JPH10154325A - Apparatus for production of magnetic recording medium - Google Patents

Apparatus for production of magnetic recording medium

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Publication number
JPH10154325A
JPH10154325A JP31158196A JP31158196A JPH10154325A JP H10154325 A JPH10154325 A JP H10154325A JP 31158196 A JP31158196 A JP 31158196A JP 31158196 A JP31158196 A JP 31158196A JP H10154325 A JPH10154325 A JP H10154325A
Authority
JP
Japan
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evaporation
magnetic
recording medium
base film
cooling
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP31158196A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junji Nakada
純司 中田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH10154325A publication Critical patent/JPH10154325A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a magnetic recording medium of multilayered constitution to a small size at a low cost with an apparatus for production of the magnetic recording medium. SOLUTION: Two evaporation vessels 16A, 16B are heated by high-frequency induction heating and a base film 3 is transported by a cooling endless belt 4 having straight parts. The evaporation magnetic materials diffused from the evaporation vessels 16A, 16B to the straight parts of this cooling endless belt 4 are deposited by evaporation on the base film 3. As a result, the need for assuring the orbit for an electron beam is eliminated even in the case where magnetic thin films are formed of the multilayered constitution and, therefore, the constitution of the apparatus is made compact.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
装置に関し、詳細には、磁性材料を加熱溶融せしめてこ
れを蒸発させ、その蒸気流をベースフイルム等の可撓性
基板上に堆積、成長せしめるいわゆる蒸着プロセスによ
り磁気記録層を形成するようにした磁気記録媒体の製造
装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, and more particularly, to heating and melting a magnetic material, evaporating the same, and depositing the vapor stream on a flexible substrate such as a base film. The present invention relates to a magnetic recording medium manufacturing apparatus in which a magnetic recording layer is formed by a so-called evaporation process for growing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気記録媒体としては、γ−Fe
2 3 、CoをドープしたFe3 4、γ−Fe2 3
とFe3 4 のベルトライド化合物、Coをドープした
ベルトライド化合物、CrO3 、Baフェライト等の酸
化物磁性体、あるいはFe、Co、Ni等を主成分とす
る合金磁性体等からなる磁性材料の粒子を、添加物とと
もに塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の
高分子バインダー中に分散混合せしめ、この分散混合物
をポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエス
テルやポリプロピレン等のポリオレフィンからなるベー
スフイルム(基板)上に塗布し、その後これを硬化また
は乾燥せしめて製造される、いわゆる塗布型の磁気テー
プが広く知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, γ-Fe
2 O 3 , Co-doped Fe 3 O 4 , γ-Fe 2 O 3
Magnetic material as a berthollide compound of Fe 3 O 4, berthollide compound doped with Co, from CrO 3, Ba oxide magnetic material such as ferrite, or Fe, Co, an alloy magnetic material mainly composed of Ni or the like Are dispersed and mixed together with additives into a polymer binder such as a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a styrene-butadiene copolymer, an epoxy resin, or a polyurethane resin, and the dispersion mixture is mixed with polyethylene terephthalate (PET) or the like. 2. Description of the Related Art A so-called coating type magnetic tape which is manufactured by coating a base film (substrate) made of a polyolefin such as polyester or polypropylene and then curing or drying the base film is widely known.

【0003】一方、近年、記録密度の高密度化の要求が
強くなり、磁気記録媒体の磁性層における磁性材料の高
密度化、保磁力の向上、磁性層の薄膜化、あるいは周波
数特性の短波長側へのシフト化、といった検討が行われ
ている。
On the other hand, in recent years, the demand for higher recording density has become stronger, and the density of the magnetic material in the magnetic layer of the magnetic recording medium has been increased, the coercive force has been improved, the magnetic layer has been reduced in thickness, or the frequency characteristics have been shortened. Consideration has been given to shifting to the side.

【0004】しかし、塗布型のテープでは、磁性層中に
バインダーが残存するため、高密度記録に要求される上
述の諸条件を満たすことが困難となってきている。
However, in a coating type tape, it is difficult to satisfy the above-described various conditions required for high-density recording because a binder remains in the magnetic layer.

【0005】そこで、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等の蒸着法、あるいは電気メッキ、無
電解メッキ等のメッキ法による磁気記録媒体の製造方法
が注目され、種々の提案もなされている。これらの方法
によれば、バインダーを介すことなく磁性材料を直接に
基板上に堆積・成長させて磁性層を形成することができ
るため、磁性層における磁性材料の充填密度を高め、さ
らに磁性層の膜厚も薄くすることができる。
Therefore, attention has been paid to a method of manufacturing a magnetic recording medium by a vapor deposition method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a plating method such as electroplating or electroless plating, and various proposals have been made. According to these methods, the magnetic layer can be formed by depositing and growing a magnetic material directly on a substrate without using a binder, so that the packing density of the magnetic material in the magnetic layer is increased, and Can also be made thinner.

【0006】さらに、これらの蒸着法等は、ベースフイ
ルム上に形成される膜厚の調整制御が容易であるととも
に、塗布型のテープの製造工程における磁性層塗布液の
調整作業や塗布後の乾燥等の磁性層形成に伴う処理工程
も不要となるなど実用上有用な利点を有する。
Further, these vapor deposition methods and the like make it easy to adjust and control the thickness of the film formed on the base film, adjust the coating solution of the magnetic layer in the manufacturing process of the coating type tape, and perform drying after coating. This has practically useful advantages such as eliminating the need for processing steps associated with the formation of a magnetic layer.

【0007】特に、蒸着による方法では、メッキによる
方法において必要とされる廃液処理も不要であり、また
堆積した磁性膜の成長速度も早いという利点を有する。
このような蒸着法によってベースフイルム上に形成され
た磁性層を記録層とする磁気テープは、従来の塗布型の
磁気テープに比べて再生出力が格段に大きく、また記録
信号の周波数特性もより短波長側で向上する等、高密度
磁気記録媒体として有用なものとなっている。
[0007] In particular, the vapor deposition method has the advantages that the waste liquid treatment required in the plating method is not required and that the growth rate of the deposited magnetic film is high.
A magnetic tape using a magnetic layer formed on a base film by such a vapor deposition method as a recording layer has a much higher reproduction output and a shorter frequency characteristic of a recording signal than a conventional coating type magnetic tape. It is useful as a high-density magnetic recording medium, for example, it is improved on the wavelength side.

【0008】蒸着法による磁気記録媒体の製造は、詳細
には、例えば図6に示す真空蒸着装置1により行うこと
が知られている。図6に示すように、真空蒸着装置1
は、減圧状態とされた真空槽2の内部に、外形が円筒状
で、かつその円筒外周面上にポリエステルフイルム、ポ
リアミドフイルム、ポリイミドフイルム等の非磁性材料
からなる長尺のベースフイルム3を長手方向に巻装する
冷却キャン4を備え、この冷却キャン4は矢印Y方向に
回転して送出し軸5側から巻取り軸6側へと移送される
ベースフイルム3が、その円筒外周面上で搬送される。
It is known that the manufacture of a magnetic recording medium by a vapor deposition method is performed in detail by, for example, a vacuum vapor deposition apparatus 1 shown in FIG. As shown in FIG.
A long base film 3 made of a non-magnetic material such as a polyester film, a polyamide film, or a polyimide film is formed inside a vacuum chamber 2 in a reduced pressure state. The cooling film 4 is wound in the direction Y. The cooling film 4 is rotated in the direction of arrow Y, and the base film 3 which is transferred from the side of the delivery shaft 5 to the side of the winding shaft 6 is provided on the outer peripheral surface of the cylinder. Conveyed.

【0009】真空槽2の内部は、仕切り板7により、ベ
ースフイルム3の送出しおよび巻取りを行う巻取り室8
と、ベースフイルム3に磁性材料を蒸着せしめる蒸着室
9とに分割されている。蒸着室9には、冷却キャン4の
図中下方にCoやCoNi合金、CoCr合金、CoC
rNi合金等の蒸発源である磁性材料10を入れた蒸発容
器11が配設され、電子銃加熱、抵抗加熱、高周波誘導加
熱等の加熱手段12により磁性材料10を加熱、蒸発させ
る。蒸発して上昇する蒸気流たる磁性材料10の粒子(磁
性粒子、または蒸発粒子と称する)は、冷却キャン4の
回転に伴なって矢印Y方向に搬送されるベースフイルム
3の表面に連続的に衝突し、そこで冷却されることによ
り沈着し、かくして磁性層が形成される。
The inside of the vacuum chamber 2 is controlled by a partition plate 7 to take up and wind up the base film 3 in a winding chamber 8.
And a deposition chamber 9 for depositing a magnetic material on the base film 3. In the vapor deposition chamber 9, Co, CoNi alloy, CoCr alloy, CoC
An evaporation container 11 containing a magnetic material 10 as an evaporation source such as an rNi alloy is provided, and the magnetic material 10 is heated and evaporated by heating means 12 such as electron gun heating, resistance heating, and high frequency induction heating. Particles of the magnetic material 10 (referred to as magnetic particles or evaporating particles), which evaporate and rise, are continuously deposited on the surface of the base film 3 conveyed in the direction of arrow Y with the rotation of the cooling can 4. They collide and deposit there by cooling, thus forming a magnetic layer.

【0010】ここで、蒸発した磁性材料の粒子を効率良
く基板上に付着させて蒸着効率を高めるためには、この
蒸発した粒子が広く拡散しないようにすればよく、例え
ば特開昭63- 204513号、特開平2-56730号により開示さ
れた技術によれば、蒸発源と冷却キャンとの間であっ
て、この蒸発した粒子が通過する部分の回りをその周壁
で囲んでその流路を規制するように、例えば、円筒状の
ような蒸気拡散制御壁(蒸気拡散制御手段)15を設けれ
ばよい。なお、このような蒸気拡散制御壁15には、その
内壁面に付着した磁性材料10の蒸発粒子を再蒸発あるい
は凝集回収させるため、または再蒸発と凝集回収とを組
み合わせるために、内壁面の温度を加熱あるいは冷却す
る手段を具備する。
Here, in order to efficiently deposit the evaporated magnetic material particles on the substrate to increase the vapor deposition efficiency, it is sufficient to prevent the evaporated particles from diffusing widely. According to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-56730, the portion between the evaporation source and the cooling can, around which the evaporated particles pass, is surrounded by a peripheral wall to regulate the flow path. In order to do so, for example, a steam diffusion control wall (steam diffusion control means) 15 having a cylindrical shape may be provided. The vapor diffusion control wall 15 has a temperature of the inner wall surface in order to re-evaporate or coagulate and collect the evaporated particles of the magnetic material 10 attached to the inner wall surface or to combine re-evaporation and coagulation and recovery. Is provided with means for heating or cooling.

【0011】またこのような蒸気拡散制御壁15を設けた
場合、加熱手段として一般に利用される電子銃加熱手段
を用いるのは困難である。すなわち、この場合はその電
子銃から蒸発容器11に入れられた磁性材料10までの電子
ビームの通過軌道を確保する必要があるが、蒸発容器11
の上方に蒸気拡散制御壁15を設けた場合、この電子ビー
ムの通過軌道を確保するのが困難だからである。したが
って通常は加熱手段としては高周波誘導加熱手段を用い
るようにしている。
When such a vapor diffusion control wall 15 is provided, it is difficult to use an electron gun heating means generally used as a heating means. That is, in this case, it is necessary to secure a passage of the electron beam from the electron gun to the magnetic material 10 placed in the evaporating vessel 11.
This is because, when the vapor diffusion control wall 15 is provided above the above, it is difficult to secure the passage trajectory of the electron beam. Therefore, high frequency induction heating means is usually used as the heating means.

【0012】さらに磁性薄膜の保磁力を向上させるため
に、蒸着に際し酸素を吹き付けることが有効であること
が判明している。この酸素を吹き付ける方式は、通常
は、ベースフイルム3の搬送方向に対して下流側に位置
するマスク14の近傍にガス吹付部17を配設し、酸素ガス
を磁性材料10の蒸発粒子に吹き付けることにより行われ
ている。例えば、特公平2-27732号に開示された技術に
よれば最小入射角近傍から酸素ガスを吹き付けるととも
に、蒸着開始側(最大入射角側)からも不活性ガスを吹
き付けて、磁性材料10の物理的充填率および磁気的充填
率を調整している。
It has been found that it is effective to spray oxygen during the vapor deposition in order to further improve the coercive force of the magnetic thin film. In the method of blowing oxygen, usually, a gas blowing unit 17 is provided near a mask 14 located on the downstream side in the transport direction of the base film 3 to blow oxygen gas to the evaporated particles of the magnetic material 10. It is done by. For example, according to the technology disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-27732, the oxygen gas is blown from the vicinity of the minimum incident angle, and the inert gas is also blown from the vapor deposition start side (the maximum incident angle side). The filling rate and the magnetic filling rate are adjusted.

【0013】なお、保磁力の向上という目的とは異なる
が、磁気記録媒体の耐蝕性を向上させることを目的とし
た場合にも、蒸着中に酸素ガスを系内に吹き付けること
が行われる。例えば、特公平3-19621号に開示された技
術によれば、基板であるベースフイルムの幅方向に配設
した複数個のノズルから酸化性ガスを系内に吹き付け
て、磁性層を構成する元素と反応させて酸化物を合成せ
しめ、この酸化物による酸化膜が腐蝕に対する保護効果
を生じせしめている。
Although the purpose is different from the purpose of improving the coercive force, oxygen gas is also blown into the system during vapor deposition when the purpose is to improve the corrosion resistance of the magnetic recording medium. For example, according to the technology disclosed in Japanese Patent Publication No. 3-19621, an oxidizing gas is sprayed into the system from a plurality of nozzles arranged in the width direction of a base film as a substrate to form an element constituting a magnetic layer. To form an oxide, and the oxide film of the oxide has a protective effect against corrosion.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上述の蒸着において磁
気記録媒体の層構成として多層構成をとることがある。
これは形成された磁気記録媒体のノイズを低減させるた
めである。このような多層構成とする場合、電子ビーム
により蒸発源を加熱しようとすると、図5に示すよう
に、例えば2つの冷却キャン4A,4Bを設け、この2
つの冷却キャン4A,4Bに対応させて電子銃40A,40
Bおよびその他の蒸発源装置を設ける必要がある。この
ように電子ビームにより蒸発容器を加熱する場合、電子
ビームの軌道を電子銃2つ分設ける必要があるため、装
置が大型化してしまい、さらには、装置の大型化に伴い
装置が高価なものとなってしまう。
In the above-described vapor deposition, the magnetic recording medium may have a multilayer structure as a layer structure.
This is to reduce noise of the formed magnetic recording medium. In order to heat the evaporation source with an electron beam in such a multilayer configuration, for example, as shown in FIG. 5, two cooling cans 4A and 4B are provided, and
Electron guns 40A, 40 corresponding to the two cooling cans 4A, 4B.
B and other evaporation source devices need to be provided. When the evaporating vessel is heated by the electron beam as described above, it is necessary to provide the trajectory of the electron beam for two electron guns, which results in an increase in the size of the apparatus. Will be.

【0015】本発明は上記事情に鑑み、小型かつ低コス
トで磁気記録媒体を多層構成で製造することができる磁
気記録媒体の製造装置を提供することを目的とするもの
である。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a magnetic recording medium manufacturing apparatus capable of manufacturing a magnetic recording medium in a multilayer structure at a small size and at low cost.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明による磁気記録媒
体の製造装置は、真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を
搬送する搬送手段と、前記基板が搬送される下方に配設
された磁性材料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発
させる蒸発手段と、前記蒸発手段と前記可撓性基板との
間に配置され、前記蒸発手段により加熱蒸発した蒸気流
の拡散方向を規制制御する筒状の蒸気流拡散制御手段
と、前記蒸気流の、前記可撓性基板への入射角度を規制
する入射角規制手段とを有する、前記可撓性基板上に磁
性薄膜を形成せしめる磁気記録媒体の製造装置におい
て、前記蒸発源を前記長尺の可撓性基板の搬送方向に沿
って少なくとも2個設けるとともに、前記蒸発手段を誘
導加熱手段としたことを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: transport means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere; An evaporation source made of a magnetic material, an evaporation unit for heating and evaporating the evaporation source, and a diffusion direction disposed between the evaporation unit and the flexible substrate, the diffusion direction being heated and evaporated by the evaporation unit. A magnet for forming a magnetic thin film on the flexible substrate, comprising: a cylindrical vapor flow diffusion control means for controlling; and an incident angle restricting means for restricting an incident angle of the vapor flow to the flexible substrate. In the apparatus for manufacturing a recording medium, at least two evaporation sources are provided along a transport direction of the long flexible substrate, and the evaporation unit is an induction heating unit.

【0017】この蒸気拡散制御手段から飛散する前記蒸
気流の指向性が最大値となる方向が、前記蒸気流の前記
基板への入射角と一致するように、前記蒸気拡散制御手
段が形成されていることが好ましい。
The vapor diffusion control means is formed such that the direction in which the directivity of the vapor flow scattered from the vapor diffusion control means has a maximum value coincides with the angle of incidence of the vapor flow on the substrate. Is preferred.

【0018】また、前記搬送手段は、前記可撓性基板を
直線状に搬送する手段であることが好ましい。
Preferably, the transfer means is a means for transferring the flexible substrate in a straight line.

【0019】さらに、前記直線状に搬送する手段が、エ
ンドレスベルトであるようにしてもよい。
Further, the means for linearly conveying the sheet may be an endless belt.

【0020】また、前記搬送手段が前記蒸発源の蒸発面
に対して傾斜するように、配されていることが好まし
い。なお、この場合の傾斜角は、蒸気流の基材への入射
角と飛散する蒸気流の指向性が最大値となる方向とを一
致させるような傾斜角となることが好ましい。
Further, it is preferable that the transfer means is arranged so as to be inclined with respect to the evaporation surface of the evaporation source. In this case, the inclination angle is preferably such that the incident angle of the vapor flow to the substrate and the direction in which the directivity of the scattered vapor flow has the maximum value coincide with each other.

【0021】さらに、前記蒸発源と前記基材との間にあ
って、前記基材に接触する以外の蒸気流に接触し、該蒸
気流の蒸発粒子を再蒸発させまたは前記蒸発源に回収す
る補助加熱手段を設けることが好ましい。
Further, an auxiliary heating device is provided between the evaporation source and the substrate, which comes into contact with a vapor flow other than the substrate, and re-evaporates or recovers the vaporized particles of the vapor flow to the evaporation source. Preferably, means are provided.

【0022】なおここで蒸発源とは磁性材料により形成
されたものをいうが本明細書においては説明の便宜上、
この蒸発源である磁性材料を収容してなる蒸発容器を含
めて蒸発源ということがあるものとする。
The term “evaporation source” used herein means a material formed of a magnetic material, but in this specification, for convenience of explanation,
The evaporation source may be referred to as an evaporation source including the evaporation container containing the magnetic material as the evaporation source.

【0023】[0023]

【作用および発明の効果】本発明による磁気記録媒体の
製造装置は、高周波誘導加熱により加熱される蒸発源を
基材の搬送方向に沿って複数個設けたため、磁気記録媒
体を多層構成とする際に、図5に示す電子ビームにより
蒸発源を加熱するものと比較して、蒸発源と基材との間
隔を小さくすることができる。このため、電子ビームに
より磁気記録媒体を多層構成とする装置と比較して、装
置を小型にすることができるとともに、装置のコストを
低減させることができる。
In the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, a plurality of evaporation sources heated by high-frequency induction heating are provided along the direction in which the substrate is transported. In addition, the distance between the evaporation source and the substrate can be reduced as compared with the case where the evaporation source is heated by the electron beam shown in FIG. Therefore, the size of the device can be reduced and the cost of the device can be reduced as compared with a device in which the magnetic recording medium has a multi-layered structure using an electron beam.

【0024】また、複数の蒸発源と基材との間に蒸気拡
散制御手段を設けることにより、複数の蒸発源から蒸発
した磁性材料の粒子が広く拡散することがなくなるた
め、複数の蒸発源を用いて磁性材料を多層膜構成とする
場合であっても、磁性材料の蒸発粒子を効率良く基材上
に付着させて蒸着効率を向上させることができる。
Further, by providing the vapor diffusion control means between the plurality of evaporation sources and the base material, the particles of the magnetic material evaporated from the plurality of evaporation sources are not diffused widely. Even when the magnetic material is used to form a multilayer film, the vaporized particles of the magnetic material can be efficiently attached to the base material to improve the vapor deposition efficiency.

【0025】さらに、蒸気拡散防止手段から飛散する蒸
気流の指向性が最大値となる方向を蒸気流の基材への入
射角と一致させることにより、蒸気流が最大限に基材に
付着することとなるため、磁性材料の蒸着効率を向上さ
せることができる。
Further, the direction in which the directivity of the vapor flow scattered from the vapor diffusion preventing means becomes maximum is matched with the angle of incidence of the vapor flow on the substrate, so that the vapor flow adheres to the substrate as much as possible. As a result, the vapor deposition efficiency of the magnetic material can be improved.

【0026】また、搬送手段を所定の経路が直線状とな
るように基材を搬送する手段とすることにより、複数の
蒸発源をこの直線に沿って配すればよくなるため、複数
の蒸発源をより簡易かつコンパクトに配することがで
き、装置の構成をより小型とすることができる。
[0026] Further, since the transport means is a means for transporting the base material so that the predetermined path is linear, a plurality of evaporation sources can be arranged along this straight line. The arrangement can be made simpler and more compact, and the configuration of the device can be made smaller.

【0027】さらに搬送手段を、可撓性基板を直線状に
搬送する手段、例えばエンドレスベルトとすることによ
り、基材を搬送する手段の構成をより簡易にすることが
できるとともに、基材を冷却する冷却手段を配する場所
を所定の経路に容易に確保することができるため、装置
をよりコンパクトに構成することができる。
Further, by using a means for transferring the flexible substrate in a straight line, for example, an endless belt, the structure of the means for transferring the base material can be simplified and the base material can be cooled. Since a place for disposing the cooling means can be easily secured in a predetermined path, the apparatus can be configured more compactly.

【0028】また、前記搬送手段を蒸発源の蒸発面に対
して傾斜させ、その傾斜角を好ましくは、蒸気流の基材
への入射角と飛散する蒸気流の指向性が最大値となる方
向とを一致させるような角度とすることにより、蒸気流
が基材に付着する面を大きくし、磁性材料の基材への蒸
着効率をより向上させることができる。
Preferably, the conveying means is inclined with respect to the evaporation surface of the evaporation source, and the angle of inclination is preferably such that the incident angle of the vapor flow to the substrate and the directivity of the scattered vapor flow have the maximum value. When the angle is set so as to match with the angle, the surface on which the vapor flow adheres to the base material is increased, and the efficiency of vapor deposition of the magnetic material on the base material can be further improved.

【0029】さらに、基材に蒸着される以外の蒸気流に
接触して蒸発粒子を再蒸発または蒸発源に回収するため
の補助加熱手段を設けることにより、基材に蒸着されな
いで無駄となってしまう蒸気流を再度蒸発させ、あるい
は蒸発源に戻すことができるため、蒸気流を無駄にする
量を低減させて、磁性材料の利用効率を向上させること
ができる。
Further, by providing an auxiliary heating means for re-evaporating the evaporated particles in contact with a vapor flow other than the vapor deposited on the substrate or recovering the vaporized particles to the evaporation source, the vapor is not deposited on the substrate and is wasted. Since the resulting steam flow can be evaporated again or returned to the evaporation source, the amount of wasted steam flow can be reduced, and the utilization efficiency of the magnetic material can be improved.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の磁気
記録媒体の製造装置の実施の形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0031】図1は本発明による磁気記録媒体の製造装
置である真空蒸着装置1の概略構成を表す図である。図
1に示すように、真空蒸着装置1は真空槽2の内部に、
駆動軸7,8により駆動される冷却エンドレスベルト4
を備えている。この冷却エンドレスベルト4は幅200 m
m、厚み1.2 mm、斜面長800 mmのSUS 304製の金
属ベルトであり、表面はハードクロムメッキを施し、0.
3 S以下に鏡面研磨されている。冷却エンドレスベルト
4の内側には冷媒(エチレングリコール)を循環させ表
面温度が−25℃に保持された冷却プレート9が設けられ
ており、この冷却プレート9の表面が冷却エンドレスベ
ルト4に接触している。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a vacuum evaporation apparatus 1 which is an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention. As shown in FIG. 1, a vacuum evaporation apparatus 1 is provided inside a vacuum chamber 2.
Endless cooling belt 4 driven by drive shafts 7 and 8
It has. This cooling endless belt 4 has a width of 200 m.
SUS 304 metal belt with a thickness of 1.2 mm and a slope length of 800 mm.
Mirror-polished to 3 S or less. Inside the cooling endless belt 4, there is provided a cooling plate 9 circulating a refrigerant (ethylene glycol) and maintaining the surface temperature at −25 ° C. The surface of the cooling plate 9 comes into contact with the cooling endless belt 4. I have.

【0032】また、この冷却エンドレスベルト4の外周
面には、磁気記録媒体の基材としてのベースフイルム3
が巻装される。ベースフイルム3は、ポリエチレンテレ
フタレート(PET)やポリエチレンナフタレート等の
ポリエステル、ポリプロピレン等のポリオレフィン、三
酢酸セルロースや二酢酸セルロース等のセルロース誘電
体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド等のプラ
スチックを長尺フイルム状に加工したものであり、その
厚さは例えば3〜100 μmのものが使用される。本実施
例においては厚さ6μmのものを用いる。
On the outer peripheral surface of the cooling endless belt 4, a base film 3 as a base material of a magnetic recording medium is provided.
Is wound. The base film 3 is made of polyester such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate, polyolefin such as polypropylene, cellulose dielectric such as cellulose triacetate or cellulose diacetate, vinyl resin such as polyvinyl chloride, polycarbonate, polyamide, polyphenylene. It is formed by processing a plastic such as sulfide into a long film, and its thickness is, for example, 3 to 100 μm. In this embodiment, the one having a thickness of 6 μm is used.

【0033】また、このベースフイルム3の表面には必
要に応じてアンダーコートが施される。アンダーコート
はバインダー(メチルセルロース等のセルロース類、P
ET等の飽和ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリアミ
ド、ポリアクリレート等)とフィラー(シリカ、チタニ
ア、アルミナ、炭酸カルシウム等)を溶解して塗布した
表面突起を有するものであり、その高さは5〜30nm
で、密度500 万〜10000万個/mm2 の突起を有するも
のである。本実施例においては粒径18nmで密度は5000
万個/mm2 とする。この高さ、密度は要求される密着
性能等により適宜選択し得る。
The surface of the base film 3 is undercoated as required. The undercoat is made of a binder (cellulose such as methylcellulose, P
Saturated polyesters such as ET, phenoxy resins, polyamides, polyacrylates, etc.) and fillers (silica, titania, alumina, calcium carbonate, etc.) are dissolved and applied, and the surface projections have a height of 5 to 30 nm.
In those with a protrusion density 5000000-100000000 pieces / mm 2. In this embodiment, the particle size is 18 nm and the density is 5000
10,000 / mm 2 . The height and density can be appropriately selected depending on the required adhesion performance and the like.

【0034】さらにこのベースフイルム3には、グロー
放電処理やイオン照射処理、熱処理、薬品処理等の前処
理を施してもよい。
Further, the base film 3 may be subjected to a pretreatment such as a glow discharge treatment, an ion irradiation treatment, a heat treatment, and a chemical treatment.

【0035】ベースフイルム3は送出し軸5から冷却エ
ンドレスベルト4の円筒面を介して巻取り軸6に掛け渡
され、冷却エンドレスベルト4が矢印Y方向に回転する
ことにより冷却エンドレスベルト4上を例えば10〜100
m/分の速度で搬送され、巻取り軸6に巻き取られる。
The base film 3 is wrapped around a winding shaft 6 from a delivery shaft 5 via a cylindrical surface of the cooling endless belt 4, and is rotated on the cooling endless belt 4 by rotating the cooling endless belt 4 in the Y direction. For example, 10-100
It is conveyed at a speed of m / min and wound up on the winding shaft 6.

【0036】冷却エンドレスベルト4の表面には冷却エ
ンドレスベルト4から一定の距離離間し、内部に冷却水
あるいは冷媒を循環させ、本体がSUS304 等により形
成されたマスク13A,13B,13Cが配設されている。こ
の距離は2〜15mm、より好ましくは2〜10mm、最も好ま
しくは3〜5mmである。2mmより狭いと後述するガス吹
付部を設置するスペースが確保できず、15mmを超える
と、蒸気流がマスクとベースフィルムの間に回り込んで
冷却エンドレスベルト4に付着して汚れの原因となるか
らである。汚れが生じた部分ではエンドレスベルトとベ
ースフィルム間の熱伝達率が変化したり、エンドレスベ
ルトのベースフィルムの密着が不充分となり熱ダメージ
を受け易くなるからである。そして、ベースフイルム3
の搬送方向に関して上流側に位置するマスク13Aにより
後述する第1の蒸発容器16Aの最大入射角(θmax1)
が、下流側に位置するマスク13Bにより第1の蒸発容器
16Aの最小入射角(θmin1)がそれぞれ規定されてい
る。さらに、このマスク13Bにより後述する第2の蒸発
容器11Bの最大入射角(θmax2)が、下流側に位置する
マスク13Cにより第2の蒸発容器16Bの最小入射角(θ
min2)がそれぞれ規定されている。第1の蒸発容器16A
の中心入射角は後述する耐火物ルツボ11A内の溶融面の
円中心を基準とし、この円中心を通る垂線と冷却エンド
レスベルト4上の法線とのなす角度で定義され、第1の
蒸発容器16Aの中心入射角θを50°に設定した。同様に
第2の蒸発容器16Bの中心入射角θも50°に設定する。
マスク13A,13B,13Cにより形成されるマスク開口部
18A,18Bの幅方向(ベースフイルム3の移送方向に直
角の方向)の開口幅は100 mmに設定する。
On the surface of the cooling endless belt 4, there are provided masks 13A, 13B and 13C which are separated from the cooling endless belt 4 by a predetermined distance, circulate cooling water or a refrigerant therein, and whose main body is formed of SUS304 or the like. ing. This distance is between 2 and 15 mm, more preferably between 2 and 10 mm, most preferably between 3 and 5 mm. If it is smaller than 2 mm, a space for installing a gas blowing section described later cannot be secured, and if it is larger than 15 mm, the vapor flow goes around between the mask and the base film and adheres to the cooling endless belt 4 to cause contamination. It is. This is because the heat transfer coefficient between the endless belt and the base film changes in the stained portion, and the endless belt is insufficiently adhered to the base film, so that the endless belt is easily damaged by heat. And base film 3
The maximum incident angle (θmax1) of a first evaporation container 16A, which will be described later, by the mask 13A located on the upstream side with respect to the conveyance direction
However, the first evaporation container is provided by the mask 13B located on the downstream side.
A minimum incident angle (θmin1) of 16 A is specified. Further, the maximum incident angle (θmax2) of the second evaporation container 11B described later is changed by the mask 13B to the minimum incident angle (θmax) of the second evaporation container 16B by the mask 13C located on the downstream side.
min2). First evaporation vessel 16A
Is defined as the angle formed by a perpendicular passing through the center of the circle and a normal on the cooling endless belt 4 with reference to the center of the circle of the melted surface in the refractory crucible 11A described later. The central incident angle θ of 16A was set to 50 °. Similarly, the central incident angle θ of the second evaporation container 16B is set to 50 °.
Mask openings formed by masks 13A, 13B, 13C
The opening width in the width direction of 18A and 18B (the direction perpendicular to the direction of transport of the base film 3) is set to 100 mm.

【0037】またマスク13A,13B,13Cの前面には、
各マスク13A,13B,13Cに沿った形状であり、各マス
ク13A,13B,13Cから一定の距離離間し、磁性材料10
の蒸発金属粒子がベースフイルム3の表面に付着するこ
とを妨げる機能を有し、内部に18℃の冷却水を循環さ
せ、本体がSUS304 等により形成された可動式のシャ
ッター装置が配設されている(図示せず)。
On the front of the masks 13A, 13B, 13C,
Each of the masks 13A, 13B, and 13C has a shape along the masks 13A, 13B, and 13C.
A movable shutter device having a function of preventing the evaporated metal particles from adhering to the surface of the base film 3, circulating cooling water of 18 ° C. inside, and having a main body formed of SUS304 or the like is provided. (Not shown).

【0038】真空槽2は、仕切り板20によって、ベース
フイルム3の送出しおよび巻取りを行う巻取り室21と、
ベースフイルム3に磁性材料を蒸着する蒸着室22とに仕
切られている。巻取り室21と蒸着室22とは、各別に減圧
のための排気系(図示せず)を備え、各室内の圧力は各
別に調整可能である。特に蒸着室22は、真空槽2の外部
から後述する酸化性ガスが吹き付けられるため、室内の
圧力および各種残留ガスの分圧が図示しない調製手段に
よって常時調整される。
The vacuum chamber 2 is provided with a winding chamber 21 for feeding and winding the base film 3 by a partition plate 20;
The base film 3 is partitioned into a deposition chamber 22 for depositing a magnetic material. Each of the winding chamber 21 and the vapor deposition chamber 22 is provided with an exhaust system (not shown) for reducing pressure, and the pressure in each chamber can be individually adjusted. In particular, since an oxidizing gas described later is blown from the outside of the vacuum chamber 2 to the vapor deposition chamber 22, the pressure in the chamber and the partial pressures of various residual gases are constantly adjusted by a preparation unit (not shown).

【0039】また、巻取り室21には、ベースフイルム3
に対する既述の前・後処理のための装置、例えば、グロ
ー放電処理装置、イオン照射処理装置、熱処理装置、C
VD処理装置等を配設してもよい。
The take-up chamber 21 contains the base film 3.
For the pre- and post-treatments described above, for example, glow discharge treatment device, ion irradiation treatment device, heat treatment device, C
A VD processing device or the like may be provided.

【0040】蒸着室22には、冷却エンドレスベルト4の
下方に、磁性材料10A,10Bを入れた第1の蒸発容器16
Aおよび第2の蒸発容器16Bが配設され、この蒸発容器
16A,16Bの周囲には、磁性材料10A,10Bを加熱する
ための、内部を冷却水が循環する管状構造の高周波誘導
加熱コイル12A,12Bが配設されている。さらに、高周
波誘導加熱コイル12A,12Bに高周波電力を供給するた
めの高周波電源および高周波電力を伝達させる高周波電
力供給用フィーダーが配設されている(図示せず)。
In the evaporation chamber 22, a first evaporation container 16 containing magnetic materials 10A and 10B is placed below the cooling endless belt 4.
A and a second evaporating vessel 16B are provided.
Around the 16A and 16B, high-frequency induction heating coils 12A and 12B having a tubular structure for circulating cooling water for heating the magnetic materials 10A and 10B are arranged. Further, a high-frequency power supply for supplying high-frequency power to the high-frequency induction heating coils 12A and 12B and a high-frequency power supply feeder for transmitting high-frequency power are provided (not shown).

【0041】磁性材料10A,10Bは、例えばFe、C
o、Ni、CoNi、FeCo、FeCu、FeCr、
CoCr、CoCu、CoAu、CoPt、CoW、N
iCr、CoV、MnBi、MnAl、CoFeCr、
CoNiCr、CoRh、CoNiPt、CoNiF
e、CoNiFeB、FeCoNiCr、CiNiZn
等の強磁性金属や強磁性合金から適宜選択される。そし
て、第1および第2の耐火物ルツボ11A,11B内にそれ
ぞれ異なる磁性材料10A,10Bを入れ、2層の磁性層を
形成するものである。
The magnetic materials 10A and 10B are made of, for example, Fe, C
o, Ni, CoNi, FeCo, FeCu, FeCr,
CoCr, CoCu, CoAu, CoPt, CoW, N
iCr, CoV, MnBi, MnAl, CoFeCr,
CoNiCr, CoRh, CoNiPt, CoNiF
e, CoNiFeB, FeCoNiCr, CiNiZn
And the like are appropriately selected from ferromagnetic metals and ferromagnetic alloys. Then, different magnetic materials 10A and 10B are put in the first and second refractory crucibles 11A and 11B, respectively, to form two magnetic layers.

【0042】蒸発容器16A,16Bの構成要素である、磁
性材料10A,10Bを収容する耐火物ルツボ11A,11B
は、例えばMgO、ZrO2 、Al2 3 、CaO、Y
2 3、ThO2 、BN、BeOCaO安定化Zr
2 、Y2 3 安定化ZrO2 等のセラミックスや炭素
または炭素化合物や他の耐熱性のある材料から適宜選択
する。またこの耐火物ルツボ11A,11Bの形状は、底部
を有する容器型であり、水平断面形状は真円形、楕円
形、長円形、正方形、長方形、その他のいかなる形状で
あってもよく、垂直断面形状も正方形、長方形、台形、
その他のいかなる形状であってもよい。なお、高周波誘
導加熱コイル12A,12Bは、耐火物ルツボ11A,11Bの
側面に対応する形状とするのが好ましい。
The refractory crucibles 11A and 11B containing the magnetic materials 10A and 10B, which are the components of the evaporation vessels 16A and 16B.
Is, for example, MgO, ZrO 2 , Al 2 O 3 , CaO, Y
2 O 3 , ThO 2 , BN, BeOCaO stabilized Zr
It is appropriately selected from ceramics such as O 2 and Y 2 O 3 stabilized ZrO 2 , carbon or carbon compounds, and other heat-resistant materials. The shape of the refractory crucibles 11A and 11B is a container type having a bottom, and the horizontal cross-sectional shape may be a true circle, an ellipse, an oval, a square, a rectangle, or any other shape. Also square, rectangle, trapezoid,
Any other shape may be used. Preferably, the high-frequency induction heating coils 12A and 12B have shapes corresponding to the side surfaces of the refractory crucibles 11A and 11B.

【0043】さらに、蒸着室22には冷却エンドレスベル
ト4と、磁性材料10A,10Bを備えた第1および第2の
蒸発容器16A,16Bとの間であって、磁性材料10A,10
Bが蒸発して生じる蒸気流が通過する経路を、その周壁
が囲うように蒸気の拡散を防止する手段としての第1お
よび第2の蒸気拡散制御手段15A,15Bがそれぞれ設け
られ、また冷却エンドレスベルト4の近傍であってマス
ク13A,13B,13Cの近傍には酸性化ガスまたは酸化性
ガスと不活性ガスとの混合ガスをベースフイルム3に向
けて吹き付けるためのガス吹付部17A,17Bが設けられ
ている。
Further, the evaporation chamber 22 is provided between the cooling endless belt 4 and the first and second evaporation vessels 16A and 16B provided with the magnetic materials 10A and 10B, and the magnetic materials 10A and 10B.
First and second steam diffusion control means 15A and 15B as means for preventing the diffusion of steam are provided so as to surround a path through which a steam flow generated by evaporation of B passes, and a cooling endless means. In the vicinity of the belt 4 and in the vicinity of the masks 13A, 13B, 13C, there are provided gas blowing portions 17A, 17B for blowing an acidified gas or a mixed gas of an oxidizing gas and an inert gas toward the base film 3. Have been.

【0044】ガス吹付部17A,17Bは、ベースフイルム
3の搬送方向に関して下流側に位置し、第1および第2
の蒸発容器16A,16Bの最小入射角(θmin1,θmin2)
をそれぞれ規制するマスク13B,13Cの近傍で、マスク
13B,13Cの冷却エンドレスベルト4側の面内に内蔵さ
れている。なお、吹付ガスとしてはO2 ガスを用いる。
ガス吹付スリットの吹付方向は最小入射角(θmin )を
定めている冷却エンドレスベルト4の基準点における冷
却エンドレスベルト4上の搬送方向にほぼ平行な向きで
ある。ガス吹付部17A,17BからのO2 ガス吹き付けに
より後述の蒸気拡散制御手段15A,15Bの開口部を通過
してきた蒸発粒子の飛散方向に対して、略斜め方向にO
2 ガスが吹き付けられ蒸発金属粒子の一部を酸化する。
The gas blowing sections 17A and 17B are located downstream with respect to the direction of transport of the base film 3, and include first and second gas blowing sections.
Incident angles (θmin1, θmin2) of the evaporation vessels 16A and 16B
Near the masks 13B and 13C for regulating the
13B and 13C are built in the cooling endless belt 4 side surface. Note that O 2 gas is used as the blowing gas.
The blowing direction of the gas blowing slit is substantially parallel to the conveying direction on the cooling endless belt 4 at the reference point of the cooling endless belt 4 which defines the minimum incident angle (θmin). Gas blowing unit 17A, O 2 gas blown by later-described vapor diffusion control means 15A from 17B, with respect to the scattering direction of the evaporation particles that has passed through the opening of 15B, O in substantially diagonal direction
Two gases are blown to oxidize some of the evaporated metal particles.

【0045】蒸気拡散制御手段15A,15Bの内周壁面
は、例えばMgO、ZrO2 、Al23 、CaO、Y
2 3 、ThO2 、BN、BeOCaO安定化Zr
2 、Y23 安定化ZrO2 等のセラミックスや炭素
または炭素化合物や他の耐熱性のある材料により形成さ
れ、耐火物ルツボ11A,11Bと略連続した状態で略垂直
方向に延びる規制面で囲まれる蒸気流路を構成するよう
に配置されており、下面および上面は磁性材料10A,10
Bの蒸発粒子の通過を許容するとともにその指向性を向
上させるように開口し、周壁のみを有する筒型形状であ
り、水平断面形状は円形、楕円形、長円形、正方形、長
方形、その他のいかなる形状であってもよい。垂直断面
形状も正方形、長方形、台形、その他のいかなる形状で
あってもよい。
The inner peripheral wall surfaces of the vapor diffusion control means 15A, 15B are made of, for example, MgO, ZrO 2 , Al 2 O 3 , CaO, Y
2 O 3 , ThO 2 , BN, BeOCaO stabilized Zr
A regulating surface formed of ceramics such as O 2 , Y 2 O 3 stabilized ZrO 2 , carbon or a carbon compound, or another heat-resistant material, and extending in a substantially vertical direction substantially continuous with the refractory crucibles 11A, 11B. Are arranged so as to form a steam flow path surrounded by the magnetic material 10A, 10A.
A cylindrical shape having an opening to allow the passage of evaporated particles of B and improve its directivity and having only a peripheral wall, and having a horizontal cross-sectional shape of a circle, an ellipse, an oval, a square, a rectangle, and any other It may be shaped. The vertical cross-section may also be square, rectangular, trapezoidal, or any other shape.

【0046】さらに、蒸気拡散制御手段15A,15Bは例
えば、開口部中心から外側へ向かって同心円上に内壁部
および外周部の2層から構成されている。
Further, the vapor diffusion control means 15A and 15B are composed of, for example, two layers of an inner wall portion and an outer peripheral portion on a concentric circle from the center of the opening toward the outside.

【0047】[0047]

【実施例】本実施例においては、耐火物ルツボ11A,11
Bはカップ状(内径φ80mm、外径φ96mm、高さ100
mm、内部深さ90mm)とし、材質はY2 3 安定化Z
rO2 (ZrO2 ;88.0%〜95.0%、Y2 3 ;5.0 %
〜12.0%)を用いた。耐火物ルツボ11A,11Bの内部に
は蒸発用の強磁性材料10としてCo100 を用いた。
EXAMPLE In this example, refractory crucibles 11A, 11A were used.
B is cup-shaped (inner diameter φ80mm, outer diameter φ96mm, height 100
mm, internal depth 90 mm), and the material is Y 2 O 3 stabilized Z
rO 2 (ZrO 2 ; 88.0% to 95.0%, Y 2 O 3 ; 5.0%
112.0%). Co 100 was used as a ferromagnetic material 10 for evaporation inside the refractory crucibles 11A and 11B.

【0048】高周波誘導加熱コイル12A,12Bは、内部
に冷却水が循環する直径φ12mmのCuパイプからな
り、高周波誘導加熱コイル12A,12Bは8ターンで、内
径φ150 mm、高さh110 mmである。発振周波数100
kHz、出力60kWの高周波電源は真空槽2の外部に2
台設置し、高周波フィーダーと真空用フィードスルー
(図示せず)を通じて真空槽2の内部に配設された2つ
の高周波誘導加熱コイル12A,12Bに接続する。高周波
フィーダーはCu板製であり、また高周波誘導加熱コイ
ル12A,12Bの延長Cuパイプ部は、それぞれAl2
3 製の絶縁管で囲い、互いに電気的に絶縁されている。
The high-frequency induction heating coils 12A and 12B are made of a Cu pipe having a diameter of φ12 mm through which cooling water circulates. The high-frequency induction heating coils 12A and 12B have eight turns, an inner diameter of φ150 mm and a height h110 mm. Oscillation frequency 100
A high-frequency power supply with a frequency of 60 kHz and a power of 60 kW
It is installed on a table and connected to two high-frequency induction heating coils 12A and 12B disposed inside the vacuum chamber 2 through a high-frequency feeder and a vacuum feed-through (not shown). The high-frequency feeder is made of a Cu plate, and the extended Cu pipes of the high-frequency induction heating coils 12A and 12B are made of Al 2 O, respectively.
Surrounded by three insulating tubes and electrically insulated from each other.

【0049】蒸気拡散制御手段15A、15Bの内壁部は、
円筒状(内径φ80mm、外径φ96mm、高さh90mm)
のCaO安定化ZrO2 (ZrO2 ;90.0%〜98.0%、
CaO;2.0 %〜7.0 %、MgO、Al2 3 、SiO
2 、FeO3 、TiO2 の各成分は0.0 %〜2.0 %)を
用いた。
The inner walls of the vapor diffusion control means 15A, 15B
Cylindrical (inner diameter φ80mm, outer diameter φ96mm, height h90mm)
CaO-stabilized ZrO 2 (ZrO 2 ; 90.0% to 98.0%;
CaO; 2.0% ~7.0%, MgO , Al 2 O 3, SiO
2 , FeO 3 and TiO 2 were used in an amount of 0.0% to 2.0%).

【0050】外周部は、円筒状(内径φ96mm、外径φ
140 mm、高さh90mm)であり、内部には18℃の冷却
水を循環させ、本体が無酸素銅で形成された冷却構造体
を用いた。
The outer peripheral portion has a cylindrical shape (inner diameter φ 96 mm, outer diameter φ
140 mm, height h90 mm), and a cooling structure in which cooling water of 18 ° C. was circulated therein and whose main body was formed of oxygen-free copper was used.

【0051】次に本実施例の磁気記録媒体の製造装置の
作用について説明する。
Next, the operation of the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to this embodiment will be described.

【0052】まず、蒸着室22および巻取り室21内の空気
等のガスが、バキュームポンプ等の図示しない減圧手段
によりそれぞれ外部に排気され、蒸着室22および巻取り
室21の内部の状態は、例えば5.0 ×10-5〜4.0 ×10-4To
rrの減圧状態とされる。なお、本実施例においては5.0
×10-5Torrとした。蒸着室22および巻取り室21の内部を
このように減圧状態にした後、高周波電源を用いて高周
波誘導加熱コイル12A,12Bに電力を供給し、これによ
り高周波誘導加熱コイル12A,12Bは発熱して蒸発容器
16A,16Bの磁性材料10A,10Bを加熱、蒸発させた。
First, gas such as air in the vapor deposition chamber 22 and the winding chamber 21 is exhausted to the outside by a decompression means (not shown) such as a vacuum pump. For example, 5.0 × 10 -5 to 4.0 × 10 -4 To
The pressure is reduced to rr. In this example, 5.0
× 10 -5 Torr. After the insides of the vapor deposition chamber 22 and the winding chamber 21 are depressurized as described above, electric power is supplied to the high-frequency induction heating coils 12A and 12B using a high-frequency power source, whereby the high-frequency induction heating coils 12A and 12B generate heat. Evaporating vessel
The magnetic materials 10A and 10B of 16A and 16B were heated and evaporated.

【0053】磁性材料10A,10Bが完全に溶解し、蒸発
レートが一定になった後、送り出し軸5によりベースフ
イルム3を60m/分の搬送速度、張力3.0kgf/100 mm
の条件で送り出し、前処理室(図示せず)において、ベ
ースフイルム3の磁性薄膜を形成する側をO2 ガスを用
いたグロー放電処理を施した後、冷却エンドレスベルト
4上を搬送させる。そして、シャッター装置を駆動して
「開」の状態とする。この時の高周波誘導加熱電源の出
力は例えば24KWである。同時にガス吹付部17A,17B
から吹付量340 cc/分・幅でO2 ガスを吹き付けつつ
ベースフイルム3上に第1の蒸発容器16Aから発せられ
る蒸気流により第1層目のCo−O磁性薄膜(厚み700
オングストローム)を形成するとともに、第2の蒸発容
器16Bから発せられる蒸気流により第2層目のCo−O
磁性薄膜(厚み700 オングストローム)を形成し、2層
構成の磁性薄膜(総厚み1400オングストローム)を形成
し、巻き取り軸6に巻き取る。連続して長さ3000mの金
属磁性薄膜を形成した後、シャッター装置を「閉」の状
態にし、同時にガス吹付部17からのO2 ガスの吹付けと
高周波電源からの電力供給を停止し成膜を終了した。
After the magnetic materials 10A and 10B have completely dissolved and the evaporation rate has become constant, the base film 3 is transported by the delivery shaft 5 at a conveying speed of 60 m / min and a tension of 3.0 kgf / 100 mm.
After the glow discharge treatment using O 2 gas is performed on the side of the base film 3 on which the magnetic thin film is formed in a pretreatment chamber (not shown), the base film 3 is conveyed on the cooling endless belt 4. Then, the shutter device is driven to an "open" state. At this time, the output of the high-frequency induction heating power supply is, for example, 24 KW. At the same time gas spraying part 17A, 17B
Spray amount 340 cc / on the base film 3 while blowing O 2 gas at a partial-width by the first vapor stream emanating from the evaporation vessel 16A of the first layer Co-O magnetic thin film (thickness 700 from
Angstroms), and a second layer of Co-O is formed by the steam flow emitted from the second evaporation vessel 16B.
A magnetic thin film (700 angstrom thick) is formed, a two-layer magnetic thin film (1400 angstrom total thickness) is formed, and is wound around the winding shaft 6. After continuously forming a metal magnetic thin film with a length of 3000 m, the shutter device is set to the "closed" state, and at the same time, O 2 gas is blown from the gas blowing unit 17 and power supply from the high frequency power supply is stopped to form a film. Finished.

【0054】ベースフイルム3上に磁性薄膜を蒸着した
後、熱処理によって磁性層のカールを修正した後、磁性
薄膜表面にはリン酸モノエステル化合物としてC1225
OPO3 2 のメチルエチルケトン溶液を磁性層上での
塗布量が20μmol /m2 となるように塗布し、乾燥させ
た。続いてカーボンブラックと樹脂結合剤からなる樹脂
組成物を磁性層を形成した面とは反対の面に塗布し、乾
燥しバックコート層を形成した後、このバックコート層
上に脂肪酸エステル化合物として、C8 17COOC18
37をエタノールに溶解した溶液を20μmol /m2 とな
るように塗布し、乾燥して巻き取った。以上の処理を高
周波誘導加熱コイル12および電子銃30の出力を種々変化
させて行って磁性薄膜の形成された原反を得た。
After depositing a magnetic thin film on the base film 3 and correcting the curl of the magnetic layer by a heat treatment, the surface of the magnetic thin film is formed as a phosphoric acid monoester compound as C 12 H 25.
A solution of OPO 3 H 2 in methyl ethyl ketone was applied so that the coating amount on the magnetic layer was 20 μmol / m 2, and dried. Subsequently, a resin composition comprising carbon black and a resin binder is applied to the surface opposite to the surface on which the magnetic layer has been formed, and dried to form a backcoat layer.As a fatty acid ester compound on this backcoat layer, C 8 F 17 COOC 18
Applying a solution of H 37 in ethanol so that the 20 [mu] mol / m 2, was wound up dry. The above processing was carried out by varying the outputs of the high-frequency induction heating coil 12 and the electron gun 30 to obtain a raw material on which a magnetic thin film was formed.

【0055】このように、蒸発容器16A,16Bを2つ配
し、高周波誘導加熱により蒸発容器16A,16B内の磁性
材料を加熱することにより、磁気記録媒体をた層構成と
する場合に、前述した図5に示す電子ビームにより蒸発
容器を加熱するものと比較して、蒸発容器とベースフイ
ルム3との間隔を小さくすることができ、これにより電
子ビームにより磁気記録媒体を多層構成とする装置と比
較して、装置を小型にすることができるとともに、装置
のコストを低減させることができた。
As described above, when two evaporation containers 16A and 16B are arranged and the magnetic material in the evaporation containers 16A and 16B is heated by high-frequency induction heating to form a layered structure of the magnetic recording medium, The distance between the evaporation container and the base film 3 can be reduced as compared with the case where the evaporation container is heated by the electron beam shown in FIG. In comparison, the size of the device can be reduced, and the cost of the device can be reduced.

【0056】また、第1および第2の蒸発容器16A,16
Bとベースフイルム3との間に蒸気拡散制御手段15A,
15Bを設けることにより、第1および第2の蒸発容器か
ら蒸発した磁性材料の粒子が広く拡散することがなくな
るため、複数の蒸発容器を用いて磁性材料を多層膜構成
とする場合であっても、磁性材料の蒸発粒子を効率良く
基材上に付着させて蒸着効率を向上させることができ
る。
The first and second evaporation vessels 16A, 16A
B between the base film 3 and the vapor diffusion control means 15A,
By providing the 15B, the particles of the magnetic material evaporated from the first and second evaporation containers are prevented from being widely diffused. Therefore, even when the magnetic material is formed into a multilayer film using a plurality of evaporation containers. In addition, the evaporation particles of the magnetic material can be efficiently attached to the base material to improve the evaporation efficiency.

【0057】また、エンドレスベルトのように磁性材料
が蒸着される経路が直線状となる搬送手段を用いること
により、ベースフイルムを搬送する手段の構成を簡易な
ものとすることができ、複数の蒸発容器をこの直線に沿
って配すればよいため、複数の蒸発容器をより簡易かつ
コンパクトに配することができ、装置の構成をより小型
とすることができる。
Further, by using a transporting means such as an endless belt in which the path on which the magnetic material is deposited is linear, the structure of the means for transporting the base film can be simplified, and a plurality of evaporations can be performed. Since the containers may be arranged along this straight line, a plurality of evaporation containers can be arranged more simply and compactly, and the configuration of the apparatus can be made smaller.

【0058】さらに、図1に示すように冷却エンドレス
ベルト4の直線部分が蒸発容器16A,16Bの蒸発面に対
して傾斜させ、その角度を、好ましくは蒸気流のベース
フイルム3への入射角と飛散する蒸気流の指向性が最大
値となる方向とを一致させるようにすることにより、蒸
気流がベースフイルム3に付着する面が大きくなるた
め、磁性材料のベースフイルム3への蒸着効率をより向
上させることができる。
Further, as shown in FIG. 1, the linear portion of the cooling endless belt 4 is inclined with respect to the evaporating surfaces of the evaporating vessels 16A and 16B, and its angle is preferably set to the angle of incidence of the vapor flow on the base film 3. By matching the direction in which the directivity of the scattered vapor flow becomes the maximum value, the surface on which the vapor flow adheres to the base film 3 becomes large, so that the efficiency of vapor deposition of the magnetic material on the base film 3 is improved. Can be improved.

【0059】なお、上述した実施例においては、エンド
レスベルト4を用いてベースフイルム3を搬送するよう
にしているが、これに限定されるものではなく、例えば
図2に示すように、円筒状の冷却キャン4′によりベー
スフイルム3を搬送するようにし、この冷却キャン4′
の円筒面の下方に第1および第2の蒸発容器16A,16B
を設けるようにしてもよいものである。この場合、冷却
キャン4′が矢印Y方向に回転することにより冷却キャ
ン4′の円筒面上をベースフイルム3が搬送される。冷
却キャン4′は、例えば直径600 mm、幅220 mmの円
筒状ドラムであり、表面はハードクロムメッキを施し0.
3 S以下に鏡面研磨され、内部に冷却水、その他の冷媒
(エチレングリコール)を循環させた構造であり上述し
た本発明の冷却エンドレスベルト4を用いた実施例と同
様に表面温度は例えば−35〜+25℃(本実施例において
は−28℃)に維持されている。
In the above-described embodiment, the base film 3 is transported by using the endless belt 4. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. The base film 3 is transported by the cooling can 4 '.
The first and second evaporation vessels 16A and 16B are provided below the cylindrical surface of
May be provided. In this case, the base film 3 is transported on the cylindrical surface of the cooling can 4 'by rotating the cooling can 4' in the direction of arrow Y. The cooling can 4 ′ is, for example, a cylindrical drum having a diameter of 600 mm and a width of 220 mm, the surface of which is subjected to hard chrome plating.
It has a structure in which cooling water and other refrigerants (ethylene glycol) are circulated inside, and the surface temperature is, for example, −35 as in the above-described embodiment using the cooling endless belt 4 of the present invention. The temperature is maintained at + 25 ° C (-28 ° C in this example).

【0060】さらに、このように冷却キャン4′を用い
た場合には、冷却キャン4′の表面には上述した本発明
による第1実施例と同様に冷却キャン4′から一定の距
離(この距離は2〜15mm、より好ましくは2〜10mm、最
も好ましくは3〜5mmである)離間し、内部に18℃の冷
却水を循環させ、本体がSUS304 により形成されたマ
スク13A,13B,13Cが配設される。そして、ベースフ
イルム3の搬送方向に関して上流側に位置するマスク13
Aにより第1の蒸発容器16Aの最大入射角が、下流側に
位置するマスク13Bにより第1の蒸発容器16Aの最小入
射角がそれぞれ規定されており、ベースフイルム3の搬
送方向に関して上流側に位置するマスク13Bにより第2
の蒸発容器16Bの最大入射角が、下流側に位置するマス
ク13Bにより第2の蒸発容器16B最小入射角がそれぞれ
規定されている。入射角は後述する耐火物ルツボ11A,
11B内の溶融面の円中心を基準とし、この円中心からマ
スク13Aおよびマスク13Bのエッジに至る線分と冷却キ
ャン4′上のそれぞれのマスクエッジ位置での法線との
なす角度で定義される。
Further, when the cooling can 4 'is used as described above, the surface of the cooling can 4' is fixed at a predetermined distance from the cooling can 4 '(this distance) as in the above-described first embodiment of the present invention. Are separated by 2 to 15 mm, more preferably 2 to 10 mm, and most preferably 3 to 5 mm). Cooling water of 18 ° C. is circulated inside, and masks 13A, 13B and 13C whose main body is formed of SUS304 are arranged. Is established. The mask 13 located on the upstream side with respect to the transport direction of the base film 3
The maximum incident angle of the first evaporation container 16A is defined by A, and the minimum incidence angle of the first evaporation container 16A is defined by the mask 13B located on the downstream side, and is located upstream with respect to the transport direction of the base film 3. The second mask 13B
The maximum incident angle of the evaporation container 16B is defined by the mask 13B located on the downstream side, and the minimum incident angle of the second evaporation container 16B is defined by the mask 13B. The angle of incidence is as follows:
With reference to the center of the circle of the melted surface in 11B, the angle is defined by the angle between the line segment from the center of the circle to the edges of the masks 13A and 13B and the normal line at the position of each mask edge on the cooling can 4 '. You.

【0061】このように、円筒状の冷却キャン4′を用
いて、この円筒面に沿って2つの蒸発容器16A,16Bを
用いて2層構成の磁性層を形成することにより、上述し
た本発明の第1実施例と同様に、磁気記録媒体をた層構
成とする場合に、前述した図5に示す電子ビームにより
蒸発容器を加熱するものと比較して、蒸発容器とベース
フイルムとの間隔を小さくすることができ、これにより
電子ビームにより磁気記録媒体を多層構成とする装置と
比較して、装置を小型にすることができるとともに、装
置のコストを低減させることができる。
As described above, by using the cylindrical cooling can 4 'and forming the two-layered magnetic layer along the cylindrical surface by using the two evaporation vessels 16A and 16B, the above-described present invention is achieved. Similarly to the first embodiment, when the magnetic recording medium has a layered structure, the distance between the evaporation container and the base film is set to be smaller than that in the case where the evaporation container is heated by the electron beam shown in FIG. As a result, the size of the device can be reduced, and the cost of the device can be reduced as compared with a device in which the magnetic recording medium has a multilayer structure using an electron beam.

【0062】さらに、図3に示す本発明の第3実施例の
ように、本発明の第1実施例と同様の冷却エンドレスベ
ルト4を用いてベースフイルム3を搬送するが、エンド
レスベルト4の直線状の部分を蒸発容器16A,16B内の
磁性材料10A,10Bの蒸発面と同様に水平になるように
配し、第1および第2の蒸気拡散制御手段15A,15Bか
ら放出される蒸気流の指向性が最大値となる方向とこの
蒸気流のベースフイルム3への入射角とを一致させるよ
うにしてもよいものである。この場合、蒸気拡散制御手
段15A,15Bを垂直線に対して所定角度(蒸気流の指向
性が最大値となるような角度)傾斜させて配すればよ
い。
Further, as in the third embodiment of the present invention shown in FIG. 3, the base film 3 is conveyed by using the same cooling endless belt 4 as in the first embodiment of the present invention. Is disposed so as to be horizontal in the same manner as the evaporation surfaces of the magnetic materials 10A and 10B in the evaporation containers 16A and 16B, and the flow of the steam discharged from the first and second steam diffusion control means 15A and 15B. The direction in which the directivity has the maximum value may be made to coincide with the incident angle of this vapor flow on the base film 3. In this case, the steam diffusion control means 15A and 15B may be arranged at a predetermined angle (an angle at which the directivity of the steam flow becomes the maximum value) with respect to the vertical line.

【0063】また、上述した図5に示した冷却キャンを
2つ用いる従来例において、蒸発容器を加熱するため
に、図4に示すように高周波誘導加熱を用いてもよく、
さらには、蒸気拡散制御手段15A,15Bの上方に、蒸発
容器16A,16Bから蒸発する蒸気流の内、ベースフイル
ム3に蒸着される以外の蒸気流、すなわち、磁性材料10
A,10Bの蒸着に用いられることなく消えてしまう蒸気
流に接触し、この接触した蒸気流を再度蒸発させるか、
または蒸発容器16A,16Bに再度回収させるような補助
加熱手段30A,30Bを設けるようにしてもよいものであ
る。この補助加熱手段30A,30Bは、蒸気拡散制御手段
15A,15Bと同一の材料により複数層となるように形成
されることが好ましく、また、補助加熱手段30A,30B
が加熱し過ぎないように冷却手段を備えるような構成と
してもよいものである。
In the conventional example using two cooling cans shown in FIG. 5 described above, high-frequency induction heating may be used as shown in FIG.
Further, above the vapor diffusion control means 15A, 15B, of the vapor flows evaporating from the evaporation containers 16A, 16B, the vapor flows other than those vapor-deposited on the base film 3, that is, the magnetic material 10
A and 10B are contacted with a vapor stream which is not used for vapor deposition and disappears.
Alternatively, auxiliary heating means 30A, 30B may be provided so as to be recovered again in the evaporation containers 16A, 16B. These auxiliary heating means 30A and 30B are steam diffusion control means.
It is preferable that a plurality of layers are formed of the same material as 15A and 15B.
May be provided with a cooling means so as not to overheat.

【0064】このように補助加熱手段30A,30Bを設け
ることにより、ベースフイルム3に蒸着されないで無駄
となってしまう蒸気流を再度蒸発させ、あるいは蒸発容
器16A,16Bに戻すことができるため、蒸気流を無駄に
する量を低減させて、磁性材料の利用効率を向上させる
ことができる。
By providing the auxiliary heating means 30A, 30B in this manner, a steam flow that is not deposited on the base film 3 and wasted can be evaporated again or returned to the evaporation containers 16A, 16B. The amount of waste of the flow can be reduced, and the utilization efficiency of the magnetic material can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による磁気記録媒体の製造装置の一実施
形態を表す図
FIG. 1 is a diagram illustrating an embodiment of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention.

【図2】本発明による磁気記録媒体の製造装置の他の実
施形態を表す図
FIG. 2 is a diagram showing another embodiment of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention.

【図3】本発明による磁気記録媒体の製造装置の他の実
施形態を表す図
FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention.

【図4】本発明による磁気記録媒体の製造装置の他の実
施形態を表す図
FIG. 4 is a diagram showing another embodiment of the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention.

【図5】従来の磁気記録媒体の製造装置の一例を表す図FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a conventional magnetic recording medium manufacturing apparatus.

【図6】従来の磁気記録媒体の製造装置の一例を表す図FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a conventional magnetic recording medium manufacturing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 真空蒸着装置 2 真空槽 3 ベースフイルム 4 冷却エンドレスベルト 4′4A,4B 冷却キャン 5 送出し軸 6 巻取り軸 7,8 駆動軸 9 冷却手段 10A,10B 磁性材料 11A,11B 耐火物ルツボ 12A,12B 高周波誘導加熱コイル 13A,13B,13C,13D マスク 15A,15B 蒸気拡散制御手段 17,17A,17B ガス吹付部 18,18A,18B マスク開口部 20 仕切り板 21 巻取り室 22 蒸着室 30A,30B 補助加熱手段 40A,40B 電子銃 41A,41B 電子ビーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum vapor deposition apparatus 2 Vacuum tank 3 Base film 4 Cooling endless belt 4'4A, 4B Cooling can 5 Delivery shaft 6 Winding shaft 7, 8 Drive shaft 9 Cooling means 10A, 10B Magnetic material 11A, 11B Refractory crucible 12A, 12B High-frequency induction heating coil 13A, 13B, 13C, 13D Mask 15A, 15B Vapor diffusion control means 17, 17A, 17B Gas blowing unit 18, 18A, 18B Mask opening 20 Partition plate 21 Winding room 22 Evaporation room 30A, 30B Auxiliary Heating means 40A, 40B Electron gun 41A, 41B Electron beam

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空雰囲気中で、長尺の可撓性基板を搬
送する搬送手段と、前記基板が搬送される下方に配設さ
れた磁性材料からなる蒸発源と、該蒸発源を加熱蒸発さ
せる蒸発手段と、前記蒸発手段と前記可撓性基板との間
に配置され、前記蒸発手段により加熱蒸発した蒸気流の
拡散方向を規制制御する筒状の蒸気流拡散制御手段と、
前記蒸気流の、前記可撓性基板への入射角度を規制する
入射角規制手段とを有する、前記可撓性基板上に磁性薄
膜を形成せしめる磁気記録媒体の製造装置において、 前記蒸発源を前記長尺の可撓性基板の搬送方向に沿って
少なくとも2個設けるとともに、前記蒸発手段を誘導加
熱手段としたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装
置。
1. A transport means for transporting a long flexible substrate in a vacuum atmosphere, an evaporation source made of a magnetic material disposed below which the substrate is transported, and heating and evaporating the evaporation source. Evaporating means, and a cylindrical vapor flow diffusion control means disposed between the evaporating means and the flexible substrate, for regulating and controlling the diffusion direction of the vapor flow heated and evaporated by the evaporating means,
An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium for forming a magnetic thin film on the flexible substrate, the apparatus comprising: an incident angle regulating unit that regulates an incident angle of the vapor flow to the flexible substrate; An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, wherein at least two elongate flexible substrates are provided along the transport direction of the long flexible substrate, and the evaporating means is induction heating means.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008050698A (en) * 2006-07-28 2008-03-06 Netsusan Heat Kk Alloy production method and alloy production device
WO2009104382A1 (en) * 2008-02-20 2009-08-27 パナソニック株式会社 Thin film forming apparatus and thin film forming method
JP2012041604A (en) * 2010-08-19 2012-03-01 Mitsubishi Shindoh Co Ltd Vacuum deposition device
JP5339722B2 (en) * 2005-03-18 2013-11-13 株式会社アルバック Film forming method, film forming apparatus, permanent magnet, and manufacturing method of permanent magnet

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