JPH10144469A - Organic electroluminescent element and manufacture thereof - Google Patents

Organic electroluminescent element and manufacture thereof

Info

Publication number
JPH10144469A
JPH10144469A JP9244964A JP24496497A JPH10144469A JP H10144469 A JPH10144469 A JP H10144469A JP 9244964 A JP9244964 A JP 9244964A JP 24496497 A JP24496497 A JP 24496497A JP H10144469 A JPH10144469 A JP H10144469A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
organic electroluminescent
electroluminescent device
meth
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9244964A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4164885B2 (en
Inventor
Mitsuru Tanamura
満 棚村
Seiichiro Hayakawa
誠一郎 早川
Tamae Karasawa
環江 唐沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP24496497A priority Critical patent/JP4164885B2/en
Publication of JPH10144469A publication Critical patent/JPH10144469A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4164885B2 publication Critical patent/JP4164885B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method enabling light weight, superior mechanical strength and high productivity by providing an organic electroluminescent element and a substrate consisting of a light curing resin so as to be surface roughness (Rz) of one plate face of the substrate. SOLUTION: An organic electroluminescent element 10 comprises a substrate 1, an anode 2, an organic luminescent layer 3, and a cathode 4, and the substrate 1 is a support of an entire element. Superior optical characteristics, heat resistance, surface precision, mechanical strength, light weight, and gas barrier properties are required. Light double refraction of a photocuring resin substrate is preferably 20nm or less. Thickness of the substrate is ordinary 0.1 to 5mm or preferably 0.3 to 1mm. Surface roughness on a luminescent element fabrication face of a resin substrate is 1 to 50nm in 10-point average roughness Rz and is preferably 2 to 20nm. When Rz is greater than 50nm, short circuit is likely to occur between element electrodes, and when it is smaller than 1nm, adhesive force between an organic layer and the substrate is weakened and is not preferable.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は有機電界発光素子及
びその製造方法に関するものであり、詳しくは、有機化
合物からなる発光層に電界をかけて光を放出する薄膜型
発光素子の支持基板の改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an improvement in a support substrate of a thin film type light emitting device which emits light by applying an electric field to a light emitting layer made of an organic compound. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、薄膜型の電界発光(EL)素子と
しては、無機材料のII-IV 族化合物半導体であるZn
S、CaS、SrS等に、発光中心であるMnや希土類
元素(Eu、Ce、Tb、Sm等)をドープしたものが
一般的であるが、上記の無機材料から作製したEL素子
は、 交流駆動が必要とされる(一般に、50〜1000
Hz)。 駆動電圧が高い(一般に200V程度)。 フルカラー化が困難である。特に青色に問題があ
る。 周辺駆動回路のコストが高い。 といった問題点を有している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a thin film type electroluminescent (EL) element, Zn, which is an inorganic II-IV compound semiconductor, is used.
Generally, S, CaS, SrS, and the like are doped with Mn or a rare earth element (Eu, Ce, Tb, Sm, or the like) which is a luminescence center. Is required (generally 50 to 1000
Hz). The driving voltage is high (generally about 200 V). It is difficult to make full color. In particular, there is a problem with blue. The cost of the peripheral drive circuit is high. There is a problem that.

【0003】しかし、近年、上記問題点を改良すべく、
有機薄膜を用いたEL素子の開発が行われるようになっ
た。特に、発光効率を高めるために、電極からのキャリ
アー注入の効率向上を目的として電極の種類の最適化を
行い、芳香族ジアミンから成る有機正孔輸送層と8−ヒ
ドロキシキノリンのアルミニウム錯体から成る有機発光
層とを設けた有機電界発光素子の開発(Appl.Ph
ys.Lett.,51巻,913頁,1987年)に
より、従来のアントラセン等の単結晶を用いた電界発光
素子と比較して発光効率の大幅な改善がなされ、実用特
性に近づいてきている。
However, in recent years, in order to improve the above problems,
Development of EL devices using organic thin films has been started. In particular, in order to increase the luminous efficiency, the type of the electrode is optimized for the purpose of improving the efficiency of carrier injection from the electrode, and the organic hole transport layer composed of an aromatic diamine and the organic layer composed of an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline are used. Development of an organic electroluminescent device provided with a light emitting layer (Appl. Ph.
ys. Lett. , Vol. 51, p. 913, 1987), the luminous efficiency is greatly improved as compared with a conventional electroluminescent device using a single crystal such as anthracene, and the practical characteristics are approaching.

【0004】また、上記の様な低分子材料を用いた電界
発光素子の他にも、有機発光層の材料として、ポリ(p
−フェニレンビニレン)(Nature,347巻,5
39頁,1990年他)、ポリ [2−メトキシ−5−
(2−エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレンビ
ニレン] (Appl.Phys.Lett.,58巻,
1982頁他)、ポリ(3−アルキルチオフェン)(J
pn.J.Appl.Phys,30巻,L1938頁
他)等の高分子材料を用いた電界発光素子の開発や、ポ
リビニルカルバゾール等の高分子に低分子の発光材料と
電子移動材料を混合した素子(応用物理,61巻,10
44頁,1992年)の開発も行われている。
In addition to the above-described electroluminescent device using a low molecular material, poly (p) is used as a material for an organic light emitting layer.
-Phenylene vinylene) (Nature, 347, 5)
39, 1990 et al.), Poly [2-methoxy-5-
(2-ethylhexyloxy) -1,4-phenylenevinylene] (Appl. Phys. Lett., Vol. 58,
1982, etc.), poly (3-alkylthiophene) (J
pn. J. Appl. Phys., Vol. 30, L1938, etc.) and the development of an electroluminescent device using a polymer material, and a device in which a low molecular light emitting material and an electron transfer material are mixed with a polymer such as polyvinyl carbazole (Applied Physics, Vol. 61) , 10
44, 1992).

【0005】以上に示したような有機電界発光素子にお
いては、通常、基板としてはガラスが用いられる。しか
しながら、有機電界発光素子の重要な用途と目されてい
るパソコンや携帯型端末の表示パネルにおいて、基板と
してガラスを用いた場合、ガラスの低密度化と機械的強
度の問題から、軽量化、薄型化に限界がある上に、生産
性の向上の面でも、成形性、加工性の観点から問題があ
る。このため、プラスチックを基板として用いた有機電
界発光素子の開発が強く望まれている。
In the above-described organic electroluminescent devices, glass is usually used as a substrate. However, when glass is used as a substrate for display panels of personal computers and portable terminals, which are regarded as important applications of organic electroluminescent elements, the weight and thickness of the glass are reduced due to the problems of low density and mechanical strength of the glass. In addition to the limitations on the production, there is also a problem in terms of productivity from the viewpoint of moldability and workability. Therefore, development of an organic electroluminescent device using a plastic as a substrate is strongly desired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プラスチック基板には下記のような問題点があった。
However, the conventional plastic substrate has the following problems.

【0007】(1) 有機電界発光素子に適した透明性と
光学特性を満足し得ない。 (2) 耐熱性に劣る。 (3) 表面精度に劣る。 特に、光学的等方性に関しては、ガラス基板の複屈折Δ
n・dが1nm以下であるのに対し、プラスチック基板
では10nmを超えているのが現状である。この複屈折
性の問題は、何らかの延伸操作或いは材料の流動操作が
樹脂に施される成型法を採用する場合において、これを
解決するのは難しい。また、比較的厚い基板(例えば
0.4mm以上)とする場合、熱可塑性樹脂の押し出し
やベルト形成では成形が困難である。一方、熱硬化性樹
脂を用いた場合には、成形に数時間を要し、生産性の面
で問題がある。
(1) Transparency and optical characteristics suitable for an organic electroluminescent device cannot be satisfied. (2) Poor heat resistance. (3) Poor surface accuracy. In particular, regarding the optical isotropy, the birefringence Δ
At present, n · d is 1 nm or less, while that of a plastic substrate exceeds 10 nm. This problem of birefringence is difficult to solve when a molding method is employed in which some stretching operation or material flow operation is performed on the resin. In the case where a relatively thick substrate (for example, 0.4 mm or more) is used, molding is difficult by extruding a thermoplastic resin or forming a belt. On the other hand, when a thermosetting resin is used, several hours are required for molding, and there is a problem in productivity.

【0008】本発明は上記従来の問題点を解決し、有機
電界発光素子に適した透明性と光学特性を有し、耐熱
性、表面精度に優れ、成形性も良好なプラスチック基板
を用いて、軽量で機械的強度及び生産性に優れた有機電
界発光素子及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems and uses a plastic substrate having transparency and optical properties suitable for an organic electroluminescent device, excellent heat resistance, excellent surface accuracy, and good moldability. An object of the present invention is to provide a light-weight organic electroluminescent device excellent in mechanical strength and productivity and a method for manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の有機電界発光素
子は、基板の一方の板面上に、陽極、有機発光層及び陰
極が積層された有機電界発光素子であって、該基板は光
硬化性樹脂よりなり、かつ、基板の該一方の板面の表面
粗さ(Rz)が1〜50nmであることを特徴とする。
The organic electroluminescent device of the present invention is an organic electroluminescent device in which an anode, an organic luminescent layer and a cathode are laminated on one surface of a substrate. It is made of a curable resin, and has a surface roughness (Rz) of the one plate surface of the substrate of 1 to 50 nm.

【0010】光硬化性樹脂製基板であれば、光硬化性液
状モノマーを板状に賦形し該モノマーに活性エネルギー
線を照射して重合硬化させることにより容易に基板を成
形することができ、しかも、このような光硬化性樹脂製
基板であれば、有機電界発光素子に適した透明性及び光
学特性を有し、耐熱性や表面精度にも優れる。
In the case of a substrate made of a photocurable resin, the substrate can be easily formed by shaping a photocurable liquid monomer into a plate shape, irradiating the monomer with an active energy ray, and polymerizing and curing the monomer. In addition, such a photo-curable resin substrate has transparency and optical characteristics suitable for an organic electroluminescent element, and is excellent in heat resistance and surface accuracy.

【0011】なお、基板の積層面、即ち、陽極、有機発
光層及び陰極が積層形成される面(以下「発光素子作製
面」と称す。)の表面粗さ(Rz)を1〜50nmの範
囲とすることで、素子の短絡を引き起こすことなく、基
板に素子構成層を接着性良く形成することが可能とな
る。
The surface roughness (Rz) of the laminated surface of the substrate, that is, the surface on which the anode, the organic light emitting layer, and the cathode are laminated (hereinafter referred to as the “light emitting element fabrication surface”) is in the range of 1 to 50 nm. By doing so, it becomes possible to form an element constituent layer with good adhesiveness on the substrate without causing a short circuit of the element.

【0012】本発明において、光硬化性樹脂は、分子内
に2個以上の官能基を有する多官能(メタ)アクリレー
トを含有するモノマーを光重合させて得られるものであ
ることが好ましく、この分子内に2個以上の官能基を有
する多官能(メタ)アクリレートは、下記一般式[I] で
表される化合物及び下記一般式[II]で表される化合物よ
りなる群から選ばれる少なくとも1種のビス(メタ)ア
クリレートであることが好ましい。
In the present invention, the photocurable resin is preferably obtained by photopolymerizing a monomer containing a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups in the molecule. The polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups therein is at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula [I] and a compound represented by the following general formula [II] It is preferable to use a bis (meth) acrylate.

【0013】[0013]

【化3】 Embedded image

【0014】(上記[I] 式中、R1 及びR2 は、それぞ
れ水素又はメチル基、R3 及びR4は、それぞれエーテ
ル基及び/又はチオエーテル基を含んでいてもよい炭素
数1〜6の炭化水素基、Xはハロゲン原子或いは炭素数
1〜6のアルキル基又はアルコキシ基を示し、kは0〜
4の整数を示す。)
(In the above formula [I], R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, and R 3 and R 4 are each a C 1-6 carbon atom which may contain an ether group and / or a thioether group. X represents a halogen atom or an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and k represents 0 to 0.
Indicates an integer of 4. )

【0015】[0015]

【化4】 Embedded image

【0016】(上記[II]式中、R5 及びR6 は、それぞ
れ水素又はメチル基を示し、mは1又は2、nは0又は
1を示す。) 本発明に係る光硬化性樹脂は、特に、分子内に2個以上
の官能基を有する多官能(メタ)アクリレート及び分子
内に2個以上の官能基を有する多官能メルカプト化合物
を共重合させて得られるものであることが好ましい。
(In the formula [II], R 5 and R 6 each represent hydrogen or a methyl group, m represents 1 or 2, and n represents 0 or 1.) The photocurable resin according to the present invention is In particular, it is preferably obtained by copolymerizing a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups in a molecule and a polyfunctional mercapto compound having two or more functional groups in a molecule.

【0017】また、基板は、複屈折20nm以下の光硬
化性樹脂で構成されていることが好ましい。
The substrate is preferably made of a photocurable resin having a birefringence of 20 nm or less.

【0018】このような本発明の有機電界発光素子は、
基板上に、陽極、有機発光層及び陰極を積層して有機電
界発光素子を製造する方法において、該基板として光硬
化性樹脂よりなり、かつ、その少なくとも一方の板面の
表面粗さ(Rz)が1〜50nmである基板を用い、該
基板の該一方の板面に陽極、有機発光層及び陰極を積層
することより製造される。
The organic electroluminescent device of the present invention has the following features.
In a method of manufacturing an organic electroluminescent device by laminating an anode, an organic light-emitting layer, and a cathode on a substrate, the substrate is made of a photocurable resin, and the surface roughness (Rz) of at least one plate surface thereof Is manufactured by laminating an anode, an organic luminescent layer, and a cathode on the one plate surface of the substrate.

【0019】本発明において、基板は、好ましくは、分
子内に2個以上の官能基を有する多官能(メタ)アクリ
レート及び分子内に2個以上の官能基を有する多官能メ
ルカプト化合物を含む光硬化性液状モノマーを板状に賦
形し、これに活性エネルギー線を照射して光重合硬化さ
せることにより製造される。
In the present invention, the substrate is preferably a photocurable composition containing a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups in a molecule and a polyfunctional mercapto compound having two or more functional groups in a molecule. It is manufactured by shaping an aqueous liquid monomer into a plate shape and irradiating the plate with an active energy ray to photopolymerize and cure.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の有機電界発光素
子及びその製造方法について、図面を参照しながら説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an organic electroluminescent device of the present invention and a method for manufacturing the same will be described with reference to the drawings.

【0021】図1〜3は本発明の有機電界発光素子の構
造例を示す模式的断面図であり、図中、1は基板、2は
陽極、3は有機発光層、3aは正孔輸送層、3bは電子
輸送層、3cは正孔注入層、4は陰極、10,10A,
10Bは有機電界発光素子である。
1 to 3 are schematic cross-sectional views showing examples of the structure of the organic electroluminescent device of the present invention. In the figures, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is an organic light emitting layer, and 3a is a hole transport layer. , 3b is an electron transport layer, 3c is a hole injection layer, 4 is a cathode, 10, 10A,
10B is an organic electroluminescent element.

【0022】基板1は有機電界発光素子の支持体となる
ものであり、光学特性、耐熱性、表面精度、機械的強
度、軽量性、ガスバリア性などの特性に優れていること
が要求される。本発明においてはこれらの特性に優れた
プラスチック基板として、光硬化性樹脂製基板を採用す
る。以下に本発明で用いている基板材料について説明す
る。
The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescent device, and is required to have excellent characteristics such as optical characteristics, heat resistance, surface accuracy, mechanical strength, light weight, and gas barrier properties. In the present invention, a photo-curable resin substrate is employed as a plastic substrate having excellent characteristics. Hereinafter, the substrate material used in the present invention will be described.

【0023】<多官能(メタ)アクリレート>本発明に
係る基板は、例えば多官能(メタ)アクリレートとして
下記一般式[I] で示される含イオウビス(メタ)アクリ
レート及び下記一般式[II]で示される脂環骨格ビス(メ
タ)アクリレートよりなる群から選ばれる1種又は2種
以上のビス(メタ)アクリレートを含んでなる光硬化性
モノマー組成物を賦形し、これに活性エネルギー線を照
射して光重合硬化させてなる光硬化性樹脂で構成され
る。
<Polyfunctional (meth) acrylate> The substrate according to the present invention is, for example, a polyfunctional (meth) acrylate represented by the following sulfur-containing (meth) acrylate represented by the following general formula [I] and the following general formula [II]: A photocurable monomer composition comprising one or more bis (meth) acrylates selected from the group consisting of alicyclic skeleton bis (meth) acrylates, and irradiating this with an active energy ray. It is composed of a photocurable resin obtained by photopolymerization and curing.

【0024】[0024]

【化5】 Embedded image

【0025】[0025]

【化6】 Embedded image

【0026】上記一般式[I] 及び[II]中の各記号は下記
の意味を持つ。 R1 及びR2 :水素原子又はメチル基。R1 ,R2 は同
一であっても異なってもよい。
Each symbol in the above general formulas [I] and [II] has the following meaning. R 1 and R 2 : a hydrogen atom or a methyl group. R 1 and R 2 may be the same or different.

【0027】R3 :エーテル基(エーテル結合:C−O
−C)、チオエーテル基(チオエーテル結合:C−S−
C)を含んでいてもよい炭素数1〜6の炭化水素基、好
ましくは炭素数2〜4のアルキレン基 R4 :エーテル基、チオエーテル基を含んでいてもよい
炭素数1〜6の炭化水素基、好ましくは炭素数1〜3の
アルキレン基 X:ハロゲン原子或いは炭素数1〜6のアルキル基又は
アルコキシ基 k:0〜4の整数 R5 及びR6 :水素原子又はメチル基。R5 ,R6 は同
一であっても異なっていてもよい m:1又は2 n:0又は1 なお、上記「(メタ)アクリレートを含んでなる光硬化
性モノマー組成物」の「含んでなる」とは、当該組成物
が本発明の趣旨を損なわない範囲で、多官能(メタ)ア
クリレート以外の少量の補助成分を含んでもよいことを
意味するものである。即ち、本発明で光硬化性モノマー
組成物の主成分として特定する上記多官能(メタ)アク
リレートと共重合可能な他の単量体等の補助成分を、例
えば、後述の如く、光硬化性モノマー組成物100重量
部に対して30重量部程度までの範囲で含んでいてもよ
いことを意味する。また、この組成物中の各成分は、成
分間及び/又は成分内においてその複数種類を併用して
もよい。
R 3 : ether group (ether bond: CO)
-C), a thioether group (thioether bond: C—S—
Hydrocarbon group of carbon atoms which may contain 1-6 to C), preferably an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms R 4: ether group, a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms which may contain a thioether group A group, preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms X: a halogen atom or an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms k: an integer of 0 to 4 R 5 and R 6 : a hydrogen atom or a methyl group. R 5 and R 6 may be the same or different. M: 1 or 2 n: 0 or 1 In addition, “contains” in the “photocurable monomer composition comprising (meth) acrylate” "Means that the composition may contain a small amount of an auxiliary component other than the polyfunctional (meth) acrylate within a range not to impair the purpose of the present invention. That is, the auxiliary component such as another monomer copolymerizable with the polyfunctional (meth) acrylate specified as the main component of the photocurable monomer composition in the present invention is, for example, a photocurable monomer as described later. It means that it may be contained in a range up to about 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the composition. In addition, each of the components in the composition may be used in combination of plural types between and / or within the components.

【0028】また、本明細書において、「(メタ)アク
リレート」は、アクリレート及び/又はメタアクリレー
トを総称するものである。
In the present specification, “(meth) acrylate” is a general term for acrylate and / or methacrylate.

【0029】前記一般式[I] で示される含イオウビス
(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、例え
ば、p−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルチオ)
キシリレン(R1 :メチル、R2 :メチル、R3 :エチ
レン、R4 :メチレン、k:0)、p−ビス(β−アク
リロイルオキシエチルチオ)キシリレン、m−ビス(β
−メタクリロイルオキシエチルチオ)キシリレン、m−
ビス(β−アクリロイルオキシエチルチオ)キシリレ
ン、p−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルオキシ
エチルチオ)キシリレン、p−ビス(β−メタクリロイ
ルオキシエチルチオ)キシリレン、p−ビス(β−メタ
クリロイルオキシエチルチオ)テトラブロムキシリレ
ン、m−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルチオ)
テトラクロロキシリレンなどが挙げられる。
Specific examples of the sulfur-containing (meth) acrylate compound represented by the general formula [I] include, for example, p-bis (β-methacryloyloxyethylthio)
Xylylene (R 1 : methyl, R 2 : methyl, R 3 : ethylene, R 4 : methylene, k: 0), p-bis (β-acryloyloxyethylthio) xylylene, m-bis (β
-Methacryloyloxyethylthio) xylylene, m-
Bis (β-acryloyloxyethylthio) xylylene, p-bis (β-methacryloyloxyethyloxyethylthio) xylylene, p-bis (β-methacryloyloxyethylthio) xylylene, p-bis (β-methacryloyloxyethylthio) Tetrabromoxylylene, m-bis (β-methacryloyloxyethylthio)
Tetrachloroxylylene and the like.

【0030】これらの化合物は、例えば特開昭62−1
95357号公報に示されている方法で合成することが
できる。
These compounds are described, for example, in JP-A-62-1
The compound can be synthesized by the method disclosed in Japanese Patent No. 95357.

【0031】また、前記一般式[II]で示される脂環骨格
ビス(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、ビ
ス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.02,6 ]デカ
ン=ジアクリレート、ビス(オキシメチル)トリシクロ
[5.2.02,6 ]デカン=ジメタクリレート、ビス
(オキシメチル)トリシクロ[5.2.02,6 ]デカン
=アクリレートメタクリレート、及びこれらの混合物、
ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.1
3,6 .02,7 .09,13]ペンタデカン=ジアクリレー
ト、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.
3,6 .02,7 .09, 13]ペンタデカン=ジメタクリレ
ート、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.5.
1.13,6 .02,7 .09,13]ペンタデカン=アクリレ
ートメタクリレート及びこれらの混合物が挙げられる。
これらのトリシクロデカン化合物及びペンタシクロペン
タデカン化合物は、群内又は群間で2種以上併用しても
よい。
Specific examples of the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate compound represented by the general formula [II] include bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.0 2,6 ] decane diacrylate; Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.0 2,6 ] decane dimethacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.0 2,6 ] decane = acrylate methacrylate, and mixtures thereof;
Bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1
3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane diacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.
13-6 . 0 2,7 . 0 9, 13] pentadecane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.
1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane acrylate methacrylate and mixtures thereof.
Two or more of these tricyclodecane compounds and pentacyclopentadecane compounds may be used in groups or between groups.

【0032】これらの化合物は、例えば特開昭62−2
25508号公報に示されている方法で合成することが
できる。
These compounds are described, for example, in JP-A-62-2
It can be synthesized by the method disclosed in Japanese Patent No. 25508.

【0033】前記一般式[I] 及び[II]で表される多官能
(メタ)アクリレートは、単独もしくは2種以上を併用
して用いることができる。一般式[I] の化合物を単独で
用いる場合、得られる基板の屈折率は、ナトリウムのD
線(589.3mm)において室温で1.55〜1.6
5の比較的高い屈折率となる。一方、一般式[II]の化合
物を単独で用いる場合は、1.47〜1.55という比
較的低い屈折率となる。従って、一般式[I] 及び[II]で
表される化合物を各々1種以上併用することにより、
1.47〜1.65の間で所望の屈折率を有する低複屈
折樹脂基板を得ることができる。
The polyfunctional (meth) acrylates represented by the general formulas [I] and [II] can be used alone or in combination of two or more. When the compound of the general formula [I] is used alone, the refractive index of the obtained substrate is D
1.55 to 1.6 at room temperature on line (589.3 mm)
A relatively high refractive index of 5. On the other hand, when the compound of the general formula [II] is used alone, it has a relatively low refractive index of 1.47 to 1.55. Accordingly, by using one or more compounds represented by the general formulas [I] and [II] in combination,
A low birefringent resin substrate having a desired refractive index between 1.47 and 1.65 can be obtained.

【0034】<補助成分>本発明に係る基板材料は、多
官能(メタ)アクリレートを必須成分とする多官能(メ
タ)アクリレート含有光硬化性モノマー組成物を重合硬
化させてなるものであり、この光硬化性モノマー組成物
が少量の補助成分を含んでもよいことは前記したところ
である。
<Auxiliary Component> The substrate material according to the present invention is obtained by polymerizing and curing a polyfunctional (meth) acrylate-containing photocurable monomer composition containing a polyfunctional (meth) acrylate as an essential component. It has been mentioned above that the photocurable monomer composition may contain small amounts of auxiliary components.

【0035】従って、本発明に係る樹脂基板は、その硬
化前の光硬化性モノマー組成物100重量部に対し30
重量部程度までの量でラジカル重合、付加重合可能な他
の単量体を混合して上記多官能(メタ)アクリレートと
共重合させて製造することも可能である。その際に用い
る他の単量体としては、例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、フェニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、メタクリロイルオキシメ
チルテトラシクロドデカン、メタクリロイルオキシメチ
ルテトラシクロドデセン、エチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレート、2,2−ビス[4−(β−メタクリロイルオ
キシエトキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ビス
[4−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘ
キシル]プロパン、1,4−ビス(メタクリロイルオキ
シメチル)シクロヘキサン、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合
物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α
−メチルスチレン等の核及び/又は側鎖置換,非置換ス
チレンなどが挙げられるが、好ましくは、下記一般式[I
II] 、[IV]及び[V] で示される分子内に2個以上のチオ
ール基を有するメルカプト化合物よりなる群から選ばれ
る1種又は2種以上のメルカプト化合物が挙げられる。
Therefore, the resin substrate according to the present invention can be used in an amount of 30 parts by weight per 100 parts by weight of the photocurable monomer composition before curing.
It is also possible to produce the mixture by mixing other monomers capable of radical polymerization and addition polymerization in an amount of up to about parts by weight and copolymerizing with the above polyfunctional (meth) acrylate. Other monomers used at this time include, for example, methyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methacryloyloxymethyltetracyclododecane, methacryloyloxymethyltetracyclododecene, ethylene Glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2′- (Meth) acrylate compounds such as bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, and trimethylolpropane tri (meth) acrylate; , Chlorostyrene, divinylbenzene, alpha
Nucleus such as -methylstyrene and / or side chain-substituted, unsubstituted styrene, etc .;
One or two or more mercapto compounds selected from the group consisting of mercapto compounds having two or more thiol groups in the molecule represented by [II], [IV] and [V].

【0036】[0036]

【化7】 Embedded image

【0037】[0037]

【化8】 Embedded image

【0038】[0038]

【化9】 Embedded image

【0039】なお、上記一般式[III] 、[IV]及び[V] 中
の各記号は下記の意味を持つ。
The symbols in the above general formulas [III], [IV] and [V] have the following meanings.

【0040】R7 :メチレン基又はエチレン基 R8 :エーテル基、チオエーテル基を含んでいてもよい
炭素数2〜15の炭化水素基。好ましくは炭素数2〜6
の炭化水素基 a:2〜6の整数 R:HS−(CH2 −)b (CO)−(OCH2 d
(CH2 −)c −(ただしb,cは0〜2の整数、dは
1〜4の整数) R9 :炭素数1〜3の炭化水素基 R10:炭素数1〜3の炭化水素基 e,f:0又は1 g:1又は2 上記一般式[III] で示されるメルカプト化合物は、2〜
6価のチオグリコール酸エステル又はチオプロピオン酸
エステルである。式[III] の化合物の具体例としては、
例えばペンタエリスリトールテトラキス(β−チオプロ
ピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオ
グリコレート)、トリメチロールプロパントリス(β−
チオプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス
(チオグリコレート)、ジエチレングリコールビス(β
−チオプロピオネート)、ジエチレングリコールビス
(チオグリコレート)、トリエチレングリコールビス
(β−チオプロピオネート)、トリエチレングリコール
ビス(チオグリコレート)、ジペンタエリスリトールヘ
キサシス(β−チオプロピオネート)、ジペンタエリス
リトールヘキサシス(チオグリコレート)などが挙げら
れる。
R 7 : a methylene group or an ethylene group R 8 : a hydrocarbon group having 2 to 15 carbon atoms which may contain an ether group or a thioether group. Preferably 2 to 6 carbon atoms
A: an integer of 2 to 6 R: HS— (CH 2 —) b (CO) — (OCH 2 ) d
(CH 2- ) c- (where b and c are integers of 0 to 2, d is an integer of 1 to 4) R 9 : a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms R 10 : a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms Groups e, f: 0 or 1 g: 1 or 2 The mercapto compound represented by the above general formula [III] is a compound of the formula
Hexavalent thioglycolate or thiopropionate. Specific examples of the compound of the formula [III] include
For example, pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), trimethylolpropane tris (β-thiopropionate)
Thiopropionate), trimethylolpropane tris (thioglycolate), diethylene glycol bis (β
-Thiopropionate), diethylene glycol bis (thioglycolate), triethylene glycol bis (β-thiopropionate), triethylene glycol bis (thioglycolate), dipentaerythritol hexacis (β-thiopropionate) ), Dipentaerythritol hexacis (thioglycolate) and the like.

【0041】一般式[IV]で示される化合物は、X−SH
基含有トリイソシアヌレートである。式[IV]の化合物の
具体例としては、例えばトリス[2−(β−チオプロピ
オニルオキシ)エチル]イソシアヌレート、トリス(2
−チオグリコニルオキシエチル)イソシアヌレート、ト
リス[2−(β−チオプロピオニルオキシエトキシ)エ
チル]イソシアヌレート、トリス(2−チオグリコニル
オキシエトキシエチル)イソシアヌレート、トリス[3
−(β−チオプロピオニルオキシ)プロピル]イソシア
ヌレート、トリス(3−チオグリコニルオキシプロピ
ル)イソシアヌレートなどが挙げられる。
The compound represented by the general formula [IV] is X-SH
It is a group-containing triisocyanurate. Specific examples of the compound of the formula [IV] include tris [2- (β-thiopropionyloxy) ethyl] isocyanurate and tris (2
-Thioglyconyloxyethyl) isocyanurate, tris [2- (β-thiopropionyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris (2-thioglyconyloxyethoxyethyl) isocyanurate, tris [3
-(Β-thiopropionyloxy) propyl] isocyanurate, tris (3-thioglyconyloxypropyl) isocyanurate and the like.

【0042】一般式[V] で示される化合物は、α,X−
SH基含有化合物である。式[V] の化合物の具体例とし
ては、例えばペンゼンジメルカプタン、キシリレンジメ
ルカプタン、4,4’−ジメルカプトジフェニルスルフ
ィドなどが挙げられる。
The compound represented by the general formula [V] is α, X-
It is an SH group-containing compound. Specific examples of the compound of the formula [V] include, for example, benzene dimercaptan, xylylene dimercaptan, 4,4′-dimercaptodiphenyl sulfide and the like.

【0043】これらのメルカプト化合物を配合すること
により、樹脂基板の製造に当り、チオール基のもつ連鎖
移動剤としての作用が有効に発揮され、重合硬化をおだ
やかに均一に進行させ、得られる硬化樹脂の複屈折を低
減することができる。また、これらのメルカプト化合物
がビス(メタ)アクリレートにより形成される3次元網
目構造に入り込み、得られる樹脂基板に適度な靱性が付
与される。更に、分子内に2個以上のチオール基を有す
る、即ち多官能性のメルカプト化合物を用いることで、
得られる硬化樹脂の耐熱性を大きく損なうことなく、複
屈折、機械強度などを改善することができる。
By incorporating these mercapto compounds, the action as a chain transfer agent having a thiol group can be effectively exerted in the production of a resin substrate, and the polymerization and curing proceed gently and uniformly, and the resulting cured resin is obtained. Can be reduced. In addition, these mercapto compounds enter the three-dimensional network structure formed by bis (meth) acrylate, and impart an appropriate toughness to the obtained resin substrate. Furthermore, by using a polyfunctional mercapto compound having two or more thiol groups in the molecule, that is,
Birefringence, mechanical strength, etc. can be improved without significantly impairing the heat resistance of the obtained cured resin.

【0044】本発明に係る基板材料として、前記多官能
(メタ)アクリレートと上記メルカプト化合物を併用す
る場合、その組成割合は、多官能(メタ)アクリレート
70〜99.9重量部に対して、メルカプト化合物0.
1〜30重量部とするのが好ましく、更に好ましくは多
官能(メタ)アクリレート80〜99重量部に対して、
メルカプト化合物1〜20重量部の範囲である。メルカ
プト化合物の割合が少なすぎると硬化樹脂の複屈折改良
効果が得られなくなり、逆に多すぎると硬化樹脂の耐熱
性が低くなる。
When the above polyfunctional (meth) acrylate and the above mercapto compound are used in combination as the substrate material according to the present invention, the composition ratio is from 70 to 99.9 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate to the mercapto compound. Compound 0.
The content is preferably 1 to 30 parts by weight, more preferably 80 to 99 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate.
The range is from 1 to 20 parts by weight of the mercapto compound. If the proportion of the mercapto compound is too small, the effect of improving the birefringence of the cured resin will not be obtained, and if it is too large, the heat resistance of the cured resin will decrease.

【0045】なお、補助成分としては、上記メルカプト
化合物の他、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、充填
剤などを用いることができる。
As auxiliary components, in addition to the above-mentioned mercapto compounds, antioxidants, ultraviolet absorbers, dyes and pigments, fillers and the like can be used.

【0046】<賦形・重合硬化>本発明に係る光硬化性
モノマー組成物は賦形されて硬化される。その硬化は、
紫外線等の活性エネルギー線によりラジカルを発生する
光重合開始剤を添加する公知のラジカル重合により実施
される。その際に用いる光重合開始剤としては、例えば
ベンゾフェノン、ベンゾイルメチルエーテル、ベンゾイ
ルイソプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,6
−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド等が挙げられる。このうち、好ましい光重合
開始剤は、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルホスフィンオキシド、ベンゾフェノンである。これら
の光重合開始剤は2種以上を併用してもよい。
<Shaping / Polymerization Curing> The photocurable monomer composition according to the present invention is shaped and cured. The curing is
It is carried out by a known radical polymerization in which a photopolymerization initiator which generates a radical by active energy rays such as ultraviolet rays is added. As the photopolymerization initiator used at that time, for example, benzophenone, benzoyl methyl ether, benzoyl isopropyl ether, diethoxyacetophenone,
1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,6
-Dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide,
2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like. Of these, preferred photopolymerization initiators are 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and benzophenone. Two or more of these photopolymerization initiators may be used in combination.

【0047】これら光重合開始剤の添加量は、モノマー
100重量部に対し0.01〜1重量部、好ましくは
0.02〜0.3重量部である。光重合開始剤の添加量
が多すぎると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもた
らすだけでなく色相も悪化する。また、少なすぎると光
硬化性モノマー組成物を充分に硬化させることができな
くなる。
The amount of the photopolymerization initiator is 0.01 to 1 part by weight, preferably 0.02 to 0.3 part by weight, per 100 parts by weight of the monomer. If the amount of the photopolymerization initiator is too large, the polymerization proceeds rapidly, causing not only an increase in birefringence but also a deterioration in hue. If the amount is too small, the photocurable monomer composition cannot be sufficiently cured.

【0048】照射する活性エネルギー線の量は、光重合
開始剤がラジカルを発生する範囲であれば任意である
が、極端に少ない場合は重合が不完全となって硬化物の
耐熱性、機械特性が十分に発現されず、逆に極端に過剰
な場合には硬化物の黄変等の光による劣化を生じるの
で、モノマーの組成及び光重合開始剤の種類、量に合わ
せて200〜400nmの紫外線を好ましくは0.1〜
200Jの範囲で照射する。使用するランプの具体例と
しては、メタルハライドランプ、高圧水銀灯ランプ等を
挙げることができる。
The amount of the active energy rays to be irradiated is arbitrary as long as the photopolymerization initiator generates radicals. However, if the amount is extremely small, the polymerization becomes incomplete and the heat resistance and mechanical properties of the cured product become poor. Is not sufficiently expressed, and conversely, if it is excessively excessive, deterioration of the cured product due to light, such as yellowing, occurs. Therefore, ultraviolet rays having a wavelength of 200 to 400 nm according to the monomer composition and the type and amount of the photopolymerization initiator are used. Is preferably 0.1 to
Irradiate in the range of 200J. Specific examples of the lamp to be used include a metal halide lamp and a high-pressure mercury lamp.

【0049】なお、硬化をすみやかに完了させる目的
で、熱重合を併用してもよい。すなわち光照射と同時に
組成物並びに型全体を30〜300℃の範囲で加熱す
る。この場合は重合をよりよく完結するために熱重合開
始剤を添加してもよいが、その過剰な使用は複屈折の増
大と色相の悪化をもたらす。熱重合開始剤の具体例とし
てはベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキ
シカーボネート、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘ
キサノエート)等が挙げられ、使用量はモノマー100
重量部に対して1重量部以下が好ましい。
In order to complete the curing promptly, thermal polymerization may be used in combination. That is, the composition and the entire mold are heated in the range of 30 to 300 ° C. simultaneously with the light irradiation. In this case, a thermal polymerization initiator may be added to complete the polymerization better, but its excessive use leads to an increase in birefringence and a deterioration in hue. Specific examples of the thermal polymerization initiator include benzoyl peroxide, diisopropylperoxycarbonate, t-butylperoxy (2-ethylhexanoate), and the amount used is 100
It is preferably 1 part by weight or less based on parts by weight.

【0050】本発明においては、光照射によるラジカル
重合を行った後、硬化物を加熱することにより重合反応
の完結及び重合時に発生する内部歪を低減することも可
能である。この場合、加熱温度は、硬化物の組成やガラ
ス転移温度に合わせて適宜選択されるが、過剰な加熱は
硬化物の色相悪化をもたらすため、ガラス転移温度付近
かそれ以下の温度が好ましい。
In the present invention, the completion of the polymerization reaction and the internal strain generated during the polymerization can be reduced by heating the cured product after performing the radical polymerization by light irradiation. In this case, the heating temperature is appropriately selected according to the composition of the cured product and the glass transition temperature. However, since excessive heating results in deterioration of the hue of the cured product, a temperature around the glass transition temperature or lower is preferable.

【0051】なお、賦形のための型としては、通常の場
合、光学研磨されたガラス板及びスペーサーとしての所
定の厚さのシリコン板を用いる。用いるガラス板の表面
粗さは、得られる樹脂基板の表面粗さに影響を与えるの
で、樹脂基板に必要とされる表面粗さに応じてガラス板
の表面粗さを制御する必要がある。一般に、表面粗さR
zが2〜50nmの樹脂基板を得るには、型として用い
るガラス板の表面粗さRzは0.2〜20nmであるこ
とが望ましい。樹脂基板の表面粗さに影響を与えるファ
クターとしては、上記のガラス板の表面粗さ以外に、紫
外線照射量、光開始剤量などがあるので必要に応じて各
パラメータを決定する。例えば、樹脂基板の表面粗さR
zが5〜10nmのものを得るためには、ガラス板の表
面粗さRzが1〜5nmのものを用いて、このガラス板
の上にスペーサとしてシリコン板を配置し、多官能(メ
タ)アクリレート及び補助成分を所定割合で混合して脱
泡した光硬化性モノマー組成物を注液し、ガラス面より
上下40cm離隔した出力80W/cmのメタルハライ
ドランプの間にて、10分間紫外線を照射する。
As a mold for shaping, an optically polished glass plate and a silicon plate having a predetermined thickness as a spacer are usually used. Since the surface roughness of the glass plate used affects the surface roughness of the obtained resin substrate, it is necessary to control the surface roughness of the glass plate according to the required surface roughness of the resin substrate. Generally, the surface roughness R
In order to obtain a resin substrate having z of 2 to 50 nm, the surface roughness Rz of the glass plate used as the mold is desirably 0.2 to 20 nm. Factors affecting the surface roughness of the resin substrate include, in addition to the surface roughness of the glass plate described above, the amount of ultraviolet irradiation, the amount of photoinitiator, and the like. Therefore, each parameter is determined as necessary. For example, the surface roughness R of the resin substrate
In order to obtain those having a z of 5 to 10 nm, a glass plate having a surface roughness Rz of 1 to 5 nm is used, a silicon plate is arranged as a spacer on this glass plate, and a polyfunctional (meth) acrylate is used. Then, the photocurable monomer composition defoamed by mixing the auxiliary components at a predetermined ratio is injected, and ultraviolet light is irradiated for 10 minutes between metal halide lamps having an output of 80 W / cm and separated from the glass surface by 40 cm vertically.

【0052】<樹脂基板の物性>有機電界発光素子用基
板としての光学特性の面から、本発明に係る光硬化性樹
脂製基板の光複屈折は20nm以下であることが好まし
い。
<Physical Properties of Resin Substrate> The optical birefringence of the photocurable resin substrate according to the present invention is preferably 20 nm or less from the viewpoint of optical characteristics as a substrate for an organic electroluminescent device.

【0053】また、本発明に係る樹脂基板の厚みは、通
常の場合、0.1〜5mm、好ましくは0.3〜1mm
である。
The thickness of the resin substrate according to the present invention is usually 0.1 to 5 mm, preferably 0.3 to 1 mm.
It is.

【0054】また、本発明に係る樹脂基板の発光素子作
製面側の表面粗さは10点平均粗さRzで1〜50n
m、好ましくは2〜20nmである。樹脂基板のRzが
50nmより大きくなると、基板表面に作製される有機
電界発光素子の電極間で短絡が起こりやすくなり基板と
しては適さない。また、Rzが1nmより小さいと、基
板表面に形成される有機層と基板との接着力が小さくな
り、その後の陰極金属層等の蒸着時の応力で有機層が剥
がれやすくなり、やはり基板として適さなくなる。
Further, the surface roughness of the resin substrate according to the present invention on the light emitting element forming surface side is 1 to 50 n at 10-point average roughness Rz.
m, preferably 2 to 20 nm. When Rz of the resin substrate is larger than 50 nm, short-circuiting easily occurs between the electrodes of the organic electroluminescent element formed on the substrate surface, which is not suitable as a substrate. On the other hand, if Rz is smaller than 1 nm, the adhesive force between the organic layer formed on the substrate surface and the substrate is reduced, and the organic layer is easily peeled off by the stress at the time of deposition of the subsequent cathode metal layer and the like, which is also suitable as a substrate. Disappears.

【0055】なお、この樹脂基板のガスバリア性をより
高める目的で、基板の少なくとも片面に緻密なシリコン
酸化膜等を設けても良い。
For the purpose of further improving the gas barrier properties of the resin substrate, a dense silicon oxide film or the like may be provided on at least one surface of the substrate.

【0056】次に、このような光硬化性樹脂製基板を用
いた本発明の有機電界発光素子の構成層について説明す
る。
Next, the constituent layers of the organic electroluminescent device of the present invention using such a photo-curable resin substrate will be described.

【0057】基板1上に形成された陽極2は、有機発光
層3への正孔注入の役割を果たすものである。この陽極
2は、通常、アルミニウム、金、銀、白金、ニッケル、
パラジウム、白金等の金属、インジウム及び/又はスズ
の酸化物などの金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン化
金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチ
オフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高
分子など、好ましくは、インジウム・スズ酸化物により
形成される。陽極2の形成は通常、スパッタリング法、
真空蒸着法などにより行われることが多い。銀などの金
属微粒子、ヨウ化銅などの微粒子、カーボンブラック、
導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末などを
用いる場合には、これを適当なバインダー樹脂溶液に分
散し、基板1上に塗布することにより陽極2を形成する
こともできる。また、導電性高分子を用いる場合には、
電解重合により直接基板1上に薄膜を形成するか、基板
1上に導電性高分子を塗布することにより、陽極2を形
成することもできる(Appl.Phys.Let
t.,60巻,2711頁,1992年)。陽極2は異
なる物質を積層して形成することも可能である。
The anode 2 formed on the substrate 1 plays a role of injecting holes into the organic light emitting layer 3. This anode 2 is usually made of aluminum, gold, silver, platinum, nickel,
Metals such as palladium and platinum, metal oxides such as oxides of indium and / or tin, metal halides such as copper iodide, carbon black, or conductive materials such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, and polyaniline It is preferably formed of indium tin oxide, such as a polymer. The anode 2 is usually formed by a sputtering method,
It is often performed by a vacuum deposition method or the like. Fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black,
When conductive metal oxide fine particles, conductive polymer fine powder, or the like is used, the anode 2 can be formed by dispersing the fine particles in a suitable binder resin solution and applying the dispersion on the substrate 1. When using a conductive polymer,
The anode 2 can also be formed by forming a thin film directly on the substrate 1 by electrolytic polymerization or by coating a conductive polymer on the substrate 1 (Appl. Phys. Let.
t. 60, 2711, 1992). The anode 2 can be formed by laminating different materials.

【0058】陽極2の厚みは、透明性の要求の有無によ
り異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過
率を、通常、60%以上、好ましくは80%以上とする
ことが望ましく、この場合、厚みは、通常、5〜100
0nm、好ましくは10〜500nm程度である。陽極
2が不透明でよい場合には、基板1と同一材料であって
もよい。また、陽極2の上に異なる導電材料を積層する
ことも可能である。
The thickness of the anode 2 varies depending on whether transparency is required. When transparency is required, it is desirable that the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness is usually 5 to 100.
0 nm, preferably about 10 to 500 nm. When the anode 2 may be opaque, it may be made of the same material as the substrate 1. Further, different conductive materials can be laminated on the anode 2.

【0059】陽極2の上に形成される有機発光層3は、
電界が与えられた電極間において、陽極2から注入され
た正孔と陰極4から注入された電子を効率よく輸送して
再結合させ、かつ、再結合により効率よく発光する材料
から形成される。通常、この有機発光層3は発光効率の
向上のために、図2に示す様に、正孔輸送層3aと電子
輸送層3bに分割した機能分離型にすることが行われる
(Appl.Phys.Lett.,51巻,913
頁,1987年)。
The organic light emitting layer 3 formed on the anode 2
It is made of a material that efficiently transports and recombines holes injected from the anode 2 and electrons injected from the cathode 4 between the electrodes to which an electric field is applied, and emits light efficiently by the recombination. Normally, as shown in FIG. 2, the organic light emitting layer 3 is of a function-separated type in which the organic light emitting layer 3 is divided into a hole transport layer 3a and an electron transport layer 3b (Appl. Phys. Lett., 51, 913
1987).

【0060】図2に示す機能分離型有機電界発光素子1
0Aにおいて、正孔輸送層3aの材料としては、陽極2
からの正孔注入効率が高く、かつ、注入された正孔を効
率よく輸送することができる材料であることが必要であ
る。そのためには、イオン化ポテンシャルが小さく、し
かも正孔移動度が大きく、更に安定性に優れ、製造時や
使用時にトラップとなる不純物が発生しにくいことが要
求される。
Function-separated type organic electroluminescent device 1 shown in FIG.
At 0A, the material of the hole transport layer 3a is the anode 2
It is necessary that the material has a high hole injection efficiency and a material capable of efficiently transporting the injected holes. For that purpose, it is required that the ionization potential is small, the hole mobility is large, the stability is further improved, and impurities serving as traps during production or use are hardly generated.

【0061】このような正孔輸送材料としては、例え
ば、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニ
ル)シクロヘキサン等の3級芳香族アミンユニットを連
結した芳香族ジアミン化合物(特開昭59−19439
3号公報)、4,4’−ビス [N−(1−ナフチル)−
N−フェニルアミノ] ビフェニルで代表される2個以上
の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子
に置換した芳香族アミン(特開平5−234681号公
報)、トリフェニルベンゼンの誘導体でスターバースト
構造を有する芳香族トリアミン(米国特許第4,92
3,774号)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビ
ス(3−メチルフェニル)ビフェニル−4,4’−ジア
ミン等の芳香族ジアミン(米国特許第4,764,62
5号)、α,α,α’,α’−テトラメチル−α,α’
−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−p−キ
シレン(特開平3−269084号公報)、分子全体と
して立体的に非対称なトリフェニルアミン誘導体(特開
平4−129271号公報)、ビレニル基に芳香族ジア
ミノ基が複数個置換した化合物(特開平4−17539
5号公報)、エチレン基で3級芳香族アミンユニットを
連結した芳香族ジアミン(特開平4−264189号公
報)、スチリル構造を有する芳香族ジアミン(特開平4
−290851号公報)、チオフェン基で芳香族3級ア
ミンユニットを連結したもの(特開平4−304466
号公報)、スターバースト型芳香族トリアミン(特開平
4−308688号公報)、ベンジルフェニル化合物
(特開平4−364153号公報)、フルオレン基で3
級アミンを連結したもの(特開平5−25473号公
報)、トリアミン化合物(特開平5−239455号公
報)、ビスジピリジルアミノビフェニル(特開平5−3
20634号公報)、N,N,N−トリフェニルアミン
誘導体(特開平6−1972号公報)、フェノキサジン
構造を有する芳香族ジアミン(特開平7−138562
号公報)、ジアミノフェニルフェナントリジン誘導体
(特開平7−252474号公報)、ヒドラゾン化合物
(特開平2−311591号公報)、シラザン化合物
(米国特許第4,950,950号公報)、シラナミン
誘導体(特開平6−49079号公報)、ホスファミン
誘導体(特開平6−25659号公報)、キナクリドン
化合物等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用い
てもよく、また、必要に応じて2種以上を混合して用い
てもよい。
As such a hole transport material, for example, an aromatic diamine compound in which tertiary aromatic amine units such as 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane are linked (Japanese Patent Application Laid-open No. 1959-19439
No. 3), 4,4′-bis [N- (1-naphthyl)-
N-phenylamino] aromatic amines containing two or more tertiary amines represented by biphenyl and having two or more condensed aromatic rings substituted by nitrogen atoms (JP-A-5-234681); Aromatic triamines having a starburst structure in derivatives (US Pat. No. 4,92
Aromatic diamines such as N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) biphenyl-4,4'-diamine (U.S. Pat. No. 4,764,62)
No. 5), α, α, α ′, α′-tetramethyl-α, α ′
-Bis (4-di-p-tolylaminophenyl) -p-xylene (JP-A-3-269084), a triphenylamine derivative which is sterically asymmetric as a whole molecule (JP-A-4-129271), bienyl In which a plurality of aromatic diamino groups are substituted on a group (JP-A-4-17539)
No. 5), an aromatic diamine in which a tertiary aromatic amine unit is linked by an ethylene group (JP-A-4-264189), an aromatic diamine having a styryl structure (JP-A-Hei-4).
(Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-290466), a compound in which an aromatic tertiary amine unit is linked by a thiophene group (JP-A-4-304466).
JP-A-4-308688), a benzylphenyl compound (JP-A-4-364153), and a fluorene group of 3
Tertiary amine compound (JP-A-5-239455), bisdipyridylaminobiphenyl (JP-A-5-3473)
20634), N, N, N-triphenylamine derivatives (JP-A-6-1972), and aromatic diamines having a phenoxazine structure (JP-A-7-138562).
JP, JP-A-7-252474, a hydrazone compound (JP-A-2-311591), a silazane compound (U.S. Pat. No. 4,950,950), and a silanamin derivative ( JP-A-6-49079), phosphamine derivatives (JP-A-6-25659), and quinacridone compounds. These compounds may be used alone or, if necessary, in combination of two or more.

【0062】なお、上記の化合物以外に、正孔輸送層3
aの材料として、ポリビニルカルバゾールやポリシラン
(Appl.Phys.Lett.,59巻、2760
頁,1991年)、ポリフォスファゼン(特開平5−3
10949号公報)、ポリアミド(特開平5−3109
49号公報)、ポリビニルトリフェニルアミン(特開平
7−53953号公報)、トリフェニルアミン骨格を有
する高分子(特開平4−133065号公報)、トリフ
ェニルアミン単位をメチレン基等で連結した高分子(S
ynthetic Metals,55−57巻,41
63頁,1993年)、芳香族アミンを含有するポリメ
タクリレート(J.Polym.Sci.,Poly
m.Chem.Ed.,21巻,969頁,1983
年)等の高分子材料を用いることができる。
In addition to the above compounds, the hole transport layer 3
As a material of a, polyvinyl carbazole or polysilane (Appl. Phys. Lett., Vol. 59, 2760)
P. 1991), polyphosphazene (JP-A-5-3)
No. 10949), polyamide (JP-A-5-3109)
No. 49), polyvinyl triphenylamine (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-53953), a polymer having a triphenylamine skeleton (Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-133065), and a polymer in which triphenylamine units are linked by a methylene group or the like. (S
Synthetic Metals, 55-57, 41
63, 1993), polyamines containing aromatic amines (J. Polym. Sci., Poly).
m. Chem. Ed. , 21, 969, 1983.
) Can be used.

【0063】正孔輸送層3aは、これらの正孔輸送材料
を塗布法又は真空蒸着法により成膜することにより、前
記陽極2上に積層形成される。
The hole transport layer 3a is formed on the anode 2 by depositing these hole transport materials by a coating method or a vacuum evaporation method.

【0064】塗布法の場合は、正孔輸送材料の1種又は
2種以上と、必要により正孔のトラップにならないバイ
ンダー樹脂や塗布性改良剤などの添加剤とを添加し、溶
剤に溶解して塗布溶液を調製し、これをスピンコート法
などの方法により陽極2上に塗布、乾燥して有機正孔輸
送層3aを形成する。この場合、バインダー樹脂として
は、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル
等が挙げられる。バインダー樹脂の添加量が多いと正孔
移動度を低下させるので、少ない方が望ましく、通常、
50重量%以下が好ましい。
In the case of the coating method, one or more hole transport materials and, if necessary, additives such as a binder resin or a coating improver which do not trap holes are added and dissolved in a solvent. Then, a coating solution is prepared, applied to the anode 2 by a method such as spin coating, and dried to form an organic hole transport layer 3a. In this case, examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. Since a large amount of the binder resin decreases the hole mobility, a small amount is desirable.
It is preferably at most 50% by weight.

【0065】一方、真空蒸着法の場合には、正孔輸送材
料を真空容器内に設置されたルツボに入れ、真空容器内
を適当な真空ポンプで10-4Pa程度にまで排気した
後、ルツボを加熱して、正孔輸送材料を蒸発させ、ルツ
ボに対向配置した基板1上の陽極2上に正孔輸送層3a
を形成する。
On the other hand, in the case of the vacuum evaporation method, the hole transporting material is put into a crucible provided in a vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is evacuated to about 10 -4 Pa by a suitable vacuum pump. Is heated to evaporate the hole transporting material, and the hole transporting layer 3a is formed on the anode 2 on the substrate 1 arranged opposite to the crucible.
To form

【0066】このようにして正孔輸送層3aを形成する
場合、更に、アクセプタとして、芳香族カルボン酸の金
属錯体及び/又は金属塩(特開平4−320484号公
報)、ベンゾフェノン誘導体及びチオベンゾフェノン誘
導体(特開平5−295361号公報)、フラーレン類
(特開平5−331458号公報)等を10-3〜10重
量%の濃度でドープして、フリーキャリアとしての正孔
を生成させることにより、低電圧駆動を可能にすること
ができる。
When the hole transport layer 3a is formed in this manner, a metal complex and / or metal salt of an aromatic carboxylic acid (JP-A-4-320484), a benzophenone derivative and a thiobenzophenone derivative are further used as acceptors. (JP-A-5-295361), fullerenes (JP-A-5-331458) and the like are doped at a concentration of 10 −3 to 10% by weight to generate holes as free carriers, thereby reducing the amount of holes. Voltage driving can be enabled.

【0067】正孔輸送層3aの膜厚は、通常、10〜3
00nm、好ましくは30〜100nmである。このよ
うな膜厚の薄い正孔輸送層を一様に形成するためには、
一般に真空蒸着法を採用するのが好適である。
The thickness of the hole transport layer 3a is usually 10 to 3
00 nm, preferably 30 to 100 nm. In order to uniformly form such a thin hole transport layer,
Generally, it is preferable to employ a vacuum deposition method.

【0068】また、正孔注入効率を更に向上させ、か
つ、有機層全体の陽極2への付着力を改善する目的で、
図3に示す如く、正孔輸送層3aと陽極2との間に正孔
注入層3cを形成することも行われている。正孔注入層
3cに用いられる材料としては、イオン化ポテンシャル
が低く、導電性が高く、更に陽極2上で熱的に安定な薄
膜を形成し得る材料が望ましく、フタロシアニン化合物
やポルフィリン化合物(特開昭57−51781号公
報、特開昭63−295695号公報)が用いられる。
このような正孔注入層3cを介在させることで、初期の
素子の駆動電圧が下がると同時に、素子を定電流で連続
駆動した時の電圧上昇も抑制される効果が得られる。正
孔注入層3cもまた、正孔輸送層3aと同様にしてアク
セプタをドープすることで導電性を向上させることが可
能である。
For the purpose of further improving the hole injection efficiency and improving the adhesion of the entire organic layer to the anode 2,
As shown in FIG. 3, a hole injection layer 3c is formed between the hole transport layer 3a and the anode 2. As a material used for the hole injection layer 3c, a material having a low ionization potential, high conductivity, and capable of forming a thermally stable thin film on the anode 2 is desirable. A phthalocyanine compound or a porphyrin compound (Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-51781, JP-A-63-29569).
By interposing such a hole injection layer 3c, it is possible to obtain the effect of reducing the initial drive voltage of the device and suppressing the voltage rise when the device is continuously driven with a constant current. The conductivity of the hole injection layer 3c can also be improved by doping the acceptor similarly to the hole transport layer 3a.

【0069】正孔注入層3cの膜厚は、通常、2〜10
0nm、好ましくは5〜50nmである。このような膜
厚の薄い正孔注入層を一様に形成するためには、一般に
真空蒸着法を採用するのが好適である。
The thickness of the hole injection layer 3c is usually 2 to 10
0 nm, preferably 5 to 50 nm. In order to uniformly form such a thin hole injection layer, it is generally preferable to employ a vacuum evaporation method.

【0070】正孔輸送層3aの上に形成される電子輸送
層3bは、電界が与えられた電極間において、陰極から
の電子を効率よく正孔輸送層3aの方向に輸送すること
ができる化合物で構成される。
The electron transport layer 3b formed on the hole transport layer 3a is a compound capable of efficiently transporting electrons from the cathode in the direction of the hole transport layer 3a between electrodes to which an electric field is applied. It consists of.

【0071】電子輸送層3bに用いられる電子輸送性化
合物としては、陰極4からの電子注入効率が高く、か
つ、注入された電子を効率よく輸送することができる化
合物であることが必要である。そのためには、電子親和
力が大きく、しかも電子移動度が大きく、更に安定性に
優れ、製造時や使用時にトラップとなる不純物が発生し
にくい化合物であることが要求される。
The electron transporting compound used in the electron transporting layer 3b needs to be a compound having a high electron injection efficiency from the cathode 4 and capable of transporting the injected electrons efficiently. For that purpose, it is required that the compound has a high electron affinity, high electron mobility, excellent stability, and hardly generates impurities serving as traps during production or use.

【0072】このような条件を満たす材料としては、テ
トラフェニルブタジエンなどの芳香族化合物(特開昭5
7−51781号公報)、8−ヒドロキシキノリンのア
ルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−1943
93号公報)、シクロペンタジエン誘導体(特開平2−
289675号公報)、ペリノン誘導体(特開平2−2
89676号公報)、オキサジアゾール誘導体(特開平
2−216791号公報)、ビススチリルベンゼン誘導
体(特開平1−245087号公報、同2−22248
4号公報)、ペリレン誘導体(特開平2−189890
号公報、同3−791号公報)、クマリン化合物(特開
平2−191694号公報、同3−792号公報)、希
土類錯体(特開平1−256584号公報)、ジスチリ
ルピラジン誘導体(特開平2−252793号公報)、
p−フェニレン化合物(特開平3−33183号公
報)、チアジアゾロピリジン誘導体(特開平3−372
92号公報)、ピロロピリジン誘導体(特開平3−37
293号公報)、ナフチリジン誘導体(特開平3−20
3982号公報)などが挙げられる。
Materials satisfying such conditions include aromatic compounds such as tetraphenylbutadiene (Japanese Unexamined Patent Publication No.
And metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (JP-A-59-1943).
No. 93), cyclopentadiene derivatives (Japanese Unexamined Patent Publication No.
289675), perinone derivatives (JP-A 2-2)
No. 89676), oxadiazole derivatives (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-216991), and bisstyrylbenzene derivatives (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-245087 and 2-222448).
No. 4), perylene derivatives (JP-A-2-189890)
JP-A-3-7991), coumarin compounds (JP-A-2-191694 and JP-A-3-792), rare-earth complexes (JP-A-1-256584), and distyrylpyrazine derivatives (JP-A-Heisei 2). 252793)),
p-phenylene compound (JP-A-3-33183), thiadiazolopyridine derivative (JP-A-3-372)
No. 92), pyrrolopyridine derivatives (JP-A-3-37)
293), naphthyridine derivatives (JP-A-3-20
3982) and the like.

【0073】これらの化合物を用いた電子輸送層3b
は、一般に、電子を輸送する役割と、正孔と電子の再結
合の際に発光をもたらす役割とを同時に果たすことがで
きる。
Electron transport layer 3b using these compounds
Can generally simultaneously fulfill the role of transporting electrons and the role of providing light emission when holes and electrons recombine.

【0074】正孔輸送層3aが発光機能を有する場合
は、電子輸送層3bは電子を輸送する役割だけを果たす
場合もある。
When the hole transporting layer 3a has a light emitting function, the electron transporting layer 3b may only play the role of transporting electrons.

【0075】素子の発光効率を向上させるとともに発光
色を変える目的で、例えば、8−ヒドロキシキノリンの
アルミニウム錯体をホスト材料として、クマリン等のレ
ーザ用蛍光色素をドープすること(J.Appl.Ph
ys.,65巻,3610頁,1989年)等も行われ
ているが、本発明においても、上記の有機電子輸送性材
料をホスト材料として各種の蛍光色素を10-3〜10モ
ル%ドープすることにより、素子の発光特性をより一層
向上させることができる。
For the purpose of improving the luminous efficiency of the device and changing the luminescent color, for example, doping a fluorescent dye for laser such as coumarin using an 8-hydroxyquinoline aluminum complex as a host material (J. Appl. Ph.
ys. 65, 3610, 1989). In the present invention, the above-mentioned organic electron transporting material is used as a host material to dope various fluorescent dyes by 10 -3 to 10 mol%. In addition, the light emitting characteristics of the device can be further improved.

【0076】電子輸送層3bの膜厚は、通常、10〜2
00nm、好ましくは30〜100nmである。
The thickness of the electron transport layer 3b is usually 10 to 2
00 nm, preferably 30 to 100 nm.

【0077】電子輸送層も正孔輸送層と同様の方法で形
成することができるが、通常は真空蒸着法が用いられ
る。
The electron transporting layer can be formed in the same manner as the hole transporting layer, but usually, a vacuum evaporation method is used.

【0078】なお、図1に示すような機能分離を行わな
い単層型の有機発光層3としては、先に挙げたポリ(p
−フェニレンビニレン)(Nature,347巻,5
39頁,1990年他)、ポリ [2−メトキシ−5−
(2−エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレンビ
ニレン] (Appl.Phys.Lett.,58巻,
1982頁,1991年他)、ポリ(3−アルキルチオ
フェン)(Jpn.J.Appl.Phys,30巻,
L1938頁,1991年他)等の高分子材料や、ポリ
ビニルカルバゾール等の高分子に発光材料と電子移動材
料を混合した系(応用物理,61巻,1044頁,19
92年)等が挙げられる。
The organic light emitting layer 3 of the single-layer type which does not perform the function separation as shown in FIG.
-Phenylene vinylene) (Nature, 347, 5)
39, 1990 et al.), Poly [2-methoxy-5-
(2-ethylhexyloxy) -1,4-phenylenevinylene] (Appl. Phys. Lett., Vol. 58,
1982, 1991, etc.), poly (3-alkylthiophene) (Jpn. J. Appl. Phys. 30, vol.
L1938, 1991, etc.) or a system in which a light emitting material and an electron transfer material are mixed with a polymer such as polyvinyl carbazole (Applied Physics, vol. 61, p. 1044, 19).
1992).

【0079】陰極4は、有機発光層3に電子を注入する
役割を果たす。陰極4として用いられる材料は、前記陽
極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効
率よく電子注入を行うには、仕事関数の低い金属が好ま
しく、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、
アルミニウム、銀等の適当な金属又はそれらの合金が好
適である。陰極4の膜厚は、通常、陽極2と同程度であ
る。
The cathode 4 plays a role of injecting electrons into the organic light emitting layer 3. As the material used for the cathode 4, the material used for the anode 2 can be used. However, for efficient electron injection, a metal having a low work function is preferable, and tin, magnesium, indium, calcium,
Suitable metals such as aluminum and silver or alloys thereof are preferred. The thickness of the cathode 4 is usually about the same as that of the anode 2.

【0080】低仕事関数金属からなる陰極を保護する目
的で、この陰極上に更に、仕事関数が高く大気に対して
安定な金属層を積層することにより、素子の安定性を増
すことができる。この目的のための金属層には、アルミ
ニウム、銀、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が用
いられる。
For the purpose of protecting the cathode made of a metal having a low work function, the stability of the device can be increased by further laminating a metal layer having a high work function and being stable to the atmosphere on this cathode. Metals such as aluminum, silver, nickel, chromium, gold, and platinum are used for the metal layer for this purpose.

【0081】なお、図1〜3は、本発明で採用される素
子本体の一例を示すものであって、本発明は、図示のも
の以外に、以下に示すような層構成の素子本体に適用す
ることができる。
FIGS. 1 to 3 show an example of an element main body employed in the present invention. The present invention is applied to an element main body having the following layer structure other than the illustrated one. can do.

【0082】陽極/正孔輸送層/電子輸送層/界面層/
陰極、 陽極/正孔輸送層/電子輸送層/他の電子輸送層/陰
極、 陽極/正孔輸送層/電子輸送層/他の電子輸送層/界面
層/陰極、 陽極/正孔注入層/正孔輸送層/電子輸送層/界面層/
陰極、 陽極/正孔注入層/正孔輸送層/電子輸送層/他の電子
輸送層/陰極 上記層構成で、界面層は陰極と有機層とのコンタクトを
向上させるためのもので、芳香族ジアミン化合物(特開
平6−267658号公報)、キナクリドン化合物(特
開平6−330031号公報)、ナフタセン誘導体(特
開平6−330032号公報)、有機シリコン化合物
(特開平6−325871号公報)、有機リン化合物
(特開平6−325872号公報)、N−フェニルカル
バゾール骨格を有する化合物(特願平6−199562
号)、N−ビニルカルバゾール重合体(特願平6−20
0942号)等で構成された層が例示できる。界面層の
膜厚は、通常、2〜100nm、好ましくは5〜30n
mである。界面層を設ける代わりに、有機発光層及び電
子輸送層の陰極界面近傍に上記界面層の材料を50重量
%以上含む領域を設けてもよい。
Anode / hole transport layer / electron transport layer / interface layer /
Cathode, anode / hole transport layer / electron transport layer / other electron transport layer / cathode, anode / hole transport layer / electron transport layer / other electron transport layer / interface layer / cathode, anode / hole injection layer / Hole transport layer / electron transport layer / interface layer /
Cathode, anode / hole injection layer / hole transport layer / electron transport layer / other electron transport layer / cathode In the above layer structure, the interface layer is for improving the contact between the cathode and the organic layer, and is aromatic. Diamine compounds (JP-A-6-267658), quinacridone compounds (JP-A-6-330031), naphthacene derivatives (JP-A-6-330032), organic silicon compounds (JP-A-6-325871), organic compounds Phosphorus compounds (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-325872) and compounds having an N-phenylcarbazole skeleton (Japanese Patent Application No. Hei 6-199562)
No.), N-vinylcarbazole polymer (Japanese Patent Application No. 6-20)
0942) and the like. The thickness of the interface layer is usually 2 to 100 nm, preferably 5 to 30 n.
m. Instead of providing the interface layer, a region containing 50% by weight or more of the material for the interface layer may be provided near the cathode interface between the organic light emitting layer and the electron transport layer.

【0083】また、他の電子輸送層は、有機電界発光素
子の発光効率を更に向上させるために、電子輸送層の上
にさらに積層形成されるものであり、この電子輸送層に
用いられる化合物には、陰極からの電子注入が容易で、
電子の輸送能力が更に大きいことが要求される。このよ
うな電子輸送性材料としては、オキサジアゾール誘導体
(Appl.Phys.Lett.,55巻,1489
頁,1989年他)やそれらをポリメタクリル酸メチル
(PMMA)等の樹脂に分散した系(Appl.Phy
s.Lett.,61巻,2793頁,1992年)、
フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公
報)、又は、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化
亜鉛、n型セレン化亜鉛等が挙げられる。この他の電子
輸送層の膜厚は、通常、5〜200nm、好ましくは1
0〜100nmである。
Further, another electron transport layer is further formed on the electron transport layer in order to further improve the luminous efficiency of the organic electroluminescent device. Is easy to inject electrons from the cathode,
It is required that the ability to transport electrons is further increased. As such an electron transporting material, an oxadiazole derivative (Appl. Phys. Lett., Vol. 55, 1489)
1989, etc.) and a system in which they are dispersed in a resin such as polymethyl methacrylate (PMMA) (Appl. Phys.
s. Lett. 61, 2793, 1992),
Phenanthroline derivatives (JP-A-5-331559), n-type hydrogenated amorphous silicon carbide, n-type zinc sulfide, n-type zinc selenide and the like. The thickness of the other electron transporting layer is usually 5 to 200 nm, preferably 1 to 200 nm.
0-100 nm.

【0084】本発明の有機電界発光素子は、単一の素
子、アレイ状に配置された構造からなる素子、陽極と陰
極がX−Yマトリックス状に配置された構造の素子のい
ずれにも適用することができる。
The organic electroluminescent device of the present invention is applicable to any of a single device, a device having a structure arranged in an array, and a device having a structure in which an anode and a cathode are arranged in an XY matrix. be able to.

【0085】[0085]

【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げて本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the description of the following examples unless it exceeds the gist.

【0086】実施例1 p−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルチオ)キシ
リレン99重量部、ペンタエリスリトールテトラキス
(β−チオプロピオネート)1重量部、光重合開始剤と
して2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキシド(BASF社製「ルシリンTPO」)
0.05重量部、ベンゾフェノン0.02重量部を均一
に撹拌混合した後、脱泡して光硬化性モノマー組成物を
得た。
Example 1 99 parts by weight of p-bis (β-methacryloyloxyethylthio) xylylene, 1 part by weight of pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), 2,4,6-trimethylbenzoyl as a photopolymerization initiator Diphenylphosphine oxide ("Lucillin TPO" manufactured by BASF)
After uniformly stirring and mixing 0.05 parts by weight and benzophenone 0.02 parts by weight, the mixture was defoamed to obtain a photocurable monomer composition.

【0087】一方、樹脂を賦形するための型として、光
学研磨されたガラス板及びスペーサーとして厚さ1mm
のシリコン板を用い、上記光硬化性モノマー組成物を、
この光学研磨ガラスの型に注液し、ガラス面より距離4
0cmの上下位置にある出力80W/cmのメタルハラ
イドランプの間にて、10分間紫外線を照射した。紫外
線照射後離型し、120℃で1時間加熱して硬化物を得
た。この硬化物をスライドガラス状(25×75mm)
にカットし基板Aとした。基板Aの諸特性は表1に示す
通りであった。なお、各特性の評価は以下の方法で行っ
た。
On the other hand, as a mold for shaping the resin, an optically polished glass plate and a spacer having a thickness of 1 mm were used.
Using a silicon plate of the above, the photocurable monomer composition,
The liquid is poured into the mold of the optically polished glass and the distance from the glass surface is 4
Ultraviolet rays were irradiated for 10 minutes between a metal halide lamp with an output of 80 W / cm at a vertical position of 0 cm. After the ultraviolet irradiation, the mold was released and heated at 120 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. This cured product is shaped like a slide glass (25 x 75 mm)
To obtain a substrate A. Various characteristics of the substrate A were as shown in Table 1. The evaluation of each characteristic was performed by the following method.

【0088】(1)外観:目視により評価した。 (2)比重:幅及び長さ各5cm、厚さ1mmの試験片
の重量及び体積を測定することにより評価した。 (3)落球衝撃試験:幅及び長さ各5cm、厚さ1mm
の試験片に、16gの鋼球を自然落下させることにより
試験片が破損する最低の高さで評価した。 (4)曲げ弾性率:幅1cm、厚さ1mmの板について
支点間距離3cmにてオートグラフを用いて25℃で評
価した。 (5)表面粗さRz:触針式表面粗さ計(ランクテーラ
ーホブソン社製タリステップ:触針の先端形状が0.2
×0.2μm角)を用い十点平均粗さ(JISB060
1)で評価した。 (6)屈折率:アッベ屈折計(アタゴ社製)を用いて2
5℃で評価した。 (7)複屈折:複屈折測定装置(オーク社製)を用いて
25℃で評価した。 (8)吸水率:60℃で水中に1週間浸漬した時の飽和
吸水率で評価した。 (9)ガラス転移温度:厚さ1mmの試験片について5
0gの加重でTMA(熱機械分析装置)を用いて評価し
た。
(1) Appearance: Evaluated visually. (2) Specific gravity: Evaluated by measuring the weight and volume of a test piece having a width and length of 5 cm each and a thickness of 1 mm. (3) Falling ball impact test: width and length each 5 cm, thickness 1 mm
The test piece was evaluated at the lowest height at which the test piece was broken by allowing a steel ball of 16 g to fall naturally on the test piece. (4) Flexural modulus: A plate having a width of 1 cm and a thickness of 1 mm was evaluated at 25 ° C. by using an autograph at a distance between supporting points of 3 cm. (5) Surface roughness Rz: stylus type surface roughness meter (Taristep manufactured by Rank Taylor Hobson Co .;
× 0.2 μm square) using 10 point average roughness (JISB060)
1) was evaluated. (6) Refractive index: 2 using Abbe refractometer (manufactured by Atago)
The evaluation was performed at 5 ° C. (7) Birefringence: Evaluated at 25 ° C. using a birefringence measuring device (manufactured by Oak). (8) Water absorption: Evaluated by saturated water absorption when immersed in water at 60 ° C. for one week. (9) Glass transition temperature: 5 for a 1 mm thick test piece
Evaluation was performed using a TMA (thermomechanical analyzer) with a weight of 0 g.

【0089】次に、この基板A上にインジウム・スズ酸
化物(ITO)透明導電膜を120nm堆積(豊和産業
社製:低温スパッタ成膜品:シート抵抗20Ω)し、I
TO基板Aとした。
Next, a transparent conductive film of indium tin oxide (ITO) was deposited on the substrate A to a thickness of 120 nm (manufactured by Howa Sangyo Co., Ltd .: low-temperature sputtered film: sheet resistance: 20 Ω).
A TO substrate A was used.

【0090】このITO基板Aを用いて、図3に示す構
造を有する有機電界発光素子を以下の方法で作製した。
まず、ITO基板A上に堆積されたITO透明導電膜を
通常のフォトリソグラフィ技術と塩酸エッチングを用い
て2mm幅のストライプにパターニングして陽極を形成
した。
Using this ITO substrate A, an organic electroluminescent device having the structure shown in FIG. 3 was manufactured by the following method.
First, the anode was formed by patterning the ITO transparent conductive film deposited on the ITO substrate A into stripes having a width of 2 mm by using ordinary photolithography and hydrochloric acid etching.

【0091】パターン形成したITO基板を、アセトン
による超音波洗浄、純水による水洗、イソプロピルアル
コールによる超音波洗浄の順で洗浄後、窒素ブローで乾
燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行って、真空蒸着装
置内に設置した。装置の粗排気を油回転ポンプにより行
った後、装置内の真空度が2×10-6Torr(約2.
7×10-4Pa)以下になるまで液体窒素トラップを備
えた油拡散ポンプを用いて排気した。
The patterned ITO substrate is cleaned in the order of ultrasonic cleaning with acetone, water cleaning with pure water, ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, dried with nitrogen blow, and finally with ultraviolet and ozone cleaning to perform vacuum deposition. Installed inside the device. After rough exhaust of the apparatus is performed by an oil rotary pump, the degree of vacuum in the apparatus is 2 × 10 −6 Torr (about 2.10 Torr).
Evacuation was performed using an oil diffusion pump equipped with a liquid nitrogen trap until the pressure became 7 × 10 −4 Pa) or less.

【0092】上記装置内に配置されたモリブデンボート
に入れた以下に示す銅フタロシアニン(H1)(結晶形
はβ型)を加熱して蒸着を行った。蒸気は、真空度1.
1×10-6torr(約1.5×10-4Pa)、蒸着時
間1分で行い、膜厚20nmの正孔注入層3cを形成し
た。
The following copper phthalocyanine (H1) (having a β-type crystal form) placed in a molybdenum boat placed in the above apparatus was deposited by heating. The steam has a degree of vacuum of 1.
The deposition was performed at 1 × 10 −6 torr (about 1.5 × 10 −4 Pa) for 1 minute to form a hole injection layer 3c having a thickness of 20 nm.

【0093】[0093]

【化10】 Embedded image

【0094】次に、上記装置内に配置されたセラミック
るつぼに入れた、以下に示す4,4’−ビス[N−(1
−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビスフェノール
(H2)をるつぼの周囲のタンタル線ヒーターで加熱し
て正孔注入層3cの上に積層した。この時のるつぼの温
度は、230〜240℃の範囲で制御した。蒸着時の真
空度8×10-7Torr(約1.1×10-4Pa)、蒸
着時間1分50秒で膜厚60nmの正孔輸送層3aを形
成した。
Next, the following 4,4′-bis [N- (1) was placed in a ceramic crucible placed in the above apparatus.
-Naphthyl) -N-phenylamino] bisphenol (H2) was laminated on the hole injection layer 3c by heating with a tantalum wire heater around the crucible. At this time, the temperature of the crucible was controlled in the range of 230 to 240 ° C. The hole transport layer 3a having a thickness of 60 nm was formed with a degree of vacuum of 8 × 10 −7 Torr (about 1.1 × 10 −4 Pa) during the deposition and a deposition time of 1 minute and 50 seconds.

【0095】[0095]

【化11】 Embedded image

【0096】引き続き、発光機能を有する電子輸送層3
bの材料として、以下に示すアルミニウムの8−ヒドロ
キシキノリン錯体:Al(C9 6 NO)3 (E1)を
上記正孔輸送層3aの上に同様にして蒸着した。この時
のるつぼの温度は310〜320℃の範囲で制御した。
蒸着時の真空度は9×10-7Torr(約1.2×10
-4Pa)、蒸着時間は2分40秒で、膜厚75nmの電
子輸送層3bを形成した。
Subsequently, the electron transport layer 3 having a light emitting function
As a material b, an 8-hydroxyquinoline complex of aluminum shown below: Al (C 9 H 6 NO) 3 (E1) was vapor-deposited on the hole transport layer 3a in the same manner. At this time, the temperature of the crucible was controlled in the range of 310 to 320 ° C.
The degree of vacuum during vapor deposition is 9 × 10 −7 Torr (about 1.2 × 10 Torr).
-4 Pa), a vapor deposition time of 2 minutes and 40 seconds, and a 75 nm-thick electron transport layer 3b was formed.

【0097】[0097]

【化12】 Embedded image

【0098】なお、正孔注入層3c、正孔輸送層3a及
び電子輸送層3bを真空蒸着する時の基板温度は室温に
保持した。
The substrate temperature during vacuum deposition of the hole injection layer 3c, the hole transport layer 3a and the electron transport layer 3b was kept at room temperature.

【0099】正孔注入層3c、正孔輸送層3a及び電子
輸送層3bを形成した基板を一度前記真空蒸着装置内よ
り大気中に取り出して、陰極蒸着用のマスクとして2m
m幅のストライプ状シャドーマスクを、陽極2のITO
ストライプと直交するように密着させて設け、別の真空
蒸着装置内に設置して各有機層の蒸着時と同様にして装
置内の真空度が2×10-6Torr(約2.7×10-4
Pa)以下になるまで排気した。続いて、陰極4とし
て、マグネシウムと銀の合金電極を2元同時蒸着法によ
って膜厚100nmとなるように蒸着した。蒸着はモリ
ブデンボートを用いて、真空度1×10-5Torr(約
1.3×10-3Pa)、蒸着時間3分10秒で行った。
また、マグネシウムと銀の原子比は10:1.2とし
た。さらに続いて、装置の真空を破らないで、アルミニ
ウムをモリブデンボートを用いて100nmの膜厚でマ
グネシウム・銀合金膜の上に積層して陰極4を完成させ
た。アルミニウム蒸着時の真空度は2.3×10-5To
rr(約3.1×10-3Pa)、蒸着時間は1分40秒
であった。以上のマグネシウム・銀合金とアルミニウム
の2層型陰極の蒸着時の基板温度は室温に保持した。
The substrate on which the hole injection layer 3c, the hole transport layer 3a and the electron transport layer 3b have been formed is once taken out of the vacuum evaporation apparatus into the atmosphere, and 2 m is used as a mask for cathode evaporation.
An m-width striped shadow mask is applied to the anode 2 ITO
It is provided in close contact with the stripe so as to be perpendicular to the stripe, and is installed in another vacuum evaporation apparatus, and the degree of vacuum in the apparatus is set to 2 × 10 −6 Torr (about 2.7 × 10 -Four
Pa). Subsequently, as a cathode 4, an alloy electrode of magnesium and silver was deposited to a thickness of 100 nm by a binary simultaneous deposition method. The vapor deposition was performed using a molybdenum boat at a degree of vacuum of 1 × 10 −5 Torr (about 1.3 × 10 −3 Pa) and a vapor deposition time of 3 minutes and 10 seconds.
The atomic ratio of magnesium to silver was 10: 1.2. Subsequently, without breaking the vacuum of the apparatus, a cathode 4 was completed by laminating aluminum with a thickness of 100 nm on the magnesium-silver alloy film using a molybdenum boat. The degree of vacuum during aluminum deposition is 2.3 × 10 -5 To
rr (about 3.1 × 10 −3 Pa), and the deposition time was 1 minute and 40 seconds. The substrate temperature at the time of vapor deposition of the two-layered cathode of magnesium / silver alloy and aluminum was kept at room temperature.

【0100】以上のようにして、2mm×2mmのサイ
ズの有機電界発光素子を得た。この素子を陰極蒸着装置
から取り出した後、陽極2にプラス、陰極4にマイナス
の直流電圧を印加して発光させ、発光特性を測定した。
As described above, an organic electroluminescent device having a size of 2 mm × 2 mm was obtained. After the device was taken out of the cathode vapor deposition apparatus, a positive DC voltage was applied to the anode 2 and a negative DC voltage was applied to the cathode 4 to emit light, and the emission characteristics were measured.

【0101】印加電圧を1〜15Vの範囲で1Vステッ
プで変化させた時の発光輝度の変化を図4に示した。ま
た、15Vを素子に印加した時の発光輝度、15Vでの
発光効率、及び、L/J(輝度−電流密度特性を直線で
近似したときの傾きで、量子効率に対応した量)を表2
に示した。
FIG. 4 shows a change in light emission luminance when the applied voltage is changed in a range of 1 to 15 V in 1 V steps. Table 2 shows the light emission luminance when 15 V is applied to the device, the light emission efficiency at 15 V, and L / J (a slope corresponding to the quantum efficiency when the luminance-current density characteristic is approximated by a straight line).
It was shown to.

【0102】実施例2 モノマー成分としてビス(オキシメチル)トリシクロ
[5.2.1.02.6 ]デカン=ジメタクリレート96
重量部及びペンタエリスリトールテトラキス(β−チオ
プロピオネート)4重量部を用いたこと以外は実施例1
と同様にして硬化物を得た。この硬化物をスライドガラ
ス状にカットして基板Bとした。この基板Bの諸特性は
表1に示す通りであった。
Example 2 Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2.6 ] decane = dimethacrylate 96 as a monomer component
Example 1 except that parts by weight and 4 parts by weight of pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate) were used.
A cured product was obtained in the same manner as described above. The cured product was cut into a slide glass to obtain a substrate B. Various characteristics of the substrate B were as shown in Table 1.

【0103】次に、基板B上にITO透明導電膜を実施
例1と同様の低温スパッタ法で堆積し、ITO基板Bと
した。このITO基板Bのシート抵抗値は20Ωであっ
た。
Next, an ITO transparent conductive film was deposited on the substrate B by the same low-temperature sputtering method as in Example 1 to obtain an ITO substrate B. The sheet resistance of the ITO substrate B was 20Ω.

【0104】更に、このITO基板Bを用いて実施例1
と同様にして図3に示す構造の有機電界発光素子を作製
し、同様に発光特性を測定して結果を図4及び表2に示
した。
Further, Example 1 was performed using this ITO substrate B.
An organic electroluminescent device having the structure shown in FIG. 3 was produced in the same manner as in the above, and the luminescence characteristics were measured in the same manner. The results are shown in FIG.

【0105】比較例1 コーニング社製7059ガラスをスライドガラス状にカ
ットして基板Cとした。この基板Cの諸特性は表1に示
す通りであった。
Comparative Example 1 7059 glass manufactured by Corning Incorporated was cut into a slide glass to obtain a substrate C. Various characteristics of the substrate C were as shown in Table 1.

【0106】次に、この基板C上にITO透明導電膜を
実施例1と同様の低温スパッタ法で堆積し、ITO基板
Cとした。このITO基板Cのシート抵抗値は20Ωで
あった。
Next, an ITO transparent conductive film was deposited on the substrate C by the same low-temperature sputtering method as in Example 1 to obtain an ITO substrate C. The sheet resistance of the ITO substrate C was 20Ω.

【0107】更に、このITO基板Cを用いて実施例1
と同様にして図3に示す構造の有機電界発光素子を作製
し、同様に発光特性を測定して結果を図4及び表2に示
した。
Further, Embodiment 1 was carried out using this ITO substrate C.
An organic electroluminescent device having the structure shown in FIG. 3 was produced in the same manner as in the above, and the luminescence characteristics were measured in the same manner. The results are shown in FIG.

【0108】比較例2 比較例1と同様にコーニング社製7059ガラスを基板
とし、この基板上にITO透明導電膜を電子ビーム蒸着
法(ジオマテック社製)で堆積し、ITO基板Dとし
た。このITO基板Dのシート抵抗値は15Ωであっ
た。また、ITO基板DのX線回折分析を行ったとこ
ろ、低温スパッタ法による比較例1のITO基板Cに比
較して、2θ=30.6°付近のIn2 3 結晶の回折
ピーク強度が大きく、結晶性が高いことが分かった。
Comparative Example 2 In the same manner as in Comparative Example 1, 7059 glass manufactured by Corning Incorporated was used as a substrate, and an ITO transparent conductive film was deposited on this substrate by an electron beam evaporation method (manufactured by Geomatic) to obtain an ITO substrate D. The sheet resistance of the ITO substrate D was 15Ω. Further, when the X-ray diffraction analysis of the ITO substrate D was performed, the diffraction peak intensity of the In 2 O 3 crystal around 2θ = 30.6 ° was larger than that of the ITO substrate C of Comparative Example 1 by the low-temperature sputtering method. It was found that the crystallinity was high.

【0109】このITO基板Dを用いて実施例1と同様
にして図3に示す構造の有機電界発光素子を作製し、同
様に発光特性を測定して結果を図4及び表2に示した。
Using this ITO substrate D, an organic electroluminescent device having the structure shown in FIG. 3 was produced in the same manner as in Example 1, and the luminescence characteristics were measured in the same manner. The results are shown in FIG.

【0110】比較例3 光硬化性モノマー組成物を注入するガラスの型の表面を
光学研磨をしなかったことを除いては実施例1と同様の
方法で硬化物を得た。この硬化物をスライドガラス状に
カットし基板Eとした。この基板Eの諸特性は表1に示
す通りであった。
Comparative Example 3 A cured product was obtained in the same manner as in Example 1, except that the surface of the glass mold into which the photocurable monomer composition was injected was not optically polished. The cured product was cut into a slide glass to obtain a substrate E. Various characteristics of the substrate E were as shown in Table 1.

【0111】次に、この基板E上にITO透明導電膜を
実施例1と同様の低温スパッタ法で堆積し、ITO基板
Eとした。このITO基板Eのシート抵抗値は20Ωで
あった。
Next, an ITO transparent conductive film was deposited on the substrate E by the same low-temperature sputtering method as in Example 1 to obtain an ITO substrate E. The sheet resistance of the ITO substrate E was 20Ω.

【0112】このITO基板Eを用いて実施例1と同様
にして図3に示す構造の有機電界発光素子を作製し、同
様の方法で評価を行ったところ、5Vを印加した段階で
素子が短絡破壊した。
Using this ITO substrate E, an organic electroluminescent device having the structure shown in FIG. 3 was fabricated in the same manner as in Example 1, and evaluated by the same method. As a result, the device was short-circuited when 5 V was applied. Destroyed.

【0113】[0113]

【表1】 [Table 1]

【0114】[0114]

【表2】 [Table 2]

【0115】[0115]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の有機電界発
光素子及びその製造方法によれば、軽量で機械的強度が
大きい、プラスチック基板を用いて、発光特性において
も従来のガラス基板を用いた素子と比較し同等以上の特
性を有する有機電界発光素子を高い生産性にて得ること
ができる。
As described above in detail, according to the organic electroluminescent device and the method of manufacturing the same of the present invention, a plastic substrate which is lightweight and has high mechanical strength is used, and a conventional glass substrate is used in light emission characteristics. An organic electroluminescent device having characteristics equal to or higher than that of the conventional device can be obtained with high productivity.

【0116】従って、本発明による有機電界発光素子
は、フラットパネル・ディスプレイ(例えばOAコンピ
ュータ用や壁掛けテレビ)や面発光体としての特徴を生
かした光源(例えば、複写機の光源、演奏ディスプレイ
や計器類のバックライト光源)、表示板、標識灯への応
用が期待され、その技術的価値は極めて大きい。
Accordingly, the organic electroluminescent device according to the present invention can be used as a light source (for example, a light source of a copying machine, a performance display or an instrument) utilizing the characteristics of a flat panel display (for example, for an OA computer or a wall-mounted television) or a surface light emitting body. It is expected to be applied to various types of backlight sources, display boards, and sign lights, and its technical value is extremely large.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の有機電界発光素子の一実施例を示す模
式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of the organic electroluminescent device of the present invention.

【図2】本発明の有機電界発光素子の他の実施例を示す
模式的断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another embodiment of the organic electroluminescent device of the present invention.

【図3】本発明の有機電界発光素子の別の実施例を示す
模式的断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another embodiment of the organic electroluminescent device of the present invention.

【図4】実施例1,2及び比較例1,2における有機電
界発光素子の発光輝度の印加電圧依存性を示すグラフで
ある。
FIG. 4 is a graph showing the applied voltage dependence of the light emission luminance of the organic electroluminescent devices in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 陽極 3 有機発光層 4 陰極 3a 正孔輸送層 3b 電子輸送層 3c 正孔注入層 10,10A,10B 有機電界発光素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Organic light emitting layer 4 Cathode 3a Hole transport layer 3b Electron transport layer 3c Hole injection layer 10, 10A, 10B Organic electroluminescent element

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の一方の板面上に、陽極、有機発光
層及び陰極が積層された有機電界発光素子であって、該
基板は光硬化性樹脂よりなり、かつ、基板の該一方の板
面の表面粗さ(Rz)が1〜50nmであることを特徴
とする有機電界発光素子。
1. An organic electroluminescent device in which an anode, an organic light emitting layer and a cathode are laminated on one plate surface of a substrate, wherein the substrate is made of a photo-curable resin, and An organic electroluminescent device, wherein a surface roughness (Rz) of a plate surface is 1 to 50 nm.
【請求項2】 光硬化性樹脂が、分子内に2個以上の官
能基を有する多官能(メタ)アクリレートを含有するモ
ノマーを光重合させて得られることを特徴とする請求項
1に記載の有機電界発光素子。
2. The photocurable resin according to claim 1, wherein the photocurable resin is obtained by photopolymerizing a monomer containing a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups in a molecule. Organic electroluminescent device.
【請求項3】 分子内に2個以上の官能基を有する多官
能(メタ)アクリレートが、下記一般式[I] で表される
化合物及び下記一般式[II]で表される化合物よりなる群
から選ばれる少なくとも1種のビス(メタ)アクリレー
トであることを特徴とする請求項2に記載の有機電界発
光素子。 【化1】 (上記[I] 式中、R1 及びR2 は、それぞれ水素又はメ
チル基、R3 及びR4は、それぞれエーテル基及び/又
はチオエーテル基を含んでいてもよい炭素数1〜6の炭
化水素基、Xはハロゲン原子或いは炭素数1〜6のアル
キル基又はアルコキシ基を示し、kは0〜4の整数を示
す。) 【化2】 (上記[II]式中、R5 及びR6 は、それぞれ水素又はメ
チル基を示し、mは1又は2、nは0又は1を示す。)
3. A polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups in a molecule, the group comprising a compound represented by the following general formula [I] and a compound represented by the following general formula [II]: The organic electroluminescent device according to claim 2, wherein the organic electroluminescent device is at least one kind of bis (meth) acrylate selected from the group consisting of: Embedded image (In the above formula [I], R 1 and R 2 are each hydrogen or a methyl group, and R 3 and R 4 are each a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms which may contain an ether group and / or a thioether group. And the group X represents a halogen atom or an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and k represents an integer of 0 to 4.) (In the formula [II], R 5 and R 6 each represent hydrogen or a methyl group, m represents 1 or 2, and n represents 0 or 1.)
【請求項4】 光硬化性樹脂が、分子内に2個以上の官
能基を有する多官能(メタ)アクリレート及び分子内に
2個以上の官能基を有する多官能メルカプト化合物を共
重合させて得られることを特徴とする請求項2又は3に
記載の有機電界発光素子。
4. A photocurable resin obtained by copolymerizing a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups in a molecule and a polyfunctional mercapto compound having two or more functional groups in a molecule. The organic electroluminescent device according to claim 2, wherein the organic electroluminescent device is used.
【請求項5】 基板は、複屈折20nm以下の光硬化性
樹脂で構成されていることを特徴とする請求項1ないし
4のいずれか1項に記載の有機電界発光素子。
5. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the substrate is made of a photocurable resin having a birefringence of 20 nm or less.
【請求項6】 基板上に、陽極、有機発光層及び陰極を
積層して有機電界発光素子を製造する方法において、該
基板として、光硬化性樹脂よりなり、かつ、その少なく
とも一方の板面の表面粗さ(Rz)が1〜50nmであ
る基板を用い、該基板の該一方の板面に陽極、有機発光
層及び陰極を積層することを特徴とする有機電界発光素
子の製造方法。
6. A method of manufacturing an organic electroluminescent device by laminating an anode, an organic light emitting layer and a cathode on a substrate, wherein the substrate is made of a photocurable resin, and at least one of the plate surfaces A method for producing an organic electroluminescent device, comprising using a substrate having a surface roughness (Rz) of 1 to 50 nm, and laminating an anode, an organic light emitting layer, and a cathode on the one plate surface of the substrate.
【請求項7】 光硬化性樹脂が、分子内に2個以上の官
能基を有する多官能(メタ)アクリレート及び分子内に
2個以上の官能基を有する多官能メルカプト化合物を共
重合させて得られることを特徴とする請求項6に記載の
有機電界発光素子の製造方法。
7. A photocurable resin obtained by copolymerizing a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups in a molecule and a polyfunctional mercapto compound having two or more functional groups in a molecule. The method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 6, wherein:
【請求項8】 基板は、多官能(メタ)アクリレート及
び多官能メルカプト化合物を含む光硬化性モノマーを板
状に賦形し、これに活性エネルギー線を照射して光重合
硬化させることにより製造されることを特徴とする請求
項7に記載の有機電界発光素子の製造方法。
8. The substrate is produced by shaping a photocurable monomer containing a polyfunctional (meth) acrylate and a polyfunctional mercapto compound into a plate, irradiating the plate with an active energy ray, and photopolymerizing and curing the same. The method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 7, wherein
JP24496497A 1996-09-12 1997-09-10 Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP4164885B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24496497A JP4164885B2 (en) 1996-09-12 1997-09-10 Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8-242054 1996-09-12
JP24205496 1996-09-12
JP24496497A JP4164885B2 (en) 1996-09-12 1997-09-10 Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008098225A Division JP2008218421A (en) 1996-09-12 2008-04-04 Organic electroluminescent element and its manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10144469A true JPH10144469A (en) 1998-05-29
JP4164885B2 JP4164885B2 (en) 2008-10-15

Family

ID=26535585

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24496497A Expired - Fee Related JP4164885B2 (en) 1996-09-12 1997-09-10 Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4164885B2 (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000072637A1 (en) * 1998-03-09 2000-11-30 Tdk Corporation Organic el color display
JP2001250678A (en) * 2000-03-08 2001-09-14 Kureha Chem Ind Co Ltd Transparent electrode plate for organic el element, and organic el element
JP2002164177A (en) * 1999-11-29 2002-06-07 Canon Inc Liquid crystal element
US6406802B1 (en) 1999-05-27 2002-06-18 Tdk Corporation Organic electroluminescent color display
JP2002289358A (en) * 2001-03-23 2002-10-04 Ricoh Co Ltd Organic electroluminescence element
US6633123B2 (en) * 2000-08-22 2003-10-14 Hidehisa Tazawa Organic electroluminescence device with an improved heat radiation structure
US7067974B2 (en) 2003-05-16 2006-06-27 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Light-emitting apparatus and method for forming the same
US7071617B2 (en) * 2003-05-16 2006-07-04 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Light-emitting apparatus and method for forming the same
JP2008146974A (en) * 2006-12-08 2008-06-26 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Secondary battery
JP2008218421A (en) * 1996-09-12 2008-09-18 Mitsubishi Chemicals Corp Organic electroluminescent element and its manufacturing method
US7700148B2 (en) * 2003-09-17 2010-04-20 Toppan Printing Co., Ltd. Electroluminescent device
US7829203B2 (en) * 2002-03-09 2010-11-09 Cdt Oxford Limited Polymerisable compositions and organic light-emitting devices containing them

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60222241A (en) * 1984-04-19 1985-11-06 住友ベークライト株式会社 Transparent conductive film
JPS61287913A (en) * 1985-06-17 1986-12-18 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Resin for optical material
JPH02294306A (en) * 1989-05-08 1990-12-05 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Resin for optical disk substrate
JPH0312837A (en) * 1989-06-09 1991-01-21 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Production of optical disk substrate
JPH0586221A (en) * 1991-02-15 1993-04-06 Toray Ind Inc Plastic optical article
JPH05182763A (en) * 1992-01-07 1993-07-23 Sekisui Chem Co Ltd Manufacture of electroluminescent element using organic crystal
JPH05194672A (en) * 1992-01-23 1993-08-03 Mitsubishi Petrochem Co Ltd High refractive index optical material
JPH05266979A (en) * 1992-03-16 1993-10-15 Toshiba Corp Thin film type electroluminescence element
JPH05287050A (en) * 1992-04-13 1993-11-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd High refractive index optical material and its production
JPH06170860A (en) * 1992-12-09 1994-06-21 Toray Ind Inc Production of resin molded piece
JPH0741520A (en) * 1993-07-28 1995-02-10 Mitsubishi Chem Corp Composition for polymerization and resin material
JPH07130469A (en) * 1993-11-04 1995-05-19 Nippondenso Co Ltd Electroluminescent element and its manufacture
JPH08199161A (en) * 1995-01-26 1996-08-06 Mitsubishi Chem Corp Organic electroluminescence element

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60222241A (en) * 1984-04-19 1985-11-06 住友ベークライト株式会社 Transparent conductive film
JPS61287913A (en) * 1985-06-17 1986-12-18 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Resin for optical material
JPH02294306A (en) * 1989-05-08 1990-12-05 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Resin for optical disk substrate
JPH0312837A (en) * 1989-06-09 1991-01-21 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Production of optical disk substrate
JPH0586221A (en) * 1991-02-15 1993-04-06 Toray Ind Inc Plastic optical article
JPH05182763A (en) * 1992-01-07 1993-07-23 Sekisui Chem Co Ltd Manufacture of electroluminescent element using organic crystal
JPH05194672A (en) * 1992-01-23 1993-08-03 Mitsubishi Petrochem Co Ltd High refractive index optical material
JPH05266979A (en) * 1992-03-16 1993-10-15 Toshiba Corp Thin film type electroluminescence element
JPH05287050A (en) * 1992-04-13 1993-11-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd High refractive index optical material and its production
JPH06170860A (en) * 1992-12-09 1994-06-21 Toray Ind Inc Production of resin molded piece
JPH0741520A (en) * 1993-07-28 1995-02-10 Mitsubishi Chem Corp Composition for polymerization and resin material
JPH07130469A (en) * 1993-11-04 1995-05-19 Nippondenso Co Ltd Electroluminescent element and its manufacture
JPH08199161A (en) * 1995-01-26 1996-08-06 Mitsubishi Chem Corp Organic electroluminescence element

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008218421A (en) * 1996-09-12 2008-09-18 Mitsubishi Chemicals Corp Organic electroluminescent element and its manufacturing method
WO2000072637A1 (en) * 1998-03-09 2000-11-30 Tdk Corporation Organic el color display
US6406802B1 (en) 1999-05-27 2002-06-18 Tdk Corporation Organic electroluminescent color display
JP2002164177A (en) * 1999-11-29 2002-06-07 Canon Inc Liquid crystal element
JP4717198B2 (en) * 1999-11-29 2011-07-06 キヤノン株式会社 Organic electroluminescence device
JP2001250678A (en) * 2000-03-08 2001-09-14 Kureha Chem Ind Co Ltd Transparent electrode plate for organic el element, and organic el element
JP4531913B2 (en) * 2000-03-08 2010-08-25 株式会社クレハ Transparent electrode plate for organic EL element and organic EL element
US6633123B2 (en) * 2000-08-22 2003-10-14 Hidehisa Tazawa Organic electroluminescence device with an improved heat radiation structure
JP2002289358A (en) * 2001-03-23 2002-10-04 Ricoh Co Ltd Organic electroluminescence element
US7829203B2 (en) * 2002-03-09 2010-11-09 Cdt Oxford Limited Polymerisable compositions and organic light-emitting devices containing them
US20110024733A1 (en) * 2002-03-09 2011-02-03 Cdt Oxford Limited Polymerisable compositions and organic light-emitting devices containing them
US8883321B2 (en) 2002-03-09 2014-11-11 Cdt Oxford Limited Polymerizable compositions and organic light-emitting devices containing them
US7122958B2 (en) 2003-05-16 2006-10-17 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Light-emitting apparatus and method for forming the same
US7071617B2 (en) * 2003-05-16 2006-07-04 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Light-emitting apparatus and method for forming the same
US7067974B2 (en) 2003-05-16 2006-06-27 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Light-emitting apparatus and method for forming the same
US7700148B2 (en) * 2003-09-17 2010-04-20 Toppan Printing Co., Ltd. Electroluminescent device
JP2008146974A (en) * 2006-12-08 2008-06-26 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Secondary battery

Also Published As

Publication number Publication date
JP4164885B2 (en) 2008-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10223367A (en) Organic electric field luminescence element
US20050110384A1 (en) Lighting elements and methods
JPH0753953A (en) Organic electroluminescent element
JPH10214682A (en) Manufacturing device and manufacture of organic electroluminescent element
JPH06325871A (en) Organic electroluminescent element
JPH08236271A (en) Organic electroluminescent element and its manufacture
JPH06267658A (en) Organic el element
JP4164885B2 (en) Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof
KR20130084251A (en) Resin compositions for light-scattering layer, light-scattering layer and organic electro luminescence device
JP2002056973A (en) Organic electroluminescent element and photosensitive polymer
JP2011192524A (en) Method for producing organic electroluminescence element
JPH07312289A (en) Organic electroluminescent element
CN109689700B (en) Composition comprising a metal oxide and a metal oxide
JP7253542B2 (en) Sealant for organic electroluminescence display elements
JP2017091695A (en) Organic electroluminescent element, lighting system, surface light source, and display device
TW200838007A (en) Opto-electronic devices containing sulfonated light emitting copolymers
JP4030608B2 (en) Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof
JP2008218421A (en) Organic electroluminescent element and its manufacturing method
JP3279014B2 (en) Organic electroluminescent device
JP3296042B2 (en) Organic electroluminescent device
JPH0963767A (en) Organic electroluminescent element
JP3284737B2 (en) Organic electroluminescent device
JPH0860144A (en) Organic electroluminescent element
JP2008021575A (en) Organic electroluminescent element and manufacturing method of same
JP2004303562A (en) Substrate for organic electroluminescent element

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060307

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060704

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080205

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080404

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080507

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080708

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080721

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808

Year of fee payment: 4

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees