JPH10175136A - 真空チャック - Google Patents

真空チャック

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JPH10175136A
JPH10175136A JP35270596A JP35270596A JPH10175136A JP H10175136 A JPH10175136 A JP H10175136A JP 35270596 A JP35270596 A JP 35270596A JP 35270596 A JP35270596 A JP 35270596A JP H10175136 A JPH10175136 A JP H10175136A
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vacuum
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recess
rubber seal
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Juro Tomitaka
十朗 富高
Kunikazu Ishimura
邦和 石村
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 取扱いの簡便なものとする。 【解決手段】 基盤1の平らな上面に真空圧を付与され
る凹み部2及び、半径の異なる複数の環状溝3a、3
b、3c、3d、3eを設け、この際、複数の環状溝は
前記凹み部を取り囲む概ね同心配置状に設け、さらに複
数の環状溝と交差した方向の結合溝4を設け、この結合
溝を介して凹み部と複数の環状溝とを連通させ、複数の
環状溝の任意なものに、これと適合したゴム質シールリ
ングm1、m2、m3、m4、m5が嵌着される構成と
なす。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、工作物を真空圧で
吸着固定させる真空チャックに関する。
【0002】
【従来の技術】真空チャックには、例えば図3に示すよ
うなものが存在しているのであって、その概要を説明す
ると、基盤1の平らな上面に碁盤目状の溝3を形成し、
この溝3内の適当に離れた複数個所には溝3内の空気を
吸引するための吸引孔2a、2b、2cを設けたものと
なされている。
【0003】上記した複数の吸引孔2a、2b、2c
は、一般に、外部の真空ポンプ等の真空圧を付与される
一つの接続口8と連通される。
【0004】このチャックを使用する際は、少なくとも
一つの吸引孔(例えば、2a)を取り囲むようにゴム質
シールコードmを溝3内に嵌着し、このゴム質シールコ
ードmで囲まれた基盤1上面領域を被うように、仮想線
で示す工作物wを載せ、この後、接続口8に真空圧を付
与して、吸引孔2aから前記領域内の空気を吸引させる
ようにする。これにより、前記領域内は真空となり、工
作物wは強力に吸着されるものとなる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記した在来の真空チ
ャックでは、使用しない吸引孔(例えば、2b、2c)
は適当な手段で閉鎖して大気の吸引を阻止しなければな
らず、またゴム質シールコードmを溝3に沿わせて直角
な折れ曲がり状に嵌着することが必要であり、その取扱
いが面倒である。
【0006】また、工作物wに肉厚向きの貫通孔を明け
たり、工作物wの周囲を切削するような場合は、基盤1
を削ることのないように、格別な対策を施すことが必要
である。さらに基盤1から離れた外部の真空ポンプ等か
ら真空圧を付与することは真空領域や流動抵抗が大とな
って、真空の立ち上がりが遅くなる等の不利益がある。
【0007】本発明は、斯かる問題点を解消し得るもの
とした真空チャックを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、基盤の平らな上面に真空圧を付与され
る凹み部及び、半径の異なる複数の環状溝を設け、この
際、複数の環状溝は前記凹み部を取り囲む概ね同心配置
状に設け、さらに複数の環状溝と交差した方向の結合溝
を設け、この結合溝を介して凹み部と複数の環状溝とを
連通させ、複数の環状溝の任意なものに、これと適合し
たゴム質シールリングが嵌着される構成となす。
【0009】この発明に於いて、任意な一つの環状溝に
ゴム質シールリングが嵌着されると、このシールリング
の内方の基盤上面が真空となされる領域となる。従っ
て、大きな半径のゴム質シールリングは大きな吸着面を
提供し、逆に小さな半径のそれは小さな吸着面を提供す
るものとなる。
【0010】上記発明は、基盤の上面に吸着される載置
板を有するものとなすのがよいのであり、この際、載置
板は上面にゴム質シールコードを嵌着される溝及び、ゴ
ム質シールコードで囲まれた基盤上面領域と凹み部とを
連通させるための通気路13、14を形成した構成とな
す。このようにすると、載置板は任意な形態の工作物に
適合した形状の吸着面を提供するほか、切削されても差
し支えない比較的安価な消耗品となり、工作物への貫通
孔の加工や工作物外周面の加工を支障なく簡便に行うこ
とを可能となす。
【0011】また、真空となすべき領域を小さくするた
め、前記凹み部に真空圧を付与するためのエゼクターを
基盤裏面部に内蔵させるのがよい。さらに凹み部の真空
圧を表示させるためのゲイジを、基盤の外面部に装着す
るのがよい。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は本発明のチャックを示す斜
視図、図2はこのチャックの基盤に載置板を載せた状態
を示す斜視図である。
【0013】これらの図に於いて、1はアルミ合金等の
非磁性体で形成した方形状の基盤である。この基盤1は
上面を平坦面となし、裏面をその周囲を除いて大きな窪
み状となし、また左右側面に段部1aを設けてなる。
【0014】2は基盤1上面の中央部に設けた比較的小
さな縦孔状の凹み部である。この凹み部2を取り囲む領
域の基盤1上面には、概ね同心配置状となされた半径の
異なる5つの環状溝3a、3b、3c、3d、3eが設
けてある。
【0015】4は各環状溝3a、3b、3c、3d、3
eに交差するように基盤1上面に設けた結合溝で、各環
状溝3a、3b、3c、3d、3eと凹み部2とを連通
させるものである。この際、各環状溝3a、3b、3
c、3d、3eと結合溝4は同じ深さとなし、これらの
断面形状は例えば方形とか円弧状等となす。
【0016】5は基盤1裏面の窪み状個所に設けたエゼ
クターであり、これの吸引口は通気管6を介して前記凹
み部2の下端と接続させ、圧縮空気吹き込み口は基盤1
前面に固定された外部接続口ユニット7に通気管8を介
して接続させる。ここに、外部接続ユニット7は外部の
圧縮空気源と接続される接続口8や、内方の圧縮空気通
路を開閉するための空気入口弁9を具備したものとな
す。
【0017】10は通気管6内の真空度を表示させるた
めの圧力ゲイジである。11(図2参照)は基盤1上面
に必要に応じて載せられる載置板で、基盤1と同様にア
ルミ合金などの非磁性体で形成するのがよい。
【0018】この載置板11は任意な大きさ及び形状と
なしてよいもので、上面にはこれに載せるべき工作物w
に適合した任意な形状の溝12を設け、また中央部には
前記凹み部2と連通される縦透孔13を設け、さらにこ
の透孔13と溝12、12を連通させるための結合溝1
4を設けるようになされる。
【0019】上記の如く構成した本発明品の使用例及び
その作用を説明すると、次の通りである。作業者は各環
状溝3a、3b、3c、3d、3eに適合した寸法のゴ
ム質シールリングm1、m2、m3、m4、m5と、載
置板11の溝12に嵌着するためのゴム質シールコード
を用意する。この際、ゴム質シールリング3a、3b、
3c、3d、3eは市販のOリングパッキン等であって
もよい。
【0020】そして、基盤1は工作機械の作業テーブル
の上面に固定し、接続口8を圧縮空気源にホース等で結
合させる。
【0021】この状態の下で、工作物の下面の大きさよ
りも少し小さな寸法のゴム質シールリング(例えば、m
1)を選択してこれに合致した環状溝(例えば、3a)
に嵌着し、続いてこのゴム質シールリングm1を被うよ
うに工作物(例えば、プラスチック、セラミック、チタ
ニウム合金、非磁性ステンレス等の材料からなるもの)
を載せる。この際、環状溝3b、3c,3d、3eに環
着されるゴム質シールリングm2、m3、m4、m5は
結合溝4を密状に仕切り、またゴム質シールリングm1
は結合溝4を仕切ることなく、その内方領域を密閉空間
となす。
【0022】この後、空気入口弁9を開放するのであ
る。これにより、エゼクター5は圧縮空気吹き込み口に
圧縮空気を供給され、その吸引口からゴム質シールリン
グm1の嵌着された環状溝3aの内方側の基盤1上面領
域の空気を凹み孔2及び通気管6を介して吸引する。こ
の吸引により、ゴム質シールリングm1の内方側の基盤
1上面領域は真空となって工作物の下面を吸着し、工作
物は基盤1に強力に固定された状態となる。
【0023】この固定状態では、工作物の下面と基盤1
の上面は殆ど密着した状態となるため、特に図1に示す
ように環状溝に嵌着されたゴム質シールリングの寸法が
大きいものではその内方領域全体の空気を吸引し難くな
る傾向となるが、この内方領域内には結合溝4のほか、
ゴム質シールリングの嵌着されてない嵌状溝が存在する
こととなるため、これらが空気吸引路として作用し、前
記内方領域全体の空気の吸引を円滑に行わせ、その領域
全体の真空を安定的に維持するものとなる。
【0024】これらの準備の後、作業者は工作物の吸着
固定を圧力ゲイジ10の指針の示度等で判断した後、工
作機械に工作物の加工を開始させる。そして加工が終了
したとき、空気入口弁9を閉鎖する。これにより、ゴム
質シールリングm1内方側の基盤1上面領域にはエゼク
ター5の空気放出口から大気が流入し、真空によるその
吸着力は消失し、工作物は基盤1から容易に取り外せる
状態となる。
【0025】基盤1に刃具が届かない加工では上記の使
用で足りるが、そうでない場合は、任意な一つの環状溝
に適宜なゴム質シールリングを嵌着し、これの上に図2
に示すように載置板11を載せる。そして、仮想線で示
す工作物wに適合させて形成した、載置板11上面の何
れかの溝12内にゴム質シールコードを嵌着し、続いて
これを被うように工作物wを載せた後、空気入口弁9を
開放する。
【0026】これにより、エゼクター5はゴム質シール
リング内方側の基盤1上面領域の空気や、ゴム質シール
コード内方側の載置板11上面領域の空気を凹み部2、
結合溝4、環状溝、縦透孔13及び結合溝14等を経て
吸引する。この吸引により、前記基盤1上面領域及び載
置板11上面領域は真空となり、載置板11は基盤1
に、そして工作物wは載置板11に吸着固定されるもの
となり、工作物wは強力に基盤1と同体に固定された状
態となる。
【0027】この後、工作物wの加工を開始するのであ
り、この際、載置板11は消耗品として廃棄しても経済
的損失が少ないため、工作物wの真空吸着を破壊しない
限り、載置板11に工作機械の刃具が届くような深い加
工を行うことを可能となす。図2に示すような工作物w
に於ける深い加工としては、例えばその外周部w1に縦
向きの貫通孔を明けたり、その外周端面w2を切削する
等の処理がある。
【0028】本発明品は複数並べて使用してもよいので
あり、このようにすれば、吸着面積を任意に増大させる
ことができて任意な大きさの工作物を吸着固定させるこ
とができる。この場合、図1に実線で示すような基盤1
のほか、仮想線k1で示すような基盤を作成し、これの
段部aが前記段部1aと雌雄の関係となって嵌合される
ものとなすのがよい。
【0029】
【発明の効果】以上の如く構成した本発明によれば、予
め用意したゴム質シールリングの一つを任意な環状溝に
嵌着するだけで、種々の大きさの工作物を吸着固定させ
ることができ、取扱いを簡便となすものである。
【0030】請求項2に記載のものによれば、載置板に
届くような深い加工を行うことができ、例えば工作物に
貫通孔を明けたり、工作物の外周を切削すること等が可
能となる。
【0031】請求項3に記載のものによれば、真空とな
される通気路が短くなって小さなエゼクターでも真空が
早く立ち上がり、また外部に真空発生装置を設ける必要
のないものとなる。
【0032】請求項4に記載のものによれば、ゲイジに
表示された真空圧が工作物の把握状態を示すものとな
り、工作物の安全な加工に寄与するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のチャックを示す斜視図である。
【図2】本発明に係り、載置板を付加したチャックを示
す斜視図である。
【図3】従来の真空チャックを示す図である。
【符号の説明】
1 基盤 2 凹み部 3a、3b、3c、3d、3e 環状溝 4 結合溝 5 エゼクター 11 載置板 12 溝 13 縦透孔(通気路) 14 結合溝(通気路) m1、m2、m3、m4、m5 ゴム質シールリング

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基盤の平らな上面に真空圧を付与される
    凹み部及び、半径の異なる複数の環状溝を設け、この
    際、複数の環状溝は前記凹み部を取り囲む概ね同心配置
    状に設け、さらに複数の環状溝と交差した方向の結合溝
    を設け、この結合溝を介して凹み部と複数の環状溝とを
    連通させ、複数の環状溝の任意なものに、これと適合し
    たゴム質シールリングが嵌着される構成としたことを特
    徴とする真空チャック。
  2. 【請求項2】 基盤の上面に吸着される載置板を有し、
    この載置板は上面にゴム質シールコードを嵌着される溝
    及び、ゴム質シールコードで囲まれた領域と凹み部とを
    連通させるための通気路を形成した構成であることを特
    徴とする請求項1記載の真空チャック。
  3. 【請求項3】 凹み部に真空圧を付与するためのエゼク
    ターを、基盤裏面部に内蔵させたことを特徴とする請求
    項1又は2記載の真空チャック。
  4. 【請求項4】 凹み部の真空圧を表示させるためのゲイ
    ジを、基盤の外面部に装着したことを特徴とする請求項
    1、2又は3記載の真空チャック。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005059173A (ja) * 2003-08-18 2005-03-10 Yoshioka Seiko:Kk 吸着装置及びチャックテーブル
JP2007083354A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Seiwa Seiki:Kk ワーク吸着保持装置
JP2008022915A (ja) * 2006-07-18 2008-02-07 Aruze Corp 遊技盤の形成方法
KR100955174B1 (ko) 2008-02-01 2010-04-29 임권현 진공척 기능을 가지는 마그네틱척
CN102837212A (zh) * 2012-09-17 2012-12-26 苏州珈玛自动化科技有限公司 一种内置真空发生器的吸附治具
KR20170104040A (ko) * 2016-03-03 2017-09-14 에이피시스템 주식회사 Ela 장치용 기판 지지모듈
US10259241B2 (en) 2013-04-04 2019-04-16 Nike, Inc. Vacuum cylinder with recessed portions for holding articles for printing
CN113977973A (zh) * 2021-09-27 2022-01-28 株洲时代新材料科技股份有限公司 一种隔震支座自动热切快装方法及自动热切快装生产线
JP2022532832A (ja) * 2019-03-25 2022-07-20 ケーエルエー コーポレイション 撓んだ半導体ウェハを平坦化する真空押え付け装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101578195B1 (ko) * 2015-04-03 2015-12-16 장진희 공작물용 정위치 지그장치

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005059173A (ja) * 2003-08-18 2005-03-10 Yoshioka Seiko:Kk 吸着装置及びチャックテーブル
JP2007083354A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Seiwa Seiki:Kk ワーク吸着保持装置
JP2008022915A (ja) * 2006-07-18 2008-02-07 Aruze Corp 遊技盤の形成方法
KR100955174B1 (ko) 2008-02-01 2010-04-29 임권현 진공척 기능을 가지는 마그네틱척
CN102837212A (zh) * 2012-09-17 2012-12-26 苏州珈玛自动化科技有限公司 一种内置真空发生器的吸附治具
US10259241B2 (en) 2013-04-04 2019-04-16 Nike, Inc. Vacuum cylinder with recessed portions for holding articles for printing
KR20170104040A (ko) * 2016-03-03 2017-09-14 에이피시스템 주식회사 Ela 장치용 기판 지지모듈
JP2022532832A (ja) * 2019-03-25 2022-07-20 ケーエルエー コーポレイション 撓んだ半導体ウェハを平坦化する真空押え付け装置
CN113977973A (zh) * 2021-09-27 2022-01-28 株洲时代新材料科技股份有限公司 一种隔震支座自动热切快装方法及自动热切快装生产线

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