JPH10154329A - Apparatus for production of magnetic recording medium - Google Patents

Apparatus for production of magnetic recording medium

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JPH10154329A
JPH10154329A JP31158596A JP31158596A JPH10154329A JP H10154329 A JPH10154329 A JP H10154329A JP 31158596 A JP31158596 A JP 31158596A JP 31158596 A JP31158596 A JP 31158596A JP H10154329 A JPH10154329 A JP H10154329A
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JP
Japan
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magnetic material
induction heating
roller
frequency induction
evaporation source
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Application number
JP31158596A
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Japanese (ja)
Inventor
Junji Nakada
純司 中田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the production efficiency of a wire-shaped magnetic material by providing the apparatus with a magnetic material supplying means for supplying the magnetic material into an evaporation source while heating the magnetic material by high-frequency induction heating and evaporating means. SOLUTION: The wire-shaped magnetic material 10 is drawn out of a wire reel 26 and is then guided by a transverse guide roller 28 and a longitudinal guide roller 29 and curling is straightened by a longitudinal direction straightening roller 30 and a transverse direction straightening roller 31, by which rectilinearity is maintained. The magnetic material 10 is thereafter strongly held by a pinch roller 32 and a wire feed roller 33 and is drawn out by the rotation of this wire feed roller 33. The wire feed roller 33 feeds the wire- shaped magnetic material by driving its wire freed motor. The drawn out magnetic material 10 is continuously supplied through the through-hole of a vapor diffusion control means via a guide roller 34 and a positioning roller 35 into a refractory crucible.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
装置に関し、とくに詳細には、金属材料を加熱溶融せし
めてこれを蒸発させ、その蒸気流をベースフイルム等の
基材上に蒸着せしめることにより磁気記録層を形成する
ようにした磁気記録媒体の製造装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, and more particularly to a method for heating and melting a metal material, evaporating the metal material, and depositing the vapor stream on a base material such as a base film. The present invention relates to an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic recording layer is formed by the method described above.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気記録媒体としては、γ−Fe
2 3 、CoをドープしたFe3 、γ−Fe
3 とFe3 4 のベルトライド化合物、Coをドープし
たベルトライド化合物、CrO3 、Baフェライト等の
酸化物磁性体、あるいはFe、Co、Ni等を主成分と
する合金磁性体等からなる磁性材料の粒子を、添加物と
ともに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブ
タジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等
の高分子バインダー中に分散混合せしめ、この分散混合
物をポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエ
ステルやポリプロピレン等のポリオレフィンからなるベ
ースフイルム(基板)上に塗布し、その後これを硬化ま
たは乾燥せしめて製造される、いわゆる塗布型の磁気テ
ープが広く知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, γ-Fe
2 O 3 , Co-doped Fe 3 O 4 , γ-Fe 2 O
3 and Fe 3 O 4 beltride compound, Co-doped beltride compound, oxide magnetic material such as CrO 3 , Ba ferrite, or alloy magnetic material mainly composed of Fe, Co, Ni, etc. The particles of the material, together with the additives, are dispersed and mixed in a polymer binder such as a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a styrene-butadiene copolymer, an epoxy resin, a polyurethane resin, and the dispersion mixture is mixed with polyethylene terephthalate (PET) or the like. A so-called coating type magnetic tape manufactured by applying a base film (substrate) made of a polyolefin such as polyester or polypropylene, and then curing or drying the base film is widely known.

【0003】一方、近年、記録密度の高密度化の要求が
強くなり、磁気記録媒体の磁性層における磁性材料の高
密度化、保磁力の向上、磁性層の薄膜化、あるいは周波
数特性の短波長側へのシフト化、といった検討が行われ
ている。
On the other hand, in recent years, the demand for higher recording density has become stronger, and the density of the magnetic material in the magnetic layer of the magnetic recording medium has been increased, the coercive force has been improved, the magnetic layer has been reduced in thickness, or the frequency characteristics have been shortened. Consideration has been given to shifting to the side.

【0004】しかし、塗布型のテープでは、磁性層中に
バインダーが残存するため、高密度記録に要求される上
述の諸条件を満たすことが困難となってきている。
However, in a coating type tape, it is difficult to satisfy the above-described various conditions required for high-density recording because a binder remains in the magnetic layer.

【0005】そこで、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等の蒸着法、あるいは電気メッキ、無
電解メッキ等のメッキ法による磁気記録媒体の製造方法
が注目され、種々の提案もなされている。これらの方法
によれば、バインダーを介すことなく磁性材料を直接に
基板上に堆積・成長させて磁性層を形成することができ
るため、磁性層における磁性材料の充填密度を高め、さ
らに磁性層の膜厚も薄くすることができる。
Therefore, attention has been paid to a method of manufacturing a magnetic recording medium by a vapor deposition method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a plating method such as electroplating or electroless plating, and various proposals have been made. According to these methods, the magnetic layer can be formed by depositing and growing a magnetic material directly on a substrate without using a binder, so that the packing density of the magnetic material in the magnetic layer is increased, and Can also be made thinner.

【0006】さらに、これらの蒸着法等は、ベースフイ
ルム上に形成される膜厚の調整制御が容易であるととも
に、塗布型のテープの製造工程における磁性層塗布液の
調整作業や塗布後の乾燥等の磁性層形成に伴う処理工程
も不要となるなど実用上有用な利点を有する。
Further, these vapor deposition methods and the like make it easy to adjust and control the thickness of the film formed on the base film, adjust the coating solution of the magnetic layer in the manufacturing process of the coating type tape, and perform drying after coating. This has practically useful advantages such as eliminating the need for processing steps associated with the formation of a magnetic layer.

【0007】特に、蒸着による方法では、メッキによる
方法において必要とされる廃液処理も不要であり、また
堆積した磁性膜の成長速度も早いという利点を有する。
このような蒸着法によってベースフイルム上に形成され
た磁性層を記録層とする磁気テープは、従来の塗布型の
磁気テープに比べて再生出力が格段に大きく、また記録
信号の周波数特性もより短波長側で向上する等、高密度
磁気記録媒体として有用なものとなっている。
[0007] In particular, the vapor deposition method has the advantages that the waste liquid treatment required in the plating method is not required and that the growth rate of the deposited magnetic film is high.
A magnetic tape using a magnetic layer formed on a base film by such a vapor deposition method as a recording layer has a much higher reproduction output and a shorter frequency characteristic of a recording signal than a conventional coating type magnetic tape. It is useful as a high-density magnetic recording medium, for example, it is improved on the wavelength side.

【0008】蒸着法による磁気記録媒体の製造は、詳細
には、例えば図8に示す真空蒸着装置1により行うこと
が知られている。図8に示すように、真空蒸着装置1
は、減圧状態とされた真空槽2の内部に、外形が円筒状
で、かつその円筒外周面上にポリエステルフイルム、ポ
リアミドフイルム、ポリイミドフイルム等の非磁性材料
からなる長尺のベースフイルム3を長手方向に巻装する
冷却キャン4を備え、この冷却キャン4は矢印Y方向に
回転して送出し軸5側から巻取り軸6側へと移送される
ベースフイルム3が、その円筒外周面上で搬送される。
It is known that the manufacture of a magnetic recording medium by a vapor deposition method is performed in detail by, for example, a vacuum vapor deposition apparatus 1 shown in FIG. As shown in FIG.
A long base film 3 made of a non-magnetic material such as a polyester film, a polyamide film, or a polyimide film is formed inside a vacuum chamber 2 in a reduced pressure state. The cooling film 4 is wound in the direction Y. The cooling film 4 is rotated in the direction of arrow Y, and the base film 3 which is transferred from the side of the delivery shaft 5 to the side of the winding shaft 6 is provided on the outer peripheral surface of the cylinder. Conveyed.

【0009】真空槽2の内部は、仕切り板7により、ベ
ースフイルム3の送出しおよび巻取りを行う巻取り室8
と、ベースフイルム3に磁性材料を蒸着せしめる蒸着室
9とに分割されている。蒸着室9には、冷却キャン4の
図中下方にCoやCoNi合金、CoCr合金、CoC
rNi合金等の蒸発源である磁性材料10を入れた蒸発容
器11が配設され、電子銃加熱、抵抗加熱、高周波誘導加
熱等の加熱手段12により磁性材料10を加熱、蒸発させ
る。蒸発して上昇する蒸気流たる磁性材料10の粒子(磁
性粒子、または蒸発粒子と称する)は、冷却キャン4の
回転に伴なって矢印Y方向に搬送されるベースフイルム
3の表面に連続的に衝突し、そこで冷却されることによ
り沈着し、かくして磁性層が形成される。
The inside of the vacuum chamber 2 is controlled by a partition plate 7 to take up and wind up the base film 3 in a winding chamber 8.
And a deposition chamber 9 for depositing a magnetic material on the base film 3. In the vapor deposition chamber 9, Co, CoNi alloy, CoCr alloy, CoC
An evaporation container 11 containing a magnetic material 10 as an evaporation source such as an rNi alloy is provided, and the magnetic material 10 is heated and evaporated by heating means 12 such as electron gun heating, resistance heating, and high frequency induction heating. Particles of the magnetic material 10 (referred to as magnetic particles or evaporating particles), which evaporate and rise, are continuously deposited on the surface of the base film 3 conveyed in the direction of arrow Y with the rotation of the cooling can 4. They collide and deposit there by cooling, thus forming a magnetic layer.

【0010】ここで、蒸発した磁性材料の粒子を効率良
く基板上に付着させて蒸着効率を高めるためには、この
蒸発した粒子が広く拡散しないようにすればよく、例え
ば特開昭63- 204513号、特開平2-56730号により開示さ
れた技術によれば、蒸発源と冷却キャンとの間であっ
て、この蒸発した粒子が通過する部分の回りをその周壁
で囲んでその流路を規制するように、例えば、円筒状の
ような蒸気拡散制御壁(蒸気拡散制御手段)15を設けれ
ばよい。なお、このような蒸気拡散制御壁15には、その
内壁面に付着した磁性材料10の蒸発粒子を再蒸発あるい
は凝集回収させるため、または再蒸発と凝集回収とを組
み合わせるために、内壁面の温度を加熱あるいは冷却す
る手段を具備する。
Here, in order to efficiently deposit the evaporated magnetic material particles on the substrate to increase the vapor deposition efficiency, it is sufficient to prevent the evaporated particles from diffusing widely. According to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-56730, the portion between the evaporation source and the cooling can, around which the evaporated particles pass, is surrounded by a peripheral wall to regulate the flow path. In order to do so, for example, a steam diffusion control wall (steam diffusion control means) 15 having a cylindrical shape may be provided. The vapor diffusion control wall 15 has a temperature of the inner wall surface in order to re-evaporate or coagulate and collect the evaporated particles of the magnetic material 10 attached to the inner wall surface or to combine re-evaporation and coagulation and recovery. Is provided with means for heating or cooling.

【0011】またこのような蒸気拡散制御壁15を設けた
場合、加熱手段として一般に利用される電子銃加熱手段
を用いるのは困難である。すなわち、この場合はその電
子銃から蒸発容器11に入れられた磁性材料10までの電子
ビームの通過軌道を確保する必要があるが、蒸発容器11
の上方に蒸気拡散制御壁15を設けた場合、この電子ビー
ムの通過軌道を確保するのが困難だからである。したが
って通常は加熱手段としては高周波誘導加熱手段を用い
るようにしている。
When such a vapor diffusion control wall 15 is provided, it is difficult to use an electron gun heating means generally used as a heating means. That is, in this case, it is necessary to secure a passage of the electron beam from the electron gun to the magnetic material 10 placed in the evaporating vessel 11.
This is because, when the vapor diffusion control wall 15 is provided above the above, it is difficult to secure the passage trajectory of the electron beam. Therefore, high frequency induction heating means is usually used as the heating means.

【0012】蒸着によりベースフイルム上に形成された
磁性薄膜の磁気特性、特にその保磁力は、磁性材料10の
蒸気がベースフイルム3に到達したときの、ベースフイ
ルム3となす角度、即ち蒸発容器11内からベースフイル
ム3に向かって飛散する磁性材料10のベースフイルム3
への入射角によって決定される。このため、通常、冷却
キャン4の蒸発容器11側(図中、冷却キャン4の下方)
には、冷却キャン4から所定の距離だけ離間して遮蔽部
材たるマスク13および14が配設され、ベースフイルム3
の搬送方向に対して上流側に位置するマスク13により最
大入射角が、下流側に位置するマスク14により最小入射
角がそれぞれ規制され、磁性材料10の蒸気は、マスク13
および14によって形成される開口部18を通じて、図中に
おいて斜め下方からベースフイルム3の表面に供給され
る。なお入射角とは、ベースフイルム3の表面に垂直な
直線とのなす角度をいう。
The magnetic properties of the magnetic thin film formed on the base film by vapor deposition, particularly its coercive force, depend on the angle formed by the base film 3 when the vapor of the magnetic material 10 reaches the base film 3, ie, the evaporation container 11 The base film 3 of the magnetic material 10 scattered from inside toward the base film 3
Is determined by the angle of incidence on For this reason, usually, the cooling can 4 side of the evaporating vessel 11 (below the cooling can 4 in the figure).
Are provided with masks 13 and 14 serving as shielding members at a predetermined distance from the cooling can 4.
The maximum incident angle is regulated by the mask 13 located on the upstream side with respect to the transport direction, and the minimum incident angle is regulated by the mask 14 located on the downstream side, and the vapor of the magnetic material 10
Through the opening 18 formed by the base film 3 and 14, the liquid is supplied to the surface of the base film 3 from obliquely below in the drawing. The angle of incidence refers to an angle between the base film 3 and a straight line perpendicular to the surface of the base film 3.

【0013】さらに磁性薄膜の保磁力を向上させるため
に、蒸着に際し酸素を吹き付けることが有効であること
が判明している。この酸素を吹き付ける方式は、通常
は、ベースフイルム3の搬送方向に対して下流側に位置
するマスク14の近傍にガス吹付部17を配設し、酸素ガス
を磁性材料10の蒸発粒子に吹き付けることにより行われ
ている。例えば、特公平2-27732号に開示された技術に
よれば最小入射角近傍から酸素ガスを吹き付けるととも
に、蒸着開始側(最大入射角側)からも不活性ガスを吹
き付けて、磁性材料10の物理的充填率および磁気的充填
率を調整している。
It has been found that it is effective to spray oxygen during the vapor deposition in order to further improve the coercive force of the magnetic thin film. In the method of blowing oxygen, usually, a gas blowing unit 17 is provided near a mask 14 located on the downstream side in the transport direction of the base film 3 to blow oxygen gas to the evaporated particles of the magnetic material 10. It is done by. For example, according to the technology disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-27732, the oxygen gas is blown from the vicinity of the minimum incident angle, and the inert gas is also blown from the vapor deposition start side (the maximum incident angle side). The filling rate and the magnetic filling rate are adjusted.

【0014】なお、保磁力の向上という目的とは異なる
が、磁気記録媒体の耐蝕性を向上させることを目的とし
た場合にも、蒸着中に酸素ガスを系内に吹き付けること
が行われる。例えば、特公平3-19621号に開示された技
術によれば、基板であるベースフイルムの幅方向に配設
した複数個のノズルから酸化性ガスを系内に吹き付け
て、磁性層を構成する元素と反応させて酸化物を合成せ
しめ、この酸化物による酸化膜が腐蝕に対する保護効果
を生じせしめている。
Although it is different from the purpose of improving the coercive force, oxygen gas is blown into the system during the vapor deposition also for the purpose of improving the corrosion resistance of the magnetic recording medium. For example, according to the technology disclosed in Japanese Patent Publication No. 3-19621, an oxidizing gas is sprayed into the system from a plurality of nozzles arranged in the width direction of a base film as a substrate to form an element constituting a magnetic layer. To form an oxide, and the oxide film of the oxide has a protective effect against corrosion.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】上述した磁気記録媒体
の製造装置においては、蒸発源に磁性材料を収容し、高
周波誘導加熱などにより蒸発源を加熱して磁性材料を蒸
発させて磁気記録媒体を製造するものであるが、蒸発源
内の磁性材料は蒸発により減少するため、磁性材料を補
給する必要がある。しかしながら、装置内は真空状態が
保持されているため、磁性材料を補給するためには、一
旦真空状態を解除してペレット状の磁性材料を蒸発源内
に補給して、再度装置内を真空状態として、磁性材料の
蒸発を行う必要がある。このため、磁性材料の補給作業
を行う度に一旦装置を止める必要があり、連続的に磁気
記録媒体の製造を行うことができず、生産効率がそれほ
ど良くないものとなっていた。
In the above-described apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, a magnetic material is accommodated in an evaporation source, and the magnetic material is evaporated by heating the evaporation source by high-frequency induction heating or the like to evaporate the magnetic material. Although it is manufactured, since the magnetic material in the evaporation source is reduced by evaporation, it is necessary to supply the magnetic material. However, since the vacuum state is maintained in the apparatus, in order to replenish the magnetic material, the vacuum state is once released, the magnetic material in the form of pellets is replenished into the evaporation source, and the inside of the apparatus is evacuated again. It is necessary to evaporate the magnetic material. For this reason, it is necessary to stop the apparatus once each time the magnetic material replenishment operation is performed, so that the magnetic recording medium cannot be manufactured continuously, and the production efficiency is not so good.

【0016】本発明は上記事情に鑑み、効率よく磁気記
録媒体の製造を行うことができる磁気記録媒体の製造装
置を提供することを目的とするものである。
In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium manufacturing apparatus capable of efficiently manufacturing a magnetic recording medium.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明による磁気記録媒
体の製造装置は、真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を
搬送する搬送手段と、前記基板が搬送される下方に配置
された磁性材料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発
させる高周波誘導加熱蒸発手段と、前記加熱蒸発手段に
より、加熱蒸発した前記磁性材料からなる蒸気流の前記
可撓性基板への入射角を規制する入射角規制手段とを有
する、前記可撓性基板上に磁性薄膜を形成せしめる磁気
記録媒体の製造装置において、線形状である前記磁性材
料を、前記高周波誘導加熱蒸発手段により加熱しつつ、
前記蒸発源内に供給する磁性材料供給手段を設けたこと
を特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: transport means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere; and a lower means for transporting the substrate. An evaporation source made of a magnetic material, a high-frequency induction heating evaporator for heating and evaporating the evaporation source, and the heating evaporator restricting an incident angle of a vapor flow of the heated and evaporated magnetic material to the flexible substrate. In the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium having a magnetic thin film formed on the flexible substrate, the magnetic material having a linear shape is heated by the high-frequency induction heating and evaporating means.
It is characterized in that a magnetic material supply means for supplying the material into the evaporation source is provided.

【0018】なお、線状の磁性材料の直径dwと、磁性
材料の抵抗率ρ、透磁率μおよび高周波誘導加熱手段の
発振周波数fにより定められる加熱浸透深さδとが、d
w>δ(δ=(ρ/π・f・μ)1/2 )の関係にあるこ
とが好ましい。
Note that the diameter dw of the linear magnetic material, and the heat penetration depth δ determined by the resistivity ρ, the magnetic permeability μ, and the oscillation frequency f of the high-frequency induction heating means are d =
It is preferable that w> δ (δ = (ρ / π · f · μ) 1/2 ).

【0019】また、磁性材料のキュリー温度以上の温度
において、dw>δの関係を満たすように高周波誘導加
熱コイルの発振周波数fが設定されていることが好まし
い。
It is preferable that the oscillation frequency f of the high-frequency induction heating coil is set so as to satisfy the relation of dw> δ at a temperature equal to or higher than the Curie temperature of the magnetic material.

【0020】さらに、前記高周波誘導加熱蒸発手段と前
記可撓性基板との間に、前記高周波誘導加熱蒸発手段に
より加熱蒸発した前記磁性材料の蒸気流の拡散方向を規
制制御する、両端が開放された筒状の蒸気流拡散制御手
段をさらに設け、前記磁性材料供給手段を、前記筒状の
蒸気流拡散制御手段の上方開口部より前記磁性材料を供
給する手段としてもよい。
Further, both ends are opened between the high-frequency induction heating and evaporating means and the flexible substrate for regulating and controlling the diffusion direction of the vapor flow of the magnetic material heated and evaporated by the high-frequency induction heating and evaporating means. Further, a cylindrical vapor flow diffusion control means may be further provided, and the magnetic material supply means may be a means for supplying the magnetic material from an upper opening of the cylindrical vapor flow diffusion control means.

【0021】また、蒸気拡散防止手段の前記蒸発源に近
接した部分に該蒸気拡散防止手段を貫通する貫通孔を形
成し、この貫通孔を通じて前記蒸発源に前記磁性材料を
供給するようにしてもよい。
Further, a through-hole penetrating the vapor diffusion preventing means may be formed in a portion of the vapor diffusion preventing means close to the evaporation source, and the magnetic material may be supplied to the evaporation source through the through hole. Good.

【0022】この場合、貫通孔の直径dhと磁性材料の
直径dwとの関係が、2.0×dw>dhの関係にあるこ
とが好ましく、蒸発源内の磁性材料が略溶解した状態に
おいて、貫通孔を通じて線状の磁性材料を蒸発源に連続
的に供給することがさらに好ましい。
In this case, it is preferable that the relationship between the diameter dh of the through hole and the diameter dw of the magnetic material is 2.0 × dw> dh, and when the magnetic material in the evaporation source is substantially dissolved, it passes through the through hole. More preferably, the linear magnetic material is continuously supplied to the evaporation source.

【0023】また、前記材料供給手段が、前記蒸発源内
の前記磁性材料の溶湯面の位置に対応して前記線状の磁
性材料の供給速度を変化させて該磁性材料を前記蒸発源
内に供給する手段であることが好ましく、この場合前記
蒸発源内の前記磁性材料の溶湯面高さを測定する測定手
段をさらに備えることが好ましい。
The material supply means may supply the magnetic material into the evaporation source by changing the supply speed of the linear magnetic material in accordance with the position of the molten metal surface in the evaporation source. Preferably, in this case, it is preferable to further include a measuring unit for measuring a molten metal surface height of the magnetic material in the evaporation source.

【0024】[0024]

【作用および発明の効果】本発明による磁気記録媒体の
製造装置は、線状の磁性材料を連続的に蒸発源に供給す
るようにしたため、磁性材料を供給するために、装置の
真空状態を解除する必要が無くなり、効率よく磁性材料
を供給して生産効率を向上させることができる。また、
線状の磁性材料を高周波誘導加熱手段の加熱作用を受け
る領域を通過せしめて蒸発源に供給するようにしたた
め、蒸発源内で溶融している磁性材料に低温の線状磁性
材料が供給されることによる蒸発レートの変動を防止す
ることができる。
In the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, the linear magnetic material is continuously supplied to the evaporation source, so that the vacuum state of the apparatus is released in order to supply the magnetic material. This eliminates the necessity of supplying the magnetic material efficiently, thereby improving the production efficiency. Also,
Since the linear magnetic material is supplied to the evaporation source by passing through the region subjected to the heating action of the high-frequency induction heating means, the low-temperature linear magnetic material is supplied to the magnetic material melted in the evaporation source. The fluctuation of the evaporation rate due to the above can be prevented.

【0025】なお、蒸気拡散制御手段を設けた装置にお
いては、蒸気拡散制御手段の上部の開口から線状の磁性
材料を供給することにより、装置の構成を変更すること
なく線状の磁性材料を蒸発源に供給することができる。
In the apparatus provided with the vapor diffusion control means, the linear magnetic material is supplied from the upper opening of the vapor diffusion control means so that the linear magnetic material can be supplied without changing the structure of the apparatus. It can be supplied to the evaporation source.

【0026】また、蒸気拡散制御手段を設けた装置にお
いては、蒸気拡散制御手段の蒸発源近傍した部分に貫通
孔を設け、この貫通孔を通じて線状の磁性材料を供給す
ることにより、蒸気拡散防止手段の上部開口から磁性材
料を供給するものと比較して、磁性材料の蒸発領域と線
状の磁性材料とが重なることが無くなるため、基材に形
成される磁性膜の膜厚分布の変動を防止することができ
る。前記貫通孔の位置は、高周波誘導加熱蒸発手段への
投入電力、線状の磁性材料の寸法、供給速度等により設
計事項として適宜選択できる。
In the apparatus provided with the vapor diffusion control means, a through hole is provided in a portion near the evaporation source of the vapor diffusion control means, and a linear magnetic material is supplied through the through hole to prevent the vapor diffusion. Compared with the case where the magnetic material is supplied from the upper opening of the means, since the evaporation region of the magnetic material and the linear magnetic material do not overlap with each other, the fluctuation of the film thickness distribution of the magnetic film formed on the base material is reduced. Can be prevented. The position of the through-hole can be appropriately selected as a design item depending on the power supplied to the high-frequency induction heating evaporator, the size of the linear magnetic material, the supply speed, and the like.

【0027】なお、この場合、貫通孔の直径dhと磁性
材料の直径dwとの関係が、2.0×dw>dhの関係に
あるものとすることにより、線状の磁性材料供給時の振
れにより、磁性材料が貫通孔により削られたり、貫通孔
が線状の磁性材料と接触することにより蒸気拡散制御手
段に割れが生じることを防止することができる。
In this case, it is assumed that the relationship between the diameter dh of the through hole and the diameter dw of the magnetic material has a relationship of 2.0 × dw> dh. It is possible to prevent the magnetic material from being scraped by the through-holes, or from causing cracks in the vapor diffusion control means due to the through-holes contacting the linear magnetic material.

【0028】さらに、磁性材料を蒸発源に連続的に供給
することにより、線状の磁性材料が停止して、磁性材料
や貫通孔に蒸発した磁性材料が付着することを防止し、
磁性材料を再度移動させる際に、磁性材料に付着した蒸
発磁性材料が蒸気拡散制御手段や蒸発源に接触して、こ
れらに損傷を与えることを防止することができる。
Further, by continuously supplying the magnetic material to the evaporation source, the linear magnetic material is stopped, and the magnetic material and the evaporated magnetic material are prevented from adhering to the through holes.
When the magnetic material is moved again, it is possible to prevent the evaporated magnetic material adhering to the magnetic material from contacting the vapor diffusion control means or the evaporation source and damaging them.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体製造
装置の実施の形態について、図面を参照して説明する。
図1は本発明の磁気記録媒体製造装置である真空蒸着装
置1の概略構成を示すものである。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 1 shows a schematic configuration of a vacuum evaporation apparatus 1 which is a magnetic recording medium manufacturing apparatus of the present invention.

【0030】図示の真空蒸着装置1は真空槽2の内部
に、円筒状の冷却キャン4を備え、この冷却キャン4の
円筒面(外周面)には、磁気記録媒体の基材としてのベ
ースフイルム3が巻装される。ベースフイルム3は、ポ
リエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナ
フタレート等のポリエステル、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン、三酢酸セルロースや二酢酸セルロース等の
セルロース誘電体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂、
ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンサルフ
ァイド等のプラスチックを長尺フイルム状に加工したも
のであり、その厚さは例えば3〜100 μmのものが使用
される。本実施形態においては厚さ6μmのものを用い
る。
The illustrated vacuum evaporation apparatus 1 includes a cylindrical cooling can 4 inside a vacuum chamber 2, and a cylindrical film (outer peripheral surface) of the cooling can 4 has a base film as a base material of a magnetic recording medium. 3 is wound. The base film 3 is made of a polyester such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate, a polyolefin such as polypropylene, a cellulose dielectric such as cellulose triacetate or cellulose diacetate, a vinyl resin such as polyvinyl chloride,
It is formed by processing a plastic such as polycarbonate, polyamide, or polyphenylene sulfide into a long film, and the thickness thereof is, for example, 3 to 100 μm. In the present embodiment, one having a thickness of 6 μm is used.

【0031】また、このベースフイルム3の表面には必
要に応じてアンダーコートが施される。アンダーコート
はバインダー(メチルセルロース等のセルロース類、P
ET等の飽和ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリアミ
ド、ポリアクリレート等)とフィラー(シリカ、チタニ
ア、アルミナ、炭酸カルシウム等)を溶解して塗布した
表面突起を有するものであり、その高さは5〜30nm
で、密度500 万〜10000万個/mmの突起を有
するものである。本実施例においては粒径18μmで密度
は5500万個/mm2 とした。この高さ、密度は要求され
る密着性能等により適宜選択し得る。
An undercoat is applied to the surface of the base film 3 as necessary. The undercoat is made of a binder (cellulose such as methylcellulose, P
Saturated polyesters such as ET, phenoxy resins, polyamides, polyacrylates, etc.) and fillers (silica, titania, alumina, calcium carbonate, etc.) are dissolved and applied, and the surface projections have a height of 5 to 30 nm.
And has projections with a density of 5 to 100 million / mm 2 . In this embodiment, the particle size is 18 μm and the density is 55 million pieces / mm 2 . The height and density can be appropriately selected depending on the required adhesion performance and the like.

【0032】さらにこのベースフイルム3には、グロー
放電処理や電子線照射処理、イオン照射処理、熱処理、
薬品処理の前処理を施してもよい。
The base film 3 is further provided with a glow discharge treatment, an electron beam irradiation treatment, an ion irradiation treatment, a heat treatment,
Pretreatment of chemical treatment may be performed.

【0033】ベースフイルム3は送出し軸5から冷却キ
ャン4の円筒面を介して巻取り軸6に掛け渡され、冷却
キャン4が矢印Y方向に回転することにより冷却キャン
4の円筒面上を例えば10〜100 m/分の速度で搬送さ
れ、巻取り軸6に巻き取られる。冷却キャン4は、直径
800 mm、幅400 mmの円筒状ドラムであり、表面はハ
ードクロムメッキを施し0.2 S以下に鏡面研磨され、内
部に冷却水、その他の冷媒(エチレングリコール)を循
環させた構造であり表面温度は例えば−35〜+25℃に維
持されている。
The base film 3 is wrapped around the take-up shaft 6 from the delivery shaft 5 through the cylindrical surface of the cooling can 4, and is rotated on the cylindrical surface of the cooling can 4 by rotating the cooling can 4 in the direction of arrow Y. For example, it is conveyed at a speed of 10 to 100 m / min, and is taken up on a take-up shaft 6. The cooling can 4 has a diameter
This is a cylindrical drum of 800 mm and width of 400 mm. The surface is hard chrome plated and mirror-polished to 0.2 S or less. Cooling water and other refrigerant (ethylene glycol) are circulated inside. For example, it is maintained at -35 to + 25 ° C.

【0034】冷却キャン4の表面には冷却キャン4から
一定の距離離間し、内部に冷却水あるいは冷媒を循環さ
せ、本体がSUS304 等により形成されたマスク13およ
び14が配設されている。この距離は2〜15mm、より好ま
しくは2〜10mm、最も好ましくは3〜5mmである。2mm
より狭いと後述する第1のガス吹付部を設置するスペー
スが確保できず、15mmを超えると、蒸気流がマスクとベ
ースフィルムの間に回り込んで冷却キャン4に付着して
汚れの原因となるからである。汚れが生じた部分ではキ
ャンとベースフィルム間の熱伝達率が変化したり、キャ
ンのベースフィルムの密着が不充分となり熱ダメージを
受け易くなるからである。そして、ベースフイルム3の
搬送方向に関して上流側に位置するマスク13により最大
入射角(θmax )を下流側に位置するマスク14により最
小入射角(θmin )が規定されている。入射角は後述す
る耐火物ルツボ11a内の溶融面の円中心を基準とし、こ
の円中心からマスク13およびマスク14のエッジに至る線
分と冷却キャン4上のそれぞれのマスクエッジ位置での
法線とのなす角度で定義され、マスク13により規制され
る最大入射角(θmax )は90°を上限とし、より好まし
くは87°、最も好ましくは85°を上限とし、マスク14に
より規制される最小入射角(θmin )は20°、より好ま
しくは25°、最も好ましくは30°を下限とするように設
定されることが望ましい。何故ならば上記範囲を外れる
と、望ましい保磁力が得られないからである。マスク13
および14により形成されるマスク開口部18の幅方向(ベ
ースフイルム3の移送方向に直角の方向)の開口幅は任
意に設定できる。
On the surface of the cooling can 4, masks 13 and 14 whose main body is formed of SUS304 or the like are provided at a predetermined distance from the cooling can 4, circulating cooling water or a cooling medium therein. This distance is between 2 and 15 mm, more preferably between 2 and 10 mm, most preferably between 3 and 5 mm. 2mm
If it is narrower, the space for installing the first gas blowing section described later cannot be secured, and if it is more than 15 mm, the vapor flow goes between the mask and the base film and adheres to the cooling can 4, causing contamination. Because. This is because the heat transfer coefficient between the can and the base film changes in the portion where the dirt is generated, or the adhesion of the can to the base film becomes insufficient and the can becomes easily damaged by heat. The maximum incident angle (θmax) is defined by the mask 13 located on the upstream side in the transport direction of the base film 3 and the minimum incident angle (θmin) is defined by the mask 14 located on the downstream side in the transport direction of the base film 3. The angle of incidence is based on the center of the circle of the melted surface in the refractory crucible 11a, which will be described later. The maximum incident angle (θmax) regulated by the mask 13 is limited to 90 °, more preferably 87 °, most preferably 85 °, and the minimum incident angle regulated by the mask 14. It is desirable that the angle (θmin) is set so that the lower limit is 20 °, more preferably 25 °, and most preferably 30 °. This is because a desired coercive force cannot be obtained outside the above range. Mask 13
The opening width in the width direction (direction perpendicular to the transfer direction of the base film 3) of the mask opening 18 formed by the mask film 14 and the mask opening 14 can be arbitrarily set.

【0035】またマスク13および14の前面には、各マス
ク13,14に沿って湾曲した形状であり、各マスク13,14
から一定の距離離間し、磁性材料10の蒸発金属粒子が前
記基材3の表面に付着することを妨げる機能を有し、内
部に冷却水を循環させ、本体がSUS304 等により形成
された可動式のシャッター装置が配設されている(図示
せず)。
The front surfaces of the masks 13 and 14 are curved along the masks 13 and 14, respectively.
And has a function of preventing the evaporated metal particles of the magnetic material 10 from adhering to the surface of the base material 3, circulating cooling water inside, and a movable type having a main body formed of SUS304 or the like. (Not shown).

【0036】真空槽2は、仕切り板7によって、ベース
フイルム3の送出しおよび巻取りを行う巻取り室8と、
ベースフイルム3に磁性材料10を蒸着する蒸着室9とに
仕切られている。巻取り室8と蒸着室9とは、各別に減
圧のための排気系(図示せず)を備え、各室内の圧力は
各別に調整可能である。特に蒸着室9は、真空槽2の外
部から後述する酸化性ガスが導入されるため、室内の圧
力および各種残留ガスの分圧が図示しない調製手段によ
って常時調整される。
The vacuum chamber 2 is provided with a winding chamber 8 for feeding and winding the base film 3 by a partition plate 7;
The base film 3 is partitioned into a deposition chamber 9 for depositing a magnetic material 10 thereon. Each of the winding chamber 8 and the vapor deposition chamber 9 is provided with an exhaust system (not shown) for reducing pressure, and the pressure in each chamber can be adjusted individually. In particular, since an oxidizing gas described below is introduced into the vapor deposition chamber 9 from outside the vacuum chamber 2, the pressure in the chamber and the partial pressures of various residual gases are constantly adjusted by a preparation unit (not shown).

【0037】また、巻取り室8には、ベースフイルム3
に対する既述の前・後処理のための装置、例えば、グロ
ー放電処理装置、電子線照射処理装置、イオン照射処理
装置、熱処理装置、CVD処理装置等を配設してもよ
い。また、冷却キャン4は円筒状に限るものではなく、
蒸発源11に対して所定の斜面を形成し得るエンドレスベ
ルト状の金属板であってもよい。
The winding film 8 contains the base film 3.
For example, a device for the pre- and post-treatment described above, such as a glow discharge treatment device, an electron beam irradiation treatment device, an ion irradiation treatment device, a heat treatment device, and a CVD treatment device may be provided. Further, the cooling can 4 is not limited to a cylindrical shape.
An endless belt-shaped metal plate that can form a predetermined slope with respect to the evaporation source 11 may be used.

【0038】蒸着室9には、冷却キャン4の下方に磁性
材料10を入れた蒸発源11が配設され、この蒸発源11の周
囲には、磁性材料10を加熱するための、内部を冷却水が
循環する構造の高周波誘導加熱コイル12が配設されてい
る。さらに、高周波誘導加熱コイル12に高周波電力を供
給するための高周波電源20および高周波電力を伝達させ
る高周波電力供給用フィーダー21が配設されている。ま
た、図2に示すように蒸発源11は、耐火物ルツボ11aお
よび耐火物ルツボ11aと高周波誘導加熱コイル12との間
に充填された充填材11dとからなる。
An evaporation source 11 containing a magnetic material 10 is disposed below the cooling can 4 in the vapor deposition chamber 9. Around the evaporation source 11, the inside of the evaporation source 11 for heating the magnetic material 10 is cooled. A high-frequency induction heating coil 12 having a structure in which water circulates is provided. Further, a high frequency power supply 20 for supplying high frequency power to the high frequency induction heating coil 12 and a high frequency power supply feeder 21 for transmitting high frequency power are provided. As shown in FIG. 2, the evaporation source 11 includes a refractory crucible 11a and a filler 11d filled between the refractory crucible 11a and the high-frequency induction heating coil 12.

【0039】磁性材料10は線状であり、後述する材料供
給手段25から供給され、例えばFe、Co、Ni、Co
Ni、FeCo、FeCu、FeCr、CoCr、Co
Cu、CoAu、CoPt、CoW、NiCr、Co
V、MnBi、MnAl、CoFeCr、CoNiC
r、CoRh、CoNiPt、CoNiFe、CoNi
FeB、FeCoNiCr、CiNiZn等の強磁性金
属や強磁性合金から適宜選択される。
The magnetic material 10 is linear and is supplied from a material supply means 25 described later, and is made of, for example, Fe, Co, Ni, or Co.
Ni, FeCo, FeCu, FeCr, CoCr, Co
Cu, CoAu, CoPt, CoW, NiCr, Co
V, MnBi, MnAl, CoFeCr, CoNiC
r, CoRh, CoNiPt, CoNiFe, CoNi
It is appropriately selected from ferromagnetic metals and ferromagnetic alloys such as FeB, FeCoNiCr, and CiNiZn.

【0040】蒸発源11の構成要素である、磁性材料10を
収容する耐火物ルツボ11aは、例えばMgO、Zr
2 、Al2 3 、CaO、Y2 3 、ThO2 、B
N、BeOCaO安定化ZrO2 、Y2 3 安定化Zr
2 等のセラミックや炭素または炭素化合物や他の耐熱
性のある材料から適宜選択する。またこの耐火物ルツボ
11aの形状は、底部を有する容器型であり、水平断面形
状は真円形、楕円形、長円形、正方形、長方形、その他
のいかなる形状であってもよく、垂直断面形状も正方
形、長方形、台形、その他のいかなる形状であってもよ
い。なお、本実施形態においては、耐火物ルツボ11aの
主成分はY2 3 安定化ZrO2 (化学成分(wt%)、
ZrO2 ;88.0〜95.0%、Y2 3 ;5.0 〜12.0%)と
し、形状はカップ状(内径φ80mm、外径φ96mm、高
さ100 mm、内部深さ90mm)とし、蒸発用の強磁性材
料10としてCo100 を用いる。
The refractory crucible 11a containing the magnetic material 10, which is a component of the evaporation source 11, is made of, for example, MgO, Zr
O 2 , Al 2 O 3 , CaO, Y 2 O 3 , ThO 2 , B
N, BeOCaO stabilized ZrO 2 , Y 2 O 3 stabilized Zr
It is appropriately selected from ceramics such as O 2 , carbon or a carbon compound, and other heat-resistant materials. Also this refractory crucible
The shape of 11a is a container type having a bottom, the horizontal cross-sectional shape may be a perfect circle, an ellipse, an oval, a square, a rectangle, any other shape, and the vertical cross-section may also be a square, a rectangle, a trapezoid, Any other shape may be used. In this embodiment, the main component of the refractory crucible 11a is Y 2 O 3 stabilized ZrO 2 (chemical component (wt%),
ZrO 2 ; 88.0 to 95.0%, Y 2 O 3 ; 5.0 to 12.0%), cup shape (inner diameter φ80mm, outer diameter φ96mm, height 100mm, internal depth 90mm), ferromagnetic material for evaporation Co 100 is used as 10.

【0041】また、充填材11dは、耐火物ルツボ11aと
高周波誘導加熱コイル12との間隙および高周波誘導加熱
コイル12のコイルターン間に充填される。材質はパウダ
ー状であり、粒径が0.3 〜1.0 μmのCaO安定化Zr
2 (化学成分(wt%)、ZrO2 ;90.0〜98.0%、C
aO;2.0 〜7.0 %)とする。そしてこれを耐火物ルツ
ボ11aの底の部分から軽く突き固めながら充填する。
The filler 11 d is filled between the refractory crucible 11 a and the high-frequency induction heating coil 12 and between the coil turns of the high-frequency induction heating coil 12. The material is powder-like and has a particle size of 0.3 to 1.0 μm.
O 2 (chemical component (wt%), ZrO 2 ; 90.0 to 98.0%, C
aO; 2.0 to 7.0%). Then, this is filled while squeezing lightly from the bottom of the refractory crucible 11a.

【0042】一方、高周波誘導加熱コイル12は、内部に
冷却水が循環する直径φ12mmのCuパイプからなり、
高周波誘導加熱コイル12は4ターンで、内径φ120 m
m、高さh110 mmである。発振周波数20kHz、出力
40KWの高周波電源20は真空槽2の外部に2台設置し、高
周波フィーダー21と真空用フィードスルー(図示せず)
を通じて真空槽2の内部に配設された2つの高周波誘導
加熱コイル12に接続する。高周波フィーダー21はCu板
製であり、また高周波誘導加熱コイル12の延長Cuパイ
プ部は、それぞれAl2 3 製の絶縁管で囲い、互いに
電気的に絶縁されている。なお、高周波誘導加熱コイル
12は、耐火物ルツボ11aの側面に対応する形状とするの
が好ましい。
On the other hand, the high-frequency induction heating coil 12 is made of a Cu pipe having a diameter of φ12 mm through which cooling water circulates,
High frequency induction heating coil 12 has 4 turns and inner diameter φ120 m
m and height h110 mm. Oscillation frequency 20kHz, output
Two 40 KW high frequency power supplies 20 are installed outside the vacuum chamber 2, and a high frequency feeder 21 and a vacuum feedthrough (not shown)
To the two high frequency induction heating coils 12 disposed inside the vacuum chamber 2. The high-frequency feeder 21 is made of a Cu plate, and the extended Cu pipe portions of the high-frequency induction heating coil 12 are each surrounded by an insulating tube made of Al 2 O 3 and are electrically insulated from each other. The high frequency induction heating coil
It is preferable that 12 has a shape corresponding to the side surface of the refractory crucible 11a.

【0043】蒸気拡散制御手段15は、耐火物ルツボ11a
と略連続した状態で略垂直方向に延びる規制面で囲まれ
る蒸発蒸気流路を構成するように配置されており、下面
および上面は磁性材料10の蒸発粒子の通過を許容すると
ともにその指向性を向上させるように開口し、周壁のみ
を有する筒型形状であり、水平断面形状は円形、楕円
形、長円形、正方形、長方形、その他のいかなる形状で
あってもよい。垂直断面形状も正方形、長方形、台形、
その他のいかなる形状であってもよい。
The vapor diffusion control means 15 includes a refractory crucible 11a.
Are arranged so as to constitute an evaporative vapor flow path surrounded by a regulating surface extending in a substantially vertical direction in a substantially continuous state, and the lower surface and the upper surface allow passage of evaporative particles of the magnetic material 10 and the directivity thereof. It has a cylindrical shape that is open to enhance and has only a peripheral wall, and the horizontal cross-sectional shape may be circular, elliptical, oval, square, rectangular, or any other shape. The vertical cross section is also square, rectangular, trapezoidal,
Any other shape may be used.

【0044】さらに、蒸気拡散制御手段15は、開口部中
心から外側へ向かって同心円上に内壁部15aおよび内部
に冷却水や液体窒素、液体ヘリウム、エチレングリコー
ル等の冷媒を循環させ、本体はFe、Cu、Al、N
i、Ti、Mg、Znおよびこれらの合金、ステンレス
鋼等で形成された冷却層15bの2層から構成されてい
る。そして、図3に示すように蒸気拡散制御手段15の耐
火物ルツボ11aの近傍には貫通孔15cが形成されてお
り、この貫通孔15c通って線状の磁性材料10が耐火物ル
ツボ11a内に供給される。この場合、貫通孔15cの直径
dhと磁性材料10の直径dwとの関係が、2.0×dw>
dhの関係にあることが好ましい。すなわち、線状の磁
性材料10の供給時の振れにより、磁性材料10が貫通孔15
cにより削られたり、貫通孔15cが線状の磁性材料10と
接触することにより貫通孔15cから蒸気拡散制御手段15
に割れが生じたりすることを防止することができる。
Further, the vapor diffusion control means 15 circulates a coolant such as cooling water, liquid nitrogen, liquid helium, ethylene glycol or the like in the inner wall portion 15a and concentrically from the center of the opening to the outside toward the outside. , Cu, Al, N
The cooling layer 15b is made of two layers, i.e., i, Ti, Mg, Zn and their alloys, stainless steel and the like. As shown in FIG. 3, a through-hole 15c is formed in the vicinity of the refractory crucible 11a of the vapor diffusion control means 15, and the linear magnetic material 10 passes through the through-hole 15c into the refractory crucible 11a. Supplied. In this case, the relationship between the diameter dh of the through hole 15c and the diameter dw of the magnetic material 10 is 2.0 × dw>
dh is preferable. That is, the magnetic material 10 is moved through the through-holes 15 due to the deflection during the supply of the linear magnetic material 10.
c, or the through hole 15c comes into contact with the linear magnetic material 10 so that the vapor diffusion control means 15
Cracks can be prevented.

【0045】また、蒸気拡散制御手段15の外周面側には
例えば抵抗加熱ヒーター、高周波誘導加熱用コイル等の
加熱源を含む加熱構造体を設けるようにしてもよい。
Further, a heating structure including a heating source such as a resistance heater or a high frequency induction heating coil may be provided on the outer peripheral surface side of the vapor diffusion control means 15.

【0046】蒸気拡散制御手段15は、耐火物ルツボ11a
の溶湯面内の中心を基準とし、この基準とされた点から
蒸発して上方に飛び出した磁性材料10の蒸発粒子が、後
述の最大入射角規制用のマスク13および最小入射角規制
用のマスク14によって規定される最大入射角θmax から
最小入射角θmin に亘る連続した範囲に付着するのを妨
げないように構成されているものとする。
The vapor diffusion control means 15 includes a refractory crucible 11a.
Evaporated particles of the magnetic material 10 that evaporate from the center point in the melt surface and fly upward from the point set as the reference point are used as a mask 13 for controlling the maximum incident angle and a mask for controlling the minimum incident angle, which will be described later. It is assumed that it is configured so as not to prevent adhesion in a continuous range from the maximum incident angle θmax to the minimum incident angle θmin defined by 14.

【0047】材料供給手段25は以下のように構成され
る。図4は材料供給手段25の詳細を説明するための図で
ある。図4に示すように材料供給手段25は、Coワイヤ
である磁性材料10が巻回されたワイヤリール26を収納す
る材料供給用チャンバ27と、ワイヤリール26から引き出
された線状の磁性材料10をガイドする横ガイドローラ28
と、縦ガイドローラ29と、磁性材料10の縦方向の巻癖を
矯正するための縦方向矯正ローラ30と、磁性材料10の横
方向の巻癖を矯正するための横方向矯正ローラ31と、線
状の磁性材料10を引き出すためのピンチローラ32および
送りローラ33と、磁性材料10を案内するためのガイドロ
ーラ34と、磁性材料10の最終的な位置決めを行う位置決
めローラ35とからなる。
The material supply means 25 is configured as follows. FIG. 4 is a diagram for explaining the details of the material supply means 25. As shown in FIG. 4, the material supply means 25 includes a material supply chamber 27 for accommodating a wire reel 26 wound with the magnetic material 10 of Co wire, and a linear magnetic material 10 drawn from the wire reel 26. Guide roller 28 to guide
A vertical guide roller 29, a vertical correction roller 30 for correcting a vertical curl of the magnetic material 10, and a horizontal correction roller 31 for correcting a horizontal curl of the magnetic material 10, It comprises a pinch roller 32 and a feed roller 33 for drawing out the linear magnetic material 10, a guide roller 34 for guiding the magnetic material 10, and a positioning roller 35 for finally positioning the magnetic material 10.

【0048】そして、線状の磁性材料10は、ワイヤリー
ル26から引き出された後、横ガイドローラ28および縦ガ
イドローラ29によりガイドされ、縦方向矯正ローラ30お
よび横方向矯正ローラ31とにより巻癖が矯正されて直進
性が保たれる。その後磁性材料10はピンチローラ32およ
びワイヤ送りローラ33とにより強く挟み込まれ、かつワ
イヤ送りローラ33の回転により引き出される。なお、ワ
イヤ送りローラ33は、図示しないワイヤ送り用モータに
チェーンを介して連結されており、このワイヤ送り用モ
ータを駆動することにより、線状の磁性材料10の送りを
行う。そして引き出された磁性材料10は、ガイドローラ
34および位置決めローラ35を介して蒸気拡散制御手段15
の貫通孔15cを通過して耐火物ルツボ11a内に連続的に
供給される。
After the linear magnetic material 10 is pulled out from the wire reel 26, it is guided by a horizontal guide roller 28 and a vertical guide roller 29, and is curled by a vertical correction roller 30 and a horizontal correction roller 31. Is corrected and straightness is maintained. Thereafter, the magnetic material 10 is strongly sandwiched between the pinch roller 32 and the wire feed roller 33, and is pulled out by the rotation of the wire feed roller 33. The wire feed roller 33 is connected to a wire feed motor (not shown) via a chain, and feeds the linear magnetic material 10 by driving the wire feed motor. The drawn magnetic material 10 is used as a guide roller.
Vapor diffusion control means 15 via the positioning roller 35
Is continuously supplied into the refractory crucible 11a through the through hole 15c.

【0049】なおこの場合、線状の磁性材料10の直径d
wと、磁性材料10の抵抗率ρ、透磁率μおよび高周波誘
導加熱手段の発振周波数fにより定められる加熱浸透深
さδとが、dw>δ(δ=(ρ/π・f・μ)1/2 )の
関係にあることが好ましく、さらには磁性材料のキュリ
ー温度以上の温度(Co100 の場合約1130℃)におい
て、dw>δの関係を満たすように高周波誘導加熱コイ
ルの発振周波数fが設定されていることが好ましい。
In this case, the diameter d of the linear magnetic material 10
w and the heat penetration depth δ determined by the resistivity ρ, the magnetic permeability μ of the magnetic material 10 and the oscillation frequency f of the high-frequency induction heating means are dw> δ (δ = (ρ / π · f · μ) 1 / 2 ), and at a temperature equal to or higher than the Curie temperature of the magnetic material (about 1130 ° C. in the case of Co 100 ), the oscillation frequency f of the high-frequency induction heating coil is adjusted so as to satisfy the relationship of dw> δ. Preferably, it is set.

【0050】このように本実施形態による磁気記録媒体
の製造装置は、線状の磁性材料10を連続的に耐火物ルツ
ボ11aに供給するようにしたため、磁性材料10の供給の
ために装置の減圧状態を解除する必要が無くなり、効率
よく磁性材料10を供給して生産効率を向上させることが
できる。また、線状の磁性材料10を高周波誘導加熱蒸発
手段の加熱作用を受ける領域を通過せしめて耐火物ルツ
ボ11aに供給するようにしたため、耐火物ルツボ11a内
で溶融している磁性材料10に低温の線状磁性材料が供給
されることによる蒸発レートの変動を防止することがで
きる。
As described above, in the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present embodiment, the linear magnetic material 10 is continuously supplied to the refractory crucible 11a. There is no need to cancel the state, and the production efficiency can be improved by efficiently supplying the magnetic material 10. Further, since the linear magnetic material 10 is supplied to the refractory crucible 11a by passing through the area subjected to the heating action of the high-frequency induction heating and evaporating means, the magnetic material 10 melted in the refractory crucible 11a has a low temperature. The fluctuation of the evaporation rate due to the supply of the linear magnetic material can be prevented.

【0051】さらに、磁性材料10を耐火物ルツボ11aに
連続的に供給することにより、線状の磁性材料10が停止
して、磁性材料10や貫通孔15cに蒸発した磁性材料10が
付着することを防止し、再度移動させる際に付着した磁
性材料10が蒸気拡散制御手段15や耐火物ルツボ11aに接
触して、これらに損傷を与えることを防止することがで
きる。
Further, by continuously supplying the magnetic material 10 to the refractory crucible 11a, the linear magnetic material 10 stops, and the evaporated magnetic material 10 adheres to the magnetic material 10 and the through hole 15c. This prevents the magnetic material 10 adhering when it is moved again from coming into contact with the vapor diffusion control means 15 and the refractory crucible 11a and damaging them.

【0052】さらに、耐火物ルツボ11a内の磁性材料10
の溶湯面レベルに対応して、供給される磁性材料10の供
給速度を変化させるようにしてもよい。例えば耐火物ル
ツボ11a外部に設けられた溶湯面レベル検出器により溶
湯面レベルを測定し、溶湯面レベルが高いときは供給速
度を比較的低くし、溶湯面レベルが低いときは供給速度
を高くするものである。このように磁性材料10の溶湯面
レベルに対応して磁性材料10の供給速度を変化させるこ
とにより、蒸発源11から蒸発する磁性材料10の蒸発レー
トを一定にすることができ、蒸発レートの変動によって
生じるベースフイルム3に蒸着される磁性材料のムラを
防止することができる。
Further, the magnetic material 10 in the refractory crucible 11a
The supply speed of the supplied magnetic material 10 may be changed in accordance with the molten metal surface level. For example, the melt surface level is measured by a melt surface level detector provided outside the refractory crucible 11a. When the melt surface level is high, the supply speed is relatively low, and when the melt surface level is low, the supply speed is high. Things. By changing the supply speed of the magnetic material 10 in accordance with the molten metal surface level of the magnetic material 10 in this manner, the evaporation rate of the magnetic material 10 evaporated from the evaporation source 11 can be kept constant, and the fluctuation of the evaporation rate As a result, unevenness of the magnetic material deposited on the base film 3 can be prevented.

【0053】なお、上述した実施形態においては、図3
に示すように、蒸気拡散制御手段15に貫通孔15cを形成
し、この貫通孔15cから線状の磁性材料10を耐火物ルツ
ボ11a内に供給するようにしているが、これに限定され
るものではなく、例えば、図5に示すように蒸気拡散制
御手段15の上端の開口から線状の磁性材料10を耐火物ル
ツボ11a内に供給するようにしてもよい。しかしなが
ら、図2に示す実施形態のように、貫通孔15cを通じて
磁性材料10を挿入するものの方が、蒸気拡散制御手段15
の上部開口から磁性材料10を供給するものと比較して、
磁性材料10の蒸発領域と線状の磁性材料10とが重なるこ
とが無くなるため、ベースフイルム3に形成される磁性
膜の膜厚分布の変動を防止することができる。
In the above-described embodiment, FIG.
As shown in (1), a through hole 15c is formed in the vapor diffusion control means 15, and a linear magnetic material 10 is supplied from the through hole 15c into the refractory crucible 11a, but is not limited to this. Instead, for example, the linear magnetic material 10 may be supplied into the refractory crucible 11a from the opening at the upper end of the vapor diffusion control means 15 as shown in FIG. However, the magnetic material 10 inserted through the through hole 15c as in the embodiment shown in FIG.
Compared to supplying magnetic material 10 from the upper opening of
Since the evaporation region of the magnetic material 10 and the linear magnetic material 10 do not overlap with each other, a change in the film thickness distribution of the magnetic film formed on the base film 3 can be prevented.

【0054】また、耐火物ルツボ11aに供給される磁性
材料10は高周波誘導加熱コイル12により加熱することが
好ましいが、この場合耐火物ルツボ11aに磁性材料10が
供給される前にこの磁性材料10を加熱する予備加熱用の
高周波誘導加熱コイル12′を設け、線状の磁性材料10を
この予備加熱高周波誘導加熱コイル12′の中心を通過せ
しめて、耐火物ルツボ11aに供給される磁性材料10を加
熱するようにしてもよい。ここで、予備加熱高周波誘導
加熱コイル12′は、図示しない高周波電源により電力が
供給されるものであり、内部に冷却水が循環する直径φ
8mmのCuパイプ製である。ターン数は3ターン、発振
周波数20kHz、出力10KWである。
The magnetic material 10 supplied to the refractory crucible 11a is preferably heated by the high-frequency induction heating coil 12. In this case, the magnetic material 10 is supplied before the magnetic material 10 is supplied to the refractory crucible 11a. A high-frequency induction heating coil 12 ′ for preheating is provided, and the linear magnetic material 10 is passed through the center of the preheating high-frequency induction heating coil 12 ′ to be supplied to the refractory crucible 11 a. May be heated. Here, the preheating high-frequency induction heating coil 12 ′ is supplied with power from a high-frequency power supply (not shown), and has a diameter φ in which cooling water circulates.
It is made of 8mm Cu pipe. The number of turns is three, the oscillation frequency is 20 kHz, and the output is 10 KW.

【0055】さらにこの場合、図7に示すように、高周
波誘導加熱コイル12のターン数を増加してコイル12を耐
火物ルツボ11aの上方へ延長し、この延長された部分を
線状の磁性材料10が通過するようにして、耐火物ルツボ
11a内に供給される磁性材料10を加熱するようにしても
よい。図7に示す実施形態においては、高周波誘導加熱
コイル12のターン数は6ターンであり、高さは150 mmで
ある。なお、図6および図7においては、蒸気拡散制御
手段15が設けられていないものについて説明したが、こ
れに限定されるものではなく、上述した図2あるいは図
4に示す実施例と同様に、蒸気拡散制御手段15を設ける
ものにおいても、予備加熱高周波誘導加熱コイル12′を
設けたり、高周波誘導加熱コイル12のターン数を増加す
るようにしてもよい。
Further, in this case, as shown in FIG. 7, the number of turns of the high-frequency induction heating coil 12 is increased to extend the coil 12 above the refractory crucible 11a, and this extended portion is connected to a linear magnetic material. Refractory crucible so that 10 passes
The magnetic material 10 supplied into the inside 11a may be heated. In the embodiment shown in FIG. 7, the number of turns of the high-frequency induction heating coil 12 is 6 and the height is 150 mm. In FIGS. 6 and 7, the case where the vapor diffusion control means 15 is not provided has been described. However, the present invention is not limited to this, and similar to the embodiment shown in FIG. 2 or FIG. Also in the apparatus provided with the vapor diffusion control means 15, the preheating high-frequency induction heating coil 12 'may be provided, or the number of turns of the high-frequency induction heating coil 12 may be increased.

【0056】また、図3および図4に示す実施形態にお
いては、蒸気拡散制御手段15を設けた蒸発源について説
明したが、これに限定されるものではなく、図6、図7
に示すように蒸気拡散制御手段15を設けないものについ
ても、本願発明を適用できる。
In the embodiment shown in FIGS. 3 and 4, the evaporation source provided with the vapor diffusion control means 15 has been described. However, the present invention is not limited to this.
The present invention can be applied to a device without the vapor diffusion control means 15 as shown in FIG.

【0057】なお、耐火物ルツボ11a、高周波誘導加熱
コイル12、高周波電源20、高周波フィーダー21等は蒸発
源11の一例にすぎず、ベースフイルム3が幅方向(ベー
スフイルム3面内の搬送方向に直交する方向)に広い場
合は、ベースフイルム3の幅に応じて蒸発源11の形状を
変えるようにし(例えば蒸発源11の水平断面形状が楕円
形状であり、ベースフイルム3の幅が広い場合には、蒸
発源11の楕円形状の長軸方向をベースフイルム3の幅方
向に合わせる)、蒸発源11をベースフイルム3の幅方向
に対応させて複数組配列した構成を採ることもできる。
この場合、蒸発源11(耐火物ルツボ11aを含む)、高周
波誘導加熱コイル12、高周波電源20、高周波フィーダー
21をそれぞれ独立に複数組配設した構成や、蒸発源11を
複数組配設し、高周波誘導加熱コイル12、高周波電源2
0、高周波フィーダー21を共通にした構成を採用するこ
ともできる。
Note that the refractory crucible 11a, the high-frequency induction heating coil 12, the high-frequency power supply 20, the high-frequency feeder 21 and the like are merely examples of the evaporation source 11, and the base film 3 is moved in the width direction (in the transport direction in the plane of the base film 3). When the width is wide in the direction perpendicular to the base film 3, the shape of the evaporation source 11 is changed according to the width of the base film 3 (for example, when the horizontal cross-sectional shape of the evaporation source 11 is elliptical and the width of the base film 3 is wide). The elongate axis direction of the elliptical shape of the evaporation source 11 is adjusted to the width direction of the base film 3), and a plurality of sets of the evaporation sources 11 may be arranged corresponding to the width direction of the base film 3.
In this case, the evaporation source 11 (including the refractory crucible 11a), the high-frequency induction heating coil 12, the high-frequency power supply 20, the high-frequency feeder
A configuration in which a plurality of sets 21 are independently arranged, a plurality of sets of the evaporation sources 11 are provided, and a high-frequency induction heating coil 12, a high-frequency power supply 2
0, a configuration in which the high-frequency feeder 21 is shared may be adopted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による磁気記録媒体の製造装置の実施形
態を表す図
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention.

【図2】蒸発源の詳細を表す図FIG. 2 is a diagram showing details of an evaporation source.

【図3】線状磁性材料の耐火物ルツボへの供給を説明す
るための図
FIG. 3 is a diagram illustrating supply of a linear magnetic material to a refractory crucible.

【図4】材料供給装置の詳細を表す図FIG. 4 is a diagram showing details of a material supply device.

【図5】線状磁性材料の耐火物ルツボへの供給を説明す
るための図
FIG. 5 is a diagram illustrating supply of a linear magnetic material to a refractory crucible.

【図6】線状磁性材料の耐火物ルツボへの供給を説明す
るための図
FIG. 6 is a diagram illustrating supply of a linear magnetic material to a refractory crucible.

【図7】線状磁性材料の耐火物ルツボへの供給を説明す
るための図
FIG. 7 is a diagram illustrating supply of a linear magnetic material to a refractory crucible.

【図8】従来の磁気記録媒体の製造装置を表す図FIG. 8 is a diagram showing a conventional magnetic recording medium manufacturing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 真空蒸着装置 2 真空槽 3 ベースフイルム 4 冷却キャン 5 送出し軸 6 巻取り軸 7 仕切り板 8 巻取り室 9 蒸着室 10 磁性材料 11 蒸発源 11a 耐火物ルツボ 12 高周波誘導加熱コイル 12′ 予備加熱高周波誘導加熱コイル 13,14 マスク 15 蒸気拡散制御手段 15c 貫通孔 17 第1のガス吹付部 18 マスク開口部 25 材料供給手段 26 ワイヤリール 27 材料供給用チャンバ 28 横ガイドローラ 29 縦ガイドローラ 30 縦方向矯正ローラ 31 横方向矯正ローラ 32 ピンチローラ 33 ワイヤ送りローラ 34 ガイドローラ 35 位置決めローラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum vapor deposition apparatus 2 Vacuum tank 3 Base film 4 Cooling can 5 Delivery axis 6 Winding axis 7 Partition plate 8 Winding chamber 9 Deposition chamber 10 Magnetic material 11 Evaporation source 11a Refractory crucible 12 High frequency induction heating coil 12 'Preheating High frequency induction heating coils 13, 14 Mask 15 Vapor diffusion control means 15c Through hole 17 First gas spraying part 18 Mask opening 25 Material supply means 26 Wire reel 27 Material supply chamber 28 Horizontal guide roller 29 Vertical guide roller 30 Vertical direction Straightening roller 31 Horizontal straightening roller 32 Pinch roller 33 Wire feed roller 34 Guide roller 35 Positioning roller

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬
送する搬送手段と、前記基板が搬送される下方に配置さ
れた磁性材料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発さ
せる高周波誘導加熱蒸発手段と、前記加熱蒸発手段によ
り、加熱蒸発した前記磁性材料からなる蒸気流の前記可
撓性基板への入射角を規制する入射角規制手段とを有す
る、前記可撓性基板上に磁性薄膜を形成せしめる磁気記
録媒体の製造装置において、 線形状である前記磁性材料を、前記高周波誘導加熱蒸発
手段により加熱しつつ、前記蒸発源内に供給する磁性材
料供給手段を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製
造装置。
1. A transport means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere, an evaporation source made of a magnetic material disposed below which the substrate is transported, and heating and evaporating the evaporation source. On the flexible substrate, comprising: a high-frequency induction heating and evaporating unit; and an incident angle regulating unit that regulates an incident angle of the vapor flow of the magnetic material heated and evaporated by the heating and evaporating unit to the flexible substrate. A magnetic material supply means for supplying the linear magnetic material into the evaporation source while heating the linear magnetic material by the high-frequency induction heating evaporation means. For manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項2】 前記高周波誘導加熱蒸発手段と前記可撓
性基板との間に、前記高周波誘導加熱蒸発手段により加
熱蒸発した前記磁性材料の蒸気流の拡散方向を規制制御
する、両端が開放された筒状の蒸気流拡散制御手段がさ
らに設けられ、 前記磁性材料供給手段が、前記筒状の蒸気流拡散制御手
段の上方開口部より前記磁性材料を供給する手段である
ことを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体の製造装
置。
2. Both ends are opened between the high-frequency induction heating evaporator and the flexible substrate to regulate and control the diffusion direction of the vapor flow of the magnetic material heated and evaporated by the high-frequency induction heating evaporator. A cylindrical vapor flow diffusion control means, wherein the magnetic material supply means is a means for supplying the magnetic material from an upper opening of the cylindrical vapor flow diffusion control means. Item 2. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to Item 1.
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