JPH10143862A - Production of magnetic recording medium and apparatus therefor - Google Patents

Production of magnetic recording medium and apparatus therefor

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JPH10143862A
JPH10143862A JP30276696A JP30276696A JPH10143862A JP H10143862 A JPH10143862 A JP H10143862A JP 30276696 A JP30276696 A JP 30276696A JP 30276696 A JP30276696 A JP 30276696A JP H10143862 A JPH10143862 A JP H10143862A
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JP
Japan
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vapor flow
flexible substrate
electron beam
magnetic
recording medium
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Application number
JP30276696A
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Japanese (ja)
Inventor
Junji Nakada
純司 中田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To lessen the yielding to heat and the degradation in a preservable property which are the drawbacks of high-frequency induction heating by improving the vapor deposition efficiency of an apparatus for production of magnetic recording media. SOLUTION: An evaporation vessel 11 is heated by a high-frequency induction heating coil 12 and an electron beam 32 emitted from an electron gun 30 is passed through the splashing space of vapor flow and is further reflected by a reflection plate 31. The electron beam is made incident on a base film 3. The film 3 is brought into tight contact with a cooling can 4 by the Coulomb force of the electron beam 32 and the heat by vapor deposition is made to well escape to the cooling can 4 and, therefore, the yielding of the film 3 to the heat is prevented. Further, the evaporated particles are ionized by the electron beam 32 and are, therefore, more easily adherable to the base film 3. The vapor deposition efficiency is thus improved as well.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
方法に関し、詳細には、磁性材料を加熱溶融せしめてこ
れを蒸発させ、その蒸気流をベースフイルム等の可撓性
基板上に堆積、成長せしめるいわゆる蒸着プロセスによ
り磁気記録層を形成するようにした磁気記録媒体の製造
方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic recording medium, and more particularly, to a method of heating and melting a magnetic material, evaporating the magnetic material, and depositing the vapor flow on a flexible substrate such as a base film. The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic recording layer is formed by a so-called vapor deposition process for growing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気記録媒体としては、γ−Fe
2 3 、CoをドープしたFe3 4、γ−Fe2 3
とFe3 4 のベルトライド化合物、Coをドープした
ベルトライド化合物、CrO3 、Baフェライト等の酸
化物磁性体、あるいはFe、Co、Ni等を主成分とす
る合金磁性体等からなる磁性材料の粒子を、添加物とと
もに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の
高分子バインダー中に分散混合せしめ、この分散混合物
をポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエス
テルやポリプロピレン等のポリオレフィンからなるベー
スフイルム(基板)上に塗布し、その後これを硬化また
は乾燥せしめて製造される、いわゆる塗布型の磁気テー
プが広く知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, γ-Fe
2 O 3 , Co-doped Fe 3 O 4 , γ-Fe 2 O 3
Magnetic material as a berthollide compound of Fe 3 O 4, berthollide compound doped with Co, from CrO 3, Ba oxide magnetic material such as ferrite, or Fe, Co, an alloy magnetic material mainly composed of Ni or the like Are dispersed and mixed together with additives into a polymer binder such as a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a styrene-butadiene copolymer, an epoxy resin, or a polyurethane resin, and the dispersion mixture is mixed with polyethylene terephthalate (PET) or the like. 2. Description of the Related Art A so-called coating type magnetic tape which is manufactured by coating a base film (substrate) made of a polyolefin such as polyester or polypropylene and then curing or drying the base film is widely known.

【0003】一方、近年、記録密度の高密度化の要求が
強くなり、磁気記録媒体の磁性層における磁性材料の高
密度化、保磁力の向上、磁性層の薄膜化、あるいは周波
数特性の短波長側へのシフト化、といった検討が行われ
ている。
On the other hand, in recent years, the demand for higher recording density has become stronger, and the density of the magnetic material in the magnetic layer of the magnetic recording medium has been increased, the coercive force has been improved, the magnetic layer has been reduced in thickness, or the frequency characteristics have been shortened. Consideration has been given to shifting to the side.

【0004】しかし、塗布型のテープでは、磁性層中に
バインダーが残存するため、高密度記録に要求される上
述の諸条件を満たすことが困難となってきている。
However, in a coating type tape, it is difficult to satisfy the above-described various conditions required for high-density recording because a binder remains in the magnetic layer.

【0005】そこで、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等の蒸着法、あるいは電気メッキ、無
電解メッキ等のメッキ法による磁気記録媒体の製造方法
が注目され、種々の提案もなされている。これらの方法
によれば、バインダーを介すことなく磁性材料を直接に
基板上に堆積・成長させて磁性層を形成することができ
るため、磁性層における磁性材料の充填密度を高め、さ
らに磁性層の膜厚も薄くすることができる。
Therefore, attention has been paid to a method of manufacturing a magnetic recording medium by a vapor deposition method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a plating method such as electroplating or electroless plating, and various proposals have been made. According to these methods, the magnetic layer can be formed by depositing and growing a magnetic material directly on a substrate without using a binder, so that the packing density of the magnetic material in the magnetic layer is increased, and Can also be made thinner.

【0006】さらに、これらの蒸着法等は、ベースフイ
ルム上に形成される膜厚の調整制御が容易であるととも
に、塗布型のテープの製造工程における磁性層塗布液の
調整作業や塗布後の乾燥等の磁性層形成に伴う処理工程
も不要となるなど実用上有用な利点を有する。
Further, these vapor deposition methods and the like make it easy to adjust and control the thickness of the film formed on the base film, adjust the coating solution of the magnetic layer in the manufacturing process of the coating type tape, and perform drying after coating. This has practically useful advantages such as eliminating the need for processing steps associated with the formation of a magnetic layer.

【0007】特に、蒸着による方法では、メッキによる
方法において必要とされる廃液処理も不要であり、また
堆積した磁性膜の成長速度も早いという利点を有する。
このような蒸着法によってベースフイルム上に形成され
た磁性層を記録層とする磁気テープは、従来の塗布型の
磁気テープに比べて再生出力が格段に大きく、また記録
信号の周波数特性もより短波長側で向上する等、高密度
磁気記録媒体として有用なものとなっている。
[0007] In particular, the vapor deposition method has the advantages that the waste liquid treatment required in the plating method is not required and that the growth rate of the deposited magnetic film is high.
A magnetic tape using a magnetic layer formed on a base film by such a vapor deposition method as a recording layer has a much higher reproduction output and a shorter frequency characteristic of a recording signal than a conventional coating type magnetic tape. It is useful as a high-density magnetic recording medium, for example, it is improved on the wavelength side.

【0008】蒸着法による磁気記録媒体の製造は、詳細
には、例えば図5に示す真空蒸着装置1により行うこと
が知られている。図5に示すように、真空蒸着装置1
は、減圧状態とされた真空槽2の内部に、外形が円筒状
で、かつその円筒外周面上にポリエステルフイルム、ポ
リアミドフイルム、ポリイミドフイルム等の非磁性材料
からなる長尺のベースフイルム3を長手方向に巻装する
冷却キャン4を備え、この冷却キャン4は矢印Y方向に
回転して送出し軸5側から巻取り軸6側へと移送される
ベースフイルム3が、その円筒外周面上で搬送される。
It is known that the manufacture of a magnetic recording medium by a vapor deposition method is performed in detail by, for example, a vacuum vapor deposition apparatus 1 shown in FIG. As shown in FIG.
A long base film 3 made of a non-magnetic material such as a polyester film, a polyamide film, or a polyimide film is formed inside a vacuum chamber 2 in a reduced pressure state. The cooling film 4 is wound in the direction Y. The cooling film 4 is rotated in the direction of arrow Y, and the base film 3 which is transferred from the side of the delivery shaft 5 to the side of the winding shaft 6 is provided on the outer peripheral surface of the cylinder. Conveyed.

【0009】真空槽2の内部は、仕切り板7により、ベ
ースフイルム3の送出しおよび巻取りを行う巻取り室8
と、ベースフイルム3に磁性材料を蒸着せしめる蒸着室
9とに分割されている。蒸着室9には、冷却キャン4の
図中下方にCoやCoNi合金、CoCr合金、CoC
rNi合金等の蒸発源である磁性材料10を入れた蒸発容
器11が配設され、電子銃加熱、抵抗加熱、高周波誘導加
熱等の加熱手段12により磁性材料10を加熱、蒸発させ
る。蒸発して上昇する蒸気流たる磁性材料10の粒子(磁
性粒子、または蒸発粒子と称する)は、冷却キャン4の
回転に伴なって矢印Y方向に搬送されるベースフイルム
3の表面に連続的に衝突し、そこで冷却されることによ
り沈着し、かくして磁性層が形成される。
The inside of the vacuum chamber 2 is controlled by a partition plate 7 to take up and wind up the base film 3 in a winding chamber 8.
And a deposition chamber 9 for depositing a magnetic material on the base film 3. In the vapor deposition chamber 9, Co, CoNi alloy, CoCr alloy, CoC
An evaporation container 11 containing a magnetic material 10 as an evaporation source such as an rNi alloy is provided, and the magnetic material 10 is heated and evaporated by heating means 12 such as electron gun heating, resistance heating, and high frequency induction heating. Particles of the magnetic material 10 (referred to as magnetic particles or evaporating particles), which evaporate and rise, are continuously deposited on the surface of the base film 3 conveyed in the direction of arrow Y with the rotation of the cooling can 4. They collide and deposit there by cooling, thus forming a magnetic layer.

【0010】ここで、蒸発した磁性材料の粒子を効率良
く基板上に付着させて蒸着効率を高めるためには、この
蒸発した粒子が広く拡散しないようにすればよく、例え
ば特開昭63- 204513号、特開平2-56730号により開示さ
れた技術によれば、蒸発源と冷却キャンとの間であっ
て、この蒸発した粒子が通過する部分の回りをその周壁
で囲んでその流路を規制するように、例えば、円筒状の
ような蒸気拡散制御壁(蒸気拡散制御手段)15を設けれ
ばよい。なお、このような蒸気拡散制御壁15には、その
内壁面に付着した磁性材料10の蒸発粒子を再蒸発あるい
は凝集回収させるため、または再蒸発と凝集回収とを組
み合わせるために、内壁面の温度を加熱あるいは冷却す
る手段を具備する。
Here, in order to efficiently deposit the evaporated magnetic material particles on the substrate to increase the vapor deposition efficiency, it is sufficient to prevent the evaporated particles from diffusing widely. According to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-56730, the portion between the evaporation source and the cooling can, around which the evaporated particles pass, is surrounded by a peripheral wall to regulate the flow path. In order to do so, for example, a steam diffusion control wall (steam diffusion control means) 15 having a cylindrical shape may be provided. The vapor diffusion control wall 15 has a temperature of the inner wall surface in order to re-evaporate or coagulate and collect the evaporated particles of the magnetic material 10 attached to the inner wall surface or to combine re-evaporation and coagulation and recovery. Is provided with means for heating or cooling.

【0011】またこのような蒸気拡散制御壁15を設けた
場合、加熱手段として一般に利用される電子銃加熱手段
を用いるのは困難である。すなわち、この場合はその電
子銃から蒸発容器11に入れられた磁性材料10までの電子
ビームの通過軌道を確保する必要があるが、蒸発容器11
の上方に蒸気拡散制御壁15を設けた場合、この電子ビー
ムの通過軌道を確保するのが困難だからである。したが
って通常は加熱手段としては高周波誘導加熱手段を用い
るようにしている。
When such a vapor diffusion control wall 15 is provided, it is difficult to use an electron gun heating means generally used as a heating means. That is, in this case, it is necessary to secure a passage of the electron beam from the electron gun to the magnetic material 10 placed in the evaporating vessel 11.
This is because, when the vapor diffusion control wall 15 is provided above the above, it is difficult to secure the passage trajectory of the electron beam. Therefore, high frequency induction heating means is usually used as the heating means.

【0012】蒸着によりベースフイルム上に形成された
磁性薄膜の磁気特性、特にその保磁力は、磁性材料10の
蒸気がベースフイルム3に到達したときの、ベースフイ
ルム3となす角度、即ち蒸発容器11内からベースフイル
ム3に向かって飛散する磁性材料10のベースフイルム3
への入射角によって決定される。このため、通常、冷却
キャン4の蒸発容器11側(図中、冷却キャン4の下方)
には、冷却キャン4から所定の距離だけ離間して遮蔽部
材たるマスク13および14が配設され、ベースフイルム3
の搬送方向に対して上流側に位置するマスク13により最
大入射角が、下流側に位置するマスク14により最小入射
角がそれぞれ規制され、磁性材料10の蒸気は、マスク13
および14によって形成される開口部18を通じて、図中に
おいて斜め下方からベースフイルム3の表面に供給され
る。なお入射角とは、ベースフイルム3の表面に垂直な
直線とのなす角度をいう。
The magnetic properties of the magnetic thin film formed on the base film by vapor deposition, particularly its coercive force, depend on the angle formed by the base film 3 when the vapor of the magnetic material 10 reaches the base film 3, ie, the evaporation container 11 The base film 3 of the magnetic material 10 scattered from inside toward the base film 3
Is determined by the angle of incidence on For this reason, usually, the cooling can 4 side of the evaporating vessel 11 (below the cooling can 4 in the figure).
Are provided with masks 13 and 14 serving as shielding members at a predetermined distance from the cooling can 4.
The maximum incident angle is regulated by the mask 13 located on the upstream side with respect to the transport direction, and the minimum incident angle is regulated by the mask 14 located on the downstream side, and the vapor of the magnetic material 10
Through the opening 18 formed by the base film 3 and 14, the liquid is supplied to the surface of the base film 3 from obliquely below in the drawing. The angle of incidence refers to an angle between the base film 3 and a straight line perpendicular to the surface of the base film 3.

【0013】さらに磁性薄膜の保磁力を向上させるため
に、蒸着に際し酸素を吹き付けることが有効であること
が判明している。この酸素を吹き付ける方式は、通常
は、ベースフイルム3の搬送方向に対して下流側に位置
するマスク14の近傍にガス吹付部17を配設し、酸素ガス
を磁性材料10の蒸発粒子に吹き付けることにより行われ
ている。例えば、特公平2-27732号に開示された技術に
よれば最小入射角近傍から酸素ガスを吹き付けるととも
に、蒸着開始側(最大入射角側)からも不活性ガスを吹
き付けて、磁性材料10の物理的充填率および磁気的充填
率を調整している。
It has been found that it is effective to spray oxygen during the vapor deposition in order to further improve the coercive force of the magnetic thin film. In the method of blowing oxygen, usually, a gas blowing unit 17 is provided near a mask 14 located on the downstream side in the transport direction of the base film 3 to blow oxygen gas to the evaporated particles of the magnetic material 10. It is done by. For example, according to the technology disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-27732, the oxygen gas is blown from the vicinity of the minimum incident angle, and the inert gas is also blown from the vapor deposition start side (the maximum incident angle side). The filling rate and the magnetic filling rate are adjusted.

【0014】なお、保磁力の向上という目的とは異なる
が、磁気記録媒体の耐蝕性を向上させることを目的とし
た場合にも、蒸着中に酸素ガスを系内に吹き付けること
が行われる。例えば、特公平3-19621号に開示された技
術によれば、基板であるベースフイルムの幅方向に配設
した複数個のノズルから酸化性ガスを系内に吹き付け
て、磁性層を構成する元素と反応させて酸化物を合成せ
しめ、この酸化物による酸化膜が腐蝕に対する保護効果
を生じせしめている。
Although it is different from the purpose of improving the coercive force, oxygen gas is blown into the system during the vapor deposition also for the purpose of improving the corrosion resistance of the magnetic recording medium. For example, according to the technology disclosed in Japanese Patent Publication No. 3-19621, an oxidizing gas is sprayed into the system from a plurality of nozzles arranged in the width direction of a base film as a substrate to form an element constituting a magnetic layer. To form an oxide, and the oxide film of the oxide has a protective effect against corrosion.

【0015】一方、磁気記録媒体の生産効率、磁性材料
の蒸着効率を向上させるために、電子銃加熱による方法
と誘導加熱による方法とを組み合わせて蒸発容器を加熱
する真空蒸着装置が提案されている(特開平5-271913号
公報)。この装置は、蒸発容器内の磁性材料の蒸発エネ
ルギーを主として電子銃から与え、誘導加熱によるエネ
ルギーは、電気銃から蒸発エネルギーとして供給された
エネルギーのうち蒸発容器外へ熱伝導として、あるいは
幅射として逃げてしまうエネルギーを補充するために用
いられるものである。そしてこの装置によれば、電子銃
の出力を小さくしても磁性材料の蒸着効率を向上させる
ことができるため、高出力の電子銃が不要となり設備費
用を削減することができるものである。また、誘導加熱
の周波数は30〜50Hzという比較的低い周波数を用いて
いるが、例えば1KHzといった高周波が用いられる場
合も多い。
On the other hand, in order to improve the production efficiency of a magnetic recording medium and the efficiency of vapor deposition of a magnetic material, a vacuum vapor deposition apparatus that heats an evaporation container by combining a method using electron gun heating and a method using induction heating has been proposed. (JP-A-5-219913). In this device, the evaporation energy of the magnetic material in the evaporation container is mainly given from the electron gun, and the energy due to the induction heating is transferred to the outside of the evaporation container out of the energy supplied as the evaporation energy from the electric gun as heat conduction or as radiation. It is used to supplement the energy that escapes. According to this apparatus, even if the output of the electron gun is reduced, the efficiency of vapor deposition of the magnetic material can be improved, so that a high-output electron gun is not required and the equipment cost can be reduced. Although the frequency of induction heating is relatively low, such as 30 to 50 Hz, a high frequency of, for example, 1 KHz is often used.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電子ビ
ームによる加熱方法では特開平5-271913号に記載されて
いるように磁気記録媒体の生産効率あるいは磁性材料の
蒸着効率が低く製造コストがかなり必要となるという欠
点がある。また、高周波誘導加熱は電子ビームによる方
法と比較して蒸着効率を向上させることはできるもの
の、熱負けが発生しやすいという工程上の問題と保存性
が劣るという品質上の問題がある。ここで熱負けとは、
蒸着時に発生する基材(ベースフイルム)のシワのう
ち、蒸発粒子の潜熱、蒸発容器からの輻射熱などの熱的
要因によって発生したものをいう。通常、冷却キャンは
−30℃程度に冷却されており、その表面に均一に接触し
た基材は磁性材料が付着する時に入ってくる熱(蒸発粒
子の潜熱と蒸発容器および場面からの輻射熱)を冷却キ
ャン側へ逃すことにより、自己の温度上昇が抑えられて
いる。ここで、部分的に冷却キャンから基材が浮き上っ
た部分があるとすると、その部分での基材からの熱の逃
げが悪くなり、基材の温度が上昇する。その後、温度上
昇に伴って基材からの脱ガスが発生(基材の表裏共に)
し、さらに熱が逃げにくくなるため基材の温度が上昇す
る。一方、基材は搬送方向に対して張力が加わっている
ため、基材の温度上昇により軟化した場所が伸びてシワ
が発生する。このシワの発生が熱負けである。
However, in the heating method using an electron beam, the production efficiency of a magnetic recording medium or the vapor deposition efficiency of a magnetic material is low and the production cost is considerably required as described in JP-A-5-219913. Disadvantage. Although high-frequency induction heating can improve the vapor deposition efficiency as compared with the method using an electron beam, it has a problem in the process that heat loss easily occurs and a problem in quality that storage stability is inferior. Here, losing heat means
Among the wrinkles of the substrate (base film) generated during vapor deposition, those generated by thermal factors such as latent heat of evaporating particles and radiant heat from the evaporation container. Normally, the cooling can is cooled to about -30 ° C, and the substrate that comes into uniform contact with the surface can absorb heat (latent heat of evaporating particles and radiant heat from the evaporating vessel and scene) when the magnetic material adheres. By letting it escape to the cooling can side, its own temperature rise is suppressed. Here, if there is a portion where the base material is partially lifted from the cooling can, heat escape from the base material in that portion becomes worse, and the temperature of the base material increases. Thereafter, degassing from the substrate occurs as the temperature rises (both front and back of the substrate)
In addition, the temperature of the base material rises because the heat hardly escapes. On the other hand, since a tension is applied to the substrate in the transport direction, a portion where the substrate is softened due to a rise in the temperature of the substrate is elongated, and wrinkles are generated. The generation of the wrinkles is a heat loss.

【0017】また、保存性とは媒体の環境に対すると特
性劣化の優劣のことであり、例えば亜硫酸ガスによる腐
食と高湿高温環境下での表面反射率の変化により評価さ
れるものである。高周波誘導加熱により蒸着された磁気
記録媒体の保存性が劣る原因は、蒸発粒子あるいは導入
酸化性ガス分子のイオン化の有無または反射電子による
磁性層表面の電子線照射の影響等が考えられる。
In addition, the storability refers to the degree of deterioration of characteristics with respect to the environment of the medium, and is evaluated, for example, by corrosion due to sulfurous acid gas and change in surface reflectance under a high-humidity and high-temperature environment. The cause of the poor preservability of the magnetic recording medium deposited by high-frequency induction heating is considered to be the presence or absence of ionization of the evaporated particles or the introduced oxidizing gas molecules, or the effect of electron beam irradiation of the magnetic layer surface by reflected electrons.

【0018】さらに、上述した特開平5-271913号公報に
開示された真空蒸着装置においては設備費用は低減する
ことができるものの、蒸着効率をそれ程向上させるこが
できないものであった。
Further, in the vacuum vapor deposition apparatus disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-271913, although the equipment cost can be reduced, the vapor deposition efficiency cannot be improved so much.

【0019】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
って、蒸着効率を更に向上させることができるととも
に、高周波誘導加熱の欠点である熱負けを防止し、同時
に保存性を改善することができる磁気記録媒体の製造方
法および装置を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to further improve the vapor deposition efficiency, to prevent heat loss, which is a drawback of high-frequency induction heating, and to improve storage stability at the same time. It is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬送
するとともに、前記基板が搬送される経路の下方に配設
された磁性材料からなる蒸発源を加熱して、前記磁性材
料を蒸発せしめ、前記蒸発源と前記可撓性基板との間に
設けた、前記磁性材料の蒸発によって生じる蒸気流の拡
散方向を規制制御する蒸気流拡散制御手段中を通過させ
るとともに、該蒸気流の前記可撓性基板への入射角度を
規制する入射角規制手段を設けて、前記蒸気流の指向性
を制御しつつ、更に、酸化性ガスを該蒸気流に吹き付け
ながら、該蒸気流を前記可撓性基板表面に蒸着させて、
磁性薄膜を形成せしめる磁気記録媒体の製造方法におい
て、電子ビームを、前記蒸気流が前記長尺の可撓性支持
体に蒸着する領域に照射することを特徴とするものであ
る。
According to a method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, a long flexible substrate is transported in a vacuum atmosphere, and is disposed below a path along which the substrate is transported. The evaporation source made of the magnetic material is heated to evaporate the magnetic material, and the diffusion direction of the vapor flow generated between the evaporation source and the flexible substrate caused by the evaporation of the magnetic material is regulated and controlled. An incident angle regulating means for regulating the incident angle of the vapor flow to the flexible substrate, and controlling the directivity of the vapor flow and further oxidizing the vapor flow. Vaporizing the vapor flow on the surface of the flexible substrate while spraying a reactive gas onto the vapor flow,
In a method of manufacturing a magnetic recording medium on which a magnetic thin film is formed, an electron beam is applied to a region where the vapor flow is deposited on the long flexible support.

【0021】本発明の第1の磁気記録媒体の製造装置
は、真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬送する搬送
手段と、前記基板が搬送される下方に配設された磁性材
料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発させる蒸発手
段と、前記蒸発手段と前記可撓性基板との間に配置さ
れ、前記蒸発手段により加熱蒸発した蒸気流の拡散方向
を規制制御する筒状の蒸気流拡散制御手段と、前記蒸気
流の、前記可撓性基板への入射角度を規制する入射角規
制手段と前記蒸気流に酸化性ガスを吹付けるガス吹付手
段とを有する、前記可撓性基板上に磁性薄膜を形成せし
める磁気記録媒体の製造装置において、前記蒸気流中を
通過する電子ビームを発生させる電子ビーム発生手段
と、前記蒸気流を通過した電子ビームを、前記蒸気流が
前記長尺の可撓性基板へ蒸着される領域に照射されるよ
う反射させる反射手段とを備えたことを特徴とするもの
である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a magnetic recording medium manufacturing apparatus, comprising: a conveying unit for conveying a long flexible substrate in a vacuum atmosphere; and a magnetic material disposed below the substrate. An evaporation source for heating and evaporating the evaporation source; and a cylinder disposed between the evaporation unit and the flexible substrate, for regulating and controlling the diffusion direction of the vapor flow heated and evaporated by the evaporation unit. Steam flow diffusion control means, incident angle regulating means for regulating the incident angle of the vapor flow to the flexible substrate, and gas blowing means for blowing an oxidizing gas to the vapor flow. In a magnetic recording medium manufacturing apparatus for forming a magnetic thin film on a flexible substrate, an electron beam generating means for generating an electron beam passing through the vapor flow, and an electron beam passing through the vapor flow, wherein the vapor flow To the long flexible substrate Is characterized in that a reflecting means for reflecting to be irradiated in the area to be deposited.

【0022】本発明の第2の磁気記録媒体の製造装置
は、真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬送する搬送
手段と、前記基板が搬送される下方に配設された磁性材
料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発させる蒸発手
段と、前記蒸発手段と前記可撓性基板との間に配置さ
れ、前記蒸発手段により加熱蒸発した蒸気流の拡散方向
を規制制御する筒状の蒸気流拡散制御手段と、前記蒸気
流の、前記可撓性基板への入射角度を規制する入射角規
制手段と前記蒸気流に酸化性ガスを吹付けるガス吹付手
段とを有する、前記可撓性基板上に磁性薄膜を形成せし
める磁気記録媒体の製造装置において、電子ビームを、
前記蒸気流が前記長尺の可撓性基板へ蒸着される領域へ
照射させる電子ビーム発生手段を設けたことを特徴とす
るものである。
The second apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention comprises a transporting means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere, and a magnetic material disposed below which the substrate is transported. An evaporation source for heating and evaporating the evaporation source; and a cylinder disposed between the evaporation unit and the flexible substrate, for regulating and controlling the diffusion direction of the vapor flow heated and evaporated by the evaporation unit. Steam flow diffusion control means, incident angle regulating means for regulating the incident angle of the vapor flow to the flexible substrate, and gas blowing means for blowing an oxidizing gas to the vapor flow. In a magnetic recording medium manufacturing apparatus for forming a magnetic thin film on a flexible substrate, an electron beam is
An electron beam generating means for irradiating an area where the vapor flow is vapor-deposited on the long flexible substrate is provided.

【0023】なお、前記反射手段の表面が、溶融点2800
°K以上の金属、酸化物、炭化物、窒化物、ホウ化物、
ケイ化物からなるものとすることが好ましい。
The surface of the reflecting means has a melting point of 2800
° K or higher metals, oxides, carbides, nitrides, borides,
It is preferable to use a silicide.

【0024】また、前記反射手段を冷却する冷却手段を
備えることが好ましい。
Further, it is preferable to provide a cooling means for cooling the reflection means.

【0025】尚ここで蒸発源とは、磁性材料により形成
されたものをいうが本明細書においては説明の便宜上、
蒸発源とは磁性材料を収容してなる蒸発容器を含めて蒸
発源ということがあるものとする。
Here, the term “evaporation source” means a source formed of a magnetic material, but in this specification, for convenience of explanation,
The evaporation source may be an evaporation source including an evaporation container containing a magnetic material.

【0026】[0026]

【作用および発明の効果】本発明による第1および第2
の磁気記録媒体の製造装置は、電子ビームを反射手段に
より反射させて、あるいは直接基材の磁性材料が蒸着さ
れる領域に照射するようにしたため、電子が基材内部に
注入されて、空間電荷として基材に残留することとな
る。これにより、空間電荷と基材を冷却するための冷却
手段上に誘発される対向性の誘導電荷との間にクーロン
力が作用し、これにより基材は冷却手段に密着し、蒸発
した磁性材料の熱は冷却手段に良好に逃されるため基材
の熱負けが発生することがなくなる。また、蒸発粒子お
よび蒸発粒子を酸化させる酸化性ガスも電子ビームによ
りそれぞれ正および負にイオン化されるため、酸化性ガ
スによる蒸発粒子の酸化が促進される。
The first and second embodiments of the present invention will now be described.
In the magnetic recording medium manufacturing apparatus, the electron beam is reflected by the reflecting means or directly irradiates the region of the base material where the magnetic material is deposited, so that the electrons are injected into the base material and the space charge Will remain on the substrate. Thereby, a Coulomb force acts between the space charge and the opposing induced charge induced on the cooling means for cooling the substrate, whereby the substrate adheres to the cooling means, and the evaporated magnetic material Since the heat of the base material is satisfactorily released to the cooling means, heat loss of the base material does not occur. Further, the evaporating particles and the oxidizing gas for oxidizing the evaporating particles are also positively and negatively ionized by the electron beam, respectively, so that the oxidation of the evaporating particles by the oxidizing gas is promoted.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体製造
方法を実施するための具体的な実施の形態について、図
面を参照して説明する。図1は本発明の磁気記録媒体製
造方法を実施するための磁気記録媒体製造装置(真空蒸
着装置)の一実施形態の概略構成を示すものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments for carrying out a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic configuration of an embodiment of a magnetic recording medium manufacturing apparatus (vacuum vapor deposition apparatus) for carrying out the magnetic recording medium manufacturing method of the present invention.

【0028】図示の真空蒸着装置1は真空槽2の内部
に、円筒状の冷却キャン4を備え、この冷却キャン4の
円筒面(外周面)には、磁気記録媒体の基材としてのベ
ースフイルム3が巻装される。ベースフイルム3は、ポ
リエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナ
フタレート等のポリエステル、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン、三酢酸セルロースや二酢酸セルロース等の
セルロース誘電体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂、
ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンサルフ
ァイド等のプラスチックを長尺フイルム状に加工したも
のであり、その厚さは例えば3〜100 μmのものが使用
される。本実施例においては厚さ6μmのものを用い
る。
The illustrated vacuum evaporation apparatus 1 has a cylindrical cooling can 4 inside a vacuum chamber 2, and a cylindrical film (outer peripheral surface) of the cooling can 4 has a base film as a base material of a magnetic recording medium. 3 is wound. The base film 3 is made of a polyester such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate, a polyolefin such as polypropylene, a cellulose dielectric such as cellulose triacetate or cellulose diacetate, a vinyl resin such as polyvinyl chloride,
It is formed by processing a plastic such as polycarbonate, polyamide, or polyphenylene sulfide into a long film, and the thickness thereof is, for example, 3 to 100 μm. In this embodiment, the one having a thickness of 6 μm is used.

【0029】また、このベースフイルム3の表面には必
要に応じてアンダーコートが施される。アンダーコート
はバインダー(メチルセルロース等のセルロース類、P
ET等の飽和ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリアミ
ド、ポリアクリレート等)とフィラー(シリカ、チタニ
ア、アルミナ、炭酸カルシウム等)を溶解して塗布した
表面突起を有するものであり、その高さは5〜30nm
で、密度500 万〜10000万個/mm2 の突起を有するも
のである。本実施例においては粒径18μmで密度は5500
万個/mm2 とした。この高さ、密度は要求される密着
性能等により適宜選択し得る。
An undercoat is applied to the surface of the base film 3 if necessary. The undercoat is made of a binder (cellulose such as methylcellulose, P
Saturated polyesters such as ET, phenoxy resins, polyamides, polyacrylates, etc.) and fillers (silica, titania, alumina, calcium carbonate, etc.) are dissolved and applied, and the surface projections have a height of 5 to 30 nm.
In those with a protrusion density 5000000-100000000 pieces / mm 2. In this embodiment, the particle size is 18 μm and the density is 5500.
10,000 / mm 2 . The height and density can be appropriately selected depending on the required adhesion performance and the like.

【0030】さらにこのベースフイルム3には、グロー
放電処理やイオン照射処理、熱処理、薬品処理等の前処
理を施してもよい。
Further, the base film 3 may be subjected to a pretreatment such as a glow discharge treatment, an ion irradiation treatment, a heat treatment, and a chemical treatment.

【0031】ベースフイルム3は送出し軸5から冷却キ
ャン4の円筒面を介して巻取り軸6に掛け渡され、冷却
キャン4が矢印Y方向に回転することにより冷却キャン
4の円筒面上を例えば10〜100 m/分の速度で搬送さ
れ、巻取り軸6に巻き取られる。冷却キャン4は、直径
600 mm、幅220 mmの円筒状ドラムであり、表面はハ
ードクロムメッキを施し0.3 S以下に鏡面研磨され、内
部に冷却水、その他の冷媒(エチレングリコール)を循
環させた構造であり表面温度は例えば−35〜+25℃(本
実施例においては−28℃)に維持されている。
The base film 3 is wrapped around the winding shaft 6 from the delivery shaft 5 through the cylindrical surface of the cooling can 4, and rotates on the cylindrical surface of the cooling can 4 by rotating the cooling can 4 in the direction of arrow Y. For example, it is conveyed at a speed of 10 to 100 m / min, and is taken up on a take-up shaft 6. The cooling can 4 has a diameter
It is a cylindrical drum of 600 mm and width of 220 mm. The surface is hard chrome plated and mirror-polished to 0.3 S or less. Cooling water and other refrigerant (ethylene glycol) are circulated inside. For example, it is maintained at −35 to + 25 ° C. (−28 ° C. in the present embodiment).

【0032】冷却キャン4の表面には冷却キャン4から
一定の距離離間し、内部に冷却水あるいは冷媒を循環さ
せ、本体がSUS304 等により形成されたマスク13およ
び14が配設されている。この距離は2〜15mm、より好ま
しくは2〜10mm、最も好ましくは3〜5mmである。2mm
より狭いと後述する第1のガス吹付部を設置するスペー
スが確保できず、15mmを超えると、蒸気流がマスクとベ
ースフィルムの間に回り込んで冷却キャン4に付着して
汚れの原因となるからである。汚れが生じた部分ではキ
ャンとベースフィルム間の熱伝達率が変化したり、キャ
ンのベースフィルムの密着が不充分となり熱ダメージを
受け易くなるからである。そして、ベースフイルム3の
搬送方向に関して上流側に位置するマスク13により最大
入射角(θmax )を下流側に位置するマスク14により最
小入射角(θmin )が規定されている。入射角は後述す
る耐火物ルツボ11a内の溶融面の円中心を基準とし、こ
の円中心からマスク13およびマスク14のエッジに至る線
分と冷却キャン4上のそれぞれのマスクエッジ位置での
法線とのなす角度で定義され、マスク13により規制され
る最大入射角(θmax )は90°を上限とし、より好まし
くは87°、最も好ましくは85°を上限とし、マスク14に
より規制される最小入射角(θmin )は20°、より好ま
しくは25°、最も好ましくは30°を下限とするように設
定されることが望ましい。何故ならば上記範囲を外れる
と、望ましい保磁力が得られないからである。マスク13
および14により形成されるマスク開口部18の幅方向(ベ
ースフイルム3の移送方向に直角の方向)の開口幅は任
意に設定できる。
On the surface of the cooling can 4, masks 13 and 14 whose main body is formed of SUS304 or the like are provided, and the cooling water or the coolant is circulated inside the cooling can 4 at a predetermined distance. This distance is between 2 and 15 mm, more preferably between 2 and 10 mm, most preferably between 3 and 5 mm. 2mm
If it is narrower, the space for installing the first gas blowing section described later cannot be secured, and if it is more than 15 mm, the vapor flow goes between the mask and the base film and adheres to the cooling can 4, causing contamination. Because. This is because the heat transfer coefficient between the can and the base film changes in the portion where the dirt is generated, or the adhesion of the can to the base film becomes insufficient and the can becomes easily damaged by heat. The maximum incident angle (θmax) is defined by the mask 13 located on the upstream side in the transport direction of the base film 3 and the minimum incident angle (θmin) is defined by the mask 14 located on the downstream side in the transport direction of the base film 3. The angle of incidence is based on the center of the circle of the melted surface in the refractory crucible 11a, which will be described later. The maximum incident angle (θmax) regulated by the mask 13 is limited to 90 °, more preferably 87 °, most preferably 85 °, and the minimum incident angle regulated by the mask 14. It is desirable that the angle (θmin) is set so that the lower limit is 20 °, more preferably 25 °, and most preferably 30 °. This is because a desired coercive force cannot be obtained outside the above range. Mask 13
The opening width in the width direction (direction perpendicular to the transfer direction of the base film 3) of the mask opening 18 formed by the mask film 14 and the mask opening 14 can be arbitrarily set.

【0033】またマスク13および14の前面には、各マス
ク13,14に沿って湾曲した形状であり、各マスク13,14
から一定の距離離間し、磁性材料10の蒸発金属粒子が前
記基材3の表面に付着することを妨げる機能を有し、内
部に冷却水を循環させ、本体がSUS304 等により形成
された可動式のシャッター装置が配設されている(図示
せず)。
The masks 13 and 14 have a curved shape along the front surfaces of the masks 13 and 14, respectively.
And has a function of preventing the evaporated metal particles of the magnetic material 10 from adhering to the surface of the base material 3, circulating cooling water inside, and a movable type having a main body formed of SUS304 or the like. (Not shown).

【0034】真空槽2は、仕切り板7によって、ベース
フイルム3の送出しおよび巻取りを行う巻取り室8と、
ベースフイルム3に磁性材料を蒸着する蒸着室9とに仕
切られている。巻取り室8と蒸着室9とは、各別に減圧
のための排気系(図示せず)を備え、各室内の圧力は各
別に調整可能である。特に蒸着室9は、真空槽2の外部
から後述する酸化性ガスが導入されるため、室内の圧力
および各種残留ガスの分圧が詳細は図示しない調製手段
によって常時調整される。
The vacuum chamber 2 is provided with a winding chamber 8 for feeding and winding the base film 3 by a partition plate 7,
The base film 3 is partitioned into a deposition chamber 9 for depositing a magnetic material. Each of the winding chamber 8 and the vapor deposition chamber 9 is provided with an exhaust system (not shown) for reducing pressure, and the pressure in each chamber can be adjusted individually. In particular, since an oxidizing gas, which will be described later, is introduced into the vapor deposition chamber 9 from the outside of the vacuum chamber 2, the pressure in the chamber and the partial pressure of various residual gases are constantly adjusted by adjusting means (not shown).

【0035】また、巻取り室8には、ベースフイルム3
に対する既述の前・後処理のための装置、例えば、グロ
ー放電処理装置、イオン照射処理装置、熱処理装置、C
VD処理装置等を配設してもよい。また、冷却キャン4
は円筒状に限るものではなく、蒸発容器11に対して所定
の斜面を形成し得るエンドレスベルト状の金属板であっ
てもよい。
The take-up chamber 8 contains the base film 3.
For the pre- and post-treatments described above, for example, glow discharge treatment device, ion irradiation treatment device, heat treatment device, C
A VD processing device or the like may be provided. In addition, cooling can 4
Is not limited to a cylindrical shape, and may be an endless belt-shaped metal plate capable of forming a predetermined slope with respect to the evaporating container 11.

【0036】蒸着室9には、冷却キャン4の下方に、磁
性材料10を入れた蒸発容器11が配設され、この蒸発容器
11の周囲には、磁性材料10を加熱するための、内部を冷
却水が循環する管状構造の高周波誘導加熱コイル12が配
設されている。さらに、高周波誘導加熱コイル12に高周
波電力を供給するための高周波電源20および高周波電力
を伝達させる高周波電力供給用フィーダー21が配設され
ている。
An evaporating vessel 11 containing a magnetic material 10 is disposed below the cooling can 4 in the vapor deposition chamber 9.
Around the periphery of 11, a high-frequency induction heating coil 12 having a tubular structure through which cooling water circulates for heating the magnetic material 10 is provided. Further, a high frequency power supply 20 for supplying high frequency power to the high frequency induction heating coil 12 and a high frequency power supply feeder 21 for transmitting high frequency power are provided.

【0037】磁性材料10は、例えばFe、Co、Ni、
CoNi、FeCo、FeCu、FeCr、CoCr、
CoCu、CoAu、CoPt、CoW、NiCr、C
oV、MnBi、MnAl、CoFeCr、CoNiC
r、CoRh、CoNiPt、CoNiFe、CoNi
FeB、FeCoNiCr、CiNiZn等の強磁性金
属や強磁性合金から適宜選択される。
The magnetic material 10 is made of, for example, Fe, Co, Ni,
CoNi, FeCo, FeCu, FeCr, CoCr,
CoCu, CoAu, CoPt, CoW, NiCr, C
oV, MnBi, MnAl, CoFeCr, CoNiC
r, CoRh, CoNiPt, CoNiFe, CoNi
It is appropriately selected from ferromagnetic metals and ferromagnetic alloys such as FeB, FeCoNiCr, and CiNiZn.

【0038】蒸発容器11の構成要素である、磁性材料10
を収容する耐火物ルツボ11a は、例えばMgO、ZrO
2 、Al2 3 、CaO、Y2 3 、ThO2 、BN、
BeOCaO安定化ZrO2 、Y2 3 安定化ZrO2
等のセラミックスや炭素または炭素化合物や他の耐熱性
のある材料から適宜選択する。またこの耐火物ルツボ11
a の形状は、底部を有する容器型であり、水平断面形状
は真円形、楕円形、長円形、正方形、長方形、その他の
いかなる形状であってもよく、垂直断面形状も正方形、
長方形、台形、その他のいかなる形状であってもよい。
なお、高周波誘導加熱コイル12は、耐火物ルツボ11a の
側面に対応する形状とするのが好ましい。
The magnetic material 10 which is a component of the evaporation vessel 11
The refractory crucible 11a for containing MgO, ZrO
2 , Al 2 O 3 , CaO, Y 2 O 3 , ThO 2 , BN,
BeOCaO stabilized ZrO 2 , Y 2 O 3 stabilized ZrO 2
And other materials having heat resistance, such as ceramics, carbon or carbon compounds, and other materials having heat resistance. In addition, this refractory crucible 11
The shape of a is a container type having a bottom, and the horizontal cross-sectional shape may be a perfect circle, an ellipse, an oval, a square, a rectangle, or any other shape, and the vertical cross-section is also a square.
It may be rectangular, trapezoidal, or any other shape.
Preferably, the high-frequency induction heating coil 12 has a shape corresponding to the side surface of the refractory crucible 11a.

【0039】さらに、蒸着室9には冷却キャン4と磁性
材料10を備えた蒸発容器11との間であって、磁性材料10
が蒸発して生じる蒸気流が通過する経路を、その周壁が
囲うように蒸気の拡散を防止する手段としての蒸気流拡
散制御手段15が設けられ、また冷却キャン4の近傍であ
ってマスク13,14の近傍には酸性化ガスまたは酸化性ガ
スと不活性ガスとの混合ガスをベースフイルム3に向け
て吹き付けるためのガス吹付部17が設けられている。
Further, the evaporation chamber 9 is located between the cooling can 4 and the evaporation vessel 11 provided with the magnetic material 10,
A steam flow diffusion control means 15 is provided as means for preventing the diffusion of steam so as to surround a path through which a steam flow generated by evaporation of the gas passes. In the vicinity of 14, there is provided a gas blowing unit 17 for blowing a mixed gas of an acidifying gas or an oxidizing gas and an inert gas toward the base film 3.

【0040】ガス吹付部17は、ベースフイルム3の搬送
方向に関して下流側に位置し、最小入射角(θmin )を
規制するマスク14の近傍で、マスク14の冷却キャン4側
の面内に内蔵されている。なお、吹付ガスとしてはO2
ガスを用いた。ガス吹付スリット17aの吹付方向は最小
入射角(θmin )を定めている冷却キャン4上の基準点
における冷却キャン4上の接線にほぼ平行な向きであ
る。ガス吹付部17からのO2 ガス吹き付けにより後述の
蒸気流拡散制御手段15の開口部を通過してきた蒸発粒子
の飛散方向に対して、略斜め方向にO2 ガスが吹き付け
られ蒸発金属粒子の一部を酸化する。
The gas spraying section 17 is located downstream with respect to the transport direction of the base film 3 and is built in the surface of the mask 14 on the side of the cooling can 4 near the mask 14 that regulates the minimum incident angle (θmin). ing. In addition, O 2
Gas was used. The blowing direction of the gas blowing slit 17a is substantially parallel to a tangent line on the cooling can 4 at a reference point on the cooling can 4 which defines the minimum incident angle (θmin). Relative scattering direction of the evaporation particles that has passed through the opening of the steam flow diffusion control means 15 which will be described later by spraying O 2 gas from the gas blowing part 17, in a substantially diagonal direction of the O 2 gas is blown evaporated metal particles one Oxidize parts.

【0041】蒸気流拡散制御手段15の内周壁面は、例え
ばMgO、ZrO2 、Al2 3 、CaO、Y2 3
ThO2 、BN、BeOCaO安定化ZrO2 、Y2
3 安定化ZrO2 等のセラミックスや炭素または炭素化
合物や他の耐熱性のある材料により形成され、耐火物ル
ツボ11a と略連続した状態で略垂直方向に延びる規制面
で囲まれる蒸気流路を構成するように配置されており、
下面および上面は磁性材料10の蒸発粒子の通過を許容す
るとともにその指向性を向上させるように開口し、周壁
のみを有する筒型形状であり、水平断面形状は円形、楕
円形、長円形、正方形、長方形、その他のいかなる形状
であってもよい。垂直断面形状も正方形、長方形、台
形、その他のいかなる形状であってもよい。
The inner peripheral wall of the vapor flow diffusion control means 15 is made of, for example, MgO, ZrO 2 , Al 2 O 3 , CaO, Y 2 O 3 ,
ThO 2 , BN, BeOCaO stabilized ZrO 2 , Y 2 O
(3) A steam flow path formed of ceramics such as stabilized ZrO 2 , carbon or a carbon compound, or other heat-resistant material, and surrounded by a regulating surface extending substantially vertically in a state substantially continuous with the refractory crucible 11a. Are arranged so that
The lower surface and the upper surface are cylindrical so as to allow the passage of evaporated particles of the magnetic material 10 and improve the directivity thereof, and have a cylindrical shape having only a peripheral wall, and have a horizontal cross-sectional shape of a circle, an ellipse, an oval, and a square. , A rectangle, or any other shape. The vertical cross-section may also be square, rectangular, trapezoidal, or any other shape.

【0042】さらに、蒸気流拡散制御手段15は例えば、
開口部中心から外側へ向かって同心円上に内壁部15a,
外周部15cの2層というように複数の部材からなる積層
構造となっている。
Further, the vapor flow diffusion control means 15 is, for example,
From the center of the opening toward the outside, concentric circles of the inner wall 15a,
It has a laminated structure composed of a plurality of members such as two layers of the outer peripheral portion 15c.

【0043】さらに、電子銃30が真空槽2の壁面に配設
され、この電子銃30から発せられる電子ビーム32は蒸発
粒子の飛散空間である蒸気流拡散制御手段15の開口部上
方を通過した後、蒸発容器11近傍のマスク14と蒸気拡散
制御手段15との間に配設された電子ビーム反射板31に照
射され、その後、拡散した反射電子はベースフイルム3
の蒸着面に照射される。なお電子銃30の最大出力は30K
Wである。
Further, an electron gun 30 is provided on the wall surface of the vacuum chamber 2, and an electron beam 32 emitted from the electron gun 30 passes above the opening of the vapor flow diffusion control means 15, which is a space where evaporation particles are scattered. Thereafter, the electron beam is applied to an electron beam reflector 31 provided between the mask 14 near the evaporation vessel 11 and the vapor diffusion control means 15, and then the diffused reflected electrons are diffused into the base film 3.
Irradiated on the deposition surface of. The maximum output of the electron gun 30 is 30K
W.

【0044】電子ビーム反射板31は、図3に示すように
表面がMoから成る反射プレート31a(W120 mm×L
200 mm t5mm)からなり、裏面は内部に冷却水が
循環する構造の無酸素銅で形成された冷却ブロック31b
および冷却水が漏れないようなシール部材31cからな
る。電子ビーム反射板31は、照射された電子ビーム32を
効率良くベースフイルム3の蒸着面に照射するために傾
斜している。
As shown in FIG. 3, the electron beam reflecting plate 31 is a reflecting plate 31a (W120 mm × L) whose surface is made of Mo.
The cooling block 31b is made of oxygen-free copper and has a structure in which cooling water circulates inside.
And a seal member 31c from which the cooling water does not leak. The electron beam reflector 31 is inclined to efficiently irradiate the irradiated electron beam 32 to the deposition surface of the base film 3.

【0045】[0045]

【実施例】本実施例においては、耐火物ルツボ11aはカ
ップ状(内径φ80mm、外径φ96mm、高さ100 mm、
内部深さ90mm)とし、材質はY2 3 安定化ZrO2
(ZrO2 ;88.0%〜95.0%、Y2 3 ;5.0 %〜12.0
%)を用いた。耐火物ルツボ11aの内部には蒸発用の強
磁性材料10としてCo95Ni5 を用いた。
In this embodiment, the refractory crucible 11a has a cup shape (inner diameter φ80 mm, outer diameter φ96 mm, height 100 mm,
(Internal depth is 90 mm) and the material is Y 2 O 3 stabilized ZrO 2
(ZrO 2; 88.0% ~95.0% , Y 2 O 3; 5.0% ~12.0
%). Co 95 Ni 5 was used as a ferromagnetic material 10 for evaporation inside the refractory crucible 11a.

【0046】高周波誘導加熱コイル12は、内部に冷却水
が循環する直径φ12mmのCuパイプからなり、高周波
誘導加熱コイル12は8ターンで、内径φ120 mm、高さ
h105 mmである。発振周波数25kHz、出力40kWの
高周波電源20は真空槽2の外部に2台設置し、高周波フ
ィーダー21と真空用フィードスルー(図示せず)を通じ
て真空槽2の内部に配設された2つの高周波誘導加熱コ
イル12に接続した。高周波フィーダー21はCu板製であ
り、また高周波誘導加熱コイル12の延長Cuパイプ部
は、それぞれAl2 3 製の絶縁管で囲い、互いに電気
的に絶縁されている。
The high-frequency induction heating coil 12 is made of a Cu pipe having a diameter of φ12 mm through which cooling water circulates. The high-frequency induction heating coil 12 has eight turns, an inner diameter of φ120 mm, and a height h105 mm. Two high frequency power supplies 20 having an oscillation frequency of 25 kHz and an output of 40 kW are provided outside the vacuum chamber 2, and two high frequency power sources provided inside the vacuum chamber 2 through a high frequency feeder 21 and a vacuum feedthrough (not shown). Connected to heating coil 12. The high-frequency feeder 21 is made of a Cu plate, and the extended Cu pipe portions of the high-frequency induction heating coil 12 are each surrounded by an insulating tube made of Al 2 O 3 and are electrically insulated from each other.

【0047】蒸気拡散制御手段15の内壁部15aは、円筒
状(内径φ80mm、外径φ96mm、高さh90mm)のC
aO安定化ZrO2 (ZrO2 ;90.0%〜98.0%、Ca
O;2.0 %〜7.0 %、MgO、Al2 3 、SiO2
FeO3 、TiO2 の各成分は0.0 %〜2.0 %)を用い
た。
The inner wall 15a of the vapor diffusion control means 15 has a cylindrical shape (inner diameter φ80 mm, outer diameter φ96 mm, height h90 mm).
aO stabilized ZrO 2 (ZrO 2 ; 90.0% to 98.0%, Ca
O; 2.0% ~7.0%, MgO , Al 2 O 3, SiO 2,
Each component of FeO 3 and TiO 2 was 0.0% to 2.0%).

【0048】外周部15cは、円筒状(内径φ96mm、外
径φ140 mm、高さh90mm)であり、内部には18℃の
冷却水を循環させ、本体が無酸素銅で形成された冷却構
造体を用いた。
The outer peripheral portion 15c has a cylindrical shape (inner diameter φ96 mm, outer diameter φ140 mm, height h90 mm), circulates cooling water of 18 ° C. inside, and has a main body formed of oxygen-free copper. Was used.

【0049】次に本実施例の磁気記録媒体の製造装置の
作用について説明する。
Next, the operation of the magnetic recording medium manufacturing apparatus of this embodiment will be described.

【0050】まず、蒸着室9および巻取り室8内の空気
等のガスが、バキュームポンプ等の図示しない減圧手段
によりそれぞれ外部に排気され、蒸着室9および巻取り
室8の内部の状態は、例えば5.0 ×10-5〜4.0 ×10-4To
rrの減圧状態とされる。なお、本実施例においては5.0
×10-5Torrとした。蒸着室9および巻取り室8の内部を
このように減圧状態にした後、高周波電源13を用いて高
周波誘導加熱コイル12に電力を供給し、これにより高周
波誘導加熱コイル12は発熱して蒸発容器11の磁性材料10
を加熱、蒸発させた。
First, a gas such as air in the vapor deposition chamber 9 and the winding chamber 8 is exhausted to the outside by a decompression means (not shown) such as a vacuum pump. For example, 5.0 × 10 -5 to 4.0 × 10 -4 To
The pressure is reduced to rr. In this example, 5.0
× 10 -5 Torr. After the insides of the vapor deposition chamber 9 and the winding chamber 8 are depressurized as described above, power is supplied to the high-frequency induction heating coil 12 using the high-frequency power supply 13, whereby the high-frequency induction heating coil 12 generates heat and evaporates. 11 magnetic materials 10
Was heated and evaporated.

【0051】磁性材料10が完全に溶解し、蒸発レートが
一定になった後、送り出し軸5によりベースフイルム3
を60m/分の搬送速度、張力2.0kgf/100 mmの条件で
送り出し、前処理室(図示せず)において、ベースフイ
ルム3の磁性薄膜を形成する側をO2 ガスを用いたグロ
ー放電処理を施した後、冷却キャン4上を搬送させる。
そして、シャッター装置を駆動して「開」の状態とす
る。そして、電子銃30を動作させ電子ビームを蒸気流拡
散制御手段15の開口部上方を通過させた後、電子ビーム
反射板31の表面(照射範囲はW80mm×L180 mm)に
照射される。この時の高周波誘導加熱電源20の出力は例
えば22KW、電子銃30の出力は10KWである。同時にガ
ス吹付部17から吹付量300 cc/分・幅でO2 ガスを吹
き付けつつベースフイルム3上に第1層目のCoNi−
O磁性薄膜(厚み700 オングストローム)を形成した
後、連続して巻き取り軸6に巻き取り、長さ3000mの金
属磁性薄膜を形成した後、シャッター装置を「閉」の状
態にし、同時にガス吹付部17からのO2 ガスの吹付けと
高周波電源20からの電力供給と電子銃30を停止し第1層
目の成膜を終了した。
After the magnetic material 10 is completely dissolved and the evaporation rate becomes constant, the base film 3 is moved by the delivery shaft 5.
At a transport speed of 60 m / min and a tension of 2.0 kgf / 100 mm. In a pretreatment chamber (not shown), the side of the base film 3 on which the magnetic thin film is formed is subjected to glow discharge treatment using O 2 gas. After the application, it is transported on the cooling can 4.
Then, the shutter device is driven to an "open" state. Then, the electron gun 30 is operated to allow the electron beam to pass above the opening of the vapor flow diffusion control means 15, and then is irradiated on the surface of the electron beam reflector 31 (irradiation range is W80 mm × L180 mm). At this time, the output of the high-frequency induction heating power supply 20 is, for example, 22 KW, and the output of the electron gun 30 is 10 KW. At the same time the gas blowing part 17 spray amount 300 cc / min, width O 2 gas of the first layer on the base film 3 while blowing CoNi-
After forming an O magnetic thin film (thickness 700 Å), it is continuously wound around the winding shaft 6 to form a metal magnetic thin film having a length of 3000 m. The blowing of O 2 gas from 17, the supply of power from the high-frequency power supply 20 and the stopping of the electron gun 30 were stopped, and the film formation of the first layer was completed.

【0052】巻き取り軸6に一度巻き取られた原反は、
逆転操作によって巻き取り軸6から送り出し、送り出し
軸5に巻き戻される。その後、前述した同一の蒸着方法
によって第2層目のCo−O磁性薄膜(厚み700 オング
ストローム)を形成し、2層構成の磁性薄膜(総厚み14
00オングストローム)を形成した。
The web once wound on the winding shaft 6 is as follows:
The paper is sent out from the winding shaft 6 by the reverse rotation operation, and is rewound on the feeding shaft 5. Thereafter, a second layer of Co—O magnetic thin film (thickness: 700 Å) is formed by the same vapor deposition method described above, and a two-layer magnetic thin film (total thickness of 14 Å) is formed.
00 angstroms).

【0053】ベースフイルム3上に磁性薄膜を蒸着した
後、熱処理によって磁性層のカールを修正した後、磁性
薄膜表面にはリン酸モノエステル化合物としてC1225
OPO3 2 のメチルエチルケトン溶液を磁性層上での
塗布量が20μmol /m2 となるように塗布し、乾燥し
た。続いてカーボンブラックと樹脂結合剤からなる樹脂
組成物を磁性層を形成した面とは反対の面に塗布し、乾
燥しバックコート層を形成した後、このバックコート層
上に脂肪酸エステル化合物として、C8 17COOC18
37をエタノールに溶解した溶液を20μmol /m2 とな
るように塗布し、乾燥して巻き取った。以上の処理を高
周波誘導加熱コイル12および電子銃30の出力を種々変化
させて行って磁性薄膜の形成された原反を得、この原反
を8mm幅に裁断して評価用の磁気記録媒体を作成し
た。
After depositing a magnetic thin film on the base film 3 and correcting the curl of the magnetic layer by a heat treatment, the surface of the magnetic thin film is formed as a phosphoric acid monoester compound as C 12 H 25.
A solution of OPO 3 H 2 in methyl ethyl ketone was applied so that the coating amount on the magnetic layer was 20 μmol / m 2 and dried. Subsequently, a resin composition comprising carbon black and a resin binder is applied to the surface opposite to the surface on which the magnetic layer has been formed, and dried to form a backcoat layer.As a fatty acid ester compound on this backcoat layer, C 8 F 17 COOC 18
Applying a solution of H 37 in ethanol so that the 20 [mu] mol / m 2, was wound up dry. The above process is performed by varying the outputs of the high-frequency induction heating coil 12 and the electron gun 30 to obtain a raw material on which a magnetic thin film is formed, and the raw material is cut into an 8 mm width to obtain a magnetic recording medium for evaluation. Created.

【0054】そして以下に示す保存性および熱負けの評
価を行った。
Then, the following preservability and heat loss were evaluated.

【0055】[保存性の評価方法] (1) 27℃、80%RH、亜硫酸ガス1ppmの環境に磁気
記録媒体を72時間保存し、保存後のテープ表面を目視観
察し、試験前とほとんど変化が見られないものを○、テ
ープ全面の金属光沢は残っているものの腐食が観察され
るものを△、磁性層の一部もしくは全部が腐食により溶
解したものを×とした。
[Evaluation Method of Storage Property] (1) The magnetic recording medium was stored for 72 hours in an environment of 27 ° C., 80% RH, and 1 ppm of sulfur dioxide gas. Is not observed, the metal gloss on the entire surface of the tape is retained but corrosion is observed, and the magnetic layer is partially or wholly dissolved by corrosion.

【0056】(2) 60℃、90%RHの環境にテープをリー
ル巻きの状態で72時間保存し、バック面と接触した部分
の可視光反射率を測定し、試験前の反射率と比較した。
(2) The tape was stored in an environment of 60 ° C. and 90% RH in a reel wound state for 72 hours, and the visible light reflectance of the portion in contact with the back surface was measured and compared with the reflectance before the test. .

【0057】[熱負け評価方法]100 mm幅×3000m長
の蒸着済み原反裏面から可視光を当てて表面側において
目視で熱負けの発生状況を観察した。検査位置は蒸発ス
タート位置を基準として1000m〜2000mの間の1000mに
ついて調査した。
[Method of Evaluating Heat Loss] The occurrence of heat loss was visually observed on the front surface side by irradiating visible light from the back side of the vapor-deposited raw material having a width of 100 mm and a length of 3000 m. The inspection position was investigated for 1000 m between 1000 m and 2000 m based on the evaporation start position.

【0058】評価基準は、熱負けの発生が認められない
ものを二重丸、ベース幅方向の中心から±30mmには熱
負けの発生が認められないものを○、連続した熱負け
(長手方向へ20mm以上の長さを有する)は認められな
いが単独で発生した熱負けが10ケ所未満のものを△、連
続した熱負けは認められないが単独で発生した熱負けが
10ケ所以上のものを△×、連続した熱負け(長手方向へ
20mm以上の長さを有する)が発生するものを×、常に
熱負けによるシワが発生しているものを××とした。こ
の保存性と熱負けの評価結果を以下の表1に示す。
The evaluation criteria are as follows: a double circle indicates no heat loss, a circle indicates no heat loss within ± 30 mm from the center in the base width direction, and a continuous heat loss (longitudinal direction). Is not recognized, but the heat loss caused by itself is less than 10 places. The continuous heat loss is not recognized, but the heat loss caused alone is not recognized.
△ ×, heat loss continuously in 10 or more places (longitudinal direction)
(Having a length of 20 mm or more) was evaluated as x, and those in which wrinkles were constantly generated due to heat loss were evaluated as xx. Table 1 below shows the results of evaluating the storage stability and heat loss.

【0059】なお、強磁性材料10の溶解前の総重量Wms
(g)と蒸着終了後の残材料のWme(g)との差分から
蒸発総量Wmev (g)を算出し、蒸着前のベース総重量
と蒸着後のベース総重量Wbe(g)との差分から蒸着総
重量Wbev (g)を算出する。そして、蒸発総量Wmev
(g)に対する蒸着総重量Wbev (g)の割合を蒸着効
率ξ(%)と定義すると、下式のような関係となる。
The total weight W ms of the ferromagnetic material 10 before melting is W ms
Evaporation total amount from the difference between (g) and W me of deposition after the end of the residual material (g) W to calculate the mev (g), based the total weight of the pre-deposition to the base of the post-deposition to the total weight W be (g) From the difference, the total vapor weight W bev (g) is calculated. And the total evaporation amount W mev
If the ratio of the total weight W bev (g) of vapor deposition to (g) is defined as vapor deposition efficiency ξ (%), the relationship is as shown in the following equation.

【0060】 ξ(%)=Wbev (g)/Wmev (g)×100 (%) なお、高周波誘導加熱源の投入パワーは22KW一定とし
た。
Ξ (%) = W bev (g) / W mev (g) × 100 (%) The input power of the high-frequency induction heating source was kept constant at 22 KW.

【0061】[0061]

【表1】 [Table 1]

【0062】表1に示すように電子ビーム32を反射板31
により反射してベースフイルム3に照射することによ
り、電子ビームを全く照射しない、すなわち高周波誘導
加熱によってのみ加熱するものと比較して、蒸着効率は
それ程変化はないが、熱負け、保存性(SO2 耐食性)
が向上することが分かった。
As shown in Table 1, the electron beam 32 was applied to the reflector 31.
By irradiating the base film 3 with reflection, the electron beam is not irradiated at all, that is, as compared with the case of heating only by high-frequency induction heating, the vapor deposition efficiency is not so much changed, but the heat loss and storage stability (SO 2 corrosion resistance)
Was found to improve.

【0063】なお、上述した実施例においては図1に示
すように、電子ビームが高周波誘導加熱蒸発容器11の蒸
発粒子の飛散空間を通過した後に、反射板31により反射
されてベースフイルム3に照射するようになっている
が、これに限定されるものではなく、例えば図3に示す
ように、電子ビーム32をまず反射板31により反射し、そ
の後に蒸発粒子の飛散空間に反射電子ビーム32を通過さ
せてベースフイルム3に照射させるようにしてもよいも
のである。
In the above-described embodiment, as shown in FIG. 1, after the electron beam passes through the scattering space of the evaporating particles in the high-frequency induction heating evaporation container 11, the electron beam is reflected by the reflection plate 31 and irradiated on the base film 3. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 3, the electron beam 32 is first reflected by the reflector 31 and then the reflected electron beam 32 is scattered in the scattering space of the evaporated particles. The light may be passed through and the base film 3 may be irradiated.

【0064】ここで、図3に示す実施例と図1に示す実
施例とは以下の点で異なる。すなわち、反射板31により
反射した電子は一般的に元の電子ビームのパワーの30%
以下に減衰するとともに、その拡散範囲が大きく広がる
ものである。したがって、図1に示す実施例の場合は、
反射板31に照射される前の電子ビーム32を蒸発粒子の飛
散空間に照射することにより蒸発粒子あるいは酸化性ガ
スのイオン化を促進することを主な目的とし、反射板31
により反射された後の反射電子はベースフイルム3上へ
の蒸着膜形成時の電子線照射によるベースフイルム3へ
の電荷の注入を主な目的とするものである。これに対し
図3に示す実施例は、まず反射板31に電子ビームを照射
することにより電子ビームを広い空間に広げ、ベースフ
イルム3表面での蒸着膜形成ときの電子ビーム照射とベ
ースフイルム3への電荷注入を主な目的とするものであ
る。
Here, the embodiment shown in FIG. 3 is different from the embodiment shown in FIG. 1 in the following points. That is, the electron reflected by the reflector 31 is generally 30% of the power of the original electron beam.
It is attenuated below, and its diffusion range is greatly expanded. Therefore, in the case of the embodiment shown in FIG.
The main purpose is to irradiate the scattering space of the evaporating particles with the electron beam 32 before irradiating the reflecting plate 31 to promote ionization of the evaporating particles or the oxidizing gas.
The main purpose of the reflected electrons after the reflection is to inject charges into the base film 3 by irradiating an electron beam when forming a deposited film on the base film 3. On the other hand, in the embodiment shown in FIG. 3, the electron beam is first spread over a wide space by irradiating the reflector 31 with the electron beam, so that the electron beam is applied to the base film 3 when the deposited film is formed on the base film 3 surface. The main purpose is to inject charges.

【0065】さらに、図1および図3に示す実施例の
他、図4に示すように反射板を設けることなく、電子銃
30から発生せられた電子ビーム32を直接ベースフイルム
3に照射するようにしてもよいものである。この場合、
例えば高周波誘導加熱電源20の出力は22KW、電子銃30
の出力は0.5 KWであり、照射面積は幅120 mm、長さ
400 mm(マスク部も含む)とする。なお、図4に示す
実施例においては、電子銃30の他、イオン銃を用いてイ
オン照射と電子ビーム照射とを併用するようにしてもよ
いものである。
Further, in addition to the embodiment shown in FIGS. 1 and 3, an electron gun is provided without providing a reflecting plate as shown in FIG.
The electron beam 32 generated from 30 may be directly applied to the base film 3. in this case,
For example, the output of the high-frequency induction heating power supply 20 is 22 kW and the electron gun 30
Output is 0.5 kW, irradiation area is 120 mm width and length
400 mm (including the mask part). In the embodiment shown in FIG. 4, in addition to the electron gun 30, an ion gun may be used to perform both ion irradiation and electron beam irradiation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による磁気記録媒体の製造装置の実施形
態を表す図
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention.

【図2】反射板の冷却を説明するための図FIG. 2 is a diagram for explaining cooling of a reflection plate;

【図3】本発明による磁気記録媒体の製造装置の他の実
施形態を表す図
FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention.

【図4】本発明による磁気記録媒体の製造装置のさらに
他の実施形態を表す図
FIG. 4 is a diagram showing still another embodiment of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention.

【図5】従来の磁気記録媒体の製造装置を表す図FIG. 5 is a diagram showing a conventional magnetic recording medium manufacturing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気記録媒体製造装置(真空蒸着装置) 2 真空槽 3 ベースフイルム 4 冷却キャン 5 送出し軸 6 巻取り軸 7 仕切り板 8 巻取り室 9 蒸着室 10 磁性材料 11 蒸発容器 11a 耐火物ルツボ 12 高周波誘導加熱コイル 13,14 マスク 15 蒸気流拡散制御手段 17 ガス吹付部 18 マスク開口部 30 電子銃 31 反射板 32 電子ビーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Magnetic recording medium manufacturing apparatus (vacuum vapor deposition apparatus) 2 Vacuum tank 3 Base film 4 Cooling can 5 Delivery axis 6 Winding axis 7 Partition plate 8 Winding chamber 9 Deposition chamber 10 Magnetic material 11 Evaporation vessel 11a Refractory crucible 12 High frequency Induction heating coils 13, 14 Mask 15 Vapor flow diffusion control means 17 Gas spray section 18 Mask opening 30 Electron gun 31 Reflector 32 Electron beam

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬
送するとともに、前記基板が搬送される経路の下方に配
設された磁性材料からなる蒸発源を加熱して、前記磁性
材料を蒸発せしめ、前記蒸発源と前記可撓性基板との間
に設けた、前記磁性材料の蒸発によって生じる蒸気流の
拡散方向を規制制御する蒸気流拡散制御手段中を通過さ
せるとともに、該蒸気流の前記可撓性基板への入射角度
を規制する入射角規制手段を設けて、前記蒸気流の指向
性を制御しつつ、更に、酸化性ガスを該蒸気流に吹き付
けながら、該蒸気流を前記可撓性基板表面に蒸着させ
て、磁性薄膜を形成せしめる磁気記録媒体の製造方法に
おいて、 電子ビームを、前記蒸気流が前記長尺の可撓性支持体に
蒸着する領域に照射することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
1. A method for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere, and heating an evaporation source made of a magnetic material disposed below a path along which the substrate is transported, thereby forming the magnetic material. Through a vapor flow diffusion control means provided between the evaporation source and the flexible substrate, which regulates and controls the diffusion direction of the vapor flow generated by the evaporation of the magnetic material. The incident angle restricting means for restricting the incident angle to the flexible substrate is provided to control the directivity of the vapor flow, and further, while blowing the oxidizing gas onto the vapor flow, A method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein a magnetic thin film is formed by vapor deposition on a surface of a flexible substrate, wherein an electron beam is irradiated to a region where the vapor stream is vapor-deposited on the long flexible support. Of manufacturing magnetic recording medium
【請求項2】 真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬
送する搬送手段と、前記基板が搬送される下方に配設さ
れた磁性材料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発さ
せる蒸発手段と、前記蒸発手段と前記可撓性基板との間
に配置され、前記蒸発手段により加熱蒸発した蒸気流の
拡散方向を規制制御する筒状の蒸気流拡散制御手段と、
前記蒸気流の、前記可撓性基板への入射角度を規制する
入射角規制手段と前記蒸気流に酸化性ガスを吹付けるガ
ス吹付手段とを有する、前記可撓性基板上に磁性薄膜を
形成せしめる磁気記録媒体の製造装置において、 前記蒸気流中を通過する電子ビームを発生させる電子ビ
ーム発生手段と、前記蒸気流を通過した電子ビームを、
前記蒸気流が前記長尺の可撓性基板へ蒸着される領域に
照射されるよう反射させる反射手段とを備えたことを特
徴とする磁気記録媒体の製造装置。
2. A transport means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere, an evaporation source made of a magnetic material disposed below which the substrate is transported, and heating and evaporation of the evaporation source. Evaporating means, and a cylindrical vapor flow diffusion control means disposed between the evaporating means and the flexible substrate, for regulating and controlling the diffusion direction of the vapor flow heated and evaporated by the evaporating means,
Forming a magnetic thin film on the flexible substrate, the device comprising: an incident angle regulating unit for regulating an incident angle of the vapor flow to the flexible substrate; and a gas blowing unit for blowing an oxidizing gas to the vapor flow. An apparatus for producing a magnetic recording medium, comprising: an electron beam generating means for generating an electron beam passing through the vapor flow; and an electron beam passing through the vapor flow.
Reflecting means for reflecting the vapor flow so as to irradiate an area to be deposited on the long flexible substrate, the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項3】 真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬
送する搬送手段と、前記基板が搬送される下方に配設さ
れた磁性材料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発さ
せる蒸発手段と、前記蒸発手段と前記可撓性基板との間
に配置され、前記蒸発手段により加熱蒸発した蒸気流の
拡散方向を規制制御する筒状の蒸気流拡散制御手段と、
前記蒸気流の、前記可撓性基板への入射角度を規制する
入射角規制手段と前記蒸気流に酸化性ガスを吹付けるガ
ス吹付手段とを有する、前記可撓性基板上に磁性薄膜を
形成せしめる磁気記録媒体の製造装置において、 電子ビームを、前記蒸気流が前記長尺の可撓性基板へ蒸
着される領域へ照射させる電子ビーム発生手段を設けた
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
3. A transport means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere, an evaporation source made of a magnetic material disposed below which the substrate is transported, and heating and evaporating the evaporation source. Evaporating means, and a cylindrical vapor flow diffusion control means disposed between the evaporating means and the flexible substrate, for regulating and controlling the diffusion direction of the vapor flow heated and evaporated by the evaporating means,
Forming a magnetic thin film on the flexible substrate, the device comprising: an incident angle regulating unit for regulating an incident angle of the vapor flow to the flexible substrate; and a gas blowing unit for blowing an oxidizing gas to the vapor flow. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: an electron beam generating means for irradiating an electron beam to a region where the vapor flow is deposited on the long flexible substrate. apparatus.
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