JPH10149901A - Electric resistor, and manufacturing method of electric resistor - Google Patents

Electric resistor, and manufacturing method of electric resistor

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JPH10149901A
JPH10149901A JP9325365A JP32536597A JPH10149901A JP H10149901 A JPH10149901 A JP H10149901A JP 9325365 A JP9325365 A JP 9325365A JP 32536597 A JP32536597 A JP 32536597A JP H10149901 A JPH10149901 A JP H10149901A
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JP
Japan
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resistor
substrate
film
resistance
adhesive layer
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JP9325365A
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Japanese (ja)
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Ullrich Dr Hetzler
ヘツラー ウルリツヒ
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IsabellenHuette Heusler GmbH and Co KG
Isabellen Huette GmbH
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IsabellenHuette Heusler GmbH and Co KG
Isabellen Huette GmbH
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Publication date
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    • H01CRESISTORS
    • H01C1/00Details
    • H01C1/08Cooling, heating or ventilating arrangements
    • H01C1/084Cooling, heating or ventilating arrangements using self-cooling, e.g. fins, heat sinks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C1/00Details
    • H01C1/14Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors
    • H01C1/142Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors the terminals or tapping points being coated on the resistive element
    • HELECTRICITY
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    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/006Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for manufacturing resistor chips
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    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/06Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
    • H01C17/07Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by resistor foil bonding, e.g. cladding

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To materialize a resistor which can withstand high load, is easy of mass production, can be reused without marring specified accuracy and reliability, and is suitable for measurement of currents of power. SOLUTION: The resistor for measurement of power is composed of a metallic substrate 1, an adhesive layer 3 containing ceramic powder, and a resistive alloy film 2 having a connector contact layer 4 on opposite side from the substrate. The manufacture is as follows: a connector contact layer 4 is made by applying metallic cover to a resistor film 2 made of resistive alloy, next a desired resistor and contact structure are made by etching the stack so as to form a plurality of resistor devices, further the metallic substrate face on the opposite side from the resistor film 2 is etched, and the stack is cut at the section of the joint of the remaining adhesive layer 3 to separate each resistor device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、請求項1の前半部に記
載したような、抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルム
と、良好な熱伝導性を有する基板と、このフィルムと基
板の間に位置していてフィルムと基板とを共に強く接着
する絶縁材料からなる接着層とで構成された電気抵抗
器、特に低抵抗の電気抵抗器であって、好ましくはさら
に基板とは反対側にある抵抗フィルム面側にコネクタ・
コンタクト面が配置されている電気抵抗器に関し、また
その製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a metal resistive film made of a resistive alloy, a substrate having good thermal conductivity, and a method for forming a film between the film and the substrate. An electrical resistor, especially a low-resistance electrical resistor, which is composed of an adhesive layer made of an insulating material which strongly adheres the film and the substrate together, and which is preferably further opposite to the substrate The connector on the resistance film side
The present invention relates to an electric resistor provided with a contact surface, and to a method for manufacturing the electric resistor.

【0002】[0002]

【発明の背景】このようなタイプの電力用の低抵抗の測
定用抵抗器は、一般にはミリオーム(mΩ)範囲のもの
であるが、多くの用途においては場合によって100Ω
またはそれより高いオーダまで高くすることもあり、し
ばしばSMD(Surface Mounted Device、表面実装デバ
イス)構造であることが要求され、また、周知のチップ
構成素子(構成部品)のように、その平坦な接続用コン
タクト面をプリント回路板の平坦な接続リードに直接半
田付けしたり、その平坦な基板面を冷却体の表面上に半
田付けまたは接着剤で固着できる構造にすることができ
る。また、その抵抗器は、いわゆる電力用ハイブリッド
回路における電力用半導体およびその他の受動素子と共
に用いて、抵抗器のコネクタ・コンタクト層に外部接続
ワイヤ(線)を取付け(“ボンディング”または“接
合”)することができる。この表面実装技術の重要な利
点は、潜在的に小型化できる可能性と空間(スペース)
利用効率が良いことに加えて、抵抗素子からの放熱性
(熱放散性)が良いことである。また、多くの場合、測
定用または電力用の抵抗器をさらに小型化することが要
望されている。一方、抵抗器に対して、さらに高い負荷
が要求され、またそれに対応するさらに高い動作温度が
要求される。また、別に考慮すべき要素として、抵抗器
が組込まれる回路は価格に敏感であることが多いので、
抵抗器は、できるだけ低コストで製造でき、また再使用
可能であることが要求される。従来知られているSMD
抵抗器またはチップ抵抗器では、これらの要求を常に充
分に満たすことはできない。
BACKGROUND OF THE INVENTION Low resistance measuring resistors for such power types are typically in the milliohm (mΩ) range, but in many applications may be as low as 100Ω.
Or higher than that, often requiring an SMD (Surface Mounted Device) structure, and its flat connections, like well-known chip components (components). The contact surface can be soldered directly to a flat connection lead of a printed circuit board, or the flat substrate surface can be soldered or fixed with an adhesive on the surface of the cooling body. The resistor is used in conjunction with a power semiconductor and other passive elements in a so-called power hybrid circuit to attach external connection wires (wires) to the connector contact layer of the resistor ("bonding" or "bonding"). can do. An important advantage of this surface mount technology is its potential for miniaturization and space.
In addition to good utilization efficiency, good heat dissipation (heat dissipation) from the resistance element is required. Further, in many cases, it is desired to further reduce the size of a resistor for measurement or power. On the other hand, higher loads are required for the resistors and correspondingly higher operating temperatures are required. Another factor to consider is that circuits with resistors are often price sensitive,
Resistors must be able to be manufactured at the lowest possible cost and be reusable. Conventionally known SMD
With resistors or chip resistors, these requirements cannot always be fully met.

【0003】ドイツ実用新案出願公開第DE90 15 206
U1号明細書で公知の上述のタイプのSMD構造の抵抗
器は、接続用コンタクトとしてコンパクトな(小さな)
半田のビーズまたは玉を有する。それを製造するために
は、まず、アルムニウム系金属基板(例えば、AlMg
3 プレート)と抵抗性合金の抵抗フィルムとを接着性フ
ィルムを間に挟んでプレスすることによって複合体(積
層体)が形成される。次いで、その抵抗フィルムは、フ
ォトエッチングによって所要の抵抗路構造の形状に形成
される。そのエッチング処理(プロセス)の後、抵抗フ
ィルムを支持する複合体の表面に半田阻止用ラッカ層
(または保護用ラッカ層)の被覆が施され、それによっ
てその後のコネクタ・コンタクト領域が決定され且つ白
抜き処理(aussparen) され、次いで半田ペーストでスク
リーン・プリント処理(スクリーン印刷処理)され、最
後にそれを再溶融処理することによってコネクタ・コン
タクトを構成する半田ビーズがその半田ペーストから形
成される。
German Utility Model Application Publication No. DE 90 15 206
Resistors of the SMD type of the type described above known from U1 are compact (small) as connecting contacts.
Has solder beads or balls. In order to manufacture it, first, an aluminum-based metal substrate (eg, AlMg
The composite (laminate) is formed by pressing the three plates) and the resistive film of the resistive alloy with the adhesive film interposed therebetween. Next, the resistive film is formed into a required resistive path structure by photoetching. After the etching process, the surface of the composite supporting the resistive film is coated with a solder-blocking lacquer layer (or protective lacquer layer), whereby the subsequent connector contact areas are determined and white The solder paste is aussparen, then screen printed with a solder paste, and finally remelted to form the solder beads forming the connector contacts from the solder paste.

【0004】SMD構造の測定用低抵抗抵抗器は、ドイ
ツ特許第DE43 39 551 C1号明細書(特開平7−19
2902号公報、特許第2649491号に対応)によ
って公知であり、そのコネクタ・コンタクトは基板の反
対側にある抵抗フィルム側には配置されずに、基板その
ものによって構成されている。それを製造するために
は、まず銅プレート(銅板)、接着剤で被覆(カバー)
されたポリイミド・フィルム、および抵抗フィルムから
比較的大きな積層体が形成され、この積層体がいわゆる
“開始積層体”を構成する。その積層体を基に、抵抗フ
ィルムをエッチングして所要の抵抗構造または抵抗体構
造を形成した後、次いでその銅プレートと抵抗フィルム
とを接続する銅層を形成し、次いで銅プレートを貫通す
るように深くエッチングして、基板によって構成される
接続用コンタクトを互いに分離し、例えば約2000個
の抵抗器を分離形成することができる。
[0004] A low resistance resistor for measurement of the SMD structure is disclosed in German Patent DE 43 39 551 C1 (Japanese Patent Laid-Open No. 7-19).
No. 2902, corresponding to Japanese Patent No. 2649491), and the connector contacts are not arranged on the resistive film side on the opposite side of the substrate, but are constituted by the substrate itself. To manufacture it, first, copper plate (copper plate), covered with adhesive (cover)
A relatively large laminate is formed from the applied polyimide film and the resistive film, and this laminate constitutes a so-called “starting laminate”. Based on the laminate, a resistive film is etched to form a desired resistive structure or a resistive structure, and then a copper layer connecting the copper plate and the resistive film is formed, and then penetrated through the copper plate. The connection contacts formed by the substrate can be separated from each other, for example, by separating approximately 2000 resistors.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的
は、このような技術的背景の下で、従来より高い負荷に
耐えることができ、大量生産が容易で、抵抗器の所要の
精度と信頼性を損なうことなく再使用可能な、電力用の
電流測定用抵抗器に適した抵抗器を実現することであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The main object of the present invention is to provide a device which can withstand a higher load than before, can be easily mass-produced, and has the required accuracy and reliability of a resistor. An object of the present invention is to realize a resistor suitable for a current measuring resistor for electric power, which can be reused without deteriorating the performance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本願発明の目的は、特許
請求の範囲に記載された構成によって達成される。即
ち、本願発明による電気抵抗器、特に低抵抗の電気抵抗
器は、抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルム(2)
と、良好な熱伝導性を有する基板(1)と、そのフィル
ムと基板の間に位置していてフィルムと基板とを共に強
く接着または接合する絶縁材料からなる接着層(3)と
を具え、その接着層(3)が、熱伝導性の絶縁材料の粉
末を含有するプラスチック等の粘着性(接着性)物質材
料からなることを特徴とする。
The object of the present invention is attained by the structure described in the claims. That is, the electric resistor according to the present invention, particularly the low-resistance electric resistor, is a metal resistor film (2) made of a resistive alloy.
A substrate (1) having good thermal conductivity, and an adhesive layer (3) made of an insulating material that is located between the film and the substrate and strongly adheres or bonds the film and the substrate together; The adhesive layer (3) is made of an adhesive (adhesive) material such as plastic containing a powder of a thermally conductive insulating material.

【0007】また、本願発明による電気抵抗器、特に低
抵抗の電気抵抗器の製造方法は、個々の抵抗器の基板
(1)の周縁の全体的に(完全に)内側に位置する抵抗
フィルム(2)を有する電気抵抗器の製造方法であっ
て;抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルムが、熱伝導
性が良好な材料からなる基板の上に、絶縁材料からなる
熱伝導性の接着層(3)を介して接着されており、抵抗
フィルムをエッチングして複数の個々の抵抗素子を形成
し、そのエッチングされた抵抗性フィルムと、基板と、
抵抗フィルムと基板の間に位置する接着層とからなる積
層体を、個々の抵抗器に分離する、電気抵抗器の製造方
法において;接着層は、熱伝導性を有する絶縁材料の粉
末を含有するプラスチック等の粘着性(接着性)物質か
らなり、抵抗フィルムと、基板と、抵抗フィルムと基板
の間に位置する接着層とをプレス機において加熱して共
にプレスすること、を特徴とする。
Further, the method of manufacturing an electric resistor according to the present invention, in particular, an electric resistor having a low resistance, comprises a resistive film (which is located entirely (completely) inside the periphery of the substrate (1) of each resistor. 2) A method of manufacturing an electric resistor, wherein a metal resistance film made of a resistive alloy is formed on a substrate made of a material having a good heat conductivity on a heat conductive adhesive layer made of an insulating material. 3) being bonded through the resistive film, etching the resistive film to form a plurality of individual resistive elements, the etched resistive film, the substrate,
A method for manufacturing an electric resistor, in which a laminate comprising a resistive film and an adhesive layer located between a substrate is separated into individual resistors; the adhesive layer contains a powder of a thermally conductive insulating material. It is made of a tacky (adhesive) substance such as plastic, and is characterized in that a resistance film, a substrate, and an adhesive layer located between the resistance film and the substrate are heated and pressed together by a press.

【0008】また、本願発明による電気抵抗器、特に低
抵抗の電気抵抗器の別の製造方法は、個々の抵抗器の基
板(1)の周縁の全体的に(完全に)内側に位置する抵
抗フィルム(2)と、基板とは反対側にある抵抗フィル
ムの表面側にコネクタ・コンタクト層(4)とを有する
電気抵抗器の製造方法であって;抵抗性合金からなる金
属製抵抗フィルムが、熱伝導性が良好な材料からなる基
板の上に、絶縁材料からなる熱伝導性の接着層(3)を
介して接着されており、抵抗フィルムをエッチングして
複数の個々の抵抗素子を形成し、そのエッチングされた
抵抗フィルムと、基板と、抵抗フィルムと基板の間に位
置する接着層とからなる積層体を、個々の抵抗器に分離
する、電気抵抗器の製造方法において;まず、基板とは
反対側にある抵抗フィルムの表面における、形成しよう
とする抵抗器のコネクタ・コンタクト層が配置される位
置に、少なくとも所要のコネクタ・コンタクト領域(2
3)を含む制限された複数の表面領域(42)をフォト
リソグラフィ的に形成し、次いで、制限された複数の表
面領域にコネクタ・コンタクト金属の被覆を施し、次い
で、その部分的に金属被覆された抵抗フィルムをエッチ
ングして、抵抗構造(22)を形成すること、を特徴と
する。
Another method of manufacturing an electrical resistor according to the present invention, in particular a low-resistance electrical resistor, comprises a resistor located entirely (completely) inside the periphery of the substrate (1) of the individual resistor. A method for producing an electrical resistor comprising a film (2) and a connector contact layer (4) on the surface side of the resistor film opposite to the substrate; wherein the metal resistor film made of a resistive alloy comprises: A plurality of individual resistance elements are formed by etching a resistance film on a substrate made of a material having good thermal conductivity via a heat conductive adhesive layer (3) made of an insulating material. A method of manufacturing an electric resistor, in which a laminate comprising the etched resistance film, a substrate, and an adhesive layer located between the resistance film and the substrate is separated into individual resistors; Is the resistance on the other side At the surface of Irumu, a position where the connector contact layer of the resistor to be formed is placed, at least the required connector contact regions (2
3) Photolithographically defining a limited plurality of surface areas, including (3), then applying a connector contact metal coating to the limited plurality of surface areas, and then partially metallizing the connector contact metal. Etching the resistive film to form a resistive structure (22).

【0009】また、本願発明による電気抵抗器、特に低
い電気抵抗器のさらに別の製造方法は、個々の抵抗器の
基板(1)の周縁の全体的に(完全に)内側に位置する
抵抗フィルム(2)を有する電気抵抗器の製造方法であ
って;抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルムが、熱伝
導性が良好な金属からなる基板の上に、絶縁材料からな
る熱伝導性の接着層(3)を介して接着されており、抵
抗フィルムをエッチングして複数の個々の抵抗素子を形
成し、エッチングされた抵抗フィルムと、基板と、抵抗
フィルムと基板の間に位置する接着層とからなる積層体
を、個々の抵抗器に分離する、電気抵抗器の製造方法に
おいて;積層体を分離するために、抵抗フィルムとは反
対側にある基板の表面の位置から分離線に沿って接着層
の位置まで基板をエッチングし、次いで、基板とは反対
の側から積層体に圧力を加えて、残りの接着層の連結部
分(52)を破壊して、抵抗器を分離すること、を特徴
とする。
Yet another method of manufacturing an electrical resistor, in particular a low electrical resistor, according to the present invention is a resistive film located entirely (completely) inside the periphery of the substrate (1) of the individual resistor. (2) A method for manufacturing an electric resistor, wherein a metal resistance film made of a resistive alloy is formed on a substrate made of a metal having good heat conductivity, on a heat conductive adhesive layer made of an insulating material. A plurality of individual resistive elements formed by etching the resistive film and forming a plurality of individual resistive elements from the resistive film, the substrate, and the adhesive layer located between the resistive film and the substrate; A method of manufacturing an electrical resistor, comprising separating the laminate into individual resistors; in order to separate the laminate, an adhesive layer is provided along a separation line from a location on the surface of the substrate opposite the resistive film. Board to the position And etching, then, the substrate by applying pressure to the laminate from the opposite side, by destroying the connecting portion (52) of the remaining adhesive layer, separating the resistors, and wherein.

【0010】[0010]

【発明の作用効果】本願発明によれば、抵抗フィルム、
接着層および基板で構成され且つ予め作製された三層複
合積層体から、上述の特徴または特性を有する抵抗器を
低コストで大量に製造することができる。抵抗器を極端
に小型化する必要がある場合にも、例えば8000個の
抵抗器を寸法が300mm×400mmの“開始積層
体”から難なく容易に製造することができる。抵抗器
は、必要に応じて、プリント回路板用のSMD素子とし
て使用したり、またその他のタイプの抵抗器の内部素子
として、例えば、ハウジング内に取付けたり、比較的厚
い銅支持体、冷却体等に固着したりするなどして使用す
ることができる。
According to the present invention, a resistance film,
From the prefabricated three-layer composite laminate composed of the adhesive layer and the substrate, resistors having the above-described characteristics or characteristics can be mass-produced at low cost. Even if the resistors need to be extremely miniaturized, 8000 resistors, for example, can easily be manufactured without difficulty from a “starting laminate” measuring 300 mm × 400 mm. The resistors can be used as needed as SMD elements for printed circuit boards, or as internal elements of other types of resistors, for example, mounted in housings, relatively thick copper supports, cooling bodies. It can be used by sticking to the like.

【0011】本発明の第1の特徴によれば、セラミック
等の粉末を比較的多量に含有する合成樹脂接着剤を使用
すると、好ましくは積層体中の接着層を構成するフィル
ムの形態で使用すると、製造段階において特に抵抗器を
分離する段階だけでなく、完成品の素子(抵抗器デバイ
ス)においても有利である。即ち、この接着層は、機械
的および熱的な負荷に耐えることができ、抵抗フィルム
からの排熱放散(放熱)に関しても、抵抗器製造におい
て従来用いられているポリイミド接着フィルムより優れ
ている。但し、上述のセラミック粉末またはその他の熱
伝導性かつ電気的絶縁性を有する粒状材料を含有する樹
脂系接着層そのものは、半導体素子を放熱ハウジング部
分または冷却体に接着するためのものとしては既に知ら
れている。しかし、本明細書で説明する抵抗器における
接着層は、公知の用途にはない、例えば脆さおよび破壊
容易性等を有する点で優れている。
According to a first feature of the present invention, when a synthetic resin adhesive containing a relatively large amount of powder such as ceramics is used, it is preferably used in the form of a film constituting an adhesive layer in a laminate. This is advantageous not only in the step of separating the resistor in the manufacturing stage, but also in the element (resistor device) of the finished product. That is, the adhesive layer can withstand mechanical and thermal loads, and is superior to the polyimide adhesive film conventionally used in resistor manufacture in dissipating heat (radiation) from the resistance film. However, the resin-based adhesive layer itself containing the above-mentioned ceramic powder or other particulate material having thermal conductivity and electrical insulation is already known for bonding a semiconductor element to a heat radiating housing portion or a cooling body. Have been. However, the adhesive layer in the resistor described in this specification is excellent in that it does not have a known use, for example, has brittleness and easiness of breaking.

【0012】また、本発明の第2の特徴によれば、抵抗
フィルムとは反対側の表面(背面)側から分離線に沿っ
て積層体を切断(破壊)するために、好ましくは例えば
銅またはアルミニウム等の熱伝導性が良好な金属を含ん
だ基板を貫通するように深くエッチングすると有利であ
る。抵抗構造をエッチングによって形成し、必要に応じ
てコネクタ・コンタクト層をもエッチングする一方で、
その反対の面側からも全ての金属を破壊点(破壊位置)
の深さまで除去すると、後には接着層材料だけが残る。
特に、上述の粒状材料を含有する接着剤または粘着剤
は、比較的脆く破壊が容易なので、“開始積層体”の抵
抗体側の表面全体をゴム弾性を有するマット(54)で
覆って、そのマットを積層体の抵抗体側に押圧する1つ
の処理工程で抵抗器を分離するのに都合が良い。
According to a second aspect of the present invention, in order to cut (break) the laminate along the separation line from the surface (back surface) opposite to the resistance film, preferably, for example, copper or copper is used. It is advantageous to etch deeply so as to penetrate a substrate containing a metal having good thermal conductivity such as aluminum. The resistive structure is formed by etching, and the connector / contact layer is etched if necessary.
Destruction point (destruction position) for all metals from the opposite side
, Only the adhesive layer material remains.
In particular, since the adhesive or pressure-sensitive adhesive containing the above-mentioned granular material is relatively brittle and easily broken, the entire surface of the “starting laminate” on the resistor side is covered with a rubber elastic mat (54), and the mat is formed. It is convenient to separate the resistors in one processing step of pressing the resistor to the resistor side of the laminate.

【0013】さらに、本発明の第3の特徴によれば、特
に製造方法に関して、従来のように抵抗構造をエッチン
グによって形成した後にコネクタ・コンタクト層を被着
することはせずに、それより先に、抵抗フィルムの上面
に部分的金属被覆を施すか、または例えば前もって抵抗
フィルムにエッチングによって形成した凹所(43)等
に部分的金属被覆を施してコネクタ・コンタクト層を被
着すると、非常に有利である。製造方法を簡単にするた
めに、コネクタ・コンタクト層を、後で必要となるサイ
ズ(面積)よりも最初は広く(大きく)形成しておく
と、抵抗体とコンタクトの構造体を共に同じ1つの処理
段階でエッチングして形成することができる。この利点
は、セラミックを含有しない他の接着層を用いて抵抗器
を製造する場合にも得られる。一方、上述の粒状材料を
含有する接着剤を用いた場合の利点は、抵抗フィルムに
は予めコンタクト層の金属被覆が施されていないが、分
離された抵抗器においてはコネクタ・コンタクト層が接
合されている場合にも得られる。
Further, according to a third aspect of the present invention, particularly with respect to the manufacturing method, the connector contact layer is not applied after the resistive structure is formed by etching as in the prior art, but rather than before. If the connector contact layer is applied with a partial metallization on the upper surface of the resistive film, or with a partial metallization, for example in a recess (43) previously formed by etching the resistive film, very It is advantageous. In order to simplify the manufacturing method, if the connector / contact layer is initially formed to be wider (larger) than the size (area) required later, the structure of the resistor and the contact will be the same one. It can be formed by etching at the processing stage. This advantage is also obtained when the resistor is manufactured with other adhesive layers that do not contain ceramic. On the other hand, the advantage of using an adhesive containing the above-mentioned granular material is that the resistance film is not preliminarily coated with the metal of the contact layer, but the connector / contact layer is joined in the separated resistor. You can also get it.

【0014】本願発明は、特に極端に小さな抵抗器に適
し、また各辺の長さが数センチ(cm)の大きな面積の
構成素子(抵抗器)にも適している。
The present invention is particularly suitable for extremely small resistors, and also for components (resistors) having a large area of several centimeters (cm) on each side.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】次に、図面を参照して、本発明に
よる好ましい実施形態を詳細に説明する。図1(A)に
示した抵抗器は、基本的に、銅またはアルミニウム等の
金属の基板1と、高精度測定用抵抗器用として知られて
いる例えばCuNi系合金の一種の金属製抵抗フィルム
(箔、層)2と、基板1と抵抗フィルム2の間に配置さ
れていて抵抗フィルム2を基板1に固着する接着層3
と、で構成されている。基板1は、抵抗フィルムより概
ね厚く、支持機能を有するだけでなく、冷却体または放
熱板としても機能する。抵抗フィルム2は、通常の方法
で所望の抵抗値となるような構造に形成され、例えば4
端子構造(図3(B)参照)および/または屈曲した抵
抗路(回路)の形状(パターン)に形成されている。ま
た、抵抗フィルムは、そのいずれの場合にも、複数のコ
ネクタ・コンタクト面を有し、具体的には、基板とは反
対側(基板からみて遠い側)の表面上における抵抗器の
縁部(エッジ)上に対置された両端部に(互いに反対側
にある端部に)、抵抗器を外部回路に電気的に接続する
ための互いに分離したコネクタ・コンタクト面を有す
る。図1(A)に示した例においては、表面上にコネク
タ・コンタクト層4の金属被覆が施されているが、この
コネクタ・コンタクト層4は必ずしも必要ではない。ま
た、それぞれの場合において、コネクタ・コンタクトは
相異なる複数の金属層で構成されていてもよい。例え
ば、低抵抗コンタクト接続部として機能する銅層の下層
5と、その上にニッケル層の上層6とが配置されてい
る。層6は、後で行う外部コンタクトの形成を容易に
し、即ち、用途に応じて半田付け接続または接続用ワイ
ヤの接続を容易にするものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The resistor shown in FIG. 1A is basically composed of a metal substrate 1 such as copper or aluminum, and a metal resistor film (a kind of CuNi-based alloy known as a resistor for high-precision measurement). (Foil, layer) 2 and an adhesive layer 3 disposed between the substrate 1 and the resistance film 2 to fix the resistance film 2 to the substrate 1
And is composed of The substrate 1 is generally thicker than the resistive film and has not only a support function but also functions as a cooling body or a heat sink. The resistance film 2 is formed in a structure having a desired resistance value by an ordinary method.
It is formed in the shape (pattern) of a terminal structure (see FIG. 3B) and / or a bent resistance path (circuit). Also, in each case, the resistive film has a plurality of connector contact surfaces, and specifically, the edge of the resistor on the surface opposite to the substrate (far side from the substrate) ( Opposite ends (on opposite sides) on the edge) have separate connector contact surfaces for electrically connecting the resistor to external circuitry. In the example shown in FIG. 1A, the metal surface of the connector contact layer 4 is provided on the surface, but the connector contact layer 4 is not always necessary. In each case, the connector contact may be composed of a plurality of different metal layers. For example, a lower layer 5 of a copper layer functioning as a low-resistance contact connection portion, and an upper layer 6 of a nickel layer are disposed thereon. Layer 6 facilitates the subsequent formation of external contacts, i.e., facilitates solder connection or connection of connection wires, depending on the application.

【0016】ここで説明する抵抗器の製造方法および抵
抗器の特性として重要なことは、接着層3が例えば75
または100μm等のオーダ(程度)の厚さの可撓性
(柔軟な)プラスチック・フィルムでできていることで
ある。また、接着層3は、所定の電気的に絶縁性を有す
ることに加えて、機械的および熱的な高負荷状態におい
ても、剛性を有し、抵抗フィルムを基板に接着する不変
で信頼性の高い接着力を持続し、さらにできるだけ熱伝
導性が良好でなければならない。これらの理由から、接
着層3は、例えばエポキシ樹脂またはポリイミド系材料
等の樹脂系またはプラスチック系接着剤(粘着剤)に、
熱伝導性を有する粉末を混合したものとする。その粉末
として、他の用途においては公知の例えば酸化アルミニ
ウム、窒化硼素、等のセラミック粉末を用いることが好
ましい。既に説明したように、上述の構成の抵抗器にお
ける抵抗フィルムから基板への放熱は、抵抗器製造に従
来使用されていた樹脂接着層と比較して大幅に改善され
る。その含有量(例えば、樹脂の重量に対して約60〜
70%)は、良好な熱伝導性(粉末の高含有率)ととも
に、抵抗フィルム2を基板1に接着するのに充分な接着
力が得られるように選択される。
What is important as the method of manufacturing the resistor and the characteristics of the resistor described here is that the adhesive layer 3 is made of, for example, 75
Or, it is made of a flexible (flexible) plastic film having a thickness on the order of 100 μm or the like. Further, in addition to having a predetermined electrically insulating property, the adhesive layer 3 has a rigidity even under a high mechanical and thermal load state, and has an invariable and reliable adhesiveness for bonding the resistive film to the substrate. It must maintain a high adhesive force and have as good a thermal conductivity as possible. For these reasons, the adhesive layer 3 is made of, for example, a resin-based or plastic-based adhesive (adhesive) such as an epoxy resin or a polyimide-based material.
It is assumed that powder having thermal conductivity is mixed. As the powder, in other applications, it is preferable to use a known ceramic powder such as aluminum oxide and boron nitride. As described above, the heat dissipation from the resistive film to the substrate in the resistor having the above-described configuration is greatly improved as compared with the resin adhesive layer conventionally used for manufacturing the resistor. Its content (for example, about 60 to
70%) is selected so as to obtain good thermal conductivity (high content of powder) and sufficient adhesive force for bonding the resistance film 2 to the substrate 1.

【0017】図1(B)には抵抗器の別の実施形態が示
されており、後で詳しく説明するように、そのコネクタ
・コンタクト層4’は、基板1とは反対側にある(基板
1から遠い側にある)抵抗フィルム2’の表面における
抵抗器の横方向の端縁部(エッジ)に形成された凹部
(凹所)8に配置されている。そのコネクタ・コンタク
ト層4’も、1つの金属層、または必要に応じて相異な
る複数の金属層からなる。図1から明らかなように、ま
た後の説明で明らかになるように、コネクタ・コンタク
ト層4、4’は全体的にまたは完全に抵抗層の外周縁
(外周辺)以内の内側に位置し、またその抵抗層も全体
的にまたは完全に基板の外周縁以内の内側に位置してい
る。
FIG. 1B shows another embodiment of the resistor, whose connector contact layer 4 ′ is on the opposite side of the substrate 1 (substrate), as will be described in detail later. It is located in a recess 8 formed at the lateral edge of the resistor on the surface of the resistor film 2 ′ (away from 1). The connector / contact layer 4 'is also composed of one metal layer or a plurality of different metal layers as required. As is evident from FIG. 1 and as will be seen in the following description, the connector contact layers 4, 4 'are located entirely or completely inside the outer periphery of the resistive layer, Also, the resistance layer is located entirely or completely inside the outer peripheral edge of the substrate.

【0018】概略的に図示した上述の抵抗素子は、その
後で通常の方法で保護層が被着され、および/または難
なく容易にハウジング内またはその他の外部デバイスに
組込まれる(実装される)。
The above-described resistor element, which is schematically illustrated, is then provided with a protective layer in the usual manner and / or is easily and easily integrated (mounted) in a housing or other external device.

【0019】次に、抵抗器の製造方法を説明する。ま
ず、基板1を構成する例えば厚さ0.5mmの銅プレー
ト等の金属プレート、接着層3および金属製抵抗フィル
ム2から、数千個の抵抗器が製造できるサイズを有する
図2(A)に示した構造の積層体を作製する。接着層
は、例えば基板にスクリーン・プリント処理を施して多
層的に被着するか、または予め乾燥フィルムとして作製
しておいてそれを加熱プレス機(temperierten Presse)
に移送配置する。この三層複合体の実際の接着は、高温
(例えば、180℃のオーダ)および高圧(例えば、2
0bar =20×105 Paのオーダ)下で真空プレス機
(Vakuumpresse)によって行われる。この場合、真空状態
は、空気が層間に封入されるとそれによって接着剤の接
着力と接着剤を介した放熱能力とが大幅に減少するの
で、その空気の封入を防止するために必要である。
Next, a method of manufacturing a resistor will be described. First, FIG. 2 (A) having a size capable of manufacturing thousands of resistors from a metal plate such as a copper plate having a thickness of 0.5 mm or the like, which constitutes the substrate 1, an adhesive layer 3, and a metal resistor film 2. A laminate having the structure shown is manufactured. The adhesive layer is applied in a multilayer manner, for example, by subjecting the substrate to a screen printing process, or prepared in advance as a dry film and heating it with a heating press (temperierten Presse)
Transfer to The actual adhesion of this three-layer composite is high temperature (eg, on the order of 180 ° C.) and high pressure (eg,
0 bar = 20 × 10 5 Pa) under vacuum press machine
(Vakuumpresse). In this case, a vacuum is necessary to prevent the entrapment of air, since the encapsulation of the adhesive and the ability to dissipate heat through the adhesive is greatly reduced when air is enclosed between the layers. .

【0020】次に、個々の抵抗器を製造するために、第
1の処理段階において、後で形成される抵抗器の抵抗フ
ィルム側のコンタクト面を含む表面領域を、フォトマス
クおよび光感性物質積層フィルムを用いるフォトリソグ
ラフィとして公知の方法で決定する。図3(B)から明
らかなように、まず、後で形成される完成抵抗器のコン
タクト領域23よりも広くなるように表面領域42を決
定する。その理由は、その方が、最初から所望の形状の
コネクタ・コンタクト層(4、4’)に対応するように
フォトリソグラフィで正確に領域を決定するよりも簡単
に処理できるからである。後で形成される抵抗構造また
は抵抗体構造22は破線で示されている。次いで、領域
42には電気メッキによる(galvanic)または化学的な
金属被覆処理を施す。その金属被覆処理前に、領域4
2、42の間の部分にフォトレジスト層またはその他の
保護層の被覆(カバー)を施しておき、その金属被覆処
理中、領域42、42の間に位置する部分はフォトレジ
スト層またはその他の保護層で被覆された状態に置かれ
る。但し、その部分的金属被覆は、先に表面全体に金属
被覆を施し、次いでコンタクト面に対して相補関係にあ
る(陰画)領域を選択的にエッチングして(その下に位
置する抵抗体金属に損傷を与えることなく)除去して形
成してもよい。
Next, in order to manufacture the individual resistors, in a first processing step, a surface area including a resistor film-side contact surface of a resistor to be formed later is subjected to a photomask and a photosensitive material lamination. It is determined by a method known as photolithography using a film. As is clear from FIG. 3B, first, the surface region 42 is determined so as to be wider than the contact region 23 of the completed resistor formed later. The reason is that it is easier to process than accurately determining the region by photolithography so as to correspond to the connector contact layer (4, 4 ') having the desired shape from the beginning. The later formed resistive or resistive structure 22 is indicated by dashed lines. The area 42 is then galvanized or chemically metallized. Prior to the metallization process, area 4
The portion between the areas 42, 42 is provided with a photoresist layer or other protective layer, and the portion between the areas 42, 42 is covered with a photoresist layer or other protective layer during the metallization process. It is left covered with a layer. However, the partial metallization is accomplished by first metallizing the entire surface and then selectively etching (negative) areas complementary to the contact surface (to the underlying resistor metal). (Without damage).

【0021】図3(B)から明らかなように、抵抗構造
22は、互いに反対側に位置する両端部に互いに分離し
た2つのコネクタ面23をそれぞれ有するように形成さ
れる。この4端子構造は、4端子測定において必要なも
のであり、周知のように、その2つの接続コンタクトは
電流接続用として機能し、他の2つの接続コンタクトは
電圧接続用として機能する。
As apparent from FIG. 3B, the resistance structure 22 is formed so as to have two connector surfaces 23 separated from each other at both ends located on opposite sides of each other. This four-terminal structure is necessary for a four-terminal measurement, and as is well known, its two connection contacts function for current connection and the other two connection contacts function for voltage connection.

【0022】図4(C)は、図3(B)の積層体のA−
A面に沿った垂直断面図である。領域42における金属
被覆は、図4〜6に示されているように1つの層または
複数の層からなる。前述のように、その下層5(図1
(A)も参照)は低抵抗の領域を構成し、好ましくは銅
Cuからなり、一方、その上層6は、既に説明したよう
に、後で行われるコンタクトを容易にするもので、好ま
しくはニッケルNiからなる。
FIG. 4C is a cross-sectional view of the laminate of FIG.
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view taken along a plane A. The metallization in region 42 is comprised of one or more layers as shown in FIGS. As described above, the lower layer 5 (FIG. 1)
(See also (A)) constitutes a region of low resistance, preferably of copper Cu, while its upper layer 6, as already explained, facilitates the subsequent contact, preferably of nickel It consists of Ni.

【0023】極端に低い抵抗値を形成する場合には、そ
れに対応して厚い抵抗フィルムを使用しなければならな
いので、その結果として、所期の作用効果を得るには、
それに対応してコネクタ・コンタクト層を構成する銅層
を厚くする必要があり、またその厚い銅層をも除去(エ
ッチング)しなければならない。特にこの場合、金属被
覆を施す前に、決定された領域42における抵抗フィル
ムの厚さを、後で被着される銅層の厚さにほぼ相当(対
応)する量だけエッチングして薄くする必要がある。こ
の処理には、特に、その後に続く各処理段階において、
金属被覆領域と非被覆領域の間に形成される段差によっ
て処理が妨げられることがないという利点がある。図5
(D)の断面図では、エッチングによって深い窪みまた
は凹部43が形成されている(それ以外の点では図4
(C)に対応する)。この場合、凹部43内に形成され
た銅層の上には好ましい程度に薄いニッケル層6の金属
被覆が施されている。
When an extremely low resistance value is formed, a correspondingly thick resistive film must be used. As a result, in order to obtain the desired effect,
Correspondingly, the copper layer constituting the connector contact layer must be thickened, and the thick copper layer must be removed (etched). In particular, in this case, before the metallization is applied, the thickness of the resistive film in the determined area 42 must be reduced by etching by an amount corresponding to (approximately) the thickness of the subsequently applied copper layer. There is. This process includes, in particular,
There is the advantage that the process is not hindered by steps formed between the metallized area and the uncoated area. FIG.
In the cross-sectional view of FIG. 4D, a deep dent or recess 43 is formed by etching.
(Corresponds to (C)). In this case, a metal coating of a nickel layer 6 as thin as possible is provided on the copper layer formed in the concave portion 43.

【0024】上述のようにして積層体(“開始積層
体”)の抵抗体側即ち抵抗フィルム側に予め部分的被覆
を施した後で、フォトリソグラフィ処理によって領域決
定を行い、さらにエッチングを行って、はじめて抵抗体
とコンタクト面の本来の構造が形成される。そのエッチ
ングは、1つの処理段階で処理されることが好ましく、
図5(D)(図4(C)の代替例)による実施形態の例
に関連する図5(E)から明らかなように、本来の抵抗
体の領域においては抵抗性材料だけが深くエッチングさ
れ、またコンタクト領域においては抵抗フィルムが金属
被覆を貫通して接着層の位置まで(接着層が露出するま
で)深くエッチングされる。後で形成される抵抗体の端
縁部にあるエッチングで形成された端縁またはエッジの
側面が参照符号44で示されている(側面44は抵抗フ
ィルムの層面を横切る方向に延びている)。
After the resistive side, ie, the resistive film side, of the laminate (“starting laminate”) is partially covered in advance as described above, a region is determined by photolithography, and etching is further performed. For the first time, the original structure of the resistor and the contact surface is formed. The etching is preferably performed in one processing step,
As is evident from FIG. 5 (E) relating to the example of the embodiment according to FIG. 5 (D) (alternative to FIG. 4 (C)), only the resistive material is deeply etched in the region of the original resistor. In the contact area, the resistive film is etched deeply through the metallization to the position of the adhesive layer (until the adhesive layer is exposed). The sides of the etched edges or edges at the edges of the resistors to be formed later are indicated by reference numeral 44 (sides 44 extend across the layer surface of the resistive film).

【0025】上記製造方法の変形例として、コネクタ・
コンタクト層のない抵抗器を製造することも可能であ
る。その場合、所望の抵抗構造だけをフォトリソグラフ
ィで決定しエッチングして形成する。用途に応じて、実
質的に完成した個々の抵抗器を利用するときに、必要な
接続を後で形成してもよい。
As a modification of the above manufacturing method, a connector
It is also possible to manufacture resistors without a contact layer. In that case, only a desired resistance structure is determined by photolithography and formed by etching. Depending on the application, the required connections may be made later when utilizing substantially completed individual resistors.

【0026】抵抗構造をエッチングによって形成した後
に、エッチングするのに必要であった上述の補助層(フ
ォトレジスト層等の補助的被膜)を除去し、その積層体
をクリーニング(清浄化)すると、各抵抗器はばらばら
に分離できる状態となる。必要であれば抵抗値を前もっ
て、即ち“開始積層体”上で調整することができ、例え
ば抵抗フィルムに切込みを入れて(即ち、刻みまたはノ
ッチを付けて)調整することができる。
After the resistive structure is formed by etching, the above-mentioned auxiliary layer (auxiliary film such as a photoresist layer) necessary for etching is removed, and the laminate is cleaned (cleaned). The resistors are ready to be separated. If necessary, the resistance can be adjusted in advance, ie on the “starting laminate”, and can be adjusted, for example, by cutting (ie, notching or notching) the resistance film.

【0027】各抵抗器を分離するために、例えば従来の
座標打抜き機を用いる方法(ドイツ特許第DE43 39 55
1 C1号明細書参照)で個々の抵抗器を順次打抜いても
よい。しかし、ここで説明する製造方法で使用すること
が好ましい接着剤はセラミック粉末を含有しており、そ
れが打抜き装置を激しく磨耗させるので、打抜き装置は
常にポスト・ドレッシング(後処理としての目立て)し
なければならなくなる。例えば、その打抜き処理ステッ
プを1000回も繰返さないうちにその度ごとに打抜き
装置をポスト・ドレッシングしなければならず、そうし
ないと“開始積層体”1枚分の抵抗器さえ分離できなく
なる可能性がある。また、説明のために図7に参照符号
30で示されているように、打抜き処理すると、その処
理中に抵抗器の端縁領域において材料内部にまで侵入し
て延びる接着剥離30が、幅に多少の差はあっても、生
じる危険性がある。基板から接着剤が剥離した端縁領域
31の幅は0.5mmより大きくなることもある。この
ような接着剥離の危険性は、特にここで使用する接着剤
がその高いセラミック含有率によって比較的脆くなって
いるために生じ、そのような接着剥離が生じると望まし
い抵抗器の小型化が制限されることになる。
To separate the resistors, for example, using a conventional coordinate punching machine (DE 43 39 55)
The individual resistors may be punched out one after another at 1 C1). However, the adhesive that is preferably used in the manufacturing method described herein contains ceramic powder, which severely wears the punching device, so that the punching device always post dresses. I have to. For example, the punching device must be post-dressed each time the punching process step is not repeated 1000 times, otherwise it may not be possible to separate even one "startup" resistor. There is. Also, as shown by reference numeral 30 in FIG. 7 for explanation, when the punching process is performed, the adhesive peel 30 that penetrates and extends to the inside of the material in the edge region of the resistor during the process is formed to a width. There is a risk that some differences will occur. The width of the edge region 31 where the adhesive has peeled off from the substrate may be larger than 0.5 mm. The danger of such debonding arises, in particular, because the adhesives used here are relatively brittle due to their high ceramic content, which limits the miniaturization of the resistors which would be desirable. Will be done.

【0028】このような困難な問題を回避する1つの方
法として、特にレーザ切断装置を用いた切断法によって
抵抗器を分離すればよいが、この方法はコストが高く、
処理速度が低く、さらに素子の電気的特性を損なう可能
性がある。
One method of avoiding such a difficult problem is to separate the resistors by a cutting method using a laser cutting device, but this method is costly.
The processing speed is low, and the electrical characteristics of the device may be impaired.

【0029】そこで、ここでは抵抗器の分離方法とし
て、コストがより低く素子に損傷を与えないよりソフト
な方法を使用する。図6(F)に示したように、抵抗フ
ィルム2およびコネクタ・コンタクト面5、6の側面4
4(図5(E))をエッチングによって形成したのと同
様の方法で、抵抗器の輪郭に沿った金属基板1の狭い領
域を、抵抗フィルム2とは反対側にある背面側(基板面
側)からエッチングして除去して複数の溝50を形成す
る。溝50は接着層3に達する深さまで延び、即ち基板
1には製造しようとする構成素子の基板の端縁の側面5
1がエッチングによって形成される(側面51は基板の
層面を横切る方向に延びている)。分離線(区画線)ま
たは溝(スロット)50の形状は、フォトリソグラフィ
とエッチング技術によって決定され形成されるので、難
なく容易にほぼ所望通りの複雑な形状に形成できる。さ
らに、この方法には、必要に応じて、特に余分な費用を
掛けずに、その他の所望の開口部分、白抜き部分、穴ま
たは凹部を抵抗器に形成することができるという利点が
ある。
Therefore, here, as a method of separating the resistor, a softer method which is lower in cost and does not damage the element is used. As shown in FIG. 6F, the resistance film 2 and the side surfaces 4 of the connector contact surfaces 5 and 6 are formed.
4 (FIG. 5 (E)), the narrow area of the metal substrate 1 along the outline of the resistor is formed on the back side (substrate face side) opposite to the resistance film 2 by the same method as that formed by etching. ) Is removed by etching to form a plurality of grooves 50. The groove 50 extends to a depth reaching the adhesive layer 3, ie, the substrate 1 has a side surface 5 at the edge of the substrate of the component to be manufactured.
1 is formed by etching (side surface 51 extends in a direction crossing the layer surface of the substrate). Since the shape of the separation line (partition line) or the groove (slot) 50 is determined and formed by photolithography and etching technology, it can be easily and easily formed into a nearly desired complicated shape. In addition, this method has the advantage that other desired openings, hollows, holes or recesses can be formed in the resistor, if required, without any extra expense.

【0030】このエッチング処理は、1つの“開始積層
体”上に形成される全ての抵抗器に対して同時に施され
るので、個々の構成素子を個別に処理する場合に比べ
て、その処理が少ない分だけ製造コストが低くなる。
Since this etching process is performed simultaneously on all the resistors formed on one “starting laminate”, the process is performed in comparison with the case where the individual components are individually processed. Manufacturing costs are reduced by a small amount.

【0031】そのエッチング処理の後は、個々の抵抗器
は“開始積層体”即ち元の大きな積層体中の接着層3に
よって互いに繋がっているだけなので、次の処理を難な
く容易に行うことができる。一方、図5(E)を参照し
て説明したエッチング処理によって形成したその構造に
おいても、図6(F)に示されているのと同様に、分離
線内の抵抗性金属が除去される。従って、溝50をエッ
チングして形成した後は、各抵抗器は短い接着層の連結
部分即ち橋状部分(ブリッジ)52のみによって互いに
連結しているに過ぎず、この連結部分52は脆いので容
易に破壊または切断することができる。抵抗器の分離
は、プレート・プレス機における簡単な1回のプレス・
サイクル(反復期間)で実行できる。図6(G)に示さ
れているように、“開始積層体”の抵抗体側の全領域に
シリコーン・マット54を配置し、プレス機によって構
成素子に対して内向きにプレスを行うと(圧力を加える
と)(矢印)、柔軟なシリコーンの材料の変形または流
動的変形によって、抵抗器の外縁に沿って図6(G)に
示した破壊点または破壊位置55において接着層の切断
または破壊が生じる。
After the etching process, the individual resistors are only connected to each other by the "starting laminate", ie, the adhesive layer 3 in the original large laminate, so that the next process can be performed easily and without difficulty. . On the other hand, also in the structure formed by the etching process described with reference to FIG. 5E, the resistive metal in the separation line is removed as shown in FIG. 6F. Therefore, after the grooves 50 have been formed by etching, the resistors are only connected to each other only by the connecting portion or bridge-like portion (bridge) 52 of the short adhesive layer, and the connecting portion 52 is fragile and easily formed. Can be broken or cut. Separation of resistors is achieved by a simple one-time press on a plate press.
Can be performed in cycles (repetition periods). As shown in FIG. 6 (G), when the silicone mat 54 is disposed on the entire area of the “starting laminate” on the resistor side and the component is pressed inward by a press machine (pressure (Arrow), the deformation or flow deformation of the flexible silicone material causes the adhesive layer to cut or break along the outer edge of the resistor at the break point or break point 55 shown in FIG. 6 (G). Occurs.

【0032】ここで説明したタイプの抵抗器は、複数の
フィルムから製造され、SMD実装に適するだけでな
く、ボンディング用ワイヤによって接続するのにも適し
ており、主に、ミリオームの範囲(典型的には1〜50
0mΩ)の抵抗値を有する測定用抵抗器として使用する
ことができる。また、その抵抗器は、高負荷に耐えるこ
とができ、その内部熱抵抗が極端に低い(典型的には1
K/W×cm2 未満)ので一時的な(短時間の)過負荷
にも耐えることができる。
Resistors of the type described herein are manufactured from a plurality of films and are suitable not only for SMD mounting but also for connection by bonding wires, mainly in the milliohm range (typically 1 to 50
It can be used as a measuring resistor having a resistance value of 0 mΩ). Also, the resistor can withstand high loads and its internal thermal resistance is extremely low (typically 1).
K / W × cm 2 ), so that it can withstand a temporary (short-time) overload.

【0033】上述した方法以外の方法も、本発明に従う
抵抗フィルムと基板の間に粉末含有接着層を有する抵抗
器の製造に適している。例えば、抵抗器は、レーザを用
いて積層体を切断する公知の方法で分離することもでき
る。一方、上述の製造方法の実施形態は、セラミック粉
末を含有しない接着フィルムを用いる場合においても公
知の方法に比べて有利である。
Methods other than those described above are also suitable for producing resistors having a powder-containing adhesive layer between the resistive film and the substrate according to the present invention. For example, the resistors can be separated by a known method of cutting a laminate using a laser. On the other hand, the above-described embodiment of the manufacturing method is more advantageous than a known method even when an adhesive film containing no ceramic powder is used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1の(A)および(B)は、本発明の抵抗器
の2つの実施形態の概略図である。
1A and 1B are schematic diagrams of two embodiments of the resistor of the present invention.

【図2】図2の(A)は、本発明の抵抗器の製造方法の
実施形態において使用される積層体の概略的構造図であ
る。
FIG. 2A is a schematic structural view of a laminate used in an embodiment of the method for manufacturing a resistor of the present invention.

【図3】図3の(B)は、本発明の抵抗器の製造方法の
実施形態における処理段階において積層体に形成される
構造の概略図である。
FIG. 3B is a schematic view of a structure formed in a laminate at a processing stage in an embodiment of the method of manufacturing a resistor according to the present invention.

【図4】図4の(C)は、本発明の抵抗器の製造方法の
実施形態における処理段階において積層体に形成される
構造を示す図2(B)のA−A面に沿った垂直断面図で
ある。
FIG. 4 (C) is a vertical view along the AA plane of FIG. 2 (B) showing a structure formed on the laminate at the processing stage in the embodiment of the method of manufacturing the resistor of the present invention. It is sectional drawing.

【図5】図5の(D)および(E)は、本発明による抵
抗器の製造方法の別の実施形態における処理段階を説明
するための概略図である。
5 (D) and 5 (E) are schematic diagrams for explaining processing steps in another embodiment of the method of manufacturing a resistor according to the present invention.

【図6】図6の(F)および(G)は、本発明による抵
抗器の製造方法の実施形態における抵抗器の分離処理を
説明するための概略図である。
6 (F) and 6 (G) are schematic views for explaining a resistor separating process in the embodiment of the resistor manufacturing method according to the present invention.

【図7】図7は、本発明の実施形態の処理段階における
抵抗器の好ましい分離方法の利点を説明するための図で
ある。
FIG. 7 is a diagram for explaining an advantage of a preferred method of separating a resistor in a processing stage according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 抵抗フィルム 3 接着層 4、4’ コネクタ・コンタクト層 5 下層 6 上層 52 接着層の連結部分 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Resistive film 3 Adhesive layer 4, 4 'Connector / contact layer 5 Lower layer 6 Upper layer 52 Connection part of adhesive layer

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成9年12月16日[Submission date] December 16, 1997

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0006[Correction target item name] 0006

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本願発明の目的は、特許
請求の範囲に記載された構成によって達成される。即
ち、本願発明による電気抵抗器、特に低抵抗の電気抵抗
器は、抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルム(2)
と、良好な熱伝導性を有する基板(1)と、そのフィル
ムと基板の間に位置していてフィルムと基板とを共に強
く接着または接合する絶縁材料からなる接着層(3)と
を具え、その接着層(3)が、熱伝導性の絶縁材料の粉
末を含有するプラスチック材料からなることを特徴とす
る。
The object of the present invention is attained by the structure described in the claims. That is, the electric resistor according to the present invention, particularly the low-resistance electric resistor, is a metal resistor film (2) made of a resistive alloy.
A substrate (1) having good thermal conductivity, and an adhesive layer (3) made of an insulating material that is located between the film and the substrate and strongly adheres or bonds the film and the substrate together; the adhesive layer (3), characterized in that it consists of plastic materials containing a powder of a thermally conductive insulating material.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0007[Correction target item name] 0007

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0007】また、本願発明による電気抵抗器、特に低
抵抗の電気抵抗器の製造方法は、個々の抵抗器の基板
(1)の周縁の完全に(全体的に)内側に位置する抵抗
フィルム(2)を有する電気抵抗器の製造方法であっ
て;抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルムが、熱伝導
性が良好な材料からなる基板の上に、絶縁材料からなる
熱伝導性の接着層(3)によって接着されており、抵抗
フィルムをエッチングして複数の個の抵抗素子を形成
し、そのエッチングされた抵抗性フィルムと、基板と、
抵抗フィルムと基板の間に位置する接着層とからなる積
層体を、個の抵抗器に分離する、電気抵抗器の製造方
法において;接着層は、熱伝導性を有する絶縁材料の粉
末を含有するプラスチックの接着層であり、抵抗フィル
ムと、基板と、抵抗フィルムと基板の間に位置する接着
層とをプレス機において加熱して共にプレスすること、
を特徴とする。
Further, the method of manufacturing an electric resistor according to the present invention, particularly a low-resistance electric resistor, comprises a resistive film ( completely (entirely ) inside the periphery of the substrate (1) of each resistor. 2) A method of manufacturing an electric resistor, wherein a metal resistance film made of a resistive alloy is formed on a substrate made of a material having a good heat conductivity on a heat conductive adhesive layer made of an insulating material. 3) are bonded by the, the resistor film is etched to form a plurality of individual separate resistance element, a resistive film that is the etching, and the substrate,
The laminate comprising an adhesive layer located between the resistive film and the substrate is separated into individual separate resistors, in the manufacturing method of the electric resistor; adhesive layer containing a powder of an insulating material having a thermal conductivity adhesive layer der of plastics is, the resistance film and the substrate and, be pressed together by heating the adhesive layer in a press machine which is located between the resistor film and the substrate,
It is characterized by.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0008[Correction target item name] 0008

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0008】また、本願発明による電気抵抗器、特に低
抵抗の電気抵抗器の別の製造方法は、個の抵抗器の基
板(1)の周縁の完全に(全体的に)内側に位置する抵
抗フィルム(2)と、抵抗フィルムの基板とは反対側の
表面にコネクタ・コンタクト層(4)とを有する電気抵
抗器の製造方法であって;抵抗性合金からなる金属製抵
抗フィルムが、熱伝導性が良好な材料からなる基板の上
に、絶縁材料からなる熱伝導性の接着層(3)によっ
接着されており、抵抗フィルムをエッチングして複数の
の抵抗素子を形成し、そのエッチングされた抵抗フ
ィルムと、基板と、抵抗フィルムと基板の間に位置する
接着層とからなる積層体を、個の抵抗器に分離する、
電気抵抗器の製造方法において;まず、抵抗フィルムの
基板とは反対側の表面における、形成しようとする抵抗
器のコネクタ・コンタクト層が配置される位置に、少な
くとも所要のコネクタ・コンタクト領域(23)を含む
画定された複数の表面領域(42)をフォトリソグラフ
ィ的に形成し、次いで、画定された複数の表面領域にコ
ネクタ・コンタクト金属の被覆を施し、次いで、その部
分的に金属被覆された抵抗フィルムをエッチングして、
抵抗構造(22)を形成すること、を特徴とする。本発
明の実施形態において、コネクタ・コンタクト金属の被
覆は、ガルヴァニックに即ち電気化学的に(電気メッキ
により)または化学的に被着される。
Further, the electrical resistor according to the present invention, in particular another method for manufacturing the electric resistor having a low resistance is entirely (entirely) located inside the periphery of the substrate of the individual separate resistor (1) The resistance film (2) and the substrate on the opposite side of the resistance film substrate
A method of manufacturing an electric resistor having a connector / contact layer (4) on a surface ; a metal resistor film made of a resistive alloy is formed on a substrate made of a material having good thermal conductivity by using an insulating material. comprising thermally conductive adhesive layer (3) is bonded by the, the resistor film is etched to form a plurality of <br/> individual separate resistive element, a resistor film which is the etching, and the substrate, the laminate comprising an adhesive layer located between the resistive film and the substrate is separated into individual separate resistors,
In the manufacturing method of the electric resistor; First, the film resistor
At least the required connector contact area (23) is provided on the surface opposite to the substrate at the position where the connector contact layer of the resistor to be formed is arranged.
A plurality of defined surface areas (42) are photolithographically formed, then the defined plurality of surface areas are coated with a connector contact metal, and the partially metallized resistive film is then applied. Etch,
Forming a resistance structure (22). Departure
In the illustrated embodiment, the connector contact metal
The cover is galvanically or electrochemically (electroplated
) Or chemically deposited.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0009】また、本願発明による電気抵抗器、特に低
い電気抵抗器のさらに別の製造方法は、個々の抵抗器の
基板(1)の周縁の完全に(全体的に)内側に位置する
抵抗フィルム(2)を有する電気抵抗器の製造方法であ
って;抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルムが、熱伝
導性が良好な金属からなる基板の上に、絶縁材料からな
る熱伝導性の接着層(3)によって接着されており、抵
抗フィルムをエッチングして複数の個の抵抗素子を形
成し、エッチングされた抵抗フィルムと、基板と、抵抗
フィルムと基板の間に位置する接着層とからなる積層体
を、個の抵抗器に分離する、電気抵抗器の製造方法に
おいて;積層体を分離するために、基板の抵抗フィルム
とは反対側の表面から分離線に沿って接着層に達する
で基板をエッチングし、次いで、基板とは反対の側から
積層体に圧力を加えて、残りの接着層の連結部分(5
2)を破壊して、個別の抵抗器分離すること、を特徴
とする。
[0009] Yet another method of manufacturing an electrical resistor, in particular a low electrical resistor, according to the present invention is a resistive film located completely (entirely ) inside the periphery of the substrate (1) of the individual resistor. (2) A method for manufacturing an electric resistor, wherein a metal resistance film made of a resistive alloy is formed on a substrate made of a metal having good heat conductivity, on a heat conductive adhesive layer made of an insulating material. are bonded by the (3), the resistor film is etched to form a plurality of individual separate resistive element, a resistor film which is etched, a substrate, a bonding layer located between the resistive film and the substrate the laminate of, separated into individual separate resistors, in the manufacturing method of the electric resistor; to separate laminate film resistor substrate
The substrate is etched until <br/> reaching the adhesive layer along the separation line from the surface opposite to the, then, the substrate by applying pressure to the laminate from the opposite side, connecting the rest of the adhesive layer Part (5
2) is destroyed and separated into individual resistors.

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0020[Correction target item name] 0020

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0020】次に、個々の抵抗器を製造するために、第
1の処理段階において、後で形成される抵抗器の抵抗フ
ィルム側のコンタクト面を含む表面領域を、フォトマス
クおよび光感性物質積層フィルムを用いるフォトリソグ
ラフィとして公知の方法で決定する。図3(B)から明
らかなように、まず、後で形成される完成抵抗器のコン
タクト領域23よりも広くなるように表面領域42を決
定する。その理由は、その方が、最初から所望の形状の
コネクタ・コンタクト層(4、4’)に対応するように
フォトリソグラフィで正確に領域を決定するよりも簡単
に処理できるからである。後で形成される抵抗構造また
は抵抗体構造22は破線で示されている。次いで、領域
42には電気メッキによる(galvanic、ガルヴ
ァニックな)または化学的な金属被覆処理を施す。その
金属被覆処理前に、領域42、42の間の部分にフォト
レジスト層またはその他の保護層の被覆(カバー)を施
しておき、その金属被覆処理中、領域42、42の間に
位置する部分はフォトレジスト層またはその他の保護層
で被覆された状態に置かれる。但し、その部分的金属被
覆は、先に表面全体に金属被覆を施し、次いでコンタク
ト面に対して相補関係にある(陰画)領域を選択的にエ
ッチングして(その下に位置する抵抗体金属に損傷を与
えることなく)除去して形成してもよい。
Next, in order to manufacture the individual resistors, in a first processing step, a surface area including a resistor film-side contact surface of a resistor to be formed later is subjected to a photomask and a photosensitive material lamination. It is determined by a method known as photolithography using a film. As is clear from FIG. 3B, first, the surface region 42 is determined so as to be wider than the contact region 23 of the completed resistor formed later. The reason is that it is easier to process than accurately determining the region by photolithography so as to correspond to the connector contact layer (4, 4 ') having the desired shape from the beginning. The later formed resistive or resistive structure 22 is indicated by dashed lines. The area 42 is then electroplated (galvanic , Galve).
Applying Anikku a) or chemical metallization process. Before the metallization process, a portion between the regions 42, 42 is coated with a photoresist layer or other protective layer (cover) during the metallization process. Is covered with a photoresist layer or other protective layer. However, the partial metallization is accomplished by first metallizing the entire surface and then selectively etching (negative) areas complementary to the contact surface (to the underlying resistor metal). (Without damage).

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01C 17/28 H01C 17/24 C Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01C 17/28 H01C 17/24 C

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルム
と、良好な熱伝導性を有する基板と、上記抵抗フィルム
と上記基板の間に位置していて該抵抗フィルムと該基板
とを共に強く接着する絶縁材料からなる接着層と、を具
えた電気抵抗器、特に低抵抗の電気抵抗器であって、 上記接着層は、熱伝導性の絶縁材料の粉末を含有する粘
着性物質材料からなることを特徴とする、電気抵抗器。
1. A resistance film made of a metal made of a resistance alloy, a substrate having good thermal conductivity, and the resistance film and the substrate located between the resistance film and the substrate, and the resistance film and the substrate are strongly bonded together. An electrical resistor, in particular, a low-resistance electrical resistor, comprising an adhesive layer made of an insulating material, wherein the adhesive layer is made of an adhesive material containing a powder of a thermally conductive insulating material. An electrical resistor, characterized by:
【請求項2】 上記接着層が、セラミック粉末を含有す
るエポキシ樹脂またはポリイミド系プラスチックの材料
からなることを特徴とする、請求項1に記載の電気抵抗
器。
2. The electric resistor according to claim 1, wherein the adhesive layer is made of an epoxy resin or a polyimide plastic containing ceramic powder.
【請求項3】 上記粉末の含有率が約60〜70%であ
ることを特徴とする、請求項1または2に記載の電気抵
抗器。
3. The electrical resistor according to claim 1, wherein the content of the powder is about 60 to 70%.
【請求項4】 上記基板とは反対側にある上記抵抗フィ
ルム側にコネクタ・コンタクト層が配置されており、上
記コネクタ・コンタクト層が、電気メッキによりまたは
化学的に被着された銅および/またはニッケル等の金属
被覆を有することを特徴とする、請求項1乃至3のいず
れかに記載の電気抵抗器。
4. A connector contact layer is disposed on the resistive film side opposite the substrate, wherein the connector contact layer is formed by electroplating or chemically deposited copper and / or copper. The electrical resistor according to any one of claims 1 to 3, further comprising a metal coating such as nickel.
【請求項5】 上記基板とは反対側の上記抵抗フィルム
の表面に形成された上記抵抗フィルムの凹部にコネクタ
・コンタクトが配置されていることを特徴とする、請求
項1乃至4のいずれかに記載の電気抵抗器。
5. The connector according to claim 1, wherein a connector contact is arranged in a concave portion of the resistance film formed on a surface of the resistance film opposite to the substrate. An electrical resistor as described.
【請求項6】 上記各層の各面に対して横切る方向に延
びる上記金属の側面がエッチングによって形成されたも
のであることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれか
に記載の電気抵抗器。
6. The electric resistor according to claim 1, wherein a side surface of said metal extending in a direction transverse to each surface of each of said layers is formed by etching. .
【請求項7】 個々の抵抗器の基板の周縁の全体的に内
側に位置する抵抗フィルムを有する電気抵抗器、特に低
抵抗の電気抵抗器の製造方法であって;抵抗性合金から
なる金属製抵抗フィルムが、熱伝導性が良好な材料から
なる基板の上に、絶縁材料からなる熱伝導性の接着層を
介して接着されており、 上記抵抗フィルムをエッチングして複数の個々の抵抗素
子を形成し、 上記エッチングされた抵抗フィルムと、上記基板と、該
抵抗フィルムと該基板の間に位置する上記接着層とから
なる積層体を、個々の抵抗器に分離する、電気抵抗器の
製造方法において;上記接着層は、熱伝導性を有する絶
縁材料の粉末を含有する粘着性物質からなり、 上記抵抗フィルムと、上記基板と、該抵抗フィルムと該
基板の間に位置する上記接着層とを共に加熱プレスする
こと、を特徴とする、 電気抵抗器の製造方法。
7. A method for manufacturing an electrical resistor, in particular a low-resistance electrical resistor, having a resistive film located entirely inside the periphery of the substrate of the individual resistor; A resistance film is bonded on a substrate made of a material having good thermal conductivity via a heat conductive adhesive layer made of an insulating material, and etching the resistance film to form a plurality of individual resistance elements. A method for manufacturing an electric resistor, comprising separating a laminated body formed and formed of the etched resistive film, the substrate, and the adhesive layer located between the resistive film and the substrate into individual resistors. Wherein the adhesive layer is made of an adhesive substance containing a powder of an insulating material having thermal conductivity, and comprises: the resistive film, the substrate, and the adhesive layer located between the resistive film and the substrate. Heated together Pressing, characterized by the method of manufacturing an electric resistor.
【請求項8】 上記積層体を真空状態でプレスすること
によって上記接着を行うことを特徴とする、請求項7に
記載の電気抵抗器の製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the bonding is performed by pressing the laminate in a vacuum state.
【請求項9】 上記接着層を、スクリーン・プリント法
で被着するか、または予め作製された乾燥フィルムの形
態で上記抵抗フィルムと上記基板の間に配置することを
特徴とする、請求項7または8に記載の電気抵抗器の製
造方法。
9. The method according to claim 7, wherein the adhesive layer is applied by a screen printing method or is disposed between the resistive film and the substrate in the form of a previously prepared dry film. Or a method for producing an electric resistor according to item 8.
【請求項10】 個々の抵抗器の基板の周縁の全体的に
内側に位置する抵抗フィルムと、該基板とは反対側にあ
る該抵抗フィルムの表面側にコネクタ・コンタクト層と
を有する電気抵抗器、特に低抵抗の電気抵抗器の製造方
法であって;抵抗性合金からなる金属製抵抗フィルム
が、熱伝導性が良好な材料からなる基板の上に、絶縁材
料からなる熱伝導性の接着層を介して接着されており、 上記抵抗フィルムをエッチングして複数の個々の抵抗素
子を形成し、 上記エッチングされた抵抗フィルムと、上記基板と、該
抵抗フィルムと該基板の間に位置する上記接着層とから
なる積層体を、個々の抵抗器に分離する、電気抵抗器の
製造方法において;まず、上記基板とは反対側にある上
記抵抗フィルムの表面における、形成しようとする上記
抵抗器の上記コネクタ・コンタクト層が配置される位置
に、少なくとも所要のコネクタ・コンタクト領域を含む
制限された複数の表面領域をフォトリソグラフィ的に形
成し、 次いで、上記制限された複数の表面領域にコネクタ・コ
ンタクト用金属の被覆を施し、 次いで、上記部分的に金属被覆された抵抗フィルムをエ
ッチングして、抵抗構造を形成すること、を特徴とす
る、 電気抵抗器の製造方法。
10. An electrical resistor having a resistor film located entirely inside a periphery of a substrate of an individual resistor, and a connector contact layer on a surface side of the resistor film opposite to the substrate. In particular, a method for manufacturing a low-resistance electric resistor, wherein a metal resistance film made of a resistive alloy is formed on a substrate made of a material having good heat conductivity, on a substrate made of an insulating material, The resistance film is etched to form a plurality of individual resistance elements, the etched resistance film, the substrate, and the adhesion positioned between the resistance film and the substrate. A method for manufacturing an electrical resistor, comprising separating a laminate comprising layers into individual resistors; first, the resistor to be formed on the surface of the resistor film opposite to the substrate Photolithographically forming a plurality of limited surface areas including at least required connector contact areas at positions where the connector contact layers are arranged; A method of manufacturing an electrical resistor, comprising: applying a coating of a metal for use; and etching the resistance film partially metal-coated to form a resistance structure.
【請求項11】 上記金属被覆された制限された複数の
表面領域は最初は上記所要のコネクタ・コンタクト領域
より広いものであり、上記所要のコネクタ・コンタクト
層を、上記抵抗構造の形成と同時にエッチングによって
形成することを特徴とする、請求項10に記載の電気抵
抗器の製造方法。
11. The limited metallized surface area is initially wider than the required connector contact area, and the required connector contact layer is etched simultaneously with the formation of the resistive structure. The method for manufacturing an electrical resistor according to claim 10, wherein:
【請求項12】 上記コネクタ・コンタクト用金属を電
気メッキまたは化学的金属被覆によって被着することを
特徴とする、請求項10または11に記載の電気抵抗器
の製造方法。
12. The method as claimed in claim 10, wherein the metal for connector contact is applied by electroplating or chemical metallization.
【請求項13】 上記コネクタ・コンタクト用金属とし
て相異なる2つの金属層を被着することを特徴とする、
請求項12に記載の電気抵抗器の製造方法。
13. The method according to claim 13, wherein two different metal layers are applied as the metal for the connector / contact.
A method for manufacturing the electric resistor according to claim 12.
【請求項14】 上記抵抗フィルムの上記制限された複
数の表面領域に部分的に金属被覆を施すために、上記基
板とは反対側にある上記抵抗フィルムの表面に凹部を形
成し、次にこの凹部にコンタクト用金属を充填すること
を特徴とする、請求項10乃至13のいずれかに記載の
電気抵抗器の製造方法。
14. A recess is formed in the surface of the resistive film opposite the substrate to partially metallize the limited plurality of surface areas of the resistive film. 14. The method according to claim 10, wherein the recess is filled with a contact metal.
【請求項15】 上記凹部をエッチングによって形成す
ることを特徴とする、請求項14に記載の電気抵抗器の
製造方法。
15. The method according to claim 14, wherein the concave portion is formed by etching.
【請求項16】 個々の抵抗器の基板の周縁の全体的に
内側に位置する抵抗フィルムを有する電気抵抗器、特に
低抵抗の電気抵抗器の製造方法であって;抵抗性合金か
らなる金属製抵抗フィルムが、熱伝導性が良好な金属か
らなる基板の上に、絶縁材料からなる熱伝導性の接着層
を介して接着されており、 上記抵抗フィルムをエッチングして複数の個々の抵抗性
素子を形成し、 上記エッチングされた抵抗フィルムと、上記基板と、該
抵抗フィルムと該基板の間に位置する上記接着層とから
なる積層体を、個々の抵抗器に分離する、電気抵抗器の
製造方法において;上記積層体を分離するために、上記
抵抗フィルムとは反対側にある上記基板の表面の位置か
ら分離線に沿って上記接着層の位置まで上記基板をエッ
チングし、 次いで、上記基板とは反対の側から上記積層体に圧力を
加えて、残りの接着層の連結部分を破壊して、上記抵抗
器を分離すること、を特徴とする、 電気抵抗器の製造方法。
16. A method for manufacturing an electrical resistor, in particular a low-resistance electrical resistor, having a resistive film located entirely inside the periphery of the substrate of the individual resistors, comprising a metal made of a resistive alloy. A resistance film is bonded on a substrate made of a metal having good heat conductivity via a heat conductive adhesive layer made of an insulating material. The resistance film is etched to form a plurality of individual resistance elements. Forming an electrical resistor, separating a laminate comprising the etched resistive film, the substrate, and the adhesive layer located between the resistive film and the substrate into individual resistors. In the method, to separate the laminate, etching the substrate from a position on the surface of the substrate opposite to the resistance film to a position of the adhesive layer along a separation line; Applying a pressure to the laminate from the opposite side to break the connection portion of the remaining adhesive layer and separate the resistor.
【請求項17】 セラミック粉末を含有するプラスチッ
ク等の粘着性物質からなるフィルムを上記接着層として
用いて上記積層体が形成されていることを特徴とする、
請求項7乃至16のいずれかに記載の電気抵抗器の製造
方法。
17. The laminate is formed by using a film made of an adhesive substance such as plastic containing ceramic powder as the adhesive layer.
A method for manufacturing the electric resistor according to claim 7.
【請求項18】 プレス機において上記積層体の一方の
表面全体を覆うゴム弾性を有するマットを用いて上記抵
抗器を分離するための圧力を加えることを特徴とする、
請求項16または17に記載の電気抵抗器の製造方法。
18. A method for applying a pressure for separating the resistor by using a rubber elastic mat covering one entire surface of the laminate in a press machine.
A method for manufacturing the electric resistor according to claim 16.
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