JPH10158246A

JPH10158246A - 新規除草剤

Info

Publication number: JPH10158246A
Application number: JP9312636A
Authority: JP
Inventors: Kurt Nebel; ネーベルクルト; Juraj Tuleja; トゥレヤイュラーイ; Georg Pissiotas; ピソータスゲオルク; Hans-Georg Brunner; ブルナーハンス−ゲオルク
Original assignee: Ciba Geigy AG; Novartis AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1996-10-29
Filing date: 1997-10-29
Publication date: 1998-06-16
Also published as: EP0839808A1; CA2219269A1; MX9708320A; US6339046B1

Abstract

(57)【要約】【課題】出芽前および出芽後施用した時に優れた選択
的除草性を有する新規置換ピラゾール誘導体を提供す
る。【解決手段】本発明は、式Ｉの化合物：【化１】（上式中、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｗ，Ｒ₄〜Ｒ₆，Ｒ₆₀，
Ｒ₆₁，Ｒ₇₀，Ｘ₁，Ｘ₂，ｎ₁およびＡ₁−Ｂ₁は明細
書中に定義される意味である）、それらの化合物のピラ
ゾールＮ−オキシド、作物栽培学上許容される塩および
立体異性体であって、下式【化２】の化合物を除いた化合物を提供する。それらの化合物の
調製および除草剤活性成分としてのそれらの使用も記載
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、除草活性を有する
新規置換ピラゾール誘導体、それらの調製方法、それら
の化合物を含んで成る組成物、並びにそれらの使用、特
に有用植物の作物、例えば穀物、トウモロコシ、米、
綿、大豆、なたね、モロコシ類、サトウキビ、サトウダ
イコン、ヒマワリ、野菜類および飼料用植物において雑
草を防除するための、または植物の生長を抑制するため
の使用に関する。

【０００２】

【従来の技術】除草活性ピロゾール化合物は、例えば、
特開平第３−９３７７４号、特開平第２−３００１７３
号、特開平第３−７２４６０号公報（以上日本国）、欧
州特許公開第０３６１１１４号公報および国際公開第Ｗ
Ｏ９６／０１２５４号公報中に開示され説明されてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】除草性と生長抑制性を
有する新規置換ピラゾール誘導体をたった今発見した。

【０００４】

【課題を解決するための手段】従って、本発明は、式Ｉ
の化合物

【化４０】｛上式中、Ｒ₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり；Ｒ₂はシ
アノまたはＮＨ₂Ｃ（Ｓ）−であり；Ｒ₃は水素、Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃もしく
はＣ₄アルケニル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルキニル、Ｃ₃
〜Ｃ₈ハロアルケニル、ＮＣ−ＣＨ₂−、ＨＯＣ（Ｏ）
−ＣＨ₂−、またはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ（Ｏ）−
ＣＨ₂−であり；Ｗは

【化４１】であり；Ｒ₄は水素、フッ素、塩素、臭素またはメチル
であり；Ｒ₅は水素、ハロゲン、メチル、エチル、シア
ノ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ、ヒドロキ
シ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、ＨＯＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシ、ＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
シ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
コキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、ＨＯＣ
（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
シカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、ベンジルオキ
シ、またはハロゲンにより、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより
もしくはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルにより単置換〜三置換
されているベンジルオキシであり；Ｒ₆は水素、ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、アミノ、ＣｌＳ（Ｏ）₂−、Ｒ₁₀
ＮＨまたはＲ₁₀Ｒ₁₁Ｎであり〔ここでＲ₁₀およびＲ₁₁は
互いに独立にＣ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃ハロアルケニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
ルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ
₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、ベンゾイル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりも
しくはハロゲンにより単置換〜三置換されているベンゾ
イル、あるいはベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルに
より、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハロゲン
により単置換〜三置換されているベンジルである〕；あ
るいはＲ₆は−ＯＲ₂₀であり〔ここでＲ₂₀は水素、Ｃ₁
〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈ア
ルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、

【化４２】、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ル、

【化４３】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルケニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ
₄アルキルアミノ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ジ−Ｃ₁〜Ｃ
₄アルキルアミノ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ
₁〜Ｃ₄アルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、

【化４４】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｃ（Ｏ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）
₂−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、

【化４５】、またはフェニル、ベンジル、ピリジル、ピリミジニ
ル、ピラジニルもしくはピリダジニルであって、前記芳
香族環および複素環式芳香族環はＣ₁〜Ｃ₄アルキルに
より、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハロゲン
により単置換〜三置換されていてもよく；またはＲ₂₀は
Ｒ₂₁ＸＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキルまたは

【化４６】であり；Ｘは酸素、硫黄またはＲ₂₂Ｎであり；Ｒ₂₁は水
素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃
〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ
₆シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄
アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜三
置換されているフェニル、ベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄
アルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜三置換
されているベンジルであり；そしてＲ₂₂は水素、Ｃ₁〜
Ｃ₈アルキルまたはＣ₃〜Ｃ₈アルケニルである〕；あ
るいはＲ₆は−Ｓ（Ｏ）_mＲ₃₀であり〔ここでｍは０，
１または２であり；Ｒ₃₀は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、
Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₁〜
Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロアルケニル、Ｃ₃〜
Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ
₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₈アル
キル、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ
₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜
三置換されているフェニル、ベンジル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハ
ロゲンにより単置換〜三置換されているベンジル、また
はＲ₃₁ＶＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルであり；Ｖは酸
素、硫黄またはＲ₃₂Ｎであり；Ｒ₃₁は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈
アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニル、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルに
よりもしくはハロゲンにより単置換〜三置換されている
フェニル、ベンジル、または、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによ
り、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンに
より単置換〜三置換されているベンジルであり；Ｒ₃₂は
水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキルまたはＣ₃〜Ｃ₈アルケニル
である〕；あるいはＲ₆は

【化４７】であり〔ここでＲ₃₃は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃
〜Ｃ₈アルケニルまたはＣ₃〜Ｃ₈アルキニルであり；
Ｒ₃₄は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニルまたはＣ₁〜Ｃ₄アルキルカ
ルボニルである〕；あるいはＲ₆は−ＣＯＲ₄₀であり
〔ここでＲ₄₀は水素、塩素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₂
〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈
ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₈ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆
シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜三
置換されているフェニル、ベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄
アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしく
はハロゲンにより単置換〜三置換されているベンジルで
ある〕；あるいはＲ₆は−ＣＯＹＲ₅₀であり〔ここでＹ
は酸素、硫黄、Ｒ₅₁ＮまたはＲ₅₄ＯＮであり；Ｒ₅₀は水
素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃
〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、

【化４８】、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロアルケニル、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₁アル
キル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル、

【化４９】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニル、Ｃ
₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによ
りもしくはハロゲンにより単置換〜三置換されているフ
ェニル、ベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルにより、
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより
単置換〜三置換されているベンジルであり、あるいはＣ
₁〜Ｃ₈アルキルカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｒ
₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＲ₅₂ＺＣ
（Ｏ）−Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルであり；Ｚは酸素、
硫黄、Ｒ₅₃ＮまたはＲ₅₅ＯＮであり；Ｒ₅₂は水素、Ｃ₁
〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈ア
ルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、

【化５０】、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ル、

【化５１】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜三
置換されているフェニル、ベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄
アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしく
はハロゲンにより単置換〜三置換されているベンジルで
あり；Ｒ₅₁およびＲ₅₃は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₈アルキ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ
₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニ
ル、ベンゾイル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ
₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜
三置換されているベンゾイル、ベンジル、またはＣ₁〜
Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりも
しくはハロゲンにより単置換〜三置換されているベンジ
ルであり；Ｒ₅₄およびＲ₅₅は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₄ア
ルキルである〕；あるいはＲ₆はＢ−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキ
ル、Ｂ−Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｂ−Ｃ₂〜Ｃ₈アル
ケニル、Ｂ−Ｃ₂〜Ｃ₈アルキニル、Ｂ−Ｃ₂〜Ｃ₈ハ
ロアルケニル、Ｂ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄
アルキルまたはＢ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ
₄アルキルであり；そしてＢは水素、Ｒ₅₂ＺＣ（Ｏ）
−、シアノまたはＣ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルであ
る〕；Ｘ₁およびＸ₂は互いに独立に酸素または硫黄で
あり；Ｒ₆₀は水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり；Ｒ
₆₁は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアル
キル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
ベンジル、ハロゲンにより置換されたベンジル、Ｃ₁〜
Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
コキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、
ＨＯＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、ＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ
₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル−
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシカルボ
ニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキ
シカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキ
ニルオキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ
₆アルキルチオ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃
〜Ｃ₆アルケニルチオ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆
アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ
₁〜Ｃ₆アルキル、Ｒ₆₂Ｒ₆₃ＮＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキル、

【化５２】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケ
ニルオキシカルボニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシカ
ルボニル、オキセタニルオキシカルボニル、ＨＯＣ
（Ｏ）−Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
キシカルボニル−Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ
₆アルケニルオキシカルボニル−Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアル
キル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシカルボニル−Ｃ₃〜
Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ−Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ−Ｃ（Ｏ）−
Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルまたはＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ₃〜
Ｃ₆シクロアルキルであり；Ｒ₆₂は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、ベンジル、フェニル、ま
たはハロゲンにより、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによりもしく
はＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルにより単置換〜三置換されて
いるフェニルであり；Ｒ₆₃はＲ₆₂の意味を有するか、あ
るいはＣ₃〜Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロシク
ロアルキル、フェニル、またはハロゲンにより、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキルによりもしくはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルに
より単置換〜三置換されているフェニルであり；ｎ₁は
０，１，２，３または４であり；Ｒ₇₀は水素、ハロゲ
ン、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、アミノまた
はＣ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシであり；Ａ₁−Ｂ₁は下記
の基

【化５３】であって、前記の炭素原子２が酸素原子に結合してお
り；Ｒ₇₁は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり；Ｒ₇₂
は水素、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロ
アルキル、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ヒドロキシ−
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ
₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄
アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルカルボニルオキシ−Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル−Ｃ₁
〜Ｃ ₆アルキル、ＨＯＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、
ＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、カルボキシル、Ｃ
ｌＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜
Ｃ₆ハロアルコキシカルボニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル
オキシカルボニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシカルボ
ニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルコキシカルボニル、Ｃ₁〜
Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、ハロゲンにより単置換〜三置
換されているベンジルオキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルコキシカルボニル、ＨＯＣ（Ｓ）−、Ｃ₁〜Ｃ₆アル
キルチオ−Ｃ（Ｏ）−、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ−
Ｃ（Ｏ）−、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ−Ｃ（Ｏ）−、
Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ−Ｃ（Ｏ）−、ベンジルチオ
−Ｃ（Ｏ）−、ベンジル、ハロゲンにより単置換〜三置
換されているベンジル、またはＲ₇₃Ｒ₇₄ＮＣ（Ｏ）−、
フェノキシカルボニルもしくはフェニル−Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキルであって、前記フェニル環はハロゲンにより、Ｃ
₁〜Ｃ₄アルキルによりもしくはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキ
ルにより置換されてもよく、あるいはＮＨ₂Ｃ（Ｓ）−
またはＯＨＣ−であり；Ｒ₇₃は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、ベ
ンジル、ハロゲンにより、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによりも
しくはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルにより単置換〜三置換さ
れているベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₆ハロアルキルであ
る｝、または前記式Ｉの化合物のピラゾールＮ−オキシ
ド、作物栽培学上許容される塩もしくは立体異性体であ
って、下式

【化５４】の化合物を除いた化合物に関する。

【０００５】上述した定義において、ハロゲンはヨウ
素、好ましくはフッ素、塩素および臭素を意味すると解
釈すべきである。

【０００６】置換基の定義において、アルキル、アルケ
ニルおよびアルキニル基は直鎖または分枝鎖であること
ができ、そしてこれはアルキルカルボニル、ヒドロキシ
アルキル、シアノアルキル、アルコキシアルキル、アル
コキシアルコキシアルキル、アルキルチオ、アルキルチ
オ−Ｃ（Ｏ）、アルケニルチオ−Ｃ（Ｏ）、アルキニル
チオ−Ｃ（Ｏ）、アルキルスルホニル、アルキルアミノ
アルキル、ジアルキルアミノアルキル、アルキルカルボ
ニルアルキル、Ｂ−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｂ−Ｃ₂〜Ｃ
₈アルケニル、Ｂ−Ｃ₂〜Ｃ₈アルキニル、ＨＯＣ
（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、ＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ
₆アルキル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、アルキル
カルボニルオキシアルキル、Ｒ₂₁ＸＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ
₈アルキル、Ｒ₃₁ＶＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｒ
₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルおよびＲ₆₂Ｒ₆₃Ｎ−
Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル基のアルキル、アルケニ
ルおよびアルキニル成分にも当てはまる。

【０００７】アルキル基は、例えば、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、 sec−ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル並びに様々な異性体のペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチル基である。
メチル、エチル、ｎ−プロピルおよびｎ−ブチルが好ま
しい。例えば、Ｒ₁はｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、 sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチルで
あり、好ましくはメチルおよびエチルであり、特に好ま
しくはメチルである。

【０００８】アルケニルの例として挙げることができる
のは、ビニル、アリル、メタリル、１−メチルビニル、
ブタ−２−エン−１−イル、ペンテニル、２−ヘキセニ
ル、３−ヘプテニルおよび４−オクテニルであり、好ま
しくは炭素原子数３〜５の鎖長を有するアルケニル基で
ある。

【０００９】アルキニルの例として挙げることができる
のは、エチニル、プロパルギル、１−メチルプロパルギ
ル、３−ブチニル、ブタ−２−イン−１−イル、２−メ
チルブチン−２−イル、ブタ−３−イン−２−イル、１
−ペンチニル、ペンタ−４−イン−１−イルまたは２−
ヘキシニルであり、好ましくは炭素原子数２〜４の鎖長
を有するアルキニル基である。

【００１０】ハロアルキルとして適当なのは、ハロゲン
により、具体的にはヨウ素、特にフッ素、塩素および臭
素を意味するハロゲンにより単置換もしくは多置換され
ている、特に単置換〜三置換されているアルキル基であ
り、例えばフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフ
ルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリク
ロロメチル、２−フルオロエチル、２，２−ジフルオロ
エチル、２−クロロエチル、２，２−ジクロロエチル、
２，２，２−トリフルオロエチルおよび２，２，２−ト
リクロロエチルである。

【００１１】シアノアルキルは、例えば、シアノメチ
ル、シアノエチル、シアノエタ−１−イルおよびシアノ
プロピルである。ヒドロキシアルキルは、例えば、ヒド
ロキシメチル、２−ヒドロキシエチルおよび３−ヒドロ
キシプロピルである。アルケニルオキシアルキルは、例
えば、アリルオキシアルキル、メタリルオキシアルキル
およびブタ−２−エン−１−イルオキシアルキルであ
る。アルキニルオキシアルキルは、例えば、プロパルギ
ルオキシアルキルおよび１−メチルプロパルギルオキシ
アルキルである。

【００１２】アルコキシカルボニルは、例えば、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニルおよびｎ−ブトキ
シカルボニルであり、好ましくはメトキシカルボニルお
よびエトキシカルボニルである。アルケニルオキシカル
ボニルは、例えば、アリルオキシカルボニル、メタリル
オキシカルボニル、ブタ−２−エン−１−イルオキシカ
ルボニル、ペンテニルオキシカルボニルおよび２−ヘキ
セニルオキシカルボニルである。アルキニルオキシカル
ボニルは、例えば、プロパルギルオキシカルボニル、３
−ブチニルオキシカルボニル、ブタ−２−イン−１−イ
ルオキシカルボニルおよび２−メチルブチン−２−イル
オキシカルボニルである。

【００１３】ハロアルケニルとして適当なのは、ハロゲ
ンにより、具体的にはフッ素、ヨウ素、特にフッ素およ
び塩素を意味するハロゲンにより単置換もしくは多置換
されているアルケニル基であり、例えば２−および３−
フルオロプロペニル、２−および３−クロロプロペニ
ル、２−および３−ブロモプロペニル、２，３，３−ト
リフルオロプロペニル、２，３，３−トリクロロプロペ
ニル、４，４，４−トリフルオロブタ−２−エン−１−
イルおよび４，４，４−トリクロロブタ−２−エン−１
−イルである。ハロゲンにより単置換、二置換または三
置換されているアルケニル基の中で好ましいのは、炭素
原子数３または４の鎖長を有するものである。飽和また
は不飽和炭素原子上のアルケニル基がハロゲンにより置
換され得る。

【００１４】アルコキシアルコキシカルボニルは、例え
ば、メトキシメトキシカルボニル、エトキシメトキシカ
ルボニル、エトキシエトキシカルボニル、プロポキシメ
トキシカルボニル、プロポキシエトキシカルボニル、プ
ロポキシプロポキシカルボニルおよびブトキシエトキシ
カルボニルである。

【００１５】ハロアルコキシは、例えば、フルオロメト
キシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、
２，２，２−トリフルオロエトキシ、１，１，２，２−
テトラフルオロエトキシ、２−フルオロエトキシ、２−
クロロエトキシおよび２，２，２−トリクロロエトキシ
である。

【００１６】置換基として適当であるシクロアルキル基
は、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチルおよびシクロヘキシルである。置換基として適当
であるシクロアルコキシカルボニル基は、例えば、シク
ロプロピルオキシカルボニル、シクロブチルオキシカル
ボニル、シクロペンチルオキシカルボニルおよびシクロ
ヘキシルオキシカルボニルである。

【００１７】置換基として適当であるハロシクロアルキ
ル基は、例えば、モノハロゲン化、ジハロゲン化または
過ハロゲン化までのハロゲン化シクロアルキル基、例え
ばフルオロシクロプロピル、２，２−ジクロロシクロプ
ロピル、ペルフルオロシクロペンチルまたはペンタクロ
ロシクロヘキシルである。

【００１８】アルコキシアルコキシアルキルは、例え
ば、メトキシメトキシメチル、エトキシメトキシエチ
ル、エトキシエトキシメチル、プロポキシメトキシメチ
ル、プロポキシエトキシエチル、プロポキシプロポキシ
メチル、ブトキシエトキシエチルおよびブトキシブトキ
シエチルである。

【００１９】アルキルチオは、例えば、メチルチオ、エ
チルチオ、プロピルチオおよびブチルチオ、並びにそれ
らの分枝異性体である。アルキルチオアルキルは、例え
ば、メチルチオエチル、エチルチオエチル、メチルチオ
プロピルおよびエチルチオプロピルである。

【００２０】アルキルチオカルボニルアルキルは、例え
ば、メチルチオカルボニルアルキル、エチルチオカルボ
ニルアルキル、ｎ−プロピルチオカルボニルアルキル、
イソプロピルチオカルボニルアルキルおよびｎ−ブチル
チオカルボニルアルキルである。

【００２１】アルケニルチオカルボニルアルキルは、例
えば、アリルチオカルボニルアルキル、メタリルチオカ
ルボニルアルキル、ブタ−２−エン−１−イルチオカル
ボニルアルキル、ペンテニルチオカルボニルアルキルお
よび２−ヘキセニルチオカルボニルアルキルである。

【００２２】アルキニルチオカルボニルアルキルは、例
えば、プロパルギルチオカルボニルアルキル、１−メチ
ルプロパルギルチオカルボニルアルキルおよびブタ−２
−イン−１−イルチオカルボニルアルキルである。

【００２３】ハロアルキルチオ−Ｃ（Ｏ）−は、例え
ば、フルオロメチルチオカルボニル、ジフルオロメチル
チオカルボニル、トリフルオロメチルチオカルボニル、
２，２，２−トリフルオロエチルチオカルボニル、１，
１，２，２−テトラフルオロエチルチオカルボニル、２
−フルオロエチルチオカルボニル、２−クロロエチルチ
オカルボニルおよび２，２，２−トリクロロエチルチオ
カルボニルである。

【００２４】置換基の一部としてのフェニル、ベンジル
またはベンゾイル、例えば、フェノキシ、フェニルチ
オ、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、フェノキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノキシカルボニ
ルアルキル、ベンジルオキシカルボニルアルキル、ベン
ゾイルアミノまたはベンジルアミノは、置換形または非
置換形である。この場合、前記置換基はオルト、メタま
たはパラ位にあることができる。置換基の例はＣ₁〜Ｃ
₄アルキル、ハロゲンまたはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルで
ある。

【００２５】対応する意味は、複合語の定義、例えばア
ルコキシ−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ₂−、ＨＯＣ（Ｏ）−アルコ
キシ、ＣｌＣ（Ｏ）−アルコキシ、アルコキシカルボニ
ルアルコキシ、ＨＯＣ（Ｏ）−アルキルチオ、アルコキ
シカルボニルアルキルチオ、ハロアルキルカルボニル、
ハロアルキルスルホニル、Ｒ₅₂ＺＣ（Ｏ）−シクロアル
キル、Ｂ−ハロアルキル、Ｂ−ハロアルケニル、Ｂ−ア
ルコキシアルキル、Ｂ−アルキルチオアルキル、アルコ
キシカルボニルアルキル、ハロアルコキシカルボニルア
ルキル、アルケニルオキシカルボニルアルキル、アルキ
ニルオキシカルボニルシクロアルキル、アルケニルチオ
−Ｃ（Ｏ）−シクロアルキル、ＣｌＣ（Ｏ）−シクロア
ルキル、ＣｌＣ（Ｏ）−アルコキシカルボニル、ハロア
ルコキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、ハ
ロアルキルチオ−Ｃ（Ｏ）−アルキル、ＨＯＣ（Ｏ）−
シクロアルキル、アルコキシカルボニルシクロアルキル
およびアルケニルオキシカルボニルシクロアルキル、に
おいても適用することができる。

【００２６】Ｒ₂₀の定義の中の基

【化５５】は、Ｒ₂₁ＸＣ（Ｏ）により置換されたＣ₁〜Ｃ₆アルキ
レン鎖が、６つの炭素原子上のうちの１つの上でフェニ
ルにより更に置換されていることを意味する。

【００２７】Ｒ₆₁の定義の中の基

【化５６】は、ＨＯＣ（Ｏ）−、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ（Ｏ）
−、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ−Ｃ（Ｏ）−またはＣ
₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ−Ｃ（Ｏ）−により置換され
たＣ₁〜Ｃ₆アルキレン鎖が、６つの炭素原子上のうち
の１つの上でフェニル（C₆H₅）により更に置換されてい
ることを意味する。

【００２８】シアノアルキル、アルキルカルボニル、ア
ルコキシカルボニル、ハロアルキルカルボニル、アルキ
ルカルボニルオキシ、アルコキシアルコキシカルボニ
ル、アルキルチオカルボニルおよびシクロアルコキシカ
ルボニルの定義において、シアノまたはカルボニル炭素
原子は各場合に与えられる炭素原子数の下限と上限に含
まれない。

【００２９】例えばＲ₅の定義の中の、ハロゲンによ
り、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによりまたはＣ₁〜Ｃ₄ハロア
ルキルにより単置換〜三置換されているベンジルオキシ
は、芳香環がハロゲンにより、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによ
りまたはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルにより置換されている
ことを意味する。例えばＲ₁₀，Ｒ₁₁およびＲ₇₂の定義の
中の、単置換〜三置換されているベンジルおよびベンジ
ルオキシカルボニルにも同じことが当てはまる。

【００３０】式Ｉの化合物は一般に、ピラゾール環の３
位と５位で基Ｗにより置換されている異性体Ｉａおよび
Ｉｂから成る混合物の形で存在する。

【化５７】異性体比Ｉａ／Ｉｂは合成方法によって異なり得る。

【００３１】酸性水素を有する式Ｉの化合物、特にカル
ボン酸基およびスルホンアミド基（例えば、カルボキシ
ルで置換されたアルキル、アルキレン、アルコキシ、ア
ルキルチオ、シクロアルキルおよびフェニル基、並びに
NH₂SO₂で置換されたフェニル基）を有する誘導体が、塩
基と共に形成することのできる塩も本発明の部分を構成
する。それらの塩は、例えば、アルカリ金属塩、例えば
ナトリウム塩およびカリウム塩；アルカリ土類金属塩、
例えばカルシウム塩およびマグネシウム塩；アンモニウ
ム塩、即ち無置換のアンモニウム塩および単置換もしく
は多置換アンモニウム塩、例えばトリエチルアンモニウ
ム塩およびメチルアンモニウム塩；または他の有機塩基
との塩である。

【００３２】塩形成試薬としてアルカリ金属水酸化物お
よびアルカリ土類金属水酸化物の中でも重要な物質は、
例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウ
ムまたはカルシウムの水酸化物であるが、特にはナトリ
ウムおよびカリウムの水酸化物である。

【００３３】アンモニウム塩の形成に適当であるアミン
の考えられる例は、アンモニア、更には第一、第二およ
び第三級Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルアミン、Ｃ₁〜Ｃ₄ヒドロ
キシアルキルアミンおよびＣ₂〜Ｃ₄アルコキシアルキ
ルアミン、例えばメチルアミン、エチルアミン、ｎ−プ
ロピルアミン、イソプロピルアミン、４種の異性体形ブ
チルアミン、ｎ−アミルアミン、イソアミルアミン、ヘ
キシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニ
ルアミン、デシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサ
デシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミ
ン、メチルエチルアミン、メチルイソプロピルアミン、
メチルヘキシルアミン、メチルノニルアミン、メチルペ
ンタデシルアミン、メチルオクタデシルアミン、エチル
ブチルアミン、エチルヘプチルアミン、エチルオクチル
アミン、ヘキシルヘプチルアミン、ヘキシルオクチルア
ミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルア
ミン、ジ−ｎ−アミルアミン、ジイソアミルアミン、ジ
ヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミ
ン、エタノールアミン、ｎ−プロパノールアミン、イソ
プロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ
−エチルプロパノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールア
ミン、アリルアミン、ｎ−ブテニル−２−アミン、ｎ−
ペンテニル−２−アミン、２，３−ジメチルブテニル−
２−アミン、ジブテニル−２−アミン、ｎ−ヘキセニル
−２−アミン、プロピレンジアミン、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ト
リイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ
イソブチルアミン、トリ−sec −ブチルアミン、トリ−
ｎ−アミルアミン、メトキシエチルアミンおよびエトキ
シエチルアミン；複素環式アミン、例えばピリジン、キ
ノリン、イソキノリン、モルホリン、チオモルホリン、
ピペリジン、ピロリジン、インドリン、キヌクリジンお
よびアゼピン；第一級アリールアミン、例えばアニリ
ン、メトキシアニリン、エトキシアニリン、ｏ，ｍ，ｐ
−トルイジン、フェニレンジアミン、ベンジジン、ナフ
チルアミンおよびｏ，ｍ，ｐ−クロロアニリンである
が、特にはトリエチルアミン、イソプロピルアミンおよ
びジイソプロピルアミンである。

【００３４】塩基性基、特に塩基性ピリジル、ピリミジ
ルおよびピラゾリル環を有する式Ｉの化合物の塩あるい
はアミノ基、例えばＲ₂₀の定義の中のアルキルアミノお
よびジアルキルアミノ基を有する誘導体またはＲ₅，Ｒ
₆もしくはＲ₇₀＝アミノであるアニリン誘導体の塩は、
例えば、無機および有機酸、例えばハロゲン化水素酸、
例えばフッ化水素酸、塩化水素酸、臭化水素酸もしくは
ヨウ化水素酸、更には硫酸、リン酸、硝酸；並びに有機
酸、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、
プロピオン酸、グリコール酸、チオシアン酸、クエン
酸、安息香酸、シュウ酸、蟻酸、ベンゼンスルホン酸、
ｐ−トルエンスルホン酸およびメタンスルホン酸との塩
である。

【００３５】式Ｉの化合物中に、例えば炭素原子２上の
基Ｗ₃のジヒドロベンゾフラニル成分または置換基Ｒ₆
＝ＯＲ₂₀（ここでＲ₂₀は分枝鎖アルキル、アルケニル、
ハロアルキルまたはアルコキシアルキル基である）もし
くはＲ₆＝Ｓ（Ｏ）_mＲ₃₀（ここで例えばｍ＝１であり
そして／またはＲ₃₀は分枝鎖アルキル、アルケニル、ハ
ロアルキルもしくはアルコキシアルキル基である）中に
少なくとも１つの不斉炭素原子が存在し得るという事実
は、この化合物が個々の光学活性異性体の形でだけでな
く、ラセミ混合物の形でも存在し得るという結果をもた
らす。本発明では、式Ｉの活性成分は、純粋な光学対掌
体だけでなく、ラセミ体またはジアステレオマーも意味
すると理解すべきである。

【００３６】脂肪族Ｃ＝Ｃ−またはＣ＝Ｎ−Ｏ二重結合
（シン／アンチ）が存在するならば、幾何異性も存在し
得る。本発明はそれらの異性体も包含する。

【００３７】好ましい式Ｉの化合物は、Ｒ₁がメチルで
あり、そしてＲ₃がメチルまたはエチルであるものであ
る。別の好ましい式Ｉの化合物は、Ｒ₄がフッ素である
ものである。同じく好ましい式Ｉの化合物は、Ｒ₄が塩
素であるものである。別の好ましい式Ｉの化合物は、Ｒ
₄が水素であるものである。

【００３８】重要な式Ｉの化合物は、Ｗが基

【化５８】であり、そしてＲ₄，Ｒ₅およびＲ₆が式Ｉのもとに定
義した通りである化合物である。それらの中でも特に好
ましいのは、Ｒ₅が塩素、臭素、メチル、シアノまたは
トリフルオロメチルである化合物である。

【００３９】同じく重要な式Ｉの化合物は、Ｗが基

【化５９】であり、そしてＲ₄，Ｒ₆₀，Ｒ₆₁，Ｘ₁，Ｘ₂およびｎ
₁が式Ｉのもとに定義した通りである化合物である。そ
れらの中でも重要なのは、特にＲ₄が水素、フッ素また
は塩素であり、そしてＸ₁が酸素であるものである。

【００４０】別の重要な式Ｉの化合物は、Ｗが基

【化６０】であり、Ｒ₄が水素、フッ素または塩素でありそしてＢ
₁がメチレンであるものである。

【００４１】重要な化合物は式Ｉａ

【化６１】（上式中、ＷおよびＲ₁〜Ｒ₃は式Ｉのもとに記載した
通りである）の化合物である。

【００４２】特に重要な化合物は、式Ｉａ

【化６２】（上式中、Ｒ₁はメチルであり、Ｒ₂はシアノであり、
そしてＲ₃はメチルまたはエチルである）の化合物であ
る。

【００４３】非常に重要な化合物は、式Ｉａ

【化６３】（上式中、Ｒ₁はメチルであり、Ｒ₂はシアノであり、
Ｒ₃はメチルまたはエチルであり、Ｗは基

【化６４】であり、そしてＲ₄はフッ素または塩素である）の化合
物である。

【００４４】同じく非常に重要な化合物は、式Ｉａ

【化６５】（上式中、Ｒ₁はメチルであり、Ｒ₂はシアノであり、
Ｒ₃はメチルまたはエチルであり、Ｗは基

【化６６】であり、そしてＲ₄はフッ素または塩素である）の化合
物である。

【００４５】別の非常に重要な化合物は、式Ｉａ

【化６７】（上式中、Ｒ₁はメチルであり、Ｒ₂はシアノであり、
Ｒ₃はメチルまたはエチルであり、Ｗは基

【化６８】であり、そしてＲ₄はフッ素または塩素である）の化合
物である。

【００４６】式Ｉの化合物を調製するための本発明の方
法は、既知の方法、例えばWO 96/01254, WO 97/00246お
よびEP-A-0 796 856中に記載されたような方法と同様に
して実施される。

【００４７】本発明の方法は、式Ｉの化合物

【化６９】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は式Ｉのもとに定義した
通りであり、そしてＲ₂はシアノである）を調製するた
めには、ａ）式IIａまたはIIｂの化合物

【化７０】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前に定義した通りであ
る）を脱水し；またはｂ）まず式 IIIａまたは IIIｂの化合物

【化７１】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前に定義した通りであ
る）をジアゾ化し、次いで生成したジアゾニウム塩を式
Ｘの塩Ｍ⁺ＣＮ^- （Ｘ）（上式中、Ｍ⁺はアルカリ金属、アルカリ土類金属また
は遷移金属イオンである）と反応せしめ；またはｃ）式IVａまたはIVｂの化合物

【化７２】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前に定義した通りであ
る）をヒドロキシルアミンまたはその塩、例えばヒドロ
キシルアミン塩酸塩、臭化水素酸塩もしくは酢酸塩と反
応せしめ、次いで中間体として生成したオキシムを脱水
し；またはｄ）式ＶａまたはＶｂの化合物

【化７３】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は式Ｉのもとに定義した
通りであり、そしてＲ₈₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃も
しくはＣ₄アルケニルまたはベンジルである）を、不活
性有機溶媒の存在下でジメチルアルミニウムアミドと反
応せしめることを含んで成る。

【００４８】式Ｉの化合物

【化７４】〔上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は式Ｉのもとに定義した
通りであり、そしてＲ₂はＮＨ₂Ｃ（Ｓ）−である〕の
調製のための本発明の方法は既知の方法と同様に実施さ
れ、そしてａ）式Ｉａ₁またはＩｂ₁の化合物

【化７５】を、塩基触媒を使って有機溶媒中の硫化水素と、または
酸触媒を使って硫化水素源と反応せしめ；またはｂ）式IIａまたはIIｂの化合物

【化７６】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前に定義した通りであ
る）を溶媒中で適当な硫黄試薬と反応せしめることを含
んで成る。

【００４９】式ＶａおよびＶｂの化合物

【化７７】（上式中、Ｒ₁およびＷは式Ｉのもとに定義した通りで
あり、Ｒ₃はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄ア
ルケニルまたはＣ₃もしくはＣ₄アルキニルであり、そ
してＲ₈₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アル
ケニルまたはベンジルである）の調製のための本発明の
方法は、ａ）ヒドラジンを使って式XIａの化合物

【化７８】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₈₁は前に定義した通りであ
る）を変換して式Ｖｃの化合物

【化７９】を与え、次いでこの化合物を式 XIIａの化合物Ｒ₃−Ｌ₁ (XIIａ) または式 XIIｂの化合物Ｒ₃ＯＳＯ₂ＯＲ₃ (XIIｂ) （式 XIIａおよび XIIｂの化合物中の基Ｒ₃は前に定義
した通りであり、そしてＬ₁は脱離基である）の存在下
でアルキル化し；またはｂ）式XIａの化合物

【化８０】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₈₁は前に定義した通りであ
る）を、式XIIIの化合物ＮＨ₂ＮＨ−Ｒ₃ （XIII）（上式中、Ｒ₃は前に定義した通りである）を使って環
化せしめることを含んで成る。

【００５０】式VIａおよびVIｂの化合物

【化８１】（上式中、Ｒ₁およびＷは式Ｉのもとに定義した通りで
あり、そしてＲ₃はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくは
Ｃ₄アルケニルまたはＣ₃もしくはＣ₄アルキニルであ
る）の調製のための本発明の方法は、式XIｂの化合物

【化８２】（上式中、ＷおよびＲ₁は前に定義した通りである）
を、ａ）ヒドラジンを使って環化せしめて式VIｃの化合物

【化８３】を与え、次いでこの化合物を式 XIIａの化合物Ｒ₃−Ｌ₁ (XIIａ) または式 XIIｂの化合物Ｒ₃ＯＳＯ₂ＯＲ₃ (XIIｂ）（式 XIIａおよび XIIｂの化合物中の基Ｒ₃は前に定義
した通りであり、そしてＬ₁は脱離基である）の存在下
でアルキル化し；またはｂ）式XIIIの化合物ＮＨ₂ＮＨ−Ｒ₃ （XIII）（上式中、Ｒ₃は前に定義した通りである）を使って環
化せしめることを含んで成る。

【００５１】Ｗが基

【化８４】であり；Ａ₁−Ｂ₁が基

【化８５】であり；Ｒ₄，Ｒ₇₀およびＲ₇₁が式Ｉのもとに定義した
通りであり；そしてＲ₇₂がＣ₁〜Ｃ₆アルキルである式
Ｉの化合物は、式VII の化合物

【化８６】（ここでＲ₁〜Ｒ₄およびＲ₇₀は式Ｉのもとに定義した
通りである）を、不活性有機溶媒と塩基の存在下または
非存在下で、式XIV の化合物

【化８７】（ここでＲ₇₁は前に定義した通りであり、Ｒ₈は水素ま
たはＣ₁〜Ｃ₅アルキルであり、そしてＬ₁は脱離基で
ある）と反応せしめて、式VIIIａの化合物

【化８８】（ここでＲ₁〜Ｒ₄，Ｒ₈，Ｒ₇₀およびＲ₇₁は前に定義
した通りである）を与え、この化合物を熱または酸触媒
転位反応にかけて、式IXａの化合物

【化８９】を与え、次いでこの化合物を環化せしめることにより得
られる。

【００５２】Ｗが基

【化９０】であり；Ａ₁−Ｂ₁が基

【化９１】であり；Ｒ₄，Ｒ₇₀およびＲ₇₁が式Ｉのもとに定義した
通りであり、そしてＲ₇₂がヒドロキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アル
キルである式Ｉの化合物は、式IXａの化合物

【化９２】（ここでＲ₁〜Ｒ₄，Ｒ₇₀およびＲ₇₁は式Ｉのもとに定
義した通りであり；そしてＲ₈は水素またはＣ₁〜Ｃ₅
アルキルである）をエポキシ化し、そして所望であれ
ば、次いでこの化合物を触媒の存在下で環化せしめるこ
とにより得られる。

【００５３】Ｗが基

【化９３】であり；Ａ₁−Ｂ₁が基

【化９４】であり；Ｒ₄およびＲ₇₀が式Ｉのもとに定義した通りで
あり；そしてＲ₇₂がＣ₁〜Ｃ₆アルキルである式Ｉの化
合物は、式VIIIｂの化合物

【化９５】（ここでＲ₁〜Ｒ₄およびＲ₇₀は式Ｉのもとに定義した
通りであり、そしてＲ₈は水素またはＣ₁〜Ｃ₅アルキ
ルである）を熱転位反応にかけて、式IXｂの化合物

【化９６】を与え、次いでこの化合物を環化せしめることによって
得ることができる。

【００５４】式Ｉの化合物の調製は下記に示す反応スキ
ーム１〜７においてより詳細に説明される。

【００５５】反応スキーム１

【化９７】

【００５６】反応スキーム１中の基Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃
は式Ｉのもとに定義した通りであるが、Ｒ₁は特にメチ
ルまたはエチルであり、そしてＲ₈₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルケニルまたはベンジルであ
る。

【００５７】式XXのケトン誘導体を、反応スキーム１に
従って、塩基、特に対応するナトリウムアルコキシド、
好ましくはナトリウムメトキシドの存在下で、溶媒、例
えば対応するアルコール、好ましくはメタノール中で、
第二の溶媒、例えばエーテルまたは炭化水素と共に、０
℃から問題の溶媒の沸点までの温度で、式XXI のジアル
キルオキサレートと反応せしめる。この縮合反応並びに
その後の反応スキーム１に従った式Ｉのニトリロ−およ
びチオアミドピラゾール誘導体（Ｉａ₁，Ｉｂ₁，Ｉｄ
およびＩｅ）までの全ての反応段階は、例えば、WO 96/
01254 （第20頁および次頁参照）に記載された手順と同
様にして実施することができる。

【００５８】この手順によれば、式XIａのジケトエステ
ルを、高温で（還流）、好ましくは溶媒としての氷酢
酸、トルエンまたはアルコール中で、式XIIIの化合物、
例えばＮ−アルキルヒドラジンを使って環化せしめて式
Ｖの化合物を与える。所望であれば、酸、例えば硫酸ま
たはｐ−トルエンスルホン酸を触媒として使ってもよ
い。

【００５９】反応スキーム１に従った式Ｖのエステル誘
導体から対応する式IIのアミド（IIａまたはIIｂ）への
その後の変換は、エステル誘導体を水性アンモニア中で
加熱することにより直接的に、または式Ｖのエステル誘
導体の加水分解により対応する式ＶｉもしくはＶｊの対
応するカルボン酸誘導体（Ｒ₁₃＝ＯＨ）を与えることを
経てそして得られたカルボン酸誘導体を水性アンモニア
中で加熱するかまたは式ＶｉもしくはＶｊのカルボン酸
誘導体（Ｒ₁₃＝ＯＨ）を対応する式ＶｇもしくはＶｈの
カルボン酸ハロゲン化物（Ｒ₁₃＝ハロゲン、特に塩素）
に変換することを経て次いで得られたカルボン酸ハロゲ
ン化物を水性アンモニア中で加熱することにより、達成
することができる。

【００６０】式Ｉの所望のニトリロピラゾール誘導体
（Ｉａ₁またはＩｂ₁；Ｒ₂＝ＣＮ）は、例えばW0 96/
01254 の23頁と41頁および次頁参照、並びに"Advanced
Organic Chemistry", J. March編, Mc Graw-Hill Book
Company, N.Y., 1985, 932頁および次頁参照と同様にし
て、上述の如く形成された式IIのアミド（IIａまたはII
ｂ）を脱水することにより得ることができる。

【００６１】式Ｉの所望のシアノピラゾール誘導体（Ｉ
ｄまたはＩｅ）（Ｒ₂＝−Ｃ（Ｓ）ＮＨ₂）は、次のよ
うにして得ることができる：ａ）式IIのアミド（IIａまたはIIｂ）から、様々な極
性および無極性溶媒、例えばトルエン、キシレン、テト
ラヒドロフラン、クロロホルム、ジオキサンまたはＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド中で、20℃〜150 ℃の温度
で、硫黄試薬、例えばLawesson試薬、五硫化リン、また
は硫化鉄を使って；またはｂ）式Ｉのニトリル（Ｉａ₁またはＩｂ₁；Ｒ₂＝Ｃ
Ｎ）から、硫化水素供給源、例えば硫化水素それ自体
と、塩基触媒とを使って。

【００６２】適当な調製方法および対応する反応条件の
選択は、問題となる中間体中の置換基の性質（反応性）
に依存する。

【００６３】ピラゾール環の調製方法は下記に示す反応
スキーム２，３および４においてより詳細に説明され
る。

【００６４】反応スキーム２

【化９８】

【００６５】反応スキーム３

【化９９】

【００６６】反応スキーム４

【化１００】

【００６７】式Ｖｃ〔反応スキーム２の方法ａ）〕およ
び XIXｃ〔反応スキーム３の方法ａ）〕のピラゾール環
は、式XIａ，XIｄおよびXIｅの化合物を高温でヒドラジ
ンまたはヒドラジン水和物と反応せしめることにより調
製される。

【００６８】式Ｖｃの化合物を調製するためには、穏和
な還流条件下で溶媒として氷酢酸またはアルコールを使
うことが好ましく、そして式 XIXｃの化合物の調製に
は、高温でトルエンを使用することが好ましい。所望で
あれば、触媒として酸、例えば硫酸またはｐ−トルエン
スルホン酸を使ってもよい。

【００６９】窒素原子上で置換されていない式VIｃのピ
ラゾール環〔反応スキーム４の方法ａ）〕は、好ましく
はアルコール性溶液中の式IXｂの化合物から高温でヒド
ラジン水和物を使って調製される。

【００７０】窒素原子上で置換されているピラゾール環
〔反応スキーム２，３および４の方法ｂ）〕を調製する
ためには、手順は方法ａ）と同様に明記された通りであ
り、そして使用する試薬は式XIIIの化合物、例えばＮ−
アルキルヒドラジン、好ましくはＮ−メチルヒドラジン
である。

【００７１】方法ｂ）に従った方法は異性体混合物Ｖａ
とＶｂ、 XIXａと XIXｂ、またはVIａとVIｂをもたら
し、２つの異性体の比は一方では反応条件にそして他方
では式XIａ，XIｄ，XIｅまたはXIｂの関連中間体に依存
する。

【００７２】式ＶａとＶｂのピラゾールエステルの異性
体混合物は、シリカゲルクロマトグラフィーおよび／ま
たは再結晶を使って純粋な異性体に容易に分離すること
ができる。一般に、式 XIXａと XIXｂ、およびVIａとVI
ｂの異性体混合物にも同じことが当てはまる。

【００７３】ある場合には、式Ｖｃ，XIX ｃまたはVIｃ
の対応する非置換ピラゾールのＮ−アルキル化によっ
て、Ｎ−アルキル置換ピラゾール誘導体、特にＮ−メチ
ル置換ピラゾール誘導体を調製することが有利である。
これは反応スキーム５に説明される。

【００７４】反応スキーム５

【化１０１】

【化１０２】

【００７５】反応スキーム２〜５において、基Ｗは式Ｉ
のもとに与えられるような芳香族系Ｗ₁〜Ｗ₃であり；
Ｒ₈₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルケニ
ルまたはベンジルであり；Ｒ₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキルで
あり；Ｒ₃はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄ア
ルケニルまたはＣ₃もしくはＣ₄アルキニルであり；そ
してＬ₁は脱離基、例えば塩素、臭素、ヨウ素、CH₃SO₂
O-または

【化１０３】である。

【００７６】反応スキーム５において式Ｖｃ， XIXｃ，
VIｃ，IVｃおよびＩｃの化合物中のピラゾール環は、室
温または適度に高められた温度で、溶媒、例えばアセト
ン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシ
ド、塩基、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸
化ナトリウムまたは水酸化カリウム、および式 XIIａま
たは XIIｂのアルキル化剤、好ましくはヨウ化メチルま
たは硫酸ジメチルの存在下で、Ｎ−アルキル化される。

【００７７】ピラゾール環のＮ−アルキル化は式Ｖａと
Ｖｂ、 XIXａと XIXｂ、VIａとVIｂ、IVａとIVｂ、およ
びＩａ₁とＩｂ₁の異性体混合物をもたらすが、一般に
これらは全て常法により純粋な異性体に分離することが
できる。

【００７８】式IIａ， IIIａ，IVａおよびＶａの様々な
中間体から出発する式Ｉａ₁のピラゾール誘導体（５位
でシアノ置換されている）の調製は、反応スキーム６に
説明される。適当な調製方法および関連する反応条件の
選択は、問題の中間体の中の置換基の性質（反応性）に
依存する。

【００７９】反応スキーム６

【化１０４】

【００８０】反応スキーム６において、基ＷおよびＲ₁
は式Ｉのもとに定義した通りであり；そしてＲ₃はＣ₁
〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルケニル、または
Ｃ₃もしくはＣ₄アルキニルである。

【００８１】反応スキーム６の方法ａ）に従った反応
は、"Advanced Organic Chemistry",J. March編, McGra
w-Hill Book Company, N.Y., 1985, 932-933 頁と同様
に行われ、そして式IIａの第一級アミドを、不活性溶媒
の存在下または不在下で高温において、例えば五酸化リ
ン（P₂O₅）、オキシ塩化リン（POCl₃）、無水酢酸もし
くはトリフルオロ酢酸無水物、または四塩化炭素／トリ
フェニルホスフィン（CCl₄／P(C₆H₅)₃）を使った脱水に
より、式Ｉａ₁のシアノピラゾールに変換する。

【００８２】反応スキーム６の方法ｂ）に従った反応
は、"Vogel's Textbook of PracticalOrganic Chemistr
y", 1989, 938頁と同様に行われる。この方法によれ
ば、式 IIIａのアミノピラゾールをまず低温、例えば−
10℃〜15℃で、水性塩酸中で亜硝酸ナトリウムを使って
ジアゾ化し、そして生成したジアゾニウム塩を、式Ｘの
塩Ｍ⁺ＣＮ^- （Ｘ）（ここでＭ⁺はアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属
イオンまたは遷移金属イオンである）、例えばシアン化
銅（Ｉ）またはシアン化カリウム、の水溶液を使って、
式Ｉａ₁のシアノ誘導体に変換する（Sandmeyer 反
応）。

【００８３】反応スキーム６の方法ｃ）に従った反応
は、"Vogel's Textbook of PracticalOrganic Chemistr
y", Longman 1989, 1084 頁と同様に行われ、これは式I
Vａのピラゾールアルデヒドをプロトン系溶媒中でヒド
ロキシルアミン塩酸塩と反応させてオキシムを与え、こ
のオキシムを無水酢酸中で高温で脱水して式Ｉａ₁のシ
アノピラゾールを与えるというものである。

【００８４】反応スキーム６の方法ｄ）に従った反応で
は、式Ｖａのエステルピラゾールを使用し、不活性溶
媒、好ましくはヘキサン、ヘプタン、ジクロロメタンま
たはキシレンの混合物中で、そして還流温度に加熱しな
がら、ジメチルアルミニウムアミド〔(CH₃)₂AlNH₂〕
（これは既知の方法に従って市販のトリメチルアルミニ
ウムから新しく調製したものである）を助剤として使っ
て、それを式Ｉａ₁のニトリルに直接に変換することが
できる。

【００８５】反応スキーム２〜５において使われる式
Ｘ， XIIａ， XIIｂおよびXIIIの試薬は既知である。

【００８６】式Ｖｉのピラゾールカルボン酸

【化１０５】は、既知の方法と同様にａ）対応する式Ｖａのエステル誘導体

【化１０６】（式ＶａおよびＶｉの化合物中の基Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃
は式Ｉのもとに定義した通りであり、そしてＲ₈₁はＣ₁
〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルケニルまたはベ
ンジルである）から、平均温度、例えば０℃から反応混
合物の還流温度までの温度で、好ましくは水酸化ナトリ
ウムまたは水酸化カリウムの存在下で水性アルコール、
水性テトラヒドロフランまたは水性Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）を使って加水分解し、次いで酸性
条件下で後処理することにより；またはｂ）式IVａのアルデヒド

【化１０７】を、例えば過マンガン酸カリウムを使って酸化すること
により得ることができる。

【００８７】式Ｖｇのピラゾールカルボン酸クロリド

【化１０８】は、既知の方法、例えば"Organikum" (Organic Chemist
ry), J.A. Barth 編, Leipzig, 1993, 439頁および次頁
参照と同様に、対応する式Ｖｉのピラゾールカルボン酸

【化１０９】（式ＶｇとＶｉの化合物中の基Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前
に定義した通りである）から、高温で、不活性溶媒の存
在下または不在下で、無機酸クロリド、例えば三塩化リ
ンまたは塩化チオニルを使って調製することができる。

【００８８】式IIａのピラゾールカルボキサミド

【化１１０】は、既知の方法と同様に、ａ）式Ｖｇの対応するカルボン酸クロリド

【化１１１】と水性アンモニア溶液から、平均温度で；またはｂ）式Ｖａの或る種のエステル誘導体

【化１１２】（式IIａ，ＶｇおよびＶａ中の基Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は
式Ｉのもとに定義した通りであり、そしてＲ₈₁はＣ₁〜
Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルケニルまたはベン
ジルであり、Ｒ₈₁は特にメチルである）から、水性アン
モニア溶液の存在下で調製することができる。

【００８９】ある場合には、例えばピラゾール環の求核
性がフェニル環のものより顕著である時には、式 IIIａ
のアミノピラゾール

【化１１３】は、既知の方法、例えばAustr. J. Chem. 32, 1727 (19
79); J. Chem, Soc., Perkin Trans. 2, 382 (1974);ま
たはJ. Heterocycl. Chem. 20, 277 (1983) に記載され
たのと同様に、式 XIXａの化合物

【化１１４】から、それらの化合物をニトロ化し、次いでニトロ基を
還元することにより；または既知の方法、例えばJ. Het
erocycl. Chem. 19, 1173 (1982); Khim. Geterotsiki.
Soedin 1990, 1092; Ber. Deutsch. Chem. Ges. 26, 2
053 (1893); またはChem. Ber. 99, 1769 (1966)に記載
されたのと同様に、式XXａの化合物

【化１１５】（ここでＷおよびＲ₁は式Ｉのもとに定義した通りであ
る）と式XIIIの化合物Ｈ₂ＮＮＨ−Ｒ₃ （XIII）またはその塩から、例えば対応する塩化水素酸塩もしく
は臭化水素酸塩または酢酸塩から、好ましくは溶媒中
で、例えばアルコールもしくはアルコール／水混合物ま
たは酢酸中で、20℃〜100 ℃の温度で調製することがで
きる。

【００９０】式IVａのピラゾールアルデヒド

【化１１６】は、既知の方法、例えばArch. Pharm. 264, 337 (1926)
およびLiebigs Annalen437, 297 (1924) に記載された
ような方法により、ａ）式Ｖｇの対応する酸クロリド

【化１１７】から、またはｂ）式VIａの対応するアセタール

【化１１８】（式IVａ，ＶｇおよびVIａの化合物中の基Ｗ，Ｒ₁およ
びＲ₃は式Ｉのもとに定義した通りである）から、酸加
水分解により、例えば塩酸、硫酸またはｐ−トルエンス
ルホン酸を使った酸加水分解により、調製することがで
きる。

【００９１】対応する式Ｉａ₁のピラゾールニトリルま
たは式IIａのピラゾールアミドから出発する式Ｉｄのピ
ラゾールチオアミドの調製は、既知の方法、例えば"Met
hodicum Chimicum",第６巻，Georg Thieme Verlag, Stu
ttgart, 1974, 768-769 頁および“Methoden der Organ
ischen Chemie" [Methods in organic chemistry] (Hou
ben-Weyl),第E5巻, Georg Thieme Verlag, Stuttgart,
1985, 1242-1243 頁に記載されたものと同様にして行わ
れ、これは反応スキーム７に示される。

【００９２】反応スキーム７

【化１１９】

【００９３】反応スキーム７において、式Ｉａ₁，IIａ
およびＩｄの化合物中の基Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は式Ｉの
もとに定義した通りであるが、選択した反応条件下での
置換基の反応性または安定性を考慮に入れたものであ
る。

【００９４】反応スキーム７の方法ａ），ルートａ）に
従った反応は、式Ｉａ₁のピラゾールニトリルを使用
し、それを硫化水素と塩基触媒（例えば金属水酸化物、
塩基性イオン交換体、アルコキシド、アンモニアまたは
有機塩基、例えばピリジンおよびトリエチルアミン）を
使って、有機溶媒（例えばピリジンまたはアルコール）
中で、式Ｉｄのピラゾールチオアミドに変換することが
できる。所望であれば、溶媒（例えばスルホラン）中の
強塩基（例えばテトラメチルグアニジン）を触媒として
使用することも可能である。反応体の反応性によって、
反応温度は大きく異なり得る。所望であれば加圧反応器
の中で反応を行ってもよい。

【００９５】反応スキーム７の方法ａ），ルートｂ）に
従った反応は、式Ｉａ₁のピラゾールニトリルを使用
し、それを乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で硫化
水素供給源（例えばチオアセトアミド）と酸触媒（例え
ば乾燥塩化水素）を使って、20℃〜150 ℃の温度で、対
応する式Ｉｄのピラゾールチオアミドに変換することが
できる。

【００９６】反応スキーム７の方法ｂ）に従った反応
は、式IIａの第一級アミドから出発し、それを方法ａ）
のもとで言及した硫黄試薬または別の硫黄試薬（例えば
Lawesson試薬、五硫化リンまたは硫化鉄）の存在下で、
様々な極性および無極性溶媒（例えばトルエン、キシレ
ン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ジオキサンま
たはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）中で、20℃〜150
℃の温度において、式Ｉｄのピラゾールチオアミドに変
換することができる。

【００９７】式Ｉの範囲の中の他の化合物は全て、上述
した方法と同様にして、あるいは例えば"Methoden der
Organischen Chemie" [Methods in organic chemistry]
(Houben-Weyl), 第E 8b巻, Georg Thieme Verlag Stut
tgart, 1994, 399-400頁参照、"Pyrazoles, Pyrazoline
s, Pyrazolidines, Indazoles and Condensed Rings",
R.H. Wiley編, Interscience Publishers, New York, 1
967, 1-2頁参照、または"Comprehensive Heterocyclic
Chemistry", A.R. KatritzkyおよびC.W. Rees編, Perga
mon Press, Oxford, 1987中に記載されているような方
法に従って、あるいは例えば"Advanced Organic Chemis
try", 第３版，J. March編, John Wiley& Sons, New Yo
rk, 1985 ; "Comprehensive Organic Transformation
s", R.C.Larock編, VCH Publishers, Inc., New York,
1989 ;または"Comprehensive Organic Functional Grou
p Transformations", A.R. Katritzky, O. Meth-Cohn,
C.W. Rees 編, Pergamon Press, Oxford, 1995中に記載
されているような既知の標準法に従った誘導体化により
式Ｉの化合物から、調製することができる。

【００９８】反応スキーム１における式XXの出発化合物
は、既知の方法と同様に、例えば下記の反応スキーム８
に与えられる方法ａ），ｂ），ｃ）およびｄ）に従っ
て、調製することができる。

【００９９】反応スキーム８

【化１２０】

【０１００】反応スキーム８では、基Ｗは式Ｉのもとに
定義された基Ｗ，Ｗ₂またはＷ₃であるが、置換基のど
の定義もが与えられる方法全てと適合するわけではない
ことを考慮しなければならない。適当な調製方法の選択
は、問題の中間体の中の置換基の性質（反応性）に依存
する。

【０１０１】反応スキーム８の方法ａ）に従った反応
は、例えば式XXIIａのカルボン酸から出発して、Organi
c Reactions 18, 1 (1970), Organic Synthesis 49, 81
(1969) および"Comprehensive Organic Transformatio
ns", R.C. Larock編, VCH 1989, 685 頁と同様に、不活
性溶媒（好ましくはジエチルエーテル）中で、−100 ℃
〜50℃の温度で、式 XXIIIａのアルキルリチウムまたは
式 XXIIIｂのグリニャール試薬（塩化アルキルマグネシ
ウムまたは臭化アルキルマグネシウム）を使って行われ
る。

【０１０２】反応スキーム８の方法ｂ）に従った反応
は、J. Chem. Soc. 1954, 1297と同様に行われる。まず
式XXIIｂのアミンをジアゾ化して対応するジアゾニウム
塩を与え、そのジアゾニウム塩を式XXIVのオキシムと反
応させる。次いで加水分解、例えば水性酢酸ナトリウム
と硫酸銅を使った加水分解により、対応する式XXのメチ
ルケトンが得られる。

【０１０３】反応スキーム８の方法ｃ）に従った反応
は、"Vogel's Textbook of PracticalOrganic Chemistr
y", Longman 1989, 1006 頁および次頁参照, と同様に
行われる。ここで、式XXIIの芳香族化合物を式XXV のア
ルカンカルボン酸誘導体（例えばプロピオニルクロリ
ド）と酸（例えばルイス酸、例えば塩化アルミニウム）
の存在下で、溶媒を使ってまたは使わずに、０℃〜150
℃の温度で反応させる。

【０１０４】反応スキーム８の方法ｄ）に従った反応
は、"Advanced Organic Chemistry",J. March編, McGra
w-Hill Book Company, New York, 1985, 816-817 頁と1
057-1058 頁と同様に、式XXIIｃのアルデヒドから出発
して、式 XXIIIｂのグリニャール試薬（例えば塩化エチ
ルマグネシウムまたは臭化エチルマグネシウム）を使っ
て、または不活性溶媒（好ましくはジエチルエーテル）
中のエチルリチウムを使って、−80℃〜25℃の温度で反
応せしめ、次いで得られたアルコールを酸化せしめるこ
とによってケトンを与える。適当な酸化剤は、例えば、
過マンガン酸カリウム、二クロム酸ピリジニウムおよび
二クロム酸ナトリウムである。

【０１０５】式XXII, XXIIａ，XXIIｂおよびXXIIｃの出
発化合物は既知であり、既に開示されている方法により
調製することができる。

【０１０６】式XXａの出発化合物は、標準法と同様に、
例えばａ）式XVのブロモニトリル

【化１２１】（上式中、Ｒ₁は式Ｉのもとに定義した通りである）と
式XXIIｄのニトリルＷ−ＣＮ（XXIIｄ）（上式中、Ｗは式Ｉのもとに定義した通りである）との
Reformatsky 反応に続いて、例えばOrganomet. Chem. 7
1, 325 (1974) 中に記載された方法と同様な加水分解に
より；またはｂ）例えばJ. Am. Chem. Soc. 54, 2960 (1932) ；同
文献 79, 723 (1957) ；またはTetrahedron Lett. 197
9, 1585に記載された方法と同様にして、式XVI のニト
リルＲ₁−ＣＨ₂−ＣＮ (XVI) （上式中、Ｒ₁は式Ｉのもとに定義した通りである）と
式XXIIｅのエステルＷ−ＣＯＯＲ₇ （XXIIｅ）（上式中、Ｗは前に定義した通りでありそしてＲ₇はメ
チルまたはエチルである）とを、溶媒中、例えばメタノ
ールまたはエタノール中で、塩基、例えばアルコキシ
ド、例えばナトリウムメトキシドまたはナトリウムエト
キシドの存在下で、縮合せしめることにより；またはｃ）例えばJ. Heterocycl. Chem. 21, 1849 (1984)中
に記載された方法と同様にして、式XXｂの化合物

【化１２２】（上式中、ＷおよびＲ₁は前に定義した通りであり、そ
してＬ₁は脱離基、例えば塩素または臭素である）の置
換により；またはｄ）例えばJ. Am. Chem. Soc. 61, 1940 (1939) に記
載された方法と同様にして、式XXｃのケトニトリル

【化１２３】を、塩基および溶媒の存在下で、式 XIIｃのアルキル化
剤Ｒ₁−Ｌ₁ (XIIｃ) （式XXｃおよび XIIｃの化合物中のＷおよびＲ₁は前に
定義した通りであり、そしてＬ₁は脱離基、例えば塩
素、臭素またはC₆H₅SO₂O- である）を使ってアルキル化
することにより調製することができる。

【０１０７】反応スキーム２〜４における式XIａ，XI
ｂ，XIｄおよびXIｅの中間体は、既知の方法と同様に、
上述した式XXのメチルケトンから、例えば下記の反応ス
キーム９に与えられる方法ａ），ｂ），ｃ）およびｄ）
に従って調製することができる。

【０１０８】反応スキーム９

【化１２４】

【０１０９】反応スキーム９において基ＷおよびＲ₁は
式Ｉのもとに定義した通りであり、そしてＲ₈₁はＣ₁〜
Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルケニルまたはベン
ジルであり、特にメチルまたはエチルである。

【０１１０】反応スキーム９の方法ａ）に従った反応
は、ルートａ）：Chem. Communic. 1995, 1549 ; Liebigs A
nn. 641, 63 (1961) ;およびJ. Chem. Soc. 1943, 491
と同様にして、式XXのケトンを、塩基、特に対応するナ
トリウムアルコキシドの存在下で、溶媒、例えば対応す
るアルコールＲ₈₁ＯＨ中で、第二の溶媒、例えばエーテ
ルまたは炭化水素と一緒に、０℃から問題の溶媒の沸点
までの温度において、式XXI のジアルキルオキサレー
ト、好ましくはジメチルマロネートと反応させることに
よって；またはルートｂ）：式XXのケトンを、溶媒を使ってまたは使わ
ずに、20℃から問題の反応媒質の沸点までの温度におい
て、式 XXIａのヘキサアルコキシエタン、好ましくはヘ
キサメトキシエタンまたはヘキサエトキシエタンと反応
させることによって式XIａのジケトエステルを与える。
反応が溶媒中で行われる場合、トルエンが好ましい。こ
の反応は酸、例えば塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ
−トルエンスルホン酸またはトリフルオロ酢酸により触
媒させることができる。

【０１１１】反応スキーム９の方法ｃ）およびｄ）に従
った反応は方法ａ）について記載した手順と同様に進
み、そして式XIｄおよび式XIｅの中間体を与える。式XX
のケトンを一方で式XXVIｂのＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドのアセタール、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドジメチルアセタールまたはＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドジエチルアセタールと反応させると式XIｄの中
間体が形成され、他方で式XXVII のオルト蟻酸エステ
ル、好ましくはオルト蟻酸メチルまたはオルト蟻酸エチ
ルと反応させると式XIｅの中間体が形成される。

【０１１２】塩基（好ましくはナトリウムメトキシドま
たはナトリウムエトキシド）および溶媒（特にメタノー
ルまたはエタノール）の存在下で、０℃から反応混合物
の沸点までの温度での、反応スキーム９の方法ｂ）に従
った式XXのケトンと式XXVIａのアセタールエステル（好
ましくはメチルジメトキシアセテートまたはエチルジエ
トキシアセテート）との反応は、式XIｂのジケトアセタ
ールを与える。場合によって、追加の溶媒、例えばエー
テルを添加することもできる。

【０１１３】フェニル環の５位が置換されている式Ｉの
フェニルピラゾール（基Ｗ₁，置換基Ｒ₆）を調製する
ためには、多数の既知の標準法を利用することができる
が、適当な調製方法の選択は問題の中間体中の置換基の
性質（反応性）に依存する。幾つかの代表的例を反応ス
キーム10〜13に与える。

【０１１４】式Ｉ₃₇またはＩ₃₈のメトキシ置換またはベ
ンジルオキシ置換誘導体から出発する、フェニル環の５
位がＯ−置換されておりそしてＲ₆＝ＯＲ₂₀である式Ｉ
のフェニルピラゾール誘導体（Ｗ＝Ｗ₁）の調製が反応
スキーム10に示される。

【０１１５】反応スキーム10

【化１２５】

【０１１６】反応スキーム10中の式Ｉ₃₉のフェニルピラ
ゾール誘導体は、例えばａ）式Ｉ₃₇の化合物から、例え
ばSynthesis 1989, 287 中に記載の通りに高温でＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中で塩化リチウムを
使って、もしくは例えばOrg.Synth. Collect. 第Ｖ
巻，412, 1973 に記載の通りに−80℃〜20℃の温度でジ
クロロメタン中で三臭化ホウ素を使って、エーテル開裂
により；またはｂ）式Ｉ₃₈の化合物から、例えばJ. Am.
Chem. Soc. 93, 746 (1971)に記載の通りに、触媒、例
えばパラジウム／炭素の存在下で水素を使って、水添分
解により、得ることができる。

【０１１７】反応スキーム10において式Ｉの化合物を与
える式Ｉ₃₉のフェニルピラゾールの誘導体化は、標準法
により、例えばＲ₂₀−hal （ここでＲ₂₀は式Ｉのもとに
定義した通りでありそしてhal はハロゲン、特に塩素、
臭素またはヨウ素である）を使ったアルキル化により、
行うことができる。

【０１１８】５位が置換されていない式Ｉ₄₀の誘導体か
ら出発する、フェニル環の５位がＳ−置換されており且
つＲ₆＝Ｓ（Ｏ）_mＲ₃₀である式Ｉ（Ｗ＝Ｗ₁）のフェ
ニルピラゾール誘導体の調製は下記の反応スキーム11に
説明される。

【０１１９】反応スキーム11

【化１２６】

【０１２０】反応スキーム11における式Ｉ₄₂のチオフェ
ニルピラゾールの調製は、既知の方法と同様にして、例
えばJ. Org. Chem. 54, 6096 (1989) 、EP-A-0 259 265
または"Sulfonation and Related Reactions", Gilbert
編, Interscience Publishers, New York, 1965 に記載
された通りに行うことができる。その後、式Ｉ₄₀のフェ
ニルピラゾールを硫酸中の三酸化硫黄またはクロロスル
ホン酸を使ってクロロスルホニル化して式Ｉ₄₁の化合物
を与え、この化合物を次いで塩化錫または塩化亜鉛で還
元せしめて式Ｉ₄₂のチオフェノール誘導体を与える。反
応スキーム11における式Ｉの化合物を与える式Ｉ₄₂のチ
オフェニルピラゾールの誘導体化は、標準法により、例
えばＲ₃₀−hal （ここでＲ₃₀は式Ｉのもとに定義した通
りでありそしてhal はハロゲン、特に塩素、臭素または
ヨウ素である）を使ったアルキル化により、行うことが
できる（ｍ＝０）。式Ｉのスルフィンまたはスルホン誘
導体（それぞれｍ＝１または２）を与えるその後の酸化
も同じく標準法により、例えば過酸、例えばｍ−クロロ
過安息香酸を使って行うことができる。

【０１２１】５位が置換されていないかまたはトリフレ
ート置換されている式Ｉ₄₀およびＩ₄₇の誘導体から出発
する、フェニル環の５位がカルボキシ置換されており且
つＲ₆＝ハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｒ₁₀ＮＨ
またはＲ₁₀Ｒ₁₁Ｎである式Ｉ（Ｗ＝Ｗ₁）のフェニルピ
ラゾール誘導体の調製は下記の反応スキーム12に説明さ
れる。

【０１２２】反応スキーム12

【化１２７】

【０１２３】反応スキーム12において、Ｑは基

【化１２８】であり、ここでＲ₁〜Ｒ₃は式Ｉのもとに定義した通り
である。

【０１２４】反応スキーム12に従って、式Ｉ₄₀のフェニ
ルピラゾールを標準法により、例えば硝酸と硫酸の混合
物中でニトロ化し、次いで生成した式Ｉ₄₃のニトロ化合
物を触媒の存在下で水素を使って還元することにより、
またはBechampsの方法により、式Ｉ₄₄のアニリン誘導体
に変換することができる。次いで、式Ｉ₄₄のアニリン誘
導体を、標準法により、例えばアシル化もしくはエチル
化により、直接誘導体化して対応する式Ｉの化合物を与
えるか、またはジアゾ化とSandmeyer 反応を使って式Ｉ
₄₅のハロゲン化合物に変換することができる。反応スキ
ーム12中の式Ｉ₄₆のベンゾエートは、例えばJ. Org. Ch
em. 39, 3318 (1984) または同文献 40,532 (1975) と
同様にして、式Ｉ₄₅の化合物から、一酸化炭素と触媒、
例えば塩化パラジウムトリフェニルホスフィン〔PdCl
₂(TPP)₂ 〕を使って、溶媒、例えばエタノールの存在下
で、高温で、加圧を使ってまたは使わずに、得ることが
できる。式Ｉ₄₆の中間体を合成する他の可能性は、Tetr
ahedron Letters 25, 2271 (1984) および同文献 27, 3
931 (1986)と同様な方法である。これによれば、式Ｉ ₄₇
の化合物を触媒、例えばパラジウムの存在下でカルボニ
ル化する。次いで式Ｉ₄₆の安息香酸エステルの加水分解
により式Ｉ₄₈の安息香酸誘導体を与え、これを標準法に
より、例えばエステル化またはアミド化により、対応す
る式Ｉの化合物に変換することができる。

【０１２５】フェニル環の５位が置換されており且つＲ
₆がＲ₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｒ₅₂ＺＣ
（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｒ₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ
₂〜Ｃ₈アルケニル、Ｒ₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ₂〜Ｃ₈アル
キニル、Ｒ₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ₂〜Ｃ₈ハロアルケニル、
Ｒ₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルまたはＲ₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ
−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルである式Ｉ（Ｗ＝Ｗ₁）のフェニ
ルピラゾール誘導体の調製は、フェニル環の５位がハロ
ゲンにより、特に塩素、臭素またはヨウ素により置換さ
れている式Ｉ₄₅の誘導体から出発して、Heck反応により
〔ルートａ）〕、またはフェニル環の５位がアミノによ
り置換されている式Ｉ₄₄の誘導体から出発して、ジアゾ
化とその後のMeerwein反応により〔ルートｂ）〕行わ
れ、これは反応スキーム13に説明される。

【０１２６】反応スキーム13

【化１２９】

【０１２７】反応スキーム13において、Ｑは基

【化１３０】であり、ここでＲ₁〜Ｒ₃は式Ｉのもとに定義した通り
である。

【０１２８】反応スキーム13のルートａ）に従って、例
えばW.G. Dauben 編, R.F. Heck, Organic Reactions 2
7, 345 (1982) と同様にしてHeck反応によって、式Ｉ₄₉
のアルキニルエステル誘導体を調製することができる。
標準法により、例えば部分または完全水素化によって対
応するＲ₅₂ＺＣ（Ｏ）アルケニルまたはＲ₅₂ＺＣ（Ｏ）
アルキル誘導体を得ることができ、そしてハロゲン化に
よって対応するＲ₅₂ＺＣ（Ｏ）ハロアルケニルまたはＲ
₅₂ＺＣ（Ｏ）ハロアルキル誘導体を得ることができる。

【０１２９】反応スキーム13のルートｂ）に従って、例
えばOrganic Reactions 11, 189-260 (1960)と同様に式
Ｉ₄₄のアニリン誘導体からジアゾ化とMeerwein反応によ
り、式Ｉ₅₀のＲ₅₂ＺＣ（Ｏ）アルキル誘導体を調製する
ことができる。それから既知の標準法により、例えば水
添分解またはハロゲンの脱離により、対応する式ＩのＲ
₅₂ＺＣ（Ｏ）ハロアルキルまたはＲ₅₂ＺＣ（Ｏ）アルケ
ニル誘導体を調製することができる。

【０１３０】Ｗが基

【化１３１】であり、そしてＲ₄，Ｒ₇₀およびＡ₁−Ｂ₁が式Ｉのも
とに定義した通りである、式Ｉの化合物のベンゾフラン
およびジヒドロベンゾフラン環の調製を、下記の反応ス
キーム14, 15および16に詳細に示す。

【０１３１】反応スキーム14

【化１３２】

【０１３２】反応スキーム15

【化１３３】

【０１３３】反応スキーム16

【化１３４】

【０１３４】反応スキーム14, 15および16において、Ｑ
は基

【化１３５】であり、ここでＲ₁〜Ｒ₃は式Ｉのもとに定義した通り
である。

【０１３５】式VIIIａのアリルエーテルは、反応スキー
ム14に従って、例えばEP-A-0 617 033明細書（第３頁45
〜46行目）またはUS-A-4 881 967明細書（第11段落、17
〜39行目）と同様にして、不活性有機溶媒、例えばアセ
トン、アセトニトリルまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドを使ってまたは使わずに、塩基、例えば炭酸カリウ
ムの存在下で、式VII の化合物を式XIV （式中Ｌ₁は脱
離基、例えばハロゲン、特に塩素または臭素である）の
アリル誘導体と反応せしめることにより、得ることがで
きる。

【０１３６】式IXａのアリル化フェノール誘導体は、対
応する式VIIIａのアリルエーテルを熱転位反応にかける
ことにより得られる。この転位反応（クライゼン転位）
は、例えばEP-A-0 617 033明細書（第３頁17〜44行目）
またはUS-A-4 881 967明細書（第10段落30行目〜第10段
落最終行まで）と同様にして、溶媒、例えばトルエン、
キシレン、メシチレンまたはテトラリンおよび第三級ア
ミン、例えばＮ，Ｎ−ジエチルアニリンまたはそれらの
混合物を使ってまたは使わずに、20℃〜300 ℃の温度、
好ましくは100 ℃〜250 ℃の温度で、0.5 〜48時間実施
される。所望であれば、この転位反応は密閉した加圧容
器の中で行うことができる。

【０１３７】あるいは、この転位反応は、例えばUS-A-4
881 967明細書（第10段落66行目〜第10段落最終行、お
よび第11段落１〜７行目）と同様に、不活性溶媒、例え
ばジクロロメタン中で、０℃〜25℃の温度で、ルイス酸
触媒、例えば三塩化ホウ素の存在下でも実施することが
できる。

【０１３８】式IXａの化合物のその後の環化反応は、１
または複数の方法により、例えばUS-A-4 881 967明細書
（第８段落56行目〜第８段落最終行、および第９段落１
〜３行目）と同様にして、ただし特には不活性有機溶
媒、例えばキシレン中で、酸、例えばｐ−トルエンスル
ホン酸の存在下で、酸触媒を使って行うことができる。

【０１３９】Ｒ₇₂がヒドロキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル
（Ｒ₇₂＝−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ₈）である式Ｉの化合物の
調製は、反応スキーム15に従って、例えばEP-A-0 617 0
33明細書（第３頁最後の欄、および第４頁１〜50行目）
と同様にして、式IXａの化合物を例えばｍ−クロロ過安
息香酸（MCPA）を使って、有機溶媒の存在下でエポキシ
化し、次いでその生成物を環化せしめることにより実施
される。

【０１４０】反応スキーム16中の式VIIIｂのアリルエー
テルは、例えばEP-A-0 561 319明細書と同様にして、対
応する式VII のフェノールと式XIV のアリル誘導体から
調製することができる（反応スキーム14；Ｒ₇₁＝塩
素）。

【０１４１】式IXｂのフェノールは、反応スキーム14に
記載した手順と同様にして、式VIIIｂのアリルエーテル
を加熱することにより得ることができる。この熱転位反
応は、150 ℃〜250 ℃の温度で、不活性有機溶媒を使っ
てまたは使わずに、２〜100時間に渡り実施される。

【０１４２】式IXｂのフェノールのその後の環化は、好
都合には酸、例えば無機酸、例えば塩酸、硫酸もしくは
ポリリン酸、有機酸、例えばｐ−トルエンスルホン酸も
しくはトリフルオロメタンスルホン酸、またはカルボン
酸、例えば蟻酸、酢酸もしくはトリフルオロ酢酸の存在
下で行われる。式Ｖｂのフェノールに対する使用する酸
の量は 1.1：1 から 100：1 までである。

【０１４３】環化反応は、溶媒、例えば芳香族炭化水
素、例えばベンゼンもしくはトルエン、ハロゲン化炭化
水素、例えばクロロホルムもしくは四塩化炭素、無機
酸、例えば塩酸もしくは硫酸、有機酸、例えば酢酸、お
よび水、を使ってまたは使わずに行われる。それらの溶
媒は混合物の形で使用することもできる。

【０１４４】この環化は好結果には０℃〜100 ℃、好ま
しくは５℃〜80℃の温度で、0.5 〜24時間に渡って実施
される。

【０１４５】式Ｉの化合物を与えるためのベンゾフラニ
ルまたはジヒドロベンゾフラニル間の２位の置換基Ｒ₇₂
〔または−ＣＨ₂Ｒ₈もしくは−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ₈〕
のその先の全ての官能基変換反応は、反応スキーム14,
15および16に従って式Ｉの化合物から出発して、例えば
EP-A-0 617 033明細書（第３頁、最後の段落から第８頁
まで）、EP-A-0 561 319明細書（第３頁、最後の段落か
ら第10頁まで）またはUS-A-4 881 967明細書（第13およ
び14段落）に記載された手順と同様にして、実施するこ
とができる。

【０１４６】式VII の出発フェノール（反応スキーム1
4）は、例えば反応スキーム17において示したように、
それぞれ式VII₁またはVII₂の対応するメトキシまたはベ
ンジルオキシ置換誘導体（ここでＲ₄およびＲ₇₀は式Ｉ
のもとに定義した通りであり、そしてＱは基

【化１３６】であり、ここでＲ₁〜Ｒ₃は式Ｉのもとに定義した通り
である）から、得ることができる。

【０１４７】反応スキーム17

【化１３７】

【０１４８】このスキームのルートａ）に従って、例え
ばSynthesis 1989, 287 に記載された通りに、高温で
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中の塩化リチ
ウムを使って、または例えばOrg. Synth., Collect. 第
Ｖ巻, 412, 1973 に記載されたように、−80℃〜20℃の
温度でジクロロメタン中の三臭化ホウ素を使って、式VI
I₁の化合物をエーテル開裂にかけ、あるいはルートｂ）
に従って、例えばJ. Am.Chem. Soc. 93, 746 (1971)に
記載されたように、触媒、例えばパラジウム／炭素の存
在下で水素を使って式VII₂の化合物を水添分解にかけ
る。

【０１４９】反応スキーム17中の式VII₁およびVII₂の化
合物は、標準法により、例えばUS-A-4 452 981明細書お
よびEP-A-0 061 741明細書に記載されたように、式VII₃
の既知フェノール

【化１３８】（ここでＲ₄およびＲ₇₀は式Ｉのもとに定義した通りで
ある）から、ベンゼン環をニトロ化し、そしてフェノー
ル機能をそれぞれメチル化またはベンジル化し、次いで
ニトロ基を還元して、対応する式VII₄のアニリン誘導体

【化１３９】（ここでＲ₄およびＲ₇₀は上述した意味を有し、そして
Ｒ₁₂はメチルまたはベンジルである）を与え、次いで上
述したようにしてピラゾール環を構築することにより、
調製することができる。

【０１５０】反応スキーム14中の式XIV の出発化合物は
既知であるか、または開示された方法により調製するこ
とができる。

【０１５１】ベンゾフラニルまたはジヒドロベンゾフラ
ニル環の２位が置換されている式Ｉ他の全ての化合物
（Ｗ＝Ｗ₃；Ｒ₇₂）の調製には多数の既知の標準法、例
えばアルキル化、ハロゲン化、アシル化、アミド化、オ
キシム化、酸化および還元が利用可能であり、適当な調
製方法の選択は問題の中間体中の置換基の性質（反応
性）に依存する。

【０１５２】式Ｖ₀の中間体

【化１４０】〔上式中、Ｒ₁，Ｒ₃およびＷは式Ｉのもとに定義した
通りであり、そしてＲ₀₂はＨＯＣ（Ｏ）−、ＯＨＣ−、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₃もしくはＣ₄ア
ルケニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）₂ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄
アルキル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルス
ルホニル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキ
ルスルホニル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
キシカルボル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
ルコキシカルボニル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、アミノ、Ｃｌ
Ｃ（Ｏ）−またはＨ₂ＮＣ（Ｏ）−である〕は新規であ
る。それらは、式Ｉの化合物の合成のための重要な中間
体を表す。従って、本発明はそれらの化合物であって、
ただし下式

【化１４１】の化合物を除く化合物に関する。

【０１５３】式Ｉの最終生成物は、溶媒を濃縮または蒸
発せしめることにより通常のやり方で単離することがで
き、そしてそれらが易溶性でない（難溶性である）溶
媒、例えばエーテル、芳香族炭化水素もしくは塩素化炭
化水素中で固体残渣を再結晶もしくは粉砕することによ
り、蒸留により、またはカラムクロマトグラフィーと適
当な溶離剤を使うことにより、精製することができる。

【０１５４】当業者は更に、幾つかの系列反応、例えば
反応スキーム１，12および14の反応を好都合に実施する
ことにより、起こり得る副反応を回避できることを知る
だろう。

【０１５５】純粋な異性体を単離するために標的指向型
の合成を実施しない限り、生成物は２以上の異性体の混
合物の形で得られる場合がある。それらの異性体はそれ
自体既知の方法により分離することができる。

【０１５６】式Ｉの化合物のまたはそれらを含んで成る
組成物の本発明に係る使用に適する施用方法は、農業に
おいて常用されるあらゆる方法、例えば出芽前施用、出
芽後施用、および種子粉衣、並びに様々な方法および技
術、例えば活性成分の制御放出である。このためには、
溶解された活性成分が粒剤または重合粒剤用の無機担体
（尿素／ホルムアルデヒド）に適用されそして乾燥され
る。所望であれば、特定の期間に渡る活性成分の制御放
出を可能にするコーティングを更に施すことができる
（コーティング粒剤）。

【０１５７】式Ｉの化合物は未変更の形、即ち合成で得
られた形で使うことができるが、それらは好ましくは製
剤技術において常用される補助剤と一緒に常法により加
工して濃縮乳剤、直接噴霧可能なもしくは希釈可能な液
剤、希釈乳剤、水和剤、可溶性散剤、粉剤、粒剤または
マイクロカプセル剤を与えることができる。施用方法、
例えば散布、噴霧、微粒化、湿潤、展着または注入方
法、および組成物のタイプは、意図する目的および優先
する状況に合うように選択される。

【０１５８】製剤、即ち式Ｉの活性成分または少なくと
も１つの式Ｉの活性成分と、一般に１もしくは複数の固
体もしくは液体製剤補助剤とを含んで成る組成物、調製
物または製品は、既知の方法で、例えば活性成分を製剤
補助剤（例えば溶剤または固形担体）と十分に混合およ
び／または粉砕することにより調製される。その上更
に、製剤を調製する時に界面活性化合物（界面活性剤）
を使用してもよい。

【０１５９】適当な溶剤は次のものであることができ
る：芳香族炭化水素、好ましくは留分Ｃ₈〜Ｃ₁₂、例え
ばキシレン混合物もしくは置換ナフタレン、またはフタ
ル酸エステル、例えばフタル酸ジブチルもしくはフタル
酸ジオクチル；脂肪族炭化水素、例えばシクロヘキサン
もしくはパラフィン；アルコールおよびグリコール、並
びにそれらのエーテルおよびエステル、例えばエタノー
ル、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテルもしくはエチレングリコールモノエチルエー
テル；ケトン、例えばシクロヘキサノン；強極性溶剤、
例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキ
シドもしくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、およびエ
ポキシ化もしくは非エポキシ化植物油、例えばエポキシ
化ヤシ油もしくは大豆油、または水。

【０１６０】例えば粉剤および分散性散剤に用いること
ができる固形担体は、一般に、粉砕した天然鉱物、例え
ば方解石、タルク、カオリン、モンモリロン石またはア
タパルジャイトである。製剤の物性を改善するために、
高分散性シリカまたは高分散性吸着ポリマーを添加する
ことも可能である。粒剤用の可能な粒状吸着担体は多孔
質タイプのもの、例えば軽石、れんが、セピオライトま
たはベントナイトであり、そして適当な非収着性担体材
料は例えば、方解石または砂である。加えて、多数の無
機または有機性質の予備粉砕材料、例えば特にドロマイ
トまたは微粉砕した植物残渣を使ってもよい。

【０１６１】適当な界面活性化合物は、製剤しようとす
る式Ｉの活性成分の種類に依存して、優れた乳化性、分
散性および湿潤性を有する、非イオン性、陽イオン性お
よび／または陰イオン性の界面活性剤および界面活性剤
混合物である。

【０１６２】適当な陰イオン性界面活性剤はいわゆる水
溶性石鹸だけでなく、水溶性合成界面活性化合物である
こともできる。

【０１６３】石鹸としては、高級脂肪酸（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）
のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩または置換もし
くは非置換アンモニウム塩、例えばオレイン酸もしくは
ステアリン酸のナトリウム塩もしくはカリウム塩、また
は例えばヤシ油もしくは獣脂から得ることができる天然
脂肪酸混合物のナトリウム塩もしくはカリウム塩を挙げ
ることができる。脂肪酸メチルタウリネートも言及しな
ければならない。

【０１６４】しかしながら、いわゆる合成界面活性剤、
特に脂肪アルコールスルホネート、脂肪アルコールスル
フェート、スルホン化ベンズイミダゾール誘導体または
アルキルアリールスルホネートがより頻繁に使われる。

【０１６５】一般に、脂肪アルコールスルホネートまた
は脂肪アルコールスルフェートはアルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩または置換もしくは非置換アンモニウム
塩の形で存在し、そして炭素原子数８〜22のアルキル基
（ここでアルキルはアシル基のアルキル成分も含む）を
有し、例えばリグノスルホン酸の、ドデシル硫酸エステ
ルの、または天然脂肪酸から調製した脂肪アルコールス
ルフェート混合物の、ナトリウム塩もしくはカルシウム
塩である。これは脂肪アルコールの硫酸エステルおよび
スルホン酸／エチレンオキシド付加物の塩も包含する。
スルホン化ベンズイミダゾール誘導体は、好ましくは２
個のスルホ基と１個のＣ₈〜Ｃ₂₂脂肪酸基を含有する。
アルキルアリールスルホネートの例は、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸の、ジブチルナフタレンスルホン酸のまた
はナフタレンスルホン酸／ホルムアルデヒド縮合物の、
ナトリウム、カルシウムまたはトリエタノールアミン塩
である。

【０１６６】他の可能な物質は、適当なホスフェート、
例えばｐ−ノニルフェノール／（４−１４）エチレンオ
キシド付加物のリン酸エステルの塩、またはリン脂質で
ある。

【０１６７】適当な非イオン性界面活性剤は主に、３〜
30個のグリコールエーテル基と、（脂肪族）炭化水素基
中に８〜20個の炭素原子またはアルキルフェノールのア
ルキル基中に６〜18個の炭素原子を含有することができ
る、脂肪族もしくは脂環式アルコール、飽和もしくは不
飽和脂肪酸およびアルキルフェノールのポリグリコール
エーテル誘導体である。

【０１６８】他の適当な非イオン性界面活性剤は、アル
キル鎖中に１〜10個の炭素原子を有しそして20〜250 個
のエチレングリコールエーテル基と10〜100 個のプロピ
レングリコールエーテル基を有するポリプロピレングリ
コール、エチレンジアミノポリプロピレングリコールお
よびアルキルポリプロピレングリコールの水溶性ポリエ
チレンオキシド付加物である。上記化合物は通常、１ポ
リプロピレングリコール単位あたり１〜５エチレングリ
コール単位を含有する。

【０１６９】非イオン性界面活性剤の例としては、ノニ
ルフェニルポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリ
コールエーテル、ポリプロピレン／ポリエチレンオキシ
ド付加物、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノー
ル、ポリエチレングリコールおよびオクチルフェノキシ
ポリエトキシエタノールを挙げることができる。

【０１７０】ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸エ
ステル、例えばポリオキシエチレンソルビタントリオレ
エートも適当である。

【０１７１】陽イオン性界面活性剤は、特に、Ｎ−置換
基として少なくとも１つのＣ₈〜Ｃ₂₂アルキル基と、追
加の置換基としてハロゲン化もしくは非ハロゲン化低級
アルキル、ベンジルまたは低級ヒドロキシアルキル基と
を含有する第四級アンモニウム塩である。好ましくは、
それらの塩はハロゲン化物、メチルスルフェートまたは
エチルスルフェートの形であり、例えばステアリルトリ
メチルアンモニウムクロリドまたはベンジルジ（２−ク
ロロエチル）エチルアンモニウムブロミドである。

【０１７２】製剤技術において常用されており、且つ本
発明の組成物においても使用することができる界面活性
剤は、特に、"Mc Cutcheon's Detergents and Emulsifi
ersAnnual" MC Publishing Corp., Ridgewood New Jers
ey, 1981, Stache, H., "Tensid-Taschenbuch" [Surfac
tant Guide], Carl Hanser Verlag, Munich/Vienna,198
1 およびM. & J. Ash, "Encyclopedia of Surfactant
s", Vol I-III, Chemical Publishing Co,, New York,
1980-81 中に記載されている。

【０１７３】除草性製剤は、一般に、0.1 〜99重量％、
特に0.1 〜95重量％の除草剤、１〜99.9重量％、特に５
〜99.8重量％の固体または液体製剤補助剤、および０〜
25重量％、特に0.1 〜25重量％の界面活性剤を含んで成
る。

【０１７４】市販品としては濃縮組成物がより好ましい
けれども、最終使用者は概して希釈組成物を使用する。
組成物は他の添加剤、例えば安定剤、例えばエポキシ化
もしくは非エポキシ化植物油（エポキシ化ヤシ油、菜種
油または大豆油）、消泡剤、例えばシリコーン油、保存
剤、粘度調節剤、結合剤、粘着付与剤および肥料または
別の活性成分を含んで成ることもできる。

【０１７５】好ましい製剤は特に下記のものから構成さ
れる：（％＝重量百分率）濃縮乳剤活性成分：１〜90％、好ましくは５〜50％界面活性剤：５〜30％、好ましくは10〜20％溶剤： 15〜94％、好ましくは70〜85％

【０１７６】粉剤活性成分： 0.1 〜50％、好ましくは0.1 〜１％固形担体： 99.9〜90％、好ましくは99.9〜99％

【０１７７】濃縮懸濁液活性成分：５〜75％、好ましくは10〜50％水： 94〜24％、好ましくは88〜30％界面活性剤：１〜40％、好ましくは２〜30％

【０１７８】水和剤活性成分： 0.5〜90％、好ましくは１〜80％界面活性剤： 0.5〜20％、好ましくは１〜15％固形担体：５〜95％、好ましくは15〜90％

【０１７９】粒剤活性成分： 0.1 〜30％、好ましくは0.1 〜15％固形担体： 99.5〜70％、好ましくは97〜85％

【０１８０】一般に、式Ｉの活性成分は、異性体Ｉａと
Ｉｂから成る混合物としてまたは純粋な異性体Ｉａもし
くはＩｂとして、0.001 〜４kg／ヘクタールの施用量
で、特に0.005 〜２kg／ヘクタールの施用量で、植物に
またはその環境に好結果に施用することができる。所望
の作用に必要とされる量は経験により決定することがで
きる。それは作用形態、作物および雑草の生長段階、並
びに施用（場所、時期、方法）に依存し、そしてそれら
のパラメーターによって広範囲に異なることができる。

【０１８１】式Ｉの化合物、および概して、特に式Ｉａ
の異性体は、それらの化合物を有用作物、特に穀物、
綿、大豆、サトウダイコン、サトウキビ、アブラナ（菜
種）、トウモロコシおよび米への使用に、並びに非選択
的雑草防除（トータル・ベジテーション・マネージメン
ト，ＴＶＭ）に適当にする、除草性および成長抑制性に
より識別される。

【０１８２】作物はまた、通常の植物育種法または遺伝
子工学法によって除草剤にまたは複数の部類の除草剤に
耐性にされているものとして理解すべきである。防除す
べき雑草は単子葉植物だけでなく双子葉植物の雑草、例
えばハコベ（Stellaria ）、オランダガラシ（Nasturti
um）、ヌカボ（Agrostis）、メヒシバ（Digitaria ）、
カラスムギ（Avena ）、アワ（Setaria ）、カラシ（Si
napis ）、ドクムギ（Lolium）、ナス・ジャガイモ（So
lanum ）、インゲンマメ（Phaseolus ）、ヒエ（Echino
chloa ）、ホタルイ（Scirpus ）、コナギ（Monochori
a）、クワイ（Sagittaria）、キツネガヤ（Bromus）、
スズメノテッポウ（Alopecurus）、モロコシ（Sorghum
halepense ）、ツノアイアシ（Rottboellia ）、カヤツ
リ（Cyperus ）、ボウマ（Abutilon）、キンゴジカ（Si
da）、オナモミ（Xanthium）、ヒユ（Amaranthus）、ア
ガサ（Chenopodiumm）、アサガオ（Ipomoea ）、キク
（Chrysanthemum ）、ヤエムグラ（Galium）、スミレ
（Viola ）およびイヌフグリ（Veronica）であることが
できる。

【０１８３】下記の例は何ら限定を課することなく本発
明をより詳細に説明する。調製例：例Ｈ１：３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキ
シフェニル）−４−メチル−５−メトキシカルボニル−
〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１４２】

【０１８４】13.0 gの１−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−メトキシフェニル）−１−プロパノンと7.4 g の
シュウ酸ジメチルを50 ml の無水テトラヒドロフランに
添加する。22℃で攪拌しながら10分間に渡りメタノール
中の5.4 Ｍナトリウムメトキシド溶液12 ml を滴下添加
し、次いで１時間攪拌を続ける。後処理した試料の薄層
分析（シリカゲル 60 Ｆ₂₅₄、ｎ−ヘキサン／酢酸エチ
ル／氷酢酸＝20／20／１(v/v/v) 、ＵＶ）は、出発物質
が全部反応したことを示す。

【０１８５】反応混合物を氷と２Ｍ塩酸の混合物中に注
ぎ、それをジエチルエーテルで抽出する。エーテル相を
水と塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過
し、そして真空中で濃縮する。これは18.0 gの黄色固体
を与え、その固体を80 ml の氷酢酸に添加する。それと
同時に、シリンジを使って3.2 mlのヒドラジン水和物を
ゆっくりと添加する（発熱）。この混合物を次いで攪拌
しながら一晩穏やかに還流させる。反応混合物を真空中
で蒸発乾固せしめ、残渣を四塩化炭素で希釈した後、再
び濃縮する。得られた残渣を酢酸エチルから40 gのシリ
カゲルに適用する。シリカゲルをフラッシュクロマトグ
ラフィーカラムに適用した後、それをｎ−ヘキサン／酢
酸エチル／氷酢酸＝ 100/50/1 (v/v/v) の混合物を使っ
て溶出させる。黄色固体として所望の化合物 3.2 gが得
られる。質量スペクトル： [M]⁺298, 266, 210 。

【０１８６】例Ｈ２：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−メトキシフェニル）−４−メチル−５−メトキシ
カルボニル−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１４３】

【０１８７】4.0 g の３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−メトキシフェニル）−４−メチル−５−メトキシ
カルボニル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ１）を15 ml
の乾燥Ｎ−メチルピロリドンに溶かす。5.6 g の炭酸カ
リウムを添加した後、混合物を攪拌し、2 mlのＮ−メチ
ルピロリドン中の2.1 g のヨウ化メチルの溶液を22℃で
ゆっくり滴下添加し、そして同じ温度で４時間攪拌を続
ける。後処理した試料の薄層分析（シリカゲル 60 Ｆ
₂₅₄、トルエン／氷酢酸＝10／１(v/v) 、ＵＶ）は、出
発物質がもはや存在しないことを示す。反応混合物を水
で希釈し、ジエチルエーテルで抽出する。合わせた有機
相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、
そして濾液を8 g のシリカゲルと一緒にして、真空中で
蒸発乾固せしめる。シリカゲルをフラッシュクロマトグ
ラフィーカラムに充填した後、それをｎ−ヘキサン／酢
酸エチル＝２／１(v/v) の混合物を使って溶出させる。
m.p.135-137℃の所望の化合物 2.6 gが得られる。

【０１８８】m.p. 99-103 ℃のレギオ異性体５−（４−
クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）−４−
メチル−３−メトキシカルボニル−１−メチル−〔１
Ｈ〕−ピラゾール 1.35 g が副生成物としてその次の画
分において溶出される。

【化１４４】

【０１８９】例Ｈ３：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−メトキシフェニル）−４−メチル−５−カルボキ
シル−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１４５】

【０１９０】2.3 g の３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−メトキシフェニル）−４−メチル−５−メトキシ
カルボニル−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ
２）を22℃において20 ml のジオキサン中に添加し、次
いで３Ｍ水酸化ナトリウム水溶液 4 ml を滴下添加す
る。次に反応液を一晩攪拌した後、希塩酸で酸性にし、
酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を水と塩水で洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして濾液
を真空中で蒸発乾固せしめる。白色固体として2.2 g の
所望の化合物が得られる。¹ H NMR: (DMSO-D₆):オフセットした酸プロトン；7.55 p
pm (1H, d); 7.11 ppm (1H, d); 4.10 ppm (3H, s); 3.
86 ppm (3H, s)。

【０１９１】例Ｈ４：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−メトキシフェニル）−４−メチル−５−カルバモ
イル−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１４６】 2.2 g の３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキ
シフェニル）−４−メチル−５−カルボキシル−１−メ
チル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ３）を10 ml の１，
３−ジクロロエタンに添加する。最初に、２〜３滴のジ
メチルホルムアミドを加え、次に1.3 mlの塩化チオニル
を加える。この懸濁液を攪拌しながら穏やかに一晩還流
させる。次いで黄色溶液を真空中で蒸発させ、20 ml の
四塩化炭素で処理し、再度濃縮する。2.48 gの黄色固体
が得られ、その固体を3 mlのテトラヒドロフランに溶か
す。この溶液を22℃において20 ml の30％水性アンモニ
ア溶液に滴下添加し、攪拌を２時間続ける。得られた懸
濁液を酢酸エチルで抽出し、合わせた有機相を水と塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、真空中
で蒸発乾固せしめる。m.p. 224-226℃の淡褐色固体とし
て2.0 g の所望の化合物が得られる。

【０１９２】例Ｈ５：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−メトキシフェニル）−４−メチル−５−シアノ−
１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１４７】 2.0 g の３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキ
シフェニル）−４−メチル−５−カルバモイル−１−メ
チル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ４）を10 ml のジオ
キサンに導入する。1.3 mlのピリジンを加えた後、混合
物を氷浴中で冷却し、攪拌しながら1.4 mlのトリフルオ
ロ酢酸無水物をシリンジを使って滴下添加する。冷却下
で攪拌を１時間続ける。後処理した試料の薄層分析（シ
リカゲル60 Ｆ₂₅₄、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／
１(v/v) 、ＵＶ）は、出発物質が全部反応したことを示
す。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、希塩酸、希炭酸
水素ナトリウム溶液および塩水で順次抽出する。有機相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして濾液を真
空中で蒸発乾固せしめる。m.p. 155-156℃の無色固体と
して1.8 g の所望の生成物が得られる。

【０１９３】レギオ異性体５−（４−クロロ−２−フル
オロ−５−メトキシフェニル）−４−メチル−３−メト
キシカルボニル−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール
（例Ｈ２）も同様にして対応するシアノ誘導体に変換す
ることができる。

【化１４８】

【０１９４】例Ｈ６：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−シアノ
−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１４９】 3.04 gの塩化リチウム水和物（LiCl・H₂O ）を22℃にお
いて、90 ml のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の2.8
g の３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフ
ェニル）−４−メチル−５−シアノ−１−メチル−〔１
Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ５）に添加する。反応混合物を
還流温度に加熱し、この温度で４日間維持しておいた
が、その最中に幾らかのＤＭＦ（約5 ml）が留去され
る。得られた反応混合物を次いで希水性塩酸中に注ぎ、
ジクロロメタンで抽出する。分離した有機相を水と塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空中で蒸
発させる。得られた残渣をシリカゲルカラム（溶離剤：
酢酸エチル／ヘキサン 1/1）上で精製する。1.61 gの収
量（理論量の60.9％）で所望の生成物が得られる。

【０１９５】同様な方法で2.96 gの３−（２，４−ジク
ロロ−５−メトキシフェニル）−４−メチル−５−シア
ノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾールから、1.92 g
（理論量の68.3％）の所望の３−（２，４−ジクロロ−
５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−シアノ−
１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（化合物番号Ｉ₃₆.1
03）が得られる。

【０１９６】例Ｈ７：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−プロパルギルオキシフェニル）−４−メチル−５
−シアノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１５０】 1.33 gの３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロ
キシフェニル）−４−メチル−５−シアノ−１−メチル
−〔１Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ６）を25 ml のアセトン
に溶かし、そこに1.38 gの炭酸カリウムを加える。反応
混合物を22℃で10分間攪拌し、次いで攪拌しながら0.89
g（0.56 ml ）のプロパルギルブロミドを滴下添加し、
そしてこの温度で５時間攪拌を続ける。続いて溶媒を真
空中で留去し、残渣をジエチルエーテル中に取り出す。
エーテル性溶液を水と塩水で洗浄しそして溶媒を蒸発さ
せた後、1.36 gの収量（理論量の89.9％）で所望の生成
物が得られる。

【０１９７】同様な方法で1.41 gの３−（２，４−ジク
ロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−シ
アノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾールから、1.38 g
（理論量の86.4％）の所望の３−（２，４−ジクロロ−
５−プロパルギルオキシフェニル）−４−メチル−５−
シアノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（化合物番
号Ｉ₃.027 ）が得られる。

【０１９８】例Ｈ８：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−ヨードフェニル）−４−メチル−５−シアノ−１
−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１５１】 5.86 gの亜硝酸イソアミルを15℃以下の温度で、54 g
（16 ml ）のジヨードメタン中の2.64 gの３−（５−ア
ミノ−４−クロロ−２−フルオロフェニル）−４−メチ
ル−５−シアノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾールの
溶液に滴下添加する。反応混合物を22℃で14時間攪拌
し、過剰のジヨードメタンを真空中で蒸発させる。次い
で全てのジヨードメタンを70〜75℃／14トルで留去した
後、粗生成物をシリカゲルカラム上で精製する（溶離
剤：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）。1.88 gの収量
（理論量の50.2％）で所望の生成物が得られる。

【０１９９】同様な方法で2.81 gの３−（５−アミノ−
２，４−ジクロロフェニル）−４−メチル−５−シアノ
−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾールから、2.04 g（理
論量の52.1％）の所望の３−（２，４−ジクロロ−５−
ヨードフェニル）−４−メチル−５−シアノ−１−メチ
ル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（化合物番号Ｉ₃₆.111）が得
られる。

【０２００】例Ｈ９：３−〔４−クロロ−２−フルオロ
−５−（２−クロロ−２−カルベトキシ）プロパ−１−
イルフェニル〕−４−メチル−５−シアノ−１−メチル
−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１５２】前もってマイクロ波オーブン中で乾燥しておいた2.2 g
の塩化銅（II）水和物を50 ml のアセトニトリルに添加
する。この攪拌懸濁液にまず24.5 g (26.7 ml)のメタク
リル酸エチルを添加する。次いでこの混合物を−５℃に
冷却し、1.66 gの亜硝酸tert−ブチルを滴下添加し、次
いで70 ml のアセトニトリル中に溶かした2.84 gの３−
（５−アミノ−４−クロロ−２−フルオロフェニル）−
４−メチル−５−シアノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラ
ゾールを、−５℃〜０℃において1/2 〜１時間かけて添
加する。この反応混合物を０℃で１時間攪拌し、続いて
22℃で更に１時間攪拌した後、溶媒を蒸発させ、残渣を
ジエチルエーテルに溶かす。このエーテル性溶液を水と
飽和水性炭酸水素ナトリウム溶液で順次洗浄し、濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶
離剤：酢酸エチル／ヘキサン＝１／９）により精製す
る。2.16 g（理論量の50.5％）の所望の化合物が得られ
る。

【０２０１】例Ｈ10：３−｛４−クロロ−２−フルオロ
−５−〔（Ｎ，Ｎ−ビスエタンスルホニル）アミノ〕フ
ェニル｝−４−メチル−５−シアノ−１−メチル−〔１
Ｈ〕−ピラゾール

【化１５３】 2.12 gの３−（５−アミノ−４−クロロ−２−フルオロ
フェニル）−４−メチル−５−シアノ−１−メチル−
〔１Ｈ〕−ピラゾールを25 ml のジクロロメタンに溶か
し、そこに2.19 g (3.01 ml)のトリエチルアミンを加え
る。この混合物を−15℃に冷却し、2.37 g (1.74 ml)の
エタンスルホニルクロリドを滴下添加する。次いでこの
混合物を22℃にゆっくり加熱し、希水性塩酸で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮する。得られた粗生成
物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝１／２）により精製すると、3.05 g（理
論量の85％）の所望の生成物が得られる。

【０２０２】例Ｈ11：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−エタンスルホンアミドフェニル）−４−メチル−
５−シアノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１５４】 6.5 mlの２Ｎ水酸化ナトリウム溶液を、15 ml のジオキ
サン中の2.93 gの３−｛４−クロロ−２−フルオロ−５
−〔（Ｎ，Ｎ−ビスエタンスルホニル）アミノ〕フェニ
ル｝−４−メチル−５−シアノ−１−メチル−〔１Ｈ〕
−ピラゾール（例Ｈ10）の溶液に滴下添加し、この混合
物を22℃で１時間攪拌する。次いで該混合物を氷水混合
物中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。混合物を濾
過しそして濃縮した後、2.31 g（理論量の90.6％）の所
望の生成物が得られる。

【０２０３】例Ｈ12：３−｛４−クロロ−２−フルオロ
−５−〔（Ｎ−アリル−Ｎ−エタンスルホニル）アミ
ノ〕フェニル｝−４−メチル−５−シアノ−１−メチル
−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１５５】 0.63 gの炭酸カリウムを、30 ml のテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）中の1.08 gの３−（４−クロロ−２−フルオ
ロ−５−エタンスルホンアミドフェニル）−４−メチル
−５−シアノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（例
Ｈ11）の溶液に添加する。この懸濁液に攪拌下で0.55 g
の臭化アリルを滴下添加し、この混合物をまず22℃で一
晩攪拌し、次いで40〜50℃で更に８時間攪拌する。溶媒
を蒸発させ、得られた残渣をシリカゲル上で精製する
（溶離剤：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）。1.19 g
（理論量の99.5％）の所望の生成物が得られる。

【０２０４】例Ｈ13：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−カルベトキシフェニル）−４−メチル−５−シア
ノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１５６】 5.2 g の３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヨード
フェニル）−４−メチル−５−シアノ−１−メチル−
〔１Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ８）、60 ml のメタノー
ル、2.8 g のトリエチルアミンおよび0.4 g のビス（ト
リフェニルホスフィン）パラジウム（II）ジクロリド
〔PdCl₂(PPh₃)₂〕を100 mlの耐圧容器中に入れ、100 ℃
の温度および10メガパスカル(Mpa) の一酸化炭素圧にお
いて16時間攪拌する。次いで溶媒を蒸発させ、残った粗
生成物をシリカゲルカラム上で精製する（溶離剤：酢酸
エチル／ヘキサン＝１／５）。3.1 g （理論量の69.3
％）の所望の生成物が得られる。

【０２０５】例Ｈ14：３−（４−クロロ−２−フルオロ
−５−カルボキシフェニル）−４−メチル−５−シアノ
−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１５７】 3.1 g の３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−カルベ
トキシフェニル）−４−メチル−５−シアノ−１−メチ
ル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ13）を22 mlのジオキ
サンに溶かし、22℃において10 ml の２Ｎ水性水酸化ナ
トリウム溶液を滴下添加する。反応が完了するまで混合
物を攪拌し、次いで溶媒を蒸発させ、得られた残渣を水
に溶かし、その溶液を塩酸を使ってpH 1に調整する。生
成した沈澱を濾過し、乾燥する。2.63 gの収量（理論量
の89.8％）で所望の生成物が得られる。

【０２０６】例Ｈ15：３−（４−クロロ−２−フルオロ
フェニル）−４−メチル−５−シアノ−１−メチル−
〔１Ｈ〕−ピラゾール（異性体Ａ）および３−（４−ク
ロロ−２−フルオロフェニル）−４−シアノ−１，５−
ジメチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（異性体Ｂ）

【化１５８】 16.3 gの４−クロロ−２−フルオロフェニルメチルヒド
ラゾノイルブロミド臭化水素酸塩を275 mlのトルエンに
添加し、混合物を攪拌する。この攪拌懸濁液に8.92 gの
２−ブロモ−２−ブテノニトリルを加え、次いで8.5 ml
のトリエチルアミンを滴下添加する（発熱）。この懸濁
液を60℃で２時間攪拌する。次いで混合物を冷却し、濾
過し、固体をトルエンで洗浄し、トルエン相を１Ｎ水性
塩酸で抽出し、次いで水と塩水で洗浄し、そして硫酸ナ
トリウム上で乾燥する。溶媒を蒸発させ、得られた粗生
成物をシリカゲルカラム上で精製する（溶離剤：酢酸エ
チル／ヘキサン＝１／４）。得られた生成物は7.68 gの
収量（理論量の65.4％）の所望の異性体Ａと0.91 gの収
量（理論量の7.7 ％）の異性体Ｂである。

【０２０７】例Ｈ16：３−〔４−クロロ−２−フルオロ
−５−（カルボン酸−１−エトキシカルボニル−１−メ
チルエチルエステル）フェニル〕−４−メチル−５−シ
アノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール

【化１５９】

【０２０８】２滴のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）、次に1.01 gの塩化オキサリルを、30 ml の乾燥
ジクロロメタン中の1.17 gの３−（４−クロロ−２−フ
ルオロ−５−カルボキシフェニル）−４−メチル−５−
シアノ−１−メチル−〔１Ｈ〕−ピラゾール（例Ｈ14）
の攪拌溶液に滴下添加する。この混合物を22℃で１時間
攪拌し、次いで10分間還流させる。溶媒および過剰の塩
化オキサリルを蒸発させ、残った残渣を30 ml の乾燥ジ
クロロメタンに溶かす。この溶液に8 mlのピリジン中の
0.605 g の２−ヒドロキシイソ酪酸エチルを滴下添加
し、この混合物を22℃で一晩攪拌する。続いて溶媒を蒸
発させ、得られた残渣を酢酸エチルに溶かし、この溶液
をまず水で次に塩水で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上
で乾燥する。溶媒を蒸発させ、粗生成物をシリカゲルカ
ラム上で精製する（溶離剤：酢酸エチル／ヘキサン＝１
／８）。1.06 gの収量（理論量の65.4％）で所望の生成
物が得られる。

【０２０９】下記に与える表に列挙する化合物も同様な
方法で調製することができる。下記の第１表〜第６表お
よび第８表〜第10表において、同じ置換基の変数を有す
る幾つかの構造Ｉ_n，II₁，II₂，III₁，III₂，III _n
またはＶ_n、例えば第１表中のＲ₅とＲ₆または第５表
中のＲ₂，Ｒ₃，Ｒ₄，Ｒ₅およびＲ₇₂を有する第１表
中のＩ₁〜Ｉ₈または第５表中のＩ₃₃〜Ｉ₃₅は、簡潔の
ために組み合わされる。

【０２１０】よって、前に言及した表では、表の見出し
に言及される全ての構造Ｉ_n，II₁，II₂，III₁，II
I₂，III _nまたはＶ_nは（第１表の場合はｎ＝１〜
８）、表中に言及される意味と組み合わせる予定であ
る。第１表中では、例えば、Ｉ_n.001は、Ｒ₅とＲ₆が
各場合に塩素または水素である８つの特定化合物Ｉ₁.0
01，Ｉ₂.001，Ｉ₃.001，Ｉ₄.001，Ｉ₅.001，Ｉ₆.0
01，Ｉ₇.001およびＩ₈.001の各々を開示する。

【０２１１】第１表：式Ｉ₁〜Ｉ₈の化合物

【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

【表５】

【表６】

【表７】

【表８】

【表９】

【０２１２】第２表：式Ｉ₉〜Ｉ₂₁の化合物

【表１０】

【表１１】

【表１２】

【表１３】

【表１４】

【０２１３】第３表：式Ｉ₂₂〜Ｉ₂₈の化合物

【表１５】

【表１６】

【０２１４】第４表：式Ｉ₂₉〜Ｉ₃₂の化合物

【表１７】

【表１８】

【０２１５】第５表：式Ｉ₃₃〜Ｉ₃₅の化合物

【表１９】

【表２０】

【表２１】

【表２２】

【０２１６】第６表：式Ｖ₁，Ｖ₂，II₁およびIII₁の
化合物

【表２３】

【表２４】

【表２５】

【表２６】

【表２７】

【表２８】

【表２９】

【表３０】

【表３１】

【表３２】

【表３３】

【表３４】

【表３５】

【表３６】

【０２１７】第７表：式Ｉ₃₆の化合物

【表３７】

【表３８】

【表３９】

【表４０】

【０２１８】第８表：式Ｖ₃，Ｖ₄，II₂およびIII₂の
化合物

【表４１】

【表４２】

【表４３】

【０２１９】第９表：式II₃，Ｖ₅，Ｖ₆およびIII₃の
化合物

【表４４】

【表４５】

【表４６】

【０２２０】第10表：式III₄，III₅およびIII₆の化合物

【表４７】

【０２２１】第11表：物理化学データと合わせた前記第
１表〜第10表からの調製化合物。

【表４８】

【表４９】

【０２２２】式Ｉの活性成分の製剤例（％＝重量百分率）例Ｆ１：濃縮乳剤ａ）ｂ）ｃ）ｄ）第１〜５および７表の活性成分５％ 10％ 25％ 50％ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６％８％６％８％ヒマシ油ポリグリコールエーテル４％ − ４％４％（36モルのＥＯ）オクチルフェノールポリグリコール − ４％ − ２％エーテル（７〜８モルのＥＯ）シクロヘキサノン − − 10％ 20％芳香族炭化水素混合物Ｃ₉〜Ｃ₁₂ 85％ 78％ 55％ 16％

【０２２３】上記のような濃縮物から水でそれらを希釈
することにより任意の所望の濃度の乳剤を調製すること
ができる。

【０２２４】例Ｆ２：液剤ａ）ｂ）ｃ）ｄ）第１〜５および７表の活性成分５％ 10％ 50％ 90％１−メトキシ−３−（３−メトキシ − 20％ 20％ − プロポキシ）プロパンポリエチレングリコール MW 400 20％ 10％ − − Ｎ−メチル−２−ピロリドン − − 30％ 10％芳香族炭化水素混合物Ｃ₉〜Ｃ₁₂ 75％ 60％ − − 上記液剤は小滴の形成に適当である。

【０２２５】例Ｆ３：水和剤ａ）ｂ）ｃ）ｄ）第１〜５および７表の活性成分５％ 25％ 50％ 80％リグノスルホン酸ナトリウム４％ − ３％ − ラウリル硫酸ナトリウム２％３％ − ４％ジイソブチルナフタレンスルホン酸 − ６％５％６％ナトリウムオクチルフェニルポリグリコール − １％２％ − エーテル（７〜８モルのＥＯ）高分散性シリカ１％３％５％ 10％カオリン 88％ 62％ 35％ −

【０２２６】活性成分を添加剤と徹底的に混合し、その
混合物を適当なミルの中で徹底的に粉砕する。その結果
水で希釈して任意の所望の濃度の懸濁液を得ることがで
きる水和剤が得られる。

【０２２７】例Ｆ４：コーティング粒剤ａ）ｂ）ｃ）第１〜５および７表の活性成分 0.1％５％ 15％高分散性シリカ 0.9％２％２％無機担体材料（φ0.1 〜1 mm） 99.0％ 93％ 83％例えばCaCO₃またはSiO₂ 活性成分を塩化メチレン中に溶かし、その溶液を担体上
に噴霧し、次いで溶媒を真空中で蒸発させる。

【０２２８】例Ｆ５：コーティング粒剤ａ）ｂ）ｃ）第１〜５および７表の活性成分 0.1％５％ 15％ポリエチレングリコール MW 200 1.0％２％３％高分散性シリカ 0.9％１％２％無機担体材料（φ0.1 〜1 mm） 98.0％ 92％ 80％例えばCaCO₃またはSiO₂ ミキサー中で、微粉砕した活性成分を、ポリエチレング
リコールで湿らせてある担体材料に均等に適用する。こ
うして、無塵性コーティング粒剤が得られる。

【０２２９】例Ｆ６：押出粒剤ａ）ｂ）ｃ）ｄ）第１〜５および７表の活性成分 0.1％３％５％ 15％リグノスルホン酸ナトリウム 1.5％２％３％４％カルボキシメチルセルロース 1.4％２％２％２％カオリン 97.0％ 93％ 90％ 79％活性成分を添加剤と混合し、混合物を粉砕しそして水で
湿らせる。この混合物を押し出し、次いで空気流の中で
乾燥させる。

【０２３０】例Ｆ７：粉剤ａ）ｂ）ｃ）第１〜５および７表の活性成分 0.1％１％５％タルク 39.9％ 49％ 35％カオリン 60.0％ 50％ 60％活性成分を担体と混合しそして混合物を適当なミルの中
で粉砕することにより、すぐ使用できる粉剤が得られ
る。

【０２３１】例Ｆ8 ：濃縮懸濁液ａ）ｂ）ｃ）ｄ）第１〜５および７表の活性成分３％ 10％ 25％ 50％エチレングリコール５％５％５％５％ノニルフェニルポリグリコール − １％２％ − エーテル（15モルのＥＯ）リグノスルホン酸ナトリウム３％３％４％５％カルボキシメチルセルロース１％１％１％１％ 37％水性ホルムアルデヒド溶液 0.2％ 0.2％ 0.2％ 0.2％シリコーン油乳剤 0.8％ 0.8％ 0.8％ 0.8％水 87％ 79％ 62％ 38％微粉砕した活性成分を添加剤と十分に混合する。その結
果、水で希釈することにより任意の所望の濃度の懸濁液
を調製することができる濃縮懸濁液が得られる。

【０２３２】生物学的例例Ｂ１：植物の出芽前除草作用（出芽前作用）単子葉および双子葉試験植物をプラスチック鉢の中で標
準土壌中で生長させる。種まきした直後に、25％濃縮乳
剤〔例Ｆ１，ｃ）〕から調製した水性懸濁液または乳濁
液の形で、500 g の活性成分（a.i.）／ヘクタール（50
0 L の水／ヘクタール）の用量に相当する試験物質を噴
霧する。その後、試験植物を最適条件下で温室中で生長
させる。３週間の試験期間の後、実験を９段階のスケー
ル（１＝完全な被害、９＝作用なし）で評価する。１〜
４の得点数値（特に１〜３）は良好〜非常に良好な除草
作用を表す。

【０２３３】試験植物：カラスムギ（Avena ）、アワ
（Setaria ）、ジャガイモ（Solanum）、ハコベ（Stell
aria ）、アサガオ（Ipomoea ）。本発明の化合物は良
好な除草活性を有する。式Ｉの化合物の良好な除草活性
の例を下の第Ｂ１表に示す。

【０２３４】第Ｂ１表：出芽前作用：

【表５０】

【０２３５】例Ｆ２〜Ｆ８に従って式Ｉの化合物を製剤
した時も同じ結果が得られる。

【０２３６】例Ｂ２：出芽後除草作用温室中で、単子葉および双子葉試験植物をプラスチック
鉢の中で標準土壌中で生長させ、そして４〜６葉期に、
25％濃縮乳剤〔例Ｆ１，ｃ）〕から調製した試験物質の
水性懸濁液または乳濁液〔500 g の活性成分（a.i.）／
ヘクタール（500 L の水／ヘクタール）の用量に相当す
る〕を噴霧する。その後、試験植物を最適条件下で温室
中で生長させる。約18日の試験期間の後、実験を９段階
のスケール（１＝完全な被害、９＝作用なし）で評価す
る。１〜４の得点数値（特に１〜３）は良好〜非常に良
好な除草作用を表す。

【０２３７】試験植物：アワ（Setaria ）、カラシ（Si
napis ）、ジャガイモ（Solanum ）、ハコベ（Stellari
a ）、アサガオ（Ipomoea ）。この試験においても、式
Ｉの化合物は有力な除草活性を示す。式Ｉの化合物の良
好な除草活性の例を下の第Ｂ２表に示す。

【０２３８】第Ｂ２表：出芽後作用：

【表５１】

【０２３９】例Ｆ２〜Ｆ８に従って式Ｉの化合物を製剤
した時も同じ結果が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０７Ｄ 231/38 Ｃ０７Ｄ 231/38 Ａ 241/18 241/18 405/04 ２３１ 405/04 ２３１ 413/04 ２３１ 413/04 ２３１ 417/04 ２３１ 417/04 ２３１ (72)発明者ゲオルクピソータスドイツ連邦共和国，79539 ルラフ，アムゾネンライン 71 (72)発明者ハンス−ゲオルクブルナースイス国，4415 ローゼン，バネンシュトラーセ 14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式Ｉの化合物【化１】｛上式中、Ｒ₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり；Ｒ₂はシアノまたは
ＮＨ₂Ｃ（Ｓ）−であり；Ｒ₃は水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アル
ケニル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロ
アルケニル、ＮＣ−ＣＨ₂−、ＨＯＣ（Ｏ）−ＣＨ
₂−、またはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ（Ｏ）−ＣＨ₂
−であり；Ｗは【化２】であり；Ｒ₄は水素、フッ素、塩素、臭素またはメチル
であり；Ｒ₅は水素、ハロゲン、メチル、エチル、シア
ノ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ、ヒドロキ
シ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ、ＨＯＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシ、ＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
シ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
コキシ、メルカプト、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、ＨＯＣ
（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキ
シカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、ベンジルオキ
シ、またはハロゲンにより、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより
もしくはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルにより単置換〜三置換
されているベンジルオキシであり；Ｒ₆は水素、ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、アミノ、ＣｌＳ（Ｏ）₂−、Ｒ₁₀
ＮＨまたはＲ₁₀Ｒ₁₁Ｎであり〔ここでＲ₁₀およびＲ₁₁は
互いに独立にＣ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃ハロアルケニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロア
ルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ
₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニル、ベンゾイル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりも
しくはハロゲンにより単置換〜三置換されているベンゾ
イル、あるいはベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルに
より、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハロゲン
により単置換〜三置換されているベンジルである〕；あ
るいはＲ₆は−ＯＲ₂₀であり〔ここでＲ₂₀は水素、Ｃ₁
〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈ア
ルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、【化３】、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ル、【化４】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルケニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ
₄アルキルアミノ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ジ−Ｃ₁〜Ｃ
₄アルキルアミノ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ
₁〜Ｃ₄アルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、【化５】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｃ（Ｏ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）
₂−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、【化６】、またはフェニル、ベンジル、ピリジル、ピリミジニ
ル、ピラジニルもしくはピリダジニルであって、前記芳
香環およびヘテロ芳香環はＣ₁〜Ｃ₄アルキルにより、
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより
単置換〜三置換されていてもよく；またはＲ₂₀はＲ₂₁Ｘ
Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキルまたは【化７】であり；Ｘは酸素、硫黄またはＲ₂₂Ｎであり；Ｒ₂₁は水
素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃
〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ
₆シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄
アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜三
置換されているフェニル、ベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄
アルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜三置換
されているベンジルであり；そしてＲ₂₂は水素、Ｃ₁〜
Ｃ₈アルキルまたはＣ₃〜Ｃ₈アルケニルである〕；あ
るいはＲ₆は−Ｓ（Ｏ）_mＲ₃₀であり〔ここでｍは０，
１または２であり；Ｒ₃₀は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、
Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₁〜
Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロアルケニル、Ｃ₃〜
Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ
₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₈アル
キル、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ
₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜
三置換されているフェニル、ベンジル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハ
ロゲンにより単置換〜三置換されているベンジル、また
はＲ₃₁ＶＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルであり；Ｖは酸
素、硫黄またはＲ₃₂Ｎであり；Ｒ₃₁は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈
アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁
〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニル、
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルに
よりもしくはハロゲンにより単置換〜三置換されている
フェニル、ベンジル、または、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによ
り、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンに
より単置換〜三置換されているベンジルであり；Ｒ₃₂は
水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキルまたはＣ₃〜Ｃ₈アルケニル
である〕；あるいはＲ₆は【化８】であり〔ここでＲ₃₃は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃
〜Ｃ₈アルケニルまたはＣ₃〜Ｃ₈アルキニルであり；
Ｒ₃₄は水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニルまたはＣ₁〜Ｃ₄アルキルカ
ルボニルである〕；あるいはＲ₆は−ＣＯＲ₄₀であり
〔ここでＲ₄₀は水素、塩素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₂
〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈
ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₈ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆
シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜三
置換されているフェニル、ベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄
アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしく
はハロゲンにより単置換〜三置換されているベンジルで
ある〕；あるいはＲ₆は−ＣＯＹＲ₅₀であり〔ここでＹ
は酸素、硫黄、Ｒ₅₁ＮまたはＲ₅₄ＯＮであり；Ｒ₅₀は水
素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃
〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、【化９】、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロアルケニル、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₁アル
キル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル、【化１０】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニル、Ｃ
₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによ
りもしくはハロゲンにより単置換〜三置換されているフ
ェニル、ベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルにより、
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより
単置換〜三置換されているベンジルであり、あるいはＣ
₁〜Ｃ₈アルキルカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｒ
₅₂ＺＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルまたはＲ₅₂ＺＣ
（Ｏ）−Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルであり；Ｚは酸素、
硫黄、Ｒ₅₃ＮまたはＲ₅₅ＯＮであり；Ｒ₅₂は水素、Ｃ₁
〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈ア
ルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、【化１１】、Ｃ₃〜Ｃ₈ハロアルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキ
ル、【化１２】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキ
ル、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜三
置換されているフェニル、ベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₄
アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりもしく
はハロゲンにより単置換〜三置換されているベンジルで
あり；Ｒ₅₁およびＲ₅₃は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₈アルキ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₈アルキニル、Ｃ
₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルスルホニ
ル、ベンゾイル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ
₄ハロアルキルによりもしくはハロゲンにより単置換〜
三置換されているベンゾイル、ベンジル、またはＣ₁〜
Ｃ₄アルキルにより、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルによりも
しくはハロゲンにより単置換〜三置換されているベンジ
ルであり；Ｒ₅₄およびＲ₅₅は互いに独立にＣ₁〜Ｃ₄ア
ルキルである〕；あるいはＲ₆はＢ−Ｃ₁〜Ｃ₈アルキ
ル、Ｂ−Ｃ₁〜Ｃ₈ハロアルキル、Ｂ−Ｃ₂〜Ｃ₈アル
ケニル、Ｂ−Ｃ₂〜Ｃ₈アルキニル、Ｂ−Ｃ₂〜Ｃ₈ハ
ロアルケニル、Ｂ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄
アルキルまたはＢ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ−Ｃ₁〜Ｃ
₄アルキルであり；そしてＢは水素、Ｒ₅₂ＺＣ（Ｏ）
−、シアノまたはＣ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルであ
る〕；Ｘ₁およびＸ₂は互いに独立に酸素または硫黄で
あり；Ｒ₆₀は水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり；Ｒ
₆₁は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアル
キル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、
ベンジル、ハロゲンにより置換されたベンジル、Ｃ₁〜
Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキル−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
コキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、
ＨＯＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、ＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ
₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル−
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルコキシカルボ
ニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキ
シカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキ
ニルオキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ
₆アルキルチオ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₃
〜Ｃ₆アルケニルチオ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆
アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ
₁〜Ｃ₆アルキル、Ｒ₆₂Ｒ₆₃ＮＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキル、【化１３】、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケ
ニルオキシカルボニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシカ
ルボニル、オキセタニルオキシカルボニル、ＨＯＣ
（Ｏ）−Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコ
キシカルボニル−Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ
₆アルケニルオキシカルボニル−Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアル
キル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシカルボニル−Ｃ₃〜
Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルチオ−Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ−Ｃ（Ｏ）−
Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキルまたはＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ₃〜
Ｃ₆シクロアルキルであり；Ｒ₆₂は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、ベンジル、フェニル、ま
たはハロゲンにより、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによりもしく
はＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルにより単置換〜三置換されて
いるフェニルであり；Ｒ₆₃はＲ₆₂の意味を有するか、あ
るいはＣ₃〜Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆ハロシク
ロアルキル、フェニル、またはハロゲンにより、Ｃ₁〜
Ｃ₄アルキルによりもしくはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルに
より単置換〜三置換されているフェニルであり；ｎ₁は
０，１，２，３または４であり；Ｒ₇₀は水素、ハロゲ
ン、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、アミノまた
はＣ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシであり；Ａ₁−Ｂ₁は下記
の基【化１４】であって、前記の炭素原子２が酸素原子に結合してお
り；Ｒ₇₁は水素またはＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり；Ｒ₇₂
は水素、シアノ、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロ
アルキル、シアノ−Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ヒドロキシ−
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ
₆アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄
アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルカルボニルオキシ−Ｃ₁〜
Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル−Ｃ₁
〜Ｃ₆アルキル、ＨＯＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、
ＣｌＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、カルボキシル、Ｃ
ｌＣ（Ｏ）−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜
Ｃ₆ハロアルコキシカルボニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル
オキシカルボニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルオキシカルボ
ニル、Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルコキシカルボニル、Ｃ₁〜
Ｃ₆アルコキシ−Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、ハロゲンにより単置換〜三置
換されているベンジルオキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ア
ルコキシカルボニル、ＨＯＣ（Ｓ）−、Ｃ₁〜Ｃ₆アル
キルチオ−Ｃ（Ｏ）−、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルチオ−
Ｃ（Ｏ）−、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニルチオ−Ｃ（Ｏ）−、
Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニルチオ−Ｃ（Ｏ）−、ベンジルチオ
−Ｃ（Ｏ）−、ベンジル、ハロゲンにより単置換〜三置
換されているベンジル、またはＲ₇₃Ｒ₇₄ＮＣ（Ｏ）−、
フェノキシカルボニルもしくはフェニル−Ｃ₁〜Ｃ₆ア
ルキルであって、前記フェニル環はハロゲンにより、Ｃ
₁〜Ｃ₄アルキルによりもしくはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキ
ルにより置換されてもよく、あるいはＮＨ₂Ｃ（Ｓ）−
またはＯＨＣ−であり；Ｒ₇₃は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル、ベ
ンジル、ハロゲンにより、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによりも
しくはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルにより単置換〜三置換さ
れているベンジル、またはＣ₁〜Ｃ₆ハロアルキルであ
り；Ｒ₇₄はＲ₇₃の意味を有するか、あるいはフェニル、
またはハロゲンにより、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルによりもし
くはＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキルにより単置換〜三置換され
ているフェニルである｝、または前記式Ｉの化合物のピ
ラゾールＮ−オキシド、作物栽培学上許容される塩もし
くは立体異性体であって、下式【化１５】の化合物を除いた化合物。
【請求項２】Ｒ₁がメチルでありそしてＲ₃がメチル
またはエチルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】Ｒ₄がフッ素である、請求項２に記載の
化合物。
【請求項４】Ｒ₄が塩素である、請求項２に記載の化
合物。
【請求項５】Ｒ₄が水素である、請求項２に記載の化
合物。
【請求項６】Ｗが基【化１６】であり、そしてＲ₄，Ｒ₅およびＲ₆が請求項１に定義
した通りである、請求項１に記載の化合物。
【請求項７】Ｒ₅が塩素、臭素、メチル、シアノまた
はトリフルオロメチルである、請求項６に記載の化合
物。
【請求項８】Ｗが基【化１７】であり、そしてＲ₄，Ｒ₆₀，Ｒ₆₁，Ｘ₁，Ｘ₂およびｎ
₁が請求項１に定義した通りである、請求項１に記載の
化合物。
【請求項９】Ｒ₄が水素、フッ素または塩素であり、
そしてＸ₁が酸素である、請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】Ｗが基【化１８】であり、Ｒ₄が水素、フッ素または塩素であり、そして
Ｂ₁がメチレンである、請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】式Ｉａ【化１９】（上式中、ＷおよびＲ₁〜Ｒ₃は請求項１に記載した通
りである）により表される、請求項１に記載の化合物。
【請求項１２】Ｒ₁がメチルであり、Ｒ₂がシアノで
あり、そしてＲ₃がメチルまたはエチルである、請求項
１１に記載の化合物。
【請求項１３】Ｗが基【化２０】であり、そしてＲ₄がフッ素または塩素である、請求項
１２に記載の化合物。
【請求項１４】Ｗが基【化２１】であり、そしてＲ₄がフッ素または塩素である、請求項
１２に記載の化合物。
【請求項１５】Ｗが基【化２２】であり、そしてＲ₄がフッ素または塩素である、請求項
１２に記載の化合物。
【請求項１６】式Ｉの化合物【化２３】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は請求項１に定義した通
りであり、そしてＲ₂はシアノである）の調製方法であ
って、ａ）式IIａまたはIIｂの化合物【化２４】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前に定義した通りであ
る）を脱水し；またはｂ）まず式 IIIａまたは IIIｂの化合物【化２５】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前に定義した通りであ
る）をジアゾ化し、次いで生成したジアゾニウム塩を式
Ｘの塩Ｍ⁺ＣＮ^- （Ｘ）（上式中、Ｍ⁺はアルカリ金属、アルカリ土類金属また
は遷移金属イオンである）と反応せしめ；またはｃ）式IVａまたはIVｂの化合物【化２６】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前に定義した通りであ
る）をヒドロキシルアミンまたはその塩と反応せしめ、
次いで中間体として生成したオキシムを脱水し；またはｄ）式ＶａまたはＶｂの化合物【化２７】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は請求項１に定義した通
りであり、そしてＲ₈₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もし
くはＣ₄アルケニルまたはベンジルである）を、不活性
有機溶媒の存在下でジメチルアルミニウムアミドと反応
せしめることを含んで成る方法。
【請求項１７】式Ｉの化合物【化２８】〔上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は請求項１に定義した通
りであり、そしてＲ₂はＮＨ₂Ｃ（Ｓ）−である〕の調
製方法であって、ａ）式Ｉａ₁またはＩｂ₁の化合物【化２９】を、塩基触媒を使って有機溶媒中の硫化水素と、または
酸触媒を使って硫化水素供給源と反応せしめ；またはｂ）式IIａまたはIIｂの化合物【化３０】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₃は前に定義した通りであ
る）を溶媒中で適当な硫黄試薬と反応せしめることを含
んで成る方法。
【請求項１８】式ＶａまたはＶｂの化合物【化３１】（上式中、Ｒ₁およびＷは請求項１に定義した通りであ
り、Ｒ₃はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アル
ケニルまたはＣ₃もしくはＣ₄アルキニルであり、そし
てＲ₈₁はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ₄アルケ
ニルまたはベンジルである）の調製方法であって、ａ）ヒドラジンを使って式XIａの化合物【化３２】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₈₁は前に定義した通りであ
る）を変換して式Ｖｃの化合物【化３３】を与え、次いでこの化合物を式 XIIａの化合物Ｒ₃−Ｌ₁ (XIIａ) または式 XIIｂの化合物Ｒ₃ＯＳＯ₂ＯＲ₃ (XIIｂ) （式 XIIａおよび XIIｂの化合物中の基Ｒ₃は前に定義
した通りであり、そしてＬ₁は脱離基である）の存在下
でアルキル化し；またはｂ）式XIａの化合物【化３４】（上式中、Ｗ，Ｒ₁およびＲ₈₁は前に定義した通りであ
る）を、式XIIIの化合物ＮＨ₂ＮＨ−Ｒ₃ （XIII）（上式中、Ｒ₃は前に定義した通りである）を使って環
化せしめることを含んで成る方法。
【請求項１９】式VIａまたはVIｂの化合物【化３５】（上式中、Ｒ₁およびＷは請求項１に定義した通りであ
り、そしてＲ₃はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₃もしくはＣ
₄アルケニルまたはＣ₃もしくはＣ₄アルキニルであ
る）の調製方法であって、式XIｂの化合物【化３６】（上式中、ＷおよびＲ₁は前に定義した通りである）
を、ａ）ヒドラジンを使って環化せしめて式VIｃの化合物【化３７】を与え、次いでこの化合物を式 XIIａの化合物Ｒ₃−Ｌ₁ (XIIａ) または式 XIIｂの化合物Ｒ₃ＯＳＯ₂ＯＲ₃ (XIIｂ）（式 XIIａおよび XIIｂの化合物中の基Ｒ₃は前に定義
した通りであり、そしてＬ₁は脱離基である）の存在下
でアルキル化し；またはｂ）式XIIIの化合物ＮＨ₂ＮＨ−Ｒ₃ （XIII）（上式中、Ｒ₃は前に定義した通りである）を使って環
化せしめることを含んで成る方法。
【請求項２０】式Ｖ₀の化合物【化３８】〔上式中、Ｒ₁，Ｒ₃およびＷは請求項１に定義した通
りであり；そしてＲ₀₂はＨＯＣ（Ｏ）−、ＯＨＣ−、Ｃ
₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₃もしくはＣ₄アル
ケニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、
（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ）₂ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホ
ニル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルス
ルホニル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ
カルボニル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、アミノ、（Ｃ₁〜Ｃ₄
ハロアルコキシカルボニル）−Ｏ−Ｎ＝ＣＨ−、ＣｌＣ
（Ｏ）−またはＨ₂ＮＣ（Ｏ）−である〕であって、た
だし下式【化３９】の化合物を除く化合物。
【請求項２１】除草性および植物生長抑制性の組成物
であって、式Ｉの化合物の除草有効量と不活性担体とを
含んで成る組成物。
【請求項２２】式Ｉの活性成分を0.1 ％〜95％含んで
成る、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】望ましくない植物の生長を抑制する方
法であって、式Ｉの活性成分またはこの活性成分を含ん
で成る組成物の除草有効量を、有用植物の作物にまたは
それらの環境に施用することを含んで成る方法。
【請求項２４】１ヘクタールあたり0.001 〜4 kgの活
性成分の量を施用することを含んで成る、請求項２３に
記載の方法。
【請求項２５】植物の生長を抑制する方法であって、
式Ｉの活性成分またはこの活性成分を含んで成る組成物
の有効量を、植物にまたはそれらの環境に施用すること
を含んで成る方法。
【請求項２６】望ましくない植物の生長を抑制するた
めの請求項２１に記載の組成物の使用。
【請求項２７】前記有用植物の作物が穀物、トウモロ
コシ、米、綿、大豆、油料種子なたね、モロコシ類、サ
トウキビ、サトウダイコン、ヒマワリ、野菜類および飼
料用植物である、請求項２３に記載の方法。