JPH10124867A - Apparatus for production of magnetic recording medium - Google Patents

Apparatus for production of magnetic recording medium

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JPH10124867A
JPH10124867A JP27064896A JP27064896A JPH10124867A JP H10124867 A JPH10124867 A JP H10124867A JP 27064896 A JP27064896 A JP 27064896A JP 27064896 A JP27064896 A JP 27064896A JP H10124867 A JPH10124867 A JP H10124867A
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JP
Japan
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control means
magnetic
diffusion control
vapor
layer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP27064896A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junji Nakada
純司 中田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH10124867A publication Critical patent/JPH10124867A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the thermal conduction of a vapor flow diffusion control means in the vacuum deposition device which produces magnetic recording media by vapor deposition and has the vapor flow diffusion control means. SOLUTION: The vapor flow diffusion control means 15 is composed of plural layers constitution consisting of inside wall parts 15a, intermediate parts 15b and outer peripheral parts 15c laminated successively form the inner side toward the outer side. The means is provided with spacings between the inside wall parts 15a and the intermediate parts 15b into which packing materials 30 are packed. As a result, even if the spacings to prevent crack are opened between the inside wall parts 15a and the intermediate parts 15b, the heat of the inside wall parts 15a is transmitted via the packing materials 30 to the intermediate parts 15b and, therefore, the heat conduction between the inside wall parts 15a and the intermediate parts 15b is well effected and the vapor deposition efficiency in improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
装置に関し、とくに詳細には、金属材料を加熱溶融せし
めてこれを蒸発させ、その蒸気流をベースフイルム等の
可撓性基板上に蒸着せしめることにより磁気記録層を形
成するようにした磁気記録媒体の製造装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, and more particularly, to a method of heating and melting a metal material, evaporating the metal material, and depositing the vapor stream on a flexible substrate such as a base film. The present invention relates to an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic recording layer is formed by performing the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気記録媒体としては、γ−Fe
2 3 、CoをドープしたFe3 4、γ−Fe2 3
とFe3 4 のベルトライド化合物、Coをドープした
ベルトライド化合物、CrO3 、Baフェライト等の酸
化物磁性体、あるいはFe、Co、Ni等を主成分とす
る合金磁性体等からなる磁性材料の粒子を、添加物とと
もに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機バインダー中に分散混合せしめ、この分散混合物を
ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステ
ルやポリプロピレン等のポリオレフィンからなるベース
フイルム(基板)上に塗布し、その後これを乾燥せしめ
て製造される、いわゆる塗布型の磁気テープが広く知ら
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, γ-Fe
2 O 3 , Co-doped Fe 3 O 4 , γ-Fe 2 O 3
Magnetic material as a berthollide compound of Fe 3 O 4, berthollide compound doped with Co, from CrO 3, Ba oxide magnetic material such as ferrite, or Fe, Co, an alloy magnetic material mainly composed of Ni or the like Particles are dispersed and mixed together with additives in an organic binder such as a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a styrene-butadiene copolymer, an epoxy resin, a polyurethane resin, and the dispersion mixture is mixed with a polyester such as polyethylene terephthalate (PET). 2. Description of the Related Art A so-called coating type magnetic tape is widely known, which is manufactured by coating a base film (substrate) made of polyolefin such as polypropylene or polypropylene and then drying the base film.

【0003】一方、近年、記録密度の高密度化の要求が
強くなり、磁気記録媒体の磁性層における磁性材料の高
密度化、保磁力の向上、磁性層の薄層化、あるいは周波
数特性の短波長側へのシフト、といった改良が行われて
いる。しかし、塗布型のテープでは、磁性層中にバイン
ダーが残存するため、高密度記録に要求される上述の諸
条件を満たすことが困難となっている。
On the other hand, in recent years, the demand for higher recording density has become stronger, and the density of the magnetic material in the magnetic layer of the magnetic recording medium has been increased, the coercive force has been improved, the magnetic layer has been made thinner, or the frequency characteristics have been shortened. Improvements such as shifting to the wavelength side have been made. However, in the coating type tape, since the binder remains in the magnetic layer, it is difficult to satisfy the above-described conditions required for high-density recording.

【0004】そこで、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等の蒸着法、あるいは電気メッキ、無
電解メッキ等のメッキ法による磁気記録媒体の製造方法
が注目され、種々の提案もなされている。これらの方法
によれば、バインダーを介すことなく磁性材料を直接に
基板上に堆積・成長させて磁性層を形成することができ
るため、磁性層における磁性材料の充填密度を高め、さ
らに磁性層の膜厚も薄くすることができる。
Accordingly, attention has been paid to a method of manufacturing a magnetic recording medium by a vapor deposition method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a plating method such as electroplating or electroless plating, and various proposals have been made. According to these methods, the magnetic layer can be formed by depositing and growing a magnetic material directly on a substrate without using a binder, so that the packing density of the magnetic material in the magnetic layer is increased, and Can also be made thinner.

【0005】さらに、これらの蒸着法等は、ベースフイ
ルム上に形成される膜厚の調整制御が容易であるととも
に、塗布型のテープの製造工程における磁性層塗布液の
調整作業や塗布後の乾燥等の磁性層形成に伴う処理工程
も不要となるなど実用上有用な利点を有する。
In addition, these vapor deposition methods and the like make it easy to control the adjustment of the film thickness formed on the base film, adjust the coating solution of the magnetic layer in the manufacturing process of the coating type tape, and perform drying after coating. This has practically useful advantages such as eliminating the need for processing steps associated with the formation of a magnetic layer.

【0006】特に、蒸着による方法では、メッキによる
方法において必要とされる廃液処理も不要であり、また
堆積した磁性膜の成長速度も早いという利点を有する。
このような蒸着法によってベースフイルム上に形成され
た磁性層を記録層とする磁気テープは、従来の塗布型の
磁気テープに比べて再生出力が格段に大きく、また記録
信号の周波数特性もより短波長側で向上する等、高密度
磁気記録媒体として有用なものとなっている。
In particular, the vapor deposition method has the advantages that the waste liquid treatment required in the plating method is unnecessary and that the growth rate of the deposited magnetic film is high.
A magnetic tape using a magnetic layer formed on a base film by such a vapor deposition method as a recording layer has a much higher reproduction output and a shorter frequency characteristic of a recording signal than a conventional coating type magnetic tape. It is useful as a high-density magnetic recording medium, for example, it is improved on the wavelength side.

【0007】蒸着法による磁気記録媒体の製造は、詳細
には、例えば図3に示す真空蒸着装置1により行うこと
ができる。図3に示すように、真空蒸着装置1は、減圧
状態とされた真空槽2の内部に、外形が円筒状で、かつ
その円筒外周面上にポリエステルフイルム、ポリアミド
フイルム、ポリイミドフイルム等の非磁性材料からなる
長尺のベースフイルム3を長手方向に巻装する冷却キャ
ン4を備え、この冷却キャン4は、矢印Y方向に回転し
てベースフイルム3を送出し軸5側から巻取り軸6側へ
と搬送する。
The production of the magnetic recording medium by the vapor deposition method can be performed in detail by, for example, a vacuum vapor deposition apparatus 1 shown in FIG. As shown in FIG. 3, the vacuum evaporation apparatus 1 has a cylindrical shape and a non-magnetic material such as a polyester film, a polyamide film, a polyimide film, etc. A cooling can 4 for winding a long base film 3 made of a material in the longitudinal direction is provided. The cooling can 4 is rotated in the direction of arrow Y to send out the base film 3 and send the base film 3 from the shaft 5 side to the winding shaft 6 side. Conveyed to.

【0008】真空槽2の内部は、仕切り板7により、ベ
ースフイルム3の送出しおよび巻取りを行う巻取り室8
と、ベースフイルム3に磁性材料を蒸着せしめる蒸着室
9とに分割されている。蒸着室9には、冷却キャン4の
図中下方にCoやCoNi合金、CoCr合金、CoC
rNi合金等の磁性材料10を備えた蒸発源11が配設さ
れ、電子銃加熱、抵抗加熱、高周波誘導加熱等の加熱手
段12により磁性材料10を加熱、蒸発させる。蒸発して上
昇する蒸気流たる磁性材料10の粒子(磁性粒子、または
蒸発粒子と称する)は、冷却キャン4の回転に伴なって
矢印Y方向に搬送されるベースフイルム3の表面に磁性
層として連続的に蒸着する。
The inside of the vacuum chamber 2 is wound by a partition plate 7 into a winding chamber 8 for feeding and winding the base film 3.
And a deposition chamber 9 for depositing a magnetic material on the base film 3. In the vapor deposition chamber 9, Co, CoNi alloy, CoCr alloy, CoC
An evaporation source 11 provided with a magnetic material 10 such as an rNi alloy is provided, and the magnetic material 10 is heated and evaporated by heating means 12 such as electron gun heating, resistance heating, and high-frequency induction heating. The particles of the magnetic material 10 as a vapor flow that evaporate and rise (referred to as magnetic particles or evaporating particles) are formed as a magnetic layer on the surface of the base film 3 that is conveyed in the direction of arrow Y with the rotation of the cooling can 4. Deposit continuously.

【0009】ここで、蒸発した磁性材料の粒子を効率良
く基板上に付着させて蒸着効率を高めるためには、この
蒸発した粒子が広く拡散しないようにすればよく、例え
ば特開昭63- 204513号、特開平2-56730号により開示さ
れた技術によれば、蒸発源と冷却キャンとの間であっ
て、この蒸発した粒子が通過する部分の回りをその周壁
が囲うように、円筒状の蒸気流拡散制御手段(単に蒸気
拡散制御手段ということもある)15を設ければよい。な
お、このような蒸気拡散制御手段15には、その内壁面に
付着した磁性材料10の蒸発粒子を再蒸発若しくは擬集回
収させるため、または再蒸発と擬集回収とを組み合わせ
るために、内壁面の温度を加熱あるいは冷却する手段を
具備する。
Here, in order to efficiently deposit the evaporated magnetic material particles on the substrate to increase the vapor deposition efficiency, it is sufficient to prevent the evaporated particles from diffusing widely. According to the technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-56730, a cylindrical shape is provided between the evaporation source and the cooling can so that the peripheral wall surrounds a portion through which the evaporated particles pass. What is necessary is just to provide the vapor flow diffusion control means (sometimes simply called vapor diffusion control means) 15. The vapor diffusion control means 15 has an inner wall surface for re-evaporating or collecting and collecting the evaporated particles of the magnetic material 10 attached to the inner wall surface, or for combining re-evaporation and collecting and collecting. Means for heating or cooling the temperature.

【0010】また、このような円筒状の蒸気拡散制御手
段15を設けた場合、加熱手段として一般に利用される電
子銃加熱手段を用いるのは困難である。すなわち、この
場合はその電子銃から蒸発源11にある磁性材料10までの
電子ビームの通過軌道を確保する必要があるが、蒸発源
11の上方に蒸気拡散制御手段15を設けた場合、この電子
ビームの通過軌道を確保するのが困難だからである。従
って通常は加熱手段としては高周波誘導加熱手段を用い
るようにしている。
When such a cylindrical vapor diffusion control means 15 is provided, it is difficult to use an electron gun heating means generally used as a heating means. In other words, in this case, it is necessary to secure the trajectory of the electron beam from the electron gun to the magnetic material 10 in the evaporation source 11.
This is because, if the vapor diffusion control means 15 is provided above 11, it is difficult to secure a passage trajectory of the electron beam. Therefore, high frequency induction heating means is usually used as the heating means.

【0011】一方、上述した蒸気拡散制御手段はその内
壁面によって蒸気流の拡散を防止するものであるが、反
面蒸気流がこの内壁面に接触し、蒸発した磁性材料がこ
の内壁面に付着、固化するおそれがある。磁性材料が内
壁面に付着、固化すると、意図していた蒸気流分布とは
異なった蒸気流分布となってしまい、また堆積した磁性
材料の回収作業等のメンテナンスも必要となる。そこで
上記方法においては蒸気拡散制御手段に加熱源を付加
し、この手段の内壁面を磁性材料の沸点以上の温度と
し、この蒸気拡散制御手段内壁面に衝突してこの内壁面
に付着した磁性材料の粒子を再蒸発せしめて他の蒸気流
と合流し得るようにしている。
On the other hand, the above-mentioned vapor diffusion control means prevents the diffusion of the vapor flow by its inner wall surface. On the other hand, the vapor flow contacts the inner wall surface, and the evaporated magnetic material adheres to the inner wall surface. There is a risk of solidification. When the magnetic material adheres and solidifies on the inner wall surface, the vapor flow distribution becomes different from the intended vapor flow distribution, and maintenance such as a recovery operation of the deposited magnetic material is required. Therefore, in the above method, a heating source is added to the vapor diffusion control means, the inner wall surface of this means is set to a temperature equal to or higher than the boiling point of the magnetic material, and the magnetic material which collides with the inner wall surface of the vapor diffusion control means and adheres to the inner wall surface Are re-evaporated so that they can merge with other vapor streams.

【0012】しかしながら、蒸気拡散制御手段内壁面か
ら再蒸発した磁性材料粒子の飛散方向はその他の磁性材
料の粒子の飛散方向と異なるため当初意図していた蒸気
流分布が得られず蒸着効率の低下を招くおそれがあっ
た。一方、本願発明に用いられるような、可撓性基板上
に磁性薄膜を形成せしめる磁気記録媒体の製造プロセス
は、一般に斜め蒸着と呼ばれている。
However, since the scattering direction of the magnetic material particles re-evaporated from the inner wall surface of the vapor diffusion control means is different from the scattering direction of the other magnetic material particles, the originally intended steam flow distribution cannot be obtained and the deposition efficiency is reduced. Was likely to be caused. On the other hand, a manufacturing process of a magnetic recording medium for forming a magnetic thin film on a flexible substrate as used in the present invention is generally called oblique deposition.

【0013】斜め蒸着のねらいは、可撓性基板上に蒸着
された磁性体結晶を、前記可撓性基板の垂直方向に対し
て、斜めの角度にして成長させ、保持力などの磁気特性
を向上させる点にある。従って、上記の再蒸発した磁性
材料粒子が、任意の角度で前記可撓性基板に付着するこ
とは、斜め蒸着における安定な結晶成長を阻害し、磁気
特性の不安定要因となるおそれもあった。
The purpose of the oblique deposition is to grow a magnetic crystal deposited on a flexible substrate at an oblique angle with respect to the vertical direction of the flexible substrate, and to improve magnetic properties such as coercive force. The point is to improve. Therefore, the re-evaporated magnetic material particles adhering to the flexible substrate at an arbitrary angle hinder stable crystal growth in oblique vapor deposition, and may cause instability of magnetic characteristics. .

【0014】このため、蒸気拡散制御手段内壁面の温度
を蒸気流を構成する磁性材料の融点以上であって沸点よ
りも低い温度に調節することにより、蒸気拡散制御手段
内壁面に付着した磁性材料の粒子を再蒸発させることな
く液状化せしめ、この内壁面を伝わって下降させ、これ
により、蒸気拡散制御手段上部開口からの蒸気流には蒸
気拡散制御手段内壁面から再蒸発した磁性材料の粒子が
含まれないようにし、これにより蒸気流分布が再蒸発し
た磁性材料の蒸気流により乱されることなく高い蒸着効
率を維持するようにした磁気記録媒体の製造方法が提案
されている(特開平2-56730 号)。
Therefore, by adjusting the temperature of the inner wall surface of the vapor diffusion control means to a temperature higher than the melting point of the magnetic material constituting the steam flow and lower than the boiling point, the magnetic material adhering to the inner wall surface of the vapor diffusion control means is adjusted. Particles are liquefied without being re-evaporated and descend along the inner wall surface, whereby the vapor flow from the upper opening of the vapor diffusion control means contains particles of the magnetic material re-evaporated from the inner wall surface of the vapor diffusion control means. A method for manufacturing a magnetic recording medium has been proposed in which a high vapor deposition efficiency is maintained without disturbing the vapor flow distribution by the vapor flow of the re-evaporated magnetic material (see Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 9-64572). 2-56730).

【0015】一方、このような磁気記録媒体の製造装置
においては、蒸気拡散制御手段を内壁部とその外側に設
けられた外周部との2層構造にしたもの、あるいは内壁
部と中間部と外周部との3層構造にしたものが知られて
いる。例えば、上記特開平2-56730 号には、内壁部をセ
ラミック材料により構成し、その外側の中間部をカーボ
ン繊維などからなる熱伝導媒体により構成し、さらにそ
の外側の外周部を内壁部を冷却する冷却手段としての水
冷式シリンダにより構成した3層構造の蒸気拡散制御手
段が開示されている。また、冷却手段の代りに加熱手段
を設けて、内壁部を所望とする温度に加熱するようにし
た装置も知られている。このように蒸気拡散制御手段を
2層あるいは3層構造とすることにより、内壁部の熱が
良好に冷却手段に伝達される、あるいは内壁部を良好に
加熱することができるため、内壁部の温度の制御が容易
となり、これにより内壁部に付着した磁性材料の再蒸発
を防止して蒸着効率を向上させることが可能となるとさ
れていた。
On the other hand, in such a magnetic recording medium manufacturing apparatus, the vapor diffusion control means has a two-layer structure of an inner wall portion and an outer peripheral portion provided outside the inner wall portion, or an inner wall portion, an intermediate portion and an outer peripheral portion. A three-layer structure is known. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-56730 discloses that an inner wall portion is formed of a ceramic material, an outer intermediate portion is formed of a heat conductive medium such as carbon fiber, and an outer peripheral portion of the outer wall portion is cooled. A steam diffusion control means having a three-layer structure constituted by a water-cooled cylinder as a cooling means is disclosed. There is also known an apparatus in which a heating means is provided instead of the cooling means to heat the inner wall to a desired temperature. Since the vapor diffusion control means has a two-layer or three-layer structure, the heat of the inner wall can be transmitted to the cooling means satisfactorily or the inner wall can be satisfactorily heated. It is said that the control of the magnetic material becomes easy, thereby preventing the re-evaporation of the magnetic material attached to the inner wall portion and improving the vapor deposition efficiency.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】上述した蒸気流拡散制
御手段を複数の層からなるものとした場合、熱膨張によ
り各層間が膨張すると各層に割れが生じるおそれがある
ため、各層の間にある程度の間隙を設ける必要がある。
しかしながら、各層の間に間隙を設けるとこの間隙が断
熱材として働き、蒸気流拡散制御手段の内側の層の熱を
外側へ逃がす作用を低減させてしまう。
In the case where the above-mentioned vapor flow diffusion control means is composed of a plurality of layers, each layer may be cracked when expanded between layers due to thermal expansion. Needs to be provided.
However, if a gap is provided between the layers, the gap functions as a heat insulating material, and the effect of releasing the heat of the layer inside the vapor flow diffusion control means to the outside is reduced.

【0017】一方、蒸気流拡散制御手段の内側の層は通
常耐熱性の高いセラミックを用いる場合が多い。このセ
ラミックからなる筒状の部材は、適度の粒径を有する粒
子を混合して金属の型内に少しずつ入れて固めていく方
法や、プレス機によって圧力をかけて成形し、その後型
から取り出したものを1400℃〜1600℃の温度で焼成して
形成される。この焼成品は必ずしも寸法精度は均一では
なく、多少の歪み寸法ずれを生じているものである。ま
た、このセラミックの層の外側に形成される層は通常黒
鉛質カーボン、BN、金属等であり、これらは加工精度
が略一定のものとして加工されるため、歪みや寸法ずれ
を殆ど生じないものである。したがって、セラミック層
とその外側の層とのはめ合いにおいては、セラミック層
の寸法が変化することから各層の組み合わせにより間隙
の寸法が異なるものとなり、製品によって内側の層から
外側の層への熱伝達率が変化して、蒸気流拡散制御手段
を作成する際の再現性に問題が生じる。
On the other hand, the inner layer of the vapor flow diffusion control means is usually made of a ceramic having high heat resistance in many cases. A cylindrical member made of this ceramic is mixed with particles having an appropriate particle size, and then gradually put into a metal mold and solidified, or molded by applying pressure with a press machine, and then removed from the mold It is formed by firing at a temperature of 1400C to 1600C. This baked product is not always uniform in dimensional accuracy, but has some distortion and dimensional deviation. The layers formed outside the ceramic layer are usually graphitic carbon, BN, metal, etc., which are processed with a substantially constant processing accuracy, so that they hardly cause distortion or dimensional deviation. It is. Therefore, when the ceramic layer and the outer layer are fitted, the size of the ceramic layer changes, so that the size of the gap varies depending on the combination of the layers, and heat transfer from the inner layer to the outer layer varies depending on the product. The rate changes, causing a problem in reproducibility when creating the vapor flow diffusion control means.

【0018】本発明は上記事情に鑑み、蒸気流拡散制御
手段の内側の層から外側の層へ向けての熱伝達率を常に
一定のものとして、蒸気流拡散制御手段の内側の層から
外側の層へ向けて熱を効率良く逃がすことができる磁気
記録媒体の製造装置を提供することを目的とするもので
ある。
In view of the above circumstances, the present invention sets the heat transfer coefficient from the inner layer to the outer layer of the steam flow diffusion control means to be always constant, and sets the heat transfer coefficient from the inner layer to the outer layer of the steam flow diffusion control means. It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium manufacturing apparatus capable of efficiently releasing heat toward a layer.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明になる磁気記録媒
体の製造装置は、真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を
搬送する搬送手段と、前記基板が搬送される下方に配設
された磁性材料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発
させる蒸発手段と、前記蒸発手段と前記可撓性基板との
間に配置され、前記蒸発手段により加熱蒸発した蒸気流
の拡散方向を規制制御する蒸気流拡散制御手段と、前記
蒸気流の、前記可撓性基板への入射角度を規制する入射
角規制手段とを有する、前記可撓性基板上に磁性薄膜を
形成せしめる磁気記録媒体の製造装置において、前記蒸
気流拡散制御手段が、該手段の内側から外側に向けて積
層された複数の筒状の層からなり、該各層のうち少なく
とも最も内側からn番目の層と、n+1番目の層(n:
自然数)との間に隙間を設け、該隙間に、熱伝導率が0.
03kcal/mh℃〜500kcal/mh℃の材料を充填したことを特
徴とする磁気記録媒体の製造装置により達成される。
According to the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: transport means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere; An evaporation source made of a magnetic material, an evaporation unit for heating and evaporating the evaporation source, and a diffusion direction of the vapor flow heated and evaporated by the evaporation unit, disposed between the evaporation unit and the flexible substrate. A magnetic recording medium for forming a magnetic thin film on the flexible substrate, comprising: a vapor flow diffusion control means for regulating and controlling; and an incident angle regulating means for regulating an incident angle of the vapor flow to the flexible substrate. Wherein the vapor flow diffusion control means comprises a plurality of cylindrical layers stacked from the inside to the outside of the means, and at least the n-th layer from the innermost and the (n + 1) -th layer among the respective layers. Layer (n:
A natural number), and the gap has a thermal conductivity of 0.
This is achieved by a magnetic recording medium manufacturing apparatus characterized by being filled with a material of 03 kcal / mh ° C to 500 kcal / mh ° C.

【0020】上記熱伝達率はより望ましくは10〜400kca
l/mh℃、最も望ましくは40〜350kcal/mh℃がよい。
The heat transfer coefficient is more desirably 10 to 400 kca
l / mh ° C, most preferably 40 to 350 kcal / mh ° C.

【0021】熱伝達率が0.03kcal/mh℃未満であると、
前記充填用材料は、断熱材として機能し、500kcal/mh℃
を越えると、前記充填用材料が劣化しやすくなるからで
ある。また、前記充填用材料は、粒状或いはシート状で
あって、その組成は、金属、酸化物、窒化物、ホウ化
物、ケイ化物および炭素の中から少なくとも一つ、或い
は組み合わせたものが選ばれるが、望ましくは酸化物が
よい。
When the heat transfer coefficient is less than 0.03 kcal / mh ° C.,
The filling material functions as a heat insulating material, and is 500 kcal / mh ° C.
This is because if the ratio exceeds, the filling material is liable to deteriorate. Further, the filling material is in the form of particles or sheets, and the composition thereof is selected from at least one of metal, oxide, nitride, boride, silicide and carbon, or a combination thereof. Preferably, an oxide is used.

【0022】さらに、前記充填材料を粒状物とするとき
は、その粒子サイズは0.3mm以下がよい。
Further, when the filling material is granular, the particle size is preferably 0.3 mm or less.

【0023】0.3mmを越えると、充填した粒状物間の空
隙が大きくなり、ねらった熱伝達率が得られないからで
ある。
If it exceeds 0.3 mm, the space between the filled granular materials becomes large, and the intended heat transfer coefficient cannot be obtained.

【0024】なお、上記蒸気流拡散制御手段の上記nの
値は3を上限とするのが望ましい。
It is preferable that the value of n of the vapor flow diffusion control means has an upper limit of 3.

【0025】ここで、蒸発源とは、磁性材料により形成
されたものを言うが、本発明においては説明の便宜上こ
の蒸発源である磁性材料を収容してなる蒸発容器を含め
て蒸発源ということがあるものとする。
Here, the term "evaporation source" means a material formed of a magnetic material. In the present invention, for convenience of explanation, the term "evaporation source" includes an evaporation container containing the magnetic material as the evaporation source. It is assumed that there is.

【0026】[0026]

【作用および発明の効果】本発明による磁気記録媒体の
製造装置は、筒状の蒸気流拡散制御手段を構成する複数
の層のうち、少なくとも最も内側からn番目の層とn+
1番目の層との間に設けた間隙に耐熱性および熱伝導性
を有する充填材を充填せしめたため、隣接した2層にお
いて、内側の層の熱は充填材を介してその外側の層に伝
導される。したがって、各層の寸法が加工精度により異
なって各層間に間隙が生じても、この間隙に充填された
充填材が内側の層の熱を外側の層に伝達し、これにより
各層間の熱伝達を良好に行うことができ、内側の層の温
度を良好に外側の層へ逃がすことができる。その結果、
内壁部の温度が高温となりすぎ、内壁部に付着した磁性
材料の再蒸発を促進しすぎて蒸着効率を低下させる、と
いうことを防止することができる。
In the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, at least the n-th layer from the innermost layer and n +
Since the gap provided between the first layer and the first layer is filled with a filler having heat resistance and thermal conductivity, the heat of the inner layer in the two adjacent layers is transferred to the outer layer via the filler. Is done. Therefore, even if the dimensions of each layer are different due to the processing accuracy and a gap is generated between the layers, the filler filled in the gap transfers the heat of the inner layer to the outer layer, thereby transferring the heat between the layers. It can be performed well, and the temperature of the inner layer can be satisfactorily released to the outer layer. as a result,
It is possible to prevent the temperature of the inner wall portion from becoming too high and promoting the re-evaporation of the magnetic material attached to the inner wall portion too much, thereby lowering the vapor deposition efficiency.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体製造
装置の実施の形態について、図面を参照して説明する。
図1は本発明の磁気記録媒体製造装置である真空蒸着装
置の一実施形態の概略構成を示すものである。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 1 shows a schematic configuration of an embodiment of a vacuum evaporation apparatus which is a magnetic recording medium manufacturing apparatus of the present invention.

【0028】図示の真空蒸着装置1は真空槽2の内部
に、円筒状の冷却キャン4を備え、この冷却キャン4の
円筒面(外周面)には、磁気記録媒体の基板としてのベ
ースフイルム3が巻装される。ベースフイルム3は、ポ
リエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナ
フタレート等のポリエステル、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン、三酢酸セルロースや二酢酸セルロース等の
セルロース誘電体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂、
ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンサルフ
ァイド等のプラスチックを長尺フイルム状に加工したも
のであり、その厚さは例えば3〜100 μmのものが使用
される。
The illustrated vacuum vapor deposition apparatus 1 has a cylindrical cooling can 4 inside a vacuum chamber 2, and a cylindrical film (outer peripheral surface) of the cooling can 4 has a base film 3 as a substrate of a magnetic recording medium. Is wound. The base film 3 is made of a polyester such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate, a polyolefin such as polypropylene, a cellulose dielectric such as cellulose triacetate or cellulose diacetate, a vinyl resin such as polyvinyl chloride,
It is formed by processing a plastic such as polycarbonate, polyamide, or polyphenylene sulfide into a long film, and the thickness thereof is, for example, 3 to 100 μm.

【0029】また、このベースフイルム3の表面には必
要に応じてアンダーコートが施される。アンダーコート
はバインダー(メチルセルロース等のセルロース類、P
ET等の飽和ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリアミ
ド、ポリアクリレート等)とフィラー(シリカ、チタニ
ア、アルミナ、炭酸カルシウム等)を溶解して塗布した
表面空起を有するものであり、その高さは5〜30nmで、
密度500 万〜10000 万個/mm2 の突起を有するものであ
る。この高さ、密度は要求される密着性能等により適宜
選択される。
An undercoat is applied to the surface of the base film 3 if necessary. The undercoat is made of a binder (cellulose such as methylcellulose, P
Saturated polyesters such as ET, phenoxy resins, polyamides, polyacrylates, etc.) and fillers (silica, titania, alumina, calcium carbonate, etc.) are dissolved and applied. so,
It has protrusions with a density of 5 million to 100 million / mm 2 . The height and density are appropriately selected depending on the required adhesion performance and the like.

【0030】さらにこのベースフイルム3には、グロー
放電処理やイオン照射処理、熱処理、薬品処理の前処理
を施してもよい。
Further, the base film 3 may be subjected to a pretreatment such as a glow discharge treatment, an ion irradiation treatment, a heat treatment, and a chemical treatment.

【0031】ベースフイルム3は送出し軸5から冷却キ
ャン4の円筒面を介して巻取り軸6に掛け渡され、冷却
キャン4が矢印Y方向に回転することにより冷却キャン
4の円筒面上を例えば10〜200 m/分の速度で搬送さ
れ、巻取り軸6に巻き取られる。冷却キャン4は、直径
800 mm、幅400 mmの円筒状ドラムであり、表面はハード
クロムメッキを施し0.2 S以下に鏡面研磨され、内部に
冷却水、その他の冷媒(例えばエチレングリコール)を
循環させた構造であり表面温度は例えば−35〜+25℃に
維持されている。
The base film 3 is wrapped around the winding shaft 6 from the delivery shaft 5 through the cylindrical surface of the cooling can 4, and rotates on the cylindrical surface of the cooling can 4 by rotating the cooling can 4 in the direction of arrow Y. For example, it is conveyed at a speed of 10 to 200 m / min, and is taken up by the take-up shaft 6. The cooling can 4 has a diameter
It is a cylindrical drum of 800 mm and width of 400 mm, the surface of which is hard chrome plated and mirror-polished to 0.2 S or less, and has a structure in which cooling water and other refrigerants (for example, ethylene glycol) are circulated inside. Is maintained at, for example, −35 to + 25 ° C.

【0032】冷却キャン4の表面には冷却キャン4から
一定の距離離間し、内部に冷却水あるいは冷媒を循環さ
せ、本体がSUS304 等により形成されたマスク13およ
び14が配設されている。この距離は2〜15mm、より好ま
しくは2〜10mm、最も好ましくは3〜5mmである。2mm
より狭いと後述する第1のガス吹付部を設置するスペー
スが確保できず、15mmを超えると、蒸気流がマスクとベ
ースフィルムの間に回り込んで冷却キャン4に付着して
汚れの原因となるからである。汚れが生じた部分ではキ
ャンとベースフィルム間の熱伝達率が変化したり、キャ
ンへのベースフィルムの密着が不十分となり熱ダメージ
を受け易くなるからである。そして、ベースフイルム3
の搬送方向に関して上流側に位置するマスク13により最
大入射角(θmax )を下流側に位置するマスク14により
最小入射角(θmin )が規定されている。入射角は後述
する耐火物ルツボ11a内の溶融面の円中心を基準とし、
この円中心からマスク13およびマスク14のエッジに至る
線分と冷却キャン4上のそれぞれのマスクエッジ位置で
の法線とのなす角度で定義され、マスク13により規制さ
れる最大入射角(θmax )は90°を上限とし、より好ま
しくは87°、最も好ましくは85°を上限とし、マスク14
により規制される最小入射角(θmin )は20°、より好
ましくは25°、最も好ましくは30°を下限とするように
設定されることが望ましい。何故ならば上記範囲をはず
れると望ましい保持力が得られないからである。マスク
13および14により形成されるマスク開口部18の幅方向
(ベースフイルム3の移送方向に直角の方向)の開口幅
は任意に設定できる。
On the surface of the cooling can 4, masks 13 and 14 whose main body is formed of SUS304 or the like are provided, and the cooling water or the coolant is circulated inside the cooling can 4 at a predetermined distance. This distance is between 2 and 15 mm, more preferably between 2 and 10 mm, most preferably between 3 and 5 mm. 2mm
If it is narrower, the space for installing the first gas blowing section described later cannot be secured, and if it is more than 15 mm, the vapor flow goes between the mask and the base film and adheres to the cooling can 4, causing contamination. Because. This is because the heat transfer coefficient between the can and the base film changes in the portion where the dirt is generated, or the base film is insufficiently adhered to the can, so that the can is easily damaged by heat. And base film 3
The maximum incident angle (θmax) is defined by the mask 13 located on the upstream side in the transport direction, and the minimum incident angle (θmin) is defined by the mask 14 located on the downstream side. The angle of incidence is based on the center of the circle of the melted surface in the refractory crucible 11a described later,
The maximum incident angle (θmax) defined by the angle between the line segment from the center of the circle to the edge of the mask 13 and the edge of the mask 14 and the normal line at the position of each mask edge on the cooling can 4 and regulated by the mask 13 Has an upper limit of 90 °, more preferably 87 °, most preferably an upper limit of 85 °, and the mask 14
It is desirable that the minimum incident angle (θmin) regulated by the above is set to a lower limit of 20 °, more preferably 25 °, and most preferably 30 °. This is because a desired holding power cannot be obtained if the above range is not satisfied. mask
The opening width of the mask opening 18 formed by 13 and 14 in the width direction (direction perpendicular to the transport direction of the base film 3) can be set arbitrarily.

【0033】またマスク13および14の前面には、各マス
ク13,14に沿って湾曲した形状であり、各マスク13,14
から一定の距離離間し、磁性材料10の蒸発金属粒子が前
記基材3の表面に付着することを妨げる機能を有し、内
部に冷却水を循環させ、本体がSUS304 等により形成
された可動式のシャッター装置が配設されている(図示
せず)。
The masks 13 and 14 have a curved shape along the front surfaces of the masks 13 and 14, respectively.
And has a function of preventing the evaporated metal particles of the magnetic material 10 from adhering to the surface of the base material 3, circulating cooling water inside, and a movable type having a main body formed of SUS304 or the like. (Not shown).

【0034】真空槽2は、仕切り板7によって、ベース
フイルム3の送出しおよび巻取りを行う巻取り室8と、
ベースフイルム3に磁性材料を蒸着する蒸着室9とに仕
切られている。巻取り室8と蒸着室9とは、各別に真空
化のための排気系(図示せず)を備え、各室内の真空度
は各別に調整可能である。特に蒸着室9は、真空槽2の
外部から後述する酸化性ガスが導入されるため、室内の
真空度および各種残留ガスの分圧が常時調整される。
The vacuum chamber 2 is provided with a winding chamber 8 for feeding and winding the base film 3 by a partition plate 7,
The base film 3 is partitioned into a deposition chamber 9 for depositing a magnetic material. Each of the winding chamber 8 and the vapor deposition chamber 9 is provided with an exhaust system (not shown) for vacuuming, and the degree of vacuum in each chamber can be individually adjusted. In particular, since the oxidizing gas described below is introduced into the vapor deposition chamber 9 from outside the vacuum chamber 2, the degree of vacuum in the chamber and the partial pressures of various residual gases are constantly adjusted.

【0035】また、巻取り室8には、ベースフイルム3
に対する既述の前・後処理のための装置、例えば、グロ
ー放電処理装置、イオン照射処理装置、熱処理装置、C
VD処理装置等を配設してもよい。また、冷却キャン4
は円筒状に限るものではなく、蒸発源11に対して所定の
斜面を形成し得るエンドレスベルト状の金属板であって
もよい。
The take-up chamber 8 contains the base film 3.
For the pre- and post-treatments described above, for example, glow discharge treatment device, ion irradiation treatment device, heat treatment device, C
A VD processing device or the like may be provided. In addition, cooling can 4
Is not limited to a cylindrical shape, and may be an endless belt-shaped metal plate capable of forming a predetermined slope with respect to the evaporation source 11.

【0036】蒸着室9には、冷却キャン4の下方に、磁
性材料10を備えた蒸発源11が配設され、この蒸発源11の
周囲には、磁性材料10を加熱するための、内部を冷却水
が循環する構造の高周波誘導加熱コイル12が配設されて
いる。さらに、高周波誘導加熱コイル12に高周波電力を
供給するための高周波電源13および高周波電力を伝達さ
せる高周波電力供給用フィーダー21が配設されている。
An evaporation source 11 provided with a magnetic material 10 is disposed below the cooling can 4 in the vapor deposition chamber 9. Around the evaporation source 11, an inside for heating the magnetic material 10 is provided. A high frequency induction heating coil 12 having a structure in which cooling water circulates is provided. Further, a high frequency power supply 13 for supplying high frequency power to the high frequency induction heating coil 12 and a high frequency power supply feeder 21 for transmitting high frequency power are provided.

【0037】磁性材料10は、例えばFe、Co、Ni、
CoNi、FeCo、FeCu、FeCr、CoCr、
CoCu、CoAu、CoPt、CoW、NiCr、C
oV、MnBi、MnAl、CoFeCr、CoNiC
r、CoRh、CoNiPt、CoNiFe、CoNi
FeB、FeCoNiCr、CiNiZn等の強磁性金
属や強磁性合金から適宜選択される。
The magnetic material 10 is made of, for example, Fe, Co, Ni,
CoNi, FeCo, FeCu, FeCr, CoCr,
CoCu, CoAu, CoPt, CoW, NiCr, C
oV, MnBi, MnAl, CoFeCr, CoNiC
r, CoRh, CoNiPt, CoNiFe, CoNi
It is appropriately selected from ferromagnetic metals and ferromagnetic alloys such as FeB, FeCoNiCr, and CiNiZn.

【0038】蒸発源11の構成要素である、磁性材料10を
収容する耐火物ルツボ11a は、例えばMgO、Zr
2 、Al2 3 、CaO、Y2 3 、ThO2 、B
N、BeOCaO安定化ZrO2 、Y2 3 安定化Zr
2 等のセラミックスや炭素または炭素化合物や他の耐
熱性のある材料から適宜選択する。またこの耐火物ルツ
ボ11a の形状は、底部を有する容器型であり、水平断面
形状は真円形、楕円形、長円形、正方形、長方形、その
他のいかなる形状であってもよく、垂直断面形状も正方
形、長方形、台形、その他のいかなる形状であってもよ
い。なお、高周波誘導加熱コイル12は、耐火物ルツボ11
a の側面に対応する形状とするのが好ましい。
The refractory crucible 11a containing the magnetic material 10, which is a component of the evaporation source 11, is made of, for example, MgO, Zr
O 2 , Al 2 O 3 , CaO, Y 2 O 3 , ThO 2 , B
N, BeOCaO stabilized ZrO 2 , Y 2 O 3 stabilized Zr
It is appropriately selected from ceramics such as O 2 , carbon or a carbon compound, and other heat-resistant materials. The shape of the refractory crucible 11a is a container shape having a bottom, and the horizontal cross-sectional shape may be a true circle, an ellipse, an oval, a square, a rectangle, or any other shape, and the vertical cross-section may be a square. , Rectangular, trapezoidal, or any other shape. The high-frequency induction heating coil 12 is a refractory crucible 11.
Preferably, the shape corresponds to the side surface of a.

【0039】さらに、蒸着室9には冷却キャン4と磁性
材料10を備えた蒸発源11との間であって、磁性材料10が
蒸発して生じる蒸気流が通過する経路を、その周壁が囲
うように蒸気拡散制御手段15が設けられ、また冷却キャ
ン4の近傍であってマスク13,14の近傍には酸性化ガス
または酸化性ガスと不活性ガス(例えばN2 Arガス)
との混合ガスをベースフイルム3に向けて吹き付けるた
めの第1のガス吹付部17が設けられている。
Further, the peripheral wall of the vapor deposition chamber 9 surrounds a path between the cooling can 4 and the evaporation source 11 having the magnetic material 10 and through which a vapor flow generated by evaporation of the magnetic material 10 passes. The vapor diffusion control means 15 is provided as described above, and an acidifying gas or an oxidizing gas and an inert gas (for example, N 2 Ar gas) are provided near the cooling can 4 and near the masks 13 and 14.
And a first gas blowing unit 17 for blowing a mixed gas with the base film 3 toward the base film 3.

【0040】ガス吹付部17は、ベースフイルム3の搬送
方向に関して下流側に位置し、最小入射角(θmin )を
規制するマスク14の近傍で、マスク14の冷却キャン4側
の面内に内蔵されている。ガス吹付スリット17aの吹付
方向は最小入射角(θmin )を定めている冷却キャン4
上の基準点における冷却キャン4上の接線にほぼ平行な
向きである。ガス吹付部17からの酸化性ガス吹き付けに
より後述の蒸気拡散制御手段15の開口部を通過してきた
蒸発粒子の飛散方向に対して、略斜め方向に酸化性ガス
が吹き付けられ蒸発金属粒子の一部を酸化する。
The gas spraying section 17 is located downstream with respect to the transport direction of the base film 3 and is built in the surface of the mask 14 on the side of the cooling can 4 near the mask 14 that regulates the minimum incident angle (θmin). ing. The blowing direction of the gas blowing slit 17a is a cooling can 4 that defines the minimum incident angle (θmin).
The direction is substantially parallel to the tangent line on the cooling can 4 at the upper reference point. The oxidizing gas is blown from the gas blowing unit 17 so that the oxidizing gas is blown in a substantially oblique direction with respect to the scattering direction of the evaporated particles that have passed through the opening of the vapor diffusion control means 15 described later, and a part of the evaporated metal particles. To oxidize.

【0041】蒸気拡散制御手段15の内周壁面は、例えば
MgO、ZrO2 、Al2 3 、CaO、Y2 3 、T
hO2 、BN、BeOCaO安定化ZrO2 、Y2 3
安定化ZrO2 等のセラミックスや炭素または炭素化合
物や他の耐熱性のある材料により形成され、耐火物ルツ
ボ11a と略連続した状態で略垂直方向に延びる規制面で
囲まれる蒸発蒸気流路を構成するように配置されてお
り、下面および上面は磁性材料10の蒸発粒子の通過を許
容するとともにその指向性を向上させるように開口し、
周壁のみを有する筒型形状であり、水平断面形状は円
形、楕円形、長円形、正方形、長方形、その他のいかな
る形状であってもよい。垂直断面形状も正方形、長方
形、台形、その他のいかなる形状であってもよい。
The inner peripheral wall of the vapor diffusion control means 15 is made of, for example, MgO, ZrO 2 , Al 2 O 3 , CaO, Y 2 O 3 , T
hO 2 , BN, BeOCaO stabilized ZrO 2 , Y 2 O 3
Evaporation steam flow path formed of ceramics such as stabilized ZrO 2 , carbon or carbon compound, or other heat-resistant material and surrounded by a regulating surface extending substantially vertically in a state substantially continuous with the refractory crucible 11a The lower surface and the upper surface are opened to allow the passage of the evaporated particles of the magnetic material 10 and to improve the directivity thereof,
It is a cylindrical shape having only a peripheral wall, and the horizontal cross-sectional shape may be circular, elliptical, oval, square, rectangular, or any other shape. The vertical cross-section may also be square, rectangular, trapezoidal, or any other shape.

【0042】さらに、蒸気拡散制御手段15は、例えば開
口部中心から外側へ向かって同心円上に内壁部15a,中
間部15b,外周部15cの3層というように複数の部材か
らなる積層構造となっている。
Further, the vapor diffusion control means 15 has a laminated structure composed of a plurality of members such as three layers of an inner wall portion 15a, an intermediate portion 15b, and an outer peripheral portion 15c on a concentric circle from the center of the opening to the outside. ing.

【0043】また、蒸気拡散制御手段15の外周面側には
例えば抵抗加熱ヒーター、高周波誘導加熱用コイル等の
加熱源を含む加熱構造体、あるいは内部に冷却水や液体
窒素、液体ヘリウム、エチレングリコール等の冷媒を循
環させ、本体はFe、Cu、Al、Ni、Ti、Mg、
Znおよびこれらの合金、ステンレス鋼等で形成された
冷却構造体等を備えた構成を採用することができる。
A heating structure including a heating source such as a resistance heater, a high-frequency induction heating coil, or the like, or cooling water, liquid nitrogen, liquid helium, ethylene glycol, Circulates refrigerant such as Fe, Cu, Al, Ni, Ti, Mg,
A configuration including a cooling structure formed of Zn, an alloy thereof, stainless steel, or the like can be employed.

【0044】蒸気拡散制御手段15は、耐火物ルツボ11a
の溶湯面内の中心を基準とし、この基準とされた点から
蒸発して上方に飛び出した磁性材料10の蒸発粒子が、後
述の最大入射角規制用のマスク13および最小入射角規制
用のマスク14によって規定される最大入射角θmax から
最小入射角θmin に亘る連続した範囲に付着するのを妨
げないように構成される。
The vapor diffusion control means 15 includes a refractory crucible 11a.
Evaporated particles of the magnetic material 10 that evaporate from the center point in the melt surface and fly upward from the point set as the reference point are used as a mask 13 for controlling the maximum incident angle and a mask for controlling the minimum incident angle, which will be described later. It is configured so as not to prevent adhesion in a continuous range from the maximum incident angle θmax to the minimum incident angle θmin defined by 14.

【0045】なお、耐火物ルツボ11a 、高周波誘導加熱
コイル12、高周波電源20、高周波フィーダー21等は蒸発
源の一例にすぎず、ベースフイルム3が幅方向(ベース
フイルム3面内の搬送方向に直交する方向)に広い場合
は、ベースフイルム3の幅に応じて蒸発源11の形状を変
えるようにし(例えば蒸発源11の水平断面形状が楕円形
状であり、ベースフイルム3の幅が広い場合には、蒸発
源11の楕円形状の長軸方向をベースフイルム3の幅方向
に合わせる)、蒸発源11をベースフイルム3の幅方向に
対応させて複数組配列した構成を採ることもできる。こ
の場合、蒸発源11(耐火物ルツボ11a を含む)、高周波
誘導加熱コイル12、高周波電源20、高周波フィーダー21
をそれぞれ独立に複数組配設した構成や、蒸発源11を複
数組配設し、高周波誘導加熱コイル12、高周波電源20、
高周波フィーダー21を共通にした構成を採用することも
できる。
The refractory crucible 11a, the high-frequency induction heating coil 12, the high-frequency power supply 20, the high-frequency feeder 21 and the like are merely examples of the evaporation source, and the base film 3 extends in the width direction (perpendicular to the transport direction in the plane of the base film 3). When the width of the evaporation source 11 is large, the shape of the evaporation source 11 is changed according to the width of the base film 3 (for example, when the horizontal cross-sectional shape of the evaporation source 11 is elliptical and the width of the base film 3 is wide). The long axis direction of the elliptical shape of the evaporation source 11 is adjusted to the width direction of the base film 3), and a plurality of sets of the evaporation sources 11 arranged in the width direction of the base film 3 may be adopted. In this case, the evaporation source 11 (including the refractory crucible 11a), the high-frequency induction heating coil 12, the high-frequency power supply 20, the high-frequency feeder 21
Or a plurality of sets of the evaporation sources 11 are arranged independently, and a high-frequency induction heating coil 12, a high-frequency power supply 20,
It is also possible to adopt a configuration in which the high-frequency feeder 21 is shared.

【0046】[0046]

【実施例】本実施例の耐火物ルツボ11aはカップ状(内
径φ80mm、外径φ96mm、高さ100mm、内部深さ90mm)と
し、材質はCaO安定化ZrO2 (ZrO2 ;90.0%〜
98.0%、CaO;2.0 %〜7.0 %、MgO、Al
2 3 、SiO2 、FeO3 、TiO2 の各成分は0.0
%〜2.0 %)を用いた。耐火物ルツボ11aの内部には蒸
発用の強磁性材料10としてCo100 を用いた。
EXAMPLE The refractory crucible 11a of this example is cup-shaped (inner diameter φ80mm, outer diameter φ96mm, height 100mm, inner depth 90mm) and made of CaO stabilized ZrO 2 (ZrO 2 ; 90.0% ~
98.0%, CaO; 2.0% to 7.0%, MgO, Al
Each component of 2 O 3 , SiO 2 , FeO 3 and TiO 2 is 0.0
% To 2.0%). Co 100 was used as the ferromagnetic material 10 for evaporation inside the refractory crucible 11a.

【0047】高周波誘導加熱コイル12は、内部に冷却水
が循環する直径φ12mmのCuパイプからなり、高周波誘
導加熱コイル12は6ターンで、内径φ120 mm、高さh12
0 mmである。発振周波数40kHz、出力60kWの高周波
電源20は真空槽2の外部に2台設置し、高周波フィーダ
ー21と真空用フィードスルー(図示せず)を通じて真空
槽2の内部に配設された2つの高周波誘導加熱コイル12
に接続した。高周波フィーダー21はCu板製であり、ま
た高周波誘導加熱コイル12の延長Cuパイプ部は、それ
ぞれAl2 3 製の絶縁管で囲い、互いに電気的に絶縁
されている。
The high-frequency induction heating coil 12 is composed of a Cu pipe having a diameter of φ12 mm through which cooling water circulates. The high-frequency induction heating coil 12 has six turns, an inner diameter of φ120 mm, and a height h12.
0 mm. Two high-frequency power supplies 20 having an oscillation frequency of 40 kHz and an output of 60 kW are installed outside the vacuum chamber 2, and two high-frequency power sources arranged inside the vacuum chamber 2 through a high-frequency feeder 21 and a vacuum feedthrough (not shown). Heating coil 12
Connected to. The high-frequency feeder 21 is made of a Cu plate, and the extended Cu pipe portions of the high-frequency induction heating coil 12 are each surrounded by an insulating tube made of Al 2 O 3 and are electrically insulated from each other.

【0048】蒸気拡散制御手段15の内壁部15aは、円筒
状(内径φ80mm、外径φ102.0 mm、高さh75mm)とし、
その材質はCaO安定化ZrO2 (ZrO2 ;90.0%〜
98.0%、CaO;2.0 %〜7.0 %、MgO、Al
2 3 、SiO2 、FeO3 、TiO2 の各成分は0.0
%〜2.0 %)とした。中間部15bは円筒状(内径φ102.
6 mm、外径φ114 mm、高さh75mm)とし、その材質は、
黒鉛質カーボン、BNとした。また、内壁部15aと中間
部15bとの間にはわずかの間隙が開いている。
The inner wall 15a of the vapor diffusion control means 15 has a cylindrical shape (inner diameter φ80 mm, outer diameter φ102.0 mm, height h75 mm),
The material is CaO stabilized ZrO 2 (ZrO 2 ; 90.0% ~
98.0%, CaO; 2.0% to 7.0%, MgO, Al
Each component of 2 O 3 , SiO 2 , FeO 3 and TiO 2 is 0.0
% To 2.0%). The middle part 15b is cylindrical (inner diameter φ102.
6 mm, outer diameter φ114 mm, height h75 mm).
Graphitic carbon and BN were used. Further, a slight gap is provided between the inner wall portion 15a and the intermediate portion 15b.

【0049】外周部15cは、円筒状(内径φ114 mm、外
径φ150 mm、高さh75mm)であり、内部には18℃の冷却
水を循環させ、本体がCuで形成された冷却構造体を用
いた。
The outer peripheral portion 15c has a cylindrical shape (inner diameter φ114 mm, outer diameter φ150 mm, height h75 mm), circulates cooling water at 18 ° C. inside, and forms a cooling structure having a main body made of Cu. Using.

【0050】そして内壁部15aと中間部15bとの間隙に
は、CaO安定化ZrO2 パウダー(粒径φ0.3 mm以
下)を少量の水を加えてセメント状にした充填材30を充
填し、その後、250 ℃の温度で2時間ベーキングした。
The gap between the inner wall portion 15a and the intermediate portion 15b is filled with a filler 30 made of CaO-stabilized ZrO 2 powder (particle diameter: 0.3 mm or less) formed by adding a small amount of water to form a cement. Thereafter, baking was performed at a temperature of 250 ° C. for 2 hours.

【0051】一方、中間部15bと外周部15cとは圧入に
よって組み立てた。
On the other hand, the intermediate portion 15b and the outer peripheral portion 15c were assembled by press fitting.

【0052】次に本実施例の磁気記録媒体の製造装置の
作用について説明する。
Next, the operation of the magnetic recording medium manufacturing apparatus of this embodiment will be described.

【0053】まず、蒸着室9および巻取り室8内の空気
等のガスが、バキュームポンプ等の図示しない減圧手段
によりそれぞれ外部に排気され、蒸着室9および巻取り
室8の内部の状態は、例えば5.0 ×10-5〜4.0 ×10-4To
rrの減圧状態とされる。蒸着室9および巻取り室8の内
部をこのように減圧状態にした後、高周波電源13を用い
て高周波誘導加熱コイル12に電力を供給し、これにより
高周波誘導加熱コイル12は発熱して蒸発源11の磁性材料
10を加熱、蒸発させた。
First, a gas such as air in the vapor deposition chamber 9 and the winding chamber 8 is exhausted to the outside by a pressure reducing means (not shown) such as a vacuum pump. For example, 5.0 × 10 -5 to 4.0 × 10 -4 To
The pressure is reduced to rr. After the insides of the vapor deposition chamber 9 and the winding chamber 8 are depressurized as described above, electric power is supplied to the high-frequency induction heating coil 12 using the high-frequency power supply 13, whereby the high-frequency induction heating coil 12 generates heat and 11 magnetic materials
10 was heated and evaporated.

【0054】磁性材料10の加熱方法については、ベース
フイルム3の搬送速度は80m/分として、第一のガス吹
付部より酸化性ガスとしてO2 ガスを大気圧条件に換算
して1800/分・巾で吹き付け、マスクの開口幅は285 mm
の条件で膜厚1600 オングストロームとなる蒸発レート
を確保するに十分な定常状態での必要投入パワーと、そ
の蒸発レートが得られるまでの保持時間を把握するため
の予備テストを行った。ここで保持時間とは、一定電力
を供給し始めてから、磁性材料10が昇温、溶解し、か
つ、一定の蒸発レートが維持できるまで蒸発源全体が十
分に加熱されて熱平衡状態に達するまでの時間をいう。
この予備テストの結果から、最初に投入する電力値と保
持時間を、それぞれ20KW、30分間と定めた。
[0054] For the heating method of the magnetic material 10, the base as the conveying speed of the film 3 is 80 m / min, in terms to 1800 / min O 2 gas at atmospheric pressure conditions as the oxidizing gas from the first gas blowing section Sprayed with width, mask opening width is 285 mm
A preliminary test was performed to determine the required input power in a steady state sufficient to secure an evaporation rate of 1600 Å under the above conditions, and the holding time until the evaporation rate was obtained. Here, the holding time is defined as the time from the start of supplying a certain amount of power, the temperature of the magnetic material 10 rising, melting, and until the entire evaporation source is sufficiently heated to reach a thermal equilibrium state until a constant evaporation rate can be maintained. Time.
From the results of this preliminary test, the power value to be initially supplied and the holding time were determined to be 20 KW and 30 minutes, respectively.

【0055】保持時間が経過した後、送り出し軸5より
ベースフイルム3を80m/分の搬送速度、張力8.0 kgf/
300 mmの条件で送り出し、前処理室(図示せず)におい
て、ベースフイルム3の磁性薄膜を形成する側をO2
スを用いたグロー放電処理を施した後、冷却キャン4上
を搬送させた。そして、シャッター装置を駆動して
『開』の状態とし、同時にガス導入部17から吹付量1800
cc/cc分・幅でO2 ガスを吹き付けさせつつベースフイ
ルム3上に1600 オングストロームのCo−O磁性薄膜
を形成した後、連続して巻き取り軸6に巻き取り長さ30
00mの金属磁性薄膜を形成した後、シャッター装置を
『閉』の状態にし、同時に第一のガス吹付部17からのO
2 ガスの吹き付けと高周波電源20からの電力供給を停止
し成膜を終了した。
After the elapse of the holding time, the base film 3 was transported from the feed shaft 5 at a transport speed of 80 m / min and a tension of 8.0 kgf / min.
The base film 3 was sent out under a condition of 300 mm, subjected to a glow discharge treatment using O 2 gas on the side of the base film 3 on which the magnetic thin film was formed, and then transported on the cooling can 4. . Then, the shutter device is driven to the "open" state, and at the same time, the spray amount 1800
After a Co-O magnetic thin film of 1600 Å is formed on the base film 3 while blowing O 2 gas at a flow rate of cc / cc, the winding length is continuously wound on the winding shaft 6.
After the formation of the metal magnetic thin film of 00 m, the shutter device is set to the “closed” state, and at the same time, the O
The spraying of the two gases and the supply of power from the high-frequency power supply 20 were stopped to terminate the film formation.

【0056】その後、別工程で磁性薄膜表面にはリン酸
系潤滑剤+パーフルオロポリエーテル潤滑材と防錆剤
(ベンゾトリアゾール)の混合剤を溶解して塗布した。
バック面にはカーボンブラックを主成分とする非磁性粉
末とニトロセルロース、ポリエステル、ポリウレタンの
混合材料とイソシアネート硬化剤を溶解、分散し、0.5
μmの厚みで塗布した。
Thereafter, in a separate step, a mixture of a phosphoric acid lubricant + a perfluoropolyether lubricant and a rust inhibitor (benzotriazole) was dissolved and applied to the surface of the magnetic thin film.
Dissolve and disperse a mixed material of non-magnetic powder mainly composed of carbon black, nitrocellulose, polyester, polyurethane and isocyanate hardener on the back surface,
It was applied with a thickness of μm.

【0057】強磁性材料10の溶解前の総重量Wms(g)
と蒸着終了後の残材料のWme(g)との差分から蒸発総
量Wmev (g)を算出し、蒸着前のベース総重量と蒸着
後のベース総重量Wbe(g)との差分から蒸着総重量W
bev (g)を算出する。そして、蒸発総量Wmev (g)
に対する蒸着総重量Wbev (g)の割合を蒸着効率ξ
(%)と定義すると、下記のような関係となる。
The total weight W ms (g) of the ferromagnetic material 10 before melting.
From the difference between the W me of deposition after the end of the residual material (g) and of calculating the evaporation total amount W mev (g) from the difference, the base after the deposition based the total weight of the pre-deposition total weight W be (g) Deposition total weight W
Calculate bev (g). And the total amount of evaporation W mev (g)
The ratio of the total deposition weight W bev (g) to the vapor deposition efficiency
(%), The following relationship is obtained.

【0058】 ξ(%)=Wbev (g)/Wmev (g)×100 (%) 比較例として上記実施例における内壁部15aと中間部15
bとの間の間隙にZrO2 パウダーを充填しない蒸気拡
散制御手段15を用意し、蒸着効率ξ(%)と内壁部15a
の割れの状態を比較した。その比較結果を以下の表1に
示す。
Ξ (%) = W bev (g) / W mev (g) × 100 (%) As a comparative example, the inner wall portion 15 a and the intermediate portion 15 in the above embodiment are used.
b, a vapor diffusion control means 15 in which ZrO 2 powder is not filled in the gap between the inner wall 15a and the vapor deposition efficiency ξ (%) is prepared.
The state of cracking was compared. The results of the comparison are shown in Table 1 below.

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】充填材30を充填することにより顕著な断熱
層がなくなり、蒸着効率が約3.0 %向上した。また内壁
部15aと中間部15bの間隙に充填材30を充填することに
よる弊害(例えば内壁部の亀裂)は発生しなかった。こ
れは充填材30がパウダー状であるため熱膨張その他の歪
みによる形状的なズレをある程度吸収してくれているた
めと考えられる。
By filling the filling material 30, a remarkable heat insulating layer was eliminated, and the vapor deposition efficiency was improved by about 3.0%. Further, no adverse effect (for example, cracking of the inner wall portion) was caused by filling the gap between the inner wall portion 15a and the intermediate portion 15b with the filler 30. This is presumably because the filler 30 is in a powder form and absorbs a certain degree of shape deviation due to thermal expansion or other distortion.

【0061】なお、充填材30としては上述した実施例の
ようにZrO2 パウダーの他、金属粉やシート等を使用
することができるが、下記の表2に、充填材30を種々変
更した場合の蒸着効率を示す。
As the filler 30, metal powder, sheet, etc. can be used in addition to ZrO 2 powder as in the above-described embodiment. Table 2 below shows the case where the filler 30 is variously changed. Shows the vapor deposition efficiency of.

【0062】[0062]

【表2】 [Table 2]

【0063】いずれの場合も上述した実施例と同様に良
好な蒸着効率を得ることができた。
In each case, good vapor deposition efficiency could be obtained as in the above-described embodiment.

【0064】なお、本実施例においては、蒸気拡散制御
手段として、n=2である3層構造のものについての実
験結果を示したが、n=1である2層構造、n=3であ
る4層構造についても同様の実験結果を得た。
In this embodiment, the experimental results are shown for the vapor diffusion control means having a three-layer structure in which n = 2, but a two-layer structure in which n = 1 and n = 3. Similar experimental results were obtained for the four-layer structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による磁気記録媒体の製造装置の一実施
形態を表す図
FIG. 1 is a diagram illustrating an embodiment of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention.

【図2】蒸気拡散制御手段の詳細を表す図FIG. 2 is a diagram showing details of a vapor diffusion control means.

【図3】従来の磁気記録媒体の製造装置を表す図FIG. 3 is a diagram showing a conventional apparatus for manufacturing a magnetic recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 真空蒸着装置 2 真空槽 3 ベースフイルム 4 冷却キャン 5 送出し軸 6 巻取り軸 7 仕切り板 8 巻取り室 9 蒸着室 10 磁性材料 11 蒸発源 11a 耐火物ルツボ 12 高周波誘導加熱コイル 13,14 マスク 15 蒸気拡散制御手段 17 第1のガス吹付部 18 マスク開口部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum vapor deposition apparatus 2 Vacuum tank 3 Base film 4 Cooling can 5 Delivery axis 6 Winding axis 7 Partition plate 8 Winding chamber 9 Deposition chamber 10 Magnetic material 11 Evaporation source 11a Refractory crucible 12 High frequency induction heating coil 13,14 Mask 15 Vapor diffusion control means 17 First gas spraying part 18 Mask opening

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬
送する搬送手段と、前記基板が搬送される下方に配設さ
れた磁性材料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発さ
せる蒸発手段と、前記蒸発手段と前記可撓性基板との間
に配置され、前記蒸発手段により加熱蒸発した蒸気流の
拡散方向を規制制御する蒸気流拡散制御手段と、前記蒸
気流の、前記可撓性基板への入射角を規制する入射角度
規制手段とを有する、前記可撓性基板上に磁性薄膜を形
成せしめる磁気記録媒体の製造装置において、 前記蒸気流拡散制御手段が、該手段の内側から外側に向
けて積層された複数の筒状の層からなり、該各層のうち
少なくとも最も内側からn番目の層と、n+1番目の層
(n:自然数)との間に隙間を設け、該隙間に、熱伝導
率が0.03kcal/mh℃〜500kcal/mh℃の材料を充填したこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
1. A transport means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere, an evaporation source made of a magnetic material disposed below which the substrate is transported, and heating and evaporating the evaporation source. An evaporating means, a vapor flow diffusion control means disposed between the evaporating means and the flexible substrate, for regulating and controlling a diffusion direction of a vapor flow heated and evaporated by the evaporating means, and An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium for forming a magnetic thin film on the flexible substrate, comprising: an incident angle restricting means for restricting an incident angle to the flexible substrate; A plurality of cylindrical layers stacked from the inside to the outside, and a gap is provided between at least the n-th layer from the innermost and the (n + 1) -th layer (n: a natural number) among the respective layers; In the gap, the thermal conductivity is 0.03kcal / mh ℃ ~ 500kcal / mh ℃ Apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the material filled with.
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