JPH10137750A - 純水製造装置の殺菌方法 - Google Patents
純水製造装置の殺菌方法Info
- Publication number
- JPH10137750A JPH10137750A JP8318660A JP31866096A JPH10137750A JP H10137750 A JPH10137750 A JP H10137750A JP 8318660 A JP8318660 A JP 8318660A JP 31866096 A JP31866096 A JP 31866096A JP H10137750 A JPH10137750 A JP H10137750A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- anion exchange
- exchange resin
- pure water
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】操作が簡便であり、再生剤のランニングコスト
を大幅に低減することが出来る工業的に有利な純水製造
装置の殺菌方法を提供する。 【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される４級アンモニ
ウム塩基を有する構造単位および不飽和炭化水素基含有
架橋性モノマーから誘導される構造単位を含有する強塩
基性アニオン交換樹脂を充填して成るアニオン交換塔を
備えた純水製造装置において、上記の強塩基性アニオン
交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態において、純水製造装
置の系内に殺菌・洗浄用の高温純を通液する。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、Ａは炭素数３〜８の直鎖状アルキレ
ン基または炭素数４〜９のアルコキシメチレン基を表わ
し、Ｒ1 は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜４
のアルキル基、Ｒ2 及びＲ3 は炭素数１〜４の炭化水素
基、Ｘ- はアンモニウム基に配位した対イオンを表し、
また、ベンゼン環はアルキル基またはハロゲン原子で置
換されていてもよい。）
を大幅に低減することが出来る工業的に有利な純水製造
装置の殺菌方法を提供する。 【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される４級アンモニ
ウム塩基を有する構造単位および不飽和炭化水素基含有
架橋性モノマーから誘導される構造単位を含有する強塩
基性アニオン交換樹脂を充填して成るアニオン交換塔を
備えた純水製造装置において、上記の強塩基性アニオン
交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態において、純水製造装
置の系内に殺菌・洗浄用の高温純を通液する。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、Ａは炭素数３〜８の直鎖状アルキレ
ン基または炭素数４〜９のアルコキシメチレン基を表わ
し、Ｒ1 は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜４
のアルキル基、Ｒ2 及びＲ3 は炭素数１〜４の炭化水素
基、Ｘ- はアンモニウム基に配位した対イオンを表し、
また、ベンゼン環はアルキル基またはハロゲン原子で置
換されていてもよい。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、純水製造装置の殺
菌方法に関するものであり、詳しくは、操作が簡便であ
り、再生剤のランニングコストを大幅に低減することが
出来る工業的に有利な殺菌方法に関するものである。
菌方法に関するものであり、詳しくは、操作が簡便であ
り、再生剤のランニングコストを大幅に低減することが
出来る工業的に有利な殺菌方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】高純度の純水が必要な分野、例えば、半
導体、液晶表示材料などの電子材料洗浄用水、医薬製造
用水、化粧品製造用水、食料・食品製造用水などでは、
電解質の除去に加え、細菌などの微生物の微量存在も厳
しく制限されている。すなわち、純水の製造には、一般
に、イオン交換樹脂を利用した純水製造装置が使用され
るが、イオン交換樹脂を充填した塔内において、微生物
やその胞子類の発生・増殖が原因で純水の純度が低下す
る。
導体、液晶表示材料などの電子材料洗浄用水、医薬製造
用水、化粧品製造用水、食料・食品製造用水などでは、
電解質の除去に加え、細菌などの微生物の微量存在も厳
しく制限されている。すなわち、純水の製造には、一般
に、イオン交換樹脂を利用した純水製造装置が使用され
るが、イオン交換樹脂を充填した塔内において、微生物
やその胞子類の発生・増殖が原因で純水の純度が低下す
る。
【０００３】純水製造工程で問題とされる微生物は、一
般的には、Ｂａｃｉｌｌｕｓ類、Ｍｉｃｒｏｂａｃｔｅ
ｒｉｕｍ類、Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ類、Ｆｌａｖｏｂ
ａｃｔｅｒｉｕｍ類などに属する微生物であり、土壌、
水、空気中から頻繁に検出される。そして、これらの、
微生物の至適生育温度は約７０℃、至適生育ｐＨは中性
付近である。
般的には、Ｂａｃｉｌｌｕｓ類、Ｍｉｃｒｏｂａｃｔｅ
ｒｉｕｍ類、Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ類、Ｆｌａｖｏｂ
ａｃｔｅｒｉｕｍ類などに属する微生物であり、土壌、
水、空気中から頻繁に検出される。そして、これらの、
微生物の至適生育温度は約７０℃、至適生育ｐＨは中性
付近である。
【０００４】純水製造装置における微生物の生育・増殖
を防止する方法としては、高温水を通液する加熱殺菌法
が知られている。ところが、従来の純水製造装置におい
ては、アニオン交換樹脂の耐熱性が十分ではないため、
加熱殺菌法の適用は問題がある。そこで、上記の問題を
回避するため、アニオン交換樹脂の交換基をＯＨ型から
Ｃｌ型に変換した後に８０℃以上の熱水を通液する方法
が提案されている。
を防止する方法としては、高温水を通液する加熱殺菌法
が知られている。ところが、従来の純水製造装置におい
ては、アニオン交換樹脂の耐熱性が十分ではないため、
加熱殺菌法の適用は問題がある。そこで、上記の問題を
回避するため、アニオン交換樹脂の交換基をＯＨ型から
Ｃｌ型に変換した後に８０℃以上の熱水を通液する方法
が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法による場合、アニオン交換樹脂の交換基を完全にＣ
ｌ型にする必要があり、しかも、殺菌後に交換基を完全
にＯＨ型に変換する再生操作を必要とする。更に、上記
の再生工程においては、再度、微生物の汚染を受ける恐
れもあり、従って、完全な殺菌処理のためには、短期間
のサイクルで熱水を通液する必要があり、操作が繁雑で
あると共に薬剤の使用量が過大となると言う問題があ
る。
方法による場合、アニオン交換樹脂の交換基を完全にＣ
ｌ型にする必要があり、しかも、殺菌後に交換基を完全
にＯＨ型に変換する再生操作を必要とする。更に、上記
の再生工程においては、再度、微生物の汚染を受ける恐
れもあり、従って、完全な殺菌処理のためには、短期間
のサイクルで熱水を通液する必要があり、操作が繁雑で
あると共に薬剤の使用量が過大となると言う問題があ
る。
【０００６】本発明は、上記実情に鑑みなされたもので
あり、その目的は、純水製造装置の殺菌方法であって、
操作が簡便であり、再生剤のランニングコストを大幅に
低減することが出来る工業的に有利な殺菌方法を提供す
ることにある。
あり、その目的は、純水製造装置の殺菌方法であって、
操作が簡便であり、再生剤のランニングコストを大幅に
低減することが出来る工業的に有利な殺菌方法を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の要旨
は、請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表される４級アン
モニウム塩基を有する構造単位および不飽和炭化水素基
含有架橋性モノマーから誘導される構造単位を含有する
強塩基性アニオン交換樹脂を充填して成るアニオン交換
塔を備えた純水製造装置において、上記の強塩基性アニ
オン交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態において、純水製
造装置の系内に殺菌・洗浄用の高温水を通液することを
特徴とする純水製造装置の殺菌方法に存する。
は、請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表される４級アン
モニウム塩基を有する構造単位および不飽和炭化水素基
含有架橋性モノマーから誘導される構造単位を含有する
強塩基性アニオン交換樹脂を充填して成るアニオン交換
塔を備えた純水製造装置において、上記の強塩基性アニ
オン交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態において、純水製
造装置の系内に殺菌・洗浄用の高温水を通液することを
特徴とする純水製造装置の殺菌方法に存する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づき
詳細に説明する。図１は、本発明の加熱殺菌方法を行う
ために例示された２床２塔式純水製造装置の概念説明図
であり、図中、（１）は原水貯槽、（２）はカチオン交
換樹脂塔、（３）はアニオン交換樹脂塔、（４）は純水
貯槽、（５）は加熱装置を表し、各々は、配管（７）〜
（１０）によって接続されている。
詳細に説明する。図１は、本発明の加熱殺菌方法を行う
ために例示された２床２塔式純水製造装置の概念説明図
であり、図中、（１）は原水貯槽、（２）はカチオン交
換樹脂塔、（３）はアニオン交換樹脂塔、（４）は純水
貯槽、（５）は加熱装置を表し、各々は、配管（７）〜
（１０）によって接続されている。
【０００９】カチオン交換樹脂塔（２）には、市販の強
酸性カチオン交換樹脂、例えば、三菱化学社製の商品
「ダイヤイオンＳＫ１Ｂ」、「ダイヤイオンＳＫ１１
０」、東京有機化学工業社製の商品「ＩＲ−１２０
Ｂ」、「ＩＲ−１２２」等が適宜選択されて充填され
る。
酸性カチオン交換樹脂、例えば、三菱化学社製の商品
「ダイヤイオンＳＫ１Ｂ」、「ダイヤイオンＳＫ１１
０」、東京有機化学工業社製の商品「ＩＲ−１２０
Ｂ」、「ＩＲ−１２２」等が適宜選択されて充填され
る。
【００１０】アニオン交換樹脂塔（３）には、請求項１
に記載の一般式（Ｉ）で表される４級アンモニウム塩基
を有する構造単位および不飽和炭化水素基含有架橋性モ
ノマーから誘導される構造単位を含有する強塩基性アニ
オン交換樹脂が充填される。
に記載の一般式（Ｉ）で表される４級アンモニウム塩基
を有する構造単位および不飽和炭化水素基含有架橋性モ
ノマーから誘導される構造単位を含有する強塩基性アニ
オン交換樹脂が充填される。
【００１１】一般式（Ｉ）において、Ａは炭素数３〜８
の直鎖状アルキレン基または炭素数４〜９のアルコキシ
メチレン基を表わすが、上記の直鎖状アルキレン基とし
ては、例えば、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン
基、ヘキシレン基などが挙げられ、上記のアルコキシメ
チレン基としては、ブトキシメチレン基、ペントキシメ
チレン基などが挙げられる。
の直鎖状アルキレン基または炭素数４〜９のアルコキシ
メチレン基を表わすが、上記の直鎖状アルキレン基とし
ては、例えば、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン
基、ヘキシレン基などが挙げられ、上記のアルコキシメ
チレン基としては、ブトキシメチレン基、ペントキシメ
チレン基などが挙げられる。
【００１２】一般式（Ｉ）において、Ｒ1 は水酸基で置
換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ2 及
びＲ3 は、炭素数１〜４のアルキル基を表すが、これら
のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピレ
ン基、ブチレン基などが挙げられる。
換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ2 及
びＲ3 は、炭素数１〜４のアルキル基を表すが、これら
のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピレ
ン基、ブチレン基などが挙げられる。
【００１３】一般式（Ｉ）において、Ｘ- はアンモニウ
ム基に配位した対イオンを表すが、その具体例として
は、Ｃｌ- ，Ｂｒ- ，Ｉ- 等のハロゲンイオン、硫酸イ
オン、ＮＯ3 - 、ＯＨ- 、ｐ−トルエンスルホン酸イオ
ン等のアニオンが挙げられる。そして、アニオンが硫酸
イオンの様に２価である場合は、一般式（Ｉ）で表され
る構造単位２分子に対してアニオン１分子が結合する。
また、ベンゼン環の置換基のアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基などが挙げられ、ハロゲン原子として
は、塩素、臭素、沃素などが挙げられる。
ム基に配位した対イオンを表すが、その具体例として
は、Ｃｌ- ，Ｂｒ- ，Ｉ- 等のハロゲンイオン、硫酸イ
オン、ＮＯ3 - 、ＯＨ- 、ｐ−トルエンスルホン酸イオ
ン等のアニオンが挙げられる。そして、アニオンが硫酸
イオンの様に２価である場合は、一般式（Ｉ）で表され
る構造単位２分子に対してアニオン１分子が結合する。
また、ベンゼン環の置換基のアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基などが挙げられ、ハロゲン原子として
は、塩素、臭素、沃素などが挙げられる。
【００１４】一般式（Ｉ）において、Ｒ2 及びＲ3 はメ
チル基が好ましく、更には、Ｒ1 がメチル基であるトリ
メチルアンモニウム塩基（Ｉ型強塩基性樹脂）又はＲ1
がヒドロキシエチル基であるジメチルヒドロキシエチル
アンモニウム塩基（II型強塩基性樹脂) が好ましい。
チル基が好ましく、更には、Ｒ1 がメチル基であるトリ
メチルアンモニウム塩基（Ｉ型強塩基性樹脂）又はＲ1
がヒドロキシエチル基であるジメチルヒドロキシエチル
アンモニウム塩基（II型強塩基性樹脂) が好ましい。
【００１５】不飽和炭化水素基含有架橋性モノマーとし
ては、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニ
ルトルエン、ジビニルナフタレン、ジビニルキシレン、
エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート等が挙げられる。これらの中ではジビニ
ルベンゼンが好ましい。
ては、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニ
ルトルエン、ジビニルナフタレン、ジビニルキシレン、
エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート等が挙げられる。これらの中ではジビニ
ルベンゼンが好ましい。
【００１６】本発明で使用する強塩基性アニオン交換樹
脂においては、全アニオン交換基に対する一般式（Ｉ）
で表される４級アンモニウム基の割合は９０％以上であ
ることが好ましく、全アニオン交換基の実質的全量が一
般式（Ｉ）で表される４級アンモニウム基であることが
特に好ましい。
脂においては、全アニオン交換基に対する一般式（Ｉ）
で表される４級アンモニウム基の割合は９０％以上であ
ることが好ましく、全アニオン交換基の実質的全量が一
般式（Ｉ）で表される４級アンモニウム基であることが
特に好ましい。
【００１７】本発明で使用する強塩基性アニオン交換樹
脂は、例えば、グリニヤール法によりクロルメチルスチ
レンに炭素数３〜８のポリメチレン基を有するポリアル
キレンジハライドを反応させて得たモノマー、または、
ビニルベンジルアルコールと１，ω−ジハロゲノアルカ
ンとの反応によって得られるアルコキシメチレン基を有
するモノマー（ω−ハロゲノメチルスチレン）と架橋剤
としてのジビニルベンゼンとの共重合によって製造する
ことが出来る。
脂は、例えば、グリニヤール法によりクロルメチルスチ
レンに炭素数３〜８のポリメチレン基を有するポリアル
キレンジハライドを反応させて得たモノマー、または、
ビニルベンジルアルコールと１，ω−ジハロゲノアルカ
ンとの反応によって得られるアルコキシメチレン基を有
するモノマー（ω−ハロゲノメチルスチレン）と架橋剤
としてのジビニルベンゼンとの共重合によって製造する
ことが出来る。
【００１８】本発明で使用する強塩基性アニオン交換樹
脂は、例えば、特開平４−３４９９４１号公報や特開平
７−２８９９２１号公報に記載されて公知である。しか
しながら、本発明の特徴は、後述する通り、上記の強塩
基性アニオン交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態におい
て、純水製造装置の系内に高温水を通液する点に存する
が、上記の各公報には、例えば８０℃以上の高温水に耐
え得るＯＨ型交換基の顕著な熱安定性については記載が
ない。
脂は、例えば、特開平４−３４９９４１号公報や特開平
７−２８９９２１号公報に記載されて公知である。しか
しながら、本発明の特徴は、後述する通り、上記の強塩
基性アニオン交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態におい
て、純水製造装置の系内に高温水を通液する点に存する
が、上記の各公報には、例えば８０℃以上の高温水に耐
え得るＯＨ型交換基の顕著な熱安定性については記載が
ない。
【００１９】原水貯槽（１）に収容された被処理水は、
予め、凝集や濾過などの公知の前処理によりコロイダル
物質などが除去されており、そして、カチオン交換樹脂
塔（２）及びアニオン交換樹脂塔（３）を順次に経由し
て脱塩され、純水として純水貯槽（４）に導入される。
予め、凝集や濾過などの公知の前処理によりコロイダル
物質などが除去されており、そして、カチオン交換樹脂
塔（２）及びアニオン交換樹脂塔（３）を順次に経由し
て脱塩され、純水として純水貯槽（４）に導入される。
【００２０】所定量の純水を製造した後、上記の各塔の
再生操作を行うが、斯かる再生操作は、公知の方法に従
い、通薬、水洗の順に行われる。すなわち、Ｎａ、Ｃａ
型などになっている強酸性カチオン交換樹脂の交換基
は、鉱酸との接触によりＨ型へ変換され、Ｃｌ、ＳＯ4
型などになっている強塩基性アニオン交換樹脂の交換基
は、アルカリとの接触によりＯＨ型へ変換される。
再生操作を行うが、斯かる再生操作は、公知の方法に従
い、通薬、水洗の順に行われる。すなわち、Ｎａ、Ｃａ
型などになっている強酸性カチオン交換樹脂の交換基
は、鉱酸との接触によりＨ型へ変換され、Ｃｌ、ＳＯ4
型などになっている強塩基性アニオン交換樹脂の交換基
は、アルカリとの接触によりＯＨ型へ変換される。
【００２１】本発明の殺菌方法は、上記の再生操作の後
に適用される。すなわち、上記の様な再生操作を行って
後、純水製造装置に被処理水を通液して純水を製造する
場合、純水製造装置の系内に残存している微生物が増殖
して処理水中に流出して純水の純度を低下させる恐れが
ある。そこで、本発明においては、被処理水の通液に先
立ち純水製造装置の系内に殺菌・洗浄用の高温水を通液
する。
に適用される。すなわち、上記の様な再生操作を行って
後、純水製造装置に被処理水を通液して純水を製造する
場合、純水製造装置の系内に残存している微生物が増殖
して処理水中に流出して純水の純度を低下させる恐れが
ある。そこで、本発明においては、被処理水の通液に先
立ち純水製造装置の系内に殺菌・洗浄用の高温水を通液
する。
【００２２】高温水の通液手段は、特に制限されない
が、図１に例示する様に、純水貯槽（４）に収容された
純水を加熱装置（５）に導入して加熱純水とした後、加
熱純水管（１０）を経由してカチオン交換樹脂塔（２）
及びアニオン交換樹脂塔（３）を順次通液させ、排出管
（１１）より排出させるのが好ましい。純水の使用に代
えて被処理水を使用することも出来るが、その場合は、
樹脂にかかる負荷により、純水の採取量が減少すること
を考慮する必要がある。
が、図１に例示する様に、純水貯槽（４）に収容された
純水を加熱装置（５）に導入して加熱純水とした後、加
熱純水管（１０）を経由してカチオン交換樹脂塔（２）
及びアニオン交換樹脂塔（３）を順次通液させ、排出管
（１１）より排出させるのが好ましい。純水の使用に代
えて被処理水を使用することも出来るが、その場合は、
樹脂にかかる負荷により、純水の採取量が減少すること
を考慮する必要がある。
【００２３】高温水の温度は、８０℃以上とされ、その
上限は特に制限されないが、８５〜９７．５℃の範囲が
好ましい。高温水の温度が８０℃未満の場合は、微生物
類の死滅効果が劣り十分な殺菌効果が発揮され難い。高
温水の通水時間（接触時間）は、通常３分以上、好まし
くは１５〜３０分の範囲から適宜選択される。本発明の
殺菌方法は、原則的には、純水製造装置の再生操作毎に
行われるが、微生物の発生状況によっては、数回の再生
操作毎に行っても、通水工程の途中に行ってもよい。な
お、本発明の殺菌方法が適用される純水製造装置は、図
１に例示した２床２塔式の他、混床式などが挙げられ
る。
上限は特に制限されないが、８５〜９７．５℃の範囲が
好ましい。高温水の温度が８０℃未満の場合は、微生物
類の死滅効果が劣り十分な殺菌効果が発揮され難い。高
温水の通水時間（接触時間）は、通常３分以上、好まし
くは１５〜３０分の範囲から適宜選択される。本発明の
殺菌方法は、原則的には、純水製造装置の再生操作毎に
行われるが、微生物の発生状況によっては、数回の再生
操作毎に行っても、通水工程の途中に行ってもよい。な
お、本発明の殺菌方法が適用される純水製造装置は、図
１に例示した２床２塔式の他、混床式などが挙げられ
る。
【００２４】本発明の殺菌方法は、前述の特定の強塩基
性アニオン交換樹脂を使用し、そして、強塩基性アニオ
ン交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態において、純水製造
装置の系内に殺菌・洗浄用の高温水を通液することを特
徴とする。すなわち、従来の強塩基性アニオン交換樹脂
を使用した純水製造装置においては、その交換基を敢え
てＯＨ型からＣｌ型に変換した後に高温水を通液する必
要があったが、本発明の殺菌方法においては、上記の様
な交換基変換工程を必要としない。その結果、本発明の
殺菌方法によれば、操作が簡便であり、再生剤のランニ
ングコストを大幅に低減することが出来、しかも、高温
水の通液により樹脂の洗浄効果が高められる結果として
処理水の純度の立ち上がりが早いと言う種々の利点が得
られる。
性アニオン交換樹脂を使用し、そして、強塩基性アニオ
ン交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態において、純水製造
装置の系内に殺菌・洗浄用の高温水を通液することを特
徴とする。すなわち、従来の強塩基性アニオン交換樹脂
を使用した純水製造装置においては、その交換基を敢え
てＯＨ型からＣｌ型に変換した後に高温水を通液する必
要があったが、本発明の殺菌方法においては、上記の様
な交換基変換工程を必要としない。その結果、本発明の
殺菌方法によれば、操作が簡便であり、再生剤のランニ
ングコストを大幅に低減することが出来、しかも、高温
水の通液により樹脂の洗浄効果が高められる結果として
処理水の純度の立ち上がりが早いと言う種々の利点が得
られる。
【００２５】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
【００２６】製造例１ ＜４−ブロモブチルスチレンの合成＞窒素置換したジエ
チルエーテル中、クロロメチルスチレン１００重量部と
金属マグネシウム１６．５重量部とを１０℃で３時間攪
拌し、マグネシウム複合体を得た。次いで、窒素置換テ
トラヒドロフランで溶媒置換した後、１５℃の条件下、
１，３−ジブロモプロパン４６３重量部およびＬｉ2 Ｃ
ｕＣｌ4 ４．４重量部を含むテトラヒドロフラン１４４
２重量部中にマグネシウム複合体を滴下し、１５℃で５
時間反応を行った。次いで、得られた反応液を０．３Ｔ
ｏｒｒ、１２０℃の条件下に蒸留し、４−ブロモブチル
スチレン５５重量部を得た。４−ブロモブチルスチレン
の同定は、「ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス
・ポリマー・ケミストリー・エディション，２０巻，１
９８２年，３０１５頁」に記載のＮＭＲ法によって行っ
た。
チルエーテル中、クロロメチルスチレン１００重量部と
金属マグネシウム１６．５重量部とを１０℃で３時間攪
拌し、マグネシウム複合体を得た。次いで、窒素置換テ
トラヒドロフランで溶媒置換した後、１５℃の条件下、
１，３−ジブロモプロパン４６３重量部およびＬｉ2 Ｃ
ｕＣｌ4 ４．４重量部を含むテトラヒドロフラン１４４
２重量部中にマグネシウム複合体を滴下し、１５℃で５
時間反応を行った。次いで、得られた反応液を０．３Ｔ
ｏｒｒ、１２０℃の条件下に蒸留し、４−ブロモブチル
スチレン５５重量部を得た。４−ブロモブチルスチレン
の同定は、「ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス
・ポリマー・ケミストリー・エディション，２０巻，１
９８２年，３０１５頁」に記載のＮＭＲ法によって行っ
た。
【００２７】＜４−ブロモブチルスチレン架橋共重合体
の合成＞上記の４−ブロモブチルスチレン９３．５重量
部と純度８０重量％のジビニルベンゼン（残部主成分は
エチルビニルベンゼン）６．５重量部に１．０重量部の
アゾビスイソブチロニトリルを加え、窒素雰囲気下、７
０℃で１８時間懸濁重合を行い、４−ブロモブチルスチ
レン架橋共重合体の粒状物を９０重量％の収率で得た。
の合成＞上記の４−ブロモブチルスチレン９３．５重量
部と純度８０重量％のジビニルベンゼン（残部主成分は
エチルビニルベンゼン）６．５重量部に１．０重量部の
アゾビスイソブチロニトリルを加え、窒素雰囲気下、７
０℃で１８時間懸濁重合を行い、４−ブロモブチルスチ
レン架橋共重合体の粒状物を９０重量％の収率で得た。
【００２８】＜強塩基性アニオン交換樹脂の合成＞上記
の４−ブロモブチルスチレン架橋共重合体１００重量部
をジオキサン３００重量部中に２時間攪拌懸濁させて膨
潤させた後、ブロム基に対して３モル当量相当の３０重
量％トリメチルアミン水溶液を滴下し、５０℃で１０時
間反応を続行し、強塩基性アニオン交換樹脂を得た。得
られた強塩基性アニオン交換樹脂を脱塩水で十分に洗浄
した後、その塩型をクロル型に変換した。この様にして
得られた強塩基性アニオン交換樹脂の一般性能を測定し
た結果、中性塩分解容量は１．２７ｍｅｑ／ｍｌ、３．
３３ｍｅｑ／ｇ、水分は４５．７重量％であった。
の４−ブロモブチルスチレン架橋共重合体１００重量部
をジオキサン３００重量部中に２時間攪拌懸濁させて膨
潤させた後、ブロム基に対して３モル当量相当の３０重
量％トリメチルアミン水溶液を滴下し、５０℃で１０時
間反応を続行し、強塩基性アニオン交換樹脂を得た。得
られた強塩基性アニオン交換樹脂を脱塩水で十分に洗浄
した後、その塩型をクロル型に変換した。この様にして
得られた強塩基性アニオン交換樹脂の一般性能を測定し
た結果、中性塩分解容量は１．２７ｍｅｑ／ｍｌ、３．
３３ｍｅｑ／ｇ、水分は４５．７重量％であった。
【００２９】実施例１ 内径２０ｍｍのガラスカラムに市販の強酸性カチオン交
換樹脂（三菱化学社製「ダイヤイオンＳＫ１Ｂ」）３０
０ｍｌを充填してカチオン交換塔とした。一方、内径２
５ｍｍのガラスカラムに上記の製造例で得られた強塩基
性アニオン交換樹脂５００ｍｌを充填してアニオン交換
塔とした。そして、上記の各塔を使用し、図１に示す様
な２床２塔式純水製造装置を構成した。本装置を使用
し、再生剤を通液する再生工程、高温水を通液する殺菌
工程、そして、被処理水として表１に示す水質の井水を
通液して純水を製造する通水工程を順次に行った。
換樹脂（三菱化学社製「ダイヤイオンＳＫ１Ｂ」）３０
０ｍｌを充填してカチオン交換塔とした。一方、内径２
５ｍｍのガラスカラムに上記の製造例で得られた強塩基
性アニオン交換樹脂５００ｍｌを充填してアニオン交換
塔とした。そして、上記の各塔を使用し、図１に示す様
な２床２塔式純水製造装置を構成した。本装置を使用
し、再生剤を通液する再生工程、高温水を通液する殺菌
工程、そして、被処理水として表１に示す水質の井水を
通液して純水を製造する通水工程を順次に行った。
【００３０】再生工程においては、次の再生条件を採用
した。すなわち、カチオン交換塔では２．５重量％のＨ
Ｃｌ水溶液を５０ｇ−ＨＣｌ／Ｌ−Ｒの割合で通液し、
アニオン交換塔では１．５重量％のＮａＯＨ水溶液を４
０ｇ−ＮａＯＨ／Ｌ−Ｒの割合で通液した。また、再生
剤を上向流、被処理水を下向流とする向流再生方法を採
用した。殺菌工程においては、９５℃に加熱した純水を
１０Ｌ／ｈの流速で２０分間通液した。通水工程におい
ては、１５０Ｌの被処理水を１０Ｌ／ｈの流速で定体積
通液した。上記の各工程を１サイクルとして繰り返し行
った結果、１１サイクル目の処理水の水質を調査した。
その結果を表１に示す。
した。すなわち、カチオン交換塔では２．５重量％のＨ
Ｃｌ水溶液を５０ｇ−ＨＣｌ／Ｌ−Ｒの割合で通液し、
アニオン交換塔では１．５重量％のＮａＯＨ水溶液を４
０ｇ−ＮａＯＨ／Ｌ−Ｒの割合で通液した。また、再生
剤を上向流、被処理水を下向流とする向流再生方法を採
用した。殺菌工程においては、９５℃に加熱した純水を
１０Ｌ／ｈの流速で２０分間通液した。通水工程におい
ては、１５０Ｌの被処理水を１０Ｌ／ｈの流速で定体積
通液した。上記の各工程を１サイクルとして繰り返し行
った結果、１１サイクル目の処理水の水質を調査した。
その結果を表１に示す。
【００３１】比較例１ 実施例１において、殺菌工程を省略し、再生工程と通水
工程を１サイクルとして繰り返し行った以外は、実施例
１と同様に操作し、１１サイクル目の処理水の水質を調
査した。その結果を表１に示す。
工程を１サイクルとして繰り返し行った以外は、実施例
１と同様に操作し、１１サイクル目の処理水の水質を調
査した。その結果を表１に示す。
【００３２】比較例２ 内径２０ｍｍのガラスカラムに市販の強酸性カチオン交
換樹脂（三菱化学社製「ダイヤイオンＳＫ１Ｂ」）３０
０ｍｌを充填してカチオン交換塔とした。一方、内径２
５ｍｍのガラスカラムに市販の強塩基性アニオン交換樹
脂（三菱化学社製「ダイヤイオンＳＡ１０Ａ」）５００
ｍｌを充填してアニオン交換塔とした。そして、上記の
各塔を使用し、図１に示す様な２床２塔式純水製造装置
を構成した。本装置を使用し、再生工程、通水工程、交
換基変換工程、殺菌工程を順次に行った。
換樹脂（三菱化学社製「ダイヤイオンＳＫ１Ｂ」）３０
０ｍｌを充填してカチオン交換塔とした。一方、内径２
５ｍｍのガラスカラムに市販の強塩基性アニオン交換樹
脂（三菱化学社製「ダイヤイオンＳＡ１０Ａ」）５００
ｍｌを充填してアニオン交換塔とした。そして、上記の
各塔を使用し、図１に示す様な２床２塔式純水製造装置
を構成した。本装置を使用し、再生工程、通水工程、交
換基変換工程、殺菌工程を順次に行った。
【００３３】上記の交換基変換工程においては、１０重
量％のＮａＣｌ水溶液５００ｍｌをアニオン交換塔に通
液した後、純水による水洗を行い、強塩基性アニオン交
換樹脂の交換基の全てをＣｌ型に変換した。また、上記
の再生工程における強塩基性アニオン交換樹脂の再生に
は、１．５重量％のＮａＯＨ水溶液を８０ｇ−ＮａＯＨ
／Ｌ−Ｒの割合で通液した。その他の工程の操作条件お
よび被処理水は実施例１と同一とした。上記の各工程を
１サイクルとして繰り返し行った結果、１１サイクル目
の処理水の水質を調査した。その結果を表１に示す。
量％のＮａＣｌ水溶液５００ｍｌをアニオン交換塔に通
液した後、純水による水洗を行い、強塩基性アニオン交
換樹脂の交換基の全てをＣｌ型に変換した。また、上記
の再生工程における強塩基性アニオン交換樹脂の再生に
は、１．５重量％のＮａＯＨ水溶液を８０ｇ−ＮａＯＨ
／Ｌ−Ｒの割合で通液した。その他の工程の操作条件お
よび被処理水は実施例１と同一とした。上記の各工程を
１サイクルとして繰り返し行った結果、１１サイクル目
の処理水の水質を調査した。その結果を表１に示す。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【発明の効果】以上説明した本発明の殺菌方法は、特定
の強塩基性アニオン交換樹脂を使用したことにより、そ
の交換基をＣｌ型に変換せずに高温水を通液する加熱殺
菌を行うことが出来、従って、操作が簡便であり、再生
剤のランニングコストを大幅に低減することが出来る。
の強塩基性アニオン交換樹脂を使用したことにより、そ
の交換基をＣｌ型に変換せずに高温水を通液する加熱殺
菌を行うことが出来、従って、操作が簡便であり、再生
剤のランニングコストを大幅に低減することが出来る。
【図１】本発明の加熱殺菌方法を行うために例示された
２床２塔式純水製造装置の概念説明図である。
２床２塔式純水製造装置の概念説明図である。
１：原水貯槽 ２：カチオン交換樹脂塔 ３：アニオン交換樹脂塔 ４：純水貯槽 ５：加熱装置 ７〜１１：配管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保田 裕久 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される４級アンモ
ニウム塩基を有する構造単位および不飽和炭化水素基含
有架橋性モノマーから誘導される構造単位を含有する強
塩基性アニオン交換樹脂を充填して成るアニオン交換塔
を備えた純水製造装置において、上記の強塩基性アニオ
ン交換樹脂の交換基がＯＨ型の状態において、純水製造
装置の系内に殺菌・洗浄用の高温水を通液することを特
徴とする純水製造装置の殺菌方法。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、Ａは炭素数３〜８の直鎖状アルキレ
ン基または炭素数４〜９のアルコキシメチレン基を表わ
し、Ｒ1 は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜４
のアルキル基、Ｒ2 及びＲ3 は炭素数１〜４の炭化水素
基、Ｘ- はアンモニウム基に配位した対イオンを表し、
また、ベンゼン環はアルキル基またはハロゲン原子で置
換されていてもよい。） - 【請求項２】 全アニオン交換基に対する一般式（Ｉ）
で表される４級アンモニウム基の割合が９０％以上であ
る強塩基性アニオン交換樹脂を使用する請求項１に記載
の殺菌方法。 - 【請求項３】 殺菌・洗浄用の高温水の温度が８０℃以
上である請求項１又は２に記載の殺菌方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8318660A JPH10137750A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 純水製造装置の殺菌方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8318660A JPH10137750A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 純水製造装置の殺菌方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10137750A true JPH10137750A (ja) | 1998-05-26 |
Family
ID=18101621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8318660A Pending JPH10137750A (ja) | 1996-11-14 | 1996-11-14 | 純水製造装置の殺菌方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10137750A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004283710A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2008231082A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Dr Aqua Co Ltd | 化粧品 |
| JP2016117001A (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-30 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
-
1996
- 1996-11-14 JP JP8318660A patent/JPH10137750A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004283710A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2008231082A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Dr Aqua Co Ltd | 化粧品 |
| JP2016117001A (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-30 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| US10526226B2 (en) | 2014-12-19 | 2020-01-07 | Kurita Water Industries Ltd. | Ultrapure water production apparatus and ultrapure water production method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5518627A (en) | Method for treating water or an aqueous solution | |
| US4263407A (en) | Polymeric adsorbents from macroreticular polymer beads | |
| US20020028887A1 (en) | Crosslinked polymer, method for manufacturing it and use thereof | |
| US2275210A (en) | Process for liquid purification | |
| CN108499525B (zh) | 一种纯化过氧化氢溶液的吸附剂的制备方法及过氧化氢的提纯方法 | |
| EP0007792B1 (en) | Synthetic polymeric adsorbents and ion exchange resins, their production and processes using them | |
| CN209113672U (zh) | 一种带有紫外线消毒器的纯化水装置 | |
| US8211950B2 (en) | Amphoteric ion exchangers | |
| JPH10137750A (ja) | 純水製造装置の殺菌方法 | |
| JP2007237057A (ja) | 水溶液の精製方法 | |
| JP3248205B2 (ja) | 超純水製造用イオン交換樹脂、その製造法、及びこれを用いる超純水の製造法 | |
| JPH07289923A (ja) | 発電設備における熱水処理用アニオン交換体 | |
| JP2000239226A (ja) | ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの製法 | |
| JP3982166B2 (ja) | 陰イオン交換樹脂 | |
| CN109437377B (zh) | 一种污水处理絮凝剂的制备方法 | |
| JP3173049B2 (ja) | 超純水製造用陰イオン交換樹脂及びそれを用いた超純水製造方法 | |
| JP3786475B2 (ja) | 極性有機溶剤の精製方法および不凍液含有冷却液の再生装置 | |
| JPH10225644A (ja) | 強塩基性アニオン交換樹脂の回生方法 | |
| JP5101841B2 (ja) | 高分子多孔質体の製造方法 | |
| JP3791709B2 (ja) | 耐酸化性アニオン交換樹脂および酸化性水溶液の精製方法 | |
| JP2001038202A (ja) | ガス吸着剤 | |
| JPH07289924A (ja) | シリカ除去用樹脂 | |
| JP3147943B2 (ja) | 糖液精製用架橋アニオン交換体 | |
| JP3147942B2 (ja) | 製薬・化粧品用水製造用架橋アニオン交換体 | |
| CN114570337B (zh) | 一种高水蒸气吸附聚离子液体吸附剂及合成方法和应用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040721 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051122 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060315 |