JPH10154312A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH10154312A JPH10154312A JP8312371A JP31237196A JPH10154312A JP H10154312 A JPH10154312 A JP H10154312A JP 8312371 A JP8312371 A JP 8312371A JP 31237196 A JP31237196 A JP 31237196A JP H10154312 A JPH10154312 A JP H10154312A
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- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 精度良くＭＲ素子及び磁気ギャップを形成す
ることによってオフセット量に対する誤差を減少させる
とともに、再生出力の向上を図った磁気ヘッド及びその
製造方法を提案する。 【解決手段】 本発明にかかる磁気ヘッド１には、記録
媒体に対して垂直方向に再生電流を流すように配設され
た磁気抵抗効果素子及び誘導型磁気ヘッドを備え、磁気
抵抗効果素子及び磁気ギャップのトラック幅方向におけ
る両端部に切り欠き部が形成されるように、媒体対向面
側に凹部が形成されている。また、この磁気ヘッドの製
造方法は、磁気抵抗効果素子及び誘導型磁気ヘッドの磁
気ギャップのトラック幅方向における両端部に、切り欠
き部が形成されるように、媒体対向面側に凹部を形成す
る工程を有している。
ることによってオフセット量に対する誤差を減少させる
とともに、再生出力の向上を図った磁気ヘッド及びその
製造方法を提案する。 【解決手段】 本発明にかかる磁気ヘッド１には、記録
媒体に対して垂直方向に再生電流を流すように配設され
た磁気抵抗効果素子及び誘導型磁気ヘッドを備え、磁気
抵抗効果素子及び磁気ギャップのトラック幅方向におけ
る両端部に切り欠き部が形成されるように、媒体対向面
側に凹部が形成されている。また、この磁気ヘッドの製
造方法は、磁気抵抗効果素子及び誘導型磁気ヘッドの磁
気ギャップのトラック幅方向における両端部に、切り欠
き部が形成されるように、媒体対向面側に凹部を形成す
る工程を有している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体から
の記録磁界によって抵抗率が変化する磁気抵抗効果薄膜
を用い、その抵抗変化を再生出力電圧として検出する磁
気ヘッド及びその製造方法に関する。
の記録磁界によって抵抗率が変化する磁気抵抗効果薄膜
を用い、その抵抗変化を再生出力電圧として検出する磁
気ヘッド及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気抵抗効果素子（以下、ＭＲ素
子と称する。）は、ハードディスク等に記録された情報
信号の再生を行う薄膜磁気ヘッド等の分野において、磁
気抵抗効果型磁気ヘッド（以下、ＭＲヘッドと称す
る。）として使用されるようになっている。なお、現在
実用となっているＭＲ素子としては、一般に約２％程度
の抵抗変化率を示し、異方性磁気抵抗効果素子と呼ばれ
る効果を利用している。
子と称する。）は、ハードディスク等に記録された情報
信号の再生を行う薄膜磁気ヘッド等の分野において、磁
気抵抗効果型磁気ヘッド（以下、ＭＲヘッドと称す
る。）として使用されるようになっている。なお、現在
実用となっているＭＲ素子としては、一般に約２％程度
の抵抗変化率を示し、異方性磁気抵抗効果素子と呼ばれ
る効果を利用している。
【０００３】このＭＲヘッドは、印加される磁界の大き
さによって抵抗が変化するＭＲ素子と、このＭＲ素子に
対してバイアス磁界を印加するためのバイアス導体とを
備えている。そして、ＭＲヘッドで磁気記録媒体から情
報信号を再生する際は、バイアス導体にバイアス電流を
印加することによってバイアス磁界をＭＲ素子に印加し
た状態で行う。このとき、ＭＲ素子は、磁気記録媒体か
らの磁界の大きさによって抵抗値が変化するので、この
抵抗値の変化による電圧値の変化により磁気記録媒体に
記録された情報信号の再生がなされることになる。
さによって抵抗が変化するＭＲ素子と、このＭＲ素子に
対してバイアス磁界を印加するためのバイアス導体とを
備えている。そして、ＭＲヘッドで磁気記録媒体から情
報信号を再生する際は、バイアス導体にバイアス電流を
印加することによってバイアス磁界をＭＲ素子に印加し
た状態で行う。このとき、ＭＲ素子は、磁気記録媒体か
らの磁界の大きさによって抵抗値が変化するので、この
抵抗値の変化による電圧値の変化により磁気記録媒体に
記録された情報信号の再生がなされることになる。
【０００４】このように構成されるＭＲヘッドにおい
て、ＭＲ素子を磁気記録媒体に対して垂直方向に再生電
流を流すように配設すれば、磁気記録媒体の狭トラック
化を図り、情報信号の再生を行うことが可能となる。
て、ＭＲ素子を磁気記録媒体に対して垂直方向に再生電
流を流すように配設すれば、磁気記録媒体の狭トラック
化を図り、情報信号の再生を行うことが可能となる。
【０００５】ところで、ハードディスク等の磁気記録媒
体の記録密度を向上させる方法としては、トラック幅を
狭くしてトラック密度を向上させる方法と、線記録密度
を向上させる方法とがある。
体の記録密度を向上させる方法としては、トラック幅を
狭くしてトラック密度を向上させる方法と、線記録密度
を向上させる方法とがある。
【０００６】線記録密度を向上させる方法としては、記
録用の磁気ヘッドに備えられている磁気ギャップを狭く
して急峻な記録磁界を磁気ギャップにより発生させて情
報信号を記録するとともに、記録用の磁気ヘッドにより
記録された情報信号をＭＲヘッドにより高分解能で再生
する方法がある。
録用の磁気ヘッドに備えられている磁気ギャップを狭く
して急峻な記録磁界を磁気ギャップにより発生させて情
報信号を記録するとともに、記録用の磁気ヘッドにより
記録された情報信号をＭＲヘッドにより高分解能で再生
する方法がある。
【０００７】一方、トラック密度を向上させる方法とし
ては、記録及び／又は再生時における磁気ヘッドのトラ
ック幅を小さくする方法がある。このとき、記録された
情報信号からの再生出力を低下させないように、高再生
出力のＭＲヘッドが必要不可欠となる。
ては、記録及び／又は再生時における磁気ヘッドのトラ
ック幅を小さくする方法がある。このとき、記録された
情報信号からの再生出力を低下させないように、高再生
出力のＭＲヘッドが必要不可欠となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のＭＲ
ヘッドは、近年の磁気記録媒体の高密度化によるトラッ
ク幅の減少にともなってＭＲ素子のトラック幅方向の長
さ寸法を精密に製造する必要がある。また、上記のＭＲ
ヘッドと、誘導型の記録用磁気ヘッドとを一体化した複
合型磁気ヘッドにおいては、ＭＲ素子と磁気コアとの位
置を決められたオフセット量の範囲内で製造する必要が
ある。したがって、この複合型磁気ヘッド製造工程にお
いて、ＭＲ素子及び磁気コアの位置の許容される誤差
は、非常に小さくなっている。
ヘッドは、近年の磁気記録媒体の高密度化によるトラッ
ク幅の減少にともなってＭＲ素子のトラック幅方向の長
さ寸法を精密に製造する必要がある。また、上記のＭＲ
ヘッドと、誘導型の記録用磁気ヘッドとを一体化した複
合型磁気ヘッドにおいては、ＭＲ素子と磁気コアとの位
置を決められたオフセット量の範囲内で製造する必要が
ある。したがって、この複合型磁気ヘッド製造工程にお
いて、ＭＲ素子及び磁気コアの位置の許容される誤差
は、非常に小さくなっている。
【０００９】しかしながら、上記の複合型磁気ヘッド
は、数μｍ程度で複数の薄膜を積層して構成されている
ので、オフセット量の許容範囲内に形成することが容易
でない。また、上記の複合型磁気ヘッドは、磁気記録媒
体の狭トラック化に伴ってＭＲ素子及び磁気コアによる
磁気ギャップのトラック幅方向の長さ寸法を小さくして
いるためにＭＲ素子及び磁気コアの端部の形状による磁
気的な影響が著しくなる。したがって、このＭＲ素子及
び磁気コアは、トラック幅方向の長さ寸法を小さく形成
することが容易ではない。
は、数μｍ程度で複数の薄膜を積層して構成されている
ので、オフセット量の許容範囲内に形成することが容易
でない。また、上記の複合型磁気ヘッドは、磁気記録媒
体の狭トラック化に伴ってＭＲ素子及び磁気コアによる
磁気ギャップのトラック幅方向の長さ寸法を小さくして
いるためにＭＲ素子及び磁気コアの端部の形状による磁
気的な影響が著しくなる。したがって、このＭＲ素子及
び磁気コアは、トラック幅方向の長さ寸法を小さく形成
することが容易ではない。
【００１０】このように、ＭＲヘッドは、ＭＲヘッドの
製造工程において、上述したオフセット量の許容範囲を
超える誤差及びトラック幅方向における長さ寸法の誤差
により、歩留まりが低下するという問題点がある。
製造工程において、上述したオフセット量の許容範囲を
超える誤差及びトラック幅方向における長さ寸法の誤差
により、歩留まりが低下するという問題点がある。
【００１１】そこで、本発明は、上述した問題点を解決
すべく提案されたものであり、精度良くＭＲ素子及び磁
気ギャップを形成することによってオフセット量に対す
る誤差を減少させるとともに、再生出力の向上を図った
磁気ヘッド及びその製造方法を提案することを目的とす
る。
すべく提案されたものであり、精度良くＭＲ素子及び磁
気ギャップを形成することによってオフセット量に対す
る誤差を減少させるとともに、再生出力の向上を図った
磁気ヘッド及びその製造方法を提案することを目的とす
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決する本
発明にかかる磁気ヘッドは、記録媒体に対して垂直方向
に再生電流を流すように配設された磁気抵抗効果素子を
備える磁気抵抗効果型磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗効
果型素子のトラック幅方向における両端部に、切り欠き
部を形成したことを特徴とするものである。
発明にかかる磁気ヘッドは、記録媒体に対して垂直方向
に再生電流を流すように配設された磁気抵抗効果素子を
備える磁気抵抗効果型磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗効
果型素子のトラック幅方向における両端部に、切り欠き
部を形成したことを特徴とするものである。
【００１３】また、上記の磁気ヘッドは、記録媒体に対
して記録を行う記録用磁気ヘッドを備え、この記録用磁
気ヘッドの磁気ギャップのトラック幅方向における両端
部に、形成しても良い。
して記録を行う記録用磁気ヘッドを備え、この記録用磁
気ヘッドの磁気ギャップのトラック幅方向における両端
部に、形成しても良い。
【００１４】このように構成された磁気ヘッドは、磁気
抵抗効果素子、磁気ギャップのトラック幅方向における
両端部にそれぞれ切り欠き部を形成したので、トラック
幅方向において磁気抵抗効果素子、磁気ギャップの記録
媒体に対向する面を所定の長さ寸法に形成することが可
能となる。
抵抗効果素子、磁気ギャップのトラック幅方向における
両端部にそれぞれ切り欠き部を形成したので、トラック
幅方向において磁気抵抗効果素子、磁気ギャップの記録
媒体に対向する面を所定の長さ寸法に形成することが可
能となる。
【００１５】さらに、上述の磁気ヘッドは、記録媒体と
の垂直方向における切り欠き部の所定の深さ寸法が、上
記磁気抵抗効果素子の記録媒体と垂直方向の長さ寸法と
同等としても良い。このように形成された磁気抵抗効果
素子を備えた磁気ヘッドは、切り欠き部の記録媒体との
垂直方向における長さ寸法を磁気抵抗効果素子の長手方
向の長さ寸法と同等に形成しているので、トラック幅方
向における長さ寸法が小さくなり、磁気抵抗効果素子の
抵抗値を大きくすることが可能である。
の垂直方向における切り欠き部の所定の深さ寸法が、上
記磁気抵抗効果素子の記録媒体と垂直方向の長さ寸法と
同等としても良い。このように形成された磁気抵抗効果
素子を備えた磁気ヘッドは、切り欠き部の記録媒体との
垂直方向における長さ寸法を磁気抵抗効果素子の長手方
向の長さ寸法と同等に形成しているので、トラック幅方
向における長さ寸法が小さくなり、磁気抵抗効果素子の
抵抗値を大きくすることが可能である。
【００１６】なお、上述の切り欠き部は、記録媒体に対
して垂直方向に再生電流を流すように配設された磁気抵
抗効果素子を備える、いわゆる縦型のＭＲヘッドにおい
ては有効であるが、記録媒体に沿って再生電流を流すよ
うに配設された磁気抵抗効果素子を備える、いわゆる横
型のＭＲヘッド２０においては、図６に示すように、磁
気抵抗効果素子２１の記録媒体との垂直方向Ｄの長さ寸
法ｔ7が約１〜０．５μｍと小さいので、接続電極２２
に切り欠き部を形成すると磁気抵抗効果素子２１が切れ
てしまうおそれがあるので、適用することができない。
して垂直方向に再生電流を流すように配設された磁気抵
抗効果素子を備える、いわゆる縦型のＭＲヘッドにおい
ては有効であるが、記録媒体に沿って再生電流を流すよ
うに配設された磁気抵抗効果素子を備える、いわゆる横
型のＭＲヘッド２０においては、図６に示すように、磁
気抵抗効果素子２１の記録媒体との垂直方向Ｄの長さ寸
法ｔ7が約１〜０．５μｍと小さいので、接続電極２２
に切り欠き部を形成すると磁気抵抗効果素子２１が切れ
てしまうおそれがあるので、適用することができない。
【００１７】また、本発明にかかる磁気ヘッドの製造方
法は、記録媒体に対して垂直方向に再生電流を流すよう
に配設された磁気抵抗効果素子を備える磁気ヘッドの製
造方法において、磁気抵抗効果型素子のトラック幅方向
における両端部に、記録媒体と垂直方向に所定の深さ寸
法を有する切り欠き部を形成する工程を有することを特
徴とするものである。
法は、記録媒体に対して垂直方向に再生電流を流すよう
に配設された磁気抵抗効果素子を備える磁気ヘッドの製
造方法において、磁気抵抗効果型素子のトラック幅方向
における両端部に、記録媒体と垂直方向に所定の深さ寸
法を有する切り欠き部を形成する工程を有することを特
徴とするものである。
【００１８】なお、切り欠き部は、集束イオンビームに
よって形成することが望ましい。
よって形成することが望ましい。
【００１９】このような磁気ヘッドの製造方法は、磁気
抵抗効果素子をトラック幅方向における両端部に、切り
欠き部を形成する工程を有するので、磁気抵抗効果素子
をトラック幅方向において所定の長さ寸法に形成するこ
とが可能となる。
抵抗効果素子をトラック幅方向における両端部に、切り
欠き部を形成する工程を有するので、磁気抵抗効果素子
をトラック幅方向において所定の長さ寸法に形成するこ
とが可能となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる磁気ヘッド
及びその製造方法について図面を参照しながら詳細に説
明する。
及びその製造方法について図面を参照しながら詳細に説
明する。
【００２１】本実施の形態にかかる磁気ヘッド１は、図
１に示すように、磁気記録媒体に対して情報信号を記録
する誘導型磁気ヘッド２と、磁気記録媒体に記録された
情報信号を再生する磁気抵抗効果型磁気ヘッド３（以
下、ＭＲヘッド３と称する。）とからなり、これら誘導
型磁気ヘッド２とＭＲヘッド３の一方端により媒体対向
面１ａを構成している。
１に示すように、磁気記録媒体に対して情報信号を記録
する誘導型磁気ヘッド２と、磁気記録媒体に記録された
情報信号を再生する磁気抵抗効果型磁気ヘッド３（以
下、ＭＲヘッド３と称する。）とからなり、これら誘導
型磁気ヘッド２とＭＲヘッド３の一方端により媒体対向
面１ａを構成している。
【００２２】ＭＲヘッド３は、情報信号の再生時におい
て、磁気記録媒体上に配され、記録された情報信号を再
生するものである。このＭＲヘッド３は、磁気抵抗効果
素子４（以下、ＭＲ素子４と称する）が第１の磁性層５
と第２の磁性層６とで挟まれた構造となっている。この
ＭＲヘッド３は、磁気記録媒体からの磁気信号を検出す
るＭＲ素子４と、このＭＲ素子４の両端に形成されてセ
ンス電流を印加する先端電極７及び後端電極８と、ＭＲ
素子４から上層に絶縁層を介して配設されるバイアス導
体９とを備える。そしてこのＭＲヘッド３は、これらＭ
Ｒ素子４、先端電極７及び後端電極８、バイアス導体９
を挟み込むように第１の磁性層５及び第２の磁性層６が
配設されている。また、これらの第１の磁性層５及び第
２の磁性層６には、それぞれ上側溝部１０及び下側溝部
１１が形成されている。
て、磁気記録媒体上に配され、記録された情報信号を再
生するものである。このＭＲヘッド３は、磁気抵抗効果
素子４（以下、ＭＲ素子４と称する）が第１の磁性層５
と第２の磁性層６とで挟まれた構造となっている。この
ＭＲヘッド３は、磁気記録媒体からの磁気信号を検出す
るＭＲ素子４と、このＭＲ素子４の両端に形成されてセ
ンス電流を印加する先端電極７及び後端電極８と、ＭＲ
素子４から上層に絶縁層を介して配設されるバイアス導
体９とを備える。そしてこのＭＲヘッド３は、これらＭ
Ｒ素子４、先端電極７及び後端電極８、バイアス導体９
を挟み込むように第１の磁性層５及び第２の磁性層６が
配設されている。また、これらの第１の磁性層５及び第
２の磁性層６には、それぞれ上側溝部１０及び下側溝部
１１が形成されている。
【００２３】ＭＲ素子４は、磁気記録媒体からの情報信
号を検出するために磁気抵抗効果を有する材料からな
る。このＭＲ素子４は、その長手方向Ｂを磁気記録媒体
との対向面、すなわち媒体対向面１ａと垂直になるよう
に配設され、その一方の端面を媒体対向面１ａに露出さ
せるようになっている。また、このＭＲ素子４には、媒
体対向面１ａ側部分と、その先端部分から所定距離隔て
た箇所に、それぞれ先端電極７及び後端電極８が形成さ
れている。
号を検出するために磁気抵抗効果を有する材料からな
る。このＭＲ素子４は、その長手方向Ｂを磁気記録媒体
との対向面、すなわち媒体対向面１ａと垂直になるよう
に配設され、その一方の端面を媒体対向面１ａに露出さ
せるようになっている。また、このＭＲ素子４には、媒
体対向面１ａ側部分と、その先端部分から所定距離隔て
た箇所に、それぞれ先端電極７及び後端電極８が形成さ
れている。
【００２４】また、図２にＭＲ素子の媒体対向面１ａ側
から見た図を示す。このＭＲ素子４は、トラック幅方向
Ｃにおける両端部に第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ
が形成されることによってトラック幅方向Ｃに所定の長
さ寸法ｔ1を有するように配設されている。また、この
第１のトリミング部１４ａ，１４ｂは、媒体対向面１ａ
側に形成された凹部である。この第１のトリミング部１
４ａ，１４ｂは、ＭＲ素子４の両端部に形成されること
によってＭＲ素子４の再生時のトラック幅ｔ1を規制す
る。
から見た図を示す。このＭＲ素子４は、トラック幅方向
Ｃにおける両端部に第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ
が形成されることによってトラック幅方向Ｃに所定の長
さ寸法ｔ1を有するように配設されている。また、この
第１のトリミング部１４ａ，１４ｂは、媒体対向面１ａ
側に形成された凹部である。この第１のトリミング部１
４ａ，１４ｂは、ＭＲ素子４の両端部に形成されること
によってＭＲ素子４の再生時のトラック幅ｔ1を規制す
る。
【００２５】なお、本実施の形態において、このＭＲ素
子４のトラック幅ｔ1は、約２μｍとなるように第１の
トリミング部１４ａ，１４ｂを形成している。また、第
１のトリミング部１４ａ，１４ｂは、対向方向Ａの長さ
寸法ｔ2が約０．３μｍとなるように形成されている。
子４のトラック幅ｔ1は、約２μｍとなるように第１の
トリミング部１４ａ，１４ｂを形成している。また、第
１のトリミング部１４ａ，１４ｂは、対向方向Ａの長さ
寸法ｔ2が約０．３μｍとなるように形成されている。
【００２６】この第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ
は、図３に示すように、ＭＲ素子４の両端部に凹部とな
るように形成されている。なお、図３は、ＭＲ素子４、
先端電極７及び後端電極８を第２の磁性層６側から見た
図である。この図３によれば、ＭＲ素子４の長手方向に
長さ寸法ｔ3を有し、ＭＲ素子４及び先端電極７を削る
ように第１のトリミング部１４ａ，１４ｂが形成さてい
る。この第１のトリミング部１４ａ，１４ｂのＭＲ素子
４の長手方向の長さ寸法ｔ3は、磁気記録媒体に記録さ
れている磁気信号による磁束を引き込まない程度の長さ
寸法ｔ3を有するように形成される。
は、図３に示すように、ＭＲ素子４の両端部に凹部とな
るように形成されている。なお、図３は、ＭＲ素子４、
先端電極７及び後端電極８を第２の磁性層６側から見た
図である。この図３によれば、ＭＲ素子４の長手方向に
長さ寸法ｔ3を有し、ＭＲ素子４及び先端電極７を削る
ように第１のトリミング部１４ａ，１４ｂが形成さてい
る。この第１のトリミング部１４ａ，１４ｂのＭＲ素子
４の長手方向の長さ寸法ｔ3は、磁気記録媒体に記録さ
れている磁気信号による磁束を引き込まない程度の長さ
寸法ｔ3を有するように形成される。
【００２７】なお、本実施の形態において、第１のトリ
ミング部１４ａ，１４ｂのＭＲ素子４の長手方向の長さ
寸法ｔ3は、約０．５μｍ以上となるように形成されて
いるなお、この第１のトリミング部１４ａ，１４ｂは、
本実施の形態において、Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅ
ａｍ装置（以下、ＦＩＢ装置と称する。）によって形成
される。ここで、ＦＩＢ装置とは、集束イオンビームを
照射することによってスパッタリングを施して微細加工
を行うことが可能な装置である。また、この第１のトリ
ミング部１４ａ，１４ｂは、ＭＲ素子４のトラック幅方
Ｃ向の長さ寸法ｔ1が約２μｍとなるように形成されて
いる。
ミング部１４ａ，１４ｂのＭＲ素子４の長手方向の長さ
寸法ｔ3は、約０．５μｍ以上となるように形成されて
いるなお、この第１のトリミング部１４ａ，１４ｂは、
本実施の形態において、Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅ
ａｍ装置（以下、ＦＩＢ装置と称する。）によって形成
される。ここで、ＦＩＢ装置とは、集束イオンビームを
照射することによってスパッタリングを施して微細加工
を行うことが可能な装置である。また、この第１のトリ
ミング部１４ａ，１４ｂは、ＭＲ素子４のトラック幅方
Ｃ向の長さ寸法ｔ1が約２μｍとなるように形成されて
いる。
【００２８】このように第１のトリミング部１４ａ，１
４ｂが形成されたＭＲ素子４は、磁気記録媒体に対する
トラック幅ｔ1を任意に定めることが可能となる。した
がって、このＭＲ素子４は、面記録密度の向上に伴う狭
トラック化に対応してトラック幅ｔ1を小さくすること
が可能となる。
４ｂが形成されたＭＲ素子４は、磁気記録媒体に対する
トラック幅ｔ1を任意に定めることが可能となる。した
がって、このＭＲ素子４は、面記録密度の向上に伴う狭
トラック化に対応してトラック幅ｔ1を小さくすること
が可能となる。
【００２９】なお、上記の第１のトリミング部１４ａ，
１４ｂのＭＲ素子４の長手方向の長さ寸法ｔ3は、図４
に示すように、ＭＲ素子４の感磁部長としてもよい。こ
こで、トリミング部１４ａ，１４ｂのトラック幅方向の
長さ寸法ｔ1は、図３に示した寸法と同じ寸法としてい
る。このようなＭＲ素子４は、磁気記録媒体に対して再
生する際のトラック幅方向Ｃの長さ寸法を小さくするこ
とが可能であるとともに、長手方向全体におけるトラッ
ク幅方向Ｃの長さ寸法ｔ1が小さくなっている。したが
って、このＭＲ素子４は、電気抵抗値が大きくなり、抵
抗変化率がトリミング部１５を形成しないものと変わら
ないとすると、抵抗変化量を大きくすることが可能とな
る。したがって、このＭＲ素子４は、抵抗変化量を△Ｒ
とし、再生時に供給される電流値をＩとすると、△Ｒ・
Ｉで表されるＭＲヘッド３の再生出力を向上させること
が可能となる。
１４ｂのＭＲ素子４の長手方向の長さ寸法ｔ3は、図４
に示すように、ＭＲ素子４の感磁部長としてもよい。こ
こで、トリミング部１４ａ，１４ｂのトラック幅方向の
長さ寸法ｔ1は、図３に示した寸法と同じ寸法としてい
る。このようなＭＲ素子４は、磁気記録媒体に対して再
生する際のトラック幅方向Ｃの長さ寸法を小さくするこ
とが可能であるとともに、長手方向全体におけるトラッ
ク幅方向Ｃの長さ寸法ｔ1が小さくなっている。したが
って、このＭＲ素子４は、電気抵抗値が大きくなり、抵
抗変化率がトリミング部１５を形成しないものと変わら
ないとすると、抵抗変化量を大きくすることが可能とな
る。したがって、このＭＲ素子４は、抵抗変化量を△Ｒ
とし、再生時に供給される電流値をＩとすると、△Ｒ・
Ｉで表されるＭＲヘッド３の再生出力を向上させること
が可能となる。
【００３０】なお、このＭＲ素子４は、磁気抵抗効果を
有する材料のみからなる単層構造である必要はなく、例
えば磁壁の移動に基づくノイズであるバルクハウゼンノ
イズの発生を防止するために、ＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3等か
らなる絶縁層を介して磁気抵抗効果を有する材料を積層
した積層構造であっても良い。
有する材料のみからなる単層構造である必要はなく、例
えば磁壁の移動に基づくノイズであるバルクハウゼンノ
イズの発生を防止するために、ＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3等か
らなる絶縁層を介して磁気抵抗効果を有する材料を積層
した積層構造であっても良い。
【００３１】先端電極７及び後端電極８は、ＭＲ素子４
の長手方向Ｂに沿って、すなわち磁気記録媒体と直交す
る方向にセンス電流を流すように形成される。これら先
端電極７及び後端電極８は、例えば良導電性の非磁性材
料からなる。
の長手方向Ｂに沿って、すなわち磁気記録媒体と直交す
る方向にセンス電流を流すように形成される。これら先
端電極７及び後端電極８は、例えば良導電性の非磁性材
料からなる。
【００３２】バイアス導体９は、ＭＲ素子４の上側に形
成され、ＭＲ素子４にバイアス磁界を印加する。このバ
イアス導体９には、電流が供給されることによって磁界
が生じ、ＭＲ素子４の長手方向に対して略直交するよう
にバイアス磁界を印加する。このバイアス導体９は、Ｍ
Ｒ素子４との電気的な絶縁性を保持する為に、ＭＲ素子
４と絶縁層を介して形成される。
成され、ＭＲ素子４にバイアス磁界を印加する。このバ
イアス導体９には、電流が供給されることによって磁界
が生じ、ＭＲ素子４の長手方向に対して略直交するよう
にバイアス磁界を印加する。このバイアス導体９は、Ｍ
Ｒ素子４との電気的な絶縁性を保持する為に、ＭＲ素子
４と絶縁層を介して形成される。
【００３３】このバイアス導体９上に形成された第２の
磁性層６は、先端電極７と接続するように形成され、Ｍ
Ｒ素子４の上層を磁気的に遮蔽するものであり、例えば
センダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）のような良導体の
磁性材料からなる。また、この第２の磁性層６は、ＭＲ
素子４の上側を磁気的に遮蔽するだけでなく、先端電極
７とともに、ＭＲ素子４の先端の電極としても機能す
る。ここで、第２の磁性層６は、誘導型磁気ヘッド２の
磁気コアとしても機能する。
磁性層６は、先端電極７と接続するように形成され、Ｍ
Ｒ素子４の上層を磁気的に遮蔽するものであり、例えば
センダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）のような良導体の
磁性材料からなる。また、この第２の磁性層６は、ＭＲ
素子４の上側を磁気的に遮蔽するだけでなく、先端電極
７とともに、ＭＲ素子４の先端の電極としても機能す
る。ここで、第２の磁性層６は、誘導型磁気ヘッド２の
磁気コアとしても機能する。
【００３４】第１の磁性層５は、セラミック等からなる
非磁性基板１２ａ上に、例えばセンダスト（Ｆｅ−Ａｌ
−Ｓｉ合金）よりなる磁性層にて形成される。また、第
１の磁性層５は、ＭＲ素子４から絶縁層を隔てて下側ギ
ャップを介して形成されている。この下側ギャップは、
ＭＲ素子４と、第１の磁性層５との絶縁性を保持するた
めに、絶縁性材料にて形成されてなる。
非磁性基板１２ａ上に、例えばセンダスト（Ｆｅ−Ａｌ
−Ｓｉ合金）よりなる磁性層にて形成される。また、第
１の磁性層５は、ＭＲ素子４から絶縁層を隔てて下側ギ
ャップを介して形成されている。この下側ギャップは、
ＭＲ素子４と、第１の磁性層５との絶縁性を保持するた
めに、絶縁性材料にて形成されてなる。
【００３５】一方、誘導型磁気ヘッド３は、ＭＲヘッド
３に備えられたＭＲ素子４への外部磁界を遮蔽する磁気
シールドとして機能するとともに記録用の磁気コアとし
て機能する第２の磁性層６と、記録用の磁気コアとして
機能する第３の磁性層１３と、これら第２の磁性層６と
第３の磁性層１３との間に配設されて、記録用の信号が
供給されるコイル１４とからなる。そして、このコイル
１４と第２の磁性層６及び第３の磁性層１３との間に
は、絶縁性を保持するために非磁性体が充填される。
３に備えられたＭＲ素子４への外部磁界を遮蔽する磁気
シールドとして機能するとともに記録用の磁気コアとし
て機能する第２の磁性層６と、記録用の磁気コアとして
機能する第３の磁性層１３と、これら第２の磁性層６と
第３の磁性層１３との間に配設されて、記録用の信号が
供給されるコイル１４とからなる。そして、このコイル
１４と第２の磁性層６及び第３の磁性層１３との間に
は、絶縁性を保持するために非磁性体が充填される。
【００３６】第２の磁性層６及び第３の磁性層１３は、
例えば軟磁気特性に優れた磁性材料からなる。また、第
２の磁性層６及び第３の磁性層１３は、一方端部２ａで
接合するように積層されることによって磁気的な閉ルー
プを構成している。また、第２の磁性層６及び第３の磁
性層１３は、媒体対向面１ａ側に磁気ギャップｇを形成
するように積層されている。したがって、この第２の磁
性層６及び第３の磁性層１３は、コイル１４に記録用の
信号が供給されると、磁気ギャップｇに記録信号に対応
した磁界を発生させ、磁気記録媒体に情報信号を記録す
ることが可能となる。
例えば軟磁気特性に優れた磁性材料からなる。また、第
２の磁性層６及び第３の磁性層１３は、一方端部２ａで
接合するように積層されることによって磁気的な閉ルー
プを構成している。また、第２の磁性層６及び第３の磁
性層１３は、媒体対向面１ａ側に磁気ギャップｇを形成
するように積層されている。したがって、この第２の磁
性層６及び第３の磁性層１３は、コイル１４に記録用の
信号が供給されると、磁気ギャップｇに記録信号に対応
した磁界を発生させ、磁気記録媒体に情報信号を記録す
ることが可能となる。
【００３７】このように構成された誘導型磁気ヘッド２
は、磁気ギャップｇを媒体対向面１ａに露出させるよう
になっている。また、図２に上述の誘導型磁気ヘッド２
を媒体対向面１ａ側から見た図を示す。この誘導型磁気
ヘッド２の磁気ギャップｇの両端部には、トラック幅Ｃ
方向に所定の長さ寸法ｔ4を有するように第２のトリミ
ング部１６ａ，１６ｂが形成されることによって磁気ギ
ャップｇが磁気記録媒体に対して記録する記録幅ｔ4を
規制する。ここで、第２のトリミング部１６ａ，１６ｂ
は、磁気ギャップｇを構成する第２の磁性層６及び第３
の磁性層１３が記録を行うことができないのに十分な幅
ｔ5として形成されている。なお、本実施の形態におい
て、第２の磁性層６と第３の磁性層１３とによって形成
される磁気ギャップｇのギャップ長ｔ6は、約０．５μ
ｍとして形成されている。また、第２のトリミング部１
６ａ，１６ｂは、磁気ギャップｇが磁気記録媒体に対し
て情報信号の記録を行うことができなくなる程度にデプ
ス方向の長さ寸法を有するように形成されている。
は、磁気ギャップｇを媒体対向面１ａに露出させるよう
になっている。また、図２に上述の誘導型磁気ヘッド２
を媒体対向面１ａ側から見た図を示す。この誘導型磁気
ヘッド２の磁気ギャップｇの両端部には、トラック幅Ｃ
方向に所定の長さ寸法ｔ4を有するように第２のトリミ
ング部１６ａ，１６ｂが形成されることによって磁気ギ
ャップｇが磁気記録媒体に対して記録する記録幅ｔ4を
規制する。ここで、第２のトリミング部１６ａ，１６ｂ
は、磁気ギャップｇを構成する第２の磁性層６及び第３
の磁性層１３が記録を行うことができないのに十分な幅
ｔ5として形成されている。なお、本実施の形態におい
て、第２の磁性層６と第３の磁性層１３とによって形成
される磁気ギャップｇのギャップ長ｔ6は、約０．５μ
ｍとして形成されている。また、第２のトリミング部１
６ａ，１６ｂは、磁気ギャップｇが磁気記録媒体に対し
て情報信号の記録を行うことができなくなる程度にデプ
ス方向の長さ寸法を有するように形成されている。
【００３８】なお、本実施の形態において、この磁気ギ
ャップｇのトラック幅方向Ｃの長さ寸法ｔ4は、約３μ
ｍとなるように第２のトリミング部１６ａ，１６ｂを形
成している。また、第２のトリミング部１６ａ，１６ｂ
は、磁気ギャップｇが磁気記録媒体に対して情報信号の
記録を行うことができなくなる程度にデプス方向の長さ
寸法を有するように形成されている。また、本実施の形
態において、第２のトリミング部のデプス方向の長さ寸
法が、約１μｍ程度に形成している。また、この第２の
トリミング部のデプス方向の長さ寸法は、約１μｍ以上
としてもよい。
ャップｇのトラック幅方向Ｃの長さ寸法ｔ4は、約３μ
ｍとなるように第２のトリミング部１６ａ，１６ｂを形
成している。また、第２のトリミング部１６ａ，１６ｂ
は、磁気ギャップｇが磁気記録媒体に対して情報信号の
記録を行うことができなくなる程度にデプス方向の長さ
寸法を有するように形成されている。また、本実施の形
態において、第２のトリミング部のデプス方向の長さ寸
法が、約１μｍ程度に形成している。また、この第２の
トリミング部のデプス方向の長さ寸法は、約１μｍ以上
としてもよい。
【００３９】なお、この第２のトリミング部１４ａ，１
４ｂは、本実施の形態において、第１のトリミング部と
同様にＦＩＢ装置によって形成される。
４ｂは、本実施の形態において、第１のトリミング部と
同様にＦＩＢ装置によって形成される。
【００４０】このように構成された誘導型磁気ヘッド２
は、媒体対向面１ａ側に臨む磁気ギャップｇのトラック
幅方向Ｃにおける両端部に対してＦＩＢ装置により第２
のトリミング部１６ａ，１６ｂが形成されているので、
磁気ギャップｇのトラック幅方向Ｃの長さ寸法ｔ4を小
さくすることが可能となる。したがって、この誘導型磁
気ヘッド２によれば、磁気記録媒体に対して狭いトラッ
ク幅ｔ4で情報信号を記録することが可能である。した
がって、この誘導型磁気ヘッド２は、磁気記録媒体に対
して高密度に情報信号を記録することが可能となる。
は、媒体対向面１ａ側に臨む磁気ギャップｇのトラック
幅方向Ｃにおける両端部に対してＦＩＢ装置により第２
のトリミング部１６ａ，１６ｂが形成されているので、
磁気ギャップｇのトラック幅方向Ｃの長さ寸法ｔ4を小
さくすることが可能となる。したがって、この誘導型磁
気ヘッド２によれば、磁気記録媒体に対して狭いトラッ
ク幅ｔ4で情報信号を記録することが可能である。した
がって、この誘導型磁気ヘッド２は、磁気記録媒体に対
して高密度に情報信号を記録することが可能となる。
【００４１】つぎに、上述のように構成された磁気ヘッ
ド１の製造方法について説明する。この磁気ヘッドの製
造方法は、先ず、磁気ヘッド１が複数個切り出し可能な
大きさを有するセラミックやガラス等を材料とする非磁
性基板１２ａ上にＮｉ−Ｆｅ等よりなり、下側磁気シー
ルドとして機能する第１の磁性層５を積層する。次に、
この第１の磁性層５上に第１の絶縁層１７ａを積層す
る。次に、第１の絶縁層１７ａ上には、ＭＲ素子４が積
層され、更にこのＭＲ素子４上に第２の絶縁層１７ｂを
積層する。そして、この第２の絶縁層１７ｂ上には、Ｍ
Ｒ素子４に所定のバイアス磁界を印加するためのバイア
ス導体９、ＭＲ素子４の抵抗変化量を電圧変化量として
検出する先端電極７及び後端電極８が成膜され、このバ
イアス導体９上に第３の絶縁層１７ｃを積層する。
ド１の製造方法について説明する。この磁気ヘッドの製
造方法は、先ず、磁気ヘッド１が複数個切り出し可能な
大きさを有するセラミックやガラス等を材料とする非磁
性基板１２ａ上にＮｉ−Ｆｅ等よりなり、下側磁気シー
ルドとして機能する第１の磁性層５を積層する。次に、
この第１の磁性層５上に第１の絶縁層１７ａを積層す
る。次に、第１の絶縁層１７ａ上には、ＭＲ素子４が積
層され、更にこのＭＲ素子４上に第２の絶縁層１７ｂを
積層する。そして、この第２の絶縁層１７ｂ上には、Ｍ
Ｒ素子４に所定のバイアス磁界を印加するためのバイア
ス導体９、ＭＲ素子４の抵抗変化量を電圧変化量として
検出する先端電極７及び後端電極８が成膜され、このバ
イアス導体９上に第３の絶縁層１７ｃを積層する。
【００４２】次に、第３の絶縁層１７ｃ上には、ＭＲヘ
ッド３の磁気シールドとして機能するとともに、誘導型
磁気ヘッド２の磁気コアとして機能する第２の磁性層６
を積層する。次に、第４の絶縁層１７ｄを積層した後
に、この第４の絶縁層１７ｄ上にエッチング等の微細加
工技術により、誘導型磁気ヘッド２のコイル１４として
機能する良導電性の材料を形成する。次に、このコイル
１４上に第５の絶縁層１７ｅを積層し、この第５の絶縁
層１７ｅ上に磁気コアとして機能する第３の磁性層１３
を積層する。次に、第３の磁性層１３上に非磁性及び非
導電性を有する材料からなる保護層１２ｂを積層して、
図５に示すような磁気ヘッド１が複数個切り出し可能な
磁気ヘッドブロック１８が構成される。
ッド３の磁気シールドとして機能するとともに、誘導型
磁気ヘッド２の磁気コアとして機能する第２の磁性層６
を積層する。次に、第４の絶縁層１７ｄを積層した後
に、この第４の絶縁層１７ｄ上にエッチング等の微細加
工技術により、誘導型磁気ヘッド２のコイル１４として
機能する良導電性の材料を形成する。次に、このコイル
１４上に第５の絶縁層１７ｅを積層し、この第５の絶縁
層１７ｅ上に磁気コアとして機能する第３の磁性層１３
を積層する。次に、第３の磁性層１３上に非磁性及び非
導電性を有する材料からなる保護層１２ｂを積層して、
図５に示すような磁気ヘッド１が複数個切り出し可能な
磁気ヘッドブロック１８が構成される。
【００４３】上述したような工程によって形成された磁
気ヘッドブロック１８の媒体対向面１８ａ側に対してＦ
ＩＢ装置により第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及び
第２のトリミング部１６ａ，１６ｂを形成する。ここ
で、第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリ
ミング部１６ａ，１６ｂは、誘導型磁気ヘッド２の磁気
ギャップｇのトラック幅方向Ｃの両端部及びＭＲ素子４
のトラック幅方向Ｃの両端部に形成する。これら第１の
トリミング部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリミング部１
６ａ，１６ｂは、先ずＦＩＢ装置のステージ上に装填し
てビーム１９を走査させながら行う。すなわち、これら
第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリミン
グ部１６ａ，１６ｂは、ＦＩＢ装置のビームの走査精度
の範囲で行われる。すなわち、これら第１のトリミング
部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリミング部１６ａ，１６
ｂは、ＦＩＢ装置により位置を設定すると、ビーム１９
の走査精度の範囲内で形成することが可能である。な
お、本実施の形態においては、ＦＩＢ装置に備えられて
いるビーム１９の走査精度の範囲は、約０．１μｍ程度
である。
気ヘッドブロック１８の媒体対向面１８ａ側に対してＦ
ＩＢ装置により第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及び
第２のトリミング部１６ａ，１６ｂを形成する。ここ
で、第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリ
ミング部１６ａ，１６ｂは、誘導型磁気ヘッド２の磁気
ギャップｇのトラック幅方向Ｃの両端部及びＭＲ素子４
のトラック幅方向Ｃの両端部に形成する。これら第１の
トリミング部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリミング部１
６ａ，１６ｂは、先ずＦＩＢ装置のステージ上に装填し
てビーム１９を走査させながら行う。すなわち、これら
第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリミン
グ部１６ａ，１６ｂは、ＦＩＢ装置のビームの走査精度
の範囲で行われる。すなわち、これら第１のトリミング
部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリミング部１６ａ，１６
ｂは、ＦＩＢ装置により位置を設定すると、ビーム１９
の走査精度の範囲内で形成することが可能である。な
お、本実施の形態においては、ＦＩＢ装置に備えられて
いるビーム１９の走査精度の範囲は、約０．１μｍ程度
である。
【００４４】次に、第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ
及び第２のトリミング部１６ａ，１６ｂを形成した磁気
ヘッドブロック１８を複数の磁気ヘッド１毎にカッティ
ングして上述の磁気ヘッド１が完成する。
及び第２のトリミング部１６ａ，１６ｂを形成した磁気
ヘッドブロック１８を複数の磁気ヘッド１毎にカッティ
ングして上述の磁気ヘッド１が完成する。
【００４５】このような磁気ヘッド１の製造方法は、磁
気ギャップｇ及びＭＲ素子４のトラック方向Ｃの両端部
に第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリミ
ング部１６ａ，１６ｂを高精度に形成することが可能と
なる。したがって、この磁気ヘッド１の製造方法によれ
ば、磁気ギャップｇ及びＭＲ素子４のトラック幅方向Ｃ
における長さ寸法が小さい磁気ヘッドを製造することが
可能である。したがって、このように製造された磁気ヘ
ッド１は、磁気記録媒体に対して狭トラックで情報信号
の記録再生を行うことが可能である。
気ギャップｇ及びＭＲ素子４のトラック方向Ｃの両端部
に第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及び第２のトリミ
ング部１６ａ，１６ｂを高精度に形成することが可能と
なる。したがって、この磁気ヘッド１の製造方法によれ
ば、磁気ギャップｇ及びＭＲ素子４のトラック幅方向Ｃ
における長さ寸法が小さい磁気ヘッドを製造することが
可能である。したがって、このように製造された磁気ヘ
ッド１は、磁気記録媒体に対して狭トラックで情報信号
の記録再生を行うことが可能である。
【００４６】また、このような磁気ヘッド１の製造方法
によれば、ＭＲ素子４及び磁気ギャップｇのトラック幅
方向Ｃの長さ寸法を小さくした磁気ヘッド１をパターニ
ング等の工程が複雑な微細露光技術等で形成する必要が
なく、容易な工程で形成することが可能となる。また、
本実施の形態にかかる磁気ヘッド１の製造方法によれ
ば、磁気ヘッド１の製造工程の不良によりＭＲ素子４及
び磁気ギャップｇのトラック方向Ｃの長さ寸法を大きく
形成した場合もしくはＭＲ素子と磁気ギャップｇの位置
関係がずれた場合、後の工程でＭＲ素子４及び磁気ギャ
ップｇの両端部に第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及
び第２のトリミング部１６ａ，１６ｂを形成するので、
歩留まりを向上させることが可能である。
によれば、ＭＲ素子４及び磁気ギャップｇのトラック幅
方向Ｃの長さ寸法を小さくした磁気ヘッド１をパターニ
ング等の工程が複雑な微細露光技術等で形成する必要が
なく、容易な工程で形成することが可能となる。また、
本実施の形態にかかる磁気ヘッド１の製造方法によれ
ば、磁気ヘッド１の製造工程の不良によりＭＲ素子４及
び磁気ギャップｇのトラック方向Ｃの長さ寸法を大きく
形成した場合もしくはＭＲ素子と磁気ギャップｇの位置
関係がずれた場合、後の工程でＭＲ素子４及び磁気ギャ
ップｇの両端部に第１のトリミング部１４ａ，１４ｂ及
び第２のトリミング部１６ａ，１６ｂを形成するので、
歩留まりを向上させることが可能である。
【００４７】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる磁気ヘッドは、記録媒体に対して垂直方向に再生電
流を流すように配設された磁気抵抗効果素子を備える磁
気抵抗効果型磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗効果型素子
のトラック幅方向における両端部に切り欠き部を形成し
たので、磁気抵抗効果素子の磁気記録媒体に対するトラ
ック幅を任意に定めることが可能となる。したがって、
磁気ヘッドは、面記録密度の向上に伴う狭トラック化に
対応してトラック幅を小さくすることが可能となる。
かる磁気ヘッドは、記録媒体に対して垂直方向に再生電
流を流すように配設された磁気抵抗効果素子を備える磁
気抵抗効果型磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗効果型素子
のトラック幅方向における両端部に切り欠き部を形成し
たので、磁気抵抗効果素子の磁気記録媒体に対するトラ
ック幅を任意に定めることが可能となる。したがって、
磁気ヘッドは、面記録密度の向上に伴う狭トラック化に
対応してトラック幅を小さくすることが可能となる。
【００４８】また、本発明にかかる磁気ヘッドの製造方
法は、磁気抵抗効果型素子のトラック幅方向における両
端部に切り欠き部を形成する工程を有しているので、磁
気ギャップ及び磁気抵抗効果型素子のトラック幅方向の
両端部に切り欠き部を形成することが可能となる。した
がって、この磁気ヘッドの製造方法によれば、磁気ギャ
ップ及び磁気抵抗効果型素子のトラック幅方向における
長さ寸法が小さい磁気ヘッドを製造することが可能であ
る。したがって、このように製造された磁気ヘッドは、
磁気記録媒体に対して狭トラックで情報信号の記録再生
を行うことが可能である。
法は、磁気抵抗効果型素子のトラック幅方向における両
端部に切り欠き部を形成する工程を有しているので、磁
気ギャップ及び磁気抵抗効果型素子のトラック幅方向の
両端部に切り欠き部を形成することが可能となる。した
がって、この磁気ヘッドの製造方法によれば、磁気ギャ
ップ及び磁気抵抗効果型素子のトラック幅方向における
長さ寸法が小さい磁気ヘッドを製造することが可能であ
る。したがって、このように製造された磁気ヘッドは、
磁気記録媒体に対して狭トラックで情報信号の記録再生
を行うことが可能である。
【００４９】また、このような磁気ヘッドの製造方法に
よれば、磁気抵抗効果型素子及び磁気ギャップのトラッ
ク幅方向の長さ寸法を小さくした磁気ヘッドを集束イオ
ンビームで形成するので、微細露光技術等で形成する必
要がなく、容易に形成することが可能となる。また、本
発明にかかる磁気ヘッドの製造方法によれば、磁気ヘッ
ドの製造工程の不良により磁気抵抗効果型素子及び磁気
ギャップのトラック幅方向の長さ寸法を大きく形成した
場合等においても、後の工程で磁気抵抗効果型素子及び
磁気ギャップの両端部に切り欠き部を形成するので、歩
留まり向上させることが可能である。
よれば、磁気抵抗効果型素子及び磁気ギャップのトラッ
ク幅方向の長さ寸法を小さくした磁気ヘッドを集束イオ
ンビームで形成するので、微細露光技術等で形成する必
要がなく、容易に形成することが可能となる。また、本
発明にかかる磁気ヘッドの製造方法によれば、磁気ヘッ
ドの製造工程の不良により磁気抵抗効果型素子及び磁気
ギャップのトラック幅方向の長さ寸法を大きく形成した
場合等においても、後の工程で磁気抵抗効果型素子及び
磁気ギャップの両端部に切り欠き部を形成するので、歩
留まり向上させることが可能である。
【図１】本発明にかかる磁気ヘッドの一例を示す断面図
である。
である。
【図２】磁気ヘッドを媒体対向面側からみた図である。
【図３】トリミング部をＭＲ素子に形成した状態の一例
を示す図である。
を示す図である。
【図４】トリミング部をＭＲ素子に形成した状態の他の
例を示す図である。
例を示す図である。
【図５】磁気ヘッドブロックに集束イオンビームを照射
している状態を示す図である。
している状態を示す図である。
【図６】横型のＭＲヘッドに備えられるＭＲ素子に対し
てトリミング部を形成した状態を示す概略図である。
てトリミング部を形成した状態を示す概略図である。
１ 磁気ヘッド、２ 誘導型磁気ヘッド、３ 磁気抵抗
効果型磁気ヘッド、４ＭＲ素子、１４ａ，１４ｂ 第１
のトリミング部、１６ａ，１６ｂ 第２のトリミング部
効果型磁気ヘッド、４ＭＲ素子、１４ａ，１４ｂ 第１
のトリミング部、１６ａ，１６ｂ 第２のトリミング部
Claims (6)
- 【請求項１】 記録媒体に対して垂直方向に再生電流を
流すように配設された磁気抵抗効果素子を備える磁気ヘ
ッドにおいて、 上記磁気抵抗効果素子のトラック幅方向における両端部
に切り欠き部が形成されるように、媒体対向面側に凹部
を形成したことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 記録媒体に対して記録を行う記録用磁気
ヘッドを備え、上記記録用磁気ヘッドの磁気ギャップの
トラック幅方向における両端部に、切り欠き部が形成さ
れるように、媒体対向面に凹部を形成したことを特徴と
する請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 上記凹部が、少なくとも磁気抵抗効果素
子の感磁部全体に亘って形成されていることを特徴とす
る請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】 記録媒体に対して垂直方向に再生電流を
流すように配設された磁気抵抗効果素子を備える磁気ヘ
ッドの製造方法において、 上記磁気抵抗効果素子のトラック幅方向における両端部
に、切り欠き部が形成されるように、媒体対向面側に凹
部を形成する工程を有することを特徴とする磁気ヘッド
の製造方法。 - 【請求項５】 上記磁気ヘッドは、記録媒体に対して記
録を行う記録用磁気ヘッドを備え、 上記記録用磁気ヘッドの磁気ギャップのトラック幅方向
における両端部に切り欠き部を形成するように、媒体対
向面側に凹部を形成する工程を有することを特徴とする
請求項４記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】 上記凹部は、集束イオンビームによって
形成することを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッドの
製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8312371A JPH10154312A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US08/974,349 US5966274A (en) | 1996-11-22 | 1997-11-19 | Magneto-resistive magnetic head with track width defined by oppositely positioned recesses and manufacturing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8312371A JPH10154312A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10154312A true JPH10154312A (ja) | 1998-06-09 |
Family
ID=18028459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8312371A Withdrawn JPH10154312A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5966274A (ja) |
| JP (1) | JPH10154312A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6064552A (en) * | 1997-03-18 | 2000-05-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive head having magnetic yoke and giant magnetoresistive element such that a first electrode is formed on the giant magnetoresistive element which in turn is formed on the magnetic yoke which acts as a second electrode |
| US6452756B1 (en) * | 1998-06-04 | 2002-09-17 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head and method of manufacturing same and thin-film magnetic head material and method of manufacturing same |
| JP2000057520A (ja) * | 1998-08-04 | 2000-02-25 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記憶装置 |
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| US6893734B2 (en) * | 2000-12-22 | 2005-05-17 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetic sensing element with improved sensitivity and method for making the same |
| US8077152B2 (en) * | 2004-10-15 | 2011-12-13 | University Of Iowa Research Foundation | Magneto resistive elements and methods for manufacture and use of same |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5034838A (en) * | 1990-05-08 | 1991-07-23 | Eastman Kodak Company | Bi-directional read while write magnetic head assembly having a wear avoidance contour |
| US5729413A (en) * | 1995-12-20 | 1998-03-17 | Ampex Corporation | Two-gap magnetic read/write head |
-
1996
- 1996-11-22 JP JP8312371A patent/JPH10154312A/ja not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-11-19 US US08/974,349 patent/US5966274A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5966274A (en) | 1999-10-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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