JPH10181029A - インクジェット印刷ヘッド、インクジェット印刷ヘッド用インク・カートリッジ、インクジェット印刷ヘッド・ダイス又はチップの製造方法 - Google Patents
インクジェット印刷ヘッド、インクジェット印刷ヘッド用インク・カートリッジ、インクジェット印刷ヘッド・ダイス又はチップの製造方法Info
- Publication number
- JPH10181029A JPH10181029A JP9336339A JP33633997A JPH10181029A JP H10181029 A JPH10181029 A JP H10181029A JP 9336339 A JP9336339 A JP 9336339A JP 33633997 A JP33633997 A JP 33633997A JP H10181029 A JPH10181029 A JP H10181029A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cells
- cell
- ink
- wafer
- die
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 title 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 7
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 25
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000003491 array Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1635—Manufacturing processes dividing the wafer into individual chips
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
- G03F7/70433—Layout for increasing efficiency or for compensating imaging errors, e.g. layout of exposure fields for reducing focus errors; Use of mask features for increasing efficiency or for compensating imaging errors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/20—Modules
Abstract
(57)【要約】
【課題】 分解能が増大されたサーマル・インクジェッ
ト印刷ヘッド用の大型アレイ状ヒータ・チップ又はダイ
スを提供する。 【解決手段】 分解能が増大されたサーマル・インクジ
ェット印刷ヘッド構造及びサーマル・インクジェット印
刷ヘッド用大形アレイ状ヒータ・チップを形成する方法
が開示されており、複数の電気部品のセルがシリコン・
ウェハー面内において複数の列状パターンで画成されて
いる一体「メガチップ」を製造することによって達成さ
れる。第1の列における複数のセルは、隣接列の複数の
セルとは垂直方向にオフセットされて、該隣接列のセル
が該第1列におけるセル間のギャップに部分的に重なる
ようになっている。メガチップは、2つの隣接列の各々
からの少なくとも1つのセルをグループ化し、メガチッ
プを取り除くようにウェハーをダイシングすることによ
って形成される。
ト印刷ヘッド用の大型アレイ状ヒータ・チップ又はダイ
スを提供する。 【解決手段】 分解能が増大されたサーマル・インクジ
ェット印刷ヘッド構造及びサーマル・インクジェット印
刷ヘッド用大形アレイ状ヒータ・チップを形成する方法
が開示されており、複数の電気部品のセルがシリコン・
ウェハー面内において複数の列状パターンで画成されて
いる一体「メガチップ」を製造することによって達成さ
れる。第1の列における複数のセルは、隣接列の複数の
セルとは垂直方向にオフセットされて、該隣接列のセル
が該第1列におけるセル間のギャップに部分的に重なる
ようになっている。メガチップは、2つの隣接列の各々
からの少なくとも1つのセルをグループ化し、メガチッ
プを取り除くようにウェハーをダイシングすることによ
って形成される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェットプ
リンタ、より詳細には、分解能が増大したサーマル・イ
ンクジェット印刷ヘッド構造及び同構造を形成する方法
に関するものである。
リンタ、より詳細には、分解能が増大したサーマル・イ
ンクジェット印刷ヘッド構造及び同構造を形成する方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】本発明は、熱エネルギーをインクに伝達
することによってインク小滴を噴出するための運動エネ
ルギーを利用するインクジェット方法で好都合に使用さ
れる。この方法では、熱エネルギーによって引き起こさ
れたインクの液体から蒸気への遷移に起因する急速な容
積変化がインクの中で生じる。その結果としてのインク
小滴が、記録ヘッドに形成された噴出出口(ノズル)か
ら噴出され、こうしてインク小滴が形成される。インク
を受け入れる媒体、或いは記録媒体はノズルの近くに置
かれて、噴出された小滴は、その記録媒体の表面に接触
して情報記録を確立する。
することによってインク小滴を噴出するための運動エネ
ルギーを利用するインクジェット方法で好都合に使用さ
れる。この方法では、熱エネルギーによって引き起こさ
れたインクの液体から蒸気への遷移に起因する急速な容
積変化がインクの中で生じる。その結果としてのインク
小滴が、記録ヘッドに形成された噴出出口(ノズル)か
ら噴出され、こうしてインク小滴が形成される。インク
を受け入れる媒体、或いは記録媒体はノズルの近くに置
かれて、噴出された小滴は、その記録媒体の表面に接触
して情報記録を確立する。
【0003】一般に、上記のインク噴出方法で使用され
る記録ヘッド或いは印刷ヘッドは、インク小滴を噴出す
るインク噴出出口或いはインク噴出ノズルと、熱エネル
ギーを発生する電熱変換素子を含むインク噴出出口とつ
ながっているインク液通路とを有している。電熱変換素
子は、抵抗材における2つの電極間に電圧を印加するこ
とによって加熱する抵抗層或いは抵抗体を含んでいる。
この種の印刷ヘッドでは、毛管現象、圧力低下等によっ
て誘起される力が、インク液体通路内のインクに付与さ
れ、メニスカスがインク噴出出口に隣接する液体通路内
で形成されるようにバランスされている。インク小滴が
前述のインクに対して付与されたエネルギーによって噴
出されるたびに、インクはインク通路に引き入れられ、
メニスカスが、インク噴出出口に隣接したインク通路内
に再度形成される。
る記録ヘッド或いは印刷ヘッドは、インク小滴を噴出す
るインク噴出出口或いはインク噴出ノズルと、熱エネル
ギーを発生する電熱変換素子を含むインク噴出出口とつ
ながっているインク液通路とを有している。電熱変換素
子は、抵抗材における2つの電極間に電圧を印加するこ
とによって加熱する抵抗層或いは抵抗体を含んでいる。
この種の印刷ヘッドでは、毛管現象、圧力低下等によっ
て誘起される力が、インク液体通路内のインクに付与さ
れ、メニスカスがインク噴出出口に隣接する液体通路内
で形成されるようにバランスされている。インク小滴が
前述のインクに対して付与されたエネルギーによって噴
出されるたびに、インクはインク通路に引き入れられ、
メニスカスが、インク噴出出口に隣接したインク通路内
に再度形成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】サーマル・インクジェ
ット・ヒータ・チップ或いはダイスは、シリコンの能動
半導体装置で従来通りに形成される。ヒータ・シリコン
・チップは、合致するノズル・プレートと組み合わされ
て、インク滴の熱噴出のためのノズルを形成する、水平
及び垂直の両方に配置された抵抗素子及び能動素子のア
レイを含んでいる。印刷受容媒体(例えば、ペーパ)に
対するノズル・プレートの物理的配置に応じて、垂直の
高さ或いは大きさ、ノズルの径、並びにノズル間の間隔
は、印刷帯状部の垂直方向の大きさを決定し、水平方向
の幅及び間隔は印刷ヘッドの実装密度及び点火速度能力
を決定する。印刷速度及び分解能密度が増大するにつれ
て、益々大きな素子アレイが要求される。これらのアレ
イは、より小さいダイスの複数の素子をTAB(テープ
自動化ボンディング)媒体上に設置することによって形
成することができる。しかしながら、個別のダイス取り
付け許容範囲は維持することが難しい。代替的には、数
百の素子は単一の非常に大きなチップ上であるが、製造
上の適切なより低い歩留まりで配置することができる。
この欠点は、米国特許第5,218,754号のような先行技術
で認識されていた。本特許はヒータチップをより長く製
作する可能性があることを示唆するものである。一般的
には、歩留まりは、より長いチップとすることで減少す
るので、欠陥のある加熱素子を含む可能性がより少な
く、これらに互いに隣接する複数のより小さなチップを
製造することは望ましい。しかしながら、推測すること
ができるように、多重チップ・アライメントの難しさ
は、インクジェット印刷ヘッドのチップ数が増加するに
つれて増大する。このアライメント問題は、単一のダイ
ス或いはチップ上におけるヒータ及びノズルのアレイで
構成された複数のバンク或いはセルを集めて一塊にする
こと又は束ねることによって本発明では回避されてい
る。
ット・ヒータ・チップ或いはダイスは、シリコンの能動
半導体装置で従来通りに形成される。ヒータ・シリコン
・チップは、合致するノズル・プレートと組み合わされ
て、インク滴の熱噴出のためのノズルを形成する、水平
及び垂直の両方に配置された抵抗素子及び能動素子のア
レイを含んでいる。印刷受容媒体(例えば、ペーパ)に
対するノズル・プレートの物理的配置に応じて、垂直の
高さ或いは大きさ、ノズルの径、並びにノズル間の間隔
は、印刷帯状部の垂直方向の大きさを決定し、水平方向
の幅及び間隔は印刷ヘッドの実装密度及び点火速度能力
を決定する。印刷速度及び分解能密度が増大するにつれ
て、益々大きな素子アレイが要求される。これらのアレ
イは、より小さいダイスの複数の素子をTAB(テープ
自動化ボンディング)媒体上に設置することによって形
成することができる。しかしながら、個別のダイス取り
付け許容範囲は維持することが難しい。代替的には、数
百の素子は単一の非常に大きなチップ上であるが、製造
上の適切なより低い歩留まりで配置することができる。
この欠点は、米国特許第5,218,754号のような先行技術
で認識されていた。本特許はヒータチップをより長く製
作する可能性があることを示唆するものである。一般的
には、歩留まりは、より長いチップとすることで減少す
るので、欠陥のある加熱素子を含む可能性がより少な
く、これらに互いに隣接する複数のより小さなチップを
製造することは望ましい。しかしながら、推測すること
ができるように、多重チップ・アライメントの難しさ
は、インクジェット印刷ヘッドのチップ数が増加するに
つれて増大する。このアライメント問題は、単一のダイ
ス或いはチップ上におけるヒータ及びノズルのアレイで
構成された複数のバンク或いはセルを集めて一塊にする
こと又は束ねることによって本発明では回避されてい
る。
【0005】本インクジェットのヒータ・アレイ・シリ
コン・ウェハー処理は、関連ノズル・プレートと合致さ
せるために、その上に単一の能動及び受動パターンを有
するダイス或いはチップ上に単一のバンク或いは複数の
セルを形成する。シリコン・ウェハーからのダイシング
及び分離に先行して、これらのチップは検査され、欠陥
チップは、マークを付けられ、それらは使用されるべき
でないことを指示する。良否のバンク或いはセルに対す
る位置決めの歩留まりの調査は、最も不適切なバンクは
ウェハーの外周に隣接していて、最高の歩留まりのバン
クはウェハーの内部にあることを示している。
コン・ウェハー処理は、関連ノズル・プレートと合致さ
せるために、その上に単一の能動及び受動パターンを有
するダイス或いはチップ上に単一のバンク或いは複数の
セルを形成する。シリコン・ウェハーからのダイシング
及び分離に先行して、これらのチップは検査され、欠陥
チップは、マークを付けられ、それらは使用されるべき
でないことを指示する。良否のバンク或いはセルに対す
る位置決めの歩留まりの調査は、最も不適切なバンクは
ウェハーの外周に隣接していて、最高の歩留まりのバン
クはウェハーの内部にあることを示している。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、インクジェッ
ト印刷ヘッド用の、高歩留まりで、低コストの、非常に
大きなアレイ状のノズル・ヒータ・チップ(「メガチッ
プ」又は「メガダイス」)に関すると共に、その非常に
大きなアレイ状ノズル・ヒータ・チップの製造方法に関
し、数百のヒータ素子が、精密な相対的位置決め許容差
で単一チップに多重素子アレイ状に構成されて、各ウェ
ハーから高歩留まりの生産が期待できるものである。
ト印刷ヘッド用の、高歩留まりで、低コストの、非常に
大きなアレイ状のノズル・ヒータ・チップ(「メガチッ
プ」又は「メガダイス」)に関すると共に、その非常に
大きなアレイ状ノズル・ヒータ・チップの製造方法に関
し、数百のヒータ素子が、精密な相対的位置決め許容差
で単一チップに多重素子アレイ状に構成されて、各ウェ
ハーから高歩留まりの生産が期待できるものである。
【0007】更に、本発明は、共通のシリコン・ウェハ
ー処理ライン上において、複数のヒータ/ノズルから成
る多数のバンクを形成する単一アレイ幾何形状を使用し
ての共通処理で、ハイエンド及びローエンド双方のイン
クジェット市場要求に適合する方法を提供する。
ー処理ライン上において、複数のヒータ/ノズルから成
る多数のバンクを形成する単一アレイ幾何形状を使用し
ての共通処理で、ハイエンド及びローエンド双方のイン
クジェット市場要求に適合する方法を提供する。
【0008】インクジェット印刷ヘッドで使用するチッ
プを製造する本発明の好適方法は、シリコン・ウェハー
を処理し、そこに形成された電気部品を有する複数の個
別セルを設けるステップと、シリコン・ウェハーの少な
くとも高歩留まり部分に複数セルを有する第1ダイスを
画成するステップと、シリコン・ウェハーの一部に少な
くとも第2のダイスを画成するステップであり、前記第
2ダイスが前記第1ダイスに含まれたセル数と異なるセ
ル数を有するように為すステップと、シリコン・ウェハ
ーをダイシングし、それぞれのダイスをシリコン・ウェ
ハーの残りから分離するステップと、の諸ステップを含
んで構成される。
プを製造する本発明の好適方法は、シリコン・ウェハー
を処理し、そこに形成された電気部品を有する複数の個
別セルを設けるステップと、シリコン・ウェハーの少な
くとも高歩留まり部分に複数セルを有する第1ダイスを
画成するステップと、シリコン・ウェハーの一部に少な
くとも第2のダイスを画成するステップであり、前記第
2ダイスが前記第1ダイスに含まれたセル数と異なるセ
ル数を有するように為すステップと、シリコン・ウェハ
ーをダイシングし、それぞれのダイスをシリコン・ウェ
ハーの残りから分離するステップと、の諸ステップを含
んで構成される。
【0009】本発明の好適なインクジェット印刷ヘッド
は、複数のセルと、複数のインク・チャンバーを形成す
る層とを含む一体メガチップを備え、該セルの各々が複
数のヒータ素子と、該ヒータ素子を選択的に励起する回
路とを有している。この印刷ヘッドは、前記メガチップ
上に横たわる少なくとも1つのノズル・プレートを更に
備え、該ノズル・プレートが複数のノズルを含み、該複
数ノズルの各々が、インク供給量を受容する対応するイ
ンク・チャンバー上に横たわっている。あるインク・チ
ャンバーに対応するヒータ素子は、その対応するインク
・チャンバー内のインクを加熱する。複数のセルの配列
としては、第1セルが第2セルからオフセットされて、
第1セルに関連されたノズルが、第2セルに関連された
ノズルに対して少なくとも幾らかの相対的重なりを為す
ように配列されている。
は、複数のセルと、複数のインク・チャンバーを形成す
る層とを含む一体メガチップを備え、該セルの各々が複
数のヒータ素子と、該ヒータ素子を選択的に励起する回
路とを有している。この印刷ヘッドは、前記メガチップ
上に横たわる少なくとも1つのノズル・プレートを更に
備え、該ノズル・プレートが複数のノズルを含み、該複
数ノズルの各々が、インク供給量を受容する対応するイ
ンク・チャンバー上に横たわっている。あるインク・チ
ャンバーに対応するヒータ素子は、その対応するインク
・チャンバー内のインクを加熱する。複数のセルの配列
としては、第1セルが第2セルからオフセットされて、
第1セルに関連されたノズルが、第2セルに関連された
ノズルに対して少なくとも幾らかの相対的重なりを為す
ように配列されている。
【0010】好ましくは、本発明の複数の単一セル・パ
ターンは垂直アライメントで配置されるが、すぐ次のセ
ル列が垂直セル間の空間で部分的に重なるように水平方
向にオフセットされている。このように、個別セルは、
所望のように、より大きなセル・アレイを形成するよう
にグループ化され、拡張され得る。部分的重なりによっ
て、アレイはその小滴間隔の密度を保持でき、必要なら
ば、単一パターン或いは個別パターンは個別ダイスに分
離することができる。これらのセル・パターンがウェハ
ー処理中に確立されるので、この多重セルを有する「メ
ガ」チップはセル・パターンの精密な相対的位置決めを
可能にする。
ターンは垂直アライメントで配置されるが、すぐ次のセ
ル列が垂直セル間の空間で部分的に重なるように水平方
向にオフセットされている。このように、個別セルは、
所望のように、より大きなセル・アレイを形成するよう
にグループ化され、拡張され得る。部分的重なりによっ
て、アレイはその小滴間隔の密度を保持でき、必要なら
ば、単一パターン或いは個別パターンは個別ダイスに分
離することができる。これらのセル・パターンがウェハ
ー処理中に確立されるので、この多重セルを有する「メ
ガ」チップはセル・パターンの精密な相対的位置決めを
可能にする。
【0011】本発明の他の特徴及び長所は、以下の本発
明の図面及び詳細な説明で判明され得る。
明の図面及び詳細な説明で判明され得る。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は、本発明が適用できる例示
目的のみのインクジェット・プリンタ10の実施例を示
している。図1において、ペーパ或いは薄膜プラスティ
ック等で作られている印刷受容媒体である印刷受容媒体
12は、重ね合ったシート送りローラ対16,18によ
って案内され、媒体駆動機構、本例では駆動モータ19
の制御の下で矢印14の方向に移動される。
目的のみのインクジェット・プリンタ10の実施例を示
している。図1において、ペーパ或いは薄膜プラスティ
ック等で作られている印刷受容媒体である印刷受容媒体
12は、重ね合ったシート送りローラ対16,18によ
って案内され、媒体駆動機構、本例では駆動モータ19
の制御の下で矢印14の方向に移動される。
【0013】図1及び図2に示されているように、印刷
カートリッジ28は、ローラ対16,18によって順次
移送される印刷受容媒体12に非常に接近して運ばれる
キャリア22上に取り付けられている。矢印24によっ
て示されているように、カートリッジ28(とその結果
としての印刷ヘッドキャリア22と)は、印刷受容媒体
12に対して直交する往復運動ができるように取り付け
られる。この目的のために図1に示されているように、
キャリア22は、一つの案内シャフト26,27に沿っ
ての往復運動ができるように取り付けられている。キャ
リッジ28は、複数の個別に選択できて起動できるノズ
ル30a(図4及び図5を参照)を有するノズル・プレ
ート30に取り付けられたチップ20を含む記録ヘッド
・ユニット或いは印刷ヘッド29と、タンク或いはボト
ル等のインク保持リザーバ32内の特定量のインクとを
含んでいる。ノズル・プレート部30は、好ましくは、
ステンレス鋼(しばしば、厚いフィルム側に取り付ける
ために金及び/或いはタンタルで両側がコーティングさ
れている)や、或いは硬質で薄く、高耐摩耗性ポリマー
層で形成されている。ノズル・プレート30は、その下
のシリコン構造を良好に見えるようにするために透明で
あるとして図面に示されている。しかしながら、本発明
で実施されている典型的なノズル・プレートは透明でな
い。インクジェット印刷ヘッド29のノズル・プレート
30におけるインク噴出ノズル30aは、印刷受容媒体
12に向かい合っており、インクは印刷受容媒体12上
に印刷を行うために、ノズルの中のインクを熱的に加熱
することによって噴出され得る。図4に示されたノズル
30aは、尺度通りに示されていなく、複数示されてお
り、その数は単なる例示であることにご留意して頂きた
い。
カートリッジ28は、ローラ対16,18によって順次
移送される印刷受容媒体12に非常に接近して運ばれる
キャリア22上に取り付けられている。矢印24によっ
て示されているように、カートリッジ28(とその結果
としての印刷ヘッドキャリア22と)は、印刷受容媒体
12に対して直交する往復運動ができるように取り付け
られる。この目的のために図1に示されているように、
キャリア22は、一つの案内シャフト26,27に沿っ
ての往復運動ができるように取り付けられている。キャ
リッジ28は、複数の個別に選択できて起動できるノズ
ル30a(図4及び図5を参照)を有するノズル・プレ
ート30に取り付けられたチップ20を含む記録ヘッド
・ユニット或いは印刷ヘッド29と、タンク或いはボト
ル等のインク保持リザーバ32内の特定量のインクとを
含んでいる。ノズル・プレート部30は、好ましくは、
ステンレス鋼(しばしば、厚いフィルム側に取り付ける
ために金及び/或いはタンタルで両側がコーティングさ
れている)や、或いは硬質で薄く、高耐摩耗性ポリマー
層で形成されている。ノズル・プレート30は、その下
のシリコン構造を良好に見えるようにするために透明で
あるとして図面に示されている。しかしながら、本発明
で実施されている典型的なノズル・プレートは透明でな
い。インクジェット印刷ヘッド29のノズル・プレート
30におけるインク噴出ノズル30aは、印刷受容媒体
12に向かい合っており、インクは印刷受容媒体12上
に印刷を行うために、ノズルの中のインクを熱的に加熱
することによって噴出され得る。図4に示されたノズル
30aは、尺度通りに示されていなく、複数示されてお
り、その数は単なる例示であることにご留意して頂きた
い。
【0014】キャリア22の往復運動或いは側部から側
部への運動は、図示された例では、ケーブル或いは駆動
ベルト34と、モータ40によって駆動されるベルト3
4を担持するプーリ36,38とを含む伝動機構を有す
るキャリア駆動装置によって確立されている。このよう
に、印刷カートリッジ28を、キャリア駆動装置及び電
子機器46の制御によって画成され且つこれらの制御の
下での経路に沿って指定された各種位置に移動させられ
且つ位置決めされることができる。
部への運動は、図示された例では、ケーブル或いは駆動
ベルト34と、モータ40によって駆動されるベルト3
4を担持するプーリ36,38とを含む伝動機構を有す
るキャリア駆動装置によって確立されている。このよう
に、印刷カートリッジ28を、キャリア駆動装置及び電
子機器46の制御によって画成され且つこれらの制御の
下での経路に沿って指定された各種位置に移動させられ
且つ位置決めされることができる。
【0015】キャリア22及びカートリッジ28は、電
源44からの電力をカートリッジ29に供給し、プリン
タ制御ロジック(PCL)を含む電子機器46からカー
トリッジ29に制御信号及びデータ信号を供給するフレ
キシブル(可撓性)プリント回路ケーブル42によって
電気的に接続される。図3に示されているように、ノズ
ル・プレート30はチップ20に結着され、該チップ2
0はリザーバ32に結着されている。制御信号及び電力
を含むチップI/Oは、チップ20に(電気的接続を含
む)I/O接続するためのTAB回路31及びそれにお
ける離隔された複数の集積ランド33(図3、図7及び
図8を参照)を介して用いられる。図示された例におい
て、テープ31はその中に複数の端子パッド31a(図
7を参照)を伴ってリザーバ32の一面に沿って延在
し、該複数のパッド31aがフレキシブル・プリント回
路ケーブル42上の端子突起部43(図3を参照)と符
合して係合する。図示及び理解を容易にするために、フ
レキシブル・プリント回路ケーブル42及びその突起し
た電気接続部43を担持するキャリア22の一部は、T
AB回路或いはテープ31の端子パッド31aから離隔
されて示されている。しかしながら、キャリッジ28を
キャリア22に挿入するに及んで、電気的な符合係合
が、テープ31の端子パッド31aと可撓性プリント回
路ケーブル42の突出部43との間に生じる。接点43
とパッド31aとを係合するための摺動摩擦係合を含む
多数の技術があり、任意のこうした技術は、2つの接続
部の間の静電放電が符合係合或いは相互接続中に最少に
されるか或いは避けられる限り通用する。
源44からの電力をカートリッジ29に供給し、プリン
タ制御ロジック(PCL)を含む電子機器46からカー
トリッジ29に制御信号及びデータ信号を供給するフレ
キシブル(可撓性)プリント回路ケーブル42によって
電気的に接続される。図3に示されているように、ノズ
ル・プレート30はチップ20に結着され、該チップ2
0はリザーバ32に結着されている。制御信号及び電力
を含むチップI/Oは、チップ20に(電気的接続を含
む)I/O接続するためのTAB回路31及びそれにお
ける離隔された複数の集積ランド33(図3、図7及び
図8を参照)を介して用いられる。図示された例におい
て、テープ31はその中に複数の端子パッド31a(図
7を参照)を伴ってリザーバ32の一面に沿って延在
し、該複数のパッド31aがフレキシブル・プリント回
路ケーブル42上の端子突起部43(図3を参照)と符
合して係合する。図示及び理解を容易にするために、フ
レキシブル・プリント回路ケーブル42及びその突起し
た電気接続部43を担持するキャリア22の一部は、T
AB回路或いはテープ31の端子パッド31aから離隔
されて示されている。しかしながら、キャリッジ28を
キャリア22に挿入するに及んで、電気的な符合係合
が、テープ31の端子パッド31aと可撓性プリント回
路ケーブル42の突出部43との間に生じる。接点43
とパッド31aとを係合するための摺動摩擦係合を含む
多数の技術があり、任意のこうした技術は、2つの接続
部の間の静電放電が符合係合或いは相互接続中に最少に
されるか或いは避けられる限り通用する。
【0016】上記構造において、印刷が図1の矢印24
の方向のキャリア22の移動と同時に起きると、各ノズ
ル30aに関連した電熱変換素子(抵抗器)が記録デー
タに従って選択的に駆動されて、インク小滴がノズル・
プレート30のノズル30aから噴出し、インク滴が印
刷受容媒体12上に当たって、それらインク小滴がその
印刷受容媒体12上に記録情報を形成する。
の方向のキャリア22の移動と同時に起きると、各ノズ
ル30aに関連した電熱変換素子(抵抗器)が記録デー
タに従って選択的に駆動されて、インク小滴がノズル・
プレート30のノズル30aから噴出し、インク滴が印
刷受容媒体12上に当たって、それらインク小滴がその
印刷受容媒体12上に記録情報を形成する。
【0017】図4は、印刷ヘッド29の一部を形成する
電気部品のバンク或いはセル21を有する集積回路(I
C)チップ20の著しく拡大された概略図である。実際
の測定の点において、チップ20は、約1/3インチ
(〜8.5mm)×1/9インチ(〜2.8mm)である。
チップ20は、フォトレジストで被覆され、マスクを介
してフォトリソグラフィ術に従って露光され、エッチン
グ浴に晒され、半導体製造技術で周知の処理で不純物を
ドーピングされる又は加えられるシリコン・ウェハーか
ら従来のように切断された多数の中の1つである。この
処理は、I/Oパッド35のための金属化を含んで、幾
つかの層に亙って繰り返され、通常通りに単一のウェハ
ー上に複数の集積回路チップを形成し、次いでそれが複
数の個別のチップ或いはダイスに切断或いはダイシング
されることになる。
電気部品のバンク或いはセル21を有する集積回路(I
C)チップ20の著しく拡大された概略図である。実際
の測定の点において、チップ20は、約1/3インチ
(〜8.5mm)×1/9インチ(〜2.8mm)である。
チップ20は、フォトレジストで被覆され、マスクを介
してフォトリソグラフィ術に従って露光され、エッチン
グ浴に晒され、半導体製造技術で周知の処理で不純物を
ドーピングされる又は加えられるシリコン・ウェハーか
ら従来のように切断された多数の中の1つである。この
処理は、I/Oパッド35のための金属化を含んで、幾
つかの層に亙って繰り返され、通常通りに単一のウェハ
ー上に複数の集積回路チップを形成し、次いでそれが複
数の個別のチップ或いはダイスに切断或いはダイシング
されることになる。
【0018】図5に示されているように、チップ20の
セル21は、それぞれ複数の抵抗器23及び能動回路2
5a,25bのような電気部品を含んでいる。抵抗器2
3は、好ましくは、1つの抵抗器がノズル30aと一対
一で関連されて、長手方向に延びるアレイ状に配列され
ている。各抵抗器は、例えば、抵抗器のアレイ(図5に
示されている)の両側に図4に示されたように配置され
ている電界効果トランジスタ(FET)を含む能動回路
25a或いは25に接続されている。これらFETは2
つの列25a,25bによって示される。能動回路は、
例えば、マトリックス状に配列させることができ、デー
タ・ライン及びアドレス・ラインを含むことができる。
チップ20の周辺に沿ってのI/Oパッド35は、チッ
プの中のアドレス及びデータのライン・バス(図示せ
ず)に接続させることができる。
セル21は、それぞれ複数の抵抗器23及び能動回路2
5a,25bのような電気部品を含んでいる。抵抗器2
3は、好ましくは、1つの抵抗器がノズル30aと一対
一で関連されて、長手方向に延びるアレイ状に配列され
ている。各抵抗器は、例えば、抵抗器のアレイ(図5に
示されている)の両側に図4に示されたように配置され
ている電界効果トランジスタ(FET)を含む能動回路
25a或いは25に接続されている。これらFETは2
つの列25a,25bによって示される。能動回路は、
例えば、マトリックス状に配列させることができ、デー
タ・ライン及びアドレス・ラインを含むことができる。
チップ20の周辺に沿ってのI/Oパッド35は、チッ
プの中のアドレス及びデータのライン・バス(図示せ
ず)に接続させることができる。
【0019】図5に示されているように、チップ20
は、該チップ後方のインク・リザーバ32からヒータ抵
抗器23上方のチャネル或いはチャンバー54へのイン
ク通過を可能とするシリコンを貫通する1つ或いは複数
のビア52を有する。これらビア52は、グリットブラ
スト或いはレーザ切断によって切断することができる。
チャネル或いはチャンバー54は、ノズル・プレート3
0及び厚いスペーサまたは絶縁膜56と組み合わされて
且つ画成されて形成され得る。厚膜層56はエッチング
され得て、ヒータ抵抗器23を露出し、該ヒータ抵抗器
がその上に保護金属を含み得ることによって、該抵抗器
23はインク・チャネル下方に配置されることになる。
代替的には、インク・チャネル及びノズルを当業界で公
知なように単一のポリマー材から製作することができ
る。しかしながら、そうしたポリマー・ノズル・プレー
トは、パッド35等の電気的接続点を露出するスロット
或いは開口を含むことになる。図5に示されているよう
に、インクは、矢印で示されているように、ビア穴52
からチャネル54の中へ、そしてノズル30aを介して
外側へ流れる。
は、該チップ後方のインク・リザーバ32からヒータ抵
抗器23上方のチャネル或いはチャンバー54へのイン
ク通過を可能とするシリコンを貫通する1つ或いは複数
のビア52を有する。これらビア52は、グリットブラ
スト或いはレーザ切断によって切断することができる。
チャネル或いはチャンバー54は、ノズル・プレート3
0及び厚いスペーサまたは絶縁膜56と組み合わされて
且つ画成されて形成され得る。厚膜層56はエッチング
され得て、ヒータ抵抗器23を露出し、該ヒータ抵抗器
がその上に保護金属を含み得ることによって、該抵抗器
23はインク・チャネル下方に配置されることになる。
代替的には、インク・チャネル及びノズルを当業界で公
知なように単一のポリマー材から製作することができ
る。しかしながら、そうしたポリマー・ノズル・プレー
トは、パッド35等の電気的接続点を露出するスロット
或いは開口を含むことになる。図5に示されているよう
に、インクは、矢印で示されているように、ビア穴52
からチャネル54の中へ、そしてノズル30aを介して
外側へ流れる。
【0020】本発明に従えば、図6乃至図10に示され
ているように、多数のセル或いはバンク21を含む単一
の大きなメガチップが形成され、その中には、少なくと
も一対の部分的に重なって水平に変位されたセル21が
単一の半導体ウェハーから切り出されている。理解して
頂けるように、図4乃至図8に示されて機能的に同等で
ある素子は、全般的に、共通素子符号を使用して同一視
されている。例えば、図4のセル21は図6乃至図10
のセル21と実質的に同等である。
ているように、多数のセル或いはバンク21を含む単一
の大きなメガチップが形成され、その中には、少なくと
も一対の部分的に重なって水平に変位されたセル21が
単一の半導体ウェハーから切り出されている。理解して
頂けるように、図4乃至図8に示されて機能的に同等で
ある素子は、全般的に、共通素子符号を使用して同一視
されている。例えば、図4のセル21は図6乃至図10
のセル21と実質的に同等である。
【0021】図6は、単一のチップ或いはメガチップ5
0を含む印刷ヘッド48の部分図を示し、単一のシリコ
ン基板100をダイシングすることによって半導体シリ
コン・ウェハーから得られた多数のシリコン・セル或い
はバンク21を有する(図9及び図10を参照)。メガ
チップ50はノズル・プレート30で覆われ、該ノズル
・プレートがインクを排除するための複数のノズル或い
はオリフィス30aを含む。ノズル30aは、メガチッ
プ50のセル或いはバンク21の全てを覆っている単一
のノズル・プレートによって提供されることも、或い
は、セル21の数に対応する多数のノズル・プレートで
構成することもできる。これらセル21は、実質的に同
一であり、図4に示されたセル21と一般的に対応す
る。
0を含む印刷ヘッド48の部分図を示し、単一のシリコ
ン基板100をダイシングすることによって半導体シリ
コン・ウェハーから得られた多数のシリコン・セル或い
はバンク21を有する(図9及び図10を参照)。メガ
チップ50はノズル・プレート30で覆われ、該ノズル
・プレートがインクを排除するための複数のノズル或い
はオリフィス30aを含む。ノズル30aは、メガチッ
プ50のセル或いはバンク21の全てを覆っている単一
のノズル・プレートによって提供されることも、或い
は、セル21の数に対応する多数のノズル・プレートで
構成することもできる。これらセル21は、実質的に同
一であり、図4に示されたセル21と一般的に対応す
る。
【0022】メガチップ50を含む個別のセル・パター
ンの数は、部分的には、個別のセル21の各々における
ヒータ抵抗器23の数に依存する。個別のセル・パター
ンの数の選択のための他の考慮すべき事項は、構造上の
強さ及び歩留まりの考慮すべき事項を含む。3つのセル
・パターンの選択は、列アライメント状の2つのものよ
りも大きな構造上の強さを提供するが、隣接するが重な
りに対して列でオフセットされている2つは1列に整列
されている2つのセルよりも強くもある。付加セルを有
するメガチップも可能であり且つ極端に高い分解能に対
する特定の要求においてさえ望ましいこともあるが、付
加的セルの要件は付随する歩留まりの減少のために高価
になる。
ンの数は、部分的には、個別のセル21の各々における
ヒータ抵抗器23の数に依存する。個別のセル・パター
ンの数の選択のための他の考慮すべき事項は、構造上の
強さ及び歩留まりの考慮すべき事項を含む。3つのセル
・パターンの選択は、列アライメント状の2つのものよ
りも大きな構造上の強さを提供するが、隣接するが重な
りに対して列でオフセットされている2つは1列に整列
されている2つのセルよりも強くもある。付加セルを有
するメガチップも可能であり且つ極端に高い分解能に対
する特定の要求においてさえ望ましいこともあるが、付
加的セルの要件は付随する歩留まりの減少のために高価
になる。
【0023】任意の公知シリコン技法がシリコンセルの
製造のために使用することができる。能動回路(FET
25a及び25b)及び受動素子(例えば、ヒータ抵抗
器23)が、当業者には公知であるように典型的な大規
模集積回路技術でメガチップ50上の各シリコンセル2
11上に全て形成され得る。一例としての製造技術は、
Hawkins他の米国特許再発行第32,572号及びCampunelli
他の米国第5,000,811号に教示されている。
製造のために使用することができる。能動回路(FET
25a及び25b)及び受動素子(例えば、ヒータ抵抗
器23)が、当業者には公知であるように典型的な大規
模集積回路技術でメガチップ50上の各シリコンセル2
11上に全て形成され得る。一例としての製造技術は、
Hawkins他の米国特許再発行第32,572号及びCampunelli
他の米国第5,000,811号に教示されている。
【0024】次に、図7及び図8、特に図5で参照され
るように、TAB回路或いはテープ31が、メガチップ
50に相対する位置に概略的に示されている。テープ自
動化ボンディング工程では、テープ31はメガチップ5
0を受容する多数の切欠又は開口を具備するように形成
され、それらの間には充分なスペースがあることによっ
て、ランド33のビーム端部をパッド35の選択された
複数の個別パッドに結着することを可能としている。テ
ープ31に対するメガチップ50の位置は点線或いは陰
線で示されている。テープの中の複数のランド33は、
端子パッド31aに接続されるか或いはインクジェット
・ヘッド構成に応じて、選択ノズルの並列動作或いは各
ノズルの個々別々の制御等の機械設計者の要望に応じて
のセル相互接続配列を含んでいる。端子パッド31a
は、電子機器46に電気的に接続する回路42の図3に
おける突出部43と順次係合される。(図1及び図3を
参照のこと)。
るように、TAB回路或いはテープ31が、メガチップ
50に相対する位置に概略的に示されている。テープ自
動化ボンディング工程では、テープ31はメガチップ5
0を受容する多数の切欠又は開口を具備するように形成
され、それらの間には充分なスペースがあることによっ
て、ランド33のビーム端部をパッド35の選択された
複数の個別パッドに結着することを可能としている。テ
ープ31に対するメガチップ50の位置は点線或いは陰
線で示されている。テープの中の複数のランド33は、
端子パッド31aに接続されるか或いはインクジェット
・ヘッド構成に応じて、選択ノズルの並列動作或いは各
ノズルの個々別々の制御等の機械設計者の要望に応じて
のセル相互接続配列を含んでいる。端子パッド31a
は、電子機器46に電気的に接続する回路42の図3に
おける突出部43と順次係合される。(図1及び図3を
参照のこと)。
【0025】図8は、図4のチップ21に接続されたT
AB回路或いはテープ31の一部の部分拡大平面図であ
る。図示されているように、複数のランド33の延ばさ
れたビーム端部33aはセル21の別個のパッド35に
結着される。エッジ部21bに沿っての(想像線で境界
が定められた)領域21aは、注封材料のようなカプセ
ルの材料によって従来のように被覆され、ビーム33a
とチップI/Oパッド35との間のインク橋絡(及びそ
の結果の短絡)を禁止する。
AB回路或いはテープ31の一部の部分拡大平面図であ
る。図示されているように、複数のランド33の延ばさ
れたビーム端部33aはセル21の別個のパッド35に
結着される。エッジ部21bに沿っての(想像線で境界
が定められた)領域21aは、注封材料のようなカプセ
ルの材料によって従来のように被覆され、ビーム33a
とチップI/Oパッド35との間のインク橋絡(及びそ
の結果の短絡)を禁止する。
【0026】図9は、ヒータ及び能動半導体マトリック
ス・アレイの複数のバンク或いはセル21のレイアウト
を取り込んでいるシリコン半導体ウェハー100の部分
概略図である。上述のように、複数のシリコン・セル2
1は、垂直に一列を成して位置決めされているが、例え
ば、第1の列のセルが隣接列のセル間の空間に部分的に
重なるように水平方向にはオフセットされている。この
ように、複数のセルはメガチップを形成し、セル数はよ
り大きなアレイ形成が望まれれば拡張することができ
る。この目的のために、ウェハーにおける個別のセル・
レイアウトは、適切な間隔或いは選択間隔の距離を増加
するように慎重に拡張され、所望のメガチップ50の特
定の設計に依存する。例えば、セル・レイアウトは、列
c1、c2、c3....cnにおけるセル21間の小さい
行間隔に対して一様であるが、隣接列に関しては、隣接
列における各セルがその前の隣接列におけるセルの中の
2つに重なるようにダイスの列が重なるようにオフセッ
トされている。図6に示されているように、メガチップ
50のレイアウト或いは3つのセル21の設計の場合、
列は図9に示されているように配置することができるか
或いは上記で示されているように、各列におけるセル間
隔は、メガチップ50の設計により均一であることもあ
る。簡単に言うと、設計要件は、必要とされているか或
いは所望されているセル或いはノズルの重なり量に基づ
いている。設計レイアウトが図6に示されるようである
ならば、重なりは約1/3である。即ち、メガチップの
隣接列におけるセル間のセルの重なりはおよそ1/3で
ある。重なりは、設計者によって望まれる分解能及び適
用範囲にのみ重要である。例えば、このような重なり
は、第1のセルに関連するノズルと第2のセルに関連す
るノズルとを水平に交互に配置することによって分解能
を増加できる。
ス・アレイの複数のバンク或いはセル21のレイアウト
を取り込んでいるシリコン半導体ウェハー100の部分
概略図である。上述のように、複数のシリコン・セル2
1は、垂直に一列を成して位置決めされているが、例え
ば、第1の列のセルが隣接列のセル間の空間に部分的に
重なるように水平方向にはオフセットされている。この
ように、複数のセルはメガチップを形成し、セル数はよ
り大きなアレイ形成が望まれれば拡張することができ
る。この目的のために、ウェハーにおける個別のセル・
レイアウトは、適切な間隔或いは選択間隔の距離を増加
するように慎重に拡張され、所望のメガチップ50の特
定の設計に依存する。例えば、セル・レイアウトは、列
c1、c2、c3....cnにおけるセル21間の小さい
行間隔に対して一様であるが、隣接列に関しては、隣接
列における各セルがその前の隣接列におけるセルの中の
2つに重なるようにダイスの列が重なるようにオフセッ
トされている。図6に示されているように、メガチップ
50のレイアウト或いは3つのセル21の設計の場合、
列は図9に示されているように配置することができるか
或いは上記で示されているように、各列におけるセル間
隔は、メガチップ50の設計により均一であることもあ
る。簡単に言うと、設計要件は、必要とされているか或
いは所望されているセル或いはノズルの重なり量に基づ
いている。設計レイアウトが図6に示されるようである
ならば、重なりは約1/3である。即ち、メガチップの
隣接列におけるセル間のセルの重なりはおよそ1/3で
ある。重なりは、設計者によって望まれる分解能及び適
用範囲にのみ重要である。例えば、このような重なり
は、第1のセルに関連するノズルと第2のセルに関連す
るノズルとを水平に交互に配置することによって分解能
を増加できる。
【0027】図10は、レーザ選択切断工程が実行でき
るように構成されているセル・パターンのアレイを示
す。選択切断工程は、シリコンセル21の検査及び歩留
まりの調査で始まる。次いで、セルがダイシングされる
最適装置が決定される。図10に示されているように、
3つのセルメガチップ50a,50bが(例示的のみの
目的で)、より太線のメガチップ輪郭のようにダイシン
グするために指定されるか或いは選択される。勿論、も
っと多くのメガチップ、複数のセル構造を選択すること
ができる。例えば、より太線のメガチップ輪郭51cに
よって示されるようなメガチップ50cは3つの代わり
に2つのセル21を含んでいる。好ましくは、選択切断
工程はレーザダイシング工具によって実行されるが、当
業界で公知であるような他の適当なダイス切断方法も使
用することができる。
るように構成されているセル・パターンのアレイを示
す。選択切断工程は、シリコンセル21の検査及び歩留
まりの調査で始まる。次いで、セルがダイシングされる
最適装置が決定される。図10に示されているように、
3つのセルメガチップ50a,50bが(例示的のみの
目的で)、より太線のメガチップ輪郭のようにダイシン
グするために指定されるか或いは選択される。勿論、も
っと多くのメガチップ、複数のセル構造を選択すること
ができる。例えば、より太線のメガチップ輪郭51cに
よって示されるようなメガチップ50cは3つの代わり
に2つのセル21を含んでいる。好ましくは、選択切断
工程はレーザダイシング工具によって実行されるが、当
業界で公知であるような他の適当なダイス切断方法も使
用することができる。
【0028】メガチップとして指定されたセル数がもし
も歩留まりが適当であるならば1つの単位として切断可
能であるが、もしも個々のセルが隣接セルとグループ化
することが不可能であればそれらは個々別々に切断され
得る。例えば、図4に示されているように、アライメン
ト或いは基準マーク(+−)は、ノズル・プレート及び
個別チップの互いに対する適切なアライメントのために
使用することができる。
も歩留まりが適当であるならば1つの単位として切断可
能であるが、もしも個々のセルが隣接セルとグループ化
することが不可能であればそれらは個々別々に切断され
得る。例えば、図4に示されているように、アライメン
ト或いは基準マーク(+−)は、ノズル・プレート及び
個別チップの互いに対する適切なアライメントのために
使用することができる。
【0029】セル21の中には、「良好」、即ちその初
期検査によれば、完全に機能し、許容できる品質のもの
であるとして指摘し得るものがあるが、例えば、ウェハ
ー100の周辺近くの隣接セルに関しては、メガチップ
内での使用にそぐう充分な歩留まり或いは品質ではない
場合がある。このような場合、チップ50d及び50e
のような「良好」チップを抽出して、ローエンド設計の
ための単一のインクジェット印刷ヘッドで利用すること
が可能であったり、或いは、1つのメガチップを形成す
るために(チップ50cのセル・パターンのような)重
なりの関係で接続することができる。シリコン・セルの
幾つかの可能な組み合わせがメガチップと成り得るの
で、シリコン・ウェハーの実効的な歩留まりが改善され
る。
期検査によれば、完全に機能し、許容できる品質のもの
であるとして指摘し得るものがあるが、例えば、ウェハ
ー100の周辺近くの隣接セルに関しては、メガチップ
内での使用にそぐう充分な歩留まり或いは品質ではない
場合がある。このような場合、チップ50d及び50e
のような「良好」チップを抽出して、ローエンド設計の
ための単一のインクジェット印刷ヘッドで利用すること
が可能であったり、或いは、1つのメガチップを形成す
るために(チップ50cのセル・パターンのような)重
なりの関係で接続することができる。シリコン・セルの
幾つかの可能な組み合わせがメガチップと成り得るの
で、シリコン・ウェハーの実効的な歩留まりが改善され
る。
【0030】こうして、本発明よりも以前には、メガチ
ップと同様なサイズの単一のチップが、それの一部が実
行できなかったならば、完全に消失されるか、或いは無
駄にされていた。メガチップの概念の場合、メガチップ
における複数のシリコン・セル21の中の1つが満足に
実行できないならば、他の2つは印刷ヘッド上で個別に
使用するための別個のチップとして救うことができる
か、或いは異なる一体メガチップ組合せに再グループ化
することができる。
ップと同様なサイズの単一のチップが、それの一部が実
行できなかったならば、完全に消失されるか、或いは無
駄にされていた。メガチップの概念の場合、メガチップ
における複数のシリコン・セル21の中の1つが満足に
実行できないならば、他の2つは印刷ヘッド上で個別に
使用するための別個のチップとして救うことができる
か、或いは異なる一体メガチップ組合せに再グループ化
することができる。
【0031】別個のチップの場合と比べての一体或いは
単一の切除部の多重セル型のメガチップの長所は、複数
のシリコン・セルがウェハー上で一緒に処理され、必要
とされる許容範囲が主としてウェハー製造許容範囲であ
るために、メガチップにおける複数のシリコン・セルの
アライメントはボンディング・アライメントよりもより
正確であるということである。このように、シリコン・
セル間でのヒータ素子の精密な相対的位置決めを得るこ
とができる。
単一の切除部の多重セル型のメガチップの長所は、複数
のシリコン・セルがウェハー上で一緒に処理され、必要
とされる許容範囲が主としてウェハー製造許容範囲であ
るために、メガチップにおける複数のシリコン・セルの
アライメントはボンディング・アライメントよりもより
正確であるということである。このように、シリコン・
セル間でのヒータ素子の精密な相対的位置決めを得るこ
とができる。
【0032】この概念に対する付加的強化は単一のセル
・パターン間の配線接続方式を含むことができるので、
共通の接続がメガチップ上で行われ、TABボンダー上
で必要とされるオフチップ接続部の全数を低減する。し
たがって、メガチップの処理で既に使用されている金属
化製造工程によってメガチップ上のあるセル間の配線が
可能である。ポリマー製ノズル・プレートを含む実施例
では、このようなセル間の配線に関連した電気的接続点
を露出するために、スロット或いは開口をそれの中に形
成することができる。
・パターン間の配線接続方式を含むことができるので、
共通の接続がメガチップ上で行われ、TABボンダー上
で必要とされるオフチップ接続部の全数を低減する。し
たがって、メガチップの処理で既に使用されている金属
化製造工程によってメガチップ上のあるセル間の配線が
可能である。ポリマー製ノズル・プレートを含む実施例
では、このようなセル間の配線に関連した電気的接続点
を露出するために、スロット或いは開口をそれの中に形
成することができる。
【0033】本発明の結果として、複数のセル21は一
体の多重セル型の「メガ」チップ上で相互に正確に位置
決めされ得る。このようなメガチップは、歩留まりが高
いシリコン・ウェハーの中心近くに形成されるのが好ま
しく、ダイス当たりのノズル分解能の増加を実現でき
る。例えば、チップ容量当たり1,000以上のヒータ
の分解能を得ることができる。単一のセル或いはバンク
は、歩留まりがより低いウェハー・エッジの近くのダイ
ス上に形成(或いは救出)することができ、このような
単一のバンク或いはセルは、非常に高い分解能が主要な
要素でない場合に利用可能であり、或いはメガチップを
形成するように組合せ可能である。
体の多重セル型の「メガ」チップ上で相互に正確に位置
決めされ得る。このようなメガチップは、歩留まりが高
いシリコン・ウェハーの中心近くに形成されるのが好ま
しく、ダイス当たりのノズル分解能の増加を実現でき
る。例えば、チップ容量当たり1,000以上のヒータ
の分解能を得ることができる。単一のセル或いはバンク
は、歩留まりがより低いウェハー・エッジの近くのダイ
ス上に形成(或いは救出)することができ、このような
単一のバンク或いはセルは、非常に高い分解能が主要な
要素でない場合に利用可能であり、或いはメガチップを
形成するように組合せ可能である。
【0034】以上、本発明は好適実施例を参照して説明
されたが、添付の特許請求の範囲の精神及び範囲から逸
脱することなく、形態或いは細部に関して変更等を為し
得ることは当業者であればご理解されよう。
されたが、添付の特許請求の範囲の精神及び範囲から逸
脱することなく、形態或いは細部に関して変更等を為し
得ることは当業者であればご理解されよう。
【図1】図1は、本発明の新規の方法及び装置が関連す
る印刷ヘッドを有するインクカートリッジを入れるサー
マルインクジェットプリンタの概略平面図である。
る印刷ヘッドを有するインクカートリッジを入れるサー
マルインクジェットプリンタの概略平面図である。
【図2】図2は、図1に示された装置の一部で、印刷ヘ
ッド及び印刷受容媒体の相対運動の概略及び部分の縮小
サイズ図である。
ッド及び印刷受容媒体の相対運動の概略及び部分の縮小
サイズ図である。
【図3】図3は、図1のIII-III線に沿っての図1に示
された装置の一部の拡大、部分分解の部分断面図であ
る。
された装置の一部の拡大、部分分解の部分断面図であ
る。
【図4】図4は、それの下に置かれた電気部品の単一の
バンク或いはセルの相対位置を示すために透明とみなさ
れるノズル・プレートを有する印刷ヘッドの拡大概略平
面図である。
バンク或いはセルの相対位置を示すために透明とみなさ
れるノズル・プレートを有する印刷ヘッドの拡大概略平
面図である。
【図5】図5は、図2のV-V線に沿っての拡大部分断面
図である。
図である。
【図6】図6は、本発明によりメガチップを形成する単
一の半導体チップ上に複数のセルから形成された印刷ヘ
ッドの拡大概略図である。
一の半導体チップ上に複数のセルから形成された印刷ヘ
ッドの拡大概略図である。
【図7】図7は、テープ自動化ボンディング(TAB)
媒体によってテープに接着されたメガチップの概略図で
あり、セルとタブとの間で行われた接続或いは図1の機
械の外部ドライバ及びアドレス指定ロジックに接続する
ため、より詳細には図3に示されるような印刷ヘッドを
形成するためにインク貯蔵容器、或いはインクタンクの
上に取り付けるための媒体上の電極形接続を概略に示し
ている。
媒体によってテープに接着されたメガチップの概略図で
あり、セルとタブとの間で行われた接続或いは図1の機
械の外部ドライバ及びアドレス指定ロジックに接続する
ため、より詳細には図3に示されるような印刷ヘッドを
形成するためにインク貯蔵容器、或いはインクタンクの
上に取り付けるための媒体上の電極形接続を概略に示し
ている。
【図8】図8は、図6のメガチップに接続されたTAB
回路の部分拡大平面図である。
回路の部分拡大平面図である。
【図9】図9は、複数のヒータのセルの配置及びそれの
関連半導体マトリックスアレイを組み込むシリコン・ウ
ェハーの部分概略図である。
関連半導体マトリックスアレイを組み込むシリコン・ウ
ェハーの部分概略図である。
【図10】図10は、図9と同様の図であるが、複数の
ヒータのセル及び能動半導体アレイを有するチップ構造
と単一のセルを有する単一のチップ構造の両方を規定す
る方法を示している。
ヒータのセル及び能動半導体アレイを有するチップ構造
と単一のセルを有する単一のチップ構造の両方を規定す
る方法を示している。
10 インクジェットプリンタ 12 印刷受容媒体 16,18 ローラ対 19 駆動モータ 20 チップ 22 キャリア 26,27 案内シャフト対 28 印刷カートリッジ 29 印刷ヘッド 30 ノズル・プレート 30a インク噴出ノズル 31 テープ 32 インク・リザーバ
フロントページの続き (72)発明者 ポール・アルバート・クック アメリカ合衆国 40503 ケンタッキー、 レキシントン、ハヴロック・サークル 3446 (72)発明者 アンナ・キャスリン・クレイマー アメリカ合衆国 40515 ケンタッキー、 レキシントン、グリーンボ・ロード 3182
Claims (19)
- 【請求項1】 インクジェット印刷ヘッド・ダイスを製
造する方法であって、 シリコン・ウェハーであり、内
部的に形成された電気部品を有する複数の実質的に同等
の個別セルを形成すべくシリコン・ウェハーを処理する
ステップと、 前記シリコン・ウェハーの少なくとも第1部分に複数の
セルを有する第1ダイスを画成するステップと、 前記シリコン・ウェハーの第2の部分に、前記第1ダイ
スに含まれるセル数とは異なるセル数を有する少なくと
も1つの第2ダイスを画成するステップと、 前記第1ダイス及び前記少なくとも1つの第2ダイス
を、前記シリコン・ウェハーの残りの部分から分離すべ
く前記ウェハーをダイシングするステップと、の諸ステ
ップを含む方法。 - 【請求項2】 前記処理ステップが、前記複数の個別セ
ルを前記シリコン・ウェハーにおいて複数の列に配列す
るステップを更に含み、 第1列に含まれる複数のセルが隣接列に含まれる複数の
セルとは垂直方向にオフセットされている、請求項1に
記載の方法。 - 【請求項3】 前記第1列が、垂直方向に配列された少
なくとも2つのセルを含み、前記隣接列が少なくとも1
つのセルを含む、請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記ウェハー上の各セルを検査するステ
ップと、 もし存在した場合、前記ウェハー上の前記複数の個別セ
ルのどれが完全に機能するかを決定するステップと、 前記複数の完全に機能するセルから前記第1ダイスを形
成すべく、前記ウェハーをダイシングするステップと、
を更に含む、請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 前記完全に機能するセルが、少なくとも
1つのセルが他のセルからオフセットされるように配列
され、それによって前記他のセルと組み合わされて前記
1つのセルが1つの平面内において部分的に重なるセル
構造を形成している、請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 単一の印刷ヘッド・チップを形成すべ
く、前記ウェハーからダイシングされた複数の個別ダイ
スを組合せるステップを更に含む、請求項1に記載の方
法。 - 【請求項7】 前記第2ダイスが単一のセルを含む、請
求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 前記個別セル間に配線接続を提供してそ
れらの間の共通接続を形成するステップを更に含む、請
求項1に記載の方法。 - 【請求項9】 前記配線接続が、前記ウェハーの金属化
工程中に形成される、請求項8に記載の方法。 - 【請求項10】 インクジェット印刷ヘッドにおいて、 複数のセルを含む一体のメガチップであって、前記セル
の各々が、複数のヒータ素子及び前記ヒータ素子を選択
的に励起する回路を備えていることから成る一体のメガ
チップと、 複数のインク・チャンバーを形成する層と、 前記メガチップの上に横たわる少なくとも1つのノズル
・プレートであり、前記ノズル・プレートが複数のノズ
ルを有し、前記複数のノズルの各々が一定量のインクを
受容する対応するインク・チャンバーの上になり、各ヒ
ータ素子が各インク・チャンバーと対応して、該対応チ
ャンバー内のインクを加熱しており、前記複数のセルが
配列されて、第1のセルが第2のセルからオフセットさ
れた状態で位置決めされて前記第2セルに関連されたノ
ズルに対して前記第1セルに関連されたノズルの少なく
ともある程度の相対的重なりを提供していることから成
る少なくとも1つのノズル・プレートと、を備えるイン
クジェット印刷ヘッド。 - 【請求項11】 前記重なりが、前記第1セルと関連さ
れたノズルと前記第2セルと関連された前記ノズルとを
交互配置させる、請求項10に記載のインクジェット印
刷ヘッド。 - 【請求項12】 前記複数のセルの少なくとも2つが1
列に配置されている、請求項10に記載のインクジェッ
ト印刷ヘッド。 - 【請求項13】 第3のセルを更に備え、前記第3のセ
ルが、前記第1セル及び前記第2セルの内の1つと列状
で整列され、且つ、それから垂直に離隔されている、請
求項10に記載のインクジェット印刷ヘッド。 - 【請求項14】 前記メガチップに接続されたインク供
給源を含み、1つのビアが前記複数のインク・チャンバ
ーの各々に前記インク供給源を接続するために前記チッ
プ内に形成されている、請求項10に記載のインクジェ
ット印刷ヘッドを含むインク・カートリッジ。 - 【請求項15】 前記インク供給源が、前記チップの一
方の平面側に結着されたインク容器を含み、前記ノズル
・プレートが前記チップの他方の平面側に結着されてお
り、 前記チップにI/O接続及び電力を与える導電性ランド
を有するテープと、 インクジェット・プリンタへの取り替え可能な電気的接
続を行う、前記テープ上の手段と、を更に備える、請求
項14に記載のインク・カートリッジ。 - 【請求項16】 インクジェット印刷ヘッドで使用する
チップを製造する方法において、 電気部品を有する複数のセルを形成すべくシリコン・ウ
ェハーを処理するステップであり、前記複数のセルが複
数の列に配列されており、第1の列を含む第1のセル群
が第2の列を含む第2のセル群からオフセットされるよ
うに位置決めされていることから成るステップと、 少なくとも1つのセルが2つの隣接列のセルの各々から
選択される第1のダイスを画成するステップと、 前記第1のダイスを前記ウェハーから分離するように前
記ウェハーをダイシングするステップと、の諸ステップ
を含む方法。 - 【請求項17】 前記第1ダイスが前記シリコン・ウェ
ハーの高歩留まり領域で形成される、請求項16に記載
の方法。 - 【請求項18】 前記第1ダイスが少なくとも3つのセ
ルを含む、請求項16に記載の方法。 - 【請求項19】 単一のセルから成る第2のダイスを画
成するステップと、 前記第2ダイスを前記ウェハーから分離するように前記
ウェハーをダイシングするステップとを更に含む、請求
項16に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/752,091 US5719605A (en) | 1996-11-20 | 1996-11-20 | Large array heater chips for thermal ink jet printheads |
US08/752,091 | 1996-11-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10181029A true JPH10181029A (ja) | 1998-07-07 |
Family
ID=25024841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9336339A Withdrawn JPH10181029A (ja) | 1996-11-20 | 1997-11-20 | インクジェット印刷ヘッド、インクジェット印刷ヘッド用インク・カートリッジ、インクジェット印刷ヘッド・ダイス又はチップの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5719605A (ja) |
EP (1) | EP0845359B1 (ja) |
JP (1) | JPH10181029A (ja) |
AU (1) | AU715596B2 (ja) |
DE (1) | DE69719683T2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6895659B2 (en) | 1998-10-26 | 2005-05-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Process of manufacturing fluid jetting apparatuses |
JP2006315306A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Sony Corp | 液体吐出ヘッドの製造方法、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
JP2017523823A (ja) * | 2014-06-20 | 2017-08-24 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | マイクロ流体送達システム |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6190931B1 (en) * | 1997-07-15 | 2001-02-20 | Silverbrook Research Pty. Ltd. | Method of manufacture of a linear spring electromagnetic grill ink jet printer |
US6110754A (en) * | 1997-07-15 | 2000-08-29 | Silverbrook Research Pty Ltd | Method of manufacture of a thermal elastic rotary impeller ink jet print head |
US6350013B1 (en) | 1997-10-28 | 2002-02-26 | Hewlett-Packard Company | Carrier positioning for wide-array inkjet printhead assembly |
US6164762A (en) * | 1998-06-19 | 2000-12-26 | Lexmark International, Inc. | Heater chip module and process for making same |
ITTO980592A1 (it) | 1998-07-06 | 2000-01-06 | Olivetti Lexikon Spa | Testina di stampa a getto di inchiostro con piastrina di silicio di grandi dimensioni e relativo processo di fabbricazione |
US6705705B2 (en) | 1998-12-17 | 2004-03-16 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Substrate for fluid ejection devices |
US6341845B1 (en) | 2000-08-25 | 2002-01-29 | Hewlett-Packard Company | Electrical connection for wide-array inkjet printhead assembly with hybrid carrier for printhead dies |
US6428145B1 (en) | 1998-12-17 | 2002-08-06 | Hewlett-Packard Company | Wide-array inkjet printhead assembly with internal electrical routing system |
US6450614B1 (en) | 1998-12-17 | 2002-09-17 | Hewlett-Packard Company | Printhead die alignment for wide-array inkjet printhead assembly |
US6464333B1 (en) | 1998-12-17 | 2002-10-15 | Hewlett-Packard Company | Inkjet printhead assembly with hybrid carrier for printhead dies |
US6213587B1 (en) | 1999-07-19 | 2001-04-10 | Lexmark International, Inc. | Ink jet printhead having improved reliability |
US6427597B1 (en) | 2000-01-27 | 2002-08-06 | Patrice M. Aurenty | Method of controlling image resolution on a substrate |
JP2001260366A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-09-25 | Nec Corp | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
US6543880B1 (en) | 2000-08-25 | 2003-04-08 | Hewlett-Packard Company | Inkjet printhead assembly having planarized mounting layer for printhead dies |
KR100406943B1 (ko) * | 2000-10-28 | 2003-11-21 | 삼성전자주식회사 | 프린트 어레이 헤드 및 그 제조방법 |
US6585339B2 (en) | 2001-01-05 | 2003-07-01 | Hewlett Packard Co | Module manager for wide-array inkjet printhead assembly |
EP1221372B1 (en) * | 2001-01-05 | 2005-06-08 | Hewlett-Packard Company | Integrated programmable fire pulse generator for inkjet printhead assembly |
US6726298B2 (en) | 2001-02-08 | 2004-04-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Low voltage differential signaling communication in inkjet printhead assembly |
US6409307B1 (en) | 2001-02-14 | 2002-06-25 | Hewlett-Packard Company | Coplanar mounting of printhead dies for wide-array inkjet printhead assembly |
US6557976B2 (en) | 2001-02-14 | 2003-05-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Electrical circuit for wide-array inkjet printhead assembly |
US6431683B1 (en) | 2001-03-20 | 2002-08-13 | Hewlett-Packard Company | Hybrid carrier for wide-array inkjet printhead assembly |
US6394580B1 (en) | 2001-03-20 | 2002-05-28 | Hewlett-Packard Company | Electrical interconnection for wide-array inkjet printhead assembly |
ITTO20010266A1 (it) * | 2001-03-21 | 2002-09-23 | Olivetti I Jet Spa | Substrato per una testina di stampa termica a getto d'inchiostro, in particolare del tipo a colori, e testina di stampa incorporante tale su |
US6428141B1 (en) * | 2001-04-23 | 2002-08-06 | Hewlett-Packard Company | Reference datums for inkjet printhead assembly |
US6619786B2 (en) * | 2001-06-08 | 2003-09-16 | Lexmark International, Inc. | Tab circuit for ink jet printer cartridges |
US6852241B2 (en) * | 2001-08-14 | 2005-02-08 | Lexmark International, Inc. | Method for making ink jet printheads |
US6679581B2 (en) | 2001-10-25 | 2004-01-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Surface deformation of carrier for printhead dies |
US6575559B2 (en) | 2001-10-31 | 2003-06-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Joining of different materials of carrier for fluid ejection devices |
US20030113730A1 (en) * | 2001-12-18 | 2003-06-19 | Daquino Lawrence J. | Pulse jet print head having multiple printhead dies and methods for use in the manufacture of biopolymeric arrays |
US6935727B2 (en) * | 2001-12-18 | 2005-08-30 | Agilent Technologies, Inc. | Pulse jet print head assembly having multiple reservoirs and methods for use in the manufacture of biopolymeric arrays |
US6726300B2 (en) | 2002-04-29 | 2004-04-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fire pulses in a fluid ejection device |
KR100428793B1 (ko) * | 2002-06-26 | 2004-04-28 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린터 헤드 및 그 제조 방법 |
US7372077B2 (en) * | 2003-02-07 | 2008-05-13 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
CN100533794C (zh) * | 2003-02-07 | 2009-08-26 | 三洋电机株式会社 | 半导体元件 |
US6736488B1 (en) | 2003-05-23 | 2004-05-18 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Electrical interconnect for printhead assembly |
US7621625B2 (en) * | 2005-03-31 | 2009-11-24 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Ink jet device with individual shut-off |
US7549736B2 (en) * | 2006-06-29 | 2009-06-23 | Lexmark International, Inc. | Printhead assembly having ink flow channels to accommodate offset chips |
WO2010063744A1 (en) * | 2008-12-02 | 2010-06-10 | Oce-Technologies B.V. | Method of manufacturing an ink jet print head |
US8118405B2 (en) * | 2008-12-18 | 2012-02-21 | Eastman Kodak Company | Buttable printhead module and pagewide printhead |
US20100154190A1 (en) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | Sanger Kurt M | Method of making a composite device |
KR20100082216A (ko) * | 2009-01-08 | 2010-07-16 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 헤드 칩 및 이를 채용한 잉크젯 프린트 헤드 |
CN103339291B (zh) * | 2011-02-09 | 2015-07-08 | 大日本印刷株式会社 | 具有镀金层的不锈钢基板和对不锈钢基板的形成部分镀金图案的方法 |
JP6068684B2 (ja) | 2013-02-28 | 2017-01-25 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. | 流体流れ構造の成形 |
US9446587B2 (en) * | 2013-02-28 | 2016-09-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Molded printhead |
CN107901609B (zh) * | 2013-02-28 | 2020-08-28 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 流体流动结构和打印头 |
US9724920B2 (en) | 2013-03-20 | 2017-08-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Molded die slivers with exposed front and back surfaces |
US9434165B2 (en) | 2014-08-28 | 2016-09-06 | Funai Electric Co., Ltd. | Chip layout to enable multiple heater chip vertical resolutions |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3842491A (en) * | 1972-12-08 | 1974-10-22 | Ibm | Manufacture of assorted types of lsi devices on same wafer |
US4047184A (en) * | 1976-01-28 | 1977-09-06 | International Business Machines Corporation | Charge electrode array and combination for ink jet printing and method of manufacture |
JPS58107633A (ja) * | 1981-12-21 | 1983-06-27 | Canon Inc | 特殊チツプを逃げたシヨツト配列方法 |
US4472875A (en) * | 1983-06-27 | 1984-09-25 | Teletype Corporation | Method for manufacturing an integrated circuit device |
US4812859A (en) * | 1987-09-17 | 1989-03-14 | Hewlett-Packard Company | Multi-chamber ink jet recording head for color use |
US4829324A (en) * | 1987-12-23 | 1989-05-09 | Xerox Corporation | Large array thermal ink jet printhead |
US4851371A (en) * | 1988-12-05 | 1989-07-25 | Xerox Corporation | Fabricating process for large array semiconductive devices |
US5041190A (en) * | 1990-05-16 | 1991-08-20 | Xerox Corporation | Method of fabricating channel plates and ink jet printheads containing channel plates |
US5057854A (en) * | 1990-06-26 | 1991-10-15 | Xerox Corporation | Modular partial bars and full width array printheads fabricated from modular partial bars |
JP2902506B2 (ja) * | 1990-08-24 | 1999-06-07 | キヤノン株式会社 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
US5160945A (en) * | 1991-05-10 | 1992-11-03 | Xerox Corporation | Pagewidth thermal ink jet printhead |
US5160403A (en) * | 1991-08-09 | 1992-11-03 | Xerox Corporation | Precision diced aligning surfaces for devices such as ink jet printheads |
US5218754A (en) * | 1991-11-08 | 1993-06-15 | Xerox Corporation | Method of manufacturing page wide thermal ink-jet heads |
US5648806A (en) * | 1992-04-02 | 1997-07-15 | Hewlett-Packard Company | Stable substrate structure for a wide swath nozzle array in a high resolution inkjet printer |
US5278584A (en) * | 1992-04-02 | 1994-01-11 | Hewlett-Packard Company | Ink delivery system for an inkjet printhead |
US5504507A (en) * | 1992-10-08 | 1996-04-02 | Xerox Corporation | Electronically readable performance data on a thermal ink jet printhead chip |
US5410340A (en) * | 1993-11-22 | 1995-04-25 | Xerox Corporation | Off center heaters for thermal ink jet printheads |
US5680702A (en) * | 1994-09-19 | 1997-10-28 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method for manufacturing ink jet heads |
EP0709740A1 (en) * | 1994-09-30 | 1996-05-01 | Texas Instruments Incorporated | Integrated circuit and method of making the same |
EP0771272A1 (en) * | 1995-04-12 | 1997-05-07 | Eastman Kodak Company | Monolithic printing heads and manufacturing processes therefor |
-
1996
- 1996-11-20 US US08/752,091 patent/US5719605A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-10-21 AU AU42809/97A patent/AU715596B2/en not_active Ceased
- 1997-11-20 EP EP97309382A patent/EP0845359B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-20 JP JP9336339A patent/JPH10181029A/ja not_active Withdrawn
- 1997-11-20 DE DE69719683T patent/DE69719683T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6895659B2 (en) | 1998-10-26 | 2005-05-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Process of manufacturing fluid jetting apparatuses |
JP2006315306A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Sony Corp | 液体吐出ヘッドの製造方法、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
JP2017523823A (ja) * | 2014-06-20 | 2017-08-24 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | マイクロ流体送達システム |
JP2020078565A (ja) * | 2014-06-20 | 2020-05-28 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーThe Procter & Gamble Company | マイクロ流体送達システム |
JP2022084679A (ja) * | 2014-06-20 | 2022-06-07 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | マイクロ流体送達システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0845359A2 (en) | 1998-06-03 |
AU4280997A (en) | 1998-05-28 |
EP0845359B1 (en) | 2003-03-12 |
US5719605A (en) | 1998-02-17 |
EP0845359A3 (en) | 1999-03-10 |
DE69719683T2 (de) | 2003-10-16 |
AU715596B2 (en) | 2000-02-03 |
DE69719683D1 (de) | 2003-04-17 |
MX9708937A (es) | 1998-05-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10181029A (ja) | インクジェット印刷ヘッド、インクジェット印刷ヘッド用インク・カートリッジ、インクジェット印刷ヘッド・ダイス又はチップの製造方法 | |
US6332677B1 (en) | Stable substrate structure for a wide swath nozzle array in a high resolution inkjet printer | |
EP0705694B1 (en) | Printing system | |
US5648804A (en) | Compact inkjet substrate with centrally located circuitry and edge feed ink channels | |
EP0705693B1 (en) | Ink jet printing system | |
EP0705705B1 (en) | Inkjet print cartridge | |
JP2680184B2 (ja) | サーマル・インク・ジェット・プリントヘッドの製造方法 | |
KR101112533B1 (ko) | 유체 방출 장치 | |
US5568171A (en) | Compact inkjet substrate with a minimal number of circuit interconnects located at the end thereof | |
EP0705706B1 (en) | Ink jet printing system | |
CA2083340C (en) | Efficient conductor routing for inkjet printhead | |
JP4472254B2 (ja) | インクジェットプリントヘッド | |
RU2279983C2 (ru) | Компактная печатающая головка для струйной печати | |
EP3357696B1 (en) | Liquid ejecting head chip, liquid ejecting head, and liquid ejecting apparatus | |
US6520617B2 (en) | Drop emitting apparatus | |
JP3906631B2 (ja) | インクジェットプリンタ | |
JP4595659B2 (ja) | 液滴噴射装置及びその製造方法 | |
JP4274555B2 (ja) | 液体吐出素子基板の製造方法および液体吐出素子の製造方法 | |
JPH11216872A (ja) | インクジェット式プリントヘッドの製造方法 | |
WO2008057334A1 (en) | Inkjet printhead with backside power return conductor | |
US6350018B1 (en) | Ink jet drop ejection architecture for improved damping and process yield | |
JP2006027110A (ja) | 液体吐出素子およびその製造方法 | |
MXPA97008937A (en) | Large systems of chips heaters for impression heads of ink jet | |
JPH0994968A (ja) | インクジェットプリントヘッド | |
JP2006315336A (ja) | 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041115 |
|
A072 | Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073 Effective date: 20050614 |
|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050705 |