JPH10132754A - Device for inspecting appearance of lead frame - Google Patents

Device for inspecting appearance of lead frame

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JPH10132754A
JPH10132754A JP30552996A JP30552996A JPH10132754A JP H10132754 A JPH10132754 A JP H10132754A JP 30552996 A JP30552996 A JP 30552996A JP 30552996 A JP30552996 A JP 30552996A JP H10132754 A JPH10132754 A JP H10132754A
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JP
Japan
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sample
linear
image signal
linear area
lead frame
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP30552996A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Nakanishi
稔 中西
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspecting device with superior sensitivity in detecting defects which inspects the plating of a lead frame for its appearance defects. SOLUTION: This device comprises a transferring means 140 for samples to transfer samples at a constant speed in one direction, a linear area photographing means 110 to photograph the linear area of a sample surface in a predetermined location orthogonal to the direction of the transfer of samples, a linear illuminating means 130 to illuminate the linear area of the sample surface diagonally at such an angle that the specular reflection light of illumination does not directly enter the linear area photographing means 110. and image processing means 150 to extract the defect part of the sample through the use of the photographed image signal data obtained by photographing the linear area of the sample by the linear area photographing means 110. The image processing means 150 performs comparison processing for comparing the image signal of a sample at every location corresponding to each pixel of the linear area photographing means 110, on the basis of the photographed image signal data obtained by the linear area photographing means 110 with a predetermined set slice level, detects the sections of signals where the level of image signal at every location is out of a predetermined range, and judges the detected sections only within a range set in advance as defect parts.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,線状領域撮影手段
を用いて、リードフレームのめっき外観不良を検査する
装置に関する。特に、めっき領域以外へのめっき漏れを
検出できる検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for inspecting lead frame plating appearance defects using a linear area photographing means. In particular, the present invention relates to an inspection device that can detect plating leakage to a region other than a plating region.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、試料を撮影した画像データを
画像処理することにより、リードフレームのめっき外観
不良を検査する一般的な方法としては、リードフレーム
素材面とめっき面からの反射光の強度に差があることを
利用し、図8に示すような検査装置800を用いた方法
が知られている。図8に示す検査装置800を用いた方
法は、試料820の表面を照明手段830により照明光
831を照明し、試料面からの正反射光835を撮影手
段810により撮影し、得られた画像信号データに基づ
いて、画像処理手段850により演算処理等を行い、欠
陥部を検出するものである。尚、図8中、870は結果
等を表示するための表示部で、860は全体を制御する
ための制御部である。しかし、この方法では、リードフ
レーム素材面からの反射光とめっき面からの反射光との
強度の差が小さく、識別できる欠陥サイズが限定され
る。この為、半導体装置の高密度化、高機能化に伴う、
リードフレームのインナーリードピッチの微細化やリー
ドフレームの量産化に対応できず、問題となっていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a general method for inspecting a plating appearance defect of a lead frame by performing image processing on image data obtained by photographing a sample includes the intensity of light reflected from a lead frame material surface and a plating surface. There is known a method using an inspection device 800 as shown in FIG. In the method using the inspection apparatus 800 shown in FIG. 8, the surface of the sample 820 is illuminated with illumination light 831 by the illumination means 830, the regular reflection light 835 from the sample surface is captured by the imaging means 810, and the obtained image signal is obtained. Based on the data, the image processing means 850 performs arithmetic processing and the like, and detects a defective portion. In FIG. 8, reference numeral 870 denotes a display unit for displaying a result or the like, and 860 denotes a control unit for controlling the whole. However, according to this method, the difference in intensity between the reflected light from the lead frame material surface and the reflected light from the plated surface is small, and the defect size that can be identified is limited. For this reason, with the increase in density and functionality of semiconductor devices,
This has been a problem because it has not been possible to cope with miniaturization of the inner lead pitch of the lead frame or mass production of the lead frame.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このように、リードピ
ッチの微細化やリードフレームの量産化に対応するた
め、リードフレームのめっき外観不良を検査する検査装
置であって、図8に示す検査装置800よりもより欠陥
検出感度が優れた検査装置が求められていた。本発明
は、これに対応するもので、リードフレームのめっき外
観不良を検査する外観検査装置であって、欠陥検出感度
が優れた検査装置を提供しようとするものである。
As described above, in order to cope with the miniaturization of the lead pitch and the mass production of the lead frame, an inspection apparatus for inspecting the plating appearance defect of the lead frame is shown in FIG. There has been a demand for an inspection apparatus having a higher defect detection sensitivity than 800. The present invention is directed to provide a visual inspection apparatus for inspecting a plating frame for defective appearance of a lead frame, which has excellent defect detection sensitivity.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明のリードフレーム
の外観検査装置は、ほぼ一定の速度で一方向へ移動する
試料の線状領域を撮影することにより得られた画像デー
タを用いて、リードフレームのめっき不良を検出する外
観検査装置であって、試料をほぼ一定の速度で一方向へ
移動する試料の搬送手段と、試料の搬送方向と直交する
所定位置における試料表面の線状領域を撮影する線状領
域撮影手段と、照明の正反射光が線状領域撮影手段に直
接入射しないような角度で試料表面の前記線状領域を斜
めから照明する線状照明手段と、線状領域撮影手段によ
り試料の線状領域を撮影して得られた撮影画像信号デー
タを用いて、試料の欠陥部を抽出する画像処理手段とを
備えたもので、画像処理手段は、線状領域撮影手段によ
り得られた撮影画像信号データに基づいた、線状領域撮
影手段の各画素に対応した試料の各位置毎の画像信号を
設定した所定のスライスレベルと比較する比較処理を施
して、該各位置の画像信号のレベルが所定範囲外の信号
の箇所を検出し、検出された箇所であらかじめ設定した
領域内のもののみを欠陥部と判断するものであることを
特徴とするものである。そして、上記における線状領域
撮影手段のレンズ系の光軸が試料面に対してほぼ直交す
る方向であることを特徴とするものであり、また、上記
において、線状領域撮影手段のレンズ系の光軸と試料面
のなす角度を可変にし、線状照明手段により試料の側面
部ないしエッジ部が照明された場合の、試料の側面部な
いしエッジ部からの散乱した反射光(散乱光)が線状領
域撮影手段へ入射する入射信号レベルが、設定レベルよ
り大きくならないように、線状領域撮影手段のレンズ系
の光軸を、試料面と直交する方向から、線状照明手段の
照明光側とは反対側の方向へ傾けたものであることを特
徴とするものである。そして、上記における比較処理
が、試料の各位置毎の画像信号を所定のスライスレベル
で2値化する二値化処理であることを特徴とするもので
ある。そしてまた、上記における各位置毎の画像信号
が、撮影画像信号データであることを特徴とするもので
ある。また、上記における各位置毎の画像信号は、撮影
画像信号データに基づいて、微分演算処理等のフィルタ
ー処理を施す強調処理が施されたものであることを特徴
とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A lead frame appearance inspection apparatus according to the present invention uses a lead frame using image data obtained by photographing a linear region of a sample moving in one direction at a substantially constant speed. Appearance inspection device that detects defective plating of the frame. It is a means for transporting the sample in one direction at a substantially constant speed, and captures a linear area on the sample surface at a predetermined position orthogonal to the direction in which the sample is transported. Linear area photographing means, linearly illuminating means for obliquely illuminating the linear area on the sample surface at an angle such that specular reflected light does not directly enter the linear area photographing means, and linear area photographing means And image processing means for extracting a defective portion of the sample using photographed image signal data obtained by photographing a linear region of the sample by the image processing device. Photo taken Based on the signal data, a comparison process is performed to compare the image signal at each position of the sample corresponding to each pixel of the linear region imaging means with a set predetermined slice level, and the level of the image signal at each position is reduced. It is characterized in that a portion of the signal outside the predetermined range is detected, and only a detected portion within a predetermined region is determined as a defective portion. In the above, the optical axis of the lens system of the linear region photographing means is in a direction substantially orthogonal to the sample surface. When the angle between the optical axis and the sample surface is made variable and the side or edge of the sample is illuminated by the linear illumination means, the reflected light (scattered light) scattered from the side or edge of the sample is a line. The optical axis of the lens system of the linear area photographing means is set to be closer to the illumination light side of the linear illuminating means from a direction perpendicular to the sample surface so that the incident signal level incident on the linear area photographing means does not become larger than the set level. Is characterized by being inclined in the opposite direction. The comparison process is a binarization process for binarizing an image signal at each position of the sample at a predetermined slice level. Further, the image signal for each position in the above is photographed image signal data. Further, the image signal for each position described above is characterized in that it has been subjected to an enhancement process of performing a filter process such as a differential operation process based on the photographed image signal data.

【0005】尚、正反射光とは、試料への入射光と試料
からの反射光とが、試料面に垂直な面に対し、互いに同
じ角度で反対側である反射光を意味している。また、線
状領域撮影手段により撮影されて、直接得られた画像信
号データを撮影画像信号データと言い、撮影画像信号デ
ータないし撮影画像信号データに演算処理を施してえら
れた画像データを画像信号ないし画像信号データと言っ
ている。
The term "specularly reflected light" means reflected light in which light incident on a sample and light reflected from the sample are opposite to each other at the same angle with respect to a plane perpendicular to the sample surface. Also, image signal data directly obtained by shooting by the linear region shooting means is referred to as shot image signal data, and image data obtained by performing arithmetic processing on the shot image signal data or the shot image signal data is referred to as an image signal. Or image signal data.

【0006】[0006]

【作用】本発明のリードフレームの外観検査装置は、上
記のように構成することにより、リードフレームのめっ
き外観不良を検査する装置であって、欠陥検出感度が優
れた検査装置の提供を可能とするものである。具体的に
は、試料をほぼ一定の速度で一方向へ移動する試料の搬
送手段と、試料の搬送方向と直交する所定位置における
試料表面の線状領域を撮影する線状領域撮影手段と、照
明の正反射光が線状領域撮影手段に直接入射しないよう
な角度で試料表面の前記線状領域を斜めから照明する線
状照明手段と、線状領域撮影手段により試料の線状領域
を撮影して得られた撮影画像信号データを用いて、試料
の欠陥部を抽出する画像処理手段とを備えたもので、画
像処理手段は、線状領域撮影手段により得られた撮影画
像信号データに基づいた、線状領域撮影手段の各画素に
対応した試料の各位置毎の画像信号を設定した所定のス
ライスレベルと比較する比較処理を施して、該各位置の
画像信号のレベルが所定範囲外の信号の箇所を検出し、
検出された箇所であらかじめ設定した領域内のもののみ
を欠陥部と判断するものであることによりこれを達成し
ている。即ち、線状領域撮影手段による試料の撮影を、
図8に示す装置800による従来の検査方法のように正
反射光を用いず、線状照明手段を暗視野照明としてお
り、欠陥検出感度を優れたものとしている。
According to the lead frame appearance inspection apparatus of the present invention configured as described above, it is possible to provide an inspection apparatus for inspecting a lead frame plating appearance defect, which is excellent in defect detection sensitivity. Is what you do. More specifically, a sample transport unit that moves the sample in one direction at a substantially constant speed, a linear region imaging unit that captures a linear region on the sample surface at a predetermined position orthogonal to the sample transport direction, and illumination. Linear illumination means for obliquely illuminating the linear area on the sample surface at an angle such that the specularly reflected light does not directly enter the linear area imaging means, and the linear area of the sample is imaged by the linear area imaging means. And image processing means for extracting a defective portion of the sample using the captured image signal data obtained by the above, wherein the image processing means is based on the captured image signal data obtained by the linear region imaging means. And performing a comparison process of comparing an image signal at each position of the sample corresponding to each pixel of the linear region imaging means with a set predetermined slice level, so that the level of the image signal at each position is out of a predetermined range. Is detected,
This is achieved by judging only a portion within a preset area at the detected location as a defective portion. That is, imaging of the sample by the linear area imaging means
Unlike the conventional inspection method using the apparatus 800 shown in FIG. 8, the linear illumination means is dark field illumination without using regular reflection light, and the defect detection sensitivity is excellent.

【0007】更に具体的には、線状領域撮影手段のレン
ズ系の光軸が試料面に対してほぼ直交する方向とするこ
とにより、リードフレームの側面部ないしエッジ部から
の散乱した反射光(散乱光とも言う)の影響がない場
合、例えば、リードフレームをプレス等により作製した
場合には、各種形状の欠陥に対応でき、欠陥検出率の高
いものとしている。また、線状領域撮影手段のレンズ系
の光軸と試料面のなす角度を可変にし、線状照明手段に
より試料の側面部ないしエッジ部が照明された場合の、
試料の側面部ないしエッジ部からの散乱した反射光(散
乱光)が線状領域撮影手段へ入射する入射信号レベル
が、設定レベルより大きくならないように、線状領域撮
影手段のレンズ系の光軸を、試料面と直交する方向か
ら、線状照明手段の照明光側とは反対側の方向へ傾けた
ものであることにより、リードフレームの側面部ないし
エッジ部からの散乱した反射光の影響がある場合、例え
ば、エッチング等により作製され側面にテーパを持つリ
ードフレームの場合に、欠陥検出感度を高いものとして
いる。
More specifically, by setting the optical axis of the lens system of the linear area photographing means in a direction substantially perpendicular to the sample surface, the scattered reflected light (from the side or edge of the lead frame) is obtained. In the case where there is no influence of scattered light, for example, when a lead frame is manufactured by pressing or the like, it is possible to cope with defects of various shapes and to have a high defect detection rate. Further, the angle between the optical axis of the lens system of the linear region imaging means and the sample surface is variable, and when the side surface or the edge of the sample is illuminated by the linear illumination means,
The optical axis of the lens system of the linear area photographing means so that the level of the incident signal at which the reflected light (scattered light) scattered from the side or edge of the sample enters the linear area photographing means does not become larger than the set level. Is tilted from the direction perpendicular to the sample surface to the direction opposite to the illumination light side of the linear illumination means, so that the influence of the reflected light scattered from the side or edge of the lead frame is reduced. In some cases, for example, in the case of a lead frame manufactured by etching or the like and having a tapered side surface, the defect detection sensitivity is increased.

【0008】そして、比較処理が、試料の各位置毎の画
像信号を所定のスライスレベルで2値化する二値化処理
であることにより、また、各位置毎の画像信号が、撮影
画像信号データであることにより、画像処理全体を、即
ち画像処理部の構成を簡単なものとしている。
Since the comparison process is a binarization process for binarizing an image signal at each position of the sample at a predetermined slice level, the image signal at each position is converted into a photographed image signal data. Accordingly, the entire image processing, that is, the configuration of the image processing unit is simplified.

【0009】また、各位置毎の画像信号は、撮影画像信
号データに基づいて、微分演算処理等のフィルター処理
を施す強調処理が施されたものであることにより、比較
処理における検出感度を上げ、より微細な欠陥の検出も
可能としている。
Further, since the image signal at each position is subjected to an enhancement process for performing a filter process such as a differential operation process based on the photographed image signal data, the detection sensitivity in the comparison process is increased, It is also possible to detect finer defects.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明のリードフレームの外観検
査装置を図を用いて説明する。先ず、実施の形態の第1
の例を挙げる。図1(a)は、本発明のリードフレーム
の外観検査装置の実施の形態の第1の例の構成を簡略的
に示した平面図で、図1(b)は要部の斜視図である。
図1中、100はリードフレームの外観検査装置、11
0は線状領域撮影手段、光軸111、120はリードフ
レーム(試料)、125は線状領域、130は線状照明
手段、131は照明光、135は正反射光、140は搬
送手段、150は画像処理手段、160は制御部、17
0は表示部である。第1の例は、ほぼ一定の速度で一方
向へ移動する試料(リードフレーム)120の線状領域
125を、線状領域撮影手段110にて撮影することに
より得られた画像信号データを用いて、試料120の外
観検査を行うリードフレームのめっき不良を検出する検
査装置であり、試料(リードフレーム)120の表面
を、線状照明手段130による暗視野照明して、線状領
域撮影手段110にて撮影し、得られた画像信号データ
を基に、画像処理手段により処理を施し欠陥部を抽出す
るものである。そして、第1の例は、試料(リードフレ
ーム)の側面ないしエッジにおける散乱光の信号レベル
が、画像処理手段150において欠陥検出するためのス
ライスレベルに比べ無視できる程度に小さい場合のもの
で、線状領域撮影手段110のレンズ系の光軸111
を、線状照明手段130からの照明光131の方向と正
反射光135の方向との中間の位置、即ち、試料(リー
ドフレーム)120の表面に直交する方向にし、各種形
状の欠陥に対応できるものとしている。このように、暗
視野照明による撮影のため、従来の図8に示す装置80
0を用いた検査方法よりも、検出感度が上がり、より小
さい欠陥も検出できるものとしている。尚、この光軸1
11と試料(リードフレーム)120の表面とのなす角
度は厳密に90度とする必要はないが、各種形状の欠陥
に対応するためには、±15度の角度範囲が好ましい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A lead frame appearance inspection apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. First, the first embodiment
An example is given below. FIG. 1A is a plan view schematically showing a configuration of a first example of an embodiment of a lead frame appearance inspection apparatus according to the present invention, and FIG. 1B is a perspective view of a main part. .
In FIG. 1, reference numeral 100 denotes a lead frame appearance inspection apparatus;
0 is a linear area photographing means, optical axes 111 and 120 are lead frames (samples), 125 is a linear area, 130 is a linear illuminating means, 131 is illuminating light, 135 is specular reflected light, 140 is a conveying means, 150 Is an image processing means, 160 is a control unit, 17
0 is a display unit. The first example uses image signal data obtained by photographing a linear region 125 of a sample (lead frame) 120 moving in one direction at a substantially constant speed by the linear region photographing means 110. And an inspection device for detecting a plating defect of a lead frame for inspecting the appearance of the sample 120. The surface of the sample (lead frame) 120 is dark-field illuminated by the linear illuminating means 130 so that the linear area photographing means 110 Then, based on the obtained image signal data, processing is performed by an image processing means to extract a defective portion. The first example is a case where the signal level of the scattered light on the side surface or the edge of the sample (lead frame) is negligibly smaller than the slice level for detecting a defect in the image processing means 150. Optical axis 111 of the lens system of the lens-shaped area photographing means 110
Is set to an intermediate position between the direction of the illumination light 131 from the linear illumination means 130 and the direction of the specular reflection light 135, that is, a direction orthogonal to the surface of the sample (lead frame) 120, so that defects of various shapes can be dealt with. It is assumed. As described above, the conventional device 80 shown in FIG.
It is assumed that the detection sensitivity is higher than that of the inspection method using 0, and smaller defects can be detected. In addition, this optical axis 1
The angle between 11 and the surface of the sample (lead frame) 120 need not be strictly 90 degrees, but an angle range of ± 15 degrees is preferable in order to cope with defects of various shapes.

【0011】第1の例は、図1に示すように、少なくと
も、試料120をほぼ一定の速度で一方向へ移動する試
料の搬送手段140と、試料の搬送方向と直交する所定
位置における試料表面の線状領域125を撮影する線状
領域撮影手段110と、照明の正反射光が線状領域撮影
手段に直接入射しないような角度で試料表面の前記線状
領域125を斜めから照明する線状照明手段130と、
線状領域撮影手段により試料の線状領域を撮影して得ら
れた撮影画像信号データを用いて、試料の欠陥部を抽出
する画像処理手段150とを備えたものである。尚、図
1に示す、制御部160は、各手段それぞれの動作を関
連付けて制御するためのもので、表示部170は検査結
果等を目視にて分かるようにするためのものである。
In a first example, as shown in FIG. 1, at least a sample transfer means 140 for moving a sample 120 in one direction at a substantially constant speed, and a sample surface at a predetermined position orthogonal to the sample transfer direction. A linear region photographing means 110 for photographing the linear region 125, and a linear shape for illuminating the linear region 125 on the sample surface obliquely at an angle such that specular reflected light does not directly enter the linear region photographing means. Lighting means 130;
An image processing means 150 for extracting a defective portion of the sample by using photographed image signal data obtained by photographing a linear region of the sample by the linear region photographing means. The control unit 160 shown in FIG. 1 is for controlling the operation of each unit in association with each other, and the display unit 170 is for visually checking the inspection result and the like.

【0012】次に、画像処理手段150による欠陥箇所
の抽出を以下簡単に説明する。図3は、試料120の検
査領域と、線状領域撮影手段110の各画素の画像信号
データとの関係等を説明するための図である。第1の例
では、試料120をほぼ一定の速度で移動させながら、
試料120の線状領域125を線状領域撮影手段110
にて、所定の時間おきに複数回撮影することにより、試
料120全体の画像信号データを得るものであり、試料
120の検査領域に対応して、例えば、図3に示すよう
な、試料の検査領域全体に対応する画像信号データ群が
得られる。図3では、試料120の検査領域全体は、k
回の撮影にて撮影されるもので、試料120の検査領域
は、画素D11〜Dknのn×k個の画素で表される。
尚、Dijはi番目の撮影による、線状領域撮影手段1
10のj番目の画素の画像信号データを意味する。ま
た、試料における各画素の位置(X、Y)は、線状領域
撮影手段110の画素の位置および何回目の撮影である
かで、その位置を特定することができる。そして、この
各画像信号データDijを所定のスライスレベルで比較
し、所定範囲外のものを欠陥候補として検出する。例え
ば、単に、各画像信号データDijに対し、所定のスラ
イスレベルより信号レベルが大きいものを1、それ以外
のものを0と2値化し、1のものに対応する箇所を欠陥
位置の候補として特定する。
Next, extraction of a defective portion by the image processing means 150 will be briefly described below. FIG. 3 is a diagram for explaining the relationship between the inspection area of the sample 120 and the image signal data of each pixel of the linear area imaging means 110, and the like. In the first example, while moving the sample 120 at a substantially constant speed,
The linear region 125 of the sample 120 is captured by the linear region photographing unit 110.
The image signal data of the entire sample 120 is obtained by taking a plurality of images at predetermined time intervals, and, for example, as shown in FIG. An image signal data group corresponding to the entire area is obtained. In FIG. 3, the entire inspection area of the sample 120 is k
The inspection area of the sample 120 is represented by n × k pixels D11 to Dkn.
Note that Dij is a linear area photographing means 1 by the i-th photographing.
It means image signal data of the tenth j-th pixel. Further, the position (X, Y) of each pixel on the sample can be specified by the position of the pixel of the linear region imaging unit 110 and the number of times of imaging. Then, each of the image signal data Dij is compared at a predetermined slice level, and those out of a predetermined range are detected as defect candidates. For example, with respect to each image signal data Dij, one having a signal level higher than a predetermined slice level is binarized to 1 and the other signal levels are binarized to 0, and a portion corresponding to 1 is specified as a defect position candidate. I do.

【0013】そして、欠陥位置の候補とされた箇所が、
検査領域の、本来めっきされるべきでない領域にある場
合のみ、めっき漏れ等により余分にめっきが施されため
っき不良箇所と判断するものである。例えば、図4
(a)は、インナーリード412の先端とタブ吊りリー
ド411Aの一部と連結部417のみ銀めっきを施すべ
き領域としたリードフレームの部分拡大部であるが、こ
れを線状領域撮影手段110にて撮影し、得られる試料
の検査領域に対応する前記各画像信号データを2値化
し、2値化され1となった部分を白部、0となった部分
を黒部として、その画像信号データ群に対応する画像を
表すと、通常、インナーリード412のピッチよりも粗
い解像度で撮影しているため、図4(b)のようにな
る。図4(a)めっき漏れによるめっき付着部490
は、本来めっきされるべき領域ではないので、図4
(b)の490Aとして欠陥表示される。同時に、めっ
き付着部490は欠陥部として、自動判定される。即
ち、図1に示す表示部170ではこのよう画像に表示す
ることができ、欠陥の自動判定とともに、目視にて、欠
陥の有無と位置が確認することができる。
[0013] Then, the location which is a candidate for the defect position is
Only when the inspection area is in an area that should not be plated, it is determined that the plating is excessively plated due to leakage or the like. For example, FIG.
(A) is a partially enlarged portion of the lead frame in which only the tip of the inner lead 412, a part of the tab suspension lead 411A, and the connecting portion 417 are to be silver-plated. Each of the image signal data corresponding to the inspection region of the obtained sample is binarized, the binarized 1 portion is defined as a white portion, and the 0 portion is defined as a black portion. 4B, since images are usually taken at a resolution lower than the pitch of the inner leads 412, the image is as shown in FIG. FIG. 4 (a) Plating portion 490 due to plating leakage
Is not an area to be plated.
A defect is displayed as 490A in (b). At the same time, the plated portion 490 is automatically determined as a defective portion. That is, the display section 170 shown in FIG. 1 can display such an image, and the presence / absence and position of the defect can be visually confirmed together with the automatic determination of the defect.

【0014】尚、画像処理における画像信号として、撮
影画像信号データをそのまま用いた場合には、処理が簡
単である。また、画像処理における画像信号として、撮
影画像信号データに基づいて、微分演算処理等のフィル
ター処理を施す強調処理を施したものを用いても良い。
より検出の精度を上げられる場合がある。
When the photographed image signal data is used as it is as the image signal in the image processing, the processing is simple. Further, as an image signal in the image processing, a signal which has been subjected to an enhancement process of performing a filter process such as a differential operation process based on the captured image signal data may be used.
In some cases, the accuracy of detection can be increased.

【0015】次いで、実施の形態の第2の例を挙げる。
図2(a)は、本発明のリードフレームの外観検査装置
の実施の形態の第2の例の構成を簡略的に示した概略構
成図で、図2(b)はリードフレームの側面部を照明し
た際の、部分拡大図である。第2の例は、図2(b)に
示すように、リードフレームの側面211やエッジ21
2にて散乱し、これが、第1の例において無視できなく
なる場合、即ち、照明光からの反射光(散乱光)の信号
レベルが、第1の例の画像処理部において比較処理を行
う際に、無視できないレベルになる場合のもので、図2
(b)に示すように、この影響がでない方向に、線状領
域撮影手段110のレンズ系の光軸111を向けている
もので、光軸111は試料120の表面に直交する方向
から、照明光側でない方向に角度θだけずらした方向に
設けたものである。その他の装置構成、画像処理等につ
いては、第1の例と同じである。
Next, a second example of the embodiment will be described.
FIG. 2A is a schematic configuration diagram schematically showing the configuration of a second example of the embodiment of the lead frame appearance inspection apparatus of the present invention, and FIG. 2B is a side view of the lead frame. It is the elements on larger scale at the time of lighting. In the second example, as shown in FIG.
2, when the signal level of reflected light (scattered light) from the illumination light is compared with the signal level of the reflected light (scattered light) in the image processing unit of the first example. Fig. 2
As shown in (b), the optical axis 111 of the lens system of the linear area photographing means 110 is directed in a direction in which this effect is not present. The optical axis 111 is illuminated from a direction perpendicular to the surface of the sample 120. It is provided in a direction shifted by an angle θ in a direction other than the light side. The other device configuration, image processing, and the like are the same as those in the first example.

【0016】[0016]

【実施例】更に実施例を挙げて、本発明を詳しく説明す
る。図5は、実施例の検査装置の概略構成図である。実
施例の検査装置は、図7(b)に示すようなリードフレ
ーム710の複数個を図7(a)に示すように1単位と
した1連の状態に、エッチング加工等により外形加工し
たものを、ワイヤボンディング領域ないしダイパッド部
に銀めっきを施した後に、めっき不良を検出するための
装置である。図5中、500は外観検査装置、510は
CCDラインセンサカメラ、520はリードフレーム
(試料)、520Aは未検査のリードフレーム、520
Bは検査済の良品リードフレーム、520Cは検査済の
不良リードフレーム、530は光ファイバーガイド、5
32はハロゲン光源、534光ファイバーケーブル、5
40は搬送部、541はロール、542は光センサー、
550は画像処理部(制御部を兼ねる)、570はモニ
ターである。尚、図5では省略しているが、実施例の検
査装置では、光ファイバーガイド530を支持し、光フ
ァイバーガイド530からの照明光の方向を調整できる
照明光の方向調整部、また、CCDラインセンサカメラ
510を支持し、CCDラインセンサカメラ510のレ
ンズ系の光軸の方向を調整できる方向調整部がある。
The present invention will be described in more detail with reference to examples. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of the inspection device of the embodiment. The inspection apparatus of the embodiment is obtained by processing a plurality of lead frames 710 as shown in FIG. 7B into a single unit as shown in FIG. 7A by etching or the like. Is a device for detecting plating failure after silver plating is performed on a wire bonding region or a die pad portion. 5, reference numeral 500 denotes a visual inspection device, 510 denotes a CCD line sensor camera, 520 denotes a lead frame (sample), 520A denotes an uninspected lead frame, 520
B: inspected good lead frame; 520C: inspected defective lead frame; 530: optical fiber guide;
32 is a halogen light source, 534 optical fiber cable, 5
40 is a transport unit, 541 is a roll, 542 is an optical sensor,
Reference numeral 550 denotes an image processing unit (also serving as a control unit), and 570 denotes a monitor. Although not shown in FIG. 5, the inspection apparatus of the embodiment supports the optical fiber guide 530 and adjusts the direction of the illumination light from the optical fiber guide 530, and a CCD line sensor camera. There is a direction adjustment unit that supports the 510 and can adjust the direction of the optical axis of the lens system of the CCD line sensor camera 510.

【0017】図5に示す、実施例の外観検査装置は、実
施の形態の第1の例に相当するもので、連状のリードフ
レーム(試料)520は、その短辺側の両端を挟まれる
ようにして位置制御されながら、搬送部540のロール
541上を一定の速度に矢印の方向に移動される。連状
のリードフレーム(試料)520の搬送部540におけ
る位置は、光センサー542により感知され、光センサ
ー542からの指令に基づき、CCDラインセンサカメ
ラ510により、試料520の表面の、試料520の移
動方向に直交する方向の線状領域の撮影が行われる。連
状のリードフレーム(試料)520の撮影の終了の検知
も、別の光センサー542A(図示していない)にて行
われる。CCDラインセンサカメラ510により撮影さ
れる試料520の線状領域の照明は、ハロゲン光源53
2からの光を光ファイバーケーブル534にて送り、ラ
イン型の光ファイバーガイド530にて照射するもの
で、その正反射光が、CCDラインセンサカメラ510
に入らないように、暗視野照明で行う。図6は、照明光
の方向と撮影手段であるCCDラインセンサカメラのレ
ンズ系の光軸の方向を示した図であるが、CCDライン
センサカメラ510のレンズ系の光軸はリードフレーム
(試料)520の表面に直交する方向から、照明光側と
は反対側に若干ずれている。
The appearance inspection apparatus of the embodiment shown in FIG. 5 corresponds to the first example of the embodiment, and a continuous lead frame (sample) 520 is sandwiched at both ends on the short side. While the position is controlled as described above, the transfer unit 540 is moved on the roll 541 at a constant speed in the direction of the arrow. The position of the continuous lead frame (sample) 520 in the transport section 540 is sensed by the optical sensor 542, and based on a command from the optical sensor 542, the CCD line sensor camera 510 moves the sample 520 on the surface of the sample 520. The imaging of the linear region in the direction orthogonal to the direction is performed. Detection of the end of imaging of the continuous lead frame (sample) 520 is also performed by another optical sensor 542A (not shown). The illumination of the linear region of the sample 520 photographed by the CCD line sensor camera 510 is performed by the halogen light source 53.
2 is transmitted by an optical fiber cable 534 and is radiated by a line-type optical fiber guide 530. The specular reflection light is transmitted by a CCD line sensor camera 510.
It is performed with dark-field illumination so as not to enter. FIG. 6 is a diagram showing the direction of the illumination light and the direction of the optical axis of the lens system of the CCD line sensor camera as the photographing means. The optical axis of the lens system of the CCD line sensor camera 510 is a lead frame (sample). From the direction perpendicular to the surface of 520, it is slightly shifted to the side opposite to the illumination light side.

【0018】CCDラインセンサカメラ510により撮
影された画像信号データは順次、画像処理部550へ送
られ、前述のようにして欠陥箇所を抽出し、その結果を
モニター570へ表示する。尚、本実施例では、画像処
理を行う画像処理部と各機能部を関連つけて制御する制
御部とが一体となっている。
The image signal data captured by the CCD line sensor camera 510 is sequentially sent to the image processing unit 550 to extract a defective portion as described above and display the result on the monitor 570. In the present embodiment, an image processing unit that performs image processing and a control unit that controls each functional unit in association with each other are integrated.

【0019】尚、ここでは、図示していないが、検査さ
れ、良品と判断されたものは、搬送されながら良品側に
区分けされ、欠陥有りと判断されたものは、搬送されな
がら不良品側へと区分けされる。尚、図5中、520
A、520B、520Cは、それぞれ、未検査のリード
フレーム、検査済の良品リードフレーム、検査済の不良
リードフレームである。
Although not shown here, those inspected and determined to be non-defective are classified into non-defective products while being transported, and those determined to be defective are transported to defective products while being transported. Is classified as In FIG. 5, 520
A, 520B, and 520C are an uninspected lead frame, an inspected good lead frame, and an inspected defective lead frame, respectively.

【0020】[0020]

【効果】本発明は、上記のように、リードフレームのめ
っき外観不良を検査する外観検査装置であって、欠陥検
出感度が優れた検査装置の提供を可能としている。この
結果、半導体装置の高密度化、高機能化に伴うリードフ
レームのインナーリードピッチの微細化やリードフレー
ムの量産化に対応できるものとしている。
As described above, the present invention makes it possible to provide an appearance inspection apparatus for inspecting a plating appearance defect of a lead frame, which has excellent defect detection sensitivity. As a result, it is possible to cope with the miniaturization of the inner lead pitch of the lead frame and the mass production of the lead frame accompanying the increase in the density and the function of the semiconductor device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施例の実施の形態の第1の例の概略構成図FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a first example of an embodiment of the present embodiment.

【図2】本実施例の実施の形態の第2の例の概略構成図FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a second example of the embodiment of the present embodiment.

【図3】検査領域と画像信号データとの関係を説明する
ための図
FIG. 3 is a diagram for explaining a relationship between an inspection area and image signal data.

【図4】検出結果の画像表示を説明するための図FIG. 4 is a diagram for explaining image display of a detection result;

【図5】実施例の概略構成図FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an embodiment.

【図6】照明光の方向とCCDラインセンサカメラのレ
ンズ系の光軸の方向を示した図
FIG. 6 is a diagram showing a direction of illumination light and a direction of an optical axis of a lens system of a CCD line sensor camera.

【図7】連状のリードフレームを説明するための図FIG. 7 is a view for explaining a continuous lead frame;

【図8】従来のリードフレームのめっき外観検査装置を
示した図
FIG. 8 is a view showing a conventional lead frame plating appearance inspection apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 リードフレームの外観検査装置 110 線状領域撮影手段 111 光軸 120 リードフレーム(試料) 121 側面 122 エッジ 125 線状領域 130 線状照明手段 131 照明光 135 正反射光 140 搬送手段 150 画像処理手段 160 制御部 170 表示部 411 ダイパッド 411A タブ吊りリード 412 インナーリード 417 連結部 480 めっき部 490 めっき付着部 490A 欠陥 500 外観検査装置 510 CCDラインセンサカメラ 511 光軸 520 リードフレーム(試料) 520A 未検査のリードフレーム 520B 検査済の良品リードフレーム 520C 検査済の不良リードフレーム 520S 試料表面 530 光ファイバーガイド 530A 照明光 530B 反射光 532 ハロゲン光源 534 光ファイバーケーブル 540 搬送部 541 ロール 542 光センサー 550 画像処理部(制御部を兼ねる) 570 モニター 700 連状のリードフレーム 701 枠部(フレーム部) 710 リードフレーム 711 ダイパッド 712 インナーリード 713 アウターリード 714 ダムバー 715 フレーム部 REFERENCE SIGNS LIST 100 appearance inspection apparatus for lead frame 110 linear area photographing means 111 optical axis 120 lead frame (sample) 121 side surface 122 edge 125 linear area 130 linear lighting means 131 illumination light 135 regular reflection light 140 transport means 150 image processing means 160 Control part 170 Display part 411 Die pad 411A Tab suspension lead 412 Inner lead 417 Connection part 480 Plating part 490 Plating adhesion part 490A Defect 500 Visual inspection device 510 CCD line sensor camera 511 Optical axis 520 Lead frame (sample) 520A Untested lead frame 520B Tested good lead frame 520C Tested defective lead frame 520S Sample surface 530 Optical fiber guide 530A Illumination light 530B Reflection light 532 Halogen light source 534 Light Fiber cable 540 Transport unit 541 Roll 542 Optical sensor 550 Image processing unit (also serving as control unit) 570 Monitor 700 Continuous lead frame 701 Frame unit (frame unit) 710 Lead frame 711 Die pad 712 Inner lead 713 Outer lead 714 Dam bar 715 Frame Department

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ほぼ一定の速度で一方向へ移動する試料
の線状領域を撮影することにより得られた画像データを
用いて、リードフレームのめっき不良を検出する外観検
査装置であって、試料をほぼ一定の速度で一方向へ移動
する試料の搬送手段と、試料の搬送方向と直交する所定
位置における試料表面の線状領域を撮影する線状領域撮
影手段と、照明の正反射光が線状領域撮影手段に直接入
射しないような角度で試料表面の前記線状領域を斜めか
ら照明する線状照明手段と、線状領域撮影手段により試
料の線状領域を撮影して得られた撮影画像信号データを
用いて、試料の欠陥部を抽出する画像処理手段とを備え
たもので、画像処理手段は、線状領域撮影手段により得
られた撮影画像信号データに基づいた、線状領域撮影手
段の各画素に対応した試料の各位置毎の画像信号を設定
した所定のスライスレベルと比較する比較処理を施し
て、該各位置の画像信号のレベルが所定範囲外の信号の
箇所を検出し、検出された箇所であらかじめ設定した領
域内のもののみを欠陥部と判断するものであることを特
徴とするリードフレームの外観検査装置。
1. An appearance inspection apparatus for detecting plating failure of a lead frame using image data obtained by photographing a linear region of a sample moving in one direction at a substantially constant speed, comprising: Means for transporting the sample in one direction at a substantially constant speed, a linear area photographing means for photographing a linear area on the surface of the sample at a predetermined position orthogonal to the direction of transport of the sample, Linear illuminating means for obliquely illuminating the linear area on the sample surface at an angle such that it does not directly enter the linear area photographing means; and a photographed image obtained by photographing the linear area of the sample by the linear area photographing means. Image processing means for extracting a defective portion of the sample using the signal data, wherein the image processing means comprises a linear area photographing means based on the photographed image signal data obtained by the linear area photographing means. Corresponding to each pixel A comparison process is performed to compare the image signal of each position of the sample with a set predetermined slice level to detect a signal position where the level of the image signal at each position is outside a predetermined range. An appearance inspection apparatus for a lead frame, wherein only an area within a predetermined area is determined as a defective portion.
【請求項2】 請求項1における線状領域撮影手段のレ
ンズ系の光軸が試料面に対してほぼ直交する方向である
ことを特徴とするリードフレームの外観検査装置。
2. The lead frame appearance inspection apparatus according to claim 1, wherein the optical axis of the lens system of the linear area photographing means is in a direction substantially orthogonal to the sample surface.
【請求項3】 請求項1において、線状領域撮影手段の
レンズ系の光軸と試料面のなす角度を可変にし、線状照
明手段により試料の側面部ないしエッジ部が照明された
場合の、試料の側面部ないしエッジ部からの散乱した反
射光(散乱光)が線状領域撮影手段へ入射する入射信号
レベルが、設定レベルより大きくならないように、線状
領域撮影手段のレンズ系の光軸を、試料面と直交する方
向から、線状照明手段の照明光側とは反対側の方向へ傾
けたものであることを特徴とするリードフレームの外観
検査装置。
3. The method according to claim 1, wherein the angle formed between the optical axis of the lens system of the linear region photographing means and the sample surface is variable, and the side surface or the edge of the sample is illuminated by the linear illuminating means. The optical axis of the lens system of the linear area photographing means so that the level of the incident signal at which the reflected light (scattered light) scattered from the side or edge of the sample enters the linear area photographing means does not become larger than the set level. Is tilted from a direction orthogonal to the sample surface to a direction opposite to the illumination light side of the linear illumination means.
【請求項4】 請求項1ないし3における比較処理が、
試料の各位置毎の画像信号を所定のスライスレベルで2
値化する二値化処理であることを特徴とするリードフレ
ームの外観検査装置。
4. The comparing process according to claim 1, wherein
The image signal at each position of the sample is converted into two at a predetermined slice level.
An appearance inspection device for a lead frame, which is a binarization process for binarizing.
【請求項5】 請求項1ないし4における各位置毎の画
像信号が、撮影画像信号データであることを特徴とする
リードフレームの外観検査装置。
5. The lead frame appearance inspection device according to claim 1, wherein the image signal at each position is photographed image signal data.
【請求項6】 請求項1ないし4における各位置毎の画
像信号は、撮影画像信号データに基づいて、微分演算処
理等のフィルター処理を施す強調処理が施されたもので
あることを特徴とするリードフレームの外観検査装置。
6. An image signal at each position according to claim 1, wherein the image signal is subjected to an enhancement process for performing a filter process such as a differential operation process based on the photographed image signal data. Visual inspection device for lead frames.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010088635A (en) * 2001-08-14 2001-09-28 - Image process line scaning camera of lead frame inspection system
KR20040004728A (en) * 2002-06-26 2004-01-14 삼성전자주식회사 Jam detect system of plating devices
JP2007205974A (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Toppan Printing Co Ltd Method of inspecting plating, and method of inspecting lead frame
JP2008101926A (en) * 2006-10-17 2008-05-01 Toppan Printing Co Ltd Inspection method and inspection device for substrate having metal pattern
JP2009204311A (en) * 2008-02-26 2009-09-10 Toppan Printing Co Ltd Method and apparatus for inspecting surface of metal substrate
CN111812341A (en) * 2020-07-22 2020-10-23 英华达(上海)科技有限公司 Automatic equipment detection system and method for detecting internal operation of automatic equipment
CN113167572A (en) * 2018-12-04 2021-07-23 优尼冲压株式会社 Method for determining necking of press-formed product, device for determining necking of press-formed product, and program

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010088635A (en) * 2001-08-14 2001-09-28 - Image process line scaning camera of lead frame inspection system
KR20040004728A (en) * 2002-06-26 2004-01-14 삼성전자주식회사 Jam detect system of plating devices
JP2007205974A (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Toppan Printing Co Ltd Method of inspecting plating, and method of inspecting lead frame
JP2008101926A (en) * 2006-10-17 2008-05-01 Toppan Printing Co Ltd Inspection method and inspection device for substrate having metal pattern
JP2009204311A (en) * 2008-02-26 2009-09-10 Toppan Printing Co Ltd Method and apparatus for inspecting surface of metal substrate
CN113167572A (en) * 2018-12-04 2021-07-23 优尼冲压株式会社 Method for determining necking of press-formed product, device for determining necking of press-formed product, and program
CN111812341A (en) * 2020-07-22 2020-10-23 英华达(上海)科技有限公司 Automatic equipment detection system and method for detecting internal operation of automatic equipment

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