JPS58222439A - Magnetic recording medium and its manufacture - Google Patents

Magnetic recording medium and its manufacture

Info

Publication number
JPS58222439A
JPS58222439A JP57105508A JP10550882A JPS58222439A JP S58222439 A JPS58222439 A JP S58222439A JP 57105508 A JP57105508 A JP 57105508A JP 10550882 A JP10550882 A JP 10550882A JP S58222439 A JPS58222439 A JP S58222439A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magnetic
thin film
glow discharge
silicon compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57105508A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Arai
芳博 荒井
Akira Nahara
明 名原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP57105508A priority Critical patent/JPS58222439A/en
Publication of JPS58222439A publication Critical patent/JPS58222439A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/72Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
    • G11B5/725Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds

Abstract

PURPOSE:To improve the durability, running properties and weathering resistance of a magnetic recording medium, by laminating a protecting and lubricating layer consisting of a silicon compound, an org. high polymer compound, higher fatty acid and fatty ester on a magnetic metallic thin film layer having a metallic oxide layer. CONSTITUTION:The surface of a base body W delivered from a roller 32 is cleaned in a pre-treating chamber of glow discharge 3 and is activated and the sticking force to a magnetic metallic thin film layer on the next stage is improved. A steam stream V is introduced to evaporate magnetic metal from a magnetic body evaporating source 18 in a vapor depositing chamber 4 of a magnetic metallic thin film and the base body W forms a magnetic metallic thin film A. The magnetic metallic thin film is exposed to oxygen plasma in an oxidation treating chamber 5 and its surface is oxidized to form a metallic oxide layer B. The metallic oxide layer is exposed to glow discharge plasma in a silicic ester glow discharge treating chamber 6 and a silicon compound layer C is formed on its surface. At least, a protecting and lubricating layer D consisting of an org. high polymer compound, higher fatty cid and fatty ester is laminated in a vapor depositing chamber 7 of the protecting and lubricating layer.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はペーパーデポジション法による磁性金属薄膜を
磁気記録層として備えてなる磁気記録媒体に関するもの
で、特に耐久性、走行特性、耐候性にすぐれた磁気記録
媒体及びその製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic recording medium comprising a magnetic metal thin film formed by a paper deposition method as a magnetic recording layer. Regarding manufacturing methods.

従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にr−
Fe20a、GOをドープしたr−Fe208、Fe5
0.、GoをドープしたFe3O4、r−Fe203と
Fe3O4のはルトライド化合物、Oro 2等の磁性
粉末あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性拐料を塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェン共重
合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機ノミイ
ングー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型
のものが広く使用されてきている。近年高密度記録への
要求の高まりと共に真空蒸着、スパッタリング、イオン
ブレーティング等のは−パーデポジション法あるいは電
気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される
強磁性金属薄膜を砲気記録層とする、ノζイングーを使
用しない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が注目
を浴びており実用化への努力が種々性なわれている。
Conventionally, as a magnetic recording medium, r-
Fe20a, GO doped r-Fe208, Fe5
0. , Fe3O4 doped with Go, lutoride compounds of r-Fe203 and Fe3O4, magnetic powders such as Oro 2, or powder magnetic materials such as ferromagnetic alloy powders, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer Coating-type products have been widely used, in which a material dispersed in an organic resin, such as epoxy resin, polyurethane resin, etc., is applied and dried. In recent years, as the demand for high-density recording has increased, ferromagnetic metal thin films formed by vacuum deposition, sputtering, ion blating, etc., or plating methods such as electroplating and electroless plating are used as recording layers. So-called binder-free magnetic recording media that do not use ζ-ing are attracting attention, and various efforts are being made to put them into practical use.

従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防+)−のための太きt
【附帯設備を要するという欠点を有している。非バイン
ダー型の磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁
化を有する強磁性金属を・バインダーの如き非磁性物質
を含有しない状態で薄膜として形成せしめるため、高密
度記録化のために超薄形にできるという利点を有し、し
かもその製造工程は簡単である。
Conventional coating-type magnetic recording media mainly use metal oxides, which have lower saturation magnetization than ferromagnetic metals, as magnetic materials, so the thinning required for high-density recording leads to a reduction in signal output, which has reached its limit. In addition, the manufacturing process is complicated, and thick t-shirts are used for solvent recovery or pollution prevention.
[It has the disadvantage of requiring additional equipment. In non-binder type magnetic recording media, ferromagnetic metals with higher saturation magnetization than the above-mentioned oxides are formed as thin films without containing non-magnetic substances such as binders. Moreover, the manufacturing process is simple.

111: 高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
1〜て、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提
唱されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい
薄型化が容易で、飽和磁束密度も大きい非、2インダ一
型磁気記録媒体への期待は太きい。
111: High coercive force and thinness have been proposed both theoretically and experimentally as one of the requirements for magnetic recording media for high-density recording, and coating-type magnetic recording media. There are great expectations for non-2-in-1 type magnetic recording media, which can be easily made thinner by an order of magnitude and have a higher saturation magnetic flux density.

特にベーノξ−デポジシコン法による方法はメッキの場
合のよう1よ排液処理を心安とせず製造工程も簡単で膜
の付着速度も大きくできるため非常にメリットが太きい
In particular, the method using the Beno ξ-depositor method has great advantages because unlike plating, there is no need to worry about wastewater treatment, the manufacturing process is simple, and the film deposition rate can be increased.

さらに強磁性金属薄膜から成る磁気記録媒体にかかわる
大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消
去の過程において磁気ヘッドと高速相対運動のもとにお
かれるが、その際走行がスムーズにしかも安定に行なわ
れねばならぬし、同時にヘッドとの接触による摩耗もし
くは破壊が起つ【は1.cらない。又磁気記録媒体の保
存中に錆等による 経時変化によって記録された信号の
減少あるいは消失があってはならないことも要′:1.
.。
Furthermore, major problems concerning magnetic recording media made of ferromagnetic metal thin films include strength against corrosion and abrasion, and running stability. During the process of recording, reproducing, and erasing magnetic signals, the magnetic recording medium is subjected to high-speed relative motion with the magnetic head, but at this time, the movement must be smooth and stable, and at the same time, contact with the head must be maintained. Wear or destruction occurs due to [1. There is no c. It is also important that during storage of magnetic recording media, there should be no reduction or disappearance of recorded signals due to changes over time due to rust, etc.':1.
.. .

求される。耐久性、耐候性を向上させる方法として保護
層を設けることが検削されてはいるが、へ′ラドと磁性
層間のスは−シング損失のために保護層の厚みを大きく
できないという制約もあるため磁性膜そのものにも耐久
性、耐候性を備えさせることが必要である。
required. Providing a protective layer has been investigated as a way to improve durability and weather resistance, but there is a restriction that the thickness of the protective layer cannot be increased due to the loss of space between the magnetic layer and the magnetic layer. Therefore, it is necessary that the magnetic film itself has durability and weather resistance.

前記保護層は、例えば、ロジウム、り四ムのような硬質
金属、あるいはNo、 TiO□、CaF2  のよう
な硬質無機物、あるいは潤滑剤、高分子剤から成ってい
た。
The protective layer was made of, for example, a hard metal such as rhodium or lithium, or a hard inorganic material such as No, TiO□, or CaF2, or a lubricant or a polymeric agent.

しかしながら、これらの保護層を設けただけでは走行特
性、耐久性ともに充分満足のいく磁気記録媒体が得られ
なかった。その主な原因は前記硬質金属または硬質無機
物の剥離した小片が記録媒体へのスリキズ発生をもたら
すことにあり、また、高分子または潤滑剤の保護層であ
っても、金属磁性薄膜と保護層との界面の結合が弱く、
経時により走行特性、耐摩耗特性の著しい劣化がみられ
たためであった。また、特開昭50−13806号公報
において、窒素中直流グロー放電によって磁性層表面付
近を窒化せしめる方法が開示されているが、磁性層表面
を窒化しただけでは走行特性は改善されないとともに、
表面窒化層によって保護効果を生じせしめる為には、1
0分〜2時間もの長時間のグロー放電処理を施して、窒
化金属層を充分形成する必要があった。
However, by simply providing these protective layers, a magnetic recording medium with sufficiently satisfactory running characteristics and durability cannot be obtained. The main reason for this is that small pieces of the hard metal or hard inorganic material that have peeled off cause scratches on the recording medium.Also, even if the protective layer is made of polymer or lubricant, the metal magnetic thin film and the protective layer The bond at the interface is weak,
This was because the running characteristics and wear resistance characteristics deteriorated significantly over time. Furthermore, JP-A-50-13806 discloses a method of nitriding the vicinity of the surface of the magnetic layer by DC glow discharge in nitrogen; however, simply nitriding the surface of the magnetic layer does not improve the running characteristics.
In order to produce a protective effect by the surface nitrided layer, 1.
It was necessary to perform glow discharge treatment for as long as 0 minutes to 2 hours to sufficiently form the metal nitride layer.

また、磁性層の酸化処理により保護酸化層を形成する方
法としては強磁性金属薄膜を適当な温度、湿度のもとに
置いて、その表面を酸化させる方法(特公昭42−20
025号公報参照)、合金磁性薄膜を硝酸と接触せしめ
た後熱処理して表面に酸化層を形成させ、しかる後潤滑
剤をしみこませる方法(英国特許第1265175号明
細宵参照)、合金磁性薄膜表面を無機酸化剤及び有機キ
レート剤の水溶液で処理した後酸素雰囲気中熱処理にて
形成する方法が知られていた。これらの処理方法は薄層
均一な酸化層の作製が困難であるとともに水溶液等を用
いる為に金属薄膜形成後真空を破る必要があり、連続工
程が不可能であり、また、処理時間も長く、かつ複雑で
あった。
Another method for forming a protective oxide layer by oxidizing the magnetic layer is to place a ferromagnetic metal thin film under appropriate temperature and humidity and oxidize its surface (Japanese Patent Publication No. 42-20
025 publication), a method of bringing an alloy magnetic thin film into contact with nitric acid and then heat-treating it to form an oxide layer on the surface, and then impregnating a lubricant (see British Patent No. 1265175), alloy magnetic thin film surface There has been known a method in which the film is formed by treating with an aqueous solution of an inorganic oxidizing agent and an organic chelating agent, followed by heat treatment in an oxygen atmosphere. With these processing methods, it is difficult to create a thin and uniform oxide layer, and since aqueous solutions are used, it is necessary to break the vacuum after forming the metal thin film, making continuous processes impossible, and the processing time is long. And it was complicated.

本発明者等は、前述した従来技術の欠点を解消し、耐久
性、走行性、耐候性にすぐれた非バインダー型磁気記録
媒体を開発すべく、鋭意努力を重ねた結果、本発明に至
った。
The present inventors have made extensive efforts to overcome the drawbacks of the prior art described above and develop a non-binder type magnetic recording medium with excellent durability, runnability, and weather resistance, and as a result, have arrived at the present invention. .

即ち、本発明者等は、磁性金属薄膜層上に有機保護潤滑
層を形成し、保護潤滑効果を付与する方式において、有
機保護潤滑層を形成する前に、磁性金属薄膜層の表面を
酸素ガスを含む真空雰囲気下で生じせしめたグロー放電
プラズマに曝して。
That is, in a method in which an organic protective lubricant layer is formed on a magnetic metal thin film layer to provide a protective lubricant effect, the surface of the magnetic metal thin film layer is heated with oxygen gas before forming the organic protective lubricant layer. by exposure to a glow discharge plasma generated in a vacuum atmosphere containing

酸化物層を形成し、次いで珪酸エステルガスを含む真空
雰囲気下で生じせしめたグロー放電プラズマに曝して珪
素化合物層を形成することにより耐久性、走行性、耐候
性が著しく向上することを見出し、本発明に至った。
It has been discovered that durability, runnability, and weather resistance can be significantly improved by forming an oxide layer and then exposing it to glow discharge plasma generated in a vacuum atmosphere containing silicate ester gas to form a silicon compound layer. This led to the present invention.

本発明は、前述した従来技術の欠点を解消し耐久性、走
行性、耐候性にすぐれた非ノζイングー型磁気記碌媒体
及びその製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the prior art described above and provide a non-ingress type magnetic recording medium that is excellent in durability, runnability, and weather resistance, and a method for manufacturing the same.

本発明のかかる目的は、非磁性基体上に、表面に金属酸
化物層を有する磁性金属薄膜層と、珪素化合物層と、有
機高分子化合)、物、高級脂肪酸、脂・1:′・1 肪酸エステル又はこれらを組合せた係蹄潤滑層を夫々積
層して成ることを特徴とする磁気記録媒体及び非磁性基
体上にベーノξ−デポジション法により磁性金属薄膜層
を形成した後、前記磁性金属薄膜層の表面を酸素ガスを
含む真空雰囲気下で発生せしめたグロー放電プラズマに
曝すことにより該表面に金属酸化物層を形成し次いで前
記金属酸化物層の表面を珪酸エステルガスを含む真空雰
囲気下で発生せしめたグロー放電プラズマに曝すことに
より核表面に珪素化合物層を形成し1次いで真空雰囲気
下で前記珪素化合物層上に何機高分子化合物、高級脂肪
酸、脂肪酸エステル又はこれらを組合せた保−潤滑層を
形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法によ
って達成される。
The object of the present invention is to provide a magnetic metal thin film layer having a metal oxide layer on the surface, a silicon compound layer, an organic polymer compound, a substance, a higher fatty acid, a fat, 1:', 1, on a non-magnetic substrate. After forming a magnetic metal thin film layer on a non-magnetic substrate by laminating a snare lubricating layer made of a fatty acid ester or a combination of these, the magnetic A metal oxide layer is formed on the surface of the metal thin film layer by exposing it to glow discharge plasma generated in a vacuum atmosphere containing oxygen gas, and then the surface of the metal oxide layer is exposed to a vacuum atmosphere containing silicate ester gas. A silicon compound layer is formed on the surface of the nucleus by exposing it to glow discharge plasma generated under a vacuum atmosphere, and then some polymeric compound, higher fatty acid, fatty acid ester, or a combination thereof is deposited on the silicon compound layer in a vacuum atmosphere. - Achieved by a method for manufacturing a magnetic recording medium characterized by forming a lubricating layer.

以下、本発明を図面に例示した実施態様について説明す
る。
Hereinafter, embodiments of the present invention illustrated in the drawings will be described.

第1図においズ、本発明方法を実施するための磁気記特
媒体製造装置1は、基体送出室兼巻取室2、!ロー放電
前処理室3、磁性金属薄膜層蒸着に制限された基体通過
用のスリット10を介して、順次連通して成っている。
As shown in FIG. 1, a magnetic recording special medium manufacturing apparatus 1 for carrying out the method of the present invention includes a substrate delivery chamber/winding chamber 2,! The low discharge pretreatment chamber 3 is successively communicated with through a slit 10 for passage of a substrate limited to the deposition of a magnetic metal thin film layer.

なお、前記各室2〜7は、夫り独立した排気系8a〜8
fに導管9−〜9fを介し【連通し、夫々独自の真空度
(通常、10−’6 〜10  Torr)が維持可能になっている。
Note that each of the chambers 2 to 7 has an independent exhaust system 8a to 8.
They communicate with f through conduits 9- to 9f, and each can maintain its own degree of vacuum (usually 10-'6 to 10 Torr).

前記送出兼巻取室2内において、回転自在に軸支された
非磁性及び可撓性帯状基体Wから成るロール62近傍に
配設した引出しローラー11を駆動して、前記ロール6
2から前記基体Wを連続的に前記グロー放電前処理室6
内に繰り出すと、Arガス導入管12を通して供給され
たArガスが、交流高電圧(例えば、約1kV程度)を
印加された電極13によって、約10  Torr程度
の真空雰囲気下でグロー放電を生じ、前記基体Wの表面
をクリーニングし、活性化し、次工程における磁性金属
薄膜層との付着力の向上が図られる。
In the delivery and take-up chamber 2, a pull-out roller 11 disposed near a roll 62 made of a rotatably supported non-magnetic and flexible strip substrate W is driven to remove the roll 6.
2, the substrate W is continuously transferred to the glow discharge pretreatment chamber 6.
When the Ar gas is supplied through the Ar gas introduction pipe 12, a glow discharge is generated in a vacuum atmosphere of about 10 Torr by the electrode 13 to which an AC high voltage (for example, about 1 kV) is applied. The surface of the base body W is cleaned and activated to improve adhesion to the magnetic metal thin film layer in the next step.

前記グロー放電前処理室互を通過した前記基体Wは、前
記磁性金属薄膜蒸着室4内で複数個のガイドローラー1
4を介して、回転自在に軸支されたクーリングキャン1
5の下方外周面によりその走行方向が反転された後、前
記酸化処理室旦及び珪酸エステルグロー放電処理室4内
に送り込まれる。
The substrate W that has passed through the glow discharge pretreatment chamber is moved by a plurality of guide rollers 1 in the magnetic metal thin film deposition chamber 4.
Cooling can 1 rotatably supported via 4
After its running direction is reversed by the lower outer circumferential surface of 5, it is fed into the oxidation treatment chamber and the silicate ester glow discharge treatment chamber 4.

なお、前記磁性金属薄膜蒸着室迭は、可成り高真空度(
例えば、 10  Torr )に保たれた写囲気下で
、電子銃と電源から成る電子ビーム式加熱手段16によ
りハース17内の磁性体蒸発源18(例えば、Co材、
N1拐、F、材、等)を加熱、蒸発させ、前記クーリン
ダキャン15上の基体に対しその蒸気流Vを通常、約4
0°〜90°の入射角をもって蒸着を行い、磁性金属薄
膜(第2図のA)を形成するところである。
Note that the magnetic metal thin film deposition chamber has a fairly high degree of vacuum (
For example, under an atmosphere maintained at 10 Torr), the magnetic material evaporation source 18 (for example, Co material,
N1, F, material, etc.) is heated and evaporated, and the vapor flow V is usually about 4
Vapor deposition is performed at an incident angle of 0° to 90° to form a magnetic metal thin film (A in FIG. 2).

前記入射角は前記ハース17とマスク19の配設位置に
よって適宜設定される。なお、本実施態様は磁性金属薄
膜層の形成方法として、蒸着方式を示したが勿論スパッ
ター等の方式を用いてもよい。
The incident angle is appropriately set depending on the arrangement positions of the hearth 17 and the mask 19. In this embodiment, a vapor deposition method is shown as a method for forming the magnetic metal thin film layer, but of course a method such as sputtering may also be used.

前記酸化処理室互は、酸素導入管2oを通して酸素が約
7x10  Torrの真空度で20 ee/分程度供
給させる。なお酸素プラズマの発生は、直流電源22に
より、電極21に高電圧を印加することによりなされる
Oxygen is supplied to each of the oxidation processing chambers through the oxygen introduction pipe 2o at a vacuum level of about 7×10 Torr at a rate of about 20 ee/min. Note that the oxygen plasma is generated by applying a high voltage to the electrode 21 using the DC power supply 22.

磁性金属薄膜層で被覆された基体は、前記酸化処理室旦
を通過する間に、前記酸素プラズマに曝されることによ
り、磁性金属薄膜の表面が酸化され、金属酸化物層(第
6図B)が形成される。
The substrate coated with the magnetic metal thin film layer is exposed to the oxygen plasma while passing through the oxidation treatment chamber, so that the surface of the magnetic metal thin film is oxidized and the metal oxide layer (FIG. 6B) is exposed to the oxygen plasma. ) is formed.

前記酸化処理室を通過した磁性金属薄膜層及び金属酸化
物層で被覆された基体は、珪酸エステルグロー放電処理
室Aに送り込まれる。
The substrate coated with the magnetic metal thin film layer and the metal oxide layer that has passed through the oxidation treatment chamber is sent into the silicate ester glow discharge treatment chamber A.

前記珪酸エステルダロー放電処理室4は珪酸エステルガ
スを含む真空雰囲気下でグロー放電プラズマを発生させ
、前記磁性金属薄膜の表面に珪素化合物層を形成するた
めに設けられており、珪酸エステルガスな所望のガス分
圧又は流量となるようにガス導入管26を通じて導入す
る。なお、珪酸エステルガスの分圧が所望の蒸気圧より
低い場合には、該ガス導入管26及び珪酸エステルガス
溜め容器を適宜加熱する等の工夫をすればよい。
The silicate ester dark discharge treatment chamber 4 is provided to generate glow discharge plasma in a vacuum atmosphere containing silicate ester gas to form a silicon compound layer on the surface of the magnetic metal thin film. The gas is introduced through the gas introduction pipe 26 at a gas partial pressure or flow rate of . Note that if the partial pressure of the silicate ester gas is lower than the desired vapor pressure, measures such as heating the gas introduction pipe 26 and the silicate ester gas storage container may be taken as appropriate.

又、珪酸エステルガスの他<y応性ガスを混合す雫・ るために反応性ガス導入管27・が設けられている。In addition, in addition to silicate ester gas, drops and A reactive gas introduction pipe 27 is provided for this purpose.

なお、珪酸エステルガスな含む真空雰囲気下でのグロー
放電プラズマの発生は、高周波電源23からマツチング
ボックス24を通してコイル25に高周波電力(例えば
、13.56MHz、 150Watt)が印加される
ことにより行われる。コイル25は前記磁性金属薄膜層
及び金属酸化物層で被覆された基体の近傍に設置されて
いる。
The glow discharge plasma is generated in a vacuum atmosphere containing silicate ester gas by applying high frequency power (for example, 13.56 MHz, 150 Watt) from the high frequency power source 23 to the coil 25 through the matching box 24. . The coil 25 is installed near the base coated with the magnetic metal thin film layer and the metal oxide layer.

前記珪酸エステルグロー放電処理室乙に送り込まれた前
記磁性金属薄膜層及び金属酸化物層で被覆された基体は
、前記の珪酸エステルガスを含む真空雰囲気下で発生せ
しめたグロー放電プラズマにさらされて移動すると、前
記金属酸化物層の表面に珪素化合物層(第4図のC)が
形成される。
The substrate coated with the magnetic metal thin film layer and the metal oxide layer sent into the silicate ester glow discharge treatment chamber B is exposed to glow discharge plasma generated in a vacuum atmosphere containing the silicate ester gas. Upon movement, a silicon compound layer (C in FIG. 4) is formed on the surface of the metal oxide layer.

次に、前記保護潤滑層蒸着室lにおいて7xlO””T
orr 程度の真空度で有機高分子化合物、高級脂肪峻
、脂肪酸エステル又はこれらを紹介せた蒸発源28を抵
抗加熱手段29により加熱、蒸発せしめて得られた蒸気
流V′を、移動する前記磁性金属薄膜層、金属酸化物層
及び珪素化合物層で被覆された基体に対し蒸着C“て、
所望する厚さの保護潤滑層(第5図のD)を前記珪素化
合物層B上に積層する。
Next, in the protective lubricant layer deposition chamber l, 7xlO""T
The vapor flow V' obtained by heating and evaporating an organic polymer compound, higher fat, fatty acid ester, or an evaporation source 28 introducing these with a resistance heating means 29 at a vacuum degree of about The substrate coated with the metal thin film layer, the metal oxide layer, and the silicon compound layer is vapor-deposited C".
A protective lubricant layer (D in FIG. 5) of a desired thickness is laminated on the silicon compound layer B.

しかる後、磁性金属薄膜層、金属酸化物層、珪素化合物
層及び保護潤滑層で被覆された前記基体は、再度、前記
送出兼巻取室Zに戻されて、エキスノξンダーローラー
30により適正にシワの矯正がなされた後、ロール状6
1に巻き取られて一連の薄膜形成工程が完了する。
Thereafter, the substrate coated with the magnetic metal thin film layer, the metal oxide layer, the silicon compound layer and the protective lubricant layer is returned to the delivery/winding chamber Z and is properly coated by the extractor roller 30. After the wrinkles have been corrected, the rolled 6
1 to complete a series of thin film forming steps.

なお、前記保護潤滑層蒸着室1内を走行する前記基体は
、前記磁性金属薄膜層蒸着室4と同じようにクーリング
キャンのような手段を用いても良いし、又その表面に前
記蒸気流V′を斜方入射せしめても良い。
Note that the substrate running in the protective lubricant layer deposition chamber 1 may be provided with a means such as a cooling can as in the magnetic metal thin film layer deposition chamber 4, or the vapor flow V may be applied to the surface of the substrate. ′ may be obliquely incident.

なお本実施態様は1例であって、本発明は本実施態様に
とられれるものではない。
Note that this embodiment is just one example, and the present invention is not limited to this embodiment.

本発明に用いられる磁性金属材料としては、Fe、0O
1N1等の金属、あるいはFe−Go、 Fe−Ni、
Go−Ni、Fe−Go−Ni、Fe−Rh、Fe−G
u、、 Go−Cu、Go−A11.Go−Y%Go−
La、、 Go−Pr、 Go−Ga、Go−8m、 
Go−Pt−Ni−Cu、 Mn−B1、Mn −sb
、 Mn −kl、Fe−0r、 Go−Or、 Ni
−0r、 Fe−Go−Cr、 N1−G。
The magnetic metal materials used in the present invention include Fe, 0O
Metals such as 1N1, or Fe-Go, Fe-Ni,
Go-Ni, Fe-Go-Ni, Fe-Rh, Fe-G
u, Go-Cu, Go-A11. Go-Y%Go-
La, Go-Pr, Go-Ga, Go-8m,
Go-Pt-Ni-Cu, Mn-B1, Mn-sb
, Mn-kl, Fe-0r, Go-Or, Ni
-0r, Fe-Go-Cr, N1-G.

−Or、 Fe−Go−N1−C5r  等を主成分と
する強磁性合金であるつl持に好ましいのはGoあるい
はGoを75重敏チ含有するような合金である。
Among the ferromagnetic alloys whose main components are -Or, Fe-Go-N1-C5r, etc., preferred for durability are Go or alloys containing 75% Go.

更に添加物として、W 、 Mo 、 Ti 、 Mg
 、 Si 、 AI等を少歇含んでもよい。又、G、
B、O,N、P等の非金属成分を少廣含んでもよい。こ
れらは、薄膜形成用の母1[含めてもよい、また薄膜形
成時のガス雰囲気の成分とし【加え【もよい。
Furthermore, as additives, W, Mo, Ti, Mg
, Si, AI, etc. may be included. Also, G.
It may also contain a small amount of nonmetallic components such as B, O, N, and P. These may be included in the matrix 1 for thin film formation, or may be added as components of the gas atmosphere during thin film formation.

例えば、前記磁性金属薄膜層を前記磁性金属薄膜層蒸着
室4で形成する際に若干の酸素ガスを導入した酸素雰囲
気下で行なってもよい。
For example, the formation of the magnetic metal thin film layer in the magnetic metal thin film layer deposition chamber 4 may be carried out in an oxygen atmosphere into which a small amount of oxygen gas is introduced.

磁性金属薄膜層の膜厚は、磁気記録媒体として充分な出
力を力え得る厚さおよび高密度記録の充分行える薄さを
必要とすることから一般には約0.02μmから200
00又、好ましくは0.05μmから1000OAであ
る。
The thickness of the magnetic metal thin film layer is generally from about 0.02 μm to 200 μm because it needs to be thick enough to provide sufficient output as a magnetic recording medium and thin enough to perform high-density recording.
00, preferably from 0.05 μm to 1000 OA.

また、磁性金属薄膜層は膜層でも良いし、2層以上の多
層膜からHq成されていてもよい。また多層構成の場合
、層間に非磁性の中間層を設けてもよい。非磁性基体と
磁性金属薄膜層の面に非磁性の下地層を設けてもよい。
Further, the magnetic metal thin film layer may be a film layer, or may be formed from a multilayer film of two or more layers. Furthermore, in the case of a multilayer structure, a nonmagnetic intermediate layer may be provided between the layers. A nonmagnetic underlayer may be provided on the surfaces of the nonmagnetic substrate and the magnetic metal thin film layer.

非磁性基体の両面に磁性金属薄膜層を設けてもよい。A magnetic metal thin film layer may be provided on both sides of the nonmagnetic substrate.

本発明におけるペーパーデポジション法とは、上記米国
fi¥許第342632号の明細書等に述べられている
通常の真空蒸着の他、電界、磁界あるいは電子ビーム照
射等により蒸気流のイオン化、加速化等を行って蒸発分
子の平均自由行程の大きい雰囲気にて支持基体上に薄膜
を形成させる方法をも含むものであって、例えば当用願
人による特開昭51−149008号明細書に示されて
いるような電界蒸着法、特公昭43−11525号、特
公昭46−20484号、特公昭47−26579号、
特公昭49−45439号、特開昭49−33890号
The paper deposition method in the present invention includes, in addition to the normal vacuum evaporation described in the specification of the above-mentioned U.S. Fi. It also includes a method of forming a thin film on a supporting substrate in an atmosphere where the mean free path of evaporated molecules is large, such as the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 149008/1983 by the applicant. Electric field vapor deposition method, such as Japanese Patent Publication No. 43-11525, Japanese Patent Publication No. 46-20484, Japanese Patent Publication No. 47-26579,
Japanese Patent Publication No. 49-45439, Japanese Patent Publication No. 49-33890.

特開昭49−34483号、特開昭49−54235号
公報に示されているようなイオン化蒸着法も本発明に用
いられ、その他スパッター法、プラズマ重合法も適用で
きる。
Ionized vapor deposition methods such as those disclosed in JP-A-49-34483 and JP-A-49-54235 can also be used in the present invention, and other methods such as sputtering and plasma polymerization can also be applied.

又、本発明に用いられる基体とし【はポリエチ::::
づ。
In addition, the substrate used in the present invention is polyethylene.
zu.

レンテレフタレート、ボ゛リイミド、ポリアミド、ポリ
塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポ
リエチレンナフタレートのようなプラスチックベースが
好ましい。更にA/ 、 Cu 、 SUS等の非磁性
金属、又は、ガラス、セラミックス等無機質の基体も使
用できる。特に本発明においては表面粗さくra)が0
.012μ講以下であるような上記可撓性プラスチック
ベースが好ましい。
Plastic bases such as lenterephthalate, polyimide, polyamide, polyvinyl chloride, cellulose triacetate, polycarbonate, polyethylene naphthalate are preferred. Furthermore, non-magnetic metals such as A/, Cu, and SUS, or inorganic substrates such as glass and ceramics can also be used. In particular, in the present invention, the surface roughness ra) is 0.
.. Preferably, the flexible plastic base has a thickness of 0.012 μm or less.

又、本発明の保時潤滑層に用いられる前記有機高分子化
合物としては、ポリオレフィン、ビニル系樹脂、ビニリ
デン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリア
ミド9、ポリアクリロニトリル、ポリウレタン、ポリエ
ーテル、セルロース系樹脂が好ましい。
Further, as the organic polymer compound used in the time-keeping lubricating layer of the present invention, polyolefin, vinyl resin, vinylidene resin, polyester, polycarbonate, polyamide 9, polyacrylonitrile, polyurethane, polyether, and cellulose resin are preferable. .

高級脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、(ヘン酸、オレイン酸、リノ
ール酸、リルン酸、アラキドン酸等である。
Examples of higher fatty acids include lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, (henic acid, oleic acid, linoleic acid, lilunic acid, and arachidonic acid).

脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸メチル、)でル
ミチン酸エチル、ステアリン酸モノグリセリ1等がある
。   ″:′;1 前述した保護潤滑層は、複数個のクーリングギャンを並
設して各種素材を)1決然着することも可能である。何
れの蒸着方法においても、前記保護潤滑層の全)Vさは
20〜500A、更には20〜600Aの範囲が好まし
い。
Examples of fatty acid esters include methyl stearate, ethyl lumitate, and monoglyceride stearate 1. ″:′;1 The above-mentioned protective lubricant layer can also be formed by arranging a plurality of cooling guns in parallel and depositing various materials. The V width is preferably in the range of 20 to 500A, more preferably 20 to 600A.

本発明における金属酸化物層とは磁性金属薄膜層の表面
を酸素ガスを含む真空雰囲気で発生せしめたグロー放電
プラズマに曝すことにより、前記磁性金属薄膜層の表面
を酸化せしめたものである。
The metal oxide layer in the present invention is one obtained by oxidizing the surface of the magnetic metal thin film layer by exposing the surface of the magnetic metal thin film layer to glow discharge plasma generated in a vacuum atmosphere containing oxygen gas.

本発明における金属酸化層の膜厚は600A以下が望ま
しい。特に好ましくは100A以下である。
The thickness of the metal oxide layer in the present invention is preferably 600A or less. Particularly preferably, it is 100A or less.

本発明における酸素中グロー放電処理とは、酸素ガスを
酸化処理室に導入(2,5×10〜5x107”’ro
rrの真空度に保ち、グロー放電形成用電力をグロー放
電用電極に印加すれば良い。電力としては、RF、 D
C1等広範囲の方式が用いられる。又、グロー放電用電
極も各種の形状のものを用いることが出来る。
Glow discharge treatment in oxygen in the present invention refers to introducing oxygen gas into the oxidation treatment chamber (2.5 x 10 to 5 x 107"'ro
It is sufficient to maintain the degree of vacuum at rr and apply glow discharge forming power to the glow discharge electrode. As for electric power, RF, D
A wide range of schemes are used, such as C1. Furthermore, glow discharge electrodes of various shapes can be used.

本発明における珪素化合物層とは、前記磁性全域薄膜層
上に形成された金属酸化物層の表面を珪酸エステルガス
を含む真空雰囲気下で発生せしめたグロー放電プラズマ
に曝すことにより前記金属酸化物層の表面に堆積された
珪素化合物層であり、8102等の珪素酸化物から成る
In the present invention, the silicon compound layer is formed by exposing the surface of the metal oxide layer formed on the magnetic thin film layer to glow discharge plasma generated in a vacuum atmosphere containing silicate ester gas. A silicon compound layer deposited on the surface of a silicon compound, consisting of a silicon oxide such as 8102.

本発明における珪素化合物層の膜厚は100八以下が望
ましい。特に好ましくは10A以下である。
The thickness of the silicon compound layer in the present invention is desirably 100% or less. Particularly preferably, it is 10A or less.

本発明における珪素化合物層は必ずしも一様な連続膜を
形成してなく【も良い。このため厳密な意味で膜厚を規
定することが困難であるため、本明細書における膜厚は
、付着物を膜厚に換算した平均膜厚を意味する。
The silicon compound layer in the present invention does not necessarily have to form a uniform continuous film. For this reason, it is difficult to define the film thickness in a strict sense, so the film thickness in this specification means the average film thickness obtained by converting the deposits into film thickness.

本発明における珪素化合物層は極く薄いため被覆状態に
ついて明確に定義することは困難であるが、例えば通常
の市販されているオージェ電子分析装置で、表面分析を
行なった場合、少くとも金属酸化物を構成している主成
分である磁性元素及び酸素と珪素元素が同時に検出され
る程度の被覆状態が好ましい。即ち、オージェ電子分析
的に見て、金属酸化物を構成している主成分である磁性
元素及び酸素と珪素元素が混在した表面状態が形成され
ていることが望ましい。
Since the silicon compound layer in the present invention is extremely thin, it is difficult to clearly define the state of the coating. It is preferable that the coating state is such that the magnetic element, oxygen, and silicon element, which are the main components of the magnetic element, can be detected simultaneously. That is, from an Auger electron analysis perspective, it is desirable that a surface state is formed in which a magnetic element and oxygen, which are the main components of the metal oxide, and a silicon element are mixed.

本発明における珪酸エステルガスを含む真空雰囲気下で
のグロー放電処理とは珪酸エステルガスと反応ガスとを
適当量混合し、5×10〜5x10“1Torrの真空
度に保ち、グロー放電形成用電力を放電用電極に印加す
ることにより生ぜせしめたグロー放電プラズマに磁性金
属酸化物層を曝し、表面に珪素化合物を形成するもので
ある。
Glow discharge treatment in a vacuum atmosphere containing silicate ester gas in the present invention is to mix appropriate amounts of silicate ester gas and reaction gas, maintain the degree of vacuum at 5 x 10 to 5 x 10 "1 Torr, and apply electric power for forming glow discharge. A magnetic metal oxide layer is exposed to glow discharge plasma generated by applying voltage to a discharge electrode to form a silicon compound on the surface.

珪酸エステルガスとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフ
ェノキシシラン、テトラベンジルオキシシラン等が好ま
しい。特に好ましくはテトラエトキシシランが好ましい
Preferred examples of the silicic acid ester gas include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraphenoxysilane, and tetrabenzyloxysilane. Particularly preferred is tetraethoxysilane.

反応ガスとしては、グロー放電を安定にするとともに、
珪酸エステルの分解を助ける働きをするものが望ましく
、例えば、酸素、水蒸気等が好ましい。
As a reactive gas, it stabilizes glow discharge and
It is desirable to use a substance that helps decompose the silicate ester, such as oxygen and water vapor.

グ・−放電を発生させる。11詰ICは、高周波電力、
直流電力、交流電力、マイクロ波電力等が必要であるが
、取扱い易さを考えると13.56 MHzの高周波電
力又は直流電力が特に好ましい。高周波電力を用いた場
合、5×10〜6 X 10  Torrの真空度でグ
ロー放電を起させることが可能である。又直流電力を用
いた場合に0.02〜0.5Torr程度の真空度でグ
ロー放電が生ずる。
- Generates a discharge. The 11-pack IC uses high frequency power,
Direct current power, alternating current power, microwave power, etc. are required, but 13.56 MHz high frequency power or direct current power is particularly preferred in view of ease of handling. When high frequency power is used, it is possible to cause glow discharge at a vacuum level of 5 x 10 to 6 x 10 Torr. Further, when direct current power is used, glow discharge occurs at a vacuum degree of about 0.02 to 0.5 Torr.

放電用電極としては、コイル状、棒状、網状等の形状を
した電極を真空槽内に設ければ良い。また、真空槽外に
電極を設けるいわゆる無電極放電でも良い。
As the discharge electrode, a coil-shaped, rod-shaped, net-shaped electrode, etc. may be provided in the vacuum chamber. Alternatively, a so-called electrodeless discharge in which an electrode is provided outside the vacuum chamber may be used.

本発明における金属酸化物層と珪素化合物層の役割は必
ずしも解明されてはいないが、金属酸化物層の形成によ
り、磁性金属薄膜層の経時劣化が抑制されるものと考え
られる。また珪素化合物層については、珪素化合物層の
形成に続いて形成される有機保護か1滑層を磁性金属酸
化物層上に保持しておく機能を増進させるものである。
Although the roles of the metal oxide layer and the silicon compound layer in the present invention are not necessarily elucidated, it is thought that the formation of the metal oxide layer suppresses the deterioration of the magnetic metal thin film layer over time. The silicon compound layer also enhances the function of retaining an organic protective layer formed subsequent to the formation of the silicon compound layer on the magnetic metal oxide layer.

特に本発明における方法で表面処BJi して得られた
金属酸化物層を有量・・る磁性金属薄膜層は表面の凹凸
;柱状組織の間の間隙等にも一様に珪素化合物が析出す
るため、前述の保護潤滑層の保持機能が一段と向上出来
る。
In particular, the magnetic metal thin film layer containing a large amount of metal oxide layer obtained by surface treatment BJi by the method of the present invention has an uneven surface; silicon compounds are uniformly precipitated even in the gaps between columnar structures. Therefore, the holding function of the aforementioned protective lubricant layer can be further improved.

また本発明における金属酸化物層及び珪素化合物層は極
めて微量でも、耐久性、走行特性、耐候性等の磁気記録
媒体としての実用上の諸物件を大巾に向上させるため、
スは−シングロスカ少すく、電磁変換特性の優れた磁気
記録媒体が得られ、その実用的価値は犬なるものである
In addition, even if the metal oxide layer and silicon compound layer in the present invention are used in extremely small amounts, they can greatly improve various practical properties as a magnetic recording medium, such as durability, running characteristics, and weather resistance.
A magnetic recording medium with a low syngloscus and excellent electromagnetic conversion characteristics can be obtained, and its practical value is significant.

以下、実施例に基づいて本発明の新規な効果について明
確圧する。
Hereinafter, the novel effects of the present invention will be clearly explained based on Examples.

実施例 1 第1図に示したような磁気記録媒体製造装置1を用い、
25μ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム基板を
蒸発源に対して60′の傾き訪るよ5に真空蒸着装置内
に配置して、I X 1O−Torrの真空度で、99
99−のコバルト金属を電子ビー着した。
Example 1 Using a magnetic recording medium manufacturing apparatus 1 as shown in FIG.
A 25μ thick polyethylene terephthalate film substrate was placed in a vacuum evaporation apparatus at an angle of 60' with respect to the evaporation source, and was heated at a vacuum level of 99°C at a vacuum level of I x 10-Torr.
99- cobalt metal was electro-bead-deposited.

続いて蒸着されたコバルト蒸着層の表面を7x10  
Torr  の酸素ガス雰囲気で、電極に一1kVの電
圧を印加して得たDGグクロ放電ゾラズマに約1分間曝
もし約7OAの酸化物層を形成した。
Subsequently, the surface of the cobalt vapor deposition layer was 7x10
In an oxygen gas atmosphere of Torr, a voltage of 1 kV was applied to the electrode to form an oxide layer of about 7 OA by exposing the electrode to a DG gucrodischarge zolazma for about 1 minute.

続いて、テトラエトキシシランガスと酸素ガスを導入し
、はぼ1対1の分圧比に保ち6X10””’Torr 
の雰囲気下で200 Wottの高周波電力で発生せし
めたグロー放電プラズマに表面酸化したコバルト蒸着層
の表面を約1分間さらし、約8人相当の8102膜を形
成した。その後、はヘン酸をlX10  Tnrrの真
空度で抵抗加熱法により20A/secの速度で15O
A蒸着した。しかる後1インチ巾のテープ状にスリット
し、VH8方式小型VTRのカセットに組み込み磁気テ
ープとしての評価を行った。
Next, tetraethoxysilane gas and oxygen gas were introduced, and the partial pressure ratio was maintained at approximately 1:1 at 6X10'''Torr.
The surface of the cobalt vapor deposited layer, whose surface was oxidized, was exposed for about 1 minute to glow discharge plasma generated with a high frequency power of 200 Watts in an atmosphere of 100 watts to form an 8102 film equivalent to about 8 people. Thereafter, henic acid was heated to 15O at a rate of 20A/sec by resistance heating in a vacuum of 1X10Tnrr.
A was deposited. Thereafter, it was slit into a 1-inch wide tape, which was then incorporated into a cassette of a VH8 compact VTR and evaluated as a magnetic tape.

すなわち、このように、シて作製した記録媒体について
次のように、耐久性、走行性、及び耐候性の評価を行な
った。耐久性の評価はVH8方式小型、VTR装置にお
いてテープ走行を止めその時の再生出力信号が半減する
までの時間、即ちスチル耐久時間を測定1−た。走行特
性の評価はV HS方式小型VTR装置において100
回繰り返し走行させたのちテープ中方向に肉眼で観察可
能なキズの数を数えろことにより行なった。なおメチル
耐久時間、スリキズの評価とも松下電産(株)製(7)
NV−8200型VTR装置を用いた。
That is, the durability, runnability, and weather resistance of the thus produced recording medium were evaluated as follows. Durability was evaluated by measuring the still durability time, that is, the time until the playback output signal is halved after the tape stopped running in a VH8 compact VTR device. The evaluation of running characteristics was 100 for VHS type small VTR equipment.
After repeatedly running the tape, the number of scratches that could be observed with the naked eye in the direction of the tape was counted. The methyl durability time and scratch evaluation are also manufactured by Matsushita Electric Co., Ltd. (7)
An NV-8200 type VTR device was used.

耐得性の評価は、60t;90チRHのサーモ装置内に
2週間保持した後の磁化量の減少(減磁)割合を比較し
た。表−1にスチル耐久時間、スリキズの数、及び減磁
を示した。
To evaluate the durability, the rate of decrease in magnetization (demagnetization) after being kept in a thermostat at 60 tons and 90 inches RH for two weeks was compared. Table 1 shows still durability time, number of scratches, and demagnetization.

表−1には比較の為に、未処理で保護潤滑層の1よい場
合(at、未処理で保護潤滑層を有する場合(blを合
せて示した。(blの場合の保護潤滑層の構成はイヘン
酸を同−膜厚設けたものである。ここで未処理とは、前
記金属酸化物層及び珪素化合物層を設けてないことを意
味する。本発明による(clでは他のものと比較して著
しいメチル耐久特性、耐スリギズ特性及び耐候性の向上
がみられた。
For comparison, Table 1 also shows a case in which the protective lubricant layer is good without treatment (at) and a case in which the protective lubricant layer is untreated (bl). (Configuration of the protective lubricant layer in the case of BL is the same thickness of ihenic acid.Here, untreated means that the metal oxide layer and the silicon compound layer are not provided. Significant improvements in methyl durability, scratch resistance, and weather resistance were observed.

111 このように、本発明によれば、耐久性、走行性及び耐候
性に優れた磁気記録媒体が得られ、その実用化の効果は
極めて犬である。
111 As described above, according to the present invention, a magnetic recording medium with excellent durability, runnability, and weather resistance can be obtained, and the effects of its practical application are extremely promising.

なお、実施例1においてはメロー放電プラズマを高周波
電力の印加により行なわせたが、直流電圧の印加による
グロー放電によっても同様の効果が確かめられた。
In Example 1, mellow discharge plasma was generated by applying high-frequency power, but similar effects were confirmed by glow discharge by applying DC voltage.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に用いる磁気記録媒体製造装置の1実施
態様の要部を切断して示した側面図、第2r9.]〜第
5図は本発明による磁気記録媒体の断面略図である。 2は基体送出兼巻取室、6はグロー放電前処理室、4は
磁性金属薄膜層蒸着室、5は酸化処理室、6は珪酸エス
テルグロー放電処理室、7は保護潤滑層蒸着室、Wは基
体でk)る。 第  1  図
FIG. 1 is a side view showing a main part of an embodiment of the magnetic recording medium manufacturing apparatus used in the present invention, with section 2r9. ] - FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a magnetic recording medium according to the present invention. 2 is a substrate delivery and winding chamber, 6 is a glow discharge pretreatment chamber, 4 is a magnetic metal thin film layer deposition chamber, 5 is an oxidation treatment chamber, 6 is a silicate ester glow discharge treatment chamber, 7 is a protective lubricant layer deposition chamber, W is the base body. Figure 1

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)非磁性基体上に、表面に金属酸化物層を有する磁
性金属薄膜層と、珪素化合物層と、有機高分子化合物、
高級脂肪酸、脂肪酸エステル又はこれらを組み合せた保
護潤滑層を夫々積層してなることを特徴とする磁気記録
媒体。
(1) A magnetic metal thin film layer having a metal oxide layer on the surface, a silicon compound layer, and an organic polymer compound on a nonmagnetic substrate,
A magnetic recording medium comprising a protective lubricant layer laminated with a higher fatty acid, a fatty acid ester, or a combination thereof.
(2)非磁性基体上にイーノミ−デポジション法により
磁性金属薄膜層を形成した後、前記磁性金属薄膜層の表
面を酸素ガスを含む真空雰囲気下で発生させたグロー放
電プラズマに曝すことにより該表面に金属酸化物層を形
成し、次いで前記金属酸化物層の表面を珪酸エステルガ
スを含む真空雰囲気で発生させたグロー放電プラズマに
曝すことにより該表面に珪素化合物層を形成し、次いで
真空雰囲気下で、前記珪素化合物層上に、有機高分子化
合物、高級脂肪酸、脂肪酸エステル又はこれらを組合せ
た保護潤滑層を形成することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
(2) After forming a magnetic metal thin film layer on a non-magnetic substrate by an enomi-deposition method, the surface of the magnetic metal thin film layer is exposed to glow discharge plasma generated in a vacuum atmosphere containing oxygen gas. A metal oxide layer is formed on the surface, and then a silicon compound layer is formed on the surface by exposing the surface of the metal oxide layer to glow discharge plasma generated in a vacuum atmosphere containing silicate ester gas, and then a silicon compound layer is formed on the surface. A method for manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that a protective lubricant layer made of an organic polymer compound, higher fatty acid, fatty acid ester, or a combination thereof is formed on the silicon compound layer.
JP57105508A 1982-06-21 1982-06-21 Magnetic recording medium and its manufacture Pending JPS58222439A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57105508A JPS58222439A (en) 1982-06-21 1982-06-21 Magnetic recording medium and its manufacture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57105508A JPS58222439A (en) 1982-06-21 1982-06-21 Magnetic recording medium and its manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58222439A true JPS58222439A (en) 1983-12-24

Family

ID=14409537

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57105508A Pending JPS58222439A (en) 1982-06-21 1982-06-21 Magnetic recording medium and its manufacture

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58222439A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6364622A (en) * 1986-09-05 1988-03-23 Hitachi Maxell Ltd Magnetic recording medium
US4748073A (en) * 1985-06-29 1988-05-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Perpendicular magnetic recording medium with multilayered protective layer
WO1993010526A1 (en) * 1991-11-18 1993-05-27 Sony Corporation Magnetic recording medium and production method thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4748073A (en) * 1985-06-29 1988-05-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Perpendicular magnetic recording medium with multilayered protective layer
JPS6364622A (en) * 1986-09-05 1988-03-23 Hitachi Maxell Ltd Magnetic recording medium
WO1993010526A1 (en) * 1991-11-18 1993-05-27 Sony Corporation Magnetic recording medium and production method thereof
US5571595A (en) * 1991-11-18 1996-11-05 Sony Corporation Magnetic recording medium and method for production thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4495242A (en) Magnetic recording medium
US4521482A (en) Magnetic recording medium
US4673610A (en) Magnetic recording medium having iron nitride recording layer
US4816341A (en) Magnetic recording medium
JPS58222439A (en) Magnetic recording medium and its manufacture
JPH01223632A (en) Method and device for manufacturing magnetic recording medium
JPH0445888B2 (en)
JPH0479065B2 (en)
JPS63282921A (en) Production of magnetic recording medium
JPS58222432A (en) Magnetically recording medium and its manufacture
JPH0454289B2 (en)
JPH01243234A (en) Production of magnetic recording medium
JPH038117A (en) Manufacture of magnetic recording tape
JP2548231B2 (en) Method of manufacturing magnetic recording medium
JPH0335727B2 (en)
JPH11102518A (en) Production method of magnetic recording medium
JPH0451888B2 (en)
JPH0528487A (en) Production of magnetic recording medium
JPH07238376A (en) Production of metallic thin film body and device therefor
JPS60237626A (en) Magnetic recording medium
JPH02240831A (en) Production of magnetic recording medium
JPH117621A (en) Magnetic record medium
JPS5914129A (en) Production of magnetic recording medium
JPH0353693B2 (en)
JPH10302258A (en) Method and apparatus for producing a magnetic recording medium