JPH10170713A - カラーペーストおよびカラーフィルターとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】透過性および耐溶剤性の向上した着色ペース
ト、該着色ペーストを使用した液晶表示装置や撮像素子
用のカラーフィルターを提供する。 【解決手段】ポリアミック酸、溶剤、着色剤を含有する
着色ペーストにおいて、シクロヘキシル環を有するポリ
アミック酸を用いることを特徴とする着色ペースト。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
や撮像素子などに用いられる、カラーフィルターに関す
るものであり、さらに詳しくは、ポリイミドと顔料を用
いて形成されたカラーフィルターに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイや撮像素子などに用い
られるカラーフィルターとして、耐光性、耐熱性、耐薬
品性に優れたポリイミドと顔料を用いて形成されたカラ
ーフィルターが知られている（例えば特開昭６０−１８
４２０２号公報、特開昭６０−１８４２０３号公報、特
開昭６１−１８０２０３号公報）。

【０００３】カラ−フィルターを作成する場合、通常、
印刷法かフォトリソグラフィ法が用いられるが、画素の
寸法精度の点でフォトリソグラフィ法が現在、主流とな
っている。ここでポリイミドと顔料を用いフォトリソグ
ラフィ法でカラーフィルターを作成するには、例えば特
開昭６０−２４７６０３号公報や特開昭６１−７７８０
４号公報に示されるごとく、ポジ型フォトレジストを用
いるパターン加工技術が知られている。このパターン加
工技術は、ガラス基板上にポリアミック酸と顔料から構
成されてなる着色ペーストで例えばＧ（緑）の着色塗膜
を形成し、この上にポジ型フォトレジストを塗布し、フ
ォトレジスト層を形成する。続いて露光装置を用い、該
フォトレジスト層を露光する。露光後、該ポジ型フォト
レジストの現像液で、フォトレジスト層の現像、ポリア
ミック酸の着色塗膜のエッチングを同時に行う。そし
て、エッチング後不要となった該フォトレジスト層を剥
離し、ポリアミック酸の着色塗膜を熱処理し、Ｇ（緑）
の着色塗膜のパターン加工を終える。以上の工程をＲ
（赤），Ｂ（青）の画素および必要に応じてブラックマ
スク（黒）について繰り返すと、カラーフィルターが作
成される。

【０００４】印刷法、フォトリソグラフィ法とも、ガラ
ス基板上にポリアミック酸と顔料から構成されてなる着
色ペーストで着色塗膜を形成する。この時Ｂ（青）の画
素の場合、無色透明で、透過率が高いポリイミドが要求
される。ところが従来の技術ではポリイミドが黄色に着
色し、Ｂ（青）の色特性が低下する問題があった。ま
た、無色透明なポリイミドの場合、ポリアミック酸の溶
剤であるＮ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラク
トンで溶解したり、クラックが生じたりし、カラーフィ
ルターを製造する際の加工上の問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の欠点に鑑み創案されたもので、その目的とすると
ころは、ポリアミック酸の構造を最適化することによ
り、透過性および耐溶剤性の向上した着色ペースト、該
着色ペーストを使用した液晶表示素子や撮像素子用のカ
ラーフィルターを提供せんとすることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は次のような構成をとる。すなわちポリアミック
酸、溶剤、着色剤を含有する着色ペーストにおいて、シ
クロヘキシル環を有するポリアミック酸を用いることを
特徴とする着色ペーストである。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明におけるポリアミック酸と
は、一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポ
リマで、加熱あるいは適当な触媒により、イミド環や、
その他の環状構造を有するポリマとなり得るものであ
る。

【０００８】

【化１】 上記一般式（１）において、Ｒ¹ がテトラカルボン酸残
基を表し、Ｒ² がジアミン残基を表す。

【０００９】Ｒ¹ を構成するシクロヘキシル環を有する
酸二無水物の例として、シクロヘキシルテトラカルボン
酸二無水物、ジシクロヘキシルメタンテトラカルボン酸
二無水物、ジシクロヘキシルスルホンテトラカルボン酸
二無水物、ジシクロヘキシルエーテルテトラカルボン酸
二無水物などが挙げられるが、これらに限定されない。
また、透明性と耐溶剤性を損なわない範囲で他の環状炭
化水素、芳香族環又は芳香族複素環を含む酸二無水物、
ジアミンを共重合させることができる。他の酸二無水物
の例としては、ピロメリット酸二無水物、３,３´,４,
４´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３,３´,
４,４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
３,３´,４,４´−ビフェニルトリフルフォロプロパン
テトラカルボン酸二無水物、３,３´,４,４´−ビフェ
ニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３,３´,４,
４´−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、
２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物
などが挙げられるが、これらに限定されない。

【００１０】Ｒ² を構成するシクロヘキシル環を有する
ジアミンの例として、１,４−シクロヘキシルジアミ
ン、１,３−シクロヘキシルジアミン、ジアミノジシク
ロヘキシルメタンなどが挙げられるが、これらに限定さ
れない。また、透明性と耐溶剤性を損なわない範囲で他
の環状炭化水素、芳香族環又は芳香族複素環を含むジア
ミンを共重合させることができる。他のジアミンの例と
しては、３,３´−（または４,４´）ジアミノジフェニ
ルスルホン、４,４´−ジアミノジフェニルスルフィ
ド、パラフェニレンジアミン、３,３´−（または４,４
´）ジアミノジフェニルエーテルなどが挙げられるが、
これらに限定されない。

【００１１】構造単位（１）を主成分とするポリマは、
Ｒ¹ 、Ｒ² がシクロヘキシル基である化合物から構成さ
れてもよいし、Ｒ¹ 、Ｒ² がシクロヘキシル基である化
合物とシクロヘキシル基でない前記の化合物のうち各々
１種以上を１０：０〜１：９、好ましくは１０：０〜
２：８、さらに好ましくは１０：０〜５：５の範囲の重
量比で混合されて構成される共重合体であってもよい。

【００１２】さらに、基板との接着性を向上させるため
に、耐熱性を低下させない範囲でジアミン成分として、
シロキサン構造を有するビス（３−アミノプロピル）テ
トラメチルジシロキサンを共重合してもよい。シクロヘ
キサンジアミンは通常、全ジアミン中の１〜２０モル％
量用いる。シロキサンジアミンの量が少なすぎれば接着
性向上効果が発揮されず、多すぎれば耐熱性が低下す
る。本発明はこれらに限定されずにシロキサンジアミン
を１種または２種以上用いられる。

【００１３】これらのポリアミド酸は公知の方法すなわ
ち、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを選択的に組
み合わせ、溶媒中で反応させることにより合成される。
通常ポリアミド酸合成の溶媒としてＮ−メチル−２−ピ
ロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドなどのアミド系極性溶媒が使用され
る。

【００１４】ポリアミック酸、溶剤、着色剤を含有する
Ｂ（青）着色ペーストにおいて、従来のペーストだとポ
リアミック酸の着色塗膜を熱処理する時にそのポリイミ
ド膜が着色しＢ（青）着色塗膜の透過率を小さくしてし
まうが、該ポリアミック酸のテトラカルボン酸残基およ
び／またはジアミン残基がシクロヘキシル環を有するポ
リアミック酸からなるＢ（青）着色ペーストを用いるこ
とにより、そのポリイミド膜の着色を小さく抑え、Ｂ
（青）着色塗膜の透過率の低下を小さく抑えることがで
きる。

【００１５】本発明に用いられる顔料としては、透明性
が高く、耐光性、耐熱性、耐薬品性に優れたものが好ま
しい。代表的な顔料の具体的な例をカラーインディクス
（ＣＩ）ナンバーで示す。黄色顔料の例としてはピグメ
ントイエロー１７、２４、８３、９３、９４、１０９、
１１０、１３８、１４７、などが挙げられるがこれらに
限定されない。オレンジ色顔料の例としてはピグメント
オレンジ１３、３６、４３、６１、６４、６５、などが
挙げられるがこれらに限定されない。赤色顔料の例とし
てはピグメントレッド４８、１４４、１６６、１７７、
２１６、２２４、などが挙げられるがこれらに限定され
ない。紫色顔料の例としてはピグメントバイオレット１
９、２３、３２、３７、などが挙げられるがこれらに限
定されない。青色顔料の例としてはピグメントブルー１
５、１５：３、１５：４、１５：６、６０、などが挙げ
られるがこれらに限定されない。緑色顔料の例としては
ピグメントグリーン７、３６、などが挙げられるがこれ
らに限定されない。黒色顔料の例としてはピグメントブ
ラック７、などが挙げられるがこれらに限定されない。
これらの顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸性基処
理、塩基性処理などの表面処理がされていることが望ま
しい。

【００１６】上記顔料はカラ−フィルタ−のＲ（赤）、
Ｇ（緑）、Ｂ（青）３色の画素がＣＲＴ蛍光体の色度特
性、バックライトやＬＣＤの液晶特性に合うよう数色組
み合わせて調色され使用される。

【００１７】本発明のペ−ストにおいて、ポリアミック
酸と顔料（もしくは遮光剤）は、通常、重量比で１：９
〜９：１、好ましくは２：８〜８：２、より好ましくは
３：７〜７：３の範囲で混合して用いられる。ポリアミ
ック酸の量が少なすぎると、着色被膜と基板との接着性
が不良となり、逆に顔料の量が少なすぎると着色度が問
題となる。また、該ペーストにおいては、塗工性、乾燥
性などの観点から、ポリアミック酸、顔料をあわせた固
形分濃度は、２〜３０％、好ましくは３〜２５％、さら
に好ましくは５〜２０％の範囲で使用する。

【００１８】これらの顔料はポリアミック酸溶液と混合
することにより、着色ペーストを得る。この場合、顔料
はポリアミック酸溶液中で分散しても良く、あるいは顔
料をあらかじめ溶媒で分散後、ポリアミック酸溶液と混
合しても良い。これら製造方法の選択については、顔料
の種類により、適宜、適当なものを選ぶことが好まし
い。また、顔料の分散方法は特に限定されず、ボールミ
ル、サンドグラインダー、３本ロールミル、高速度衝撃
ミルなど、種々の方法がとりうる。

【００１９】本発明のペーストには、塗布性、着色被膜
の乾燥性の改良、あるいは、顔料（もしくは遮光剤）の
分散性を良好にする目的で、本発明のペーストに界面活
性剤を添加することもできる。界面活性剤の添加量は通
常、顔料の０．００１〜１０重量％、好ましくは、０．
０１〜１重量％である。添加量が少なすぎると塗布性、
着色被膜の乾燥性の改良、あるいは顔料の分散性の改良
の効果がなく、多すぎると逆に塗布性が不良となった
り、顔料の凝集が起こる。界面活性剤の具体例として
は、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオ
ン界面活性剤、ステアリルアミンアセテート、ラウリル
トリメチルアンモニウムクロライドなどの陽イオン界面
活性剤、ラウリルジメチルアミンオキサイド、ラウリル
カルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタ
インなどの両性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリ
ルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、
ソルビタンモノステアレートなどの非イオン界面活性剤
などが挙げられる。本発明ではこれらに限定されずに、
界面活性剤が１種または２種以上用いることができる。
界面活性剤の添加は、顔料の分散工程中またはその工程
前後のどの時点でも行うことができる。しかし、添加の
時点により顔料の分散性が変わる場合があるので、注意
を要する。

【００２０】次に本発明のカラーフィルターの製造使用
方法の一例について説明する。基板上にポリイミド前駆
体と顔料から構成されてなる着色液で例えばＧ（緑）の
着色塗膜を形成する。基板としては通常、ソーダガラ
ス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス
などが用いられるが、これらに限定されない。塗布はス
ピンナ−、スプレ−塗布、浸漬、ロールコーティング、
バーコーティング、ダイコーティングなどの方法が用い
られる。乾燥は、オーブン、ホットプレート、赤外線を
使用し、５０〜１８０℃の範囲で数秒〜数時間行なうの
が好ましい。この上にパターン形成用のフォトレジスト
を塗布し、フォトレジスト層を形成する。続いて露光装
置を用い、該フォトレジスト層被膜上にマスクを置き、
化学線を照射し、露光する。化学線としては紫外線、可
視光線、電子線、Ｘ線が例としてあげられるが、紫外
線、可視光線が好ましい。ポジ型フォトレジストを用い
た場合には露光後、該ポジ型フォトレジストの現像液
で、フォトレジスト層の現像、ポリイミド前駆体の着色
塗膜のエッチングを同時に行う。エッチング後不要とな
った該フォトレジスト層を剥離する。通常、剥離はアセ
トン、セロソルブ系などの溶剤が使用される。ポリイミ
ド前駆体の着色塗膜を熱処理し、Ｇ（緑）の着色塗膜の
パターン加工を終える。熱処理は温度を選び、段階的に
昇温するかある温度範囲を選び連続的に昇温しながら５
分〜５時間実施する。この熱処理の最高温度は、１８０
〜４００℃、好ましくは、１８０〜３５０℃で行うのが
よい。例えば、１３０℃、２００℃、３００℃で各々３
０分熱処理する。また、室温から３００℃まで２時間か
けて直線的に昇温してもよい。

【００２１】以上の工程をＲ（赤），Ｂ（青）の画素お
よび必要に応じてブラックマスク（黒）について繰り返
すと、カラーフィルターが作成される。

【００２２】

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。

【００２３】また、実施例における測定法は以下の通り
である。

【００２４】＜色度＞大塚電子（株）製ＭＣＰＤ２００
０にて三刺激値Ｘ，Ｙ，Ｚと色度ｘ，ｙを測定した。
（測定条件 基板：ＯＡ−２（日本電気硝子（株）
製）、光源：Ｃ光源）実施例におけるポリアミック酸の
原料および溶媒は以下の通りである。

【００２５】ＢＰＤＡ：３,３´,４,４´−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、ＢＴＤＡ：３,３´,４,４
´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ＰＭＤ
Ａ：ピロメリット酸二無水物、１,４−ＣＨＡ：１,４−
シクロヘキシルジアミン、１,３−ＣＨＡ：１,３−シク
ロヘキシルジアミン、４,４´−ＤＡＥ：４,４´−ジア
ミノジフェニルエーテル、３,３´−ＤＤＳ：３,３´−
ジアミノジフェニルスルホン、ＳｉＤＡ：ビス−３−
（アミノプロピル）テトラメチルシロキサン、ＮＭＰ：
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ＢＬ：γ−ブチロラ
クトン、ソルフィットＡＣ：３−メチル−３−メトキシ
ブチルアセテート 実施例１ 温度計、乾燥窒素導入口、温水、冷却水による加熱、冷
却装置、および、攪拌装置を付した３Ｌの反応釜に、Ｎ
ＭＰ：１６４０．４ｇ、１,４−ＣＨＡ：１０８．５ｇ
（０．９５ｍｏｌ）、ＳｉＤＡ：１２．４ｇ（０．０５
ｍｏｌ）投入し、釜を３０℃に加熱した。３０分後、Ｂ
ＰＤＡ：２９４．２ｇ（１ｍｏｌ）を投入し、釜を６０
℃で６時間加熱することにより、重量濃度が２０重量％
となるポリアミック酸のＮＭＰ溶液（Ａ１）を得た。

【００２６】得られたポリアミック酸ワニス：１１．２
１ｇ、ＮＭＰ：２０．５４ｇ、ソルフィットＡＣ：６．
９３ｇ、１％非イオン性界面活性剤：０．１９ｇを混合
し、５．７７重量％の希釈ワニスを得た。

【００２７】ピグメントブルー（東洋インキ（株）製リ
オノ−ルブルーＥＳＰ）：１．５６ｇ、ＮＭＰ：９．５
７ｇを、ガラスビーズ：１１.１３ｇを混合してホモジ
ナイザーで処理し、１４重量％の顔料分散液を得た。

【００２８】得られた顔料分散液：１１．１３ｇ、希釈
ワニス：３８．８７ｇを混合し、７．６重量％の着色ペ
ースト（Ｂ１）を得た。

【００２９】着色ペースト（Ｂ１）をガラス基板上に仕
上がり膜厚１．１μｍになるようにスピンナーで塗布
し、１２０℃で２０分間オーブンを用いて空気中で乾燥
した後、２９０℃で４０分間オーブンを用いて空気中で
熱処理し、膜厚１．１μｍのポリイミド着色被膜を得
た。

【００３０】実施例２ 温度計、乾燥窒素導入口、温水、冷却水による加熱、冷
却装置、および、攪拌装置を付した３Ｌの反応釜に、Ｎ
ＭＰ：１６４０．４ｇ、１,４−ＣＨＡ：８６．８ｇ
（０．７６ｍｏｌ）、１,３−ＣＨＡ：２１．７ｇ
（０．１９ｍｏｌ）、ＳｉＤＡ：１２．４ｇ（０．０５
ｍｏｌ）を投入し、釜を３０℃に加熱した。３０分後、
ＢＰＤＡ：２９４．２ｇ（１ｍｏｌ）を投入し、釜を６
０℃で６時間加熱することにより、重量濃度が２０重量
％となるポリアミック酸のＮＭＰ溶液（Ａ２）を得た。

【００３１】得られたポリアミック酸ワニス：１１．２
１ｇ、ＮＭＰ：２０．５４ｇ、ソルフィットＡＣ：６．
９３ｇ、１％非イオン性界面活性剤：０．１９ｇを混合
し、５．７７重量％の希釈ワニスを得た。

【００３２】ピグメントブルー（東洋インキ（株）製リ
オノ−ルブルーＥＳＰ）：１．５６ｇ、ＮＭＰ：９．５
７ｇを、ガラスビーズ：１１.１３ｇを混合してホモジ
ナイザーで処理し、１４重量％の顔料分散液を得た。

【００３３】得られた顔料分散液：１１．１３ｇ、希釈
ワニス：３８．８７ｇを混合し、７．６重量％の着色ペ
ースト（Ｂ２）を得た。

【００３４】着色ペースト（Ｂ２）をガラス基板上に仕
上がり膜厚１．１μｍになるようにスピンナーで塗布
し、１２０℃で２０分間オーブンを用いて空気中で乾燥
した後、２９０℃で４０分間オーブンを用いて空気中で
熱処理し、膜厚１．１μｍのポリイミド着色被膜を得
た。

【００３５】実施例３ 温度計、乾燥窒素導入口、温水、冷却水による加熱、冷
却装置、および、攪拌装置を付した３Ｌの反応釜に、Ｎ
ＭＰ：１６４０．４ｇ、１,４−ＣＨＡ：６５．１ｇ
（０．５７ｍｏｌ）、１,３−ＣＨＡ：４３．４ｇ
（０．３８ｍｏｌ）、ＳｉＤＡ：１２．４ｇ（０．０５
ｍｏｌ）を投入し、釜を３０℃に加熱した。３０分後、
ＢＰＤＡ：２９４．２ｇ（１ｍｏｌ）を投入し、釜を６
０℃で６時間加熱することにより、重量濃度が２０重量
％となるポリアミック酸のＮＭＰ溶液（Ａ３）を得た。

【００３６】得られたポリアミック酸ワニス：１１．２
１ｇ、ＮＭＰ：２０．５４ｇ、ソルフィットＡＣ：６．
９３ｇ、１％非イオン性界面活性剤：０．１９ｇを混合
し、５．７７重量％の希釈ワニスを得た。

【００３７】ピグメントブルー（東洋インキ（株）製リ
オノ−ルブルーＥＳＰ）：１．５６ｇ、ＮＭＰ：９．５
７ｇを、ガラスビーズ：１１.１３ｇを混合してホモジ
ナイザーで処理し、１４重量％の顔料分散液を得た。

【００３８】得られた顔料分散液：１１．１３ｇ、希釈
ワニス：３８．８７ｇを混合し、７．６重量％の着色ペ
ースト（Ｂ３）を得た。

【００３９】着色液（Ｂ３）をガラス基板上に仕上がり
膜厚１．１μｍになるようにスピンナーで塗布し、１２
０℃で２０分間オ−ブンを用いて空気中で乾燥した後、
２９０℃で４０分間オーブンを用いて空気中で熱処理
し、膜厚１．１μｍのポリイミド着色被膜を得た。

【００４０】比較例１ ワニスポリマにＢＴＤＡ：７５モル％、ＰＭＤＡ：２５
モル％、４,４´−ＤＡＥ：５０モル％、３,３´−ＤＤ
Ｓ：４５モル％、ＳｉＤＡ５モル％のポリアミック酸γ
−ＢＬ溶液（Ａ４）を用いて、全く同様にして着色ペー
スト（Ｂ４）を調製し、膜厚１．１μｍのポリイミド着
色被膜を得た。

【００４１】比較例２ ワニスポリマにＢＰＤＡ：１００モル％、４,４´−Ｄ
ＡＥ：９５モル％、ＳｉＤＡ：５モル％のポリアミック
酸γ−ＢＬ／ＮＭＰ溶液（Ａ５）を用いて、全く同様に
して着色ペースト（Ｂ５）を調製し、膜厚１．１μｍの
ポリイミド着色被膜を得た。

【００４２】ワニス溶液Ａ１〜Ａ５のポリイミド被膜の
色特性を表１に示す。ここで、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺはJI
S Z 8105に基づいた表色系であり、この三刺激値から色
度ｘ、ｙが求められる。ポリイミド被膜は着色すると短
波長側の吸収が大きくなるため、Ｘ、Ｙ、ＺのうちＺが
最も大きく影響を受け、ポリイミド膜の着色が大きけれ
ばＺは小さくなるし、着色が小さければＺは大きくな
る。本発明のＡ１、Ａ２、Ａ３のポリイミド被膜は刺激
値Ｚが大きく、透過性が高い。また、Ｃ光源でのホワイ
ト（ｘ＝０．３１０、ｙ＝０．３１６）の色度に近い透
明性を持つことが認められた。

【００４３】

【表１】 また、Ｂ（青）着色ペーストＢ１〜Ｂ５のポリイミド着
色被膜の色特性を表２に示す。Ｂ（青）の透過性につい
ても、ポリイミドの着色による透過率の低下が刺激値Ｚ
に大きく影響するので、Ｚの値が大きいほど透過性が高
いと言える。表２から本発明のＢ１、Ｂ２、Ｂ３の着色
被膜が高い刺激値Ｚの透過性を持つことが認められた。

【００４４】

【表２】 次に、着色液Ｂ１〜Ｂ５のポリイミド被膜を、γ−Ｂ
Ｌ、ＮＭＰをその膜面上に一滴づつ滴下して、２００℃
で３０分放置し、その耐溶剤性を比較した。その結果を
表３に示す。表３からシクロヘキシル環を持つポリイミ
ド被膜が非常に高い耐溶剤性を持つことが認められた。

【００４５】

【表３】

【００４６】

【発明の効果】本発明は、上述のごとく、透過性が高
く、かつ耐溶剤性の良い着色ペーストが得られた。ま
た、該ペーストをカラーフィルターに用いた場合、透過
性が高く、さらに耐溶剤性の良好な特徴を持つカラーフ
ィルターを得ることができる。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリアミック酸、溶剤、着色剤を含有す
   る着色ペーストにおいて、シクロヘキシル環を有するポ
   リアミック酸を用いることを特徴とする着色ペースト。
2. 【請求項２】 ポリアミック酸のジアミン残基がシクロ
   ヘキシル環を有するジアミンであることを特徴とする請
   求項１記載の着色ペースト。
3. 【請求項３】 ジアミン成分が１,４−シクロヘキシル
   ジアミンであることを特徴とする請求項２記載の着色ペ
   ースト。
4. 【請求項４】 ポリアミック酸のテトラカルボン酸成分
   が３,３´,４,４´−ビフェニルテトラカルボン酸二無
   水物であることを特徴とする請求項１記載の着色ペース
   ト。
5. 【請求項５】 透明基板上に請求項１〜４のいずれかに
   記載の着色ペーストを塗布して着色層を形成する工程を
   含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
6. 【請求項６】 請求項１〜４に記載のカラーフィルター
   用着色ペーストを使用したことを特徴とするカラーフィ
   ルター。
7. 【請求項７】 請求項６記載のカラーフィルターを用い
   て作製されていることを特徴とする液晶表示装置。