JP2008146974A - Secondary battery - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a secondary battery which is of a light weight and thin type as well as flexible and excellent in its reliability in a charge/discharge cycle property by using a resin molding such as resin film as a substrate. <P>SOLUTION: The secondary battery 1 is provided with a cell structure body with a positive electrode layer 35, a solid electrolyte layer 40 and a negative electrode layer 65 laminated in this order or in a reverse order on at least one surface side of the substrate 10. The substrate 10 is the resin molding obtained by photocuring a photocurable composite. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、リチウム二次電池などの二次電池に関する。特に、軽量薄型化、フレキシブル化を図ることができる全固体型の二次電池に関する。   The present invention relates to a secondary battery such as a lithium secondary battery. In particular, the present invention relates to an all-solid-state secondary battery that can be reduced in weight, thickness, and flexibility.

現在、携帯機器等の電子機器を中心に、リチウムイオン二次電池などの二次電池が広く用いられている。これは、ニッカド電池等と比較して、リチウムイオン二次電池は、高い電圧を有し、充放電容量が大きく、メモリ効果などの弊害がないことによる。電子機器等はますます軽量薄型化が進められており、この電子機器等に搭載するバッテリーとして、リチウムイオン二次電池にも軽量薄型化が求められている。昨今では、ICカードやフレキシブルディスプレイ等に搭載可能な軽量薄型、かつフレキシブルなリチウムイオン二次電池も求められている。   Currently, secondary batteries such as lithium ion secondary batteries are widely used mainly in electronic devices such as portable devices. This is because a lithium ion secondary battery has a higher voltage, a larger charge / discharge capacity, and no adverse effects such as a memory effect, compared to a nickel cadmium battery or the like. Electronic devices and the like have been increasingly reduced in weight and thickness, and lithium ion secondary batteries are also required to be reduced in weight and thickness as batteries to be mounted on the electronic devices and the like. In recent years, a lightweight, thin, and flexible lithium ion secondary battery that can be mounted on an IC card, a flexible display, or the like is also required.

従来のリチウムイオン二次電池は、正電極および負電極に金属片または金属箔を用い、これらを電解液に浸積させ、これらを容器で覆って使用されている。このため、軽量薄型化には限界があった。最近では、固体電解質を用いる薄膜固体二次電池(例えば、特許文献1参照)が提案されている。薄膜固体二次電池の構成は、特許文献1に記載のように、基板上に正極集電体薄膜、正極活物質薄膜、固体電解質薄膜、負極活物質薄膜、負極集電体薄膜を順に積層した構成、または、基板上に上記層を逆の順で積層した構成である。このような構成により、薄膜固体二次電池は、基板を除けば10μm以下の薄さにすることが可能である。更に、基板として樹脂フィルムを用いることにより、軽量薄型であり、かつフレキシブルな固体二次電池の作製が可能である。
特開2005−251417号公報
Conventional lithium ion secondary batteries are used by using metal pieces or metal foils for positive and negative electrodes, immersing them in an electrolytic solution, and covering them with a container. For this reason, there is a limit to reducing the weight and thickness. Recently, a thin-film solid secondary battery using a solid electrolyte (for example, see Patent Document 1) has been proposed. As described in Patent Document 1, a thin film solid secondary battery was formed by sequentially stacking a positive electrode current collector thin film, a positive electrode active material thin film, a solid electrolyte thin film, a negative electrode active material thin film, and a negative electrode current collector thin film on a substrate. A configuration or a configuration in which the above layers are stacked in reverse order on a substrate. With such a configuration, the thin-film solid secondary battery can be made as thin as 10 μm or less except for the substrate. Furthermore, by using a resin film as a substrate, it is possible to produce a lightweight, thin and flexible solid secondary battery.
JP 2005-251417 A

以上のように、樹脂フィルムを用いた薄膜固体二次電池は、軽量薄型化、及びフレキシブル化が期待される。しかし、実際に樹脂フィルムを基板として電池を作製するのは容易ではない。薄膜形成が容易であり、かつ電池としての信頼性を確保できる樹脂フィルムが必要である。具体的には、高度な表面平滑性、適度な曲げ弾性率、低吸水率、高耐熱性、低線膨張係数などを有している必要がある。これらの中では、特に、表面平滑性と曲げ弾性率が重要である。表面の平滑性に劣る場合は、接触してはならない薄膜同士が接触するおそれが有り、例えば、負極活物質と正極活物質が1箇所でも接触した場合は電池内部でショートする原因となる。基板上には複数の薄膜が積層されるので、基板の平滑性は電池製造の歩留まりを大きく左右する。また、曲げ弾性率が低い場合、薄膜形成工程において樹脂フィルムに反りやうねりが発生するので、平坦な電池が形成できず、ショートの原因となる。   As described above, a thin-film solid secondary battery using a resin film is expected to be lightweight and thin and flexible. However, it is not easy to actually manufacture a battery using a resin film as a substrate. There is a need for a resin film that can be easily formed into a thin film and that can ensure reliability as a battery. Specifically, it needs to have high surface smoothness, moderate bending elastic modulus, low water absorption, high heat resistance, low linear expansion coefficient, and the like. Among these, surface smoothness and bending elastic modulus are particularly important. If the surface is inferior in smoothness, the thin films that should not be in contact with each other may be in contact with each other. For example, when the negative electrode active material and the positive electrode active material are in contact with each other, a short circuit may occur inside the battery. Since a plurality of thin films are stacked on the substrate, the smoothness of the substrate greatly affects the yield of battery manufacturing. In addition, when the flexural modulus is low, warping and undulation are generated in the resin film in the thin film forming process, so that a flat battery cannot be formed, causing a short circuit.

一方、薄膜固体二次電池の負極活物質薄膜には、電池性能の向上のために、酸化バナジウムや酸化ニオブが一般に使用される。しかし、これらの物質は水分に弱いので、大気中の水分が樹脂フィルム等を介して負極活物質薄膜に浸入して、負極活物質の寿命を短くするおそれがある。したがって、充放電サイクル特性等の信頼性に劣るという課題もある。   On the other hand, vanadium oxide and niobium oxide are generally used for the negative electrode active material thin film of the thin film solid secondary battery in order to improve battery performance. However, since these substances are vulnerable to moisture, moisture in the atmosphere may enter the negative electrode active material thin film through a resin film or the like, and may shorten the life of the negative electrode active material. Therefore, there also exists a subject that it is inferior to reliability, such as charging / discharging cycling characteristics.

本発明の目的は、樹脂フィルムなどの樹脂成形体を用いて、軽量薄型かつフレキシブルで、充放電サイクル特性等の信頼性に優れた二次電池を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a secondary battery that is lightweight, thin, flexible, and excellent in reliability such as charge / discharge cycle characteristics, using a resin molded body such as a resin film.

本発明者らは、基板として樹脂成形体を用いた二次電池において、光硬化性組成物を光硬化して得られる樹脂成形体を用いることにより、軽量薄型でかつフレキシブル性に優れ、充放電サイクル特性等の信頼性に優れた二次電池が得られることを見出した。   In a secondary battery using a resin molded body as a substrate, the present inventors use a resin molded body obtained by photocuring a photocurable composition, thereby being lightweight, thin and excellent in flexibility, charging and discharging. It has been found that a secondary battery having excellent reliability such as cycle characteristics can be obtained.

即ち、本発明の要旨は、基板の少なくとも一方面側に、正極層、固体電解質層および負極層がこの順もしくは逆順に積層された電池構造体を有する二次電池であって、前記基板が、光硬化性組成物を光硬化して得られる樹脂成形体であることを特徴とする二次電池である。   That is, the gist of the present invention is a secondary battery having a battery structure in which a positive electrode layer, a solid electrolyte layer, and a negative electrode layer are laminated in this order or in reverse order on at least one surface side of the substrate, It is a secondary battery characterized by being a resin molding obtained by photocuring a photocurable composition.

本発明の二次電池は、軽量薄型かつフレキシブルで、充放電サイクル特性等の信頼性に優れる。   The secondary battery of the present invention is lightweight, thin and flexible, and has excellent reliability such as charge / discharge cycle characteristics.

以下、本発明につき更に詳細に説明する。なお、以下において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの総称である。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the following, “(meth) acrylate” is a general term for acrylate and methacrylate.

本発明の二次電池は、光硬化性組成物を光硬化して得られる、基板としての樹脂成形体と、樹脂成形体の一方面側又は両面それぞれの側に、正極層、固体電解質層および負極層がこの順もしくは逆順に積層された電池構造体とを有する。また、本発明の二次電池は、一対の樹脂成形体が電池構造体を挟む層構成を有するものであってもよい。さらに、樹脂成形体と電池構造体が繰り返し積層された層構成を有していても良い。例えば、基板/正極層/固体電解質層/負極層/基板/正極層/固体電解質層/負極層/基板の構成よりなる二次電池などでも良い。   The secondary battery of the present invention includes a resin molded body as a substrate obtained by photocuring a photocurable composition, a positive electrode layer, a solid electrolyte layer, and a resin layer on one side or both sides of the resin molded body. The negative electrode layer has a battery structure laminated in this order or reverse order. Further, the secondary battery of the present invention may have a layer structure in which a pair of resin molded bodies sandwich a battery structure. Furthermore, you may have the layer structure by which the resin molding and the battery structure were laminated | stacked repeatedly. For example, a secondary battery having a configuration of substrate / positive electrode layer / solid electrolyte layer / negative electrode layer / substrate / positive electrode layer / solid electrolyte layer / negative electrode layer / substrate may be used.

〔光硬化性組成物〕
光硬化性組成物は、特に限定されないが、耐熱性や低線膨張係数の点から、多官能(メタ)アクリレート系化合物と光重合開始剤を含有してなるものが好ましい。
(Photocurable composition)
Although a photocurable composition is not specifically limited, From the point of heat resistance or a low linear expansion coefficient, what contains a polyfunctional (meth) acrylate type compound and a photoinitiator is preferable.

かかる多官能(メタ)アクリレート系化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル]プロパン、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシ)トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシ)ペンタシクロ〔6.5.1.13,6.02,7.09,13〕ペンタデカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)ペンタシクロ〔6.5.1.13,6.02,7.09,13〕ペンタデカン=ジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−(β−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキシル〕プロパン、1,3−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス((メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジアクリレート、2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェートジエステル等の2官能(メタ)アクリレート系化合物;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1,3,5−トリス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,3,5−トリス((メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサン、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の3官能以上の(メタ)アクリレート系化合物が挙げられる。更に、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート系化合物が挙げられる。 Such polyfunctional (meth) acrylate compounds include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) ) Acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (Meth) acryloyloxyphenyl] propane, ethylene oxide modified bisphenol A type di (meth) acrylate, propylene oxide modified bisphenol A-type di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether Di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate di (meth) acrylate, bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5 .2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxy) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (β- (meth) acryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,3-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,3-bis ((meth) acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, hydroxy Bifunctional (meth) acrylate compounds such as pivalic acid-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified diacrylate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate diester; Acrylate), 1,3,5-tris ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,3,5-tris ((meth) acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (meth) acryloyloxyethoxytrimethylolpropane, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified Triacrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol hexa (meth) Acrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, trifunctional or more (meth) acrylate compounds such as ethylene oxide modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate. Furthermore, polyfunctional (meth) acrylate compounds such as epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and polyether (meth) acrylate are exemplified.

これらの中では、耐熱性や靱性の観点から、ビス(ヒドロキシ)トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカン=ジ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートが特に好ましい。また、上記多官能(メタ)アクリレート系化合物は、1種または2種以上を使用することもできる。更に、上記多官能(メタ)アクリレート系化合物と、単官能(メタ)アクリレート系化合物とを併用してもよい。 Among these, from the viewpoint of heat resistance and toughness, bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1]. 0.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate are particularly preferred. Moreover, the said polyfunctional (meth) acrylate type compound can also use 1 type (s) or 2 or more types. Furthermore, you may use together the said polyfunctional (meth) acrylate type compound and a monofunctional (meth) acrylate type compound.

本発明で使用される光重合開始剤は、特に制限されないが、具体的には、1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4−ジフェノキシジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系開始剤などが挙げられ、これらを併用することもできる。これらの光重合開始剤は、多官能(メタ)アクリレート系化合物100質量部(単官能(メタ)アクリレート系化合物を併用する場合は多官能(メタ)アクリレート系化合物と単官能(メタ)アクリレート系化合物の合計100質量部)に対して、通常0.1〜10質量部の割合で使用されることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量部である。かかる光重合開始剤が少なすぎると硬化が充分に進まない傾向があり、多すぎると得られる樹脂シートの機械強度が低下する傾向がある。   The photopolymerization initiator used in the present invention is not particularly limited, and specifically includes 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 4-diphenoxy. Examples include acetophenone-based initiators such as dichloroacetophenone, benzophenone-based initiators such as benzophenone, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, and hydroxybenzophenone, and these can also be used in combination. These photopolymerization initiators are 100 parts by mass of a polyfunctional (meth) acrylate compound (when a monofunctional (meth) acrylate compound is used in combination, a polyfunctional (meth) acrylate compound and a monofunctional (meth) acrylate compound) It is preferable to use normally in the ratio of 0.1-10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts), Especially preferably, it is 1-5 mass parts. If the amount of the photopolymerization initiator is too small, curing tends to not proceed sufficiently, and if it is too large, the mechanical strength of the resulting resin sheet tends to decrease.

本発明で使用される光硬化性組成物は、曲げ弾性率や低吸水率の点から、下記一般式(1)で示される4官能メルカプタン系化合物を更に含有することが好ましい。   The photocurable composition used in the present invention preferably further contains a tetrafunctional mercaptan compound represented by the following general formula (1) from the viewpoint of flexural modulus and low water absorption.

Figure 2008146974
Figure 2008146974

(式中、Rは炭素数1〜5のアルキレン基である。) (In the formula, R 3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.)

一般式(1)で示される4官能メルカプタン系化合物の具体例としては、例えば、ペンタエリスルトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネートなどが挙げられる。4官能メルカプタン系化合物の含有率は、多官能(メタ)アクリレート系化合物との合計に対して(単官能(メタ)アクリレート系化合物を併用する場合は多官能(メタ)アクリレート系化合物と単官能(メタ)アクリレート系化合物との合計に対して)、1〜30質量%であることが好ましい。より好ましくは5〜20質量%、更に好ましくは10〜15質量%である。4官能メルカプタン系化合物の含有率が多すぎると、得られる樹脂成形体の曲げ弾性率が低下する傾向があり、逆に少なすぎると、樹脂成形体の曲げ弾性率が高すぎるので、電池のフレキシブル性が低下する傾向がある。   Specific examples of the tetrafunctional mercaptan-based compound represented by the general formula (1) include pentaerythritol tetrakisthioglycolate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, and the like. The content of the tetrafunctional mercaptan compound is based on the total of the polyfunctional (meth) acrylate compound (when the monofunctional (meth) acrylate compound is used in combination, the polyfunctional (meth) acrylate compound and the monofunctional ( It is preferable that it is 1-30 mass% with respect to the sum total with a (meth) acrylate type compound. More preferably, it is 5-20 mass%, More preferably, it is 10-15 mass%. If the content of the tetrafunctional mercaptan-based compound is too large, the flexural modulus of the resulting resin molded product tends to decrease. Conversely, if the content is too small, the flexural modulus of the resin molded product is too high. Tend to decrease.

本発明において好適な光硬化性組成物は、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカン=ジ(メタ)アクリレートと、上記一般式(1)で示される4官能メルカプタン系化合物と、光重合開始剤とを含有して得られる組成物である。なお、この組成物において光重合開始剤は、上記に例示したものが使用でき、その含有量はビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカン=ジ(メタ)アクリレート100質量部に対して、通常0.1〜10質量部の割合で使用されることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量部である。 The photocurable composition suitable for the present invention is bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate and a tetrafunctional compound represented by the above general formula (1). It is a composition obtained by containing a mercaptan compound and a photopolymerization initiator. In this composition, as the photopolymerization initiator, those exemplified above can be used, and the content thereof is bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate. It is preferable to use normally in the ratio of 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts, Especially preferably, it is 1-5 mass parts.

光硬化性組成物には、上記の他に、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、帯電防止剤、難燃剤、消泡剤、着色剤、及び各種フィラーなどの補助成分を添加しても良い。   In addition to the above, auxiliary ingredients such as antioxidants, ultraviolet absorbers, mold release agents, antistatic agents, flame retardants, antifoaming agents, colorants, and various fillers are added to the photocurable composition. Also good.

〔光硬化〕
上述の光硬化性組成物を光硬化する方法としては、内側表面が平滑な透光性部材を型とした光成形方法であれば特に限定されない。透光性部材のJIS B 0601:2001における表面粗さ(Ra)は、好ましくは15nm以下、より好ましくは12nm以下、さらに好ましくは10nm以下、特に好ましくは9nm以下である。なお、「透光性」とは、下記の活性エネルギー線を透過し得ることを言う。
(Light curing)
The method for photocuring the above-mentioned photocurable composition is not particularly limited as long as it is a photomolding method using a translucent member having a smooth inner surface as a mold. The surface roughness (Ra) in JIS B 0601: 2001 of the translucent member is preferably 15 nm or less, more preferably 12 nm or less, still more preferably 10 nm or less, and particularly preferably 9 nm or less. “Translucent” means that the following active energy rays can be transmitted.

透光性部材の具体例は、表面の微小な凹凸が研磨砥粒等により除去された光学研磨ガラス板である。光学研磨ガラス板を用いた光成形方法は、例えば次の通りである。厚さ制御のためのスペーサーを介して、2枚の光学研磨ガラス板を対向させた成形型を作製する。そのキャビティ内に光硬化性組成物を注入し、活性エネルギー線を照射して硬化させ、脱型する。   A specific example of the translucent member is an optically polished glass plate from which minute irregularities on the surface are removed by abrasive grains or the like. An optical molding method using an optically polished glass plate is, for example, as follows. A molding die in which two optical polishing glass plates are opposed to each other through a spacer for controlling the thickness is produced. A photocurable composition is injected into the cavity, cured by irradiation with active energy rays, and demolded.

活性エネルギー線としては、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線、X線、γ線等の電磁波の他、電子線、プロトン線、中性子線等が利用できるが、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格等から紫外線照射が有利である。紫外線照射における光源としては、ケミカルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が使用される。紫外線照射を行う場合は、200〜400nmの紫外線を用いて、照射光量20J/cm以下で光硬化することが好ましい。照射光量が大きすぎると生産性に劣る傾向がある。紫外線の照度は、10〜5000mW/cmが好ましく、より好ましくは100〜1000mW/cmである。照度が小さすぎると、樹脂成形体の内部まで十分に硬化しなくなる傾向がある。逆に照度が大きすぎると、重合が暴走して割れが発生し易くなる傾向がある。なお、光照射は、硬化収縮の緩和のために数段階に分けて行っても良く、硬化速度の向上のために加熱しながら行っても良い。また、光硬化して得られた樹脂成形体は、より重合度の向上のため、あるいは応力ひずみ開放のために、熱処理してもよい。 As the active energy rays, rays such as far ultraviolet rays, ultraviolet rays, near ultraviolet rays, infrared rays, electromagnetic waves such as X rays and γ rays, electron beams, proton rays, neutron rays, etc. can be used. Ultraviolet irradiation is advantageous from the viewpoint of availability and price. As a light source for ultraviolet irradiation, a chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used. In the case of performing ultraviolet irradiation, it is preferable to use 200 to 400 nm ultraviolet light and to photocure at an irradiation light amount of 20 J / cm 2 or less. If the irradiation light quantity is too large, the productivity tends to be inferior. The illuminance of ultraviolet rays is preferably 10 to 5000 mW / cm 2 , more preferably 100 to 1000 mW / cm 2 . When the illuminance is too small, there is a tendency that the resin molded body is not sufficiently cured. On the other hand, if the illuminance is too high, polymerization tends to run away and cracks tend to occur. In addition, light irradiation may be performed in several steps for relaxation of curing shrinkage, or may be performed while heating for improving the curing rate. In addition, the resin molded body obtained by photocuring may be heat-treated for improving the degree of polymerization or releasing stress strain.

〔樹脂成形体〕
上述の光硬化により得られた樹脂成形体は、高度な架橋構造を有しており、高い耐熱性、低い線膨張係数、適度な曲げ弾性率を有する基板である。樹脂成形体の厚さは、0.1〜0.5mmが好ましく、より好ましくは0.2〜0.4mm、さらに好ましくは0.2〜0.3mmである。厚さが薄過ぎると、電池の支持体としての剛性が不足する傾向にあり、厚過ぎると、電池の薄型軽量化やフレキシブル化が困難になる傾向がある。
[Resin molding]
The resin molding obtained by the above-mentioned photocuring has a highly crosslinked structure, and is a substrate having high heat resistance, a low linear expansion coefficient, and an appropriate bending elastic modulus. The thickness of the resin molded body is preferably 0.1 to 0.5 mm, more preferably 0.2 to 0.4 mm, and still more preferably 0.2 to 0.3 mm. If the thickness is too thin, the rigidity as a battery support tends to be insufficient, and if it is too thick, it tends to be difficult to make the battery thinner and lighter and flexible.

本発明で使用される樹脂成形体は、電池構造体側の面のJIS B 0601:2001における表面粗さ(Ra)が好ましくは20nm以下、より好ましくは15nm以下、さらに好ましくは12nm以下、特に好ましくは10nm以下である。表面粗さ(Ra)が大き過ぎると、表面平滑性の不足により、電池の製造歩留まりが低下する傾向がある。なお、一般的に表面粗さ(Ra)の下限値は1nmである。また、樹脂成形体の両面側に電池構造体が設けられる場合には、樹脂成形体の両面の表面粗さ(Ra)が上記範囲内であることが好ましく、樹脂成形体の一方面側に電池構造体が設けられる場合には、電池構造体に対して反対側の面の表面粗さ(Ra)は、特に限定されないが、上記範囲内であることが好ましい。   The resin molded body used in the present invention preferably has a surface roughness (Ra) according to JIS B 0601: 2001 of the surface on the battery structure side of preferably 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, still more preferably 12 nm or less, particularly preferably. 10 nm or less. If the surface roughness (Ra) is too large, the production yield of the battery tends to decrease due to insufficient surface smoothness. In general, the lower limit of the surface roughness (Ra) is 1 nm. Further, when the battery structure is provided on both surfaces of the resin molded body, the surface roughness (Ra) of both surfaces of the resin molded body is preferably within the above range, and the battery is formed on one surface of the resin molded body. When a structure is provided, the surface roughness (Ra) of the surface opposite to the battery structure is not particularly limited, but is preferably within the above range.

上述した表面平滑性は、金型を用いた樹脂の成形方法で達成することは困難である。樹脂成形体の表面を研磨する方法や、表面をコーティング加工する手法も可能であるが、コストアップするだけでなく、工程雰囲気のクリーン度を上げても異物問題を回避することは難しい。   The surface smoothness described above is difficult to achieve with a resin molding method using a mold. Although a method of polishing the surface of the resin molded body and a method of coating the surface are possible, it is difficult not only to increase the cost but also to avoid the foreign matter problem even if the cleanness of the process atmosphere is increased.

本発明者らは、鋭意検討を行った結果、上述した表面平滑性と同等の表面粗さを有する透光性部材を型として、光硬化性組成物を光硬化して得られる樹脂成形体が、上述した表面平滑性を満足することを見出した。すなわち、透光性部材の表面を樹脂表面に転写することにより、薄膜形成や電池の信頼性の確保が可能な表面平滑性を得ることが可能となることを見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors have obtained a resin molded body obtained by photocuring a photocurable composition using a translucent member having a surface roughness equivalent to the surface smoothness described above as a mold. It was found that the surface smoothness described above was satisfied. That is, it has been found that surface smoothness capable of forming a thin film and ensuring the reliability of the battery can be obtained by transferring the surface of the translucent member to the resin surface.

本発明で使用される樹脂成形体は、曲げ弾性率が3〜4GPaであることが好ましい。架橋性樹脂は、三次元の網目構造を有するので、電池製造の工程においても変形しにくく、また、樹脂の組成により、適度な曲げ弾性率を設定することができる。曲げ弾性率の好ましい範囲は、3.3〜3.9GPa、より好ましくは3.5〜3.8GPaである。曲げ弾性率が高過ぎる場合は、電池のフレキシブル性が低下する傾向にあり、逆に、低過ぎる場合は、薄膜形成の時に基板にうねりや反りが生じやすく、支持体としての機能に劣る傾向にある。なお、曲げ弾性率の測定方法は、以下の実施例にて後述する。   The resin molded body used in the present invention preferably has a flexural modulus of 3 to 4 GPa. Since the crosslinkable resin has a three-dimensional network structure, it is difficult to be deformed even in the battery manufacturing process, and an appropriate bending elastic modulus can be set depending on the resin composition. A preferable range of the flexural modulus is 3.3 to 3.9 GPa, more preferably 3.5 to 3.8 GPa. If the flexural modulus is too high, the flexibility of the battery tends to be reduced. Conversely, if the flexural modulus is too low, the substrate tends to swell and warp when forming a thin film, and the function as a support tends to be inferior. is there. In addition, the measuring method of a bending elastic modulus is mentioned later in a following example.

更に、本発明で使用される樹脂成形体は、吸水率が1%以下であることが好ましい。より好ましくは0.8%以下、更に好ましくは0.7%以下である。電池構造体を構成する正極層、固体電解質層および負極層は、水分により劣化しやすいので、樹脂成形体の吸水率が高過ぎると、電池の耐久性が低下する傾向がある。通常、吸水率の下限値は0.01%である。なお、吸水率の測定方法は、以下の実施例にて後述する。   Furthermore, the resin molding used in the present invention preferably has a water absorption of 1% or less. More preferably, it is 0.8% or less, More preferably, it is 0.7% or less. Since the positive electrode layer, the solid electrolyte layer, and the negative electrode layer constituting the battery structure are easily deteriorated by moisture, if the water absorption rate of the resin molded body is too high, the durability of the battery tends to decrease. Usually, the lower limit of water absorption is 0.01%. In addition, the measuring method of a water absorption rate is later mentioned in the following Example.

また、本発明で使用される樹脂成形体は、耐熱性に優れており、100℃以上のガラス転移温度を有する。   Moreover, the resin molding used by this invention is excellent in heat resistance, and has a glass transition temperature of 100 degreeC or more.

〔電池構造体〕
樹脂成形体(基板)の一方面側又は両面それぞれの側に設けられる電池構造体は、正極層、固体電解質層および負極層がこの順もしくは逆順に積層された層構成を有する。
[Battery structure]
A battery structure provided on one side or both sides of a resin molded body (substrate) has a layer structure in which a positive electrode layer, a solid electrolyte layer, and a negative electrode layer are laminated in this order or in reverse order.

正極層は、通常、正極集電体層と正極活物質層から形成されることが好ましい。正極集電体層と正極活物質層は、異なる層として区別できるものに限らず、それぞれの機能を発揮する同一層として認識されるものであっても良い。   In general, the positive electrode layer is preferably formed of a positive electrode current collector layer and a positive electrode active material layer. The positive electrode current collector layer and the positive electrode active material layer are not limited to those that can be distinguished as different layers, and may be recognized as the same layer that performs each function.

正極集電体層は、基板と正極活物質層との密着性がよく、電気抵抗が低い金属薄膜が好適に用いられる。例えば、バナジウム、アルミニウム、銅、ニッケル、金等を使用することができる。これらの中では、低抵抗値の点で、バナジウムが特に好ましい。正極集電体層の膜厚は、低抵抗値の点で、100〜1000nmであることが好ましく、特には200〜500nmであることが好ましい。なお、正極集電体層のシート抵抗値は、取り出し電極として良好に機能させるために、1kΩ/□以下であることが望ましい。   As the positive electrode current collector layer, a metal thin film having good adhesion between the substrate and the positive electrode active material layer and having low electric resistance is preferably used. For example, vanadium, aluminum, copper, nickel, gold or the like can be used. Among these, vanadium is particularly preferable from the viewpoint of a low resistance value. The film thickness of the positive electrode current collector layer is preferably 100 to 1000 nm, particularly preferably 200 to 500 nm, in terms of low resistance. In addition, the sheet resistance value of the positive electrode current collector layer is desirably 1 kΩ / □ or less in order to function well as an extraction electrode.

正極活物質層は、特に限定されないが、リチウムを含む金属酸化物を構成要素とする活物質層が好ましい。例えば、マンガン酸リチウム(LiMn)、コバルト酸リチウム(LiCoO)、ニッケル酸リチウム(LiNiO)等を使用することができる。正極活物質層の膜厚は、できるだけ薄いことが望ましいが、充放電容量を確保するために1000nm程度が好ましい。 The positive electrode active material layer is not particularly limited, but an active material layer containing a metal oxide containing lithium as a constituent element is preferable. For example, lithium manganate (LiMn 2 O 4 ), lithium cobaltate (LiCoO 2 ), lithium nickelate (LiNiO 2 ), or the like can be used. The thickness of the positive electrode active material layer is desirably as thin as possible, but is preferably about 1000 nm in order to ensure charge / discharge capacity.

固体電解質層は、特に限定されないが、リチウムウイオンの伝導性が良いリン酸リチウム(LiPO)やこれに窒素を添加した物質(LiPON)、ゲル電解質やポリマー電解質等を用いることができる。これらの中では、リン酸リチウム(LiPO)やこれに窒素を添加した物質(LiPON)が好ましい。固体電解質層の膜厚は、ピンホ−ルの発生が低減され、且つできるだけ薄い500〜30000nmが好ましい。より好ましくは1000nm程度である。 The solid electrolyte layer is not particularly limited, and lithium phosphate (Li 3 PO 4 ) having a good lithium ion conductivity, a substance obtained by adding nitrogen to this (LiPON), a gel electrolyte, a polymer electrolyte, or the like can be used. . Among these, lithium phosphate (Li 3 PO 4) and this was added nitrogen material (LiPON) is preferred. The film thickness of the solid electrolyte layer is preferably as thin as 500 to 30000 nm as much as possible to reduce the occurrence of pinholes. More preferably, it is about 1000 nm.

負極層は、通常、負極集電体層と負極活物質層から形成されることが好ましい。負極集電体層と負極活物質層は、異なる層として区別できるものに限らず、それぞれの機能を発揮する同一層として認識されるものであっても良い。   In general, the negative electrode layer is preferably formed of a negative electrode current collector layer and a negative electrode active material layer. The negative electrode current collector layer and the negative electrode active material layer are not limited to those that can be distinguished as different layers, and may be recognized as the same layer that performs each function.

負極活物質層は、特に限定されないが、五酸化バナジウム、五酸化ニオブ、酸化インジウム(In)、酸化スズ(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)よって形成することができる。負極活物質層の膜厚は、充放電容量を確保するために100nm以上とすることが望ましい。より好ましくは、成膜時間の短縮のために、100〜10000nmである。更に好ましくは、成膜後に剥れてしまう不都合を回避し、良好な密着性を確保するために、300〜1000nmである。 The negative electrode active material layer is not particularly limited, and can be formed using vanadium pentoxide, niobium pentoxide, indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ), or zinc oxide (ZnO). The film thickness of the negative electrode active material layer is desirably 100 nm or more in order to ensure charge / discharge capacity. More preferably, it is 100 to 10,000 nm for shortening the film formation time. More preferably, the thickness is 300 to 1000 nm in order to avoid inconvenience of peeling after film formation and to ensure good adhesion.

負極集電体層は、正極集電体層と同様に、基板と負極活物質層との密着性がよく、電気抵抗が低い金属薄膜を用いることができる。例えば、バナジウム、アルミニウム、銅、ニッケル、金等を使用することができる。これらの中では、低抵抗値の点で、バナジウムが特に好ましい。負極集電体層の膜厚は、低抵抗値の点で、100〜1000nmであることが好ましく、特には200〜500nmであることが好ましい。なお、負極集電体層のシート抵抗値は、取り出し電極として良好に機能させるために、1kΩ/□以下であることが望ましい。   As the negative electrode current collector layer, a metal thin film having good adhesion between the substrate and the negative electrode active material layer and having low electric resistance can be used as in the positive electrode current collector layer. For example, vanadium, aluminum, copper, nickel, gold or the like can be used. Among these, vanadium is particularly preferable from the viewpoint of a low resistance value. The film thickness of the negative electrode current collector layer is preferably from 100 to 1000 nm, particularly preferably from 200 to 500 nm, in terms of low resistance. In addition, the sheet resistance value of the negative electrode current collector layer is desirably 1 kΩ / □ or less in order to function well as the extraction electrode.

本発明においては、正極層/固体電解質/負極層の層構成として、中でも正極集電体層/正極活物質層/固体電解質層/負極活物質層/負極集電体層の層構成が好ましい。正極集電体層、正極活物質層、固体電解質層、負極活物質層および負極集電体層の各層の成膜方法として、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法、加熱蒸着法等のドライプロセスや、スピンコート、ダイコート、スクリーン印刷等のウェットプロセスなどの公知の手法を用いることができる。好ましくは、より薄く均一に薄膜を形成できるドライプロセスを用いるのが良い。さらに好ましくは、蒸着物質との原子組成のずれが少なく、均一に成膜ができるスパッタリング法を用いるのが良い。   In the present invention, the positive electrode layer / solid electrolyte / negative electrode layer preferably has a positive electrode current collector layer / positive electrode active material layer / solid electrolyte layer / negative electrode active material layer / negative electrode current collector layer. As a film formation method for each of the positive electrode current collector layer, the positive electrode active material layer, the solid electrolyte layer, the negative electrode active material layer, and the negative electrode current collector layer, a dry process such as a sputtering method, an electron beam evaporation method, a heating evaporation method, Known methods such as a wet process such as spin coating, die coating, and screen printing can be used. It is preferable to use a dry process that can form a thin and uniform thin film. More preferably, it is preferable to use a sputtering method in which there is little deviation in the atomic composition from the vapor deposition material and uniform film formation is possible.

〔水蒸気バリア性膜〕
本発明においては、基板の両面および電池構造体の外側面のうち少なくとも一方面に、水蒸気バリア性膜が積層されていることが好ましい。基板に水蒸気バリア性膜を形成する場合には、大気に接触する外側表面でも、電池構造体の内側層(正極集電体層又は負極集電体層)と接する内側表面でも良い。また、電池構造体の外側層(負極集電体層又は正極集電体層)の外側面に水蒸気バリア性膜を形成しても良い。このように水蒸気バリア性膜を形成することにより、大気中の水分が負極活物質薄膜に浸入するのを抑えることができるので、電池性能をより長く保つことができる。水蒸気バリア性膜としては、酸化珪素や窒化珪素、及びこれらの混合物等を使用することができる。水蒸気バリア性膜の膜厚は、できるだけ薄くて水分防止効果も高い10〜500nm程度が好ましい。
[Water vapor barrier film]
In the present invention, it is preferable that a water vapor barrier film is laminated on at least one of the both surfaces of the substrate and the outer surface of the battery structure. When the water vapor barrier film is formed on the substrate, it may be an outer surface in contact with the air or an inner surface in contact with the inner layer (positive electrode current collector layer or negative electrode current collector layer) of the battery structure. In addition, a water vapor barrier film may be formed on the outer surface of the outer layer (negative electrode current collector layer or positive electrode current collector layer) of the battery structure. By forming the water vapor barrier film in this way, it is possible to prevent moisture in the atmosphere from entering the negative electrode active material thin film, and thus the battery performance can be kept longer. As the water vapor barrier film, silicon oxide, silicon nitride, a mixture thereof, or the like can be used. The film thickness of the water vapor barrier film is preferably about 10 to 500 nm, which is as thin as possible and has a high moisture prevention effect.

水蒸気バリア性膜の形成方法としては、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法、加熱蒸着法等のドライプロセスや、スピンコート、ダイコート、スクリーン印刷等のウェットプロセスなどの公知の手法を用いることができる。好ましくは、より薄く均一に薄膜を形成できるドライプロセスを用いるのが良い。さらに好ましくは、均一に成膜ができるスパッタリング法を用いるのが良い。   As a method for forming the water vapor barrier film, a known method such as a dry process such as a sputtering method, an electron beam vapor deposition method, or a heat vapor deposition method, or a wet process such as spin coating, die coating, or screen printing can be used. It is preferable to use a dry process that can form a thin and uniform thin film. More preferably, a sputtering method capable of uniformly forming a film is used.

上記の全固体型のリチウム二次電池は、充電を行うと、正極活物質層からリチウムがイオンとなって離脱し、固体電解質層を介して負極活物質層に吸蔵される。このとき、正極活物質層から外部へ電子が放出される。また、放電時には、負極活物質層からリチウムがイオンとなって離脱し、固体電解質層を介して正極活物質層に吸蔵される。このとき、負極活物質層から外部へ電子が放出される。   When the all-solid-state lithium secondary battery is charged, lithium is separated from the positive electrode active material layer as ions and inserted into the negative electrode active material layer through the solid electrolyte layer. At this time, electrons are emitted from the positive electrode active material layer to the outside. Further, at the time of discharge, lithium is separated from the negative electrode active material layer as ions, and is occluded in the positive electrode active material layer through the solid electrolyte layer. At this time, electrons are emitted from the negative electrode active material layer to the outside.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、例中「部」、「%」とあるのは、断りのない限り質量基準を意味する。各物性の測定方法は以下の通りである。その結果を表1にまとめる。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded. In the examples, “parts” and “%” mean mass basis unless otherwise specified. The measuring method of each physical property is as follows. The results are summarized in Table 1.

(1)表面平滑性
JIS B 0601:2001に準じて、東京精密社製「サーフコム570A」を用いて、樹脂シートの表面粗さRa(nm)を測定した(カットオフ:100μm、測定長:14mm)。
(2)曲げ弾性率
長さ25(mm)×幅10(mm)の試験片を用いて、島津製作所社製「オートグラフAG−5kNE」(支点間距離20mm、0.5mm/分)にて25℃で測定した。
(1) Surface smoothness
According to JIS B 0601: 2001, the surface roughness Ra (nm) of the resin sheet was measured using “Surfcom 570A” manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. (cutoff: 100 μm, measurement length: 14 mm).
(2) Flexural modulus Using “Autograph AG-5kNE” (20 mm distance between fulcrums, 0.5 mm / min) manufactured by Shimadzu Corporation using a test piece of length 25 (mm) × width 10 (mm) Measured at 25 ° C.

(3) 吸水率
JIS K7209に準じ、100(mm)×100(mm)サイズの試験片を用いて、50℃、24時間乾燥した後、23℃、24時間水浸漬した後の吸水率(%)を測定した。
(4) 充放電特性
充放電測定器を用いて測定した。測定条件は、充電および放電時の電流がいずれも400μA、充電および放電の打ち切りの電圧がそれぞれ3.5V、0.3Vである。
(3) Water absorption rate According to JIS K7209, 100% (mm) x 100 (mm) size test pieces were dried at 50 ° C for 24 hours and then immersed in water at 23 ° C for 24 hours (% ) Was measured.
(4) Charging / discharging characteristic It measured using the charging / discharging measuring device. The measurement conditions are that the current during charging and discharging is 400 μA, and the voltage at the end of charging and discharging is 3.5 V and 0.3 V, respectively.

(実施例1)
〔樹脂基板の製造〕
ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカン=ジメタクリレート(新中村化学社製「DCP」)85部、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネート(淀化学社製「PETP」)15部、光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー株式会社製「Irgacure184」)1部を60℃にて均一になるまで撹拌して、光硬化性組成物を得た。この組成物を、厚さ1.0mmのシリコン板をスペーサーとして、対向した2枚の光学研磨ガラス板よりなる成形型に注液し(23℃)、メタルハライドランプを用いて、照度100mW/cm、光量10J/cmで紫外線を照射した。脱型して得られた硬化物を150℃の真空オーブン中で2時間加熱して、幅10cm×長さ10cm×厚さ0.2mmの樹脂成形体(以下、樹脂基板という。)を得た。なお、使用した光学研磨ガラスの表面粗さ(Ra)は4nmである。
(Example 1)
[Manufacture of resin substrates]
Bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane dimethacrylate (“DCP” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 85 parts, pentaerythritol tetrakisthiopropionate (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd. 15 parts of PETP ”) and 1 part of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (“ Irgacure 184 ”manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator were stirred at 60 ° C. until uniform, to obtain a photocurable composition. This composition was poured into a mold composed of two optical polishing glass plates facing each other with a silicon plate having a thickness of 1.0 mm as a spacer (23 ° C.), and an illuminance of 100 mW / cm 2 using a metal halide lamp. UV light was irradiated at a light amount of 10 J / cm 2 . The cured product obtained by demolding was heated in a vacuum oven at 150 ° C. for 2 hours to obtain a resin molded body (hereinafter referred to as a resin substrate) having a width of 10 cm × length of 10 cm × thickness of 0.2 mm. . In addition, the surface roughness (Ra) of the used optical polishing glass is 4 nm.

表1に示されるとおり、得られた樹脂基板の曲げ弾性率は3.8GPa、吸水率は0.5%、表面粗さ(Ra)は5nmであり、樹脂基板として良好な性能を有していた。   As shown in Table 1, the obtained resin substrate has a flexural modulus of 3.8 GPa, a water absorption of 0.5%, a surface roughness (Ra) of 5 nm, and has good performance as a resin substrate. It was.

〔電池の作製〕
得られた樹脂基板を用いて、図1に示す全固体型のリチウム二次電池1を作製した。図1に示すリチウム二次電池1は、樹脂基板10上に電池構造体2を有する。電池構造体2は、正極集電体層20、正極活物質層30、固体電解質層40、負極活物質層50、負極集電体層60をこの順にスパッタリング法により形成することにより作製した。なお、正極集電体層20と正極活物質層30から正極層35が構成され、負極活物質層50と負極集電体層60から負極層65が構成される。
[Production of battery]
Using the obtained resin substrate, an all solid lithium secondary battery 1 shown in FIG. 1 was produced. A lithium secondary battery 1 shown in FIG. 1 has a battery structure 2 on a resin substrate 10. The battery structure 2 was produced by forming the positive electrode current collector layer 20, the positive electrode active material layer 30, the solid electrolyte layer 40, the negative electrode active material layer 50, and the negative electrode current collector layer 60 in this order by a sputtering method. The positive electrode current collector layer 20 and the positive electrode active material layer 30 constitute a positive electrode layer 35, and the negative electrode active material layer 50 and the negative electrode current collector layer 60 constitute a negative electrode layer 65.

正極集電体層20は、バナジウム金属ターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法にて形成した。DCパワーは1KW、無加熱で成膜した。これにより、集電体層20として300nmのバナジウム薄膜を形成した。   The positive electrode current collector layer 20 was formed by a DC magnetron sputtering method using a vanadium metal target. The film was formed with a DC power of 1 KW and no heating. As a result, a 300 nm vanadium thin film was formed as the current collector layer 20.

正極活物質層30は、マンガン酸リチウム(LiMn)の焼結体ターゲットを用い、酸素を導入してRFマグネトロンスパッタリング法にて形成した。RFパワーは1KW、無加熱で成膜した。これにより、1000nmのマンガン酸リチウム薄膜を形成した。 The positive electrode active material layer 30 was formed by RF magnetron sputtering using a sintered manganate (LiMn 2 O 4 ) sintered target and introducing oxygen. The film was formed with an RF power of 1 KW and no heating. As a result, a 1000 nm lithium manganate thin film was formed.

固体電解質層40は、リン酸リチウム(LiPO)の焼結体ターゲットを用い、窒素ガスを導入してRFマグネトロンスパッタリング法にて形成した。RFパワーは1KW、無加熱で成膜した。これにより、1000nmのリン酸リチウム薄膜を形成した。 The solid electrolyte layer 40 was formed by RF magnetron sputtering using a sintered phosphor target of lithium phosphate (Li 3 PO 4 ) and introducing nitrogen gas. The film was formed with an RF power of 1 KW and no heating. Thereby, a lithium phosphate thin film of 1000 nm was formed.

負極活物質層50は、五酸化バナジウムの焼結体ターゲットを用い、酸素を導入してDCマグネトロンスパッタリング法にて形成した。DCパワーは1KW、無加熱で成膜した。これにより、500nmの五酸化バナジウム薄膜を形成した。   The negative electrode active material layer 50 was formed by a DC magnetron sputtering method using a vanadium pentoxide sintered compact target and introducing oxygen. The film was formed with a DC power of 1 KW and no heating. Thereby, a 500 nm vanadium pentoxide thin film was formed.

負極集電体層60は、バナジウム金属ターゲットを用い、DCマグネトロンスパッタリング法にて形成した。DCパワーは1KW、無加熱で成膜した。これにより、集電体層60として300nmのバナジウム薄膜を形成した。   The negative electrode current collector layer 60 was formed by a DC magnetron sputtering method using a vanadium metal target. The film was formed with a DC power of 1 KW and no heating. Thus, a 300 nm vanadium thin film was formed as the current collector layer 60.

〔電池の評価〕
以上のようにして得られた全固体型のリチウム二次電池1の充放電特性を測定した。その結果、繰り返し充放電動作を示すことが確認できた。表1に示すように、充放電動作が安定した10サイクル目の放電開始電圧は3.1V、充電容量,放電容量はそれぞれ940μAh,910μAhであった。本例では、100サイクルまで充放電測定を行ったが、安定してほぼ一定の充放電曲線を示すことが確認された。更に、全固体型のリチウム二次電池1の充放電特性を約1か月後に再び測定した。その結果、表1に示すように放電容量が20%低下するに留まるものであった。
[Battery evaluation]
The charge / discharge characteristics of the all-solid-type lithium secondary battery 1 obtained as described above were measured. As a result, it was confirmed that repeated charge / discharge operations were exhibited. As shown in Table 1, the discharge start voltage at the 10th cycle when the charge / discharge operation was stabilized was 3.1 V, and the charge capacity and discharge capacity were 940 μAh and 910 μAh, respectively. In this example, charge / discharge measurement was performed up to 100 cycles, but it was confirmed that a stable and substantially constant charge / discharge curve was exhibited. Furthermore, the charge / discharge characteristics of the all-solid-state lithium secondary battery 1 were measured again after about one month. As a result, as shown in Table 1, the discharge capacity was only reduced by 20%.

(実施例2)
〔樹脂基板の製造〕
ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカン=ジアクリレート(新中村化学社製「A−DCP」)80部、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネート(淀化学社製「PETP」)20部、光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー株式会社製「「Irgacure184」)1部を用いる以外は、実施例1と同様にして樹脂基板を得た。表1に示されるとおり、得られた樹脂基板の曲げ弾性率は3.5GPa、吸水率は0.7%、表面粗さ(Ra)は5nmであり、樹脂基板として良好な性能を有していた。
(Example 2)
[Manufacture of resin substrates]
80 parts of bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane diacrylate (“A-DCP” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), pentaerythritol tetrakisthiopropionate (Sakai Chemical Co., Ltd.) A resin substrate was obtained in the same manner as in Example 1, except that 20 parts of “PET” manufactured by the company and 1 part of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) were used as the photopolymerization initiator. As shown in Table 1, the obtained resin substrate has a flexural modulus of 3.5 GPa, a water absorption of 0.7%, a surface roughness (Ra) of 5 nm, and has good performance as a resin substrate. It was.

〔電池の作製と評価〕
実施例1と同様にして全固体型のリチウム二次電池を作製し、その充放電特性を測定した。その結果、繰り返し充放電動作を示すことが確認できた。表1に示すように、充放電動作が安定した10サイクル目の放電開始電圧は3.0V、充電容量,放電容量はそれぞれ931μAh,906μAhであった。本例では、100サイクルまで充放電測定を行ったが、安定してほぼ一定の充放電曲線を示すことが確認された。更に、全固体型のリチウム二次電池の充放電特性を約1か月後に再び測定した。その結果、表1に示すように放電容量が25%低下するに留まるものであった。
[Production and evaluation of batteries]
In the same manner as in Example 1, an all-solid-type lithium secondary battery was produced, and its charge / discharge characteristics were measured. As a result, it was confirmed that repeated charge / discharge operations were exhibited. As shown in Table 1, the discharge start voltage at the 10th cycle when the charge / discharge operation was stable was 3.0 V, and the charge capacity and the discharge capacity were 931 μAh and 906 μAh, respectively. In this example, charge / discharge measurement was performed up to 100 cycles, but it was confirmed that a stable and substantially constant charge / discharge curve was exhibited. Furthermore, the charge / discharge characteristics of the all-solid-state lithium secondary battery were measured again after about one month. As a result, as shown in Table 1, the discharge capacity was only reduced by 25%.

(実施例3)
〔電池の作製〕
実施例1の樹脂基板を用いて、図2に示す全固体型のリチウム二次電池2を作製した。図2に示すリチウム二次電池2は、実施例1のリチウム二次電池1と同様に、樹脂基板10の一方面側に電池構造体2を有する。ただし、樹脂基板10の両面と、負極集電体層60の外側面とに、水蒸気バリア性膜70としての窒化珪素薄膜がスパッタリング法により形成されている。すなわち、図2のリチウム二次電池2は、樹脂基板10と電池構造体2が水蒸気バリア性膜70に挟まれた構造を有する。水蒸気バリア性膜70の成膜は、Si半導体ターゲットを用い、RFマグネトロンスパッタリング法により窒素ガスを導入して行った。RFパワーは1KW、無加熱で成膜した。これにより、100nmの窒化珪素薄膜を形成した。
(Example 3)
[Production of battery]
Using the resin substrate of Example 1, an all solid-state lithium secondary battery 2 shown in FIG. 2 was produced. A lithium secondary battery 2 shown in FIG. 2 has a battery structure 2 on one surface side of a resin substrate 10, similarly to the lithium secondary battery 1 of Example 1. However, a silicon nitride thin film as the water vapor barrier film 70 is formed on both surfaces of the resin substrate 10 and the outer surface of the negative electrode current collector layer 60 by a sputtering method. That is, the lithium secondary battery 2 of FIG. 2 has a structure in which the resin substrate 10 and the battery structure 2 are sandwiched between the water vapor barrier films 70. The water vapor barrier film 70 was formed using a Si semiconductor target and introducing nitrogen gas by RF magnetron sputtering. The film was formed with an RF power of 1 KW and no heating. As a result, a 100 nm silicon nitride thin film was formed.

〔電池の評価〕
実施例1と同様にして全固体型のリチウム二次電池2の充放電特性を測定した。その結果、繰り返し充放電動作を示すことが確認できた。表1に示すように、充放電動作が安定した10サイクル目の放電開始電圧は3.1V、充電容量,放電容量はそれぞれ940μAh,910μAhであった。本例では、100サイクルまで充放電測定を行ったが、安定してほぼ一定の充放電曲線を示すことが確認された。更に、全固体型のリチウム二次電池2の充放電特性を約1か月後に再び測定した。その結果、表1に示すように放電容量が5%低下するに留まるものであった。
[Battery evaluation]
In the same manner as in Example 1, the charge / discharge characteristics of the all solid-state lithium secondary battery 2 were measured. As a result, it was confirmed that repeated charge / discharge operations were exhibited. As shown in Table 1, the discharge start voltage at the 10th cycle when the charge / discharge operation was stabilized was 3.1 V, and the charge capacity and discharge capacity were 940 μAh and 910 μAh, respectively. In this example, charge / discharge measurement was performed up to 100 cycles, but it was confirmed that a stable and substantially constant charge / discharge curve was exhibited. Furthermore, the charge / discharge characteristics of the all-solid-state lithium secondary battery 2 were measured again after about one month. As a result, as shown in Table 1, the discharge capacity was only reduced by 5%.

(比較例1)
〔電池の作製〕
基板として、縦100mm、横100mm、厚さ0.5mmの光学研磨ガラス板を用いる以外は実施例1と同様にして、全固体型のリチウム二次電池を作製した。この光学研磨ガラス板の表面粗さ(Ra)は4nmである。
(Comparative Example 1)
[Production of battery]
An all solid-state lithium secondary battery was produced in the same manner as in Example 1 except that an optically polished glass plate having a length of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 0.5 mm was used as the substrate. The surface roughness (Ra) of this optically polished glass plate is 4 nm.

〔電池の評価〕
実施例1と同様にして全固体型のリチウム二次電池の充放電特性を測定した。その結果、繰り返し充放電動作を示すことが確認できた。表1に示すように、充放電動作が安定した10サイクル目の放電開始電圧は3.1V、充電容量,放電容量はそれぞれ948μAh,917μAhであった。本例では、100サイクルまで充放電測定を行ったが、安定してほぼ一定の充放電曲線を示すことが確認された。更に、全固体型のリチウム二次電池の充放電特性を約1か月後に再び測定した。その結果、表1に示すように放電容量が20%低下するに留まるものであった。しかしながら、本比較例においては、ガラス板の曲げ弾性率が100GPaを越えることより、フレキシブル性に劣るものであった。
[Battery evaluation]
In the same manner as in Example 1, the charge / discharge characteristics of the all-solid-state lithium secondary battery were measured. As a result, it was confirmed that repeated charge / discharge operations were exhibited. As shown in Table 1, the discharge start voltage at the 10th cycle in which the charge / discharge operation was stable was 3.1 V, and the charge capacity and discharge capacity were 948 μAh and 917 μAh, respectively. In this example, charge / discharge measurement was performed up to 100 cycles, but it was confirmed that a stable and substantially constant charge / discharge curve was exhibited. Furthermore, the charge / discharge characteristics of the all-solid-state lithium secondary battery were measured again after about one month. As a result, as shown in Table 1, the discharge capacity was only reduced by 20%. However, in this comparative example, since the bending elastic modulus of the glass plate exceeded 100 GPa, the flexibility was inferior.

(比較例2)
〔電池の作製〕
基板としてPETフィルムを用いる以外は実施例1と同様にして全固体型のリチウム二次電池を作製した。このPETフィルムの表面粗さ(Ra)は50nmである。
(Comparative Example 2)
[Production of battery]
An all solid lithium secondary battery was produced in the same manner as in Example 1 except that a PET film was used as the substrate. The surface roughness (Ra) of this PET film is 50 nm.

〔電池の評価〕
実施例1と同様にして全固体型のリチウム二次電池の充放電特性を測定した。その結果、繰り返し充放電動作において、充放電容量が共に低下し、10サイクル目には電池として作動しなくなった。
[Battery evaluation]
In the same manner as in Example 1, the charge / discharge characteristics of the all-solid-state lithium secondary battery were measured. As a result, in the repeated charge / discharge operation, both the charge / discharge capacities decreased and the battery did not operate at the 10th cycle.

Figure 2008146974
Figure 2008146974

本発明の二次電池の用途は、特に限定されないが、例えば、携帯端末などの電子機器、自動車や電動車両などのセルモーター、ペースメーカーなどの医療機器などが挙げられる。   The use of the secondary battery of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include electronic devices such as portable terminals, cell motors such as automobiles and electric vehicles, and medical devices such as pacemakers.

実施例1の全固体型リチウム二次電池1を模式的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing an all solid state lithium secondary battery 1 of Example 1. FIG. 実施例3の全固体型リチウム二次電池2を模式的に示す断面図である。4 is a cross-sectional view schematically showing an all solid state lithium secondary battery 2 of Example 3. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1,3 二次電池
2 電池構造体
10 樹脂基板
20 正極集電体層
30 正極活物質層
35 正極層
40 固体電解質層
50 負極活物質層
60 負極集電体層
65 負極層
70 水蒸気バリア性膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,3 Secondary battery 2 Battery structure 10 Resin substrate 20 Positive electrode collector layer 30 Positive electrode active material layer 35 Positive electrode layer 40 Solid electrolyte layer 50 Negative electrode active material layer 60 Negative electrode current collector layer 65 Negative electrode layer 70 Water vapor barrier film

Claims (9)

基板の少なくとも一方面側に、正極層、固体電解質層および負極層がこの順もしくは逆順に積層された電池構造体を有する二次電池であって、
前記基板が、光硬化性組成物を光硬化して得られる樹脂成形体であることを特徴とする二次電池。
A secondary battery having a battery structure in which a positive electrode layer, a solid electrolyte layer, and a negative electrode layer are laminated in this order or reverse order on at least one surface side of a substrate,
A secondary battery, wherein the substrate is a resin molded body obtained by photocuring a photocurable composition.
前記基板は、厚さが0.1〜0.5mmであり、前記電池構造体側の面の表面粗さ(Ra)が20nm以下であることを特徴とする請求項1記載の二次電池。   The secondary battery according to claim 1, wherein the substrate has a thickness of 0.1 to 0.5 mm, and a surface roughness (Ra) of the surface on the battery structure side is 20 nm or less. 前記基板の曲げ弾性率が3〜4GPaであることを特徴とする請求項1又は2記載の二次電池。   The secondary battery according to claim 1 or 2, wherein the substrate has a flexural modulus of 3 to 4 GPa. 前記基板の吸水率が1%以下であることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の二次電池。   The secondary battery according to claim 1, wherein the substrate has a water absorption of 1% or less. 前記光硬化性組成物が、多官能(メタ)アクリレート系化合物及び光重合開始剤を含有してなることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の二次電池。   The secondary battery according to claim 1, wherein the photocurable composition contains a polyfunctional (meth) acrylate compound and a photopolymerization initiator. 前記光硬化性組成物が、下記一般式(1)で示される4官能メルカプタン系化合物を更に含有することを特徴とする請求項5記載の二次電池。
Figure 2008146974
(式中、Rは炭素数1〜5のアルキレン基である。)
The secondary battery according to claim 5, wherein the photocurable composition further contains a tetrafunctional mercaptan-based compound represented by the following general formula (1).
Figure 2008146974
(In the formula, R 3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.)
前記基板の両面および前記電池構造体の外側面のうち少なくとも一方面に、水蒸気バリア性膜が積層されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか記載の二次電池。   The secondary battery according to any one of claims 1 to 6, wherein a water vapor barrier film is laminated on at least one surface of both surfaces of the substrate and the outer surface of the battery structure. 前記正極層が、リチウムを含む金属酸化物を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか記載の二次電池。   The secondary battery according to claim 1, wherein the positive electrode layer contains a metal oxide containing lithium. 前記正極層、前記固体電解質層および前記負極層がドライプロセスにより形成されてなることを特徴とする請求項1〜8いずれか記載の二次電池。   The secondary battery according to claim 1, wherein the positive electrode layer, the solid electrolyte layer, and the negative electrode layer are formed by a dry process.
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