した。
反応液を酢酸エチルと水に溶かし、酢酸エチル層を分離
し、水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用い
て乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた結晶性目
的物をイソプロピルエーテル−酢酸エチルで洗浄、濾取
することにより、標題化合物 (15.8g)を得た。融点：１１４−１１６℃ ；¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.38 (3H,
t, J=7.0Hz), 4.12 (1H, br.s), 4.34 (2H, q, J=7.0H
z), 6.13-6.17 (2H, m), 7.63 (1H, d, J=9.0Hz)。さらに結晶濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン−
酢酸エチル＝３：１）を用いて精製することにより、標
題化合物 (6.33g)を得た。

【０１９８】（１９ｂ）４−アミノ−２−ベンジルオ
キシ安息香酸エチル５５％油性水素化ナトリウム (1.32g)を含むＮ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド(25ml) およびトルエン (25ml) 混
合液に、参考例１９（ａ）で得られた４−アミノ−２−
ヒドロキシ安息香酸エチル(5g)のＮ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド (25ml) 溶液を室温で滴下し、混合物を３０分
間室温で撹拌した。これに臭化ベンジル(3.61ml)のＮ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド (10ml) 溶液を室温で滴下
し、さらに室温で１．５時間撹拌した。反応液に酢酸エ
チルを加え、食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マ
グネシウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／２）を用いて
精製した後、得られた結晶性の目的化合物をイソプロピ
ルエーテルで洗浄することにより、標題化合物 (3.44g)
を得た。融点：１２４−１２７℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.32 (3H,
t, J=7.0Hz), 4.00 (1H, br.s), 4.31 (2H, q, J=7.0H
z), 5.12 (2H, s), 6.24-6.27 (2H, m), 7.30-7.41 (3
H, m), 7.51 (2H, d, J=7.0Hz), 7.77 (1H, d, J=7.0H
z)。

【０１９９】（１９ｃ）２−ベンジルオキシ−４−ピ
ペリジノ安息香酸エチル参考例１９（ｂ）で得られた４−アミノ−２−ベンジル
オキシ安息香酸エチル(2g)、１，５−ジヨードペンタン
(1.10ml)および重炭酸ナトリウム (2.48g)のヘキサ
メチルホスホロアミド (30ml) 混合液を１３０℃で２時
間撹拌した。反応液を酢酸エチルと水に溶かし、酢酸エ
チル層を分離し、水洗した後、有機層を無水硫酸マグネ
シウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）を用いて精製す
ることにより、結晶性の目的化合物 (1.70g)を得た。融点：８７−８９℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.33 (3H,
t, J=7.0Hz), 1.60-1.73 (6H, m), 3.20-3.33 (4H,
m), 4.31 (2H, q, J=7.0Hz), 5.15 (2H, s), 6.42 (1H,
d, J=2.0Hz), 6.48 (1H, dd, J=2.0 及び 9.0Hz), 7.3
0-7.41 (3H, m),7.54 (2H, d, J=7.5Hz), 7.82 (1H, d,
J=9.0Hz)。

【０２００】（１９ｄ）２−ヒドロキシ−４−ピペリ
ジノ安息香酸エチル参考例（１９ｃ）で得られた２−ベンジルオキシ−４−
ピペリジノ安息香酸エチル (0.7g) と５％パラジウム−
炭素 (70mg) を、エタノール (70ml) 中、水素ガス雰囲
気下７０℃で４５分間撹拌した。触媒を濾去し、濾液を
減圧濃縮して粘稠油状物として標題化合物 (514mg)を得
た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.38 (3H,
t, J=7.0Hz), 1.52-1.70 (6H, m), 3.26-3.38 (4H,
m), 4.34 (2H, q, J=7.0Hz), 6.32 (1H, d, J=2.5Hz),
6.38 (1H, dd, J=2.5 及び9.0Hz)。

【０２０１】（１９ｅ）２−（２−メチルフェニル）
−４−ピペリジノ安息香酸エチル２−ヒドロキシ−４−メトキシ安息香酸エチルの代わり
に参考例（１９ｄ）で得られた２−ヒドロキシ−４−ピ
ペリジノ安息香酸エチルを用いる他、参考例（６ｂ）と
同様にして粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝
９／１）を用いて精製することにより、粘稠油状物とし
て標題化合物を収率３３％で得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 0.94 (3H,
t, J=7.0Hz), 1.60-1.72 (6H, m), 2.08 (3H, s), 3.2
8-3.37 (4H, m), 4.00 (2H, q, J=7.0Hz), 6.62 (1H,
d, J=2.5Hz), 6.86 (1H, dd, J=2.5 及び 9.0Hz), 7.04
-7.28 (4H, m),7.95 (1H, d,J=9.0Hz)。

【０２０２】（１９ｆ）２−（２−メチルフェニル）
−４−ピペリジノ安息香酸参考例（１９ｅ）で得られた２−（２−メチルフェニ
ル）−４−ピペリジノ安息香酸エチルを４−ジメチルア
ミノ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸メチルの代
わりに用いる他、参考例（１６ｆ）と同様にして粗生成
物を得た。得られた粗生成物をイソプロピルエーテル中
で結晶化させ、結晶を濾取することにより標題化合物を
収率３９％で得た。融点：１７４−１７６℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.55-1.72
(6H, m), 2.09 (3H,s), 3.29-3.38 (4H, m), 6.59 (1
H, d, J=2.5Hz), 6.85 (1H, dd, J=2.5 及び 9.0Hz),
7.09-7.29 (4H, m), 7.99 (1H, d,J=9.0Hz)。

【０２０３】参考例２０２−（２−メチルフェニル）−４−メチルチオ安息香酸（２０ａ）４−ジメチルチオカルバモイルオキシ−２
−（２−メチルフェニル）安息香酸メチル参考例（５ｄ）で得られた４−ヒドロキシ−２−（２−
メチルフェニル）安息香酸メチル (6.5g) のジメチルホ
ルムアミド (32ml) 及びトルエン (32ml) 混合溶液に５
５％油性水素化ナトリウム(1.29g) を加え、室温で１時
間撹拌した。混合液にＮ，Ｎ−ジメチルチオカルバモイ
ルクロライド(3.76g) のジメチルホルムアミド(5ml) 溶
液を滴加し、６０℃で２時間撹拌した。反応液に酢酸エ
チルを加え、溶液を水洗した後、有機層を無水硫酸マグ
ネシウムを用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）を用いて
精製することにより、油状物質として標題化合物 (8.75
g)を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.11 (3H,
s), 3.34 (3H, s), 3.45 (3H, s), 3.61 (3H, s), 6.9
6 (1H, d, J=2.0Hz), 7.08-7.31 (5H, m), 8.03 (1H,
d, J=8.5Hz)。

【０２０４】（２０ｂ）４−ジメチルカルバモイルチ
オ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸メチル参考例（２０ａ）で得られた４−ジメチルチオカルバモ
イルオキシ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸メチ
ル(8.75g) を２５０℃で１時間撹拌した。生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝３／１）を用いて精製することにより、
油状物質として標題化合物(8.34g) を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.09 (3H,
s), 3.06 (6H, br.s), 3.61 (3H, s), 7.09 (1H, d, J
=7.0Hz), 7.13-7.31 (3H, m), 7.39 (1H, d, J=2.0Hz),
7.56 (1H, dd, J=2.0及び 8.0Hz), 7.95 (1H, d,J=8.
0Hz)。

【０２０５】（２０ｃ）２−（２−メチルフェニル）
−４−メチルチオ安息香酸メチル参考例（２０ｂ）で得られた４−ジメチルカルバモイル
チオ−２−（２−メチルフェニル）安息香酸メチル (2.
4g) のメタノール (20ml) 溶液に８５％水酸化カリウム
(1.92g) を加え、５０℃で２．５時間撹拌した。反応溶
液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルと水に溶解し、３
Ｎ塩酸で中和した後、酢酸エチル層を分離した。抽出液
を食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウム
を用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去することにより
油状の粗２−（２−メチルフェニル）−４−メルカプト
安息香酸メチルを得た。これのジメチルホルムアミド
(20ml) 溶液に１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］
−７−ウンデセン (3.27ml)及び沃化メタン (1.81ml)
を加え、室温で３時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル
を加え、水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシウムを
用いて乾燥させた。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル＝５：１）を用いて精製することに
より、油状物質として標題化合物 (1.83g)を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.07 (3H,
s), 2.50 (3H, s), 3.60 (3H, s), 7.03 (1H, d, J=2.
0Hz), 7.07 (1H, d, J=7.0Hz), 7.17-7.30 (4H, m), 7.
92 (1H, d,J=8.0Hz)。

【０２０６】（２０ｄ）２−（２−メチルフェニル）
−４−メチルチオ安息香酸参考例（２０ｃ）で得られた２−（２−メチルフェニ
ル）−４−メチルチオ安息香酸メチル (600mg)のメタノ
ール (6ml) と水(2ml) 混合溶液に、水酸化リチウム・
１水和物(185mg) を加え、６０℃で１６時間撹拌した。
反応溶液を減圧濃縮し、１Ｎ塩酸を加えて中和した後、
標題化合物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗した
後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させ
た。減圧下溶媒を留去し、得られた結晶性の残留物をヘ
キサンと少量のイソプロピルエーテルで洗浄して標題化
合物 (500mg)を得た。融点：１０９−１１０℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.06 (3H,
s), 2.49 (3H, s), 7.00 (1H, d, J=1.5Hz), 7.06 (1
H, d, J=7.5Hz), 7.14-7.30 (4H, m), 7.97 (1H, d,J=
8.5Hz)。

【０２０７】参考例２１４−イソプロピルチオ−２−（２−メチルフェニル）安
息香酸（２１ａ）４−イソプロピルチオ−２−（２−メチル
フェニル）安息香酸メチル参考例（２０ｃ）の中間体として得られた４−メルカプ
ト−２−（２−メチルフェニル）安息香酸メチル(2.00
g) のジメチルホルムアミド (20ml) 溶液に、１，８−
ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン (3.69
ml) 及び沃化イソプロピル (3.28ml) を加え、室温で３
時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、水洗した
後、有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥させ
た。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エ
チル＝５／１）を用いて精製することにより、油状物質
として標題化合物 (2.02g)を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.35 (6H,
d, J=6.5Hz), 2.07 (3H, s), 3.60 (3H, s), 3.43-3.6
5 (1H, m), 7.07 (1H, d, J=7.0Hz), 7.14 (1H, d, J=
2.0Hz), 7.15-7.32 (3H, m), 7.33 (1H, dd, J=2.0 及
び 8.0Hz), 7.90(1H, d, J=8.0Hz)。

【０２０８】（２１ｂ）４−イソプロピルチオ−２−
（２−メチルフェニル）安息香酸参考例（２１ａ）で得られた４−イソプロピルチオ−２
−（２−メチルフェニル）安息香酸メチル (2.02g)の２
−メトキシエタノール (20ml)溶液に 85％水酸化カリ
ウム(1.13g) を加え、２．５時間加熱還流した。反応溶
液を減圧濃縮し、１Ｎ塩酸を加えて中和した後、表題化
合物を酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。結晶性の
残留物をヘキサンと少量のイソプロピルエーテルで洗浄
して標題化合物 (1.79mg) を得た。融点：９１−９２℃ ; ¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.36 (6H,
d, J=6.5Hz), 2.07 (3H, s), 3.55 (1H, quintet, J=
6.5Hz), 7.07 (1H, d, J=7.0Hz), 7.12 (1H, d,J=2.0H
z), 7.15-7.29 (3H, m), 7.32 (1H, dd,J=2.0及び 8.
5Hz), 7.97 (1H,d,J=8.5Hz)。

【０２０９】参考例２２４−メトキシ−２−（２−メチルフェニル）フェニル酢
酸（２２ａ）４−メトキシ−２−（２−メチルフェニ
ル）ベンジルアルコール参考例６ｂで得られた４−メトキシ−２−（２−メチル
フェニル）安息香酸エチル（3.90 g, 14.4 mmol)のテト
ラヒドロフラン(40 ml) 溶液に−５０℃以下で１Ｍ水素
化ジイソブチルアルミニウム・トルエン溶液(33 ml) を
滴下し、混合液を氷冷下３時間撹拌した。反応液に酢酸
エチルと飽和重硫酸カリウム水溶液を加え、酢酸エチル
層を分離した。抽出液を水洗後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を減圧留去して結晶性の残留物をイソプ
ロピルエーテル−ヘキサンで洗浄して標題化合物(3.21
g,収率97%)を得た。融点：８３．５℃ ;¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 1.35 (1H,
br.t, J=5.5Hz), 2.08(3H, s), 3.81 (3H, s), 4.28-4.
40 (2H, m), 6.70 (1H, d, J=2.5Hz), 6.92 (1H, dd, J
=2.5 及び 8.5Hz), 7.15 (1H, d, J=7Hz), 7.20-7.30
(3H, m), 7.44(1H, d, J=8.5Hz)。

【０２１０】（２２ｂ）４−メトキシ−２−（２−メ
チルフェニル）フェニルアセトニトリル参考例２２ａで得られた４−メトキシ−２−（２−メチ
ルフェニル）ベンジルアルコール(2.28 g, 10 mmol) の
ジクロルメタン(30 ml) 溶液に氷冷下、チオニルクロラ
イド(0.80 ml, 11 mmol)のジクロルメタン(3 ml)溶液を
滴下し、混合液を室温で１時間撹拌した。反応液を減圧
濃縮し、残留物にベンゼンを加えて減圧濃縮をすること
を３回繰り返した。得られたシロップのジメチルホルム
アミド(20 ml) 溶液にシアン化ナトリウム(1.00 g, 20.
4 mmol) を加え、室温で１６時間、６０℃で２時間撹拌
した後、酢酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を分離し
た。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
剤：ヘキサン酢酸エチル＝５：１）を用いて精製して、
シロップ状の標題化合物(1.65 g,収率７０％）を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.08 (3H,
s), 3.34 (2H, s), 3.82 (3H, s), 6.74 (1H, d, J=2.5
Hz), 6.94 (1H, dd, J=2.5及び 8.5Hz), 7.11(1H, d,
J=7.0Hz), 7.21-7.35 (3H, m), 7.45 (1H, d,J=8.5H
z)。

【０２１１】（２２ｃ）４−メトキシ−２−（２−メ
チルフェニル）フェニル酢酸参考例２２ｂで得られた４−メトキシ−２−（２−メチ
ルフェニル）フェニルアセトニトリル（(1.10 g, 4.64
mmol) のメトキシエタノール(20 ml) 溶液に８５％水酸
化カリウム（2.00 g, 30.3 mmol)を加え、１４０℃の油
浴上で８時間撹拌した。反応液に水(20 ml) を加え、更
に６Ｎ塩酸を加えて酸性とした後、酢酸エチルで標題化
合物を抽出した。抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、溶媒を減圧留去してシロップ状の標題
化合物(0.84 g, 71%) を得た。¹ H NMRスペクトル (270MHz, CDCl₃)δppm : 2.05 (3H,
s), 3.30 (1H, d, J=16.5Hz), 3.41 (1H, d, J=16.5H
z), 3.80 (3H, s), 6.71 (1H, d, J=2.5Hz), 6.90 (1H,
dd, J=2.5及び8.5Hz), 7.10 (1H, d, J=7.5Hz), 7.16-
7.30 (4H, m)。

【０２１２】試験例１ ACAT阻害作用 ACAT阻害活性は、ロスらの試験管内試験方法〔ロスら、
ジャーナル・オブ・バイオロジカル・ケミストリー，２
５９巻，８１５頁乃至８１９頁 (1984年): A.C. Ross e
t al., J. Biol. Chem., ２５９，８１５−８１９(198
4)〕を改良した方法に従って測定した。即ち、ラット肝
ミクロソームを、一晩絶食させたSprague-Dawleyラット
から、ロスらの方法〔ロスら，ジャーナル・オブ・バイ
オロジカル・ケミストリー，２５７巻，2453頁乃至2459
頁 (1982年): A. C. Ross et al., J. Biol. Chem.,25
7,2453−2459(1982)〕に従って、調製し、酵素画分とし
た。１００μM[¹⁴ Ｃ］オレオイル(oleoyl)-CoA, ２mM
ジチオスレイトールおよび８０μM 牛血清アルブミンを
含有する0.15Ｍリン酸カリウム緩衝液 (pH7.4)に６０−
１００μｇミクロソーム画分を加えて、一定濃度の試験
化合物のジメチルスルホキシド溶液を５μｌ(2.5％v/v)
加え、前記のリン酸カリウム緩衝液を加えて、全量を２
００μｌとし、３７℃で４分間加温した。その後、エタ
ノール１mlを添加して、撹拌して、酵素反応を停止し
た。この反応液に、ヘキサン２mlを添加し、撹拌した
後、ヘキサン層１mlを取り、窒素気流下、溶剤を蒸発さ
せた後、酵素反応で生成したコレステロールオリエート
をシリカゲル薄膜クロマトグラフィー（展開溶剤：ヘキ
サン／ジエチルエーテル／酢酸＝８５／１５／１）で分
離し、その放射活性を測定して、ACAT活性とした。コン
トロール活性値と一定濃度の試験化合物を用いた時の活
性値から、阻害率（％）を求め、ＡＣＡＴ活性の５０％
阻害するのに必要な被検化合物の濃度ＩＣ₅₀を算出し
た。その結果を表３に示す。

【０２１３】

【表３】 ───────────────────────── 化合物ＩＣ₅₀ (ng/ml) ───────────────────────── 実施例２の化合物 104 実施例３の化合物 146 実施例４の化合物 72.6 実施例５の化合物 89.8 実施例７の化合物 89.1 実施例８の化合物 137 実施例１１の化合物 54.2 実施例１２の化合物 105 実施例１３の化合物 145 実施例１４の化合物１２２実施例１５の化合物１２９実施例１６の化合物 184 実施例１７の化合物 178 実施例１８の化合物 114 実施例１９の化合物 120 ─────────────────────────。

【０２１４】製剤例１ハ−ドカプセル剤標準二分式ハ−ドゼラチンカプセルの各々に、100 mgの
粉末状の実施例２の化合物、150 mgのラクト−ス、50 m
g のセルロ−ス及び6 mgのステアリン酸マグネシウムを
充填し、単位カプセルを製造し、洗浄し、乾燥して、ハ
−ドカプセルを得る。

【０２１５】

【発明の効果】本発明の化合物（Ｉ）又はその薬理上許
容される塩は、優れたアシルＣｏＡ：コレステロールア
シルトランスフェラーゼ（以下、ＡＣＡＴと略記す
る。）阻害作用を有し、また経口吸収性にも優れ、ＡＣ
ＡＴ阻害作用に起因する各種疾患の治療剤若しくは予防
剤、例えば、高脂血症の治療剤若しくは予防剤（特に、
治療剤）、アテローム性動脈硬化症の治療剤若しくは予
防剤（特に、治療剤）等として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＡ６１Ｋ 31/505 Ａ６１Ｋ 31/505 31/535 ＡＥＤ 31/535 ＡＥＤＣ０７Ｄ 213/56 Ｃ０７Ｄ 213/56 213/64 213/64 213/70 213/70 213/74 213/74 213/75 213/75 237/08 237/08 239/26 239/26 241/12 241/12 401/12 ２０７ 401/12 ２０７２３９２３９２４１２４１ (72)発明者古賀貞一郎東京都品川区広町１丁目２番58号三共株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式【化１】［式中、Ｘは、式＝ＣＨ− 又は＝Ｎ− を有する
基を示し、Ｙは、メチレン基又はイミノ基を示し、Ｒ¹ は、水素原子又はＣ₁ −Ｃ₈ アルキル基を示し、Ｒ² は、窒素原子を１乃至２個含む６員環状ヘテロアリ
ール基を示し、Ｒ³ は、置換されていてもよいＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基
（該置換基は、ハロゲン原子、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基、
ハロゲノ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキ
シ基又はＣ₁ −Ｃ₆ アルキルチオ基を示す。）を示し、Ｒ⁴ は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキル
基、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルコキシ基、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキルチオ
基、置換されていてもよいＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基（該置
換基は、ハロゲン原子、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基、Ｃ₁ −
Ｃ₆ アルコキシ基、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルチオ基、Ｃ₁ −
Ｃ₆ アルカノイル基、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルカノイルアミノ
基、シアノ基又はニトロ基を示す。）、置換されていて
もよいＣ₆−Ｃ₁₀アリールオキシ基（該置換基は、Ｒ⁴
のＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基の置換基と同一の基を示
す。）、置換されていてもよいＣ₆ −Ｃ₁₀アリールチオ
基（該置換基は、Ｒ⁴ のＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基の置換基
と同一の基を示す。）、置換されていてもよいＣ₇ −Ｃ
₁₂アラルキル基（該置換基は、Ｒ⁴ のＣ₆ −Ｃ₁₀アリー
ル基の置換基と同一の基を示す。）、置換されていても
よいＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキルオキシ基（該置換基は、Ｒ⁴
のＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基の置換基と同一の基を示
す。）、置換されていてもよいＣ₇ −Ｃ₁₂アラルキルチ
オ基（該置換基は、Ｒ⁴ のＣ₆ −Ｃ₁₀アリール基の置換
基と同一の基を示す。）、ジーＣ₁ −Ｃ₆ アルキルアミ
ノ基又は酸素若しくは硫黄原子を含んでもよい３乃至６
員環状アミノ基を示す。］を有するアリールウレア若し
くはアリールメチルカルバモイル誘導体又はそれらの薬
理上許容される塩。
【請求項２】Ｙが、イミノ基である請求項１のアリール
ウレア若しくはアリールメチルカルバモイル誘導体又は
それらの薬理上許容される塩。
【請求項３】Ｒ¹ が、Ｃ₁ −Ｃ₅ アルキル基である請求
項１乃至２のアリールウレア若しくはアリールメチルカ
ルバモイル誘導体又はそれらの薬理上許容される塩。
【請求項４】Ｒ¹ が、イソプロピル基、ｔ−ブチル基又
はｔ−ペンチル基である請求項１乃至２のアリールウレ
ア若しくはアリールメチルカルバモイル誘導体又はそれ
らの薬理上許容される塩。
【請求項５】Ｒ¹ が、ｔ−ブチル基である請求項１乃至
２のアリールウレア若しくはアリールメチルカルバモイ
ル誘導体又はそれらの薬理上許容される塩。
【請求項６】Ｒ² が、ピリジル基である請求項１乃至５
のアリールウレア若しくはアリールメチルカルバモイル
誘導体又はそれらの薬理上許容される塩。
【請求項７】Ｒ³ が、置換されていてもよいフェニル基
（該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、Ｃ₁ −
Ｃ₄ アルキル基、フルオロ−Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基、Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルコキシ基又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルチオ基で
ある。）である請求項１乃至６のアリールウレア若しく
はアリールメチルカルバモイル誘導体又はそれらの薬理
上許容される塩。
【請求項８】Ｒ³ が、置換されていてもよいフェニル基
（該置換基は、弗素原子、塩素原子、メチル基、エチル
基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、
メチルチオ基又はエチルチオ基である。）である請求項
１乃至６のアリールウレア若しくはアリールメチルカル
バモイル誘導体又はそれらの薬理上許容される塩。
【請求項９】Ｒ³ が、置換されていてもよいフェニル基
（該置換基は、弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフ
ルオロメチル基、メトキシ基又はメチルチオ基であ
る。）である請求項１乃至６のアリールウレア若しくは
アリールメチルカルバモイル誘導体又はそれらの薬理上
許容される塩。
【請求項１０】Ｒ³ が、置換されたフェニル基（該置換
基は、メチル基又はメトキシ基である。）である請求項
１乃至６のアリールウレア若しくはアリールメチルカル
バモイル誘導体又はそれらの薬理上許容される塩。
【請求項１１】Ｒ⁴ が、水素原子、弗素原子、塩素原
子、臭素原子、Ｃ₂ −Ｃ₇ アルキル基、Ｃ₂ −Ｃ₇ アル
コキシ基、Ｃ₂ −Ｃ₇ アルキルチオ基、置換されていて
もよいフェニル、ベンジル、フェネチル、３−フェニル
プロピル、フェノキシ、フェニルチオ、ベンジルオキ
シ、フェネチルオキシ、ベンジルチオ若しくはフェネチ
ルチオ基（該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ基、
メチルチオ基、エチルチオ基、Ｃ₁ −Ｃ₃ アルカノイル
基、Ｃ₁ −Ｃ₃ アルカノイルアミノ基、シアノ基又はニ
トロ基である。）、ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ基又
は５乃至６員環状アミノ基である請求項１乃至１０のア
リールウレア若しくはアリールメチルカルバモイル誘導
体又はそれらの薬理上許容される塩。
【請求項１２】Ｒ⁴ が、弗素原子、塩素原子、Ｃ₃ −Ｃ
₆ アルキル基、Ｃ₃ −Ｃ₆ アルコキシ基、Ｃ₃ −Ｃ₆ ア
ルキルチオ基、置換されていてもよいフェニル、フェノ
キシ、フェニルチオ、ベンジル、フェネチル、ベンジル
オキシ若しくはベンジルチオ基（該置換基は、弗素原
子、塩素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エト
キシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ホルミル基、ア
セチル基、アセトアミノ基、シアノ基又はニトロ基であ
る。）、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、１−ピ
ロリジニル基、１−ピペリジニル基又は４−モルホリニ
ル基である請求項１乃至１０のアリールウレア若しくは
アリールメチルカルバモイル誘導体又はそれらの薬理上
許容される塩。
【請求項１３】Ｒ⁴ が、塩素原子、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ- ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ- ブトキシ基、ペ
ンチオキシ基、ヘキシルオキシ基、プロピルチオ基、イ
ソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、
ｔ- ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、
置換されていてもよいフェニル、フェノキシ、フェニル
チオ、ベンジル、ベンジルオキシ若しくはベンジルチオ
基（該置換基は、弗素原子、塩素原子、メチル基、メト
キシ基、シアノ基又はニトロ基である。）、ジメチルア
ミノ基、１−ピロリジニル基又は１−ピペリジニル基で
ある請求項１乃至１０のアリールウレア若しくはアリー
ルメチルカルバモイル誘導体又はそれらの薬理上許容さ
れる塩。
【請求項１４】Ｒ⁴ が、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
オキシ基、ヘキシルオキシ基、プロピルチオ基、ブチル
チオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基又は置換され
ていてもよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ若し
くはベンジルオキシ基（該置換基は、弗素原子、塩素原
子、メチル基又はメトキシ基である。）である請求項１
乃至１０のアリールウレア若しくはアリールメチルカル
バモイル誘導体又はそれらの薬理上許容される塩。
【請求項１５】Ｎ−［４−ブトキシ−２−（２−メチル
フェニル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１
−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−ブトキシ−２−（２−メトキシフェニル）フ
ェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３−ピリ
ジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−ペンチルオキシ−２−（２−メチルフェニ
ル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３
−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−ペンチルオキシ−２−（２−メトキシフェニ
ル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３
−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−ヘキシルオキシ−２−（２−メチルフェニ
ル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３
−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−ヘキシルオキシ−２−（２−メトキシフェニ
ル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３
−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−ベンジルオキシ−２−（２−メチルフェニ
ル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３
−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−ベンジルオキシ−２−（２−メトキシフェニ
ル）フェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３
−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）−４−ビフェニル−
１−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３−ピ
リジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［２−（２−メトキシフェニル）−４−ビフェニル
−１−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３−
ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［２−（２−メチルフェニル）−４−モルホリノフ
ェニル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−（３−ピリ
ジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［６−ブトキシ−４−（２−メチルフェニル）ピリ
ジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−
（３−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［６−ブトキシ−４−（２−メトキシフェニル）ピ
リジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−
（３−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）−６−ペンチルオキ
シピリジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−
１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−（２−メトキシフェニル）−６−ペンチルオ
キシピリジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル
−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［６−ヘキシルオキシ−４−（２−メチルフェニ
ル）ピリジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル
−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［６−ヘキシルオキシ−４−（２−メトキシフェニ
ル）ピリジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル
−１−（３−ピリジル）プロピル］ウレア、Ｎ−［４−（２−メチルフェニル）−６−フェニルピリ
ジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−
（３−ピリジル）プロピル］ウレア及びＮ−［４−（２−メトキシフェニル）−６−フェニルピ
リジン−３−イル］−Ｎ’−［２，２−ジメチル−１−
（３−ピリジル）プロピル］ウレアから成る群から選択
されるアリールウレア若しくはアリールメチルカルバモ
イル誘導体又はそれらの薬理上許容される塩。
【請求項１６】請求項１乃至１５のアリールウレア若し
くはアリールメチルカルバモイル誘導体又はそれらの薬
理上許容される塩を有効成分とするＡＣＡＴ阻害剤。
【請求項１７】請求項１乃至１５のアリールウレア若し
くはアリールメチルカルバモイル誘導体又はそれらの薬
理上許容される塩を有効成分とする高脂血症の治療剤若
しくは予防剤。
【請求項１８】請求項１乃至１５のアリールウレア若し
くはアリールメチルカルバモイル誘導体又はそれらの薬
理上許容される塩を有効成分とする又はアテローム性動
脈硬化症の治療剤若しくは予防剤。